KR20090080325A - Pb free paste of sealant for plasma display panel and plasma display panel comprising Pb free sealant prepared by baking the paste - Google Patents

Pb free paste of sealant for plasma display panel and plasma display panel comprising Pb free sealant prepared by baking the paste Download PDF

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KR20090080325A
KR20090080325A KR1020080006223A KR20080006223A KR20090080325A KR 20090080325 A KR20090080325 A KR 20090080325A KR 1020080006223 A KR1020080006223 A KR 1020080006223A KR 20080006223 A KR20080006223 A KR 20080006223A KR 20090080325 A KR20090080325 A KR 20090080325A
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김시원
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김민재
이세미
이효석
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Abstract

Pb-free sealing paste for plasma display panels and the plasma display panel comprising the sintered sealing paste are provided to show excellent dispersibility as well as a shape retention property even at high temperature. The area of hysteresis curve of Pb-free sealing paste for plasma display panels is 4500 - 20000 Pa/s. The Pb-free sealing paste for plasma display panels is composed of three or more compounds selected from the group consisting of MgO, Al2O3, SiO2, Bi2O3, BaO and ZnO. The Pb-free sealing paste contains three or more compounds selected from the group consisting of 5-12wt% of ZnO, 7.5-30wt% of B2O3, 57-85wt% of Bi2O3 and 0-1wt% of SiO2. The plasma display panel is coated with the Pb-free sealing paste and they are sintered. The sintering process is performed at 460-500°C.

Description

플라즈마 디스플레이 밀봉재용 무연 페이스트 및 이를 소성시킨 무연 밀봉재를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널{Pb free paste of sealant for plasma display panel and plasma display panel comprising Pb free sealant prepared by baking the paste} Plasma display panel comprising Pb free paste of sealant for plasma display panel and plasma display panel comprising Pb free sealant prepared by baking the paste}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 밀봉재용 무연 페이스트 및 이를 소성시킨 무연 밀봉재를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 히스테리시스의 곡선 면적이 4500 내지 20000 Pa/s인 플라즈마 디스플레이 밀봉재용 무연 페이스트 및 이를 도포하여 소성시킨 무연 밀봉재를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel including a lead-free paste for a plasma display sealant and a lead-free sealant fired therefrom. The present invention relates to a plasma display panel including a lead-free sealing material fired by firing.

플라즈마 디스플레이 패널은 화면을 대형화하기가 용이하고, 자발광형으로 표시품질이 좋고, 응답속도가 빠르다는 특징을 가지고 있다. 박형화가 가능하기 때문에 LCD 등과 함께 벽걸이용 디스플레이로서 주목되고 있다. Plasma display panel is characterized by easy to enlarge the screen, self-luminous type, good display quality, fast response speed. It is attracting attention as a wall-mounted display together with LCDs because it can be thinned.

통상적으로, 플라즈마 디스플레이 패널은, 밀폐된 공간에 설치된 2개의 전극 사이에 가스가 충전된 상태에서 전극에 소정의 전압을 인가하여 글로우 방전(glow discharge)이 일어나도록 하고, 글로우 방전시 발생되는 자외선에 의해 소정 패턴 으로 형성된 형광체층을 여기시켜 화상을 형성하게 된다. In general, a plasma display panel applies a predetermined voltage to an electrode while a gas is charged between two electrodes installed in an enclosed space so that a glow discharge occurs and the ultraviolet rays generated during the glow discharge are generated. As a result, the phosphor layer formed in a predetermined pattern is excited to form an image.

상기 플라즈마 디스플레이 패널은 구동방법에 따라 직류형, 교류형 및, 혼합형으로 분류된다. 그리고, 전극 구조에 따라 방전에 필요한 최소 2개의 전극을 갖는 것과, 3개의 전극을 갖는 것으로 구분된다. 상기 직류형의 경우에는 보조 방전을 유도하기 위하여 보조 양극이 첨가되고, 교류형의 경우에는 선택 방전과 유지 방전을 분리하여 어드레스 속도를 향상시키기 위하여 어드레스 전극이 도입된다. The plasma display panel is classified into a direct current type, an alternating current type, and a mixed type according to a driving method. And, depending on the electrode structure, it is divided into having at least two electrodes required for discharge and having three electrodes. In the case of the direct current type, an auxiliary anode is added to induce the auxiliary discharge. In the case of the alternating current type, an address electrode is introduced to separate the selective discharge and the sustain discharge to improve the address speed.

또한, 교류형은 방전을 이루는 전극의 배치에 따라 대향형 전극과 면방전형 전극 구조로 분류될 수 있는데, 상기 대향형 전극 구조의 경우에는 방전을 형성하는 2개의 유지 전극이 각각 전면 기판과 배면 기판에 위치하여 방전이 패널의 수직축으로 형성되는 구조이며, 면방전형 전극 구조는 방전을 형성하는 2개의 유지 전극이 동일한 기판상에 위치하여 방전이 기판의 한 평면상에서 형성되는 구조이다. In addition, the AC type may be classified into a counter electrode and a surface discharge electrode structure according to the arrangement of the electrodes for discharging. In the case of the counter electrode structure, the two sustain electrodes forming the discharge are respectively the front substrate and the back substrate. The surface discharge type electrode structure is a structure in which the discharge is formed on one plane of the substrate because two sustain electrodes forming the discharge are positioned on the same substrate.

이러한 플라즈마 디스플레이 패널에 사용되는 밀봉재로서 공정 과정에서 용융 온도를 낮추기 위한 목적으로 PbO를 포함하는 페이스트를 사용하였으나, 특정 위험 물질 사용에 관한 법규 (RoHS: Restriction of the use of Certain Hazardous Ssubstance)등의 규제로 인하여 친환경적인 플라즈마 디스플레이 패널이 큰 이슈가 되고 있으며, PbO계 밀봉재를 대체하는 무연재료가 개발되고 있다.As a sealing material used in the plasma display panel, a paste containing PbO was used for the purpose of lowering the melting temperature in the process, but regulations such as Restriction of the use of Certain Hazardous Ssubstance (RoHS) Due to this, environmentally friendly plasma display panels have become a big issue, and lead-free materials are being developed to replace PbO-based sealants.

본 발명이 이루고자 하는 제 1 기술적 과제는 분산성이 우수하며 고온에서 형상 유지성이 우수한 플라즈마 디스플레이 밀봉재용 무연 페이스트를 제공하는 것이다. The first technical problem to be achieved by the present invention is to provide a lead-free paste for plasma display sealing material excellent in dispersibility and excellent shape retention at high temperature.

본 발명이 이루고자 하는 제 2 기술적 과제는 고온에서 형상 유지성이 우수한 무연 밀봉재를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 것이다. It is a second object of the present invention to provide a plasma display panel including a lead-free sealing material having excellent shape retention at high temperatures.

상기 제 1 기술적 과제를 위하여 본 발명은, The present invention for the first technical problem,

19.8℃에서 60 초 동안 1/s에서 60/s까지 전단력을 증가시키면서 그리고 60 초 동안 60/s에서 1/s까지 전단력을 감소시키면서 측정한 히스테리시스의 곡선 면적이 4500 내지 20000 Pa/s인 플라즈마 디스플레이용 무연 페이스트를 제공한다. Plasma display with a hysteresis curve area of 4500 to 20000 Pa / s, measured at 19.8 ° C with increasing shear force from 1 / s to 60 / s for 60 seconds and decreasing shear force from 60 / s to 1 / s for 60 seconds Provides lead-free paste for use.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 무연 페이스트는 MgO, Al2O3, SiO2, Bi2O3,  BaO 및 ZnO  로 이루어진 군으로부터 선택된 셋 이상을 포함하는 것이 바람직하다.According to one embodiment of the invention, the lead-free paste preferably comprises at least three selected from the group consisting of MgO, Al 2 O 3 , SiO 2 , Bi 2 O 3 , BaO and ZnO.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 무연 페이스트는 ZnO 5 내지 12 중량%, B2O3 7.5 내지  30 중량%, Bi2O3 57  내지 85 중량% 및 SiO2 0 내지 1 중량%로 이루어진 군으로부터 선택된 셋 이상을 포함하는 것이 바람직하다.According to one embodiment of the invention, the lead-free paste is ZnO 5 to 12% by weight, B 2 O 3 7.5 to 30% by weight, Bi 2 O 3 57 to 85% by weight and SiO 2 0 to 1% by weight It is preferable to include at least three selected from.

상기 제 2 기술적 과제를 위하여 본 발명은, The present invention for the second technical problem,

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 밀봉재용 무연 페이스트를 도포하여 소성시킨 무연 밀봉재를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다. Provided is a plasma display panel including a lead-free sealing material coated with a lead-free paste for plasma display sealing material and fired.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 소성 과정은 460 내지 500℃에서 수행되는 것이 바람직하다. According to one embodiment of the invention, the firing process is preferably carried out at 460 to 500 ℃.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 무연 밀봉재의 XRD 분석 결과는 2θ = 18 또는 2θ = 37 부근에서 (002) 피크 또는 (004) 피크를 보인다. According to one embodiment of the invention, the XRD analysis of the lead-free sealing material shows a (002) peak or (004) peak in the vicinity of 2θ = 18 or 2θ = 37.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 무연 밀봉재는 헥사고날 구조 (hexagonal structure)의 결정을 포함할 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the lead-free sealant may include crystals of a hexagonal structure.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 무연 밀봉재는 산화 비스무스 결정을 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the lead-free sealant may include bismuth oxide crystals.

이하에서 본 발명을 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명은 플라즈마 디스플레이용 무연 페이스트로서 19.8℃에서 60 초 동안 1/s에서 60/s까지 전단력을 증가시키면서 그리고 60 초 동안 60/s에서 1/s까지 전단력을 감소시키면서 측정한 히스테리시스의 곡선 면적이 4500 내지 20000 Pa/s인 플라즈마 디스플레이용 무연 페이스트를 제공한다.The present invention relates to a lead-free paste for plasma display, wherein the curved area of hysteresis measured with increasing shear force from 1 / s to 60 / s for 60 seconds at 19.8 ° C. and decreasing shear force from 60 / s to 1 / s for 60 seconds is obtained. It provides a lead-free paste for plasma display of 4500 to 20000 Pa / s.

히스테리시스의 곡선 면적이 상기 범위 내인 경우, 무연 페이스트는 분산성이 우수하고 경시변화에 따른 점도 변화가 느리며 도포시 선폭이 균일하게 된다.When the hysteresis curve area is within the above range, the lead-free paste is excellent in dispersibility, slow in viscosity change over time, and uniform in line width upon application.

본 발명의 일 실시에에 따르면, 상기 무연 페이스트는 MgO, Al2O3, SiO2, Bi2O3, BaO  및  ZnO로 이루어진 군으로부터 선택된 셋 이상을 포함하는 것이 바람직하다.According to one embodiment of the invention, the lead-free paste preferably comprises at least three selected from the group consisting of MgO, Al 2 O 3 , SiO 2 , Bi 2 O 3 , BaO and ZnO.

본 발명의 다른 일 실시에에 따르면, 상기 무연 페이스트는 ZnO 5 내지 12 중량%, B2O3 7.5 내지  30 중량%, Bi2O3 57  내지 85 중량% 및 SiO2 0 내지 1 중량%로 이루어진 군으로부터 선택된 셋 이상을 포함할 수 있다. 상기 조성 범위 내에서 무연 페이스트는 상기 범위의 히스테리시스 면적을 가진다.According to another embodiment of the present invention, the lead-free paste is composed of 5 to 12% by weight of ZnO, 7.5 to 30% by weight of B 2 O 3 , 57 to 85% by weight of Bi 2 O 3 and 0 to 1% by weight of SiO 2 It may include three or more selected from the group. The lead-free paste within the composition range has a hysteresis area in the range.

또한, 상기 무연 페이스트는 유기 비히클로서 용매 또는 수지를 포함할 수 있다. 용매는 유기 비히클에 일반적으로 사용되는 용매를 사용할 수 있으며, 수지는 아크릴계 또는 니트로셀룰로오스계를 사용할 수 있다.In addition, the lead-free paste may include a solvent or a resin as an organic vehicle. The solvent may be a solvent generally used in organic vehicles, and the resin may be acrylic or nitrocellulose.

본 발명에 따른 무연 페이스트를 플라즈마 디스플레이 패널에 도포하고 소성시켜 형상 유지 성능이 우수한 무연 밀봉재를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제조할 수 있다.The lead-free paste according to the present invention may be applied to a plasma display panel and fired to manufacture a plasma display panel including a lead-free sealing material having excellent shape retention performance.

도 1을 참조하면, 플라즈마 디스플레이 패널은 전방패널(210)과 후방패널(220)을 구비한다.Referring to FIG. 1, the plasma display panel includes a front panel 210 and a rear panel 220.

상기 전방패널(210)은 전면기판(211), 상기 전면기판의 후방(보다 상세하게는 전면기판의 후면)에 배치되고 일 열의 발광셀(226)들에 걸쳐서 연장된 유지전극쌍(214)들, 상기 유지전극쌍들을 덮고 있는 전방유전체층(215) 및 보호막(216)을 구비한다.The front panel 210 is disposed on the front substrate 211 and the rear of the front substrate (more specifically, the rear surface of the front substrate) and the sustain electrode pairs 214 extending over the light emitting cells 226 in a row. And a front dielectric layer 215 and a passivation layer 216 covering the sustain electrode pairs.

상기 후방패널(220)은 상기 전면기판에 대해 평행하게 배치된 배면기 판(221), 상기 배면기판의 전방(보다 상세하게는 배면기판의 전면(221a))에 배치되고 상기 유지전극쌍들과 교차하도록 연장된 어드레스전극(222)들, 상기 어드레스전극들을 덮는 후방유전체층(223), 상기 전면기판과 배면기판 사이(보다 상세하게는 후방유전체층 상)에 형성되어 발광셀(226)들을 구획하는 격벽(224), 및 상기 격벽내에는 유지방전에 의하여 방전가스로부터 방출된 자외선을 받아 가시광선을 방출하는 적색, 녹색 및 청색 형광체로 이루어진 적색 형광막(225a), 녹색 형광막(225b) 및 청색 형광막(225c)을 구비한다. The rear panel 220 is disposed on the rear substrate 221 disposed in parallel with the front substrate, and in front of the rear substrate (more specifically, the front substrate 221a of the rear substrate) and the sustain electrode pairs. Barrier ribs formed between the address electrodes 222 extending to intersect, the rear dielectric layer 223 covering the address electrodes, and the front substrate and the rear substrate (more specifically on the rear dielectric layer) to partition the light emitting cells 226. 224, and a red fluorescent film 225a, a green fluorescent film 225b, and a blue fluorescent film made of red, green, and blue phosphors that emit visible light in response to ultraviolet rays emitted from the discharge gas by the sustain discharge. 225c.

청색 형광막, 적색 형광막 및 녹색 형광막은 플라즈마 디스플레이 패널 제조시 통상적으로 이용가능한 것이라면 모두 다 사용가능하다.The blue fluorescent film, the red fluorescent film and the green fluorescent film can all be used as long as they are commonly available in the manufacture of plasma display panels.

상기 전면기판(211)과 배면기판(221)은 유리로 형성되는 것이 일반적인데, 전면기판은 광투과율이 높은 것이 바람직하다.The front substrate 211 and the rear substrate 221 is generally formed of glass, the front substrate is preferably a high light transmittance.

상기 배면기판의 전면(221a)에 배치되고, 일열의 발광셀(226)들에 걸쳐서 연장된 어드레스전극(222)들은 통상적으로 전기전도율이 높은 금속, 예를 들어 Al 등으로 형성된다.  어드레스전극(222)은 Y전극(312)과 함께 어드레스방전에 이용된다.  상기 어드레스방전은 발광될 발광셀(226)을 선택하기 위한 방전으로서, 어드레스방전이 이루어진 발광셀(226)에서 후술되는 유지방전이 일어날 수 있게 된다.The address electrodes 222 disposed on the front surface 221a of the rear substrate and extending over the light emitting cells 226 are typically formed of a metal having high electrical conductivity, for example, Al. The address electrode 222 is used for the address discharge together with the Y electrode 312. The address discharge is a discharge for selecting the light emitting cells 226 to emit light, and the sustain discharge described later may occur in the light emitting cells 226 in which the address discharges are made.

상기 어드레스전극(222)들은 후방 유전체층(223)에 의하여 덮이는데, 후방유전체층(223)은 어드레스방전시 하전 입자가 어드레스전극(222)에 충돌하여 어드레스전극을 손상시키는 것을 방지한다.  상기 후방유전체층(223)은 하전 입자를 유도 할 수 있는 유전체로서 형성되는데, 이와 같은 유전체로서는 PbO, B2O3, SiO2 등이 있다.The address electrodes 222 are covered by the rear dielectric layer 223. The rear dielectric layer 223 prevents charged particles from colliding with the address electrodes 222 and damaging the address electrodes during address discharge. The rear dielectric layer 223 is formed as a dielectric capable of inducing charged particles. Such dielectrics include PbO, B 2 O 3 , SiO 2, and the like.

상기 전면기판(211)과 배면기판(221) 사이에는 발광셀(226)들을 구획하는 격벽(224)이 형성되는데, 이러한 격벽(224)은 전면기판(311)과 배면기판(221) 사이에 방전공간을 확보하고, 인접한 발광셀(226)들 간의 크로스토크를 방지하며, 형광체층(225)의 표면적을 넓게 한다. 상기 격벽(224)은 Pb, B, Si, Al, 및 O 등과 같은 원소를 포함하는 유리성분으로 형성되고, 여기에 필요에 따라서 ZrO2, TiO2, 및 Al2O3 와 같은 필러(filler)와 Cr, Cu, Co, Fe, TiO2 와 같은 안료가 포함될 수 있다.A partition wall 224 partitioning the light emitting cells 226 is formed between the front substrate 211 and the rear substrate 221. The partition wall 224 is discharged between the front substrate 311 and the rear substrate 221. The space is secured, crosstalk between adjacent light emitting cells 226 is prevented, and the surface area of the phosphor layer 225 is increased. The partition wall 224 is formed of a glass component including elements such as Pb, B, Si, Al, and O, and a filler such as ZrO 2 , TiO 2 , and Al 2 O 3 as necessary. And pigments such as Cr, Cu, Co, Fe, TiO 2 .

상기 유지전극쌍(214)들은 일열의 발광셀(226)들에 걸쳐서 상기 어드레스전극(222)이 연장된 방향과 교차하는 방향으로 연장된다. 상기 유지전극쌍(214)은 유지방전을 일으키는 한 쌍의 유지전극들(212, 213)을 구비하고, 상기 전면기판(211)에는 이러한 유지전극쌍(214)이 소정의 간격으로 서로 평행하게 배열되어 있다. 유지전극들(212, 213) 중 하나는 X전극(213)이고, 다른 하나는 Y전극(212)이다. X전극(213)과 Y전극(212) 간의 전위차에 의하여 유지방전이 일어난다.The sustain electrode pairs 214 extend in a direction crossing the direction in which the address electrode 222 extends over the light emitting cells 226 in a row. The sustain electrode pair 214 includes a pair of sustain electrodes 212 and 213 causing a sustain discharge, and the sustain electrode pair 214 is arranged in parallel on each other at predetermined intervals on the front substrate 211. It is. One of the sustain electrodes 212 and 213 is the X electrode 213 and the other is the Y electrode 212. The sustain discharge is caused by the potential difference between the X electrode 213 and the Y electrode 212.

상기 X전극(213)과 Y전극(212) 각각은 투명전극(213b, 212b) 및 버스전극(213a, 212a)을 구비하는 것이 일반적이나, 경우에 따라서는 투명전극 없이 버스전극 만으로 주사전극과 공통전극이 구성될 수도 있다. Each of the X electrode 213 and the Y electrode 212 includes the transparent electrodes 213b and 212b and the bus electrodes 213a and 212a. However, in some cases, the X electrode 213 and the Y electrode 212 are common to the scan electrode only with the bus electrode without the transparent electrode. An electrode may be configured.

상기 투명전극(213b, 212b)은 도전체이면서 형광체로부터 방출되는 빛이 전 면기판(211)으로 나아가는 것을 방해하지 않는 투명한 재료로 형성되는데, 이와 같은 재료로서는 ITO(indium tin oxide) 등이 있다. 그러나 상기 ITO와 같은 투명한 도전체는 저항이 크므로, 유지전극이 투명전극으로만 구성되면 투명전극의 길이방향으로의 전압강하가 크게 되고, 따라서 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는데 소요되는 전력이 많게 되며 화상의 응답속도가 늦어지게 된다. 이를 개선하기 위하여, 상기 투명전극의 외측단부에는 전기전도율이 높은 금속, 예를 들어 Ag로 형성된 버스전극(213a, 212a)이 배치된다.The transparent electrodes 213b and 212b are formed of a transparent material which is a conductor and does not prevent the light emitted from the phosphor from advancing to the front substrate 211. Such materials include indium tin oxide (ITO) and the like. However, since the transparent conductor such as ITO has a large resistance, if the sustain electrode is composed only of the transparent electrode, the voltage drop in the longitudinal direction of the transparent electrode becomes large, and thus, the power required to drive the plasma display panel increases and the image is increased. Will slow down the response. In order to improve this, bus electrodes 213a and 212a formed of a metal having high electrical conductivity, for example, Ag, are disposed at the outer end of the transparent electrode.

상기 유지전극들(212, 213)은 전방유전체층(215)에 의하여 덮인다. 상기 전방유전체층(215)은, 유지방전시 인접한 X전극(213)과 Y전극(212)이 직접 통전되는 것과 하전 입자가 유지전극들(212, 213)에 충돌함으로써 이들을 손상시키는 것을 방지할 수 있고 광투과율이 높은 유전체로서 형성되는데, 이와 같은 유전체로서는 PbO, B2O3, SiO2 등이 있다.The sustain electrodes 212 and 213 are covered by the front dielectric layer 215. The front dielectric layer 215 can prevent the adjacent X electrode 213 and the Y electrode 212 from being directly energized during the sustain discharge, and prevent the charged particles from damaging the sustain electrodes 212 and 213 by damaging them. there is a high transmittance is formed as a dielectric, as this dielectric material include PbO, B 2 O 3, SiO 2.

상기 전방유전체층(215) 사이에는 보호막(216)이 형성될 수 있다. 이 때 상기 보호막은 유지방전시 하전 입자가 전방유전체층(215)에 충돌함으로써 이를 손상시키는 것을 방지하고, 유지방전시 2차 전자를 많이 방출한다. 상기 보호막은 MgO 로서 형성될 수 있다. A passivation layer 216 may be formed between the front dielectric layer 215. At this time, the protective film prevents charged particles from colliding with the front dielectric layer 215 during the sustain discharge, and emits a lot of secondary electrons during the sustain discharge. The protective film may be formed as MgO.

상기 발광셀(226)의 내부에는 방전가스가 충전된다. 이 방전가스는 예를 들어 Xe이 5% 내지 10% 포함된 Ne-Xe 혼합가스인데, 필요에 따라서 Ne의 적어도 일부가 He으로 대체될 수도 있다. The discharge gas is filled in the light emitting cell 226. The discharge gas is, for example, a Ne-Xe mixed gas containing 5% to 10% of Xe, and at least a part of Ne may be replaced with He as necessary.

상기 전방패널(210)과 후방패널(220) 사이에 배치되어 양 패널을 접합시키는 밀봉재로서 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 밀봉재용 무연 페이스트를 디스펜서 (dispenser)로 도포하고 소성시킨다. A lead-free paste for a plasma display sealant according to the present invention is applied and dispensed as a sealant disposed between the front panel 210 and the rear panel 220 to bond both panels.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 소성 과정은 460 내지 500℃에서 수행된다. 460℃ 보다 낮은 온도에서 소성시키는 경우 충분한 소성이 이루어지지 않아, 미소성에 의한 봉착시 진공도불량 혹은 오염으로 이한 "군집셀"불량의 우려가 있을 수 있고, 500℃ 보다 높은 온도에서 소성시키는 경우 소성시 프릿 (Frit)의 고온점도 저하로 인한 "퍼짐성"이 높아져 격벽과의 높이 문제로 "소음문제"의 우려가 있을 수 있다.According to one embodiment of the invention, the firing process is carried out at 460 to 500 ℃. When firing at a temperature lower than 460 ℃ may not be enough firing, there may be a fear of "cold cell" defects due to vacuum failure or contamination at the time of sealing due to unbaking, and when firing at a temperature higher than 500 ℃ The "spreadability" due to the high temperature viscosity of the frit is increased, there may be a "noise problem" due to the height problem with the bulkhead.

소성 시간은 7시간 내지 8시간이 바람직하다. 상기 범위에서 밀봉재는 최적의 물성을 보인다. The firing time is preferably 7 hours to 8 hours. In this range, the sealing material exhibits optimum physical properties.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 소성 후 상기 무연 밀봉재를 XRD로 분석하면, 2θ = 18 또는 2θ = 37 부근에서 (002) 피크 또는 (004) 피크가 관찰된다. (002) 피크는 코디에라이트 (Cordierite: 2MgO

Figure 112008004915001-PAT00001
2Al2O35SiO2) 구조의 성분이 포함된 것을 의미하며, (004) 피크는 Bi2O3-x 성분이면서 헥사고날 구조 (hexagonal structure)의 (004) c-축 방향 우선배향 성장 결정이 포함된 것을 의미한다. 이러한 결정의 존재로 인하여, 플라즈마 디스플레이 패널이 고온에서 장시간 동안 작동하는 경우에도 밀봉재는 유동성이 적어 형상을 유지하게 되므로, 내부 격벽과 밀봉재 부위의 높이가 균일하게 유지되어 소음 발생이 현저히 개선되는 효과가 있다. (Bi2O3 -x의 X는 결 정화된 부분의 성분을 측정했을 때 O의 비율이 Bi에 대비 3/2배에 조금 부족하다는 것을 의미한다)According to another embodiment of the present invention, when the lead-free sealant is analyzed by XRD after firing, a (002) peak or (004) peak is observed around 2θ = 18 or 2θ = 37. (002) peak is Cordierite (Cordierite: 2MgO
Figure 112008004915001-PAT00001
2Al 2 O 3 5SiO 2 ) is included, the (004) peak is Bi 2 O 3-x component and (004) c-axis preferred orientation growth crystals of the hexagonal structure (hexagonal structure) It means to be included. Due to the presence of such a crystal, even when the plasma display panel is operated for a long time at a high temperature, the sealing material has a low fluidity and maintains a shape. Therefore, the height of the inner partition and the sealing part is kept uniform, which significantly improves noise generation. have. (X in Bi 2 O 3 -x means that the proportion of O is slightly less than 3/2 times that of Bi when measuring the component of the purified part)

이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 기재한다. 하기 실시예는 본 발명을 보다 명확히 표현하기 위한 목적으로 기재될 뿐 본 발명의 내용은 하기 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, preferred examples and comparative examples of the present invention are described. The following examples are described for the purpose of more clearly expressing the present invention, but the contents of the present invention are not limited to the following examples.

실시예Example

실시예Example 1: 무연 페이스트 1 제조  1: manufacture of lead-free paste 1

교반기에 ZnO 10.2 중량%, B2O3 9.0 중량%, Bi2O3 80.5 중량%, SiO2 0.3 중량%의 파우더 800 g, 용매 160 L 및 아크릴  수지 40  g을 투입하여 3 시간 동안 교반하여 무연 페이스트 1을 제조하였다.  ZnO 10.2% by weight, 9.0% by weight of B 2 O 3 , 80.5% by weight of Bi 2 O 3 , 800 g of powder of SiO 2 0.3% by weight, 160 L of solvent and 40 g of acrylic resin were added and stirred for 3 hours. Paste 1 was prepared.

상기 무연 페이스트 1 에 대해, 19.8℃에서 60 초 동안 1/s에서 60/s까지 전단력을 증가시키면서 그리고 60 초 동안 60/s에서 1/s까지 전단력을 감소시키면서 히스테리시스를 측정하였다. 결과를 도 2에 나타내었다. 각각의 히스테리시스 곡선의 면적은 11080 Pa/s이였다. Hysteresis was measured for the lead-free paste 1 with increasing shear force from 1 / s to 60 / s for 60 seconds at 19.8 ° C. and decreasing shear force from 60 / s to 1 / s for 60 seconds. The results are shown in FIG. The area of each hysteresis curve was 11080 Pa / s.

실시예Example 2:  2: 플라즈마plasma 디스플레이 패널 조립  Display panel assembly

전극층이 형성된 전면 기판의 전극 층 위에 30 ㎛ 두께의 유전체층을 형성시켰고, 상기 투명 유전체층 위에 MgO 보호막을 물리증착법(PVD)으로 증착하여 MgO 보호막을 형성하여 전면 기판을 제조하였다.A 30 μm thick dielectric layer was formed on the electrode layer of the front substrate having the electrode layer formed thereon, and a MgO protective layer was deposited on the transparent dielectric layer by physical vapor deposition (PVD) to form a front substrate.

부틸카르비톨아세테이트와 테르피네올의 중량비 3:7 혼합용매 100 중량부에 대하여 바인더인 에틸셀룰로오스 6 중량부를 혼합하고, 청색 형광체인 BaMgAl10O17:Eu를 혼합하여 형광체 슬러리를 제조하였다. 상기 제조된 형광체 슬러리를 격벽이 형성되어 있는 제1기판의 방전셀 내부에 도포하고, 상기 형광체 슬러리가 도포된 제1기판을 120 ℃에서 건조 및 소성시켜 청색 형광체 층을 형성하였다. 또한, 동일한 방법으로 적색 및 녹색 방전셀에 각각 (Y,Gd)BO3:Eu와 ZnSiO4:Mn의 형광체층을 형성하여 배면 기판을 제조하였다. A phosphor slurry was prepared by mixing 6 parts by weight of ethyl cellulose as a binder with respect to 100 parts by weight of a mixed solvent of butylcarbitol acetate and terpineol in a weight ratio of 3: 7, and mixing BaMgAl 10 O 17 : Eu as a blue phosphor. The prepared phosphor slurry was applied inside the discharge cell of the first substrate on which the partition wall was formed, and the first substrate on which the phosphor slurry was applied was dried and baked at 120 ° C. to form a blue phosphor layer. In addition, a phosphor substrate of (Y, Gd) BO 3 : Eu and ZnSiO 4 : Mn was formed in the red and green discharge cells in the same manner to prepare a back substrate.

무연 페이스트 1를 디스펜서 (dispenser)를 이용해 도포해 상기 제조된 배면 기판과 전면 기판을 접합시키고 500 ℃에서  8  시간 동안 소성시킨 후, 배기, 가스주입, 및 에이징하는 단계를 거침으로써, 플라즈마 디스플레이 패널 1을 제조하였다.The lead-free paste 1 was applied using a dispenser to bond the prepared back substrate and the front substrate, and then fired at 500 ° C. for 8 hours, followed by exhaust, gas injection, and aging. Was prepared.

비교예Comparative example

비교예Comparative example 1: 유연 페이스트 1 제조  1: Manufacturing Flexible Paste 1

교반기에 SiO2 3 중량%, Al2O3 11 중량%, B2O3 12 중량%, Pb 74 중량%의 파우더  800g, 용매 160L 및 아크릴 수지 40g을 투입하여 3 시간 동안 교반하여 유연 페이스트 1을 제조하였다. 3 wt% SiO 2 , 11 wt% Al 2 O 3, 12 wt% B 2 O 3 , 800 g of Pb 74 wt%, 160 L of solvent, and 40 g of acrylic resin were added and stirred for 3 hours to prepare flexible paste 1 Prepared.

비교예 1의 페이스트를 실시예 1과 동일한 조건으로 히스테리시스를 측정하였다. 히스테리시스 곡선의 면적은 4012 Pa/s 이였다.Hysteresis was measured for the paste of Comparative Example 1 under the same conditions as in Example 1. The area of the hysteresis curve was 4012 Pa / s.

비교예Comparative example 2:  2: 플라즈마plasma 디스플레이 패널 조립  Display panel assembly

비교예 1의 유연 페이스트 1을 사용한 것을 제외하고는 실시예 3과 동일하게 패널을 조립하였다. 이 과정에서 디스펜서를 이용해 비교예 1의 페이스트를 도포할 경우 선폭이 불균일 하다는 문제점이 관찰되었다. The panel was assembled similarly to Example 3 except having used the flexible paste 1 of the comparative example 1. In this process, when the paste of Comparative Example 1 was applied using a dispenser, a problem of uneven line width was observed.

XRDXRD 측정  Measure

실시예 1 및 비교예 1의 페이스트를 500℃에서 20분 동안 소성시킨 후, XRD를 사용해 분석하였다.  XRD 측정 조건은 아래와 같다. The pastes of Example 1 and Comparative Example 1 were calcined at 500 ° C. for 20 minutes and then analyzed using XRD. XRD measurement conditions are as follows.

XRDXRD 측정 조건  Measuring conditions

관전압 & 관전류 : 40 kV X 40mA Tube voltage & tube current: 40 kV X 40mA

스캔 방식, 범위, 스텝, 시간 : 연속 스캔 (continuous scan), 10˚ ~ 90˚, 0.02˚,  5sec/stepScan method, range, step, time: continuous scan, 10˚ ~ 90˚, 0.02˚, 5sec / step

슬릿 시스템 (Slit system): D.S. = A.S.S. = 1.0˚, R.S. = 0.2 mmSlit system: D.S. = A.S.S. = 1.0 °, R.S. = 0.2 mm

도 3a 및 3b는 실시예 1 및 비교예 1의 페이스트를 500℃에서 20분 동안 소성시킨 후 XRD 분석한 결과를 나타내는 그래프이다.  도 3a 및 3b를 참조하면, 실시예 1은 비교예 1과 달리 (004) 피크가 관찰됨을 확인할 수 있었다. 이는 산화 비스무스의 결정의 존재로 인한 피크이며, 광학 현미경으로도 이를 확인할 수 있었다.3A and 3B are graphs showing the results of XRD analysis after baking the pastes of Example 1 and Comparative Example 1 at 500 ° C. for 20 minutes. 3a and 3b, it can be seen that in Example 1, unlike in Comparative Example 1 (004) peak is observed. This is a peak due to the presence of crystals of bismuth oxide, which could be confirmed by an optical microscope.

도 4a, 4b 및 4c는 실시예 1의 페이스트를 500℃에서 20분 동안 소성시킨 후 관찰한 표면을 각각 다른 배율로 확대한 사진이다. 도 4a, 4b 및 4c를 참조하면, 소성 후 산화 비스무스 결정이 형성되었음을 알 수 있다.Figures 4a, 4b and 4c is an enlarged photograph of the surface observed after firing the paste of Example 1 for 20 minutes at 500 ℃. 4A, 4B and 4C, it can be seen that bismuth oxide crystals were formed after firing.

플라즈마plasma 디스플레이 패널 성능 비교  Display panel performance comparison

실시예 2 및 비교예 2의 플라즈마 디스플레이 패널을 2시간 동안 작동 시킨 후 소음 발생을 비교하였다. 그 결과 실시예 2의 플라즈마 디스플레이 패널이 비교예 2의 플라즈마 디스플레이 패널보다 월등히 소음이 작음을 확인하였다.The plasma display panels of Example 2 and Comparative Example 2 were operated for 2 hours, and noise generation was compared. As a result, it was confirmed that the plasma display panel of Example 2 was significantly less noise than the plasma display panel of Comparative Example 2.

밀봉재 내의 산화 비스무스 결정의 존재는, 실시예 1의 무연 페이스트를 사용한 실시예 2의 플라즈마 디스플레이 패널이, 비교예 1의 유연 페이스트를 사용한 비교예 2의 플라즈마 디스플레이 패널보다 장시간의 작동 후에도 소음 발생이 월등히 개선되었다는 사실과 부합한다.The presence of bismuth oxide crystals in the sealing material was significantly higher in noise generation even after the plasma display panel of Example 2 using the lead-free paste of Example 1 than the plasma display panel of Comparative Example 2 using the flexible paste of Comparative Example 1. It is consistent with the fact that it has been improved.

도 1은 통상의 플라즈마 디스플레이 패널을 개략적으로 도시한 사시도이다. 1 is a perspective view schematically showing a conventional plasma display panel.

도 2는 실시예 1의 무연 페이스트의 히스테리시스를 측정한 그래프이다. 2 is a graph measuring hysteresis of the lead-free paste of Example 1. FIG.

도 3a 및 3b는 실시예 1 및 비교예 1의 페이스트를 소성시킨 후 XRD 분석한 결과를 나타내는 그래프이다. 3A and 3B are graphs showing the results of XRD analysis after firing the pastes of Example 1 'and Comparative Example 1. FIG.

도 4a, 4b 및 4c는 실시예 1의 페이스트를 소성시킨 후 관찰한 표면을 각각 다른 배율로 확대한 사진이다. 4A, 4B and 4C are enlarged photographs of the surface observed after firing the paste of Example 1 at different magnifications, respectively.

Claims (8)

19.8℃에서 60 초 동안 1/s에서 60/s까지 전단력을 증가시키면서 그리고 60 초 동안 60/s에서 1/s까지 전단력을 감소시키면서 측정한 히스테리시스의 곡선 면적이 4500 내지 20000 Pa/s인 플라즈마 디스플레이 밀봉재용 무연 페이스트. Plasma display with a hysteresis curve area of 4500 to 20000 Pa / s, measured at 19.8 ° C with increasing shear force from 1 / s to 60 / s for 60 seconds and decreasing shear force from 60 / s to 1 / s for 60 seconds Lead-free paste for sealants. 제 1항에 있어서, 상기 무연 페이스트는 MgO, Al2O3, SiO2, Bi2O3, BaO  및  ZnO로 이루어진 군으로부터 선택된 셋 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 밀봉재용 무연 페이스트. The lead-free paste of claim 1, wherein the lead-free paste comprises at least three selected from the group consisting of MgO, Al 2 O 3 , SiO 2 , Bi 2 O 3 , BaO, and ZnO. 제 1항에 있어서, 상기 무연 페이스트는 ZnO 5 내지 12 중량%, B2O3 7.5 내지  30 중량%, Bi2O3 57  내지 85 중량% 및 SiO2 0 내지 1 중량%로 이루어진 군으로부터 선택된 셋 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 밀봉재용 무연 페이스트. The method of claim 1, wherein the lead-free paste is selected from the group consisting of 5 to 12% by weight of ZnO, 7.5 to 30% by weight of B 2 O 3 , 57 to 85% by weight of Bi 2 O 3, and SiO 2 0 to 1% by weight. A lead-free paste for plasma display sealing material comprising the above. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 따른 플라즈마 디스플레이 밀봉재용 무연 페이스트를 도포하여 소성시킨 무연 밀봉재를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.A plasma display panel comprising a lead-free sealing material obtained by applying and baking the lead-free paste for plasma display sealing material according to any one of claims 1 to 3. 제 4 항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 소성 과정이 460 내지 500℃에서 수행된 것을 특징으로 하는  플라즈마 디스플레이 패널.Wherein the firing process is performed at 460 to 500 ° C. 제 4 항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 무연 밀봉재의 XRD 분석 결과가 2θ = 18 또는 2θ = 37 부근에서 (002) 피크 또는 (004) 피크를 보이는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.XRD analysis results of the lead-free sealing material characterized by showing a (002) peak or (004) peak in the vicinity of 2θ = 18 or 2θ = 37. 제 4 항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 무연 밀봉재가 헥사고날 구조 (hexagonal structure)의 결정을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. And the lead-free sealant comprises crystals of a hexagonal structure. 제 4 항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 무연 밀봉재가 산화 비스무스 결정을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. And the lead-free sealant comprises bismuth oxide crystals.
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