KR20090079789A - Architecture of high integrated semiconductor memory apparatus - Google Patents
Architecture of high integrated semiconductor memory apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- KR20090079789A KR20090079789A KR1020080112700A KR20080112700A KR20090079789A KR 20090079789 A KR20090079789 A KR 20090079789A KR 1020080112700 A KR1020080112700 A KR 1020080112700A KR 20080112700 A KR20080112700 A KR 20080112700A KR 20090079789 A KR20090079789 A KR 20090079789A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- control circuit
- circuit region
- column
- memory bank
- bank
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/02—Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
- G11C5/025—Geometric lay-out considerations of storage- and peripheral-blocks in a semiconductor storage device
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/10—Decoders
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/12—Group selection circuits, e.g. for memory block selection, chip selection, array selection
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C2207/00—Indexing scheme relating to arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C2207/10—Aspects relating to interfaces of memory device to external buses
- G11C2207/105—Aspects related to pads, pins or terminals
Abstract
Description
본 발명은 반도체 설계 기술에 관한 것으로, 특히 데이터를 저장하기 위한 다수의 메모리 뱅크(memory bank)와, 데이터의 입/출력 동작을 수행하기 위한 여러 가지 내부 회로가 구비되어 있는 고집적 반도체 메모리 장치의 내부 구조에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor design technology, and more particularly, to a high density semiconductor memory device having a plurality of memory banks for storing data and various internal circuits for performing data input / output operations. It's about structure.
일반적으로, DDR SDRAM(Double Data Rate Synchronous DRAM)을 비롯한 반도체 메모리 장치는 데이터 처리 장치인, 예컨대 중앙처리장치(CPU)에서 요구하는 명령에 따라 데이터를 저장하거나 데이터를 출력한다. 만약, 중앙처리장치(CPU)에서 쓰기 동작을 요구하는 경우 중앙처리장치(CPU)로부터 입력되는 어드레스(address) 정보에 대응하는 메모리 셀에 데이터를 저장하고, 읽기 동작을 요구하는 경우 중앙처리장치(CPU)로부터 입력되는 어드레스 정보에 대응하는 메모리 셀에 저장된 데이터를 출력한다.In general, a semiconductor memory device including a DDR SDRAM (Double Data Rate Synchronous DRAM) stores data or outputs data according to a command required by a data processing device, for example, a central processing unit (CPU). If the CPU requests a write operation, the CPU stores the data in a memory cell corresponding to address information input from the CPU, and if the CPU requests a read operation, The data stored in the memory cell corresponding to the address information input from the CPU) is output.
한편, 반도체 메모리 장치는 수 천만개 이상의 메모리 셀(memory cell)을 구비하고 있으며, 이러한 메모리 셀들의 집합을 일반적으로 메모리 뱅크(memory bank)라 한다. 반도체 메모리 장치 내에 구비되는 메모리 뱅크의 개수는 설계에 따라 달라질 수 있으나, 요즈음에는 반도체 메모리 장치의 대용량화를 위하여 메모리 뱅크의 개수가 늘어나고 있다.Meanwhile, a semiconductor memory device includes tens of millions of memory cells, and such a set of memory cells is generally called a memory bank. The number of memory banks included in the semiconductor memory device may vary depending on the design. However, in recent years, the number of memory banks is increasing to increase the capacity of the semiconductor memory device.
도 1 은 기존의 반도체 메모리 장치의 일반적인 읽기 동작 및 쓰기 동작을 설명하기 위한 도면이다. 설명의 편의를 위하여 메모리 뱅크 내에 구비되는 하나의 메모리 셀을 도시하고, 여기에 '110'이라는 도면 부호를 부여하였다.1 is a diagram illustrating a general read operation and a write operation of a conventional semiconductor memory device. For convenience of description, one memory cell included in the memory bank is illustrated, and reference numeral '110' is denoted.
도 1 을 참조하여 반도체 메모리 장치의 간단한 읽기 동작을 살펴보기로 한다.A simple read operation of the semiconductor memory device will be described with reference to FIG. 1.
우선, 외부 커맨드신호에 따라 입력되는 로우 어드레스(row address)를 디코딩하여 선택된 워드라인(Word Line, WL)이 활성화되면, 메모리 셀(110)의 셀 트렌지스터(cell transistor, T1)가 턴 온(turn on)되고, 셀 커패시터(cell capacitor, C1)에 저장된 데이터가 프리차징된 정/부 비트 라인(BL, /BL)에 차지 쉐어링된다. 정 비트 라인(BL)과 부 비트 라인(/BL)은 차지 쉐어링 동작을 통해 미소한 전위 차이를 갖게 된다.First, when a selected word line WL is activated by decoding a row address input according to an external command signal, a cell transistor T1 of the
이어서, 비트 라인 감지 증폭부(bit line sense amplifier, 120)는 정 비트 라인(BL)과 이에 대응하는 부 비트 라인(/BL)의 미소한 전위를 감지하여 이를 증폭한다. 다시 말하면, 정 비트 라인(BL)의 전위가 부 비트 라인(/BL)의 전위보다 높은 경우 정 비트 라인(BL)은 풀업 전원 전압(RTO)으로 증폭되고 부 비트 라인(BL) 은 풀다운 전원 전압(SB)으로 증폭된다. 반대로, 정 비트 라인(BL)의 전위가 부 비트 라인(/BL)의 전위보다 낮은 경우 정 비트 라인(BL)은 풀다운 전원전압(SB)으로 증폭되고 부 비트 라인(/BL)은 풀업 전원 전압(RTO)으로 증폭된다.Subsequently, the bit line sense amplifier 120 senses and amplifies a small potential of the positive bit line BL and the corresponding sub bit line / BL. In other words, when the potential of the positive bit line BL is higher than the potential of the negative bit line / BL, the positive bit line BL is amplified by the pull-up power supply voltage RTO and the negative bit line BL is pull-down power supply voltage. Amplified by (SB). On the contrary, when the potential of the positive bit line BL is lower than the potential of the negative bit line / BL, the positive bit line BL is amplified by the pull-down power supply voltage SB and the negative bit line / BL is the pull-up power supply voltage. Amplified by (RTO).
한편, 외부 커맨드신호에 따라 입력되는 컬럼 어드레스(column address)를 디코딩하여 선택된 컬럼 선택신호(YI)가 활성화되면, 컬럼 선택부(130)가 활성화되어 정/부 비트 라인(BL, /BL)과 정/부 세그먼트 입출력 라인(SIO, /SIO)이 연결된다. 즉, 정 비트 라인(BL)에 증폭된 데이터가 정 세그먼트 입출력 라인(SIO)으로 전달되고, 부 비트 라인(/BL)에 증폭된 데이터가 부 세그먼트 입출력 라인(/SIO)으로 전달된다.Meanwhile, when the selected column select signal YI is decoded by decoding a column address input according to an external command signal, the
이어서, 입출력 제어신호(CTR_IO)에 응답하여 입출력 스위칭부(140)가 활성화되면 정/부 세그먼트 입출력 라인(SIO, /SIO)과 정/부 로컬 입출력 라인(LIO, /LIO)이 연결된다. 즉, 정 세그먼트 입출력 라인(SIO)에 전달된 데이터는 정 로컬 입출력 라인(LIO)에 전달되고, 부 세그먼트 입출력 라인(/SIO)에 전달된 데이터는 부 로컬 입출력 라인(/LIO)에 전달된다. 읽기 드라이빙부(150)는 정/부 로컬 입출력 라인(LIO, /LIO)을 통해 전달된 데이터에 따라 글로벌 입출력 라인(GIO)을 구동한다. Subsequently, when the input /
결국, 메모리 셀(110)에 저장된 데이터는 컬럼 선택신호(YI)에 응답하여 정/부 비트 라인(BL, /BL)에서 정/부 세그먼트 입출력 라인(SIO, /SIO)으로 전달되고, 정/부 세그먼트 입출력 라인(SIO, /SIO)에 전달된 데이터는 입출력 제어신호(CTR_IO)에 응답하여 정/부 로컬 입출력 라인(LIO, /LIO)으로 전달되고, 정/부 로컬 입출력 라인(LIO, /LIO)에 전달된 데이터는 읽기 드라이빙부(150)에 의하여 글로벌 입출력 라인(GIO)으로 전달된다. 이렇게 전달된 데이터는 최종적으로 해당하는 입출력 패드(도시되지 않음)를 통해 외부로 출력된다.As a result, the data stored in the
한편, 쓰기 동작시 외부에서 인가되는 데이터는 읽기 동작과 반대 방향으로 전달된다. 즉, 입출력 패드를 통해 인가된 데이터는 글로벌 입출력 라인(GIO)에서 쓰기 드라이빙부(160)를 통해 정/부 로컬 입출력 라인(LIO, /LIO)으로, 정/부 로컬 입출력 라인(LIO, /LIO)에서 정/부 세그먼트 입출력 라인(SIO, /SIO)으로, 정/부 세그먼트 입출력 라인(SIO, /SIO)에서 정/부 비트 라인(BL, /BL)으로 전달된다. 이렇게 전달된 데이터는 최종적으로 메모리 셀 (110)에 저장된다.On the other hand, the data applied from the outside during the write operation is transferred in the opposite direction to the read operation. That is, data applied through the input / output pad is positive / negative local I / O lines (LIO, / LIO) from the global input / output line (GIO) through the write
도 2 는 기존의 반도체 메모리 장치의 메모리 뱅크 구조를 설명하기 위한 블록도이다. 설명의 편의를 위하여 8 개의 메모리 뱅크를 가지는 반도체 메모리 장치를 일례로 설명하기로 한다.2 is a block diagram illustrating a memory bank structure of a conventional semiconductor memory device. For convenience of description, a semiconductor memory device having eight memory banks will be described as an example.
도 2 를 참조하면, 반도체 메모리 장치는 제1 내지 제8 메모리 뱅크를 구비하고 있고, 다수의 메모리 뱅크 각각에 대응하는 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역을 구비하고 있다. 이하, 제1 메모리 뱅크(210)와, 제1 로우 제어회로 영역(230), 및 제1 컬럼 제어회로 영역(250)을 대표로 설명하기로 한다.Referring to FIG. 2, a semiconductor memory device includes first to eighth memory banks, and includes a row control circuit region and a column control circuit region corresponding to each of the plurality of memory banks. Hereinafter, the
위에서 설명하였듯이, 제1 메모리 뱅크(210)는 다수의 메모리 셀을 구비하고 있으며, 제1 로우 제어회로 영역(230)과 제1 컬럼 제어회로 영역(250)은 제1 메모리 뱅크(210)에 대응한다. 여기서, 제1 로우 제어회로 영역(230)에는 제1 메모리 뱅크(210)의 로우(row) 액세스(access)를 제어하기 위한 회로들이 배치되고, 제1 컬럼 제어회로 영역(250)에는 제1 메모리 뱅크(210)의 컬럼(column) 액세스를 제어하기 위한 회로들이 배치된다.As described above, the
구체적으로 도시되지 않았지만, 제1 로우 제어회로 영역(230)에는 중앙처리장치(CPU)로부터 입력되는 어드레스 정보를 디코딩하여 워드라인(WL, 도 1 참조)을 선택하기 위한 로우 디코딩부와, 비트 라인 감지 증폭부(120)에 공급되는 풀업 전원 전압(RTO)과 풀다운 전원 전압(SB)을 제어하기 위한 전원전압 제어부, 및 결함 대상 메모리 셀에 연결된 워드라인을 정상적인 메모리 셀에 연결된 다른 워드라인으로 대체하기 위한 로우 리던던시 제어부가 배치된다. 여기서, 풀업 전원 전압(RTO)과 풀다운 전원 전압(SB)은 외부 전원전압과 접지 전원전압을 기반으로 생성되는 전압이다. Although not shown in detail, the first row
이어서 구체적으로 도시되지 않았지만, 제1 컬럼 제어회로 영역(250)에는 중앙처리장치(CPU)로부터 입력되는 어드레스 정보를 디코딩하여 메모리 셀에 대응하는 컬럼 선택신호(YI, 도1 참조)를 선택하기 위한 컬럼 디코딩부와, 읽기 명령에 응답하여 해당 메모리 뱅크에서 독출되는 데이터를 출력하기 위한 읽기 드라이빙부(150)와, 쓰기 명령에 응답하여 외부에서 인가되는 데이터를 해당 메모리 뱅크로 전달하기 위한 쓰기 드라이빙부(160), 및 결함 대상 메모리 셀에 연결된 컬럼 선택신호(YI)를 정상적인 메모리 셀에 대응하는 다른 컬럼 선택신호로 대체하기 위한 컬럼 리던던시 제어부가 배치된다. 여기서, 컬럼 리던던시 동작은 결함 대상 메모리 셀에 대응하는 컬럼 어드레스를 정상적인 메모리 셀에 대응하는 컬럼 어드레스로 대체함으로써 수행이 가능하다.Subsequently, although not shown in detail, the first column
한편, 제1 메모리 뱅크와, 제2 메모리 뱅크와, 제5 메모리 뱅크, 및 제6 메모리 뱅크는 로우(row) 방향으로 배치되고, 제3 메모리 뱅크와, 제4 메모리 뱅크와, 제7 메모리 뱅크, 및 제8 메모리 뱅크도 각각 로우 방향으로 배치되며, 로우 방향으로 배치된 다수의 메모리 뱅크 사이에는 주변 회로 영역(270)이 배치된다. Meanwhile, the first memory bank, the second memory bank, the fifth memory bank, and the sixth memory bank are arranged in a row direction, and the third memory bank, the fourth memory bank, and the seventh memory bank are disposed. The eighth memory banks are also arranged in the row direction, and the
주변 회로 영역(270)에는 외부에서 입력되는 전원전압, 데이터 정보, 어드레스 정보, 외부 명령신호, 및 클럭 신호등을 입력받기 위한 다수의 패드(도시되지 않음)가 배치되고, 다수의 패드를 통해 입력되는 각종 신호들을 전달하기 위한 다수의 전송라인이 배치된다. 반도체 메모리 장치는 다수의 패드를 통해 입력받는 각종 신호들을 바탕으로 다양한 동작을 수행한다.In the
한편, 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역 각각에도 다수의 전송라인이 배치된다. 이러한 전송라인에는 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역 각각에 포함되는 회로들에 전원을 인가하기 위한 전원 라인과, 어드레스 정보를 전달하기 위한 어드레스 라인, 및 각종 테스트 동작에 관련된 신호를 전달하기 위한 테스트 라인 등이 있다. 다시 말하면, 제1 내지 제8 로우 제어회로 영역 각각에는 전원 라인과, 어드레스 라인, 및 테스트 라인 등이 배치되며, 제1 내지 제8 컬럼 제어회로 영역 각각 역시 전원 라인과, 어드레스 라인, 및 테스트 라인 등이 배치된다.On the other hand, a plurality of transmission lines are arranged in each of the row control circuit region and the column control circuit region. The transmission line includes a power supply line for applying power to circuits included in each of the row control circuit area and the column control circuit area, an address line for transmitting address information, and a test for transmitting signals related to various test operations. Line and the like. In other words, a power line, an address line, a test line, and the like are disposed in each of the first to eighth row control circuit regions, and each of the first to eighth column control circuit regions is also a power line, an address line, and a test line. Etc. are arranged.
한편, 반도체 메모리 장치가 더욱 고집적화됨에 따라 생산성 향상을 위하여 반도체 메모리 장치의 칩(chip) 면적을 줄이기 위한 노력이 계속되고 있다. 실제로, 칩 면적이 작을수록 하나의 웨이퍼를 통해 생산될 수 있는 칩의 개수가 늘어나고, 이는 곧 생산성 향상을 통한 제조 원가의 절감으로 이어질 수 있다. 하지만, 기존의 반도체 메모리 장치의 메모리 뱅크 구조에서는 각각의 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역에 해당하는 전원 라인과, 어드레스 라인, 및 테스트 라인이 반드시 배치되어야 하기 때문에, 이 라인들에 대해서는 칩 면적을 줄이기 위한 여지가 없다. Meanwhile, as semiconductor memory devices become more integrated, efforts to reduce chip area of semiconductor memory devices have been continuously performed to improve productivity. In fact, the smaller the chip area, the greater the number of chips that can be produced through one wafer, which can lead to lower manufacturing costs through improved productivity. However, in the memory bank structure of the conventional semiconductor memory device, since the power line, the address line, and the test line corresponding to each row control circuit region and column control circuit region must be disposed, the chip area for these lines is reduced. There is no room to reduce it.
요즈음, 반도체 메모리 장치가 점점 대용량화되어 감에 따라 메모리 뱅크의 개수는 점점 늘어나고 있는 상황에서 각 메모리 뱅크에 대응하는 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역도 늘어나고 있다. 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역이 늘어난다는 것은 각각의 전원 라인과 어드레스 라인, 및 테스트 라인이 증가한다는 것을 의미하며, 이는 곧 칩 면적을 늘리는 부담으로 작용한다.In recent years, as semiconductor memory devices become more and more large, the number of memory banks is increasing, and the row control circuit area and column control circuit area corresponding to each memory bank are also increasing. An increase in the row control circuit area and the column control circuit area means that each of the power lines, the address lines, and the test lines increases, which is a burden to increase the chip area.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 이웃하는 메모리 뱅크에 대응하는 로우 제어회로 영역 각각을 서로 인접하게 배치하고, 이웃하는 메모리 뱅크에 대응하는 컬럼 제어회로 영역 각각을 서로 인접하게 배치할 수 있는 반도체 메모리 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been proposed to solve the above problems, and each of the row control circuit regions corresponding to neighboring memory banks is disposed adjacent to each other, and each of the column control circuit regions corresponding to the neighboring memory banks is adjacent to each other. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device that can be disposed.
나아가, 본 발명은 서로 인접하게 배치된 로우 제어회로 영역이 예정된 전송라인을 공유하고, 서로 인접하게 배치된 컬럼 제어회로 영역이 예정된 전송 라인을 공유할 수 있는 반도체 메모리 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.Furthermore, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device in which row control circuit regions disposed adjacent to each other share a predetermined transmission line, and column control circuit regions disposed adjacent to each other share a predetermined transmission line. .
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따른 반도체 메모리 장치는, 제1 메모리 뱅크에 대응하는 제1 로우 제어회로 영역 및 제1 컬럼 제어회로 영역; 제2 메모리 뱅크에 대응하며, 상기 제1 로우 제어회로 영역과 인접하여 배치된 제2 로우 제어회로 영역; 및 제3 메모리 뱅크에 대응하며, 상기 제1 컬럼 제어회로 영역과 인접하여 배치된 제2 컬럼 제어회로 영역을 구비한다.In accordance with an aspect of the present invention, a semiconductor memory device includes: a first row control circuit region and a first column control circuit region corresponding to a first memory bank; A second row control circuit region corresponding to a second memory bank and disposed adjacent to the first row control circuit region; And a second column control circuit region corresponding to the third memory bank and disposed adjacent to the first column control circuit region.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 일 측면에 따른 반도체 메모리 장치는, 다수의 메모리 뱅크 각각에 대응하는 로우 제어회로 영역 - 이웃하는 메모리 뱅크의 로우 제어회로 영역과 인접하여 배치됨 - 과 컬럼 제어회로 - 이웃하는 메모리 뱅크의 컬럼 제어회로 영역과 인접하여 배치됨 - 를 포함하는 제1 및 제2 뱅크 그룹, 및 상기 제1 및 제2 뱅크 그룹 사이에 배치되어 상기 제1 및 제2 뱅크 그룹과 패드와의 신호 전달을 위한 주변 회로 영역을 구비한다.In accordance with another aspect of the present invention, a semiconductor memory device includes a row control circuit region corresponding to each of a plurality of memory banks, the row control circuit region disposed adjacent to a neighboring memory bank, and a column control circuit. A first and a second bank group, the first and second bank groups disposed adjacent to the column control circuit region of a neighboring memory bank, and between the first and second bank groups. It has a peripheral circuit area for signal transmission.
본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 다수의 메모리 뱅크에 대응하는 로우 제어회로 영역 각각이 서로 인접하게 배치하고, 다수의 메모리 뱅크에 대응하는 컬럼 제어회로 영역 각각이 서로 인접하게 배치됨으로써, 서로 인접한 제어회로 영역이 예정된 전송 라인을 공유하는 것이 가능하다. 즉, 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 기존에 로우 제어회로 영역 각각과 컬럼 제어회로 영역 각각에 존재해야만 했던 전송라인을 공유할 수 있음으로써, 공유되는 전송라인의 개수만큼 반도체 메모리 장치의 칩 면적을 줄일 수 있다.In the semiconductor memory device according to the present invention, the row control circuit regions corresponding to the plurality of memory banks are disposed adjacent to each other, and the column control circuit regions corresponding to the plurality of memory banks are disposed adjacent to each other, thereby providing adjacent control circuits. It is possible for an area to share a predetermined transmission line. That is, the semiconductor memory device according to the present invention can share the transmission lines that had to exist in each of the row control circuit region and the column control circuit region, thereby reducing the chip area of the semiconductor memory device by the number of shared transmission lines. Can be reduced.
또한, 본 발명은 주변 회로 영역의 길이가 기존의 반도체 메모리 장치보다 더 짧아질 수 있어서 주변 회로 영역에 배치되는 전송라인의 길이 역시 짧아 질 수 있다. 전송라인이 짧아진다는 것은 그만큼 로딩이 줄어들기 때문에 회로의 더 빠른 동작을 보장해 줄 수 있다.In addition, according to the present invention, the length of the peripheral circuit region may be shorter than that of a conventional semiconductor memory device, and thus the length of the transmission line disposed in the peripheral circuit region may also be shortened. Shorter transmission lines mean less loading, thus ensuring faster operation of the circuit.
본 발명은 로우 제어회로 영역 각각이 인접한 로우 제어회로 영역과 전송라인을 공유하고 컬럼 제어회로 영역 각각이 인접한 컬럼 제어회로 영역과 전송라인을 공유하여 전송라인의 개수를 줄여 줌으로써, 그만큼 반도체 메모리 장치의 칩 면적을 줄여 줄 수 있는 효과를 얻을 수 있다.According to the present invention, each row control circuit region shares a transmission line with an adjacent row control circuit region and each column control circuit region shares a transmission line with an adjacent column control circuit region, thereby reducing the number of transmission lines. The effect of reducing the chip area can be obtained.
또한, 메모리 뱅크를 스택(stack) 배치하여 주변 회로 영역을 최소화할 수 있기 때문에, 반도체 메모리 장치의 칩 면적뿐 아니라 더욱 빠른 회로 동작을 확보할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.In addition, since the memory banks may be stacked to minimize the peripheral circuit area, the chip area of the semiconductor memory device as well as the faster circuit operation may be obtained.
나아가, 칩 면적을 줄일 수 있기 때문에 하나의 웨이퍼에서 생산되는 칩의 개수를 증가시킬 수 있고, 이로 인하여 생산 원가를 절감할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.Furthermore, since the chip area can be reduced, the number of chips produced in one wafer can be increased, thereby reducing the production cost.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시 예를 첨부 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, the preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the technical idea of the present invention. .
도 3 은 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 메모리 뱅크 구조를 설명하기 위한 블록도이다. 설명의 편의를 위하여 기존과 동일하게 8 개의 메모리 뱅크를 가지는 반도체 메모리 장치를 일례로 설명하기로 한다.3 is a block diagram illustrating a memory bank structure of a semiconductor memory device according to the present invention. For convenience of description, a semiconductor memory device having eight memory banks will be described as an example.
도 3 을 참조하면, 반도체 메모리 장치는 제1 내지 제8 메모리 뱅크를 구비할 수 있다. 다수의 메모리 뱅크는 각각 대응하는 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역을 구비할 수 있다. 이하, 제1 메모리 뱅크(310A)와, 이와 인접한 제2 메모리 뱅크(330A) 및 제5 메모리 뱅크(350A)를 대표로 설명하기로 한다. Referring to FIG. 3, a semiconductor memory device may include first to eighth memory banks. Each of the plurality of memory banks may have corresponding row control circuit areas and column control circuit areas. Hereinafter, the
제1 메모리 뱅크(310A)는 로우 방향으로 제1 로우 제어회로 영역(310B)과 컬럼 방향으로 제1 컬럼 제어회로 영역(310C)을 구비할 수 있고, 제2 메모리 뱅크(330A)는 로우 방향으로 제2 로우 제어회로 영역(330B)과 컬럼 방향으로 제2 컬럼 제어회로 영역(330C)을 구비할 수 있으며, 제5 메모리 뱅크(350A)는 로우 방향으로 제5 로우 제어회로 영역(350B)과 컬럼 방향으로 제5 컬럼 제어회로 영역(350C)을 구비할 수 있다. The
여기서, 각각의 로우 제어회로 영역에는 해당 메모리 뱅크의 로우 액세스를 제어하기 위한 회로들이 배치되고, 각각의 컬럼 제어회로 영역에는 해당 메모리 뱅크의 컬럼 액세스를 제어하기 위한 회로들이 배치될 수 있다. Here, circuits for controlling row access of the corresponding memory bank may be disposed in each row control circuit region, and circuits for controlling column access of the corresponding memory bank may be disposed in each column control circuit region.
이하, 각각의 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역을 좀더 자세히 설명하면, 구체적으로 도시되지 않았지만 각각의 로우 제어회로 영역에는 중앙처리장치(CPU)로부터 입력되는 어드레스 정보를 디코딩하여 워드라인(WL, 도 1 참조)을 선택하기 위한 로우 디코딩부와, 비트 라인 감지 증폭부(120)에 공급되는 풀업 전원 전압(RTO)과 풀다운 전원 전압(SB)을 제어하기 위한 전원전압 제어부, 및 결함 대상 메모리 셀에 연결된 워드라인을 정상적인 메모리 셀에 연결된 다른 워드라인으로 대체하기 위한 로우 리던던시 제어부가 배치될 수 있다. 여기서, 풀업 전원 전압(RTO)과 풀다운 전원 전압(SB)은 외부 전원전압과 접지 전원전압을 기반으로 생성되는 전압이며, 이 외부 전원전압과 접지 전원전압은 이후에 설명될 공유되는 전원 라인을 통해 전달될 수 있다.Hereinafter, the row control circuit area and the column control circuit area will be described in more detail. Although not shown in detail, each row control circuit area decodes address information input from the CPU to the word line WL, A row decoding unit for selecting a power supply unit, a power supply voltage control unit for controlling a pull-up power supply voltage RTO and a pull-down power supply voltage SB supplied to the bit
이어서 구체적으로 도시되지 않았지만, 각각의 컬럼 제어회로 영역에는 중앙처리장치(CPU)로부터 입력되는 어드레스 정보를 디코딩하여 메모리 셀에 대응하는 컬럼 선택신호(YI, 도1 참조)를 선택하기 위한 컬럼 디코딩부와, 읽기 명령에 응답 하여 해당 메모리 뱅크에서 독출되는 데이터를 출력하기 위한 읽기 드라이빙부(150)와, 쓰기 명령에 응답하여 외부에서 인가되는 데이터를 해당 메모리 뱅크로 전달하기 위한 쓰기 드라이빙부(160), 및 결함 대상 메모리 셀에 연결된 컬럼 선택신호(YI)를 정상적인 메모리 셀에 대응하는 다른 컬럼 선택신호로 대체하기 위한 컬럼 리던던시 제어부가 배치될 수 있다. 여기서, 컬럼 리던던시 동작은 결함 대상 메모리 셀에 대응하는 컬럼 어드레스를 정상적인 메모리 셀에 대응하는 컬럼 어드레스로 대체함으로써 수행이 가능하다.Subsequently, although not shown in detail, each column control circuit region decodes address information input from the CPU to select a column selection signal YI (see FIG. 1) corresponding to the memory cell. And a
한편, 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 제1 로우 제어회로 영역(310B)과 제5 로우 제어회로 영역(350B)은 서로 인접하게 배치되며, 제2 컬럼 제어회로 영역(310C)과 제2 컬럼 제어회로 영역(330C)은 서로 인접하게 배치될 수 있다. 때문에, 제1 로우 제어회로 영역(310B)과 제5 로우 제어회로 영역(350B)은 동일한 전송라인을 공유할 수 있으며, 또한, 제1 컬럼 제어회로 영역(310C)과 제2 컬럼 제어회로 영역(330C)은 동일한 전송라인을 고유할 수 있다. 여기서, 동일한 전송라인은 제1 로우 제어회로 영역(310B)과 제5 로우 제어회로 영역(350B)에서 공유할 수 있는 전송라인을 의미하며, 대표로 전원 라인과, 어드레스 라인, 및 테스트 라인 등이 이에 해당할 수 있다.Meanwhile, the first row
다시 말하면, 기존의 반도체 메모리 장치의 경우 메모리 뱅크의 구조상 다수의 로우 제어회로 영역과 다수의 컬럼 제어회로 영역 각각을 위한 전원 라인과, 어드레스 라인, 및 테스트 라인 등이 배치되어야만 했다. 하지만, 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 경우 메모리 뱅크와 인접한 메모리 뱅크 사이에 해당하는 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역이 서로 인접하게 배치됨에 따라 전원 라인과, 어드레스 라인, 및 테스트 라인 등을 공유하여 배치하는 것이 가능하다. 결국, 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 필요로 하는 전송라인의 개수를 기존 보다 줄여줄 수 있다. 이는 반도체 메모리 장치의 칩 면적을 줄여 줄 수 있음을 의미한다.In other words, in the case of the conventional semiconductor memory device, a power line, an address line, a test line, and the like for each of the plurality of row control circuit areas and the plurality of column control circuit areas had to be disposed due to the structure of the memory bank. However, in the semiconductor memory device according to the present invention, since the row control circuit area and the column control circuit area corresponding to each other are disposed between the memory bank and the adjacent memory bank, the power line, the address line, the test line, and the like are shared. It is possible to arrange. As a result, the semiconductor memory device according to the present invention can reduce the number of transmission lines required than before. This means that the chip area of the semiconductor memory device can be reduced.
한편, 반도체 메모리 장치의 대용량화가 진행됨에 따라 외부로부터 인가되는 어드레스의 개수 또한 증가하고 있다. 이렇게 많은 개수의 어드레스를 보다 효율적으로 처리하기 위해서 요즈음에는 어드레스 정보를 프리-디코딩(pre-decording)하는 방식을 채택하여 사용하고 있다. 반도체 메모리 장치에는 이러한 프리-디코딩 동작을 수행하는 회로를 구비할 수 있으며, 이 회로들이 배치되는 영역을 이하 "크로스 회로 영역"이라 칭하기로 한다.On the other hand, as the capacity of semiconductor memory devices increases, the number of addresses applied from the outside also increases. In order to process such a large number of addresses more efficiently, a method of pre-decorating address information is adopted. The semiconductor memory device may include a circuit for performing such a pre-decoding operation, and the region in which the circuits are disposed will be referred to as a "cross circuit region" below.
크로스 회로 영역에 대한 설명에 앞서, 업 뱅크 그룹과 다운 뱅크 그룹에 대한 설명을 하기로 한다. 여기서, 업 뱅크 그룹은 주변 회로 영역(370)의 위쪽에 배치되는 회로들을 의미한다. 즉, 업 뱅크 그룹에는 제1 메모리 뱅크(310A)와 제2 메모리 뱅크(330A)와, 제5 메모리 뱅크(350A), 및 제6 메모리 뱅크(도면 부호는 생략함)가 포함되며, 각 메모리 뱅크에 해당하는 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역을 포함할 수 있다. 또한, 각 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역의 연장선상에 만나는 영역인 업 크로스 회로 영역(390)을 포함할 수 있다.Prior to the description of the cross circuit area, the up bank group and the down bank group will be described. Here, the up bank group refers to circuits disposed above the
이어서, 다운 뱅크 그룹은 주변 회로 영역(370)의 아래쪽에 배치되는 회로들을 의미한다. 즉, 제3 메모리 뱅크와, 제4 메모리 뱅크와, 제7 메모리 뱅크, 및 제8 메모리 뱅크를 포함하고, 각 메모리 뱅크에 해당하는 로우 제어회로 영역과 컬 럼 제어회로 영역을 포함하며, 다운 크로스 회로 영역을 포함할 수 있다.Subsequently, the down bank group refers to circuits disposed below the
한편, 도면에서 볼 수 있듯이 각각의 메모리 뱅크는 스택(stack)되어 배치됨으로써, 주변 회로 영역(370)을 기존보다 짧게 설계하는 것이 가능하다. 즉, 주변 회로 영역(370)에 배치되는 전송라인을 보다 짧게 설계할 수 있다. 주변 회로 영역(370)에 배치되는 전송라인에는 대표적으로 업 뱅크 그룹 및 다운 뱅크 그룹에 포함되는 회로들과 패드(도시되지 않음)와의 데이터 전달을 담당하는 글로벌 입출력 라인(Global Input Output line, GIO)이 있다. 글로벌 입출력 라인의 길이가 줄어든다는 것은 데이터 전송에 있어서 그만큼 로딩이 줄어듦을 의미하며, 이는 회로 동작 속도를 높여줄 수 있음을 의미한다.On the other hand, as shown in the figure, each memory bank is stacked, it is possible to design the
한편, 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 업 크로스 회로 영역(390)과 다운 크로스 회로 영역(도면 부호는 생략함)을 구비할 수 있다. 설명의 편의를 위하여 업 크로스 회로 영역(390)을 대표로 설명하기로 한다.On the other hand, the semiconductor memory device according to the present invention may include an up
업 크로스 회로 영역(390)은 어드레스 정보를 프리 디코딩하기 위한 프리 디코딩부, 및 각각의 업 뱅크 그룹에 포함되는 메모리 뱅크의 활성화를 제어하기 위한 뱅크 제어부 등을 포함할 수 있다. 즉, 업 뱅크 그룹에 포함되는 메모리 뱅크는 업 크로스 회로 영역(390)에서 생성되는 뱅크 활성화신호(도시되지 않음)에 응답하여 활성화되며, 업 뱅크 그룹에 포함되는 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역은 업 크로스 회로 영역(390)에서 프리 디코딩된 어드레스 정보를 입력받아 동작을 수행할 수 있다. 이어서, 다운 크로스 회로 영역 역시 업 클로스 회로 영역(390)과 유사한 동작을 수행하는 회로들로 구성될 수 있다. The
한편, 도면에서 알 수 있듯이 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 업 크로스 회로 영역(390)과 다운 크로스 회로 영역을 각각 한 개씩 구비할 수 있다. 기존의 경우(도 2 참조) 이러한 역할을 수행하는 영역(도시되지 않음)이 업 뱅크 그룹과 다운 뱅크 그룹에 각각 두 개씩 구비되기 때문에 어드레스 정보가 입력되는 전송라인이 적어도 4 개의 그룹을 가져야만 했다. 하지만, 본 발명의 반도체 메모리 장치의 업 크로스 회로 영역(390)은 업 뱅크 그룹에 포함하는 4 개의 메모리 뱅크에 대하여 공유되는 전송라인을 통해 어드레스 정보를 입력받을 수 있고, 다운 크로스 회로 영역은 다운 뱅크 그룹에 포함하는 4 개의 메모리 뱅크에 대응하여 공유되는 전송라인을 통해 어드레스 정보를 입력받을 수 있다. 즉, 어드레스 정보를 입력하기 위한 전송라인은 업 뱅크 그룹과 다운 뱅크 그룹에 대응하는 2 개의 그룹이 요구될 수 있다. On the other hand, as shown in the figure, the semiconductor memory device according to the present invention may include one up-
이어서, 크로스 회로 영역이 기존 4 개에서 2 개로 줄어듦에 따라 각 크로스 회로 영역에서 요구되는 예컨대, 전원 라인의 개수도 줄여줄 수 있다. 결국, 크로스 회로 영역의 개수가 줄어듦에 의하여 요구되는 전송라인의 개수 역시 줄어들게 되고, 이 역시도 반도체 메모리 장치의 칩 면적을 줄여 줄 수 있음을 의미한다. Subsequently, as the cross circuit areas are reduced from four to two, the number of power lines required, for example, in each cross circuit area can be reduced. As a result, as the number of cross circuit areas is reduced, the number of required transmission lines is also reduced, which also means that the chip area of the semiconductor memory device can be reduced.
한편, 업 뱅크 그룹에 포함하는 4 개의 로우 제어회로 영역은 공유 가능한 전송라인을 모두 공유하는 것도 가능하며, 이 경우 전송라인은 업 크로스 회로 영역(390)을 가로 질로 배치하는 것이 바람직하다. 이와 같은 맥락으로, 업 뱅크 그룹에 포함되는 4 개의 컬럼 제어회로 영역이 공유 가능한 전송라인을 모두 공유할 수 있으며, 다운 뱅크 그룹에 포함하는 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역 역시 공유 가능한 전송라인을 모두 공유할 수 있을 것이다.Meanwhile, the four row control circuit regions included in the up bank group may share all shareable transmission lines. In this case, the transmission lines may be arranged to cross the up
본 발명과 같은 배치는 반도체 메모리 장치가 더욱 고집적화됨에 따라 메모리 뱅크의 개수가 늘어나는 상황에서 반도체 메모리 장치의 칩 면적을 줄이는데 매우 유용할 것이다. 나아가, 반도체 메모리 장치의 칩 면적을 줄이는 것은 하나의 웨이퍼에서 생산되는 칩의 개수를 증가시킬 수 있기 때문에, 이로 인한 생산 원가를 절감할 수 있다.The arrangement according to the present invention may be very useful for reducing the chip area of the semiconductor memory device in a situation where the number of memory banks increases as the semiconductor memory device becomes more integrated. Furthermore, reducing the chip area of the semiconductor memory device can increase the number of chips produced in one wafer, thereby reducing the production cost.
결론적으로, 본 발명은 고집적 반도체 메모리 장치의 칩 면적을 줄이기 위하여 다수의 메모리 뱅크 중 이웃하는 메모리 뱅크 사이에 로우 제어회로 영역은 로우 제어회로 영역끼리 컬럼 제어회로 영역은 컬럼 제어회로 영역끼리 인접하게 배치하고, 필요로 하는 전송라인을 공유함으로써, 요구되는 전송라인의 개수를 줄여주는 것이 가능하다.In conclusion, in order to reduce the chip area of the highly integrated semiconductor memory device, the row control circuit region is disposed between the row control circuit regions and the column control circuit region is adjacent to the column control circuit regions between neighboring memory banks among a plurality of memory banks. And by sharing the required transmission line, it is possible to reduce the number of required transmission lines.
본 발명의 기술 사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 이상에서 설명한 실시예는 그 설명을 위한 것이며 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술 분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경으로 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.Although the technical spirit of the present invention has been described in detail according to the above-described preferred embodiment, it should be noted that the above-described embodiment is for the purpose of description and not of limitation. In addition, those skilled in the art will understand that various embodiments are possible with various substitutions, modifications, and changes within the scope of the technical idea of the present invention.
또한, 전술한 실시 예에서는 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역 각각이 전원 라인과, 어드레스 라인, 및 테스트 라인을 공유하는 경우를 일례로 들어 설명하였으나, 본 발명은 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역 각각에서 공유 가능한 다른 전송라인에도 적용될 수 있다.In addition, in the above-described embodiment, the row control circuit region and the column control circuit region each share a power line, an address line, and a test line. It can also be applied to other transmission lines that can be shared in each area.
또한, 전술한 실시 예에서는 주변 회로 영역(370)에 배치되는 글로벌 입출력 라인(GIO, 도시되지 않음)이 짧아지는 경우를 일례로 들어 설명하였으나, 본 발명은 메모리 뱅크의 스택 배치로 인하여 주변 회로 영역(370)이 전체적으로 작아지는 것이기 때문에, 주변 회로 영역(370)에 배치되는 모든 라인에도 적용될 수 있다.In addition, in the above-described embodiment, the case in which the global input / output line (GIO, not shown) disposed in the
뿐만 아니라, 전술한 실시 예에서 각각의 메모리 뱅크의 대응하는 로우 제어회로 영역과 컬럼 제어회로 영역은 설계에 따라 그 위치가 바뀌는 것도 가능할 것이다.In addition, in the above-described embodiment, the position of the corresponding row control circuit region and the column control circuit region of each memory bank may be changed according to design.
도 1 은 기존의 반도체 메모리 장치의 일반적인 읽기 동작 및 쓰기 동작을 설명하기 위한 도면.1 is a view for explaining a general read operation and a write operation of a conventional semiconductor memory device.
도 2 는 기존의 반도체 메모리 장치의 메모리 뱅크 구조를 설명하기 위한 블록도.2 is a block diagram illustrating a memory bank structure of a conventional semiconductor memory device.
도 3 은 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 메모리 뱅크 구조를 설명하기 위한 블록도.3 is a block diagram illustrating a memory bank structure of a semiconductor memory device according to the present invention;
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
310A : 제1 메모리 뱅크 310B : 제1 로우 제어회로 영역310A:
310C : 제1 컬럼 제어회로 영역 330A : 제2 메모리 뱅크310C: first column
330B : 제2 로우 제어회로 영역 330C : 제2 컬럼 제어회로 영역330B: second row control circuit area 330C: second column control circuit area
350A : 제5 메모리 뱅크 350B : 제5 로우 제어회로 영역350A:
350C : 제5 컬럼 제어회로 영역 370 : 주변 회로 영역350C: fifth column control circuit region 370: peripheral circuit region
Claims (14)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/346,311 US8159898B2 (en) | 2008-01-18 | 2008-12-30 | Architecture of highly integrated semiconductor memory device |
TW098101821A TWI406285B (en) | 2008-01-18 | 2009-01-17 | Architecture of highly integrated semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20080005630 | 2008-01-18 | ||
KR1020080005630 | 2008-01-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090079789A true KR20090079789A (en) | 2009-07-22 |
KR100996187B1 KR100996187B1 (en) | 2010-11-24 |
Family
ID=41290931
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080112700A KR100996187B1 (en) | 2008-01-18 | 2008-11-13 | Architecture of high integrated semiconductor memory apparatus |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100996187B1 (en) |
TW (1) | TWI406285B (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9190138B2 (en) | 2013-12-04 | 2015-11-17 | SK Hynix Inc. | Semiconductor memory device |
CN111696595A (en) * | 2019-03-12 | 2020-09-22 | 爱思开海力士有限公司 | Semiconductor device with a plurality of semiconductor chips |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2542706B2 (en) * | 1989-10-05 | 1996-10-09 | 株式会社東芝 | Dynamic RAM |
US6567287B2 (en) * | 2001-03-21 | 2003-05-20 | Matrix Semiconductor, Inc. | Memory device with row and column decoder circuits arranged in a checkerboard pattern under a plurality of memory arrays |
JP4989821B2 (en) * | 2001-02-06 | 2012-08-01 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | Semiconductor memory device |
TW594775B (en) * | 2001-06-04 | 2004-06-21 | Toshiba Corp | Semiconductor memory device |
-
2008
- 2008-11-13 KR KR1020080112700A patent/KR100996187B1/en active IP Right Grant
-
2009
- 2009-01-17 TW TW098101821A patent/TWI406285B/en active
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9190138B2 (en) | 2013-12-04 | 2015-11-17 | SK Hynix Inc. | Semiconductor memory device |
CN111696595A (en) * | 2019-03-12 | 2020-09-22 | 爱思开海力士有限公司 | Semiconductor device with a plurality of semiconductor chips |
CN111696595B (en) * | 2019-03-12 | 2023-09-29 | 爱思开海力士有限公司 | Semiconductor device with a semiconductor device having a plurality of semiconductor chips |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200941484A (en) | 2009-10-01 |
TWI406285B (en) | 2013-08-21 |
KR100996187B1 (en) | 2010-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10706953B2 (en) | Semiconductor memory devices and methods of operating semiconductor memory devices | |
KR100337767B1 (en) | A high-speed cycle clock-synchronous memory | |
US8862811B2 (en) | Semiconductor device performing burst order control and data bus inversion | |
US8467217B2 (en) | Semiconductor device | |
US7180817B2 (en) | Semiconductor memory device with column selecting switches in hierarchical structure | |
JP4614481B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US9070428B2 (en) | Semiconductor device | |
JP4439082B2 (en) | Semiconductor memory device | |
CN113113057A (en) | Semiconductor device having single-ended main I/O line | |
US8159898B2 (en) | Architecture of highly integrated semiconductor memory device | |
US11158375B2 (en) | Semiconductor storage device | |
US7817491B2 (en) | Bank control device and semiconductor device including the same | |
KR100996187B1 (en) | Architecture of high integrated semiconductor memory apparatus | |
KR100929826B1 (en) | Semiconductor memory device | |
KR20020062127A (en) | Semiconductor memory | |
US7035153B2 (en) | Semiconductor memory device of bit line twist system | |
CN109949841B (en) | Semiconductor device with a plurality of semiconductor chips | |
US20090059687A1 (en) | Semiconductor memory device and layout method thereof | |
KR20030009058A (en) | Semiconductor integrated circuit | |
US9396773B2 (en) | Semiconductor device | |
US11818881B2 (en) | Sub word-line driver circuit of semiconductor memory device and semiconductor memory device including the same | |
US11881256B2 (en) | Semiconductor memory device and method of controlling load of global input-output lines of the same | |
US20230395102A1 (en) | Bit line sense amplifier and bit line sensing method of semiconductor memory device | |
CN117012240A (en) | Apparatus for sense amplifier voltage control | |
US20100118580A1 (en) | Semiconductor memory device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131023 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141021 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151020 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161024 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171025 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181022 Year of fee payment: 9 |