KR20090074866A - 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기는 가스 입구와 가스 출구가 구비되고 상기 가스 입구와 상기 가스 출구 사이에 방전 공간을 갖는 반응기 몸체, 상기 방전 공간의 외부에 위치해서 상기 반응기 몸체에 설치되는 제1 무선 주파수 안테나, 상기 방전 공간으로 자속 출입구가 향하도록 하여 상기 제1 무선 주파수 안테나를 덮는 제1 코어 커버, 및 제1 무선 주파수 안테나로 무선 주파수 전원을 공급하기 위한 무선 주파수 공급원을 포함한다. 본 발명의 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기에 의하면, 코어 커버에 의해 플라즈마 방전을 위한 에너지 전달 효율을 높여서 플라즈마를 안정적으로 발생 및 유지 할 수 있으며, 플라즈마 반응기 내부의 손상을 방지할 수 있어서 반응기 수명을 길게 할 수 있는 탁월한 효과를 얻을 수 있다. 또한, 반응기 몸체의 외부와 내부에 각각 무선 주파수 안테나를 구성하는 경우 가스 분해 능력을 높일 수 있으며 저전력으로 구동할 수 있어서 반응기 몸체의 손상을 더욱 방지할 수 있다.
고효율, 플라즈마, 유도 결합, 무선 주파수

Description

고효율 유도 결합 플라즈마 반응기{HGH EFFICIENCY INDUCTIVELY COUPLED PLASMA REACTOR}
본 발명은 플라즈마 방전에 의하여 이온, 자유 래디컬, 원자 및 분자를 포함하는 활성 가스를 발생 시기고 활성 가스로 고체, 분말, 가스 등의 플라즈마 처리를 하기 위한 플라즈마 반응기에 관한 것으로, 구체적으로는 무선 주파수 안테나를 이용한 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기에 관한 것이다.
플라즈마 방전은 이온, 자유 래디컬, 원자, 분자를 포함하는 활성 가스를 발생하기 위한 가스 여기에 사용되고 있다. 활성 가스는 다양한 분야에서 널리 사용되고 있으며 집적 회로 장치, 평판 디스플레이, 태양 전지등과 같은 장치를 제조하기 위한 여러 반도체 제조 공정 예들 들어, 식각(etching), 증착(deposition), 세정(cleaning), 에싱(ashing) 등에 다양하게 사용된다.
최근, 반도체 장치의 제조를 위한 웨이퍼나 LCD 글라스와 같은 피처리 기판은 더욱 대형화 되어 가고 있다. 그럼으로 플라즈마 이온 에너지에 대한 제어 능력이 높고, 대면적의 처리 능력을 갖는 확장성이 용이한 플라즈마 소스가 요구되고 있다. 플라즈마를 발생하기 위한 플라즈마 소스는 여러 가지가 있는데 무선 주파 수(radio frequency)를 사용하는 용량 결합 플라즈마와 유도 결합 플라즈마가 그 대표적인 예이다. 그중 유도 결합 플라즈마 소스는 무선 주파수 전원의 증가에 따라 이온 밀도를 비교적 용이하게 증가시킬 수 있어서 고밀도 플라즈마를 얻기에 적합한 것으로 알려져 있다.
그러나 유도 결합 플라즈마 방식은 공급되는 에너지에 비하여 플라즈마에 결합되는 에너지가 낮아서 고전압의 구동 코일을 사용하고 있다. 그럼으로 이온 에너지가 높아서 플라즈마 반응기의 내부 표면이 이온 충격(ion bombardment)에 의해 손상되는 경우가 발생될 수 있다. 이온 충격에 의한 플라즈마 반응기의 내부 표면 손상은 플라즈마 반응기의 수명을 단축하는 것뿐만 아니라 플라즈마 처리 오염원으로 작용하는 부정적인 결과를 얻게 된다. 이온 에너지를 낮추려는 경우에는 플라즈마에 결합되는 에너지가 낮아서 잦은 플라즈마 방전이 오프 되는 경우가 발생하게 된다. 그럼으로 안정적인 플라즈마 유지가 어렵게 되는 문제점이 발생한다.
한편, 반도체 제조 공정에서 플라즈마를 이용한 공정에서 원격 플라즈마의 사용은 매우 유용한 것으로 알려져 있다. 예를 들어, 공정 챔버의 세정이나 포토레지스트 스트립을 위한 에싱 공정에서 유용하게 사용되고 있다. 그런데 피처리 기판의 대형화에 따라 공정 챔버의 볼륨도 증가되고 있어서 고밀도의 활성 가스를 충분히 원격으로 공급할 수 있는 플라즈마 소스가 요구되고 있다.
본 발명의 목적은 플라즈마 방전을 위한 에너지 전달 효율을 높여서 플라즈 마를 안정적으로 발생 및 유지 할 수 있는 유도 결합 플라즈마 반응기를 제공하는데 있다.
본 발명의 다른 목적은 플라즈마 안정적으로 발생하면서도 플라즈마 반응기 내부의 손상을 방지할 수 있어서 반응기 수명을 길게 할 수 있는 유도 결합 플라즈마 반응기를 제공하는데 있다.
상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일면은 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기에 관한 것이다. 본 발명의 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기는: 가스 입구와 가스 출구가 구비되고 상기 가스 입구와 상기 가스 출구 사이에 방전 공간을 갖는 반응기 몸체; 상기 방전 공간의 외부에 위치해서 상기 반응기 몸체에 설치되는 제1 무선 주파수 안테나; 상기 방전 공간으로 자속 출입구가 향하도록 하여 상기 제1 무선 주파수 안테나를 덮는 제1 코어 커버; 및 제1 무선 주파수 안테나로 무선 주파수 전원을 공급하기 위한 무선 주파수 공급원을 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 방전 공간의 외부에 위치해서 상기 반응기 몸체에 설치되는 제2 무선 주파수 안테나와 상기 방전 공간으로 자속 출입구가 향하도록 하여 상기 제2 무선 주파수 안테나를 덮는 제2 코어 커버를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 무선 주파수 전원 공급원으로부터 공급되는 전원을 상기 제1 및 제2 무선 주파수 안테나로 분배하는 분배 회로를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 반응기 몸체의 내부에 설치되는 제2 무선 주파수 안테나; 상기 반응기 몸체의 내부에 구성되고 상기 제2 무선 주파수 안테나가 설치 되는 내부 안테나 장착실; 및 상기 내부 안테나 장착실의 내부에서 상기 방전 공간을 향하여 상기 제2 무선 주파수 안테나를 덮는 제2 코어 커버를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 코어 커버와 상기 제2 코어 커버의 각각의 자속 출입구가 마주 대향되게 상호 정렬된다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 및 제2 무선 주파수 안테나는 상기 무선 주파수 공급원에 직렬 또는 병렬로 연결된다.
일 실시예에 있어서, 상기 무선 주파수 전원 공급원으로부터 공급되는 전원을 상기 제1 및 제2 무선 주파수 안테나로 분배하는 분배 회로를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 반응기 몸체는 절연체 물질을 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 내부 안테나 장착실은 절연체 물질을 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 플라즈마 반응기의 과열을 방지하기 위한 냉각수 공급 채널을 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 가스 출구에 연결되며 상기 방전 공간에서 발생된 활성 가스를 받아들이는 공정 챔버를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 반응기 몸체와 상기 무선 주파수 공급원은 분리된 구조를 갖는다.
본 발명의 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기에 의하면, 코어 커버에 의해 플라즈마 방전을 위한 에너지 전달 효율을 높여서 플라즈마를 안정적으로 발생 및 유지 할 수 있으며, 플라즈마 반응기 내부의 손상을 방지할 수 있어서 반응기 수명 을 길게 할 수 있는 탁월한 효과를 얻을 수 있다. 또한, 반응기 몸체의 외부와 내부에 각각 무선 주파수 안테나를 구성하는 경우 가스 분해 능력을 높일 수 있으며 저전력으로 구동할 수 있어서 반응기 몸체의 손상을 더욱 방지할 수 있다.
본 발명을 충분히 이해하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상세히 설명하는 실시예로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공 되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어 표현될 수 있다. 각 도면에서 동일한 부재는 동일한 참조부호로 도시한 경우가 있음을 유의하여야 한다. 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 기술은 생략된다.
도 1은 본 발명의 유도 결합 플라즈마 반응기가 설치된 공정 챔버의 사시도이다.
도 1을 참조하여, 본 발명의 유도 결합 플라즈마 반응기(20)는 공정 챔버(10)에 장착되어 원격으로 플라즈마 방전에 의한 활성 가스를 공정 챔버(10)로 공급한다. 공정 챔버(10)의 내부에는 피처리 기판이 놓이는 기판 지지대(미도시)가 구비되며, 진공 펌프(미도시)에 연결되는 가스 출구(미도시)가 구비된다. 공정 챔버(10)는 플라즈마 반응기(20)에서 발생된 활성 가스를 수용하여 소정의 플라즈 마 처리를 수행한다. 공정 챔버(10)는 유입되는 활성 가스를 균일한 확산 분배를 위하여 내측 상부에 배플 평판(보이지 않음)이 설치될 수 있다. 플라즈마 처리는 예를 들어, 반도체 장치의 제조를 위한 증착, 식각, 에싱, 및 세정 등의 반도체 제조 공정의 어느 하나이다. 피처리 기판은 예를 들어, 반도체 장치, 평판 디스플레이 장치, 태양전지 등과 같은 다양한 장치들의 제조를 위한 웨이퍼 기판, 유리 기판, 플라스틱 기판 등과 같은 기판들이다.
도 2는 하나의 무선 주파수 안테나가 장착된 유도 결합 플라즈마 반응기의 단면도이다.
도 2를 참조하여, 본 발명의 유도 결합 플라즈마 반응기(20)는 가스 입구(22)와 가스 출구(23)가 구비되고 그 사이에 방전 공간(28)을 갖는 반응기 몸체(21)를 구비한다. 반응기 몸체(21)와 방전 공간(28)은 원통형 구조를 갖는다. 그러나 다른 구조로도 실시될 수 있을 것이다. 반응기 몸체(21)는 예를 들어, 석영, 세라믹과 같은 절연체 물질로 제작된다. 그러나 알루미늄, 스테인리스, 구리와 같은 금속 물질을 포함할 수 있으며, 코팅된 금속 예를 들어, 양극 처리된 알루미늄이나 니켈 도금된 알루미늄을 포함할 수도 있다. 또는 내화 금속(refractory metal)을 포함할 수 있으며 의도된 프로세스가 수행되기에 적합한 다른 물질을 포함할 수 있다.
반응기 몸체(21)에는 방전 공간(28)의 외부에 위치해서 무선 주파수 안테나(25)가 설치된다. 무선 주파수 안테나(25)는 반응기 몸체(21)에 나선 구조로 일회 이상 권선된 설치 구조를 가질 수 있다. 무선 주파수 안테나(25)는 코어 커 버(24)에 의해서 덮여진다. 코어 커버(24)는 방전 공간(28)으로 자속 출입구가 향하도록 하여 무선 주파수 안테나(25)를 덮는다. 무선 주파수 공급원(30)은 무선 주파수 안테나(24)로 무선 주파수 전원을 공급한다. 무선 주파수 공급원(30)은 별도의 임피던스 정합기 없이 출력 전압의 제어가 가능한 전원 공급원으로 하나 이상의 스위칭 반도체 장치를 포함한다. 그러나 별도의 임피던스 정압기를 구비하는 무선 주파수 공급원을 사용하여 구성할 수도 있다. 플라즈마 방전을 초기에 유도하기 위하여 반응기 몸체(21)에는 방전 공간(28)을 향하는 점화 전극(미도시)과 점화 전원(미도시)이 구비될 수 있다. 또는 점화 전극은 구비되지 않을 수도 있는데 무선 주파수 공급원(30)의 전력 공급을 제어하여 초기 플라즈마 방전을 유도할 수도 있다.
코어 커버(24)는 방전 공간(28)을 향하도록 하여 무선 주파수 안테나(25)를 따라서 설치된다. 그럼으로 무선 주파수 안테나(25)에 의해 유도되는 자속(27)은 코어 커버(24)에 의해 강하게 집속되어 방전 공간(28)으로 전달된다. 무선 주파수 안테나(25)가 코어 커버(24)에 의해 덮여 있음으로 자속의 손실은 최대한 방지된다. 코어 커버(24)는 페라이트로 제작되지만 다른 대안의 재료로 제작될 수 도 있다. 코어 커버(24)는 말편자 형상의 페라이트 코어 조각들을 조립하여 구성할 수 있다. 여러 개의 조각을 사용하여 구성하는 경우에는 각 조각의 조립면에 절연 물질과 같은 비자성 스페이서를 삽입하여 연결할 수 있다. 무선 주파수 안테나(25)와 방전실 몸체(21)의 사이에는 선택적으로 패러데이 쉴드가 구성될 수 있다. 도면에 구체적으로 도시되지 않았지만, 플라즈마 반응기(20)는 반응기 몸체(21)와 무 선 주파수 안테나(25) 및 코어 커버(24)의 과열을 방지하기 위한 냉각 채널을 구비한다. 냉각 채널은 반응기 몸체(21)에 구성되거나 무선 주파수 안테나(25)를 냉각수가 흐를 수 있는 튜브 구조로 구성할 수도 있다.
플라즈마 반응기(20)의 가스 입구를 통하여 가스 공급원(미도시)으로부터 공정 가스가 유입되고, 무선 주파수 공급원(30)으로부터 무선 주파수 전원이 무선 주파수 안테나(25)로 공급되어 구동되면 방전 공간(28)으로 유도 기전력이 전달된다. 이때, 무선 주파수 안테나(25)에 의해 유도되는 자속(27)은 코어 커버(24)에 의해 강하게 집속되기 때문에 자속 손실이 최대한 절감되어 에너지 전달 효율이 높아진다. 그럼으로 플라즈마를 안정적으로 발생 및 유지할 수 있다. 또한, 코어 커버(24)에 의해 유도 기전력이 반응기 몸체(21)의 전반에 걸쳐서 균일하게 분포하게 됨으로 반응기 몸체(21)의 내부 손상을 방지할 수 있어서 플라즈마 반응기(10)의 수명을 길게 할 수 있다.
도 3은 병렬 무선 주파수 안테나가 장착된 유도 결합 플라즈마 반응기의 단면도이다.
도 3을 참조하여, 플라즈마 반응기(20)에는 두 개의 제1 및 제2 무선 주파수 안테나(25-1, 25-2)가 병렬로 장착될 수 있다. 그리고 두 개의 제1 및 제2 코어 커버(24-1, 24-2)가 각각 제1 및 제2 무선 주파수 안테나(25-1, 25-2)를 덮도록 설치된다. 제1 및 제2 무선 주파수 안테나(25-1, 25-2)는 분배 회로(32)를 통해서 무선 주파수 공급원(30)으로 제공되는 무선 주파수 전원을 분배 받아서 병렬로 구동된다. 분배 회로(32)는 무선 주파수 전원을 제1 및 제2 무선 주파수 안테나(25- 1, 25-2)로 분배할 때 각각 균일한 분배가 이루어지도록 전류균형을 위한 기능회로를 포함할 수 있다. 이와 같이, 플라즈마 반응기(20)는 효율을 높이기 위하여 둘 이상의 무선 주파수 안테나를 사용하고 이를 병렬로 구동되도록 할 수 있으며, 무선 주파수 안테나의 권선되는 밀도를 권선 구간에서 서로 다르게 할 수 도 있을 것이다.
도 4는 반응기 몸체의 내부에 다른 무선 주파수 안테나가 설치된 유도 결합 플라즈마 반응기의 단면도이고, 도 5는 무선 주파수 안테나를 병렬 구동하기 위한 전원 공급 구조를 보여주는 도면이다.
도 4를 참조하여, 일 변형예의 플라즈마 반응기(20a)는 반응기 몸체(21)의 외부에 설치되는 제1 무선 주파수 안테나(25-1)와 내부에 설치되는 제2 무선 주파수 안테나(25-2)를 구비할 수 있다. 제2 무선 주파수 안테나(25-2)를 반응기 몸체(21)의 내부에 설치하기 위해 반응기 몸체(21)의 내부에 내부 안테나 장착실(26)이 구비된다. 내부 안테나 장착실(26)은 반응기 몸체(21)의 내부 측벽과 일정 간격을 두고 방전 공간(28)에 설치된다. 제1 및 제2 무선 주파수 안테나(25-1, 25-1)는 각각 제1 및 제2 코어 커버(24-1, 25-1)에 의해 덮여진다. 제1 및 제2 코어 커버(24-1, 24-2)는 각기 자속 출입구가 방전 공간(28)을 향하도록 설치된다. 내부 안테나 장착실(26)은 예를 들어, 석영, 세라믹과 같은 절연체 물질로 제작된다. 그러나 알루미늄, 스테인리스, 구리와 같은 금속 물질을 포함할 수 있으며, 코팅된 금속 예를 들어, 양극 처리된 알루미늄이나 니켈 도금된 알루미늄을 포함할 수도 있다. 또는 내화 금속(refractory metal)을 포함할 수 있으며 의도된 프로세스가 수행되기에 적합한 다른 물질을 포함할 수 있다.
제1 및 제2 코어 커버(24-1, 24-2)는 각각의 자속 출입구가 마주 대향되게 상호 정렬되는 것이 바람직할 수 있다. 도면에 확대 도시된 바와 같이, 제1 및 제 코어 커버(24-1, 24-2)의 극성이 상호 반대로 정렬되도록 하면 제1 및 제2 코어 커버(24-1, 24-2) 사이에 선형적으로 발생되는 자속의 방향과 이온의 가속 방향이 교차되기 때문에 방전 공간(28)에서 이온 가속 경로는 더욱 복잡하게 이루진다. 그럼으로 반응기 몸체(11)와 내부 안테나 장착실(26)의 측벽에 대한 이온 충격이 감소되어 플라즈마 반응기(20)의 수명을 길게 할 수 있다.
제1 및 제2 무선 주파수 안테나(25-1, 25-2)는 무선 주파수 공급원(30)에 직렬로 연결되거나, 도 5에 도시된 바와 같이, 병렬로 연결될 수 있다. 제1 및 제2 무선 주파수 안테나(25-1, 25-2)가 병렬로 연결되는 경우에는 분배 회로(32)를 통해서 무선 주파수 공급원(30)으로 제공되는 무선 주파수 전원을 분배 받아서 병렬로 구동된다.
이상과 같은 본 발명의 플라즈마 반응기(20)는 공정 챔버(10)에 반응기 몸체(21)가 탑재되고, 무선 주파수 공급원(30)은 분리형 구조를 가질 수 있다. 분리형의 무선 주파수 공급원(30)은 무선 주파수 케이블(미도시)을 통해서 무선 주파수 안테나(25)와 전기적으로 연결된다. 분리형 구조는 설비 구성에 있어서 설치 방법의 유연성을 제공하며 유지 보수를 보다 용이하게 할 수 있는 장점을 제공한다.
이상에서 설명된 본 발명의 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다. 그럼으로 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 형태로만 한정되는 것은 아님을 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 그 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
본 발명의 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기는 반도체 집적 회로의 제조, 평판 디스플레이 제조, 태양전지의 제조와 같은 다양한 박막 형성을 위한 플라즈마 처리 공정에 매우 유용하게 이용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 유도 결합 플라즈마 반응기가 설치된 공정 챔버의 사시도이다.
도 2는 하나의 무선 주파수 안테나가 장착된 유도 결합 플라즈마 반응기의 단면도이다.
도 3은 병렬 무선 주파수 안테나가 장착된 유도 결합 플라즈마 반응기의 단면도이다.
도 4는 반응기 몸체의 내부에 다른 무선 주파수 안테나가 설치된 유도 결합 플라즈마 반응기의 단면도이다.
도 5는 무선 주파수 안테나를 병렬 구동하기 위한 전원 공급 구조를 보여주는 도면이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10: 공정 챔버 20, 20a: 플라즈마 반응기
21: 반응기 몸체 22: 가스 입구
23: 가스 출구 24: 코어 커버
24-1: 제1 코어 커버 24-2: 제2 코어 커버
25: 무선 주파수 안테나 25-1: 제1 무선 주파수 안테나
25-2: 제2 무선 주파수 안테나 26: 내부 안테나 장착실
27: 유도 자기장 30: 무선 주파수 공급원
32: 분배 회로

Claims (12)

  1. 가스 입구와 가스 출구가 구비되고 상기 가스 입구와 상기 가스 출구 사이에 방전 공간을 갖는 반응기 몸체;
    상기 방전 공간의 외부에 위치해서 상기 반응기 몸체에 설치되는 제1 무선 주파수 안테나;
    상기 방전 공간으로 자속 출입구가 향하도록 하여 상기 제1 무선 주파수 안테나를 덮는 제1 코어 커버; 및
    제1 무선 주파수 안테나로 무선 주파수 전원을 공급하기 위한 무선 주파수 공급원을 포함하는 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 방전 공간의 외부에 위치해서 상기 반응기 몸체에 설치되는 제2 무선 주파수 안테나와
    상기 방전 공간으로 자속 출입구가 향하도록 하여 상기 제2 무선 주파수 안테나를 덮는 제2 코어 커버를 포함하는 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 무선 주파수 전원 공급원으로부터 공급되는 전원을 상기 제1 및 제2 무선 주파수 안테나로 분배하는 분배 회로를 포함하는 고효율 유도 결합 플라즈마 반 응기.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 반응기 몸체의 내부에 설치되는 제2 무선 주파수 안테나;
    상기 반응기 몸체의 내부에 구성되고 상기 제2 무선 주파수 안테나가 설치되는 내부 안테나 장착실; 및
    상기 내부 안테나 장착실의 내부에서 상기 방전 공간을 향하여 상기 제2 무선 주파수 안테나를 덮는 제2 코어 커버를 포함하는 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제1 코어 커버와 상기 제2 코어 커버의 각각의 자속 출입구가 마주 대향되게 상호 정렬된 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 무선 주파수 안테나는 상기 무선 주파수 공급원에 직렬 또는 병렬로 연결되는 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 무선 주파수 전원 공급원으로부터 공급되는 전원을 상기 제1 및 제2 무 선 주파수 안테나로 분배하는 분배 회로를 포함하는 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 반응기 몸체는 절연체 물질을 포함하는 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기.
  9. 제4항에 있어서,
    상기 내부 안테나 장착실은 절연체 물질을 포함하는 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 플라즈마 반응기의 과열을 방지하기 위한 냉각수 공급 채널을 포함하는 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 가스 출구에 연결되며 상기 방전 공간에서 발생된 활성 가스를 받아들이는 공정 챔버를 포함하는 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 반응기 몸체와 상기 무선 주파수 공급원은 분리된 구조를 갖는 고효율 유도 결합 플라즈마 반응기.
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