KR20090073035A - Colored curable composition, color filter and method of producing the same, and solid-state imaging device - Google Patents

Colored curable composition, color filter and method of producing the same, and solid-state imaging device Download PDF

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Abstract

A colored curing composition, and a color filter using the composition are provided to inhibit the generation of development residue and the inaccuracy of pattern surrounding. A colored curing composition comprises a colorant; and at least two kinds of polymerizable compounds which comprise a polymerizable compound having an alkyleneoxy group of the carbon number 2 or more, wherein the number of the polymerizable group of the at least two kinds of polymerizable compounds is 4.5 or more by mass average, and the number of the alkyleneoxy group of the carbon number 2 or more is 2.0-10.0 by mass average.

Description

착색 경화성 조성물, 컬러 필터 및 그 제조 방법, 그리고 고체 촬상 소자{COLORED CURABLE COMPOSITION, COLOR FILTER AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE}Colored curable composition, a color filter, and its manufacturing method, and a solid-state image sensor TECHNICAL FIELD: COLORED CURABLE COMPOSITION, COLOR FILTER AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE

본 발명은 착색 경화성 조성물, 컬러 필터 및 그 제조 방법, 및 고체 촬상 소자에 관한 것이다.This invention relates to a colored curable composition, a color filter, its manufacturing method, and a solid-state image sensor.

컬러 필터는 고체 촬상 소자나 액정 표시 장치에 이용되는 부재이다.A color filter is a member used for a solid-state image sensor and a liquid crystal display device.

컬러 필터는 일반적으로 지지체 상에 착색 경화성 조성물을 이용하여 착색 패턴을 형성함으로써 제작된다.A color filter is generally produced by forming a coloring pattern using a colored curable composition on a support.

착색 경화성 조성물에 관한 기술로서는 알칼리 현상성 개량을 위해 카르복실기 함유 다관능 광경화성 화합물 등을 이용하는 기술(예를 들면, 일본 특허 공개 평10-332929호 공보, 일본 특허 공개 2004-287230호 공보, 일본 특허 공개 2005-148717호 공보 참조)이나, 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드 등의 알킬렌옥사이드 구조를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물을 함유하는 감방사선성 착색 조성물을 이용하는 기술(예를 들면, 일본 특허 공개 평10-62986호 공보 참조)이 알려져 있다.As a technique regarding a coloring curable composition, the technique which uses a carboxyl group-containing polyfunctional photocurable compound etc. for alkali developability improvement (for example, Unexamined-Japanese-Patent No. 10-332929, Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-287230, Japanese patent) Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-148717 or a technique using a radiation-sensitive coloring composition containing a (meth) acrylate compound having an alkylene oxide structure such as ethylene oxide or propylene oxide (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 10). (See -62986).

또한, 솔더 레지스트(solder resist)에 배합되는 모노머로서는 디펜타에리스 리톨이나 펜타에리스리톨에 산기를 도입한 화합물이 알려져 있다(예를 들면, 일본 특허 공개 평8-123027호 공보, 일본 특허 공개 평8-123028호 공보 참조). 또한, 4관능의 아크릴레이트 모노머로서 아크릴로일기가 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드 등의 개환 구조로 연결되어 있는 것을 이용한 솔더 레지스트 잉크 조성물(예를 들면, 일본 특허 공개 평2-38471호 공보 참조)이나, 상기 솔더 레지스트 잉크 조성물과 유사한 감광성 수지 조성물이 알려져 있다(예를 들면, 일본 특허 공개 소64-25147호 공보 참조). 또한, 폴리펜타에리스리톨폴리아크릴레이트 등의 다관능 아크릴레이트를 함유하는 광중합성 조성물인 피복제 조성물도 알려져 있다(예를 들면, 일본 특허 공개 평1-126345호 공보 참조).Moreover, as a monomer mix | blended with a solder resist, the compound which introduce | transduced an acidic radical into dipentaerythritol and pentaerythritol is known (for example, Unexamined-Japanese-Patent No. 8-123027 and Unexamined-Japanese-Patent No. 8-H). See 123028). Moreover, the soldering resist ink composition (For example, refer Unexamined-Japanese-Patent No. 2-38471) using what the acryloyl group connected by ring-opening structures, such as ethylene oxide and a propylene oxide, as a tetrafunctional acrylate monomer, A photosensitive resin composition similar to the above solder resist ink composition is known (see, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 64-25147). Moreover, the coating composition which is a photopolymerizable composition containing polyfunctional acrylates, such as polypentaerythritol polyacrylate, is also known (for example, refer Unexamined-Japanese-Patent No. 1-26345).

최근, 컬러 필터의 착색 패턴은 박층화 경향이 있고, 또한 착색 패턴의 사이즈는 미세화되는 경향이 있다. 특히, 고체 촬상 소자용 컬러 필터에서는 이들의 경향이 현저하다.In recent years, the coloring pattern of a color filter tends to be thin, and the size of a coloring pattern tends to become fine. In particular, these tendencies are remarkable in the color filter for solid-state image sensors.

착색 패턴의 미세화에 따라 착색 패턴 끝부의 부정확(impreciseness)이나, 미노광부의 현상 잔사가 이전보다 문제시되고 있다.As the coloring pattern becomes smaller, inaccuracies in the tip of the coloring pattern and developing residues of the unexposed portions are more problematic than before.

또한, 박층화된 컬러 필터는 종래의 컬러 필터와 동등한 분광 감도를 얻기 위해서는 착색 경화성 조성물 중의 착색제의 조성비를 증가시키지 않을 수 없다. 그러나, 그때 착색제 이외의 성분(포토리소그래피 성능에 기여하는 성분)은 상대적으로 감소하게 된다. In addition, the thinned color filter has to increase the composition ratio of the colorant in the colored curable composition in order to obtain spectral sensitivity equivalent to that of the conventional color filter. However, then components other than the colorant (components contributing to photolithographic performance) are relatively reduced.

따라서, 포토리소그래피 성능에 기여하는 성분이 상대적으로 감소해도 종래 정도의 포토리소그래피 성능을 유지할 수 있는 착색 경화성 조성물을 개발할 필요성이 생겨나고 있다.Therefore, there is a need to develop a colored curable composition capable of maintaining a conventional photolithographic performance even if the component contributing to photolithographic performance is relatively reduced.

또한, 착색제의 조성비를 증가시켜서 분광 감도를 얻으려고 할 경우, 착색제 분산액의 조성비도 증가하게 된다. 착색제 분산액의 조성비가 증가하면 상기 착색제 분산액을 함유하는 착색 경화성 조성물 자체의 틱소성(thixotropy)이 증가하기 때문에 상기 착색 경화성 조성물을 지지체 상에 도포하여 착색층을 형성했을 때에 지지체면 내의 막두께 균일성이 저하되는 경향이 있다. 착색층의 막두께 균일성이 저하되면 노광할 때에 초점 거리의 편차가 생기고, 미세한 패턴 주변부의 부정확이 생기거나, 비경화부에 있어서 현상 잔사가 생기거나 할 경우가 있다. In addition, when trying to obtain spectral sensitivity by increasing the composition ratio of the colorant, the composition ratio of the colorant dispersion is also increased. Since the thixotropy of the colored curable composition itself containing the colorant dispersion increases when the composition ratio of the colorant dispersion increases, the film thickness uniformity in the surface of the support when the colored curable composition is applied onto the support to form a colored layer. This tends to be lowered. When the film thickness uniformity of a colored layer falls, the focal length may be varied during exposure, and inaccurate fine pattern periphery may occur, or development residue may occur in an uncured portion.

따라서, 넓은 DOF(Depth of Focus) 마진(즉, 깊은 초점 심도)을 갖는 착색 경화성 조성물을 개발할 필요성이 생겨나고 있다.Thus, there is a need to develop colored curable compositions having a wide depth of focus (DOF) margin (i.e. deep depth of focus).

그러나, 상술한 종래의 경화성 조성물에서는, 특히 조성물 중의 착색제의 조성비가 높은 경우, 형성하는 착색 패턴의 막두께가 얇은 경우, 또는 착색 패턴의 사이즈가 작은 경우에 DOF 마진이 좁아지는 경향이 있음이 명백했다.However, in the above-mentioned conventional curable composition, it is clear that especially when the composition ratio of the coloring agent in a composition is high, DOF margin tends to become narrow when the film thickness of the coloring pattern to form is small, or when the size of a coloring pattern is small. did.

본 발명은 상기를 감안하여 이루어진 것이고, 이하의 목적을 달성하는 것을 과제로 한다. This invention is made | formed in view of the above, and makes it a subject to achieve the following objectives.

즉, 본 발명의 목적은 넓은 DOF 마진(깊은 초점 심도)을 갖는 착색 경화성 조성물을 제공하는 것에 있다.That is, an object of the present invention is to provide a colored curable composition having a wide DOF margin (deep depth of focus).

또한, 본 발명은 현상 잔사의 발생이나 패턴 주변의 부정확의 발생이 억제된 컬러 필터 및 그 제조 방법을 제공하는 것에 있다.Further, the present invention is to provide a color filter in which the occurrence of developing residue and the occurrence of inaccuracy around a pattern are suppressed and a manufacturing method thereof.

또한, 본 발명은 색 재현성이 우수한 고체 촬상 소자를 제공하는 것에 있다.Moreover, this invention is providing the solid-state image sensor which was excellent in color reproducibility.

상기 과제를 해결하기 위한 구체적 수단은 이하와 같다.The specific means for solving the said subject is as follows.

<1> 착색제와, 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물을 함유하는 2종 이상의 중합성 화합물을 함유하고, 상기 2종 이상의 중합성 화합물의 중합성기 수가 질량 평균으로 4.5 이상이며, 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기 수가 질량 평균으로 2.0 이상 10.0 이하인 착색 경화성 조성물이다.<1> 2 or more types of polymeric compounds containing a coloring compound and the polymeric compound which has a C2 or more alkyleneoxy group, The number of polymeric groups of the said 2 or more types of polymeric compounds is 4.5 or more in mass mean, C2 It is colored curable composition whose number of the above-mentioned alkyleneoxy group is 2.0 or more and 10.0 or less in mass mean.

<2> 상기 2종 이상의 중합성 화합물이 중합성기를 갖고 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖지 않는 중합성 화합물을 함유하는 <1>에 기재된 착색 경화성 조성물이다.<2> The said 2 or more types of polymeric compound is a colored curable composition as described in <1> containing a polymeric compound which has a polymeric group and does not have a C2 or more alkyleneoxy group.

<3> 상기 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물이 일반식(ⅰ) 또는 일반식(ⅱ)로 나타내어지는 화합물의 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 <1> 또는 <2>에 기재된 착색 경화성 조성물이다.<3> The colored curable as described in <1> or <2> which is at least 1 sort (s) chosen from the group of the compound represented by general formula (i) or general formula (ii) whose said C2 or more alkyleneoxy group is an alkyleneoxy group. Composition.

Figure 112008089435405-PAT00001
Figure 112008089435405-PAT00001

일반식(ⅰ) 및 (ⅱ) 중 E는 각각 독립적으로 -((CH2)yCH2O)-, 또는 -((CH2)yCH(CH3)O)-를 나타내고, y는 각각 독립적으로 1~10의 정수를 나타내며, X는 각각 독립적으로 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 수소원자, 또는 카르복실기를 나타낸다.In formulas (iii) and (ii), E each independently represents-((CH 2 ) y CH 2 O)-or-((CH 2 ) y CH (CH 3 ) O)-, and y each represents Independently, the integer of 1-10 is represented, X represents acryloyl group, methacryloyl group, a hydrogen atom, or a carboxyl group each independently.

일반식(ⅰ) 중 아크릴로일기 및 메타크릴로일기의 합계는 3개 또는 4개이고, m은 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내며, 각 m의 합계는 1~40의 정수이다.In the general formula (V), the sum of the acryloyl group and the methacryloyl group is three or four, m each independently represents an integer of 0 to 10, and the sum of each m is an integer of 1 to 40.

일반식(ⅱ) 중 아크릴로일기 및 메타크릴로일기의 합계는 5개 또는 6개이고, n은 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내며, 각 n의 합계는 1~60의 정수이다.In general formula (ii), the sum total of acryloyl group and methacryloyl group is 5 or 6 pieces, n represents the integer of 0-10 each independently, and the sum of each n is an integer of 1-60.

<4> 상기 착색제의 함유량이 전체 고형분에 대하여 30질량% 이상인 <1>~<3> 중 어느 한 항에 기재된 착색 경화성 조성물.The colored curable composition in any one of <1>-<3> whose content of the <4> said coloring agent is 30 mass% or more with respect to a total solid.

<5> <1>~<4> 중 어느 한 항에 기재된 착색 경화성 조성물을 지지체 상에 도포 후, 도포 형성된 도포막을 마스크를 통해 노광하고 현상하여 착색 패턴을 형성하는 공정을 갖는 컬러 필터의 제조 방법이다.<5> The manufacturing method of the color filter which has a process of exposing and apply | coating the formed coating film through a mask, and developing a coloring pattern after apply | coating the coloring curable composition in any one of <1>-<4> on a support body. to be.

<6> <1>~<4> 중 어느 한 항에 기재된 착색 경화성 조성물을 이용하여 이루어지는 컬러 필터이다.<6> It is a color filter formed using the colored curable composition in any one of <1>-<4>.

<7> <6>에 기재된 컬러 필터를 구비한 고체 촬상 소자이다.<7> It is a solid-state image sensor provided with the color filter as described in <6>.

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명에 의하면 넓은 DOF 마진(깊은 초점 심도)을 갖는 착색 경화성 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, a colored curable composition having a wide DOF margin (deep depth of focus) can be provided.

또한, 본 발명에 의하면 현상 잔사의 발생이나 패턴 주변의 부정확의 발생이 억제된 컬러 필터 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다.Moreover, according to this invention, the color filter and the manufacturing method which suppressed generation | occurrence | production of image development residue and inaccuracy of the pattern periphery can be provided.

또한, 본 발명에 의하면 색 재현성이 우수한 고체 촬상 소자를 제공할 수 있다.Moreover, according to this invention, the solid-state image sensor which is excellent in color reproducibility can be provided.

≪착색 경화성 조성물≫≪Coloring curable composition≫

본 발명의 착색 경화성 조성물은 착색제와, 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물을 함유하는 2종 이상의 중합성 화합물을 함유하고, 상기 2종 이상의 중합성 화합물은 중합성기 수가 질량 평균으로 4.5 이상이며, 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기 수가 질량 평균으로 2.0 이상 10.0 이하이다.The colored curable composition of this invention contains a 2 or more types of polymeric compound containing a coloring agent and the polymeric compound which has a C2 or more alkyleneoxy group, and the said 2 or more types of polymeric compounds have 4.5 or more by mass mean number of polymeric groups. The number of alkyleneoxy groups having 2 or more carbon atoms is 2.0 or more and 10.0 or less on a mass average.

중합성 화합물(예를 들면, 다관능 중합성 화합물) 1종만을 이용한 경우에는 비경화부에 있어서의 현상성이 저하되고, 노광량 의존성이 높아지며, 고노광 영역에서 선폭 증가(dot gain)가 발생하고, 그 결과 DOF 마진이 좁아지는(즉, 초점 심도가 얕아짐) 경향이 있다.When only one type of polymerizable compound (for example, a polyfunctional polymerizable compound) is used, developability in the non-cured portion decreases, exposure dose dependency increases, and line gain increases in a high exposure region. As a result, the DOF margin tends to be narrower (i.e., the depth of focus becomes shallower).

또한, 중합성 화합물을 2종 이상 이용한 경우여도 중합성기 수가 질량 평균으로 4.5 미만이면 감도가 부족하여 경화부의 잔막율이 저하되고, 그 결과 DOF 마진이 좁아지는 경향이 있다.Moreover, even when two or more types of polymerizable compounds are used, if the number of polymerizable groups is less than 4.5 on a mass average, the sensitivity is insufficient and the residual film ratio of the hardened portion is lowered, and as a result, the DOF margin tends to be narrowed.

또한, 중합성 화합물을 2종 이상 이용한 경우여도 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기 수가 질량 평균으로 2.0 미만이면 비경화부의 현상액 용해성이 저하되고, 그 결과 DOF 마진이 좁아지는 경향이 있다.Moreover, even when using 2 or more types of polymeric compounds, when the number of C2-C2 alkyleneoxy groups is less than 2.0 by mass mean, the solubility of the developing solution of a non-hardened part will fall, and as a result, DOF margin tends to become narrow.

또한, 중합성 화합물을 2종 이상 이용한 경우여도 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기 수가 질량 평균으로 10.0을 초과하면 경화부의 현상액 용해성이 높아지고, 경화부의 잔막율이 저하되며, 그 결과 DOF 마진이 좁아지는 경향이 있다.In addition, even when two or more types of polymerizable compounds are used, when the number of alkyleneoxy groups having 2 or more carbon atoms exceeds 10.0 by mass average, the developer solubility of the hardened portion is increased, and the residual film ratio of the hardened portion is decreased, and as a result, the DOF margin tends to be narrowed. have.

DOF 마진이 좁아지는 경향은, 특히 착색 경화성 조성물 중의 착색제의 함유율이 높은 경우, 형성하는 착색 패턴의 막두께가 얇은 경우, 또는 착색 패턴의 사이즈가 작은 경우에 의해 현저하게 나타난다.The tendency of narrowing the DOF margin is remarkable especially when the content rate of the colorant in the colored curable composition is high, when the film thickness of the colored pattern to be formed is thin, or when the size of the colored pattern is small.

그래서, 착색 경화성 조성물을 상기 본 발명의 구성으로 함으로써 DOF 마진을 확대할 수 있다. 특히, 상기 본 발명의 구성은 착색 경화성 조성물 중의 착색제의 조성비가 많은 경우, 형성하는 착색 패턴의 막두께가 얇은 경우, 또는 착색 패턴의 사이즈가 작은 경우에 유효하다.Therefore, DOF margin can be enlarged by making colored curable composition into the structure of the said invention. In particular, the configuration of the present invention is effective when the composition ratio of the colorant in the colored curable composition is large, when the thickness of the colored pattern to be formed is thin, or when the size of the colored pattern is small.

또한, DOF 마진은 넓을수록 바람직하지만, 구체적인 값으로서는 0.5㎛ 이상 이 바람직하고, 0.7㎛ 이상이 보다 바람직하며, 0.9㎛ 이상이 특히 바람직하다.The wider the DOF margin is, the more preferable it is. However, the specific value is preferably 0.5 µm or more, more preferably 0.7 µm or more, and particularly preferably 0.9 µm or more.

본 발명에 있어서 중합성기로서는 중합에 기여하는 기이면 특별히 한정은 없다. 본 발명에 의한 효과를 보다 효과적으로 얻는 관점으로부터는 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 기인 것이 바람직하고, (메타)아크릴로일기인 것이 보다 바람직하다.In the present invention, the polymerizable group is not particularly limited as long as it contributes to polymerization. From a viewpoint of obtaining the effect by this invention more effectively, it is preferable that it is a group which has an ethylenically unsaturated double bond, and it is more preferable that it is a (meth) acryloyl group.

또한, 본 명세서 중에 있어서 (메타)아크릴로일기는 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 나타내고, (메타)아크릴레이트는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 나타내며, (메타)아크릴은 아크릴 또는 메타크릴을 나타낸다.In addition, in this specification, a (meth) acryloyl group represents an acryloyl group or a methacryloyl group, (meth) acrylate represents an acrylate or a methacrylate, and (meth) acryl represents an acryl or methacryl .

또한, 본 발명에 있어서 2종 이상의 중합성 화합물의 질량 평균에서의 중합성기 수는 각 중합성 화합물 각각이 갖는 중합성기의 수와, 착색 경화성 조성물 중에 있어서의 각 중합성 화합물 각각의 질량에 기초하여 산출된 질량 평균값을 가리킨다.In addition, in this invention, the number of polymeric groups in the mass mean of 2 or more types of polymeric compounds is based on the number of the polymeric groups which each polymeric compound has, and the mass of each polymeric compound in a colored curable composition, respectively. Point out the calculated mass mean value.

또한, 본 발명에 있어서 2종 이상의 중합성 화합물의 질량 평균에서의 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기 수는 각 중합성 화합물 각각이 갖는 「탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기」의 수와, 착색 경화성 조성물 중에 있어서의 각 중합성 화합물 각각의 질량에 기초하여 산출된 질량 평균값을 가리킨다.In addition, in this invention, the number of C2 or more alkyleneoxy groups in the mass mean of 2 or more types of polymeric compounds is the number of "C2 or more alkyleneoxy groups" which each polymeric compound has, and in a colored curable composition. The mass mean value calculated based on the mass of each polymerizable compound is indicated.

예를 들면, 본 발명의 착색 경화성 조성물이 중합성 화합물 1, 중합성 화합물 2, …, 중합성 화합물 n으로 이루어지는 n종의 중합성 화합물을 함유할 경우, 상기 n종의 중합성 화합물의 질량 평균에서의 중합성기 수(JAVE)는 하기 식(1)에 의 해 산출된다.For example, the colored curable composition of this invention is a polymeric compound 1, a polymeric compound 2,... When the n-type polymerizable compound consisting of the polymerizable compound n is contained, the number of polymerizable groups (J AVE ) in the mass average of the n-type polymerizable compounds is calculated by the following formula (1).

식(1) :Equation (1):

JAVE=(J1·W1+J2·W2…+Jn·Wn)/(W1+W2…+W3)J AVE = (J 1 · W 1 + J 2 · W 2 … + J n · W n ) / (W 1 + W 2 … + W 3 )

단, 식(1)에 있어서 J1은 중합성 화합물 1의 1분자 중의 중합성기 수이고, W1은 착색 경화성 조성물 중의 중합성 화합물 1의 전체 질량이며, J2는 중합성 화합물 2의 1분자 중의 중합성기 수이고, W2는 착색 경화성 조성물 중의 중합성 화합물 2의 전체 질량이며, Jn은 중합성 화합물 n의 1분자 중의 중합성기 수이고, Wn은 착색 경화성 조성물 중의 중합성 화합물 n의 전체 질량이다.However, in Formula (1), J <1> is the number of polymeric groups in 1 molecule of polymeric compound 1, W <1> is the total mass of polymeric compound 1 in colored curable composition, and J <2> is 1 molecule of polymeric compound 2 Is the number of polymerizable groups in the compound, W 2 is the total mass of the polymerizable compound 2 in the colored curable composition, J n is the number of polymerizable groups in one molecule of the polymerizable compound n, and W n is the amount of the polymerizable compound n in the colored curable composition. Is the total mass.

마찬가지로, 본 발명의 착색 경화성 조성물이 중합성 화합물 1, 중합성 화합물 2, …, 중합성 화합물 n으로 이루어지는 n종의 중합성 화합물을 함유할 경우, 상기 n종의 중합성 화합물의 질량 평균에서의 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기 수(AAVE)는 하기 식(2)에 의해 산출된다.Similarly, the colored curable composition of this invention is a polymeric compound 1, polymeric compound 2,... In the case of containing n polymerizable compounds composed of polymerizable compound n, the number of alkyleneoxy groups having 2 or more carbon atoms (A AVE ) in the mass average of the n polymerizable compounds is calculated by the following formula (2). do.

식(2) :Equation (2):

AAVE=(A1·W1+A2·W2…+An·Wn)/(W1+W2…+W3)A AVE = (A 1 · W 1 + A 2 · W 2 … + A n · W n ) / (W 1 + W 2 … + W 3 )

단, 식(2)에 있어서 A1은 중합성 화합물 1의 1분자 중의 「탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기 수」이고, W1은 착색 경화성 조성물 중의 중합성 화합물 1의 전체 질량이며, A2는 중합성 화합물 2의 1분자 중의 「탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기 수」 이고, W2는 착색 경화성 조성물 중의 중합성 화합물 2의 전체 질량이며, An은 중합성 화합물 n의 1분자 중의 중합성기 수이며, Wn은 착색 경화성 조성물 중의 중합성 화합물 n의 전체 질량이다.In this formula (2) A 1 is a polymerizable Compound 1 "having 2 can more alkyleneoxy group" in one molecule of the, W 1 is the total mass of the first polymerizable compound in the colored curable composition, A 2 is polymerized in the "C2 or more alkyleneoxy group numbers" in one molecule of the compound 2, W 2 is the total mass of the polymerizable compound 2 in the colored curable composition, A n is the number of polymerizable groups in one molecule of the polymerizable compound n, W n is the total mass of the polymerizable compound n in the colored curable composition.

본 발명에 있어서, 상기 2종 이상의 중합성 화합물에 있어서의 중합성기의 수는 질량 평균으로 4.5 이상인 것이 필요하다. 본 발명에 의한 효과를 보다 효과적으로 얻는 관점으로부터는 상기 중합성기의 수는 질량 평균으로 5.0 이상이 바람직하고, 5.5 이상이 보다 바람직하다.In the present invention, the number of polymerizable groups in the two or more polymerizable compounds needs to be 4.5 or more in terms of mass average. From the viewpoint of obtaining the effect of the present invention more effectively, the number of the polymerizable groups is preferably 5.0 or more, more preferably 5.5 or more in terms of mass average.

또한, 질량 평균에서의 중합성기의 수의 상한값으로서는 분자 사이즈가 커지는 것에 따른 가교 밀도의 저하를 보다 효과적으로 억제하는 관점으로부터 12가 바람직하다In addition, as an upper limit of the number of polymerizable groups in a mass mean, 12 is preferable from a viewpoint which suppresses the fall of crosslinking density more effectively as molecular size becomes large.

본 발명에 있어서, 상기 2종 이상의 중합성 화합물에 있어서의 「탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기」의 수는 질량 평균으로 2.0 이상 10.0 이하인 것이 필요하다. 본 발명에 의한 효과를 보다 효과적으로 얻는 관점으로부터는 상기 「탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기」의 수는 질량 평균으로 3.0 이상 9.0 이하가 바람직하고, 4.0 이상 8.0 이하가 보다 바람직하다.In the present invention, the number of "carbon number 2 or more alkyleneoxy groups" in the two or more polymerizable compounds is required to be 2.0 or more and 10.0 or less by mass average. From a viewpoint of obtaining the effect by this invention more effectively, the number of said "C2 or more alkyleneoxy groups" is preferably 3.0 or more and 9.0 or less, more preferably 4.0 or more and 8.0 or less in terms of mass average.

이하, 중합성 화합물, 착색제, 그 밖의 성분에 대해서 설명한다.Hereinafter, a polymeric compound, a coloring agent, and another component are demonstrated.

<중합성 화합물><Polymerizable compound>

본 발명의 착색 경화성 조성물은 2종 이상의 중합성 화합물을 함유한다. The colored curable composition of this invention contains 2 or more types of polymeric compounds.

2종 이상의 중합성 화합물은 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물을 적어도 1종 함유하고, 또한 2종 이상의 중합성 화합물의 중합성기 수가 질량 평균으로 4.5 이상이며, 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기 수가 질량 평균으로 2.0 이상 10.0 이하가 되도록 선택하면 특별히 한정은 없다.The 2 or more types of polymeric compounds contain at least 1 type of polymeric compounds which have a C2 or more alkyleneoxy group, and the number of polymeric groups of 2 or more types of polymeric compounds is 4.5 or more by mass average, and the number of C2 or more alkyleneoxy groups is There is no restriction | limiting in particular if it selects so that it may become 2.0 or more and 10.0 or less by mass mean.

본 발명에 있어서의 2종 이상의 중합성 화합물은 하기 화합물 중으로부터 2종 이상을 선택하여 이용할 수 있다.Two or more types of polymeric compounds in this invention can select and use 2 or more types from the following compounds.

즉, 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트 등의 단관능의 아크릴레이트나 메타아크릴레이트; 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메티롤에탄트리(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 헥산디올(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리(아크릴로일옥시프로필)에테르, 트리(아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 글리세린이나 트리메티롤에탄 등의 다관능 알코올에 에틸렌옥사이드나 프로필렌옥사이드를 부가시킨 후 (메타)아크릴레이트화한 것; 일본 특허 공고 소48-41708호, 일본 특허 공고 소50-6034호, 일본 특허 공개 소51-37193호 각 공보에 기재되어 있는 바와 같은 우레탄아크릴레이트류; 일본 특허 공개 소48-64183호, 일본 특허 공고 소49-43191호, 일본 특허 공고 소52-30490호 각 공보에 기재되어 있는 폴리에스테르아크릴레이트류; 에폭시 수지와 (메타)아크릴산의 반응 생성물인 에폭시아크릴레이트류 등의 다관능의 아크릴레이트나 메타아크릴레이트이다. 또한, 일본 접착 협회지 Vol. 20, No. 7, 300~308페이지에 광경화성 모노머 및 올리고머로서 소개되어 있는 것도 사 용할 수 있다.That is, monofunctional acrylates and methacrylates, such as polyethyleneglycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, and phenoxyethyl (meth) acrylate; Polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethol ethane tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipenta Erythritol hexa (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, trimetholpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, glycerin or trimetholethane, etc. (Meth) acrylated after adding ethylene oxide or propylene oxide to the polyfunctional alcohol of; Urethane acrylates as described in JP-A-48-41708, JP-A-50-6034, and JP-A-51-37193; Polyester acrylates described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 48-64183, Japanese Patent Publication No. 49-43191, and Japanese Patent Publication No. 52-30490; Polyfunctional acrylates and methacrylates, such as epoxy acrylates which are reaction products of an epoxy resin and (meth) acrylic acid. In addition, Japan Adhesion Society Vol. 20, No. 7, pages 300 to 308, which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

(탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물)(Polymerizable compound having an alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms)

본 발명의 착색 경화성 조성물은 「탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물」 중 적어도 1종을 함유한다. The colored curable composition of this invention contains at least 1 sort (s) of "polymerizable compound which has a C2 or more alkyleneoxy group."

이러한 중합성 화합물을 함유하지 않을 경우(예를 들면, 다관능 중합성 화합물만을 함유할 경우)에는 비경화부의 현상성이 부족하여 DOF 마진이 저하되는 경향이 있다. When it does not contain such a polymeric compound (for example, when it contains only a polyfunctional polymeric compound), there exists a tendency for DOF margin to fall because of lack of developability of a non-hardened part.

본 발명에 있어서의 「탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물」로서는 특별히 한정은 없지만, 예를 들면 하기 일반식(ⅰ) 또는 (ⅱ)로 나타내어지는 화합물의 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것도 바람직하다.Although there is no limitation in particular as "the polymeric compound which has a C2 or more alkyleneoxy group" in this invention, For example, it is also at least 1 sort (s) chosen from the group of the compound represented by following General formula (i) or (ii). desirable.

Figure 112008089435405-PAT00002
Figure 112008089435405-PAT00002

일반식(ⅰ) 및 (ⅱ) 중 E는 각각 독립적으로 -((CH2)yCH2O)-, 또는 -((CH2)yCH(CH3)O)-를 나타내고, y는 각각 독립적으로 1~10의 정수를 나타낸다.In formulas (iii) and (ii), E each independently represents-((CH 2 ) y CH 2 O)-or-((CH 2 ) y CH (CH 3 ) O)-, and y each represents Independently, the integer of 1-10 is represented.

일반식(ⅰ) 및 (ⅱ) 중 X는 각각 독립적으로 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 수소원자, 또는 카르복실기를 나타낸다.X in general formula (iii) and (ii) represents acryloyl group, a methacryloyl group, a hydrogen atom, or a carboxyl group each independently.

일반식(ⅰ) 중 아크릴로일기 및 메타크릴로일기의 합계는 3개 또는 4개이고, m은 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내며, 각 m의 합계는 1~40의 정수이다.In the general formula (V), the sum of the acryloyl group and the methacryloyl group is three or four, m each independently represents an integer of 0 to 10, and the sum of each m is an integer of 1 to 40.

일반식(ⅱ) 중 아크릴로일기 및 메타크릴로일기의 합계는 5개 또는 6개이고, n은 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내며, 각 n의 합계는 1~60의 정수이다.In general formula (ii), the sum total of acryloyl group and methacryloyl group is 5 or 6 pieces, n represents the integer of 0-10 each independently, and the sum of each n is an integer of 1-60.

일반식(ⅰ) 중 m은 0~6의 정수가 바람직하고, 0~4의 정수가 보다 바람직하다. 또한, 각 m의 합계는 2~40의 정수가 바람직하고, 2~16의 정수가 보다 바람직하며, 4~8의 정수가 특히 바람직하다.In general formula (m), the integer of 0-6 is preferable and, as for m, the integer of 0-4 is more preferable. Moreover, the integer of 2-40 is preferable, as for the sum total of each m, the integer of 2-16 is more preferable, and the integer of 4-8 is especially preferable.

일반식(ⅱ) 중 n은 0~6의 정수가 바람직하고, 0~4의 정수가 보다 바람직하다. 또한, 각 n의 합계는 3~60의 정수가 바람직하고, 3~24의 정수가 보다 바람직하며, 6~12의 정수가 특히 바람직하다.In General Formula (ii), the integer of 0-6 is preferable and, as for n, the integer of 0-4 is more preferable. Moreover, the integer of 3-60 is preferable, as for the sum total of each n, the integer of 3-24 is more preferable, and the integer of 6-12 is especially preferable.

또한, 일반식(ⅰ) 또는 일반식(ⅱ) 중의 -((CH2)yCH2O)-, 또는 -((CH2)yCH(CH3)O)-는 산소원자측의 말단이 X에 결합되는 형태가 바람직하다.Further, the general formula (ⅰ) or general formula (ⅱ) of - the ends of the oxygen atom side of - ((CH 2) y CH 2 O) -, or - ((CH 2) y CH (CH 3) O) Forms bound to X are preferred.

일반식(ⅰ) 또는 (ⅱ)로 나타내어지는 화합물은 종래 공지의 공정인 펜타에리스리톨 또는 디펜타에리스리톨에 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드를 개환 부가 반응에 의해 개환 골격을 결합시키는 공정과, 개환 골격의 말단 수산기에, 예를 들면 (메타)아크릴로일클로라이드를 반응시켜 (메타)아크릴로일기를 도입하는 공정으로부터 합성시킬 수 있다. 각 공정은 잘 알려진 공정이고, 당업자는 용이하게 일반식(ⅰ) 또는 (ⅱ)로 나타내어지는 화합물을 합성할 수 있다.The compound represented by the general formula (i) or (ii) is a step of binding a ring-opening skeleton by ring-opening addition reaction of ethylene oxide or propylene oxide to pentaerythritol or dipentaerythritol, which is a conventionally known step, and a terminal hydroxyl group of the ring-opening skeleton. (Meth) acryloyl chloride can be made to react, for example from the process of introducing a (meth) acryloyl group. Each process is a well-known process, and a person skilled in the art can easily synthesize | combine the compound represented by general formula (i) or (ii).

식(ⅰ), (ⅱ)로 나타내어지는 화합물 중에서도 펜타에리스리톨 유도체 및/또는 디펜타에리스리톨 유도체가 보다 바람직하다. Among the compounds represented by the formulas (iii) and (ii), pentaerythritol derivatives and / or dipentaerythritol derivatives are more preferable.

구체적으로는, 하기 식(a)~(f)로 나타내어지는 화합물(이하, 「예시 화합물(a)~(f)」라고도 함)을 들 수 있고, 그 중에서도 예시 화합물(a), (b), (e), (f)가 바람직하다.Specifically, the compound (henceforth a "exemplified compound (a)-(f)") represented by following formula (a)-(f) is mentioned, Especially, exemplary compound (a), (b) , (e) and (f) are preferred.

Figure 112008089435405-PAT00003
Figure 112008089435405-PAT00003

Figure 112008089435405-PAT00004
Figure 112008089435405-PAT00004

일반식(ⅰ) 또는 일반식(ⅱ)로 나타내어지는 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면 사토머사제 SR-494, 닛폰 카야쿠 가부시키가이샤제 DPCA-60, TPA-330 등을 들 수 있다.As a commercial item of the compound represented by general formula (i) or general formula (ii), SR-494 by a Satomer company, DPCA-60 by Nippon Kayaku Co., Ltd., TPA-330, etc. are mentioned, for example.

(중합성기를 갖고 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖지 않는 중합성 화합물)(Polymerizable compound having a polymerizable group and no alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms)

본 발명의 착색 경화성 조성물은 중합성기를 갖고 탄소수 2 이상의 알킬렌옥 시기를 갖지 않는 중합성 화합물 중 적어도 1종을 함유하는 것이 바람직하다. It is preferable that the colored curable composition of this invention contains a polymeric group and at least 1 sort (s) of the polymeric compound which does not have a C2 or more alkylene oxy group.

이러한 중합성 화합물을 함유함으로써 현상액에 대한 경화부의 용해성이 높아지는 현상이나 선폭 감도가 저하되는 현상을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. By containing such a polymeric compound, the phenomenon which the solubility of the hardening part to a developing solution becomes high, and the phenomenon which a line width sensitivity falls, can be suppressed more effectively.

상기 중합성 화합물에 있어서의 중합성기의 수는 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하다. 2 or more are preferable and, as for the number of the polymerizable groups in the said polymeric compound, 3 or more are more preferable.

상기 「중합성기를 갖고 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖지 않는 중합성 화합물」로서는 특별히 한정은 없지만, 예를 들면 단관능의 아크릴레이트나 메타아크릴레이트(예를 들면, 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트 등), 트리메티롤에탄트리(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 이용할 수 있다. Although it does not specifically limit as said "polymerizable compound which has a polymeric group and does not have a C2 or more alkyleneoxy group", For example, Monofunctional acrylate and methacrylate (for example, polyethyleneglycol mono (meth) acrylate) , Polypropylene glycol mono (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, etc.), trimetholethane tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylic The rate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. can be used.

또한, 「중합성기를 갖고 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖지 않는 중합성 화합물」로서는 하기 일반식(ⅲ) 또는 일반식(ⅳ)로 나타내어지는 화합물도 바람직하게 이용할 수 있다.Moreover, as a "polymerizable compound which has a polymeric group and does not have a C2 or more alkyleneoxy group", the compound represented by the following general formula (i) or general formula (i) can also be used preferably.

Figure 112008089435405-PAT00005
Figure 112008089435405-PAT00005

일반식(ⅲ) 및 (ⅳ) 중 Z는 각각 독립적으로 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 수소원자, 또는 카르복실기를 나타낸다.In General Formulas (VIII) and (VIII), each Z independently represents an acryloyl group, a methacryloyl group, a hydrogen atom, or a carboxyl group.

일반식(ⅲ) 중 아크릴로일기 및 메타크릴로일기의 합계수는 3개 또는 4개이다. 또한, 일반식(ⅳ) 중 아크릴로일기 및 메타크릴로일기의 합계수는 5개 또는 6개이다.In general formula, the total number of acryloyl group and methacryloyl group is three or four. In addition, the total number of acryloyl group and methacryloyl group in general formula (5) is five or six.

이상, 본 발명에 있어서의 중합성 화합물에 대해서 설명했지만, DOF 마진 확대의 효과를 보다 효과적으로 얻는 관점으로부터는 본 발명의 착색 경화성 조성물에 함유되는 전체 중합성 화합물의 함유량을 조제하는 것도 바람직하다.As mentioned above, although the polymeric compound in this invention was demonstrated, it is also preferable to prepare content of the all polymeric compound contained in the colored curable composition of this invention from a viewpoint of obtaining the effect of DOF margin enlargement more effectively.

이러한 관점으로부터, 본 발명의 착색 경화성 조성물에 함유되는 전체 중합성 화합물의 함유량으로서는 착색 경화성 조성물의 전체 고형분에 대하여 5~50질량%가 바람직하고, 10~40질량%가 보다 바람직하며, 20~30질량%가 특히 바람직하다.From such a viewpoint, as content of the total polymeric compound contained in the colored curable composition of this invention, 5-50 mass% is preferable with respect to the total solid of a colored curable composition, 10-40 mass% is more preferable, 20-30 Mass% is particularly preferred.

또한, 예를 들면 본 발명의 착색 경화성 조성물이 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물 A질량부와, 중합성기를 갖고 탄소수 2 이상의 알킬렌옥 시기를 갖지 않는 중합성 화합물 B질량부를 함유할 경우, 착색 경화성 조성물 중에 있어서의 질량비[A:B]로서는 특별히 한정은 없지만, 9:1~1:9가 바람직하고, 8:2~2:8이 보다 바람직하다. 질량비[A:B]가 상기 범위 내이면 질량 평균에서의 중합성기 수의 조절이나 질량 평균에서의 「탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기」수의 조절이 보다 용이해져서 보다 효과적으로 DOF 마진을 확대할 수 있다.Moreover, for example, when the colored curable composition of this invention contains the polymeric compound A mass part which has a C2 or more alkyleneoxy group, and the polymeric compound B mass part which has a polymeric group and does not have a C2 or more alkylene oxy group, Although there is no limitation in particular as mass ratio [A: B] in a colored curable composition, 9: 1-1: 9 are preferable and 8: 2-2: 8 are more preferable. When mass ratio [A: B] is in the said range, adjustment of the number of polymeric groups in a mass mean, and control of the number of "carbon number 2 or more alkyleneoxy groups" in a mass mean will become easier, and DOF margin can be expanded more effectively.

<착색제><Colorant>

본 발명의 광경화성 조성물은 착색제를 적어도 1종 함유한다. 착색제로서는 종래 공지의 여러가지 염료, 무기 안료 또는 유기 안료를 1종 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수 있다.The photocurable composition of this invention contains at least 1 type of coloring agents. As a coloring agent, 1 type, or 2 or more types of conventionally well-known various dye, inorganic pigment, or organic pigment can be used.

상기 염료로서는 특별히 제한은 없고, 종래 컬러 필터용으로서 공지의 염료를 사용할 수 있다. 예를 들면, 일본 특허 공개 소64-90403호 공보, 일본 특허 공개 소64-91102호 공보, 일본 특허 공개 평1-94301호 공보, 일본 특허 공개 평6-11614호 공보, 일본 특허 등록 2592207호, 미국 특허 4808501호 명세서, 미국 특허 5667920호 명세서, 일본 특허 공개 평5-333207호 공보, 일본 특허 공개 평6-35183호 공보, 일본 특허 공개 평6-51115호 공보, 일본 특허 공개 평6-194828호 공보 등에 개시되어 있는 색소를 사용할 수 있다. 화학 구조로서는 피라졸아조계, 아닐리노아조계, 트리페닐메탄계, 안트라퀴논계, 벤질리덴계, 옥소놀계, 피라졸로트리아졸아조계, 피리돈아조계, 시아닌계, 페노티아진계, 피롤로피라졸아조메틴계 등의 염료를 사용할 수 있다. 특히, 광경화성 조성물은 비교적 저온에서의 경화가 가능하므로 안료에 비해 내열성이 떨어지는 염료여도 경화막에 내구성을 부여하기 위한 포스트 베이킹을 할 때에 고온도하에 노출되어도 분해 등의 문제를 경감시킬 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as said dye, A conventionally well-known dye can be used for a color filter. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-90403, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-91102, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 1-94301, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-11614, Japanese Patent Registration 2592207, US Patent 4808501, US Patent 5667920, Japanese Patent Laid-Open No. 5-333207, Japanese Patent Laid-Open No. 6-35183, Japanese Patent Laid-Open No. 6-51115, Japanese Patent Laid-Open No. 6-194828 The pigment | dye disclosed in the publication etc. can be used. Examples of the chemical structure include pyrazole azo, anilinoazo, triphenylmethane, anthraquinone, benzylidene, oxonol, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, cyanine, phenothiazine and pyrrolopyrazole azomethine. Dye, such as a system, can be used. In particular, since the photocurable composition can be cured at a relatively low temperature, even a dye having a lower heat resistance than the pigment can alleviate problems such as decomposition even when exposed to a high temperature during post-baking for imparting durability to the cured film.

무기 안료로서는 금속 산화물, 금속착염 등으로 나타내어지는 금속 화합물이고, 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티타늄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬 등의 금속 산화물, 및 상기 금속의 복합 산화물을 들 수 있다.As an inorganic pigment, it is a metal compound represented by metal oxide, metal complex salt, etc., Specifically, Metal oxide, such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, antimony, and the said metal complex And oxides.

유기 안료로서는,As an organic pigment,

C.I.Pigment Yellow 11, 24, 31, 53, 83, 85, 99, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 185;C. I. Pigment Yellow 11, 24, 31, 53, 83, 85, 99, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 185;

C.I.Pigment Orange 36, 38, 43, 71;C.I. Pigment Orange 36, 38, 43, 71;

C.I.Pigment Red 105, 122, 149, 150, 155, 171, 175, 176, 177, 209, 224, 242, 254;C.I. Pigment Red 105, 122, 149, 150, 155, 171, 175, 176, 177, 209, 224, 242, 254;

C.I.Pigment Violet 19, 23, 32, 39;C.I. Pigment Violet 19, 23, 32, 39;

C.I.Pigment Blue 1, 2, 15, 16, 22, 60, 66, 15:3, 15:6;C.I. Pigment Blue 1, 2, 15, 16, 22, 60, 66, 15: 3, 15: 6;

C.I.Pigment Green 7, 36, 37;C.I. Pigment Green 7, 36, 37;

C.I.Pigment Brown 25, 28;C. I. Pigment Brown 25, 28;

C.I.Pigment Black 1, 7; C.I. Pigment Black 1, 7;

카본 블랙 등을 들 수 있다.Carbon black etc. are mentioned.

이들 유기 안료는 단독으로 이용해도 좋고, 색 순도를 높이기 위해 여러가지 조합시켜 이용해도 좋다. 구체예를 나타내면, 적색 패턴용의 안료로서는 안트라퀴논계 안료 단독, 페릴렌계 안료 단독, 또는 그들 중 적어도 1종과 디스아조계 황색 안료 또는 이소인돌린계 황색 안료의 혼합물 등을 이용할 수 있다. 예를 들면, 안트라퀴논계 안료로서는 C.I.피그먼트 레드 177, 페릴렌계 안료로서는 C.I.피그먼트 레드 155를 들 수 있고, 색 재현성의 점에서 C.I.피그먼트 옐로우 83 또는 C.I.피그먼트 옐로우 139와의 혼합물이 바람직하다. 적색 패턴용의 안료에 있어서의 적색 안료와 황색 안료의 질량비는 100:5~100:50이 바람직하다. 질량비가 이 범위이면 400㎚~500㎚의 광투과율을 억제하여 색 순도를 높일 수 있어서 바람직하다.These organic pigments may be used alone, or may be used in various combinations to increase color purity. When a specific example is shown, as an pigment for a red pattern, an anthraquinone type pigment alone, a perylene type pigment alone, or at least 1 sort (s) and a disazo yellow pigment or an isoindolin type yellow pigment etc. can be used. For example, CI pigment red 177 is mentioned as an anthraquinone pigment, CI pigment red 155 is mentioned as a perylene pigment, A mixture with CI pigment yellow 83 or CI pigment yellow 139 is preferable at the point of color reproducibility. . As for the mass ratio of the red pigment and a yellow pigment in the pigment for red patterns, 100: 5-100: 50 are preferable. If the mass ratio is within this range, it is preferable because the light transmittance of 400 nm to 500 nm can be suppressed and the color purity can be increased.

녹색 패턴용의 안료로서는 할로겐화프탈로시아닌계 안료 단독, 또는 디스아조계 황색 안료, 퀴노프탈론계 황색 염료 또는 이소인돌린계 황색 안료와의 혼합물이 이용된다. 예를 들면, C.I.피그먼트 그린 7, 36, 37과 C.I.피그먼트 옐로우 83, 138, 139의 혼합이 바람직하다. 녹색 패턴용의 안료에 있어서의 녹색 안료와 황색 안료의 질량비는 100:5~100:100이 바람직하다. 질량비가 이 범위 내이면 400㎚~450㎚의 광투과율을 억제하여 양호한 색 순도를 얻을 수 있다.As the pigment for the green pattern, a halogenated phthalocyanine pigment alone or a mixture with a disazo yellow pigment, a quinophthalone yellow dye or an isoindolin yellow pigment is used. For example, a mixture of C. I. Pigment Green 7, 36, 37 and C. I. Pigment Yellow 83, 138, 139 is preferable. As for the mass ratio of the green pigment and yellow pigment in the pigment for green patterns, 100: 5-100: 100 are preferable. If mass ratio is in this range, the light transmittance of 400 nm-450 nm can be suppressed and favorable color purity can be obtained.

청색 패턴용의 안료로서는 프탈로시아닌계 안료 단독 또는 디옥사딘계 자색 안료와의 혼합물이 이용되고, 예를 들면 C.I.피그먼트 블루 15:6과 C.I.피그먼트 바이올렛 23의 혼합물이 바람직하다. 청색 패턴용의 안료에 있어서의 청색 안료와 자색 안료의 질량비는 100:0~100:50이 바람직하다. 질량비가 이 범위 내이면 400㎚~420㎚의 광투과율을 억제하여 색 순도를 높일 수 있다.As the pigment for the blue pattern, a phthalocyanine-based pigment alone or a mixture with a dioxadine-based purple pigment is used. For example, a mixture of C.I. Pigment Blue 15: 6 and C.I.Pigment Violet 23 is preferable. As for the mass ratio of the blue pigment and purple pigment in the pigment for blue patterns, 100: 0-100: 50 are preferable. If the mass ratio is within this range, light transmittance of 400 nm to 420 nm can be suppressed and color purity can be increased.

또한, 상기 안료를 아크릴계 수지, 말레산계 수지, 염화비닐-아세트산 비닐코폴리머 및 에틸셀룰로오스 수지 등에 미분산시킨 분말 형상 가공 안료를 이용함으로써 분산성 및 분산 안정성이 양호한 안료 함유 감광 수지를 얻을 수 있다.In addition, a pigment-containing photosensitive resin having good dispersibility and dispersion stability can be obtained by using a powdery processing pigment in which the pigment is finely dispersed in an acrylic resin, maleic acid resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, and ethyl cellulose resin.

또한, 블랙 매트릭스용의 안료로서는 카본, 산화티타늄, 산화철이 단독으로 또는 혼합되어 이용되고, 카본과 산화티타늄의 경우가 바람직하다. 카본과 산화티타늄의 질량비는 100:5~100:40의 범위가 바람직하다. 범위 내에 있어서 장파장의 광투과율이 작고, 또한 분산 안정성도 양호하다.In addition, as a pigment for a black matrix, carbon, titanium oxide, and iron oxide are used individually or in mixture, and the case of carbon and titanium oxide is preferable. The mass ratio of carbon and titanium oxide is preferably in the range of 100: 5 to 100: 40. Within the range, the light transmittance of the long wavelength is small and the dispersion stability is also good.

본 발명의 착색 경화성 조성물의 전체 고형분에 대한 전체 착색제의 함유량으로서는 특별히 한정은 없다. 컬러 필터의 박막화나 미세화의 관점으로부터는 30질량% 이상이 바람직하고, 35질량% 이상이 보다 바람직하며, 38질량% 이상이 더욱 바람직하고, 40질량% 이상이 특히 바람직하다. There is no restriction | limiting in particular as content of the all coloring agent with respect to the total solid of the coloring curable composition of this invention. From a viewpoint of the thinning and refinement | miniaturization of a color filter, 30 mass% or more is preferable, 35 mass% or more is more preferable, 38 mass% or more is more preferable, 40 mass% or more is especially preferable.

<광중합 개시제><Photoinitiator>

본 발명의 착색 경화성 조성물은 광중합 개시제 중 적어도 1종을 함유해도 좋다.The colored curable composition of this invention may contain at least 1 sort (s) of a photoinitiator.

광중합 개시제로서는 특별히 한정은 없지만, 바람직한 것으로서 옥심계 화합물이나 옥심에스테르계 화합물; 할로메틸옥사디아졸 화합물, 할로메틸-s-트리아진 화합물로부터 선택된 적어도 1개의 활성 할로겐 화합물; 3-아릴 치환 쿠마린 화합물; 로핀 2량체; 벤조페논 화합물; 아세토페논 화합물 및 그 유도체; 시클로펜타디엔-벤젠-철 착체 및 그 염; 등을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as a photoinitiator, As a preferable thing, An oxime compound and an oxime ester compound; At least one active halogen compound selected from halomethyloxadiazole compounds, halomethyl-s-triazine compounds; 3-aryl substituted coumarin compound; Ropin dimer; Benzophenone compounds; Acetophenone compounds and derivatives thereof; Cyclopentadiene-benzene-iron complexes and salts thereof; Etc. can be mentioned.

옥심계 화합물로서는 2-(O-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(O-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온이 가장 바람직하다. 이러한 옥심계 광중합성 개시제로서는 CGI-124, CGI-242(이상, 치바 스페셜티 케미컬즈사제)를 들 수 있다.Examples of the oxime compound include 2- (O-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione and 1- (O-acetyloxime) -1- [9-ethyl-6- Most preferred is (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone. As such an oxime system photoinitiator, CGI-124 and CGI-242 (above, Chiba Specialty Chemicals make) are mentioned.

옥심에스테르계 화합물로서는 J.C.S. Perkin Ⅱ(1979) 1653-1660, J.C.S. Perkin Ⅱ(1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology(1995) 202-232, 일본 특허 공개 2000-66385호 공보 기재의 화합물, 일본 특허 공개 2000-80068호 공보, 일본 특허 공표 2004-534797호 공보 기재의 화합물 등을 들 수 있다. 옥심에스테르계 광중합 개시제의 시판품으로서는, 예를 들면 IRGACURE OXE01(치바 스페셜티 케미컬즈사제)을 들 수 있다.As an oxime ester type compound, it is J.C.S. Perkin II (1979) 1653-1660, J.C.S. Perkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, Compounds described in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-66385, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-80068, Japanese Patent Laid-Open No. 2004-534797 The compound of the publication, etc. are mentioned. As a commercial item of an oxime ester photoinitiator, IRGACURE OXE01 (made by Chiba Specialty Chemicals) is mentioned, for example.

상기 할로메틸옥사디아졸 화합물로서는 일본 특허 공고 소57-6096호 공보에 기재된 2-할로메틸-5-비닐-1,3,4-옥사디아졸 화합물 등이나, 2-트리클로로메틸-5-스티릴-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(p-시아노스티릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(p-메톡시스티릴)-1,3,4-옥사디아졸 등을 들 수 있다.As said halomethyloxadiazole compound, the 2-halomethyl-5-vinyl-1,3,4-oxadiazole compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 57-6096, etc., 2-trichloromethyl-5-sty Yl-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-cyanostyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-meth Oxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, etc. are mentioned.

상기 할로메틸-s-트리아진 화합물로서는 일본 특허 공고 소59-1281호 공보에 기재된 비닐-할로메틸-s-트리아진 화합물, 일본 특허 공개 소53-133428호 공보에 기재된 2-(나프토-1-일)-4,6-비스-할로메틸-s-트리아진 화합물 및 4-(p-아미노페닐)-2,6-디-할로메틸-s-트리아진 화합물을 들 수 있다.As said halomethyl-s-triazine compound, the vinyl-halomethyl-s-triazine compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 59-1281 and 2- (naphtho-1 of Unexamined-Japanese-Patent No. 53-133428 are described. -Yl) -4,6-bis-halomethyl-s-triazine compound and 4- (p-aminophenyl) -2,6-di-halomethyl-s-triazine compound.

그 밖의 예로서는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진, 2,6-비스(트리클로로메틸)-4-(3,4-메틸렌디옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,6-비스(트리클로로메틸)-4-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(1-p-디메틸아미노페닐-1,3-부타디에닐)-s-트리아진, 2-트리클로로메틸-4-아미노-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진, 2-(4-메톡시-나프토-1-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진, 2-(4-에톡시-나프 토-1-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진, 2-(4-부톡시-나프토-1-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진, 2-[4-(2-메톡시에틸)-나프토-1-일]-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진, 2-[4-(2-에톡시에틸)-나프토-1-일]-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진, 2-[4-(2-부톡시에틸)-나프토-1-일]-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진, 2-(2-메톡시-나프토-1-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진, 2-(6-메톡시-5-메틸-나프토-2-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진, 2-(6-메톡시-나프토-2-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진, 2-(5-메톡시-나프토-1-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진, 2-(4,7-디메톡시-나프토-1-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진, Other examples include 2,4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2,6-bis (trichloromethyl) -4- (3,4-methylenedioxyphenyl ) -1,3,5-triazine, 2,6-bis (trichloromethyl) -4- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl ) -6- (1-p-dimethylaminophenyl-1,3-butadienyl) -s-triazine, 2-trichloromethyl-4-amino-6-p-methoxystyryl-s-triazine , 2- (naphtho-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-methoxy-naphtho-1-yl) -4,6-bis-trichloro Romethyl-s-triazine, 2- (4-ethoxy-naphtho-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-butoxy-naphtho- 1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [4- (2-methoxyethyl) -naphtho-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl -s-triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphtho-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [4- (2- Butoxyethyl) -naphtho-1-yl] -4,6-bis-trichloro Methyl-s-triazine, 2- (2-methoxy-naphtho-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (6-methoxy-5-methyl- Naphto-2-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (6-methoxy-naphtho-2-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s -Triazine, 2- (5-methoxy-naphtho-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphtho-1- Il) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine,

2-(6-에톡시-나프토-2-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진, 2-(4,5-디메톡시-나프토-1-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진, 4-[p-N,N-디(에톡시카르보닐메틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[o-메틸-p-N,N-디(에톡시카르보닐메틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[p-N,N-디(클로로에틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[o-메틸-p-N,N-디(클로로에틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(p-N-클로로에틸아미노페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(p-N-에톡시카르보닐메틸아미노페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[p-N,N-디(페닐)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(p-N-클로로에틸카르보닐아미노페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[p-N-(p-메톡시페닐)카르보닐아미노페닐]2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[m-N,N-디(에톡시카르보닐메틸)아미노페닐]- 2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[m-브로모-p-N,N-디(에톡시카르보닐메틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[m-클로로-p-N,N-디(에톡시카르보닐메틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[m-플루오로-p-N,N-디(에톡시카르보닐메틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2- (6-ethoxy-naphtho-2-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4,5-dimethoxy-naphtho-1-yl) -4 , 6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 4- [pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4 -[o-methyl-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [pN, N-di (chloroethyl) Aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-methyl-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6 -Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [pN, N-di (phenyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (pN-chloro Ethylcarbonylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [pN- (p-methoxyphenyl) carbonylaminophenyl ] 2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [mN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-tri Azine, 4- [m-bromo-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-chloro-pN , N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-fluoro-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl ) Aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine,

4-[o-브로모-p-N,N-디(에톡시카르보닐메틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[o-클로로-p-N,N-디(에톡시카르보닐메틸)아미노페닐-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[o-플루오로-p-N,N-디(에톡시카르보닐메틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[o-브로모-p-N,N-디(클로로에틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[o-클로로-p-N,N-디(클로로에틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[o-플루오로-p-N,N-디(클로로에틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[m-브로모-p-N,N-디(클로로에틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[m-클로로-p-N,N-디(클로로에틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4- [o-bromo-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-chloro-pN, N -Di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl-2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-fluoro-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl ] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-bromo-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl)- s-triazine, 4- [o-chloro-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-fluoro-pN , N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-bromo-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2 , 6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-chloro-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine ,

4-[m-플루오로-p-N,N-디(클로로에틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(m-브로모-p-N-에톡시카르보닐메틸아미노페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(m-클로로-p-N-에톡시카르보닐메틸아미노페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(m-플루오로-p-N-에톡시카르보닐메틸아미노페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(o-브로모-p-N-에톡시카르보닐메틸아미노페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(o-클로로-p-N-에톡시카르보닐메틸아미노페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(o-플루오로-p-N-에톡시카르보닐메틸아미노 페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(m-브로모-p-N-클로로에틸아미노페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(m-클로로-p-N-클로로에틸아미노페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(m-플루오로-p-N-클로로에틸아미노페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(o-브로모-p-N-클로로에틸아미노페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(o-클로로-p-N-클로로에틸아미노페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-(o-플루오로-p-N-클로로에틸아미노페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진 등을 들 수 있다.4- [m-fluoro-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-bromo-pN-ethoxycar Bonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-chloro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-fluoro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-pN -Ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-chloro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di ( Trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-fluoro-pN-ethoxycarbonylmethylamino phenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m- Bromo-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-chloro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloro Methyl) -s-triazine, 4- (m-fluoro-pN-chloro Ethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s- Triazine, 4- (o-chloro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-fluoro-pN-chloroethylaminophenyl)- 2, 6- di (trichloromethyl) -s-triazine etc. are mentioned.

그 외, 미도리 카가쿠사제 TAZ 시리즈, TAZ-107, TAZ-110, TAZ-104, TAZ-109, TAZ-140, TAZ-204, TAZ-113, TAZ-123; PANCHIM사제 T 시리즈, T-OMS, T-BMP, T-R, T-B; 치바 스페셜티 케미컬즈사제 일가큐어(IRGACURE) 시리즈, 일가큐어651, 일가큐어184, 일가큐어500, 일가큐어1000, 일가큐어149, 일가큐어819, 일가큐어261; 치바 스페셜티 케미컬즈사제 다로큐어(DALOCURE) 시리즈, 다로큐어11734; 4'-비스(디에틸아미노)-벤조페논, 2-벤질-2-디메틸아미노-4-모르폴리노부틸로페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸릴 2량체, 2-(o-플루오로페닐)-4,5-디페닐이미다졸릴 2량체, 2-(o-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸릴 2량체, 2-(p-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸릴 2량체, 2-(p-디메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸릴 2량체, 2-(2,4-디메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸릴 2량체, 2-(p-메틸메르캅토페닐)-4,5-디페닐이미다졸릴 2량체, 벤조인이소프로필에테르 등도 유용하게 이용된다.In addition, the TAZ series, TAZ-107, TAZ-110, TAZ-104, TAZ-109, TAZ-140, TAZ-204, TAZ-113, TAZ-123 made by Midori Kagaku Corporation; T series, T-OMS, T-BMP, T-R, T-B manufactured by PANCHIM; IRGACURE series by Chiba Specialty Chemicals, Ilgacure 651, Illucure 184, Illucure 500, Illucure 1000, Illucure 149, Illucure 819, Illucure 261; Chiro Specialty Chemicals' DALOCURE series, Darocure 11734; 4'-bis (diethylamino) -benzophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-4-morpholinobutyllophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2- (o-chloro Phenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5 -Diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl Dimer, 2- (2,4-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-methylmercaptophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, Benzoin isopropyl ether and the like are also usefully used.

이들 광중합 개시제에는 증감제나 광 안정제를 병용할 수 있다. A sensitizer and a light stabilizer can be used together for these photoinitiators.

그 구체예로서, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 9-플루오레논, 2-클로로-9-플루오레논, 2-메틸-9-플루오레논, 9-안트론, 2-브로모-9-안트론, 2-에틸-9-안트론, 9, 10-안트라퀴논, 2-에틸-9,10-안트라퀴논, 2-t-부틸-9,10-안트라퀴논, 2,6-디클로로-9,10-안트라퀴논, 크산톤, 2-메틸크산톤, 2-메톡시크산톤, 2-에톡시크산톤, 티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 아크리돈, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 벤질, 디벤잘아세톤, p-(디메틸아미노)페닐스티릴케톤, p-(디메틸아미노)페닐-p-메틸스티릴케톤, 벤조페논, p-(디메틸아미노)벤조페논(또는 미힐러케톤), p-(디에틸아미노)벤조페논, 벤조안트론 등이나 일본 특허 공고 소51-48516호 공보 기재의 벤조티아졸계 화합물 등이나, 티누빈 1130, 티누빈 400 등을 들 수 있다.Specific examples thereof include benzoin, benzoin methyl ether, 9-fluorenone, 2-chloro-9-fluorenone, 2-methyl-9-fluorenone, 9-anthrone, 2-bromo-9-anthrone , 2-ethyl-9-anthrone, 9, 10-anthraquinone, 2-ethyl-9,10-anthraquinone, 2-t-butyl-9,10-anthraquinone, 2,6-dichloro-9,10 Anthraquinone, xanthone, 2-methylxanthone, 2-methoxyxanthone, 2-ethoxyxanthone, thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, acridon, 10-butyl-2-chloro Acridon, benzyl, dibenzalacetone, p- (dimethylamino) phenylstyrylketone, p- (dimethylamino) phenyl-p-methylstyrylketone, benzophenone, p- (dimethylamino) benzophenone (or US Hilerketone), p- (diethylamino) benzophenone, benzoanthrone and the like, and the benzothiazole compound described in Japanese Patent Application Laid-open No. 51-48516, etc., tinubin 1130, tinubin 400, and the like.

본 발명의 착색 경화성 조성물이 광중합 개시제를 함유할 경우, 광중합 개시제의 함유량은 상기 중합성 화합물의 전량에 대하여 0.05질량%~2.0질량%가 바람직하고, 0.2질량%~1.0질량%가 보다 바람직하다.When the colored curable composition of this invention contains a photoinitiator, 0.05 mass%-2.0 mass% are preferable with respect to whole quantity of the said polymeric compound, and, as for content of a photoinitiator, 0.2 mass%-1.0 mass% are more preferable.

<그 밖의 성분><Other ingredients>

본 발명의 착색 경화성 조성물에는 필요에 따라 그 밖의 성분을 함유시켜도 좋다.The colored curable composition of this invention may contain another component as needed.

예를 들면, 본 발명의 착색 경화성 조성물은 증감제를 적어도 1종 함유해도 좋다.For example, the colored curable composition of this invention may contain at least 1 type of sensitizers.

그 구체예로서, 9-플루오레논, 2-클로로-9-플루오레논, 2-메틸-9-플루오레논, 9-안트론, 2-브로모-9-안트론, 2-에틸-9-안트론, 9,10-안트라퀴논, 2-에틸-9,10-안트라퀴논, 2-t-부틸-9,10-안트라퀴논, 2,6-디클로로-9,10-안트라퀴논, 벤 질, 디벤잘아세톤, p-(디메틸아미노)페닐스티릴케톤, p-(디메틸아미노)페닐-p-메틸스티릴케톤, 벤조안트론 등이나 일본 특허 공고 소51-48516호 공보 기재의 벤조티아졸계 화합물을 들 수 있다.Specific examples thereof include 9-fluorenone, 2-chloro-9-fluorenone, 2-methyl-9-fluorenone, 9-anthrone, 2-bromo-9-anthrone, 2-ethyl-9-an Tron, 9,10-anthraquinone, 2-ethyl-9,10-anthraquinone, 2-t-butyl-9,10-anthraquinone, 2,6-dichloro-9,10-anthraquinone, benzyl, di Benzalacetone, p- (dimethylamino) phenylstyrylketone, p- (dimethylamino) phenyl-p-methylstyrylketone, benzoanthrone and the like, and the benzothiazole compound described in Japanese Patent Publication No. 51-48516 Can be mentioned.

본 발명의 착색 경화성 조성물은 수지를 적어도 1종 함유해도 좋다.The colored curable composition of this invention may contain at least 1 sort (s) of resin.

수지로서는 벤질메타아크릴레이트/메타아크릴산 공중합체, 벤질메타아크릴레이트/아크릴산 공중합체, 벤질메타아크릴레이트/메타아크릴산 공중합체/및 다른 모노머와의 다원 공중합체 등의 공지의 수지를 이용할 수 있다.As the resin, a known resin such as a benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, a benzyl methacrylate / acrylic acid copolymer, a benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer / and a multicomponent copolymer with other monomers can be used.

본 발명의 착색 경화성 조성물이 수지를 함유할 경우, 수지의 함유량은 상기중합성 화합물의 전량에 대하여 0.1질량%~2.0질량%가 바람직하고, 0.3질량%~1.0질량%가 보다 바람직하다.When the colored curable composition of this invention contains resin, 0.1 mass%-2.0 mass% are preferable with respect to whole quantity of the said polymeric compound, and, as for content of resin, 0.3 mass%-1.0 mass% are more preferable.

본 발명의 착색 경화성 조성물은 용제를 적어도 1종 함유해도 좋다.The colored curable composition of this invention may contain at least 1 sort (s) of solvent.

용제로서는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 락트산 에틸, 아세트산 부틸, 시클로헥사논, 2-헵타논 등의 공지의 용제를 이용할 수 있다.As the solvent, known solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl lactate, butyl acetate, cyclohexanone and 2-heptanone It is available.

그 밖의 첨가제로서는 p-메톡시페놀, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르 등의 중합 금지제, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 3-아미노프로필 트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 등의 밀착 촉진제, 또한 음이온, 양이온, 비이온계의 계면활성제 등의 공지의 첨가제를 이용할 수 있다.Other additives include polymerization inhibitors such as p-methoxyphenol, hydroquinone and hydroquinone monomethyl ether, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-aminopropyl triethoxysilane and 3-glycidoxy Adhesion promoters, such as propyl trimethoxysilane, and well-known additives, such as an anion, a cation, and a nonionic surfactant, can be used.

본 발명의 착색 경화성 조성물은 상기의 각 성분을 각종 혼합기, 분산기를 사용하여 혼합 분산함으로써 조제할 수 있다.The colored curable composition of this invention can be prepared by mixing-dispersing said each component using various mixers and dispersers.

이상에서 설명한 본 발명의 착색 경화성 조성물의 용도로서는 특별히 한정은 없지만, 본 발명의 효과를 보다 효과적으로 얻는 관점으로부터는 액정 표시 장치나 고체 촬상 소자용의 컬러 필터 제작의 용도에 이용하는 것이 바람직하고, 고체 촬상 소자용의 컬러 필터 제작의 용도에 이용하는 것이 특히 바람직하다.Although there is no limitation in particular as a use of the colored curable composition of this invention demonstrated above, From a viewpoint of obtaining the effect of this invention more effectively, it is preferable to use for the use of the color filter preparation for liquid crystal display devices or a solid-state image sensor, and solid-state imaging It is especially preferable to use for the use of the color filter preparation for elements.

그 중에서도, 본 발명의 착색 경화성 조성물은 특히 100만화소를 초과하는 고해상도의 고체 촬상 소자용 컬러 필터의 용도에 바람직하다.Especially, the colored curable composition of this invention is suitable for the use of the color filter for solid-state image sensors of high resolution exceeding 1 million pixels especially.

형성하는 착색 패턴의 막두께가 얇은 경우, 또는 착색 패턴의 사이즈가 작은 경우에 DOF 마진이 좁아지는 경향이 있는 점을 고려하면 상기 고체 촬상 소자용 컬러 필터에 있어서의 착색 패턴의 막두께로서는 2.0㎛ 이하가 바람직하고, 1.0㎛ 이하가 보다 바람직하다. 착색 패턴(착색 화소)의 사이즈로서는 2.5㎛ 이하가 바람직하고, 2.0㎛ 이하가 보다 바람직하며, 1.7㎛ 이하가 특히 바람직하다.Considering the fact that the DOF margin tends to be narrow when the film thickness of the colored pattern to be formed is thin or the size of the colored pattern is small, the film thickness of the colored pattern in the color filter for a solid-state image sensor is 2.0 µm. The following is preferable and 1.0 micrometer or less is more preferable. As a size of a coloring pattern (color pixel), 2.5 micrometers or less are preferable, 2.0 micrometers or less are more preferable, 1.7 micrometers or less are especially preferable.

≪컬러 필터 및 그 제조 방법≫≪Color filter and its manufacturing method≫

본 발명의 컬러 필터는 기술한 본 발명의 착색 경화성 조성물을 이용하여 이루어지는 것이다. 예를 들면, 후술의 지지체 상에 기술한 본 발명의 착색 경화성 조성물을 이용하여 이루어지는 1색 이상(바람직하게는 3색 또는 4색)의 착색 패턴을 갖고 구성된다.The color filter of this invention is made using the coloring curable composition of this invention described. For example, it is comprised with the coloring pattern of one or more colors (preferably three or four colors) which use the coloring curable composition of this invention described on the support body mentioned later.

본 발명의 컬러 필터는 넓은 DOF 마진을 갖는 본 발명의 착색 경화성 조성물을 이용하여 이루어지기 때문에 현상 잔사의 발생이나 패턴 주변의 부정확의 발생이 억제된다.Since the color filter of this invention is made using the coloring curable composition of this invention which has a wide DOF margin, generation | occurrence | production of a development residue and the occurrence of inaccuracy around a pattern are suppressed.

여기에서, 착색 패턴의 막두께로서는 보다 미세한 패턴을 형성하는 관점이 나, 경사진 방향으로 컬러 필터를 통과하는 광을 인접한 촬상 소자가 수광하는 것을 막는 관점으로부터 0.1㎛~2.0㎛가 바람직하고, 0.2㎛~1.0㎛가 보다 바람직하다.Here, as a film thickness of a coloring pattern, 0.1 micrometer-2.0 micrometers are preferable from a viewpoint of forming a finer pattern, or from the viewpoint of preventing an adjacent imaging element from receiving light which passes through a color filter in an inclined direction, and 0.2 Μm to 1.0 µm are more preferable.

본 발명의 컬러 필터를 제조하는 방법으로서는 특별히 한정은 없다. 예를 들면, 기술한 본 발명의 착색 경화성 조성물을 지지체 상에 도포 후, 도포 형성된 도포막을 마스크를 통해 노광하고 현상하여 착색 패턴을 형성하는 공정을 갖는 컬러 필터의 제조 방법이 바람직하다. 3색 또는 4색의 컬러 필터로 할 경우에는 상기 공정을 각 색마다 반복하여 각 색의 패턴을 형성함으로써 제작할 수 있다.There is no limitation in particular as a method of manufacturing the color filter of this invention. For example, the manufacturing method of the color filter which has the process of apply | coating the coloring curable composition of this invention described above on a support body, exposing the developed coating film through a mask, and developing and forming a coloring pattern is preferable. In the case of using a color filter of three or four colors, the above steps can be repeated for each color to form a pattern of each color.

이하, 보다 구체적인 컬러 필터의 제조 방법의 예에 대해서 설명한다.Hereinafter, the example of the manufacturing method of a more specific color filter is demonstrated.

즉, 본 발명의 착색 경화성 조성물을 지지체 상에 도포하는 도포 공정과, (또한, 필요에 따라 도포된 착색 경화성 조성물을 프리베이킹하는 프리베이킹 공정과,) 도포된 착색 경화성 조성물을 마스크를 통해 패턴 노광하는 노광 공정과, 패턴 노광된 착색 경화성 조성물을 알칼리 현상하는 현상 공정(또한, 필요에 따라 알칼리 현상된 착색 경화성 조성물을 포스트 베이킹하는 포스트 베이킹 공정)으로 구성되는 제조 방법을 들 수 있다.That is, the pattern exposure of the application | coating process of apply | coating the coloring curable composition of this invention on a support body, the prebaking process of prebaking the colored curable composition applied as needed, and the apply | coated coloring curable composition through a mask. The manufacturing method comprised by the exposure process mentioned above and the image development process (also the post-baking process of post-baking the color curable composition alkali-developed as needed) which alkali-develops the colored curable composition exposed by the pattern exposure is mentioned.

더욱 구체적으로는, 예를 들면 도포 공정에 있어서 본 발명의 착색 경화성 조성물을 스피너 등에 의해 적당한 지지체 상에 건조시의 막두께가 일반적으로 0.1㎛~5㎛, 바람직하게는 0.2㎛~2㎛가 되도록 도포하여 평활한 도막을 얻는다.More specifically, for example, in the application | coating process, the film thickness at the time of drying the colored curable composition of this invention on a suitable support body by a spinner etc. is 0.1 micrometer-5 micrometers, Preferably it is 0.2 micrometer-2 micrometers so that It is apply | coated and a smooth coating film is obtained.

착색 경화성 조성물을 도포한 후, 용매를 증발시켜 건조 도포막을 얻기 위해 통상 프리베이킹를 행한다(프리베이킹 공정). 이 프리베이킹의 방법으로서는 고온의 공기 등에 의한 간접 가열 건조, 핫플레이트 등에 의한 직접 가열 건조(약 80~140℃, 50초~200초) 등이 있다. 프리베이킹 전에 감압 건조를 행해도 좋다.After apply | coating a colored curable composition, in order to evaporate a solvent and to obtain a dry coating film, prebaking is normally performed (prebaking process). As a method of this prebaking, indirect heat drying by hot air etc., direct heat drying by a hotplate etc. (about 80-140 degreeC, 50 second-200 second), etc. are mentioned. You may dry under reduced pressure before prebaking.

또한, 현상 후에 얻어진 패턴을 충분히 경화시켜 기계 강도를 높여서 영구막으로 하기 위해 포스트 베이킹이 행해진다(포스트 베이킹 공정). 예를 들면, 3색의 컬러 필터를 제조할 때에는 최초에 형성된 패턴은 그 후 타 색의 레지스트액의 도포, 노광, 현상을 2번 받는다. 이때에 도포된 레지스트액과의 혼색, 노광, 현상에 의한 패턴의 결락이 생기지 않도록 포스트 베이킹을 행하는 것이다. 이 포스트 베이킹은 프리베이킹과 마찬가지의 방법이 이용되지만, 프리베이킹의 조건보다 고온, 장시간으로 행해진다. 예를 들면, 오븐에 의한 간접 가열인 경우 약 180~250℃, 약 0.5시간~2시간, 핫플레이트에 의한 직접 가열인 경우 약 180~250℃, 약 2분~10분간 행해진다.In addition, post-baking is performed in order to fully harden the pattern obtained after image development, to raise mechanical strength, and to make a permanent film (post-baking process). For example, when manufacturing a three-color color filter, the pattern formed initially receives two times application | coating, exposure, and image development of the resist liquid of a different color. At this time, post-baking is performed so that a pattern may not be eliminated due to color mixing, exposure, and development with the applied resist solution. This post-baking is carried out in the same manner as in the pre-baking, but is performed at a higher temperature and longer time than the conditions of the pre-baking. For example, in the case of indirect heating by an oven, about 180 to 250 ° C, about 0.5 hours to 2 hours, and in the case of direct heating by a hot plate, it is about 180 to 250 ° C and about 2 to 10 minutes.

노광 공정에 있어서의 패턴 노광을 위한 광원은 특별히 한정되지 않는다. 패턴 형성성에 관해서 현저한 효과가 초래되는 광원으로서는 410㎚ 이하의 파장의 광이 바람직하고, 그 중에서도 수은등(水銀燈)의 i선(365㎚)이 특히 바람직하다.The light source for pattern exposure in an exposure process is not specifically limited. As a light source which brings about a remarkable effect regarding pattern formation property, the light of wavelength 410 nm or less is preferable, and i line | wire (365 nm) of a mercury lamp is especially preferable.

착색 경화성 조성물의 현상에 사용하는 현상액은 특별히 제한은 없고, 종래 공지의 현상액을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 테트라메틸암모늄하이드록사이드(TMAH) 등의 4급 암모늄염류의 유기 알칼리계의 현상액이 본 발명의 목적을 달성하기에 바람직하다.There is no restriction | limiting in particular in the developing solution used for image development of a colored curable composition, A conventionally well-known developing solution can be used. Especially, the organic alkali type developing solution of quaternary ammonium salts, such as tetramethylammonium hydroxide (TMAH), is preferable in order to achieve the objective of this invention.

지지체로서는 특별히 한정되지 않지만, 유리 기판, 플라스틱 기판, 알루미늄 기판, 고체 촬상 소자용 규소 웨이퍼 등의 전자 부품의 기재, 또한 투명 수지 기판, 수지 필름, 브라운관 표시면, 촬상관의 수광면, 고체 촬상 소자(CCD, CMOS, BBD, CID, BASIS 등)가 형성된 반도체 웨이퍼를 이용할 수 있다. 또한, 박막 반도체를 이용한 밀착형 이미지 센서, 액정 디스플레이면, 컬러 전자 사진용 감광체, 일렉트로크로믹(EC) 표시 장치를 이용할 수도 있다.Although it does not specifically limit as a support body, The base material of electronic components, such as a glass substrate, a plastic substrate, an aluminum substrate, and the silicon wafer for solid-state image sensors, a transparent resin substrate, a resin film, a CRT display surface, the light receiving surface of an imaging tube, a solid-state image sensor ( CCD, CMOS, BBD, CID, BASIS and the like) can be used. Further, a close-up image sensor using a thin film semiconductor, a liquid crystal display surface, a photosensitive member for color electrophotography, and an electrochromic (EC) display device may be used.

또한, 컬러 필터층과의 접착성을 향상시키기 위해 지지체에 고밀착 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 지지체 상에 미리 실란 커플링제 등을 얇게 도포한 후에 착색 경화성 조성물의 패턴을 형성하거나, 또는 미리 착색 경화성 조성물 중에 실란 커플링제를 함유시켜도 좋다.Moreover, in order to improve adhesiveness with a color filter layer, it is preferable to give a high adhesion process to a support body. Specifically, after apply | coating thinly a silane coupling agent etc. on a support body previously, you may form the pattern of a colored curable composition, or may contain a silane coupling agent in a colored curable composition beforehand.

또한, 지지체 상에 단차가 있을 경우에는 그 단차를 해소하여 도포면을 평활하게 하기 위한 평탄화막을 지지체 상에 도포한 후, 본 발명의 착색 경화성 조성물을 도포할 수 있다.In addition, when there is a step on the support, after applying the flattening film for eliminating the step and smoothing the coated surface on the support, the colored curable composition of the present invention can be applied.

예를 들면, CCD, CMOS 등의 고체 촬상 소자(이미지 센서)는 규소 기판 상에 수광량에 따라 전자를 발생시키는 광전자 변환부(포토다이오드)와, 그 발생한 전자를 출력하기 위한 판독 게이트부로 구성되어 있다. 판독 게이트부에 광이 닿으면 노이즈의 원인이 되어 정확한 데이터가 출력되지 않기 때문에 판독 게이트부의 상부에는 차광막층이 형성되어 있고, 차광막층을 갖지 않는 포토다이오드부와의 사이에서 단차가 생겨 있을 경우가 있다. 이러한 단차 상에 컬러 레지스트를 도포하여 직접 컬러 필터를 형성하면 광로 길이가 길어지기 때문에 화상이 어둡고, 또한 집광성도 떨어지게 된다. 이를 개선하기 위해 그 단차를 메울 목적으로 투명한 평탄화막을 CCD나 CMOS 등과 컬러 필터 사이에 형성하는 것이 바람직하다. 이 평탄화막의 재료로서는 본 발명의 착색 경화성 조성물과 같은 광경화성 레지스트액, 아크릴 계, 에폭시계 등의 열경화성 수지 등을 들 수 있다.For example, a solid-state imaging element (image sensor) such as a CCD or a CMOS is composed of a photoelectric conversion unit (photodiode) for generating electrons on the silicon substrate in accordance with the amount of light received, and a read gate portion for outputting the generated electrons. . When light reaches the read gate part, noise causes noise and accurate data is not output. Therefore, a light shielding film layer is formed on the upper part of the read gate part, and a step may occur between the photodiode part having no light shielding film layer. have. If a color filter is directly formed by applying a color resist on such a step, the optical path length becomes longer, resulting in darker images and lower light collection. In order to improve this, it is preferable to form a transparent flattening film between the color filter and the CCD or CMOS in order to fill the step. As a material of this planarization film, thermosetting resins, such as a photocurable resist liquid like the colored curable composition of this invention, an acryl type, and an epoxy type, etc. are mentioned.

≪고체 촬상 소자≫≪Solid-state imaging device≫

본 발명의 고체 촬상 소자는 기술한 본 발명의 컬러 필터를 구비하여 구성된다.The solid-state imaging device of the present invention includes the color filter of the present invention described above.

본 발명의 고체 촬상 소자는 착색 화소가 직사각형에 가까운 단면 형상을 갖는 본 발명의 컬러 필터가 구비되어 있기 때문에 색 재현성이 우수하다.The solid-state imaging device of the present invention is excellent in color reproducibility because the color filter of the present invention is provided in which the colored pixels have a cross-sectional shape close to a rectangle.

본 발명의 고체 촬상 소자의 구성으로서는 본 발명의 컬러 필터가 구비된 구성이고, 고체 촬상 소자로서 기능하는 구성이면 특별히 한정은 없지만, 예를 들면 이하와 같은 구성을 들 수 있다.As a structure of the solid-state image sensor of this invention, if it is a structure with the color filter of this invention, and it is a structure which functions as a solid-state image sensor, there is no limitation in particular, For example, the following structures are mentioned.

지지체 상에 고체 촬상 소자(CCD 이미지 센서, CMOS 이미지 센서 등)의 수광 에어리어를 구성하는 복수의 포토다이오드 및 폴리실리콘 등으로 이루어지는 전송 전극을 갖고, 상기 포토다이오드 및 상기 전송 전극 상에 포토다이오드의 수광부만 개구된 텅스텐 등으로 이루어지는 차광막을 가지며, 차광막 상에 차광막 전체 면 및 포토다이오드 수광부를 피복하도록 형성된 질화규소 등으로 이루어지는 디바이스 보호막을 갖고, 상기 디바이스 보호막 상에 본 발명의 컬러 필터를 갖는 구성이다.It has a transfer electrode which consists of a some photodiode, polysilicon, etc. which comprise the light receiving area of a solid-state image sensor (CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.) on a support body, The light-receiving part of a photodiode is carried out on the said photodiode and the said transfer electrode. It has the light shielding film which consists of tungsten etc. opened only, and has the device protective film which consists of silicon nitride etc. formed so that the light shielding film whole surface and the photodiode light-receiving part may be coat | covered on the light shielding film, and has the color filter of this invention on the said device protective film.

또한, 상기 디바이스 보호층 상이고 컬러 필터 아래(지지체에 가까운 측)에 집광 수단(예를 들면, 마이크로렌즈 등. 이하 동일)을 갖는 구성이나, 컬러 필터 상에 집광 수단을 갖는 구성 등이어도 좋다.Moreover, the structure which has a condensing means (for example, a microlens etc .. is the same below) on the said device protective layer and under a color filter (side close to a support body), the structure which has a condensing means on a color filter, etc. may be sufficient.

(실시예)(Example)

이하, 본 발명의 실시예를 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although the Example of this invention is shown, this invention is not limited to these.

[실시예1]Example 1

<평탄화막용 레지스트액의 조제><Preparation of resist liquid for flattening film>

하기 성분을 교반기로 혼합하여 평탄화막용 레지스트액을 조제했다.The following component was mixed with the stirrer and the resist liquid for planarization films was prepared.

~평탄화막용 레지스트액의 성분~Component ... of resist liquid for ...

·벤질메타아크릴레이트/메타아크릴산 공중합체(=70/30[몰비]) Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (= 70/30 [molar ratio])

… 16.4질량부                                                      … 16.4 parts by mass

·디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트 … 6.5질량부· Dipentaerythritol pentaacrylate... 6.5 parts by mass

·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 … 13.8질량부Propylene glycol monomethyl ether acetate... 13.8 parts by mass

·에틸-3-에톡시프로피오네이트 … 12.3질량부Ethyl-3-ethoxypropionate 12.3 parts by mass

·하기 트리아진계 개시제 … 0.3질량부· Triazine initiator as described below. 0.3 parts by mass

Figure 112008089435405-PAT00006
Figure 112008089435405-PAT00006

<평탄화막이 부착된 웨이퍼의 제작><Preparation of wafer with flattening film>

6인치 규소 웨이퍼 상에 상기에서 얻어진 평탄화막용 레지스트액을 스핀코트로 균일하게 도포하여 도포막을 형성하고, 형성된 도포막을 표면 온도 120℃의 핫 플레이트 상에서 120초간 가열 처리했다. 여기에서, 스핀코트의 도포 회전수는 상기 가열 처리 후의 도포막의 막두께가 약 1㎛가 되도록 조정했다.The flattening film resist liquid obtained above was uniformly apply | coated by spin coating on a 6-inch silicon wafer, and the coating film was formed, and the formed coating film was heat-processed for 120 second on the hotplate of surface temperature 120 degreeC. Here, the application | coating rotation speed of a spin coat was adjusted so that the film thickness of the coating film after the said heat processing might be set to about 1 micrometer.

상기 가열 처리 후의 도포막을 220℃의 오븐에서 1시간 더 처리하여 도포막을 경화시켜 평탄화막으로 했다.The coating film after the heat treatment was further treated in an oven at 220 ° C. for 1 hour to cure the coating film to obtain a flattening film.

이상과 같이 해서 6인치 규소 웨이퍼 상에 평탄화막이 형성된 평탄화막이 부착된 웨이퍼를 얻었다.As described above, a wafer with a flattening film having a flattening film formed on a 6-inch silicon wafer was obtained.

<컬러 레지스트액(착색 경화성 조성물)의 조제><Preparation of color resist liquid (color curable composition)>

이하의 성분을 교반기로 혼합하여 컬러 레지스트액을 조제했다.The following components were mixed with the stirrer and the color resist liquid was prepared.

~컬러 레지스트액의 성분~Component ... of ... color resist liquid

·벤질메타아크릴레이트/메타크릴산 공중합체(=70/30[몰비]) … 3.27질량부Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (= 70/30 [molar ratio])... 3.27 parts by mass

·C.I.피그먼트 블루 15:6 … 5.32질량부C.I. pigment blue 15: 6. 5.32 parts by mass

·C.I.피그먼트 바이올렛 23 … 1.33질량부C.I. pigment violet 23... 1.33 parts by mass

·고분자 분산제(디스퍼에이드 163(빅케미사제 안료 분산제) … 2.56질량부· Polymer dispersant (disperade 163 (pigchem dispersant pigment dispersant)) 2.56 parts by mass

·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 … 81질량부Propylene glycol monomethyl ether acetate... 81 parts by mass

·IRGACURE OXE01(치바 스페셜티 케미컬즈사제; 광중합 개시제) … 1.65질량부IRGACURE OXE01 (manufactured by Chiba Specialty Chemicals; Photopolymerization Initiator). 1.65 parts by mass

·p-메톡시페놀(중합 금지제) … 0.002질량부P-methoxyphenol (polymerization inhibitor). 0.002 parts by mass

·상술한 예시 화합물(b)(중합성 화합물) … 3.42질량부Exemplary compound (b) (polymerizable compound) described above. 3.42 parts by mass

·아로닉스(ARONIX) M-305(토아 고세이(주)제; 중합성 화합물) … 1.47질량부ARONIX M-305 (made by Toagosei Co., Ltd .; polymeric compound). 1.47 parts by mass

<컬러 필터의 제작><Production of color filter>

상기 평탄화막이 부착된 웨이퍼의 평탄화막 상에 상기에서 얻어진 컬러 레지스트액을 스핀코트로 균일하게 도포하여 도포막을 형성하고, 형성된 도포막을 표면온도 100℃의 핫플레이트 상에서 120초간 가열 처리(프리베이킹)해서 컬러 레지스트층을 형성했다. 여기에서, 스핀코트의 도포 회전수는 상기 가열 처리 후의 도포막의 막두께가 약 0.8㎛가 되도록 조정했다.The color resist liquid obtained above was uniformly coated on the planarization film of the wafer with the planarization film by spin coating to form a coating film, and the formed coating film was heated (prebaked) for 120 seconds on a hot plate having a surface temperature of 100 ° C. The color resist layer was formed. Here, the application | coating rotation speed of a spin coat was adjusted so that the film thickness of the coating film after the said heat processing might be about 0.8 micrometer.

다음으로, i선 스테퍼(캐논제 FPA-3000i5+)를 이용하여 후술의 포토마스크를 통해 상기 컬러 레지스트층을 패턴 노광했다.Next, the said color resist layer was pattern-exposed through the photomask mentioned later using i line | wire stepper (FPA-3000i5 + by Canon).

패턴 노광은 21행×19열의 배치로 합계 399개소에 매트릭스 형상으로 행했다.Pattern exposure was performed in matrix form at 399 places in total by arrangement of 21 rows x 19 columns.

여기에서, 상기 21행은 최소 노광량 500J/㎡로부터 250J/㎡ 간격으로 1행마다 노광량을 증가시킨 조건으로 되어 있다.Here, the above 21 lines are set under the condition that the exposure amount is increased for every row at the interval of 250 J / m 2 from the minimum exposure amount of 500 J / m 2.

한편, 상기 19열은 초점 거리 최적값(Foucus 0.0㎛)을 중심으로 하여 0.1㎛간격으로 초점 거리를 변화시킨 조건으로 되어 있다. 상세하게는, 중앙 1열을 초점 거리 최적값으로 하고, 1열마다 초점 거리를 변화시킨 조건으로 되어 있다.On the other hand, the 19th column is a condition in which the focal length is changed at an interval of 0.1 mu m centering on the focal length optimum value (Foucus 0.0 mu m). In detail, the center column is set as an optimum focal length value, and the focal length is changed for each column.

또한, 포토마스크로서는 6사이즈(1.0평방㎛, 1.5평방㎛, 2.0평방㎛, 3.0평방㎛, 4.0평방㎛, 7.0평방㎛)의 정방형 픽셀 패턴이 4㎜×3㎜의 범위 내에 배열된 마스크 패턴을 갖는 포토마스크를 이용했다.As a photomask, a mask pattern in which a square pixel pattern of 6 sizes (1.0 square µm, 1.5 square µm, 2.0 square µm, 3.0 square µm, 4.0 square µm, 7.0 square µm) is arranged within a range of 4 mm x 3 mm The photomask which had was used.

패턴 노광된 컬러 레지스트층은 유기 알카리성 현상액 CD-2060(후지필름 일렉트로닉스 마테리알즈사제)을 이용하여 실온에서 60초간, 퍼들법(Puddle method) 으로 현상했다. 그 후, 20초간 스핀 샤워에 있어서 순수로 린스를 행하고, 다시금 순수로 수세를 행했다. 그 후, 물방울을 고압의 에어로 날려 기판을 자연 건조시키고, 착색 패턴을 얻었다.The pattern-exposed color resist layer was developed by the Puddle method for 60 seconds at room temperature using the organic alkaline developing solution CD-2060 (made by FUJIFILM Electronics). Thereafter, the resultant was rinsed with pure water in a spin shower for 20 seconds, and washed with pure water again. Thereafter, the water droplets were blown with high pressure air to naturally dry the substrate to obtain a colored pattern.

이상에 의해 청색의 컬러 필터를 얻었다.The blue color filter was obtained by the above.

<평가><Evaluation>

1.5평방㎛의 정방형 픽셀 패턴(마스크 패턴)을 통한 노광에 의해 형성된 착색 패턴을 측장 SEM(Critical-Dimension Scanning Electron Microscope)(히타치 S-9260)을 이용하여 측정해서 착색 패턴의 치수가 1.5㎛±0.1㎛의 범위에서 해상되어 있는 초점 거리의 범위를 DOF 마진으로 했다.The colored pattern formed by exposure through a square pixel pattern (mask pattern) of 1.5 square µm was measured using a longitudinal-dimension scanning electron microscope (SEM) (Hitachi S-9260), and the dimension of the colored pattern was 1.5 µm ± 0.1. The range of the focal length resolved in the range of micrometers was made into DOF margin.

이 숫자가 클수록 양호한 성능을 나타낸다.The larger this number, the better the performance.

[실시예 2~7, 비교예 1~5][Examples 2-7, Comparative Examples 1-5]

실시예 1에 있어서, 컬러 레지스트액의 조제에 이용한 중합성 화합물(예시 화합물(b) 및 아로닉스 M-305)의 종류 및/또는 양을 표 1에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 컬러 필터를 제작하고, 실시예 1과 마찬가지의 평가를 행했다.In Example 1, except having changed the kind and / or quantity of the polymeric compound (Example compound (b) and Aronix M-305) used for preparation of a color resist liquid as shown in Table 1, Similarly, the color filter was produced and evaluation similar to Example 1 was performed.

평가 결과를 표 1에 나타낸다.The evaluation results are shown in Table 1.

Figure 112008089435405-PAT00007
Figure 112008089435405-PAT00007

상기 표 1 중 및 후술의 표 2 중 및 표 3 중에 있어서의 중합성 화합물의 종류의 상세한 것은 이하와 같다.The detail of the kind of polymeric compound in the said Table 1, the following Table 2, and Table 3 is as follows.

·DPHA … 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트DPHA… Dipentaerythritol hexaacrylate

·M-305 … 토아 고세이(주)제 아로닉스 M-305M-305... Toa Kosei Co., Ltd. aronix M-305

·SR-494 … 사토머사제 SR-494SR-494... Sartomer SR-494

표 1에 나타내는 바와 같이, 실시예의 착색 경화성 조성물은 넓은 DOF 마진을 갖고 있었다.As shown in Table 1, the colored curable composition of the Example had wide DOF margin.

또한, 실시예의 착색 경화성 조성물을 이용하여 제작된 컬러 필터는 현상 잔사의 발생이나 패턴 주변의 부정확의 발생이 억제되어 있었다.Moreover, in the color filter produced using the colored curable composition of an Example, generation | occurrence | production of the image development residue and generation | occurrence | production of the inaccuracy of the pattern periphery were suppressed.

[실시예8]Example 8

컬러 레지스트액의 성분을 이하에 나타내는 성분으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 컬러 필터를 제작하고, 실시예 1과 마찬가지의 평가를 행했다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.The color filter was produced like Example 1 except having changed the component of the color resist liquid into the component shown below, and the same evaluation as Example 1 was performed. The evaluation results are shown in Table 2.

~컬러 레지스트액의 성분~Component ... of ... color resist liquid

·벤질메타아크릴레이트/메타크릴산 공중합체(=70/30[몰비]) Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (= 70/30 [molar ratio])

… 3.00질량부                                                         … 3.00 parts by mass

·C.I.피그먼트 블루 15:6 … 5.78질량부C.I. pigment blue 15: 6. 5.78 parts by mass

·C.I.피그먼트 바이올렛 23 … 1.44질량부C.I. pigment violet 23... 1.44 parts by mass

·고분자 분산제(디스퍼에이드 163(빅케미사제 안료 분산제) … 2.78질량부· Polymeric dispersant (disperade 163 (pigchem dispersant pigment dispersant)) 2.78 parts by mass

·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 … 81질량부Propylene glycol monomethyl ether acetate... 81 parts by mass

·IRGACURE OXE01(치바 스페셜티 케미컬즈사제; 광중합 개시제) … 1.50질량부IRGACURE OXE01 (manufactured by Chiba Specialty Chemicals; Photopolymerization Initiator). 1.50 parts by mass

·p-메톡시페놀(중합 금지제) … 0.002질량부P-methoxyphenol (polymerization inhibitor). 0.002 parts by mass

·예시 화합물(b)(중합성 화합물) … 3.15질량부Example compound (b) (polymerizable compound). 3.15 parts by mass

·아로닉스 M-305(토아 고세이(주)제; 중합성 화합물) … 1.35질량부Aronix M-305 (made by Toagosei Co., Ltd .; polymeric compound). 1.35 parts by mass

[실시예 9~14, 비교예 6~10][Examples 9-14, Comparative Examples 6-10]

실시예 8에 있어서, 컬러 레지스트액의 조제에 이용한 중합성 화합물(예시 화합물(b) 및 아로닉스 M-305)의 종류 및/또는 양을 표 2에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 8과 마찬가지로 하여 컬러 필터를 제작하고, 실시예 8과 마찬가지의 평가를 행했다.In Example 8, except having changed the kind and / or quantity of the polymeric compound (Example compound (b) and Aronix M-305) used for preparation of a color resist liquid as shown in Table 2, Similarly, the color filter was produced and evaluation similar to Example 8 was performed.

평가 결과를 표 2에 나타낸다.The evaluation results are shown in Table 2.

Figure 112008089435405-PAT00008
Figure 112008089435405-PAT00008

표 2에 나타내는 바와 같이, 실시예의 착색 경화성 조성물은 DOF 마진을 갖고 있었다.As shown in Table 2, the colored curable composition of the Example had DOF margin.

또한, 실시예의 착색 경화성 조성물을 이용하여 제작된 컬러 필터는 현상 잔사의 발생이나 패턴 주변의 부정확의 발생이 억제되어 있었다.Moreover, in the color filter produced using the colored curable composition of an Example, generation | occurrence | production of the image development residue and generation | occurrence | production of the inaccuracy of the pattern periphery were suppressed.

[실시예 15]Example 15

컬러 레지스트액의 성분을 이하에 나타내는 성분으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 컬러 필터를 제작하고, 실시예 1과 마찬가지의 평가를 행했다. 평가 결과를 표 3에 나타낸다.The color filter was produced like Example 1 except having changed the component of the color resist liquid into the component shown below, and the same evaluation as Example 1 was performed. Table 3 shows the results of the evaluation.

~컬러 레지스트액의 성분~Component ... of ... color resist liquid

·벤질메타아크릴레이트/메타크릴산 공중합체(=70/30[몰비]) Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (= 70/30 [molar ratio])

… 2.73질량부                                                         … 2.73 parts by mass

·C.I.피그먼트 블루 15:6 … 6.23질량부C.I. pigment blue 15: 6. 6.23 parts by mass

·C.I.피그먼트 바이올렛 23 … 1.56질량부C.I. pigment violet 23... 1.56 parts by mass

·고분자 분산제(디스퍼에이드 163(빅케미사제 안료 분산제) … 3.00질량부· Polymeric dispersant (disperade 163 (pig dispersant pigment dispersant)) 3.00 parts by mass

·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 … 81질량부Propylene glycol monomethyl ether acetate... 81 parts by mass

·IRGACURE OXE01(치바 스페셜티 케미컬즈사제; 광중합 개시제) … 1.37질량부IRGACURE OXE01 (manufactured by Chiba Specialty Chemicals; Photopolymerization Initiator). 1.37 parts by mass

·p-메톡시페놀(중합 금지제) … 0.002질량부P-methoxyphenol (polymerization inhibitor). 0.002 parts by mass

·예시 화합물(b)(중합성 화합물) … 2.88질량부Example compound (b) (polymerizable compound). 2.88 parts by mass

·아로닉스 M-305(토아 고세이(주)제; 중합성 화합물) … 1.23질량부Aronix M-305 (made by Toagosei Co., Ltd .; polymeric compound). 1.23 parts by mass

[실시예 16~21, 비교예 11~15][Examples 16-21, Comparative Examples 11-15]

실시예 15에 있어서, 컬러 레지스트액의 조제에 이용한 중합성 화합물(예시 화합물(b) 및 아로닉스 M-305)의 종류 및/또는 양을 표 3에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 15와 마찬가지로 하여 컬러 필터를 제작하고, 실시예 15와 마찬가지의 평가를 행했다.In Example 15, except that the kind and / or amount of the polymerizable compound (Example compound (b) and Aronix M-305) used for preparing the color resist liquid were changed as shown in Table 3, Similarly, the color filter was produced and evaluation similar to Example 15 was performed.

평가 결과를 표 3에 나타낸다.Table 3 shows the results of the evaluation.

Figure 112008089435405-PAT00009
Figure 112008089435405-PAT00009

표 3에 나타내는 바와 같이, 실시예의 착색 경화성 조성물은 DOF 마진을 갖고 있었다.As shown in Table 3, the colored curable composition of the Example had DOF margin.

또한, 실시예의 착색 경화성 조성물을 이용하여 제작된 컬러 필터는 현상 잔사의 발생이나 패턴 주변의 부정확의 발생이 억제되어 있었다.Moreover, in the color filter produced using the colored curable composition of an Example, generation | occurrence | production of a development residue and generation | occurrence | production of the inaccuracy of the pattern periphery were suppressed.

이상 나타낸 바와 같이, 중합성기 수가 질량 평균으로 4.5 이상이고, 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기 수가 질량 평균으로 2.0 이상 10.0 이하인 2종 이상의 중합성 화합물을 이용함으로써 DOF 마진이 확대되었다.As indicated above, DOF margin was expanded by using 2 or more types of polymeric compounds whose number of polymeric groups is 4.5 or more in mass mean, and the number of alkyleneoxy groups of 2 or more carbon atoms is 2.0 or more and 10.0 or less in mass mean.

또한, DOF 마진 확대의 효과는 착색제 함유율이 높고 DOF 마진이 좁아지기 쉬운 조건하에 있어서도 얻어졌다.Moreover, the effect of DOF margin enlargement was acquired also on the conditions where a coloring agent content rate is high and DOF margin tends to become narrow.

이상, 실시예 1~21에서는 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물로서 주로 예시 화합물(b)를 이용한 경우를 중심으로 설명했지만, 상기 예시 화합물(b) 대신 상기 예시 화합물(b) 이외의 「일반식(ⅰ) 또는 일반식(ⅱ)로 나타내어지는 화합물(예시 화합물(a), (c)~(f)를 포함)」이나, 그 밖의 「탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물」을 이용한 경우에 있어서도 마찬가지로 본 발명의 DOF 마진 확대의 효과를 얻을 수 있다.As mentioned above, although Examples 1-21 mainly demonstrated the case where illustration compound (b) was mainly used as a polymeric compound which has a C2 or more alkyleneoxy group, it replaces the above-mentioned example compound (b) other than the above-mentioned example compound (iii). "Compound represented by general formula (i) or general formula (ii) (Including compound (a), (c)-(f)), or other" polymerizable compound which has a C2 or more alkyleneoxy group. " Also in the same manner, the effect of increasing the DOF margin of the present invention can be obtained.

또한, 실시예 1~21에서는 청색의 컬러 필터를 제작한 예에 대해서 설명했지만, 착색 경화성 조성물에 이용한 착색제를 변경함으로써, 실시예 1~21과 마찬가지로, 현상 잔사의 발생이나 패턴 주변의 부정확의 발생이 억제된 적색의 컬러 필터, 녹색의 컬러 필터, 적색, 녹색, 및 청색 3색의 착색 화소를 갖는 컬러 필터를 제작할 수 있다.In addition, although the example which produced the blue color filter was demonstrated in Examples 1-21, the development residue and generation of inaccuracy around a pattern are produced similarly to Examples 1-21 by changing the coloring agent used for the colored curable composition. This suppressed red color filter, green color filter, and a color filter having colored pixels of three colors of red, green, and blue can be produced.

또한, 포토다이오드, 차광막, 및 디바이스 보호막 등이 형성된 고체 촬상 소자용 기판 상에 상기 3색의 착색 화소를 갖는 컬러 필터를 제작함으로써 색 재현성이 우수한 고체 촬상 소자를 제작할 수 있다.Moreover, the solid-state image sensor which is excellent in color reproducibility can be manufactured by producing the color filter which has the said three color pixels on the board | substrate for solid-state image elements in which the photodiode, the light shielding film, the device protective film, etc. were formed.

예를 들면, 포토다이오드 및 전송 전극이 형성된 규소 기판 상에 포토다이오드의 수광부만 개구된 텅스텐으로 이루어지는 차광막을 형성하고, 형성된 차광막전체 면 및 포토다이오드 수광부(차광막 중의 개구부)를 피복하도록 하여 질화규소로 이루어지는 디바이스 보호층을 형성하며, 형성된 디바이스 보호층 상에 실시예 1~21과 마찬가지의 방법에 의해 컬러 필터(R, G, 및 B의 착색 화소)를 형성하고, 형성된 컬러 필터 상에 집광 수단인 마이크로렌즈를 형성함으로써 색 재현성이 양호한 고체 촬상 소자를 제작할 수 있다.For example, a light shielding film made of tungsten in which only the light receiving portion of the photodiode is opened is formed on the silicon substrate on which the photodiode and the transfer electrode are formed, and the entire surface of the formed light shielding film and the photodiode light receiving portion (opening in the light shielding film) are formed to be made of silicon nitride. Forming a device protective layer, and forming color filters (colored pixels of R, G, and B) on the formed device protective layer by the same method as Examples 1 to 21, and forming a color filter; By forming a lens, a solid-state imaging device with good color reproducibility can be produced.

Claims (7)

착색제와, 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물을 함유하는 2종 이상의 중합성 화합물을 함유하고;2 or more types of polymeric compounds containing a coloring agent and the polymeric compound which has a C2 or more alkyleneoxy group; 상기 2종 이상의 중합성 화합물의 중합성기 수는 질량 평균으로 4.5 이상이며, 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기 수는 질량 평균으로 2.0 이상 10.0 이하인 것을 특징으로 하는 착색 경화성 조성물.The number of polymerizable groups of the said 2 or more types of polymeric compounds is 4.5 or more in mass mean, and the number of C2 or more alkyleneoxy groups is 2.0 or more and 10.0 or less in mass mean, The coloring curable composition characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서, 상기 2종 이상의 중합성 화합물은 중합성기를 갖고 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖지 않는 중합성 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 경화성 조성물.The colored curable composition according to claim 1, wherein the two or more polymerizable compounds contain a polymerizable compound having a polymerizable group and not having an alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 탄소수 2 이상의 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물은 일반식(ⅰ) 또는 일반식(ⅱ)로 나타내어지는 화합물의 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 착색 경화성 조성물.The polymerizable compound having an alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms is at least one member selected from the group of compounds represented by the general formula (i) or (ii). Coloring curable composition.
Figure 112008089435405-PAT00010
Figure 112008089435405-PAT00010
[일반식(ⅰ) 및 (ⅱ) 중 E는 각각 독립적으로 -((CH2)yCH2O)-, 또는 -((CH2)yCH(CH3)O)-를 나타내고, y는 각각 독립적으로 1~10의 정수를 나타내며, X는 각각 독립적으로 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 수소원자, 또는 카르복실기를 나타낸다.[In the general formula (ⅰ) and (ⅱ) E are each independently - ((CH 2) y CH 2 O) -, or - ((CH 2) y CH (CH 3) O) - represents the, y is Each independently represents an integer of 1 to 10, and each X independently represents an acryloyl group, methacryloyl group, a hydrogen atom, or a carboxyl group. 일반식(ⅰ) 중 아크릴로일기 및 메타크릴로일기의 합계는 3개 또는 4개이고, m은 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내며, 각 m의 합계는 1~40의 정수이다.In the general formula (V), the sum of the acryloyl group and the methacryloyl group is three or four, m each independently represents an integer of 0 to 10, and the sum of each m is an integer of 1 to 40. 일반식(ⅱ) 중 아크릴로일기 및 메타크릴로일기의 합계는 5개 또는 6개이고, n은 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내며, 각 n의 합계는 1~60의 정수이다.]In the general formula (ii), the sum of the acryloyl group and the methacryloyl group is 5 or 6, and n each independently represents an integer of 0 to 10, and the sum of each n is an integer of 1 to 60.]
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 착색제의 함유량은 전체 고형분에 대하여 30질량% 이상인 것을 특징으로 하는 착색 경화성 조성물.Content of the said coloring agent is 30 mass% or more with respect to a total solid, The colored curable composition of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 착색 경화성 조성물을 지지체 상에 도포 후, 도포 형성된 도포막을 마스크를 통해 노광하고 현상하여 착색 패턴을 형성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 컬러 필터의 제조 방법After apply | coating the coloring curable composition of any one of Claims 1-4 on a support body, it has the process of exposing and developing the apply | coated coating film through a mask and forming a coloring pattern, The manufacturing method of the color filter characterized by the above-mentioned. Way 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 착색 경화성 조성물을 이용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 컬러 필터.It uses the colored curable composition in any one of Claims 1-4, The color filter characterized by the above-mentioned. 제 6 항에 기재된 컬러 필터를 구비한 것을 특징으로 하는 고체 촬상 소자.The color filter of Claim 6 was provided. The solid-state image sensor characterized by the above-mentioned.
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