KR20090047952A

KR20090047952A - Scanning electron microscope

Info

Publication number: KR20090047952A
Application number: KR1020070114093A
Authority: KR
Inventors: 최경덕
Original assignee: 주식회사 동부하이텍
Priority date: 2007-11-09
Filing date: 2007-11-09
Publication date: 2009-05-13

Abstract

본 발명은 샘플 이송(sample transfer)시 파티클의 영향을 최소화하여 분석 정확도를 높이고, 로더 도어(loader door)의 오링(o-ring)을 제거하여 유지 및 관리 노력을 절감시킬 수 있는 주사 전자 현미경에 관한 것이다.The present invention minimizes the influence of particles during sample transfer to increase the accuracy of the analysis, and eliminates the o-ring of the loader door (loader door) in a scanning electron microscope that can reduce the maintenance and management effort It is about.

이를 위해 본 발명의 주사 전자 현미경은 상부면의 일부에 샘플 웨이퍼 공급구를 갖고 내부에 공간을 구비하는 챔버, 챔버의 하부에 위치하는 하부 에어 실린더, 하부 에어 실린더의 상부에 위치되고, 샘플 웨이퍼를 지지하는 플레이트, 공간을 진공으로 유지하는 진공 장치, 챔버의 상부에 위치하는 상부 에어 실린더, 상부 에어 실린더에 연결되고 챔버의 샘플 웨이퍼 공급구를 밀봉하도록 상하로 동작하는 로더 도어를 포함하고, 챔버는 상기 샘플 웨이퍼 공급구의 주변을 따라서 상기 챔버의 상부면과 수직한 방향으로 돌출하여 형성된 돌출부를 포함하여 형성된다.To this end, the scanning electron microscope of the present invention is a chamber having a sample wafer supply port on a part of the upper surface and having a space therein, a lower air cylinder located at the bottom of the chamber, and a top of the lower air cylinder. A supporting plate, a vacuum device to maintain the vacuum in space, an upper air cylinder located at the top of the chamber, a loader door connected to the upper air cylinder and operating up and down to seal the sample wafer supply port of the chamber; And a protrusion formed to protrude in a direction perpendicular to the upper surface of the chamber along the periphery of the sample wafer supply port.

주사 전자 현미경, SEM, 파티클, particle, 로더 도어, loader door, 오링, o-ring Scanning Electron Microscope, SEM, Particle, Particle, Loader Door, Loader Door, O-ring, O-ring

Description

Scanning Electron Microscope

본 발명은 주사 전자 현미경에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 샘플 이송(sample transfer)시 파티클의 영향을 최소화하여 분석 정확도를 높일 수 있는 주사 전자 현미경에 관한 것이다.The present invention relates to a scanning electron microscope, and more particularly, to a scanning electron microscope that can increase the accuracy of analysis by minimizing the influence of particles during sample transfer.

또한, 본 발명은 오링(o-ring)을 제거하여 유지 및 관리 노력을 절감시킬 수 있는 주사 전자 현미경에 관한 것이다.The present invention also relates to a scanning electron microscope which can reduce the maintenance and management effort by eliminating o-rings.

주사 전자 현미경(Scanning Electron Microscope)은 시료의 형태, 미세구조의 관찰이나 구성 원소의 분포, 정성, 정량 등의 분석을 행하는 장치이다. 이를 위해 주사 전자 현미경은 고진공 상태에 놓여진 샘플(웨이퍼) 표면을 1㎚ 내지 100㎚ 정도의 미세한 전자선을 x-y의 이차원 방향으로 주사하고, 샘플 표면에서 발생하는 2차 전자의 신호를 검출하여 음극선관(브라운관) 화면상에 확대 화상을 표시하거나, 기록하게 된다.Scanning Electron Microscope is a device which performs the observation of the shape and microstructure of a sample, the distribution of constituent elements, qualitative and quantitative analysis. To this end, the scanning electron microscope scans a surface of a sample (wafer) placed in a high vacuum state in a two-dimensional direction of xy with a fine electron beam of about 1 nm to 100 nm, and detects a signal of secondary electrons generated from the surface of the sample to detect a cathode ray tube ( CRT) An enlarged image is displayed or recorded on the screen.

그리고 이러한 2차 전자의 신호가 존재하기 위해서, 샘플 챔버(sample chamber)의 공간은 항상 10^-7[torr] 이상인 고진공으로 유지될 것이 요구된다. 또한, 반도체 공정에서 주사 전자 현미경 장비 내의 고진공을 유지하기 위해 샘플(웨이퍼)은 스몰 챔버(small chamber)를 통해 주입된다. 이 때, 스몰 챔버는 작은 대기압의 상태에서 쉽게 고진공에 도달할 수 있도록 설계된 공간을 의미한다. 또한, 샘플은 상기 스몰 챔버에서 로더 챔버(loader chamber)를 거쳐 비로소 샘플 챔버(sameple chamber)에 도달하도록 구성된다.And in order for such secondary electron signals to be present, the space of the sample chamber is always required to be maintained at high vacuum of 10 ⁻⁷ [torr] or more. In addition, a sample (wafer) is injected through a small chamber to maintain high vacuum in the scanning electron microscope equipment in the semiconductor process. In this case, the small chamber refers to a space designed to easily reach high vacuum at a low atmospheric pressure. In addition, the sample is configured to reach a sample chamber only through the loader chamber in the small chamber.

그런데 샘플이 이송되기 위해 스몰 챔버에 주입될 때, 스몰 챔버의 상부에 위치한 로더 도어(loader door)를 개폐하는 동작이 필요한데 이 동작에서 대기 중의 파티클(particle)들이 샘플과 함께 챔버 내부에 유입될 수 있다. 그런데 이러한 파티클들은 샘플(웨이퍼)의 상부에 흡착되어 주사 전자 현미경을 통한 분석에 영향을 주는 문제가 있다. 특히, 이 파티클들은 진공 펌프의 동작시에 챔버 내부로 더 끌려들어가게 되고, 샘플(웨이퍼)의 상부에 더 흡착되어 분석 결과에 영향을 주게 되는 문제가 있다.However, when the sample is injected into the small chamber to be transported, it is necessary to open and close the loader door located at the upper part of the small chamber, in which particles in the atmosphere may be introduced into the chamber together with the sample. have. However, these particles are adsorbed on the top of the sample (wafer) has a problem that affects the analysis through the scanning electron microscope. In particular, these particles are attracted more into the chamber during the operation of the vacuum pump, there is a problem that is more attracted to the upper portion of the sample (wafer) to affect the analysis results.

또한, 챔버의 진공을 유지하기 위해 로더 도어가 챔버의 몸체와 접촉하는 부분에는 일반적으로 오링(o-ring)이 사용된다. 그런데 이러한 오링은 탄성이 요구되어 일반적으로 고무 재질로 형성되기 때문에 파우더(powder)성 파티클들을 발생시킬 수 있고, 이는 대기중의 파티클과 동일한 문제를 일으킨다. 또한, 이러한 오링은 마모성이 있으므로 주사 전자 현미경의 사용에 따라 교체해 주어야 한다. 따라서, 오링의 사용은 유지 및 관리에서 문제가 있다.In addition, o-rings are generally used where the loader door contacts the body of the chamber to maintain the vacuum of the chamber. However, since the O-ring is required to be elastic and generally formed of a rubber material, it may generate powder particles, which causes the same problem as particles in the atmosphere. In addition, these O-rings are abrasive and must be replaced with the use of scanning electron microscopes. Thus, the use of O-rings is problematic in maintenance and management.

본 발명은 상술한 종래의 문제점을 극복하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 파티클의 영향을 최소화하여 분석 정확도를 향상시킬 수 있는 주사 전자 현미경을 제공함에 있다.The present invention is to overcome the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention to provide a scanning electron microscope that can improve the analysis accuracy by minimizing the influence of particles.

또한, 본 발명의 다른 목적은 유지 및 관리 노력을 절감시킬 수 있는 주사 전자 현미경을 제공함에 있다.It is another object of the present invention to provide a scanning electron microscope that can reduce maintenance and management efforts.

상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 주사 전자 현미경은 상부면의 일부에 샘플 웨이퍼 공급구를 갖고 내부에 공간을 구비하는 챔버, 챔버의 하부에 위치하는 하부 에어 실린더, 하부 에어 실린더의 상부에 위치되고, 샘플 웨이퍼를 지지하는 플레이트, 공간을 진공으로 유지하는 진공 장치, 챔버의 상부에 위치하는 상부 에어 실린더, 상부 에어 실린더에 연결되고 챔버의 샘플 웨이퍼 공급구를 밀봉하도록 상하로 동작하는 로더 도어를 포함하고, 챔버는 샘플 웨이퍼 공급구의 주변을 따라서 챔버의 상부면과 수직한 방향으로 돌출하여 형성된 돌출부를 포함할 수 있다.In order to achieve the above object, a scanning electron microscope according to the present invention includes a chamber having a sample wafer supply port on a part of an upper surface and a space therein, a lower air cylinder located at a lower part of a chamber, and an upper part of a lower air cylinder. A positioned, supporting plate for the sample wafer, a vacuum device for maintaining the vacuum in the space, an upper air cylinder located at the top of the chamber, a loader door connected to the upper air cylinder and operating up and down to seal the sample wafer supply port of the chamber The chamber may include a protrusion formed by protruding in a direction perpendicular to the upper surface of the chamber along the periphery of the sample wafer supply port.

여기서, 챔버는 돌출부의 주변을 따라 형성되는 요홈을 더 포함할 수 있다.Here, the chamber may further include a groove formed along the periphery of the protrusion.

그리고 요홈은 일측부에 요홈의 바닥면과 경사를 이루는 경사면을 포함할 수 있다.And the groove may include an inclined surface which forms an inclination with the bottom surface of the groove on one side.

또한, 로더 도어는 하부에 수직하게 둘레를 따라 형성되는 에지부를 포함하고, 에지부는 챔버의 돌출부에 상응하는 길이로 형성되어 챔버의 샘플 웨이퍼 공급구를 밀봉하도록 결합할 수 있다.In addition, the loader door may include an edge portion formed along a circumference perpendicular to the lower portion, and the edge portion may be formed to have a length corresponding to the protrusion of the chamber so as to seal the sample wafer supply port of the chamber.

또한, 에지부는 그 하부에 오링을 구비하지 않고, 로더 도어가 챔버와 결합하는 경우 에지부의 하면이 챔버의 샘플 웨이퍼 공급구를 밀봉하도록 결합할 수 있다.In addition, the edge portion does not have an O-ring at the bottom thereof, and when the loader door is engaged with the chamber, the bottom surface of the edge portion may be coupled to seal the sample wafer supply port of the chamber.

상기와 같이 하여 본 발명에 의한 주사 전자 현미경은 챔버에 돌출부 및 요홈을 형성하고 로더 도어의 에지부가 요홈에 결합하도록 함으로써 대기중의 파티클이 장치 내부로 유입되는 것을 줄임으로써 분석 정확도를 높일 수 있다.As described above, the scanning electron microscope according to the present invention can improve the analysis accuracy by forming protrusions and grooves in the chamber and by allowing the edge of the loader door to be coupled to the grooves, thereby reducing the flow of particles in the atmosphere into the apparatus.

또한, 상기와 같이 하여 본 발명에 의한 주사 전자 현미경은 로더 도어의 하부에 오링(o-ring)을 구비하지 않음으로써 파우더(powder)성 파티클의 영향을 줄일 수 있고, 유지 및 관리 노력을 절감시킬 수 있다.In addition, as described above, the scanning electron microscope according to the present invention does not include an o-ring at the bottom of the loader door, thereby reducing the influence of powdery particles and reducing maintenance and management efforts. Can be.

본 발명이 속하는 기술분야에 있어서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있을 정도로 본 발명의 바람직한 실시예를 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily practice the present invention.

이하에서는 본 발명의 실시예에 따른 주사 전자 현미경(100)을 설명한다. Hereinafter, a scanning electron microscope 100 according to an embodiment of the present invention will be described.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 주사 전자 현미경(100)의 구성을 도시한 것이다. 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 주사 전자 현미경(100)에 사용되는 챔버 및 로더 도어의 결합 관계를 도시한 것이다.1 illustrates a configuration of a scanning electron microscope 100 according to an embodiment of the present invention. 2 illustrates a coupling relationship between a chamber and a loader door used in the scanning electron microscope 100 according to the embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 주사 전자 현미경(100)은 챔버(110), 상기 챔버(110)의 하부에 형성된 하부 에어 실린더(120), 상기 하부 에어 실린더에 결합된 플레이트(130), 상기 플레이트(130)의 상부에 위치하는 샘플 웨이퍼(140), 상기 플레이트(130)에 의해 지지되는 에어 밸브(150), 상기 챔버(110)의 일측에 형성되는 진공 펌프(160), 상기 챔버(110)의 상부에 위치하는 상부 에어 실린더(170), 상기 상부 에어 실린더(170)에 연결된 로더 도어(180)를 포함할 수 있다.As shown in FIG. 1, the scanning electron microscope 100 according to the embodiment of the present invention is coupled to a chamber 110, a lower air cylinder 120 formed below the chamber 110, and a lower air cylinder. A plate 130, a sample wafer 140 positioned on the plate 130, an air valve 150 supported by the plate 130, and a vacuum pump 160 formed on one side of the chamber 110. ), An upper air cylinder 170 positioned above the chamber 110, and a loader door 180 connected to the upper air cylinder 170.

상기 챔버(110)의 내부에는 상기 샘플 웨이퍼(140)가 위치하며, 상기 챔버(110) 내에서 주사 전자 현미경(100)에 의한 샘플 웨이퍼(140)의 분석이 이루어 진다. 도 1을 참조하면, 상기 챔버(110)는 상부 일면에 형성된 샘플 웨이퍼 공급구(111), 상기 샘플 웨이퍼 공급구(111)의 주변에 형성된 돌출부(112), 상기 돌출부(112)의 주변에 일정 깊이로 형성된 요홈(113), 상기 챔버(110)의 내부에 형성되는 공간(114)을 포함할 수 있다.The sample wafer 140 is positioned inside the chamber 110, and the sample wafer 140 is analyzed by the scanning electron microscope 100 in the chamber 110. Referring to FIG. 1, the chamber 110 may have a sample wafer supply port 111 formed on an upper surface thereof, a protrusion 112 formed around the sample wafer supply port 111, and a vicinity of the protrusion 112. A recess 113 formed to a depth may include a space 114 formed inside the chamber 110.

상기 샘플 웨이퍼 공급구(111)는 상기 챔버(110)의 상부면의 일부 영역에 형성되며, 개구부를 이룬다. 그리고, 개구되어 있는 상기 샘플 웨이퍼 공급구(111)를 통해 상기 샘플 웨이퍼(140)가 주입되어 상하부로 이동될 수 있다.The sample wafer supply port 111 is formed in a portion of the upper surface of the chamber 110 and forms an opening. The sample wafer 140 may be injected and moved up and down through the sample wafer supply hole 111 that is opened.

상기 돌출부(112)는 상기 샘플 웨이퍼 공급구(111)의 주변에 형성되고, 상기 챔버(110)의 상부에 수직하며, 주변 영역보다 더 높은 높이를 갖도록 돌출되어 있다. 상기 돌출부(112)는 대기중의 파티클(particle)이 상기 챔버(110) 내부로 유입되는 것을 줄이는 역할을 한다. 즉, 상기 돌출부(112)는 상기 챔버(110)의 상부에 일정 높이로 돌출되어 대기중의 파티클들을 막는다.The protrusion 112 is formed at the periphery of the sample wafer supply port 111 and is perpendicular to the upper portion of the chamber 110 and protrudes to have a height higher than that of the peripheral region. The protrusion 112 serves to reduce the introduction of particles in the atmosphere into the chamber 110. That is, the protrusion 112 protrudes to a predetermined height above the chamber 110 to block particles in the atmosphere.

상기 요홈(113)은 상기 챔버(110)의 상부에 형성된다. 상기 요홈(113)은 상기 돌출부(112)의 주변을 둘러싸면서 형성되며, 상기 챔버(110)의 내부 방향으로 일정 깊이로 형성된다. 상기 요홈(113)은 상기 돌출부(112)에 의해 막혀진 대기중의 파티클을 모을 수 있다.The groove 113 is formed in the upper portion of the chamber 110. The recess 113 is formed to surround the periphery of the protrusion 112 and is formed to a predetermined depth in the inner direction of the chamber 110. The groove 113 may collect particles in the air blocked by the protrusion 112.

또한, 상기 요홈(113)은 내부에 경사면(113a)을 포함할 수 있다. 상기 경사면(113a)은 상기 요홈(113)의 바닥면과 경사를 이루면서 형성된다. 상기 경사면(113a)은 상기 요홈(113)의 내부로 상기 로더 도어(180)가 정확하게 결합하도록 가이드하는 역할을 한다. 즉, 상기 로더 도어(180)가 상기 요홈(113)에 정확하게 정렬되어 압착되지 않더라도 상기 경사면(113a)을 따라 이동하여 상기 요홈(113)에 결합될 수 있도록 한다.In addition, the groove 113 may include an inclined surface 113a therein. The inclined surface 113a is inclined with the bottom surface of the groove 113. The inclined surface 113a serves to guide the loader door 180 to be accurately coupled into the recess 113. That is, even if the loader door 180 is not exactly aligned and compressed in the recess 113, the loader door 180 may move along the inclined surface 113a to be coupled to the recess 113.

상기 공간(114)은 상기 챔버(110)의 내부에 형성되는 영역이고, 상기 공 간(114)에 상기 샘플 웨이퍼(140)가 위치하여 상하좌우로 이동되어 주사 전자 현미경(100)에서 분석될 수 있다.The space 114 is an area formed inside the chamber 110, and the sample wafer 140 is positioned in the space 114 to be moved up, down, left, and right and analyzed by the scanning electron microscope 100. have.

상기 하부 에어 실린더(120) 및 플레이트(130)는 상기 챔버(110)의 하부 일측 외부로부터 내부 방향으로 형성된다. 상기 하부 에어 실린더(120)는 상기 플레이트(130)를 지지하며 상기 하부 에어 실린더(120)의 일측은 고정되어 있다. 상기 하부 에어 실린더(120) 및 상기 플레이트(130)의 높이는 조절될 수 있어서, 상기 플레이트(130)의 상부에 위치한 샘플 웨이퍼(140)의 위치를 조절할 수 있다.The lower air cylinder 120 and the plate 130 are formed in an inner direction from the outside of one lower side of the chamber 110. The lower air cylinder 120 supports the plate 130 and one side of the lower air cylinder 120 is fixed. The height of the lower air cylinder 120 and the plate 130 may be adjusted, so that the position of the sample wafer 140 positioned on the upper portion of the plate 130 may be adjusted.

상기 샘플 웨이퍼(140)는 상기 플레이트(130)의 상부에 위치한다. 상기 샘플 웨이퍼(140)는 본 발명의 실시예에 따른 주사 전자 현미경(100)의 내부에서 분석된다. 또한, 상기 샘플 웨이퍼(140)는 상기 하부 에어 실린더(120) 및 플레이트(130)의 움직임에 따라서 상기 샘플 웨이퍼 공급구(111)를 통해 상기 챔버(110) 내부로 주입되고, 이후에는 별도로 도시하지는 않았지만, 로테이션 암(rotation arm)에 의해 로더 챔버 및 샘플 챔버로 이송된다.The sample wafer 140 is positioned on the plate 130. The sample wafer 140 is analyzed inside the scanning electron microscope 100 according to the embodiment of the present invention. In addition, the sample wafer 140 is injected into the chamber 110 through the sample wafer supply port 111 according to the movement of the lower air cylinder 120 and the plate 130, and will not be separately illustrated. However, it is transferred to the loader chamber and the sample chamber by a rotation arm.

상기 에어 밸브(150)는 상기 하부 에어 실린더(120)의 중간에 위치하여 고정된다. 상기 에어 밸브(150)는 상기 하부 에어 실린더(120)의 동작에 의해 상기 플레이트(130)와 함께 상승하고, 이 상태에서 상기 에어 밸브(150)에 의해 챔버(110)가 밀봉되어 챔버(110) 내의 공간(114)이 진공 상태로 유지될 수 있다. 또한, 이 상태에서 샘플 웨이퍼(140)가 상기 플레이트(130)의 상부에 놓여 지게 된다. 그리고 이후, 상기 에어 밸브(150)가 상기 하부 에어 실린더(120)의 동작에 의해 상기 플레이트(130) 및 샘플 웨이퍼(140)와 함께 하강한다. 상기 챔버(110)의 공간(114) 내부로 하강한 이후, 상기 샘플 웨이퍼(140)는 로더 챔버 및 샘플 챔버로 이송된다.The air valve 150 is located in the middle of the lower air cylinder 120 is fixed. The air valve 150 is raised together with the plate 130 by the operation of the lower air cylinder 120, in this state the chamber 110 is sealed by the air valve 150, the chamber 110 Inner space 114 may be maintained in a vacuum. In addition, in this state, the sample wafer 140 is placed on the upper portion of the plate 130. Then, the air valve 150 is lowered together with the plate 130 and the sample wafer 140 by the operation of the lower air cylinder 120. After descending into the space 114 of the chamber 110, the sample wafer 140 is transferred to the loader chamber and the sample chamber.

상기 진공 펌프(160)는 상기 챔버(110)의 일측 하부에 형성된다. 상기 진공 펌프(160)는 상기 챔버(110)의 공간(114) 내부를 진공 상태로 유지한다. 상기 진공 펌프(160)는 터보 펌프(turbo pump)일 수 있다. 다만, 상기 진공 펌프(160)의 종류로서 본 발명의 내용을 한정하는 것은 아니다. 또한, 상기 진공 펌프(160)는 상기 챔버(110)와 진공 밸브(161)를 통해 연결될 수 있다. 이 경우, 진공 밸브(161)는 진공 펌프(160)의 연결 상태를 온/오프(on/off) 시킬 수 있다.The vacuum pump 160 is formed at one lower side of the chamber 110. The vacuum pump 160 maintains the interior of the space 114 of the chamber 110 in a vacuum state. The vacuum pump 160 may be a turbo pump. However, the content of the present invention is not limited to the type of the vacuum pump 160. In addition, the vacuum pump 160 may be connected through the chamber 110 and the vacuum valve 161. In this case, the vacuum valve 161 may turn on / off a connection state of the vacuum pump 160.

상기 상부 에어 실린더(170)는 상기 챔버(110)의 상부에 위치한다. 상기 상부 에어 실린더(170)는 상기 로더 도어(180)의 높이를 조절하여 상기 로더 도어(180)가 상기 챔버(110)를 개폐할 수 있도록 제어한다. 또한, 상기 상부 에어 실린더(170)는 도면에는 별도로 도시되어 있으나, 상기 하부 에어 실린더(140)와 일체로 형성되어 동작할 수도 있다.The upper air cylinder 170 is located above the chamber 110. The upper air cylinder 170 controls the loader door 180 to open and close the chamber 110 by adjusting the height of the loader door 180. In addition, the upper air cylinder 170 is shown separately in the drawing, but may be formed integrally with the lower air cylinder 140 to operate.

상기 로더 도어(180)는 상기 상부 에어 실린더(170)의 하부에 연결된다. 또 한, 상기 로더 도어(180)는 상기 챔버(110)의 상부에 위치하여, 상기 챔버(110)와 기계적으로 결합되는 동작을 할 수 있다. 즉, 상기 로더 도어(180)는 상기 샘플 웨이퍼 공급구(111)를 밀봉함으로써 상기 챔버(110)를 밀봉하는 역할을 한다.The loader door 180 is connected to a lower portion of the upper air cylinder 170. In addition, the loader door 180 may be positioned above the chamber 110 and may be mechanically coupled to the chamber 110. That is, the loader door 180 seals the chamber 110 by sealing the sample wafer supply port 111.

상기 로더 도어(180)는 하부면에 돌출되어 테를 두르면서 형성되는 에지부(181)를 갖는다. 상기 에지부(181)는 상기 챔버(110)의 돌출부(112)에 상응하는 높이를 갖고 상기 요홈(113)에 대응하여 형성된다. 따라서, 상기 에지부(181)는 상기 챔버(110)의 요홈(113)에 밀착하여 결합될 수 있다. 또한, 상기 에지부(181)가 상기 요홈(113)에 정확하게 정렬되지 않고 결합되는 경우, 상기 에지부(181)가 상기 요홈(113)의 경사면(113a)의 상부를 이동하여 상기 요홈(113)과 정렬하게 된다.The loader door 180 has an edge portion 181 that protrudes from the lower surface and is formed around the frame. The edge portion 181 has a height corresponding to the protrusion 112 of the chamber 110 and is formed to correspond to the groove 113. Thus, the edge portion 181 may be coupled in close contact with the groove 113 of the chamber 110. In addition, when the edge portion 181 is coupled to the groove 113 without being accurately aligned, the edge portion 181 moves the upper portion of the inclined surface 113a of the groove 113 to the groove 113. Will be aligned with.

또한, 상기 에지부(181)는 그 하부에 오링(o-ring)을 구비하지 않을 수 있다. 종래의 주사 전자 현미경에서는 로더 도어가 챔버와 밀착하여 결합하도록 하기 위해서 고무 재질의 오링을 로더 도어의 하부에 부착하여 왔다. 그러나, 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 주사 전자 현미경(100)은 상기 로더 도어(180)가 상기 챔버(110)와 결합하는 경우, 상기 로더 도어(180)의 에지부(181)가 상기 챔버(110)의 요홈(113)에 접하게 된다. 또한, 상기 챔버(110)의 돌출부(112)는 상기 로더 도어(180)의 하면과 접할 수 있다. 따라서, 상기 로더 도어(180)의 에지부(181)에 오링을 구비하지 않더라도, 상기 챔버(110) 및 로더 도어(180)가 밀착하여 결합할 수 있다. 따라서, 상기와 같이 오링을 제거하면 파우더(powder)성 파티클들이 발생하는 것을 방지할 수 있으므로, 주사 전자 현미경의 분석 정확도를 높일 수 있다. 또한, 상기와 같이 하면 오링을 교체해 줄 필요가 없으므로 유지 및 관리 노력을 절감시킬 수 있다.In addition, the edge portion 181 may not have an o-ring below. In conventional scanning electron microscopes, rubber O-rings have been attached to the lower part of the loader door so that the loader door is closely coupled to the chamber. However, referring to FIG. 2, in the scanning electron microscope 100 according to the exemplary embodiment of the present invention, when the loader door 180 is coupled to the chamber 110, an edge portion 181 of the loader door 180 is used. ) Is in contact with the groove 113 of the chamber 110. In addition, the protrusion 112 of the chamber 110 may contact the lower surface of the loader door 180. Therefore, even when the O-ring is not provided at the edge portion 181 of the loader door 180, the chamber 110 and the loader door 180 may be closely coupled to each other. Thus, by removing the O-ring as described above it is possible to prevent the generation of powder particles, it is possible to increase the analysis accuracy of the scanning electron microscope. In addition, since the O-ring does not need to be replaced, maintenance and management efforts can be reduced.

상기와 같이 하여, 본 발명의 실시예에 따른 주사 전자 현미경(100)은 대기중의 파티클이 상기 챔버(110) 내에 유입되는 것을 줄일 수 있고, 따라서 상기 샘플 웨이퍼(140)의 상부에 파티클들이 위치하여 샘플 웨이퍼(140)의 분석시 영향을 미치는 것을 줄일 수 있다. 또한, 본 발명의 실시예에 따른 주사 전자 현미경(100)은 로더 도어(180)의 에지부(181)의 하부에 오링(o-ring)을 사용하지 않음으로써 오링의 파우더(power)성 파티클들이 발생하는 것을 방지하여 분석 정확도를 높일 수 있고, 오링을 교체할 필요가 없으므로 주사 전자 현미경(100)의 유지 및 관리 노력을 절감할 수 있다.As described above, the scanning electron microscope 100 according to the embodiment of the present invention can reduce the introduction of atmospheric particles into the chamber 110, so that the particles are located on top of the sample wafer 140 Therefore, the influence on the analysis of the sample wafer 140 can be reduced. In addition, the scanning electron microscope 100 according to the embodiment of the present invention does not use an o-ring at the lower portion of the edge portion 181 of the loader door 180 is a powder (power) particles of the O-ring It can be prevented from occurring to increase the accuracy of the analysis, it is not necessary to replace the O-ring can reduce the maintenance and management effort of the scanning electron microscope (100).

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 주사 전자 현미경의 구성을 도시한 것이다.1 illustrates a configuration of a scanning electron microscope according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 주사 전자 현미경에 사용되는 챔버와 로더 도어가 결합되는 형상을 도시한 것이다.2 is a view illustrating a shape in which a chamber and a loader door used in a scanning electron microscope according to an exemplary embodiment of the present invention are coupled.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100; 본 발명의 실시예에 따른 주사 전자 현미경100; Scanning electron microscope according to an embodiment of the present invention

110; 챔버 111; 샘플 웨이퍼 공급구110; Chamber 111; Sample Wafer Supply Hole

112; 돌출부 113; 요홈112; Protrusion 113; Groove

113a; 경사면 114; 공간113a; Slope 114; space

120; 하부 에어 실린더 130; 플레이트120; Lower air cylinder 130; plate

140; 샘플 웨이퍼 150; 에어 밸브140; Sample wafer 150; Air valve

160; 진공 펌프 170; 상부 에어 실린더160; Vacuum pump 170; Upper air cylinder

180; 로더 도어 181; 에지부180; Loader door 181; Edge

Claims

A chamber having a sample wafer supply port in a portion of the upper surface and having a space therein;

A lower air cylinder positioned below the chamber;

A plate positioned above the lower air cylinder and supporting a sample wafer;

A vacuum device for maintaining the space in vacuum;

An upper air cylinder positioned above the chamber;

A loader door connected to the upper air cylinder and operating up and down to seal a sample wafer supply port of the chamber,

And the chamber includes a protrusion formed to protrude in a direction perpendicular to the upper surface of the chamber along the periphery of the sample wafer supply port.

The method of claim 1,

The chamber further comprises a groove formed along the periphery of the protrusion.

The method of claim 2,

The groove is a scanning electron microscope, characterized in that it comprises an inclined surface inclined to the bottom surface of the groove on one side.

The method of claim 1,

The loader door includes an edge portion formed along a circumference perpendicular to the lower portion, wherein the edge portion is formed to have a length corresponding to the protrusion of the chamber and is coupled to seal the sample wafer supply port of the chamber. microscope.

The method of claim 4, wherein

And the edge portion does not have an O-ring at the bottom thereof, and the lower surface of the edge portion is coupled to seal the sample wafer supply port of the chamber when the loader door is engaged with the chamber.