KR20090045846A

KR20090045846A - Optotype chart displaying apparatus

Info

Publication number: KR20090045846A
Application number: KR1020080101838A
Authority: KR
Inventors: 유이치로 가나자와; 사토시 이마이즈미
Original assignee: 가부시키가이샤 니데크
Priority date: 2007-11-02
Filing date: 2008-10-17
Publication date: 2009-05-08
Also published as: CN101422355B; JP2009112408A; KR101482797B1; CN101422355A; JP5048457B2

Abstract

마스크 걸침에 의한 검사 시표의 정시시에, 시선 이동의 번거로움과 검사 시표의 기억에 의한 응답을 경감시킨다.At the time of the inspection target due to masking, the trouble of eye movement and the response due to the storage of the inspection target are reduced.

시표 정시 장치는, 시표 광속을 피검안으로 유도하는 도광 광학계로서, 상하 복수 단이고 또한 각 단에 복수의 시표가 그려진 시표 화면을 갖는 시표판과, 시표의 일부를 정시하는 마스크를 갖는 마스크판과, 시표 화면을 광학적으로 소정의 검사 거리에서 정시하는 오목면 미러 및 그 오목면 미러의 광축 상에 경사지게 설치된 빔 스플리터를 갖는 도광 광학계와, 좌우 방향으로 연장되는 회전축을 중심으로 빔 스플리터를 회전시키는 회전 수단과, 마스크 선택 수단에 의해 횡 일렬 마스크의 선택 신호가 입력되었을 때, 횡 일렬 마스크가 걸리는 시표의 배치 정보 및 도광 광학계의 배치 정보에 기초하여, 피검안의 대략 동일 높이의 시선상에 횡 일렬 마스크가 걸리는 시표를 위치시키도록 빔 스플리터를 상하 방향으로 회전시키는 회전 각도 (α) 를 결정하고, 그 결정된 회전 각도 (α) 에 따라 상하 회전 수단의 구동을 제어하는 제어 수단을 구비한다.The target display device is a light guide optical system for guiding a target light flux to an eye to be examined, comprising: a target plate having an upper and lower stages and a target screen on which a plurality of targets are drawn at each stage; a mask plate having a mask for displaying a portion of the target; A light guide optical system having a concave mirror that optically displays the target screen at a predetermined inspection distance and a beam splitter inclined on an optical axis of the concave mirror, and rotation means for rotating the beam splitter about a rotation axis extending in a left and right direction. And when the selection signal of the horizontal line mask is input by the mask selecting means, the horizontal line mask is placed on the line of sight of approximately the same height on the eye based on the arrangement information of the target to which the horizontal line mask is applied and the arrangement information of the light guide optical system. Determine the rotation angle α to rotate the beam splitter in the up and down direction to position the target to be caught. , And control means for controlling the drive of the upper and lower rotating means in accordance with the determined rotation angle (α).

시표 정시 장치 Hourly timing device

Description

Time display device {OPTOTYPE CHART DISPLAYING APPARATUS}

본 발명은, 피검안에 검사 시표를 정시 (呈示) 하는 시표 정시 장치에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to the indication time-definition apparatus which displays the test | inspection target in the test object.

케이싱 내에 배치된 오목면경 및 빔 스플리터 (하프 미러) 를 통하여, 정시창으로부터 검사 시표를 정시하는 공간 절약형의 시표 정시 장치가 알려져 있다 (예를 들어, 일본 공개특허공보 평7-236612호, 일본 공개특허공보 2002-200042호). 이 시표 정시 장치에서는, 소정의 시표 화면이 형성된 시표 디스크판이 회전되어 광로에 검사 시표가 선택적으로 배치됨으로써, 검사 시표가 피검안에 정시된다. 또한, 이런 종류의 시표 정시 장치에서는, 횡 일렬 마스크 등이 형성된 마스크판의 마스크가 광로에 선택적으로 배치됨으로써, 1 개의 시표 화면의 복수 단에 형성된 시표의 일부가 선택적으로 정시 가능하게 되어 있다. 나아가 또한, 이 장치에서는, 빔 스플리터를 상하 방향으로 회전시키는 구동 기구가 설치되고, 피검사자의 눈의 높이에 따라 빔 스플리터가 상하 방향으로 회전됨으로써, 검사 시표가 정시창의 상하 방향의 대략 중앙에 정시된다.BACKGROUND ART A space-saving indicator display device that displays an inspection target from a viewing window through a concave mirror and a beam splitter (half mirror) disposed in a casing is known (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-236612, Japanese Laid-Open Patent Application). Publication 2002-200042). In this target presenting apparatus, an inspection target plate is rotated and an inspection target is selectively arranged on an optical path so that the inspection target is visually examined. Moreover, in this kind of visual display apparatus, the mask of the mask plate in which the horizontal line mask etc. were formed was selectively arrange | positioned in an optical path, and a part of the target formed in the several stage of one target screen can be selectively identified. Furthermore, in this apparatus, a drive mechanism for rotating the beam splitter in the vertical direction is provided, and the inspection target is shown at approximately the center of the vertical window in the vertical direction by rotating the beam splitter in the vertical direction in accordance with the eye height of the examinee. .

일본 공개특허공보 평7-236612호의 기술 사용에 의해, 피검사자의 눈의 높이 가 상이해도, 정시창의 중앙에 검사 시표가 정시되어 적절히 검사를 실시할 수 있게 되었다. 그러나, 1 개의 화면의 시표에 마스크를 걸어 상단 또는 하단의 횡 일렬의 시표가 정시되도록 한 경우, 상단 또는 하단의 시표의 정시 위치는, 피검사자의 시선 위치에 대하여 위 또는 아래로 어긋난 상태에서 정시된다. 상단 또는 하단에 마스크가 걸린 시표 정시의 경우, 피검사자는 시선을 상하로 움직이는 번거로움이 있다. 또한, 상단, 중단, 하단의 정시 위치가 나눠져 있기 때문에, 검사 시표의 배치 위치로부터 검사 시표의 내용을 피검사자가 기억하기 쉽다는 문제가 있었다. 검사 시표의 배치로부터 검사 시표의 내용이 기억되면, 피검사자는 검사 시표의 시인 상태를 기억에 의지하여 응답해 버려, 정확한 검사를 실시할 수 없게 된다. 또한, 종 일렬 마스크의 경우, 1 문자 마스크의 경우에도 동종 (同種) 의 문제가 있다.By the use of the technique of JP-A-7-236612, even if the height of the examinee's eyes is different, the inspection target is indicated at the center of the viewing window, and the inspection can be appropriately performed. However, when the mask on one screen is masked so that the upper or lower horizontal rows of the targets are fixed, the timed position of the upper or lower targets is shown in a state shifted up or down with respect to the examinee's eye position. . In the case of visual visibility with a mask on the top or bottom, the examinee is troublesome to move his gaze up and down. In addition, since the top, middle, and bottom time positions are divided, there is a problem that the examinee easily remembers the contents of the inspection target from the arrangement position of the inspection schedule. When the contents of the inspection target are stored from the arrangement of the inspection schedule, the inspected person responds to the state of the visibility of the inspection target by relying on the memory, and cannot perform accurate inspection. In addition, in the case of the vertical line mask, there is a problem of the same kind even in the case of a single character mask.

본 발명은, 상기 종래 기술의 문제점을 감안하여, 마스크 걸침에 의한 검사 시표의 정시시에 시선 이동의 번거로움을 경감시키고, 또한 검사 시표의 기억에 의한 응답을 경감시킬 수 있는 시표 정시 장치를 제공하는 것을 기술 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION In view of the problems of the prior art, the present invention provides a visual display device capable of reducing the trouble of gaze movement at the time of the inspection target due to mask masking and reducing the response due to the storage of the inspection target. It is technical problem to do.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 이하와 같은 구성을 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to solve the said subject, this invention is equipped with the following structures, It is characterized by the above-mentioned.

(1) 시표 정시 장치는,(1) Time display device,

장치의 케이싱 내에 배치되고, 정시창을 통하여 시표 광속을 피검안으로 유도하는 도광 광학계로서, 상하 복수 단이고 또한 각 단에 복수의 시표가 그려진 시표 화면을 갖는 시표판과, 상기 시표 화면에 그려진 시표의 일부를 선택적으로 정시하는 마스크를 갖는 마스크판과, 상기 시표 화면을 광학적으로 소정의 검사 거리에서 정시하는 오목면 미러 및 그 오목면 미러의 광축 상에 경사지게 설치된 빔 스플리터를 갖고, 상기 빔 스플리터 및 오목면 미러에 의해 시표 광속을 피검안으로 향하게 하는 도광 광학계와,A light guide optical system disposed in a casing of a device and guiding a target light flux to an eye to be examined through a sight window, comprising: a test plate having an upper and lower stage and a target screen on which a plurality of targets are drawn at each stage; and a part of the target drawn on the target screen. A mask plate having a mask for selectively presenting a light source, a concave mirror that optically displays the target screen at a predetermined inspection distance, and a beam splitter inclined on an optical axis of the concave mirror, wherein the beam splitter and the concave surface A light guide optical system that directs the target beam to the eye under a mirror;

상기 오목면 미러의 광축을 통과하여 좌우 방향으로 연장되는 회전축을 중심으로 상기 빔 스플리터를 회전시키는 상하 회전 수단과,Vertical rotation means for rotating the beam splitter about a rotation axis extending in the horizontal direction through the optical axis of the concave mirror;

상기 마스크판이 갖는 마스크의 선택 신호를 입력하는 마스크 선택 수단과,Mask selection means for inputting a selection signal of a mask of the mask plate;

상기 마스크 선택 수단에 의해 횡 일렬 마스크의 선택 신호가 입력되었을 때, 횡 일렬 마스크가 걸리는 시표의 배치 정보에 기초하여, 피검안의 대략 동일 높이의 시선상에 횡 일렬 마스크가 걸리는 시표를 위치시키도록 상기 빔 스플리터를 회전시키는 회전 각도 (α) 를 결정하고, 그 결정된 회전 각도 (α) 에 따라 상기 상하 회전 수단의 구동을 제어하는 제어 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.When the selection signal of the horizontal line mask is input by the said mask selection means, based on the arrangement | positioning information of the target which a horizontal line mask takes, the said target which a horizontal line mask will apply on the eye of about the same height of an eye to be examined may be located. And a control means for determining the rotation angle α for rotating the beam splitter, and for controlling the driving of the vertical rotation means in accordance with the determined rotation angle α.

(2) (1) 의 시표 정시 장치에 있어서,(2) In the visual display device of (1),

상기 제어 수단은, 시표 화면의 중앙에 대한 횡 일렬 마스크가 걸리는 시표의 상하 방향의 거리와, 시표 화면의 광학적인 검사 거리, 피검안에서 상기 빔 스플리터의 회전 중심까지의 거리 및 상기 오목면 미러의 결상 배율에 기초하여 상기 회전 각도 (α) 를 결정하는 것을 특징으로 한다.The control means may include a distance in the vertical direction of the target to which the horizontal line mask is applied to the center of the target screen, an optical inspection distance of the target screen, a distance from the eye to the rotation center of the beam splitter, and an image of the concave mirror. The rotation angle α is determined based on the magnification.

(3) (1) 의 시표 정시 장치는, 추가로,(3) The time display device of (1) further includes:

피검안의 높이를 입력하는 입력 수단을 구비하고,An input means for inputting the height of the eye to be examined,

상기 제어 수단은, 입력된 피검안의 높이에 기초하여 상기 상하 회전 수단의 구동을 제어하여 상기 시표 화면 중앙의 시표 광속을 피검안으로 향하게 한 후, 또한 상기 마스크 선택 수단에 의해 입력되는 횡 일렬 마스크의 선택 신호에 기초하여 상기 회전 각도 (α) 를 결정하고, 상기 상하 회전 수단의 구동을 제어하는 것을 특징으로 한다.The control means controls driving of the vertical rotation means based on the height of the input eye to be directed to the eye beam of the target screen in the center of the target screen, and then selects the horizontal line mask input by the mask selecting means. The rotation angle α is determined based on the signal, and the driving of the vertical rotation means is controlled.

(4) (1) 의 시표 정시 장치는, 추가로,(4) The time display device of (1) further includes:

상하 방향으로 연장되는 축을 중심으로 상기 빔 스플리터를 회전시키는 좌우 회전 수단을 구비하고,A left and right rotation means for rotating the beam splitter about an axis extending in an up and down direction,

상기 제어 수단은, 상기 마스크 선택 수단에 의해 종 일렬 마스크의 선택 신 호가 입력되었을 때, 종 일렬 마스크가 걸리는 시표의 배치 정보에 기초하여, 피검안의 좌우 방향이 대략 동일한 시선상에 종 일렬 마스크가 걸리는 시표를 위치시키도록 상기 빔 스플리터를 좌우 방향으로 회전시키는 회전 각도 (γ) 를 결정하고, 그 결정된 회전 각도 (γ) 에 따라 상기 좌우 회전 수단의 구동을 제어하는 것을 특징으로 한다.When the selection signal of the vertical alignment mask is input by the said mask selection means, the said control means is based on the arrangement | positioning information of the target to which a vertical alignment mask is applied, and a vertical alignment mask is applied on the gaze which is substantially the same in the left-right direction of an eye to be examined. The rotation angle γ for rotating the beam splitter in the left and right directions so as to position the target is determined, and the driving of the left and right rotation means is controlled in accordance with the determined rotation angle γ.

(5) (4) 의 시표 정시 장치에 있어서,(5) In the visual presentation device of (4),

상기 제어 수단은, 상기 마스크 선택 수단에 의해 1 문자 마스크의 선택 신호가 입력되었을 때, 1 문자 마스크가 걸리는 시표의 배치 정보에 기초하여, 높이 방향 및 좌우 방향이 모두 대략 동일한 피검안의 시선상에 1 문자 마스크가 걸리는 시표를 위치시키도록 상기 빔 스플리터를 회전시키는 상하 방향의 회전 각도 (α) 및 좌우 방향의 회전 각도 (γ) 를 결정하고, 그 결정된 회전 각도 (α) 및 회전 각도 (γ) 에 따라 상기 상하 회전 수단 및 좌우 회전 수단을 제어하는 것을 특징으로 한다.When the selection signal of one character mask is input by the said mask selection means, the said control means is based on the eye of the eye which the height direction and the left-right direction are all substantially the same based on the arrangement | positioning information of the target which one character mask takes. Determine the up and down rotation angle α and the left and right rotation angle γ that rotate the beam splitter so as to position the target on which the character mask is placed, and to the determined rotation angle α and the rotation angle γ Therefore, the vertical rotation means and the left and right rotation means for controlling.

본 발명에 의하면, 마스크 걸침에 의한 검사 시표의 정시시에, 시선 이동의 번거로움을 경감시키고, 또한 검사 시표의 기억에 의한 응답을 경감시킬 수 있다.According to the present invention, it is possible to reduce the trouble of gaze movement at the time of the inspection target due to masking and to reduce the response due to the storage of the inspection target.

이하, 본 발명의 실시형태를 도면에 기초하여 설명한다. 도 1 은 본 발명에 관련된 시표 정시 장치의 개관 개략도이다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described based on drawing. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is an overview schematic diagram of the time-finding apparatus which concerns on this invention.

장치 본체 (1) 가 갖는 케이싱 (1a) 의 정면에는 반사 방지막이 부착된 아크 릴판으로 이루어지는 정시창 (2) 이 배치되고, 피검사자는 이 정시창 (2) 을 통하여 케이싱 내의 시표를 볼 수 있다. 케이싱 (1a) 의 내부는 흑색으로 도장되어 내부 구조가 잘 안 보이게 되어 있다. 케이싱 (1a) 의 정면에는, 후술하는 와이어리스의 리모콘 (40) 에 대한 광 신호의 송수신을 실시하는 송수신부 (4) 가 배치되어 있다.In the front of the casing 1a which the apparatus main body 1 has, the sight window 2 which consists of an acryl plate with an anti-reflective film is arrange | positioned, and the examinee can see the visual mark in a casing through this sight window 2. The inside of the casing 1a is painted black so that the internal structure is hardly seen. In front of the casing 1a, a transmission / reception unit 4 for transmitting and receiving an optical signal to and from the wireless remote controller 40 described later is disposed.

다음으로, 케이싱 (1a) 의 내부에 배치되는 도광 광학계를 도 2, 도 3 에 기초하여 설명한다. 도 2 는 케이싱 (1a) 의 우측면에서 봤을 때의 투시 개략도, 도 3 은 정면에서 봤을 때의 투시 개략도이다.Next, the light guide optical system arrange | positioned inside the casing 1a is demonstrated based on FIG. 2, FIG. FIG. 2 is a perspective schematic view from the right side of the casing 1a, and FIG. 3 is a perspective schematic view from the front.

유리판으로 이루어지는 원반상의 시표 디스크판 (20) 의 동일 원주 상에는 시력값 시표 등의 다수의 검사 시표가 크롬 증착 등에 의해 형성되어 있다. 시표 디스크판 (20) 은 모터 (21) 에 의해 회전되어, 피검안 (E) 에 정시하는 시표가 검사 광로에 전환 배치된다. 정시 시표의 일부를 마스크하기 위한 마스크판 (22) 은, 모터 (23) 에 의해 회전된다.On the same circumference of the disk-shaped target disk plate 20 made of a glass plate, many inspection targets such as visual acuity value targets are formed by chromium vapor deposition or the like. The target disk plate 20 is rotated by the motor 21, and the target specified in the eye to be examined E is switched to the inspection optical path. The mask plate 22 for masking a part of the time schedule is rotated by the motor 23.

또한, 케이싱 (1a) 의 내부에는 검사 시표를 조명하는 조명 광원 (24), 미러 (25), 빔 스플리터 (26), 오목면경 (27) 을 갖는 도광 광학계가 배치되어 있다. 본 형태에서의 오목면경 (27) 은, 피검안 (E) 과 케이싱 (1a) 의 정시창 (2) 의 거리가 1.1m 일 때, 시표와 피검안 (E) 의 광학 거리를 5m 의 검사 거리로 하도록 그 초점 거리가 설계되어 있다. 또한, 피검안 (E) 과 케이싱 (1a) 의 정시창 (2) 의 거리는 제품의 사양에 맞춰 예를 들어 0.9m 로 해도 된다.Moreover, the light guide optical system which has the illumination light source 24, the mirror 25, the beam splitter 26, and the concave mirror 27 which illuminates an inspection target is arrange | positioned inside the casing 1a. In the concave mirror 27 in this embodiment, when the distance between the eye E and the visual window 2 of the casing 1a is 1.1 m, the optical distance between the target and the eye E is set to an inspection distance of 5 m. The focal length is designed to be. In addition, the distance between the eye E and the visual window 2 of the casing 1a may be 0.9 m, for example, in accordance with the specification of the product.

조명 광원 (24) 에 의해 조명된 검사 시표의 광속은, 미러 (25) 에 의해 상 방으로 반사되어 빔 스플리터 (26) 를 투과한 후, 오목면경 (27) 에서 반사된다. 오목면경 (27) 에서 반사된 시표 광속은 빔 스플리터 (26) 에서 반사되고, 정시창 (2) 을 통하여 피검안 (E) 으로 향한다.The light beam of the inspection target illuminated by the illumination light source 24 is reflected upward by the mirror 25 and transmitted through the beam splitter 26, and then reflected by the concave mirror 27. The target light beam reflected by the concave mirror 27 is reflected by the beam splitter 26 and is directed to the eye to be examined E through the viewing window 2.

빔 스플리터 (26) 는 오목면경 (27) 의 광축 (L01) 상에 경사지게 설치되고, 광축 (L01) 상에서 수평 방향으로 연장되는 회전축 (28) 을 중심으로 하여, 상하 회전 모터 (29) 에 의해 상하 방향으로 회전된다. 빔 스플리터 (26) 가 상하 방향으로 회전됨으로써, 빔 스플리터 (26) 에서 반사된 시표 광속이 향하는 높이가, 피검안 (E) 의 높이 차이에 따라 바뀐다. 또한, 빔 스플리터 (26) 는, 마스크판 (22) 에 의해 마스크가 걸리는 검사 시표의 상하 위치에 따라 그 회전 각도가 바뀐다. 빔 스플리터 (26) 의 하방에는, 수직 방향 (상하 방향) 으로 연장되는 광축 (L01) 의 축 둘레에 회전 가능하게 회전판 (37) 이 배치되어 있다. 회전판 (37) 의 중앙부는, 미러 (25) 에 의해 반사되는 시표 광속을 통과하는 공간이 형성되어 있다. 회전판 (37) 의 주변에 세워진 2 개의 지주 (36) 에 의해 회전축 (28) 이 회전 가능하게 유지되어 있다. 회전판 (37) 의 외부 둘레에는 기어가 형성되고, 이 기어가 모터 (39) 의 회전축에 장착된 기어 (38) 와 맞물려져 있다. 이 구성에 의해, 모터 (39) 를 회전시키면 광축 (L01) 을 중심으로 하여 빔 스플리터 (26) 가 좌우 방향으로 회전된다. 이로써, 빔 스플리터 (26) 에서 반사된 시표 광속이 향하는 좌우 방향이 바뀐다. 빔 스플리터 (26) 의 좌우 방향의 회전 각도는, 마스크판 (22) 에 의해 마스크가 걸리는 검사 시표의 좌우 위치에 따라 바뀐다.The beam splitter 26 is installed inclined on the optical axis L01 of the concave mirror 27 and is vertically moved by the vertical rotation motor 29 about the rotation axis 28 extending in the horizontal direction on the optical axis L01. Rotate in the direction. As the beam splitter 26 is rotated in the vertical direction, the height of the target light beam reflected by the beam splitter 26 changes according to the height difference of the eye E. In addition, the rotation angle of the beam splitter 26 changes with the up-and-down position of the test | inspection target which a mask is caught by the mask plate 22. FIG. Below the beam splitter 26, the rotating plate 37 is rotatably arranged around the axis of the optical axis L01 extending in the vertical direction (up and down direction). The center part of the rotating plate 37 is provided with the space which passes through the target light beam reflected by the mirror 25. As shown in FIG. The rotary shaft 28 is rotatably held by the two props 36 standing around the rotary plate 37. Gears are formed on the outer circumference of the rotating plate 37, and the gears are meshed with the gears 38 mounted on the rotating shaft of the motor 39. With this configuration, when the motor 39 is rotated, the beam splitter 26 is rotated in the horizontal direction about the optical axis L01. Thereby, the left-right direction to which the target light beam reflected by the beam splitter 26 turns is changed. The rotation angle of the beam splitter 26 in the left-right direction changes with the left-right position of the test | inspection target which a mask is caught by the mask plate 22. FIG.

도 2 에 있어서, 빔 스플리터 (26) 의 후방에는 피검안의 높이 위치를 검출하기 위한 검출 광학계 (30) 가 배치되어 있다. 검출 광학계 (30) 는 집광 렌즈 (31), 2 차원의 위치 검출 소자 (32) 를 구비한다.In FIG. 2, a detection optical system 30 for detecting the height position of the eye to be examined is arranged behind the beam splitter 26. The detection optical system 30 includes a condenser lens 31 and a two-dimensional position detection element 32.

도 4 는 시표 디스크판 (20), 마스크판 (22) 의 상세함을 나타낸 도면이다. 도 4a 의 시표 디스크판 (20) 상에는 각종 시력값을 갖는 랜돌트 고리 시력 시표, 히라가나 시력 시표, 레드·그린 검사, 양안 (兩眼) 밸런스 시표 등이 그려진 복수의 시표 화면 (50) 이 동일 원주 상에 형성되어 있다. 각 시표 화면 (50) 은, 시표 디스크판 (20) 의 회전축 (53) 을 중심으로 회전되어, 조명 광원 (24) 의 시표 광로에 선택적으로 전환 배치됨으로써, 정시창 (2) 으로부터 케이싱 (1a) 내에 1 개의 화면으로서 정시된다.4 shows the details of the target disk plate 20 and the mask plate 22. On the target disk plate 20 of FIG. 4A, a plurality of target screens 50 on which a Randol loop sight target, Hiragana vision sight, a red-green test, a binocular balance target, and the like having various visual acuity values are drawn are the same. It is formed on the phase. Each target screen 50 is rotated about the rotating shaft 53 of the target disk board 20, and selectively switches and arrange | positions to the target optical path of the illumination light source 24, and is located in the casing 1a from the viewing window 2 It is shown as one screen.

시력 시표 검사 시표 중에는, 1 개의 시표 화면 (50) 에 횡 3 열 × 종 5 열과 같이, 복수의 시표가 형성된 문자 밀집화 시표가 준비되어 있다. 문자 밀집화 시표에서는, 마스크판 (22) 에 형성된 마스크 중 하나를 전환 배치함으로써, 문자 밀집화 시표에 그려진 시표의 일부만을 정시창 (2) 내에 정시할 수 있다.In the visual acuity test | inspection test | inspection table | surface, the character dense target in which several targets were formed like three columns x 5 columns of columns in one target screen 50 is prepared. In the character dense target, only a part of the target drawn on the character dense target can be displayed in the viewing window 2 by switching one of the masks formed on the mask plate 22.

도 4b 의 마스크판 (22) 을 나타내는 도면에 있어서, 회전축 (67) 을 중심으로 하여 방사상으로 연장되는 일점 쇄선 (67a) 은 시표 화면 (50) 상하 방향의 중심을 나타내고 있다. 또한, 도면에 있어서, 동일 반경의 원호 상에 그려진 일점 쇄선 (67b) 은 시표 화면 (50) 횡 방향의 중심을 나타내고 있다. 마스크판 (22) 에는, 마스크를 걸지 않고 시표면 전체를 정시시키기 위한 개구부 (60) 와, 문자 밀집화 시표 화면에 있어서, 상단, 중단, 하단 위치의 시표를 정시시키기 위 한 횡 일렬 마스크 (61) (상단 횡 일렬 마스크 (61a), 중단 횡 일렬 마스크 (61b), 하단 횡 일렬 마스크 (61c)) 와, 종 방향 위치의 시표를 정시시키기 위한 종 일렬 마스크 (62) (좌단 종 일렬 마스크 (62a), 중앙 종 일렬 마스크 (62b), 우단 종 일렬 마스크 (62c)) 와, 시표를 1 문자마다 개별적으로 정시시키기 위한 1 문자 마스크 (63, 64, 65) 가 형성되어 있다. 1 문자 마스크 (63) 는 횡 일렬로 2 개 배열된 시표를 개별적으로 정시하는 마스크를 갖고, 1 문자 마스크 (64) 는 횡 일렬로 3 개 배열된 시표를 개별적으로 정시하는 마스크를 가지며, 1 문자 마스크 (65) 는 횡 3 열 × 종 5 열로 배열된 시표를 개별적으로 정시하는 마스크를 가진다.In the figure which shows the mask plate 22 of FIG. 4B, the dashed-dotted line 67a extended radially centering on the rotating shaft 67 has shown the center of the up-down direction of the target screen 50. As shown in FIG. In addition, in the figure, the dashed-dotted line 67b drawn on the circular arc of the same radius has shown the center of the horizontal direction of the target screen 50. As shown in FIG. The mask plate 22 includes an opening 60 for visualizing the entire visual surface without applying a mask, and a horizontal line mask 61 for visualizing the upper, middle, and lower positions on the character density screen. (Upper horizontal line mask 61a, interrupted horizontal line mask 61b, lower horizontal line mask 61c), and vertical line mask 62 (left-ended vertical line mask 62a for visualizing the position of the longitudinal position) ), The central vertical row mask 62b and the right vertical row mask 62c), and the single character masks 63, 64, and 65 for individually displaying the target for each character are formed. The one-character mask 63 has a mask for individually specifying two targets arranged in a horizontal line, and the one-character mask 64 has a mask for individually specifying three targets arranged in a horizontal line, and one character. The mask 65 has a mask which individually displays a target arranged in three rows by five columns.

시표 디스크 (20) 및 마스크판 (22) 에 의해 정시하는 시표는 리모콘 (40) 에 의해 선택된다. 도 5 에 리모콘 (40) 의 외관과 시표 정시 장치 전체의 제어 블록도를 나타낸다. 리모콘 (40) 은, 시표 화면을 선택하는 스위치 (42) 와, 1 문자/횡 일렬 마스크를 전환시키는 스위치 (43) 와, 문자 밀집화 시표의 정시 중에 횡 일렬 마스크를 선택하는 스위치 (47a, 47b) (이미 마스크가 걸려 있을 때에는, 마스크를 상하로 이동시킬 때에 사용하는 스위치) 와, 문자 밀집화 시표의 정시 중에 종 일렬 마스크를 선택하는 스위치 (47c, 47d) (이미 마스크가 걸려 있을 때에는, 마스크를 좌우로 이동시킬 때에 사용하는 스위치) 와, 빔 스플리터 (26) 를 상하로 회전시켜 정시창 (2) 을 통하여 보게 하는 시표 정시 화면을 상하로 이동시키기 위한 스위치 (44) 와, 시표 정시 위치를 자동적으로 설정할 때에 사용하는 스위치 (45) 를 구비한다. 또한, 리모콘 (40) 은 정시 시표 및 조작 정보 등을 표시하는 액정 디스플레이 (46) 를 표면에 구비한다. 리모콘 (40) 의 측면 전부 (前部) 에는 장치 본체 (1) 를 제어하기 위한 신호의 송신 및 장치 본체로부터의 신호를 수신하는 통신창 (40a) 이 설치되어 있다.The target specified by the target disk 20 and the mask plate 22 is selected by the remote controller 40. 5 shows an external appearance of the remote controller 40 and a control block diagram of the entire visual display device. The remote control 40 includes a switch 42 for selecting the timeline screen, a switch 43 for switching one character / horizontal line mask, and a switch 47a, 47b for selecting the horizontal line mask during the on-time display of the character density target. ) (Switch used to move the mask up and down when the mask is already applied) and switches 47c and 47d for selecting the vertical mask during the on-time display of the character density table. Switch used to move left and right), a switch 44 for moving the beam splitter 26 up and down to move the visual viewing screen to view through the viewing window 2, and the visual viewing position automatically. The switch 45 used at the time of setting is provided. In addition, the remote control 40 includes a liquid crystal display 46 on the surface that displays a time schedule, operation information, and the like. The front side of the remote controller 40 is provided with a communication window 40a for transmitting a signal for controlling the apparatus main body 1 and for receiving a signal from the apparatus main body.

리모콘 (40) 의 스위치 신호는 통신창 (40a) 에서 장치 본체 (1) 측으로 송신되고, 송수신부 (4) 에서 수신된 신호는 제어부 (10) 로 보내진다. 제어부 (10) 는, 송수신부 (4) 를 통하여 입력된 신호에 기초하여, 선택된 시표 화면 (50) 및 선택된 마스크를 광로 중에 세트하기 위해 모터 (21, 23) 를 구동시킨다. 또한, 검사자가 리모콘 (40) 을 피검안 근방의 높이 위치에 맞추고 스위치 (45) 를 누르면, 통신창 (40a) 으로부터 시표 높이를 맞추기 위한 소정 파장의 적외광이 발광되고, 그 광은 검출 광학계 (30) 가 갖는 위치 검출 소자 (32) 에 검출된다. 제어부 (10) 는 위치 검출 소자 (32) 의 출력에 기초하여 모터 (29) 를 회전시켜, 시표 광속 (시표 화면의 중심 광속) 이 리모콘 (40) 이 위치하는 눈의 높이 위치로 향하도록, 빔 스플리터 (26) 의 상하 회전 (상하 방향의 경사) 의 구동을 제어한다. 또한, 빔 스플리터 (26) 의 상하 회전은 수동 스위치 (44) 에 의해서도 구동시킬 수 있다.The switch signal of the remote control unit 40 is transmitted from the communication window 40a to the apparatus main body 1 side, and the signal received from the transmission / reception unit 4 is sent to the control unit 10. The control unit 10 drives the motors 21 and 23 to set the selected target screen 50 and the selected mask in the optical path based on the signal input through the transmission / reception unit 4. In addition, when the inspector sets the remote controller 40 to the height position near the eye to be examined and presses the switch 45, infrared light of a predetermined wavelength is emitted from the communication window 40a to adjust the target height, and the light is detected by the detection optical system ( It is detected by the position detection element 32 which 30 has. The control unit 10 rotates the motor 29 based on the output of the position detecting element 32 so that the target beam (center beam of the target screen) is directed to the height position of the eye where the remote control 40 is located. The driving of the vertical rotation (incline in the vertical direction) of the splitter 26 is controlled. In addition, the vertical rotation of the beam splitter 26 can also be driven by the manual switch 44.

다음으로, 횡 일렬 마스크에 의한 검사 시표의 정시시에, 피검사자가 시선을 이동시키지 않고 검사 시표를 시인시키기 위한 방법을 도 6, 도 7 에 기초하여 설명한다. 도 6 은, 횡 일렬 마스크가 하단에 걸렸을 때에 상하 방향의 중앙에 횡 일렬의 시표를 정시하기 위한 빔 스플리터 (26) 의 회전 구동을 설명하는 도면으로, 광학계를 측방에서 본 도면이다. 또한, 도 6 에 있어서는, 빔 스플리터 (26) 의 상방에 위치하는 오목면경 (27) 의 광축 (L01) 과, 시표 디스크판 (20) 의 시표 화면 (50) 및 마스크판 (22) 의 각 마스크의 중심을 통과하는 광이 일치하도록 모식적으로 그려져 있다.Next, a method for visually inspecting an inspection target without moving the line of sight at the time of checking the inspection target by the horizontal line mask will be described based on FIGS. 6 and 7. FIG. 6: is a figure explaining the rotational drive of the beam splitter 26 for identifying the horizontal line of sight in the center of an up-down direction when the horizontal line mask is caught by the lower end, and is a figure which looked at the optical system from the side. In addition, in FIG. 6, the optical axis L01 of the concave mirror 27 located above the beam splitter 26, the target screen 50 of the target disk plate 20, and each mask of the mask plate 22 are shown. The light passing through the center of is schematically drawn to coincide.

횡 일렬 마스크에 의한 검사 시표의 정시시에, 피검사자가 시선을 이동시키지 않고 검사 시표를 시인시키기 위해서는, 회전축 (28) 을 중심으로 하여 빔 스플리터 (26) 를 상하 방향으로 회전시킨다. 이 때의 빔 스플리터 (26) 의 회전 각도는, 횡 일렬의 마스크가 걸리는 시표의 배치 정보와 도광 광학계의 설치 정보에 기초하여 결정된다. 도광 광학계의 설치 정보로는, 피검안 (E) 에서 빔 스플리터 (26) 의 회전축 (28) 중심까지의 거리 (L1) 와, 검사 거리 (L2) 를 포함한다. 검사 거리 (L2) 는, 빔 스플리터 (26) 및 오목면경 (27) 등에 의해 정시되는 허상의 시표 화면 (150) 과 피검안 (E) 의 거리가 된다. 예를 들어, 설치 거리 (L1) 는 약 1.24m, 검사 거리 (L2) 는 5m 이다.At the time of the inspection target by the horizontal line mask, the inspector rotates the beam splitter 26 in the vertical direction about the rotation axis 28 so as to visually inspect the inspection target without moving the line of sight. The rotation angle of the beam splitter 26 at this time is determined based on the arrangement | positioning information of the target which a mask of a horizontal row is applied, and the installation information of a light guide optical system. The installation information of the light guide optical system includes the distance L1 from the eye E to the center of the rotation axis 28 of the beam splitter 26 and the inspection distance L2. The inspection distance L2 is a distance between the virtual image screen 150 and the eye to be examined E as defined by the beam splitter 26, the concave mirror 27, and the like. For example, the installation distance L1 is about 1.24 m and the inspection distance L2 is 5 m.

횡 일렬의 마스크가 걸리는 시표의 배치 정보의 예로서, 도 7a 에 나타내는 횡 3 열 × 종 5 열의 문자 밀집화 시표의 시표 화면 (50) 을 설명한다. 이 예에 있어서, 상단, 중단 및 하단의 시표를 개별적으로 정시할 때에는, 마스크판 (22) 중의 횡 일렬 마스크 (61a, 61b 및 61c) 가 각각 겹쳐진다. 상단 및 하단의 시표 중심은, 중단의 시표 중심에 대하여 각각 거리 h1 로 배치되어 있다. 도 7b 는, 오목면경 (27), 빔 스플리터 (26) 등에 의해 검사 거리 5m 의 위치에 정시되는 허상의 시표 화면 (150) 으로, 횡 일렬 마스크 (61a, 61b, 61c) 에 대응하는 허상의 횡 일렬 마스크 (161a, 161b, 161c) 가 각각 시표 화면 (150) 의 시표에 선택적으로 겹쳐진다. 이 때, 상단 및 하단의 시표 (마스크 (161a, 161c)) 중 심은, 중단의 시표 (마스크 (161b)) 중심에 대하여 각각 거리 h2 가 되는 것으로 한다.As an example of the arrangement information of the targets to which the masks of a horizontal line apply, the target screen 50 of the character dense target of 3 columns x 5 columns of columns shown to FIG. 7A is demonstrated. In this example, the horizontal line masks 61a, 61b, and 61c in the mask plate 22 overlap each other when the targets at the top, middle, and bottom ends are individually shown. The target centers of the upper and lower stages are arranged at a distance h1 with respect to the target center of the suspension. FIG. 7B is a virtual image screen 150 shown at a position of an inspection distance of 5 m by the concave mirror 27, the beam splitter 26, and the like, and the horizontal image of the virtual image corresponding to the horizontal line masks 61a, 61b, 61c. The line mask 161a, 161b, 161c selectively overlaps with the target of the schedule screen 150, respectively. At this time, the centers of the upper and lower targets (masks 161a and 161c) are assumed to be a distance h2 with respect to the center of the target of interruption (masks 161b).

허상의 결상 배율을 β 라고 하면, 시표 화면 (50) 의 거리 (h1) 와 허상의 시표 화면 (150) 의 거리 (h2) 에는 이하의 관계가 있다.If the imaging magnification of the virtual image is β, the following relationship exists between the distance h1 of the target screen 50 and the distance h2 of the target screen 150.

h2 = h1 × βh2 = h1 × β

또한, 허상의 결상 배율 (β) 은, 장치 내부의 광학계에 의해 설계적으로 이미 알려진 값이며, 예를 들어 β = 10.3 이다. 또한, 거리 h1 은 시표의 구성에 의하여 정해져 있으며, 횡 2 열 × 종 2 열의 시표에서는 약 9.4㎜, 횡 3 열 × 종 5 열의 시표에서는 5.9㎜ 일 때, 허상의 시표 화면 상에서의 거리 h2 는 각각 약 96.8㎜, 약 60.8㎜ 가 된다.In addition, the imaging magnification (beta) of a virtual image is a value already known by design by the optical system inside an apparatus, for example (beta) = 10.3. In addition, the distance h1 is determined by the structure of the target, and the distance h2 on the virtual image screen is about 9.4 mm in the horizontal, vertical, and vertical columns of 9.4 mm and the horizontal, vertical, and vertical columns of 5.9 mm, respectively. It is about 96.8 mm and about 60.8 mm.

여기서, 시표 화면 (50) 의 중심 광속이 피검안 (E) 의 높이에 맞도록 빔 스플리터 (26) 의 회전 각도가 설정되어 있는 것으로 한다. 이 경우, 시표 화면 (50) 중단의 시표에 횡 일렬 마스크 (61b) 가 걸리면, 피검안 (E) 은 정시창 (2) 을 통하여 시축 (A) 상에 중단의 시표를 볼 수 있다. 한편, 도 6 과 같이 하단의 시표에 횡 일렬 마스크 (61c) 를 건 경우, 빔 스플리터 (26) 를 화살표 (F) 방향으로 회전시킴으로써, 횡 일렬 마스크 (61c) 가 걸린 하단의 시표를 피검안 (E) 의 시축 (A) 상에 정시할 수 있다. 이 때의 빔 스플리터 (26) 의 회전 각도를 α 라고 하면, 회전 각도 (α), 설치 거리 (L1) 및 검사 거리 (L2) 사이에는 다음의 관계가 성립된다.Here, suppose that the rotation angle of the beam splitter 26 is set so that the center luminous flux of the target screen 50 may match the height of the eye to be examined E. As shown in FIG. In this case, when the horizontal line mask 61b is caught by the target of the interruption of the target screen 50, the eye to be examined E can see the target of the interruption on the visual axis A through the viewing window 2. On the other hand, when the horizontal line mask 61c is applied to the lower mark as shown in FIG. 6, the lower mark on which the horizontal line mask 61c is fastened is rotated by rotating the beam splitter 26 in the direction of the arrow F. It can be shown on the visual axis A of E). If the rotation angle of the beam splitter 26 at this time is alpha, the following relationship is established between the rotation angle alpha, the installation distance L1, and the inspection distance L2.

h2 = (L2 - L1)tan2αh2 = (L2-L1) tan2α

이 식에 의해 회전 각도 (α) 가 결정된다. 또한, 설치 거리 (L1) 및 검사 거리 (L2) 는 설계적으로 이미 알려진 값이며, 거리 h2 는 전술한 바와 같이 허상의 결상 배율 (β) 과 실제의 시표 거리 (h1) 에 의해 구해진다.The rotation angle α is determined by this equation. In addition, the installation distance L1 and the inspection distance L2 are the values already known by design, and distance h2 is calculated | required by the virtual image forming magnification (beta) and actual target distance h1 as mentioned above.

또한, 상단의 시표에 횡 일렬 마스크 (61a) 를 건 경우, 빔 스플리터 (26) 를 화살표 (F) 방향과는 역방향으로 회전시킴으로써, 그 시표를 시축 (A) 상으로 이동시킬 수 있다. 이 경우의 빔 스플리터 (26) 의 회전 각도 (α) 도 상기와 동일하게 결정된다.In addition, when the horizontal line mask 61a is applied to the target at the upper end, the target can be moved on the viewing axis A by rotating the beam splitter 26 in the opposite direction to the arrow F direction. The rotation angle α of the beam splitter 26 in this case is also determined in the same manner as above.

또한, 허상의 시표 화면 (150) 은 빔 스플리터 (26) 의 회전축 (28) 을 중심으로 회전되기 때문에, 시축 (A) 상의 검사 거리 (L2) 는 빔 스플리터 (26) 의 회전 전후에서 다소 상이한데, 그 차이는 근소하여 실용상의 문제는 없다.In addition, since the virtual image screen 150 is rotated about the rotation axis 28 of the beam splitter 26, the inspection distance L2 on the time axis A is somewhat different before and after the rotation of the beam splitter 26. The difference is small and there is no practical problem.

상기는 횡 일렬 마스크 (또는 1 문자 마스크) 를 걸었을 때의 상하 방향의 어긋남을 보정하는 방법인데, 바람직하게는 종 일렬 마스크 (또는 1 문자 마스크) 를 걸었을 때에도 좌우 방향의 어긋남을 보정하도록 빔 스플리터 (26) 를 회전 구동시킨다. 이 경우, 시표 광속의 중심을 통과하여 상하 방향으로 연장되는 광축 (L01) 을 중심으로 한 축 둘레에 빔 스플리터 (26) 를 회전시킨다. 이 때의 빔 스플리터 (26) 의 회전 각도는, 종 일렬의 마스크가 걸리는 시표의 배치 정보와 도광 광학계의 설치 정보에 기초하여 결정된다.The above method is a method for correcting the vertical shift when the horizontal line mask (or 1 character mask) is applied. Preferably, the beam is corrected even when the vertical mask (or 1 character mask) is applied. The splitter 26 is driven to rotate. In this case, the beam splitter 26 is rotated around the axis about the optical axis L01 extending in the vertical direction through the center of the target beam. The rotation angle of the beam splitter 26 at this time is determined based on the arrangement information of the target to which a mask of a vertical line is applied, and the installation information of a light guide optical system.

도 8 은, 중앙에서 벗어난 종 일렬 마스크가 걸렸을 때, 좌우의 중앙에 종 일렬의 시표를 정시하기 위한 빔 스플리터 (26) 의 회전 구동을 설명하는 도면으로, 광학계를 위에서 본 도면이다. 또한, 종 일렬의 마스크가 걸리는 시표의 배치 정보의 예로서, 도 9a 를 사용하여 횡 3 열 × 종 5 열의 문자 밀집화 시표의 시표 화면 (50) 을 설명한다. 이 도면에 있어서, 좌단, 중앙열 및 우단의 시표열을 개별적으로 정시할 때, 마스크판 (22) 중의 종 일렬 마스크 (62a, 62b 및 62c) 가 각각 겹쳐진다. 좌단 및 우단의 시표열은, 중앙열의 시표 중심에 대하여 각각 거리 h3 으로 배치되어 있다. 도 9b 는, 검사 거리 5m 의 위치에 정시되는 허상의 시표 화면 (150) 으로, 종 일렬 마스크 (62a, 62b 및 62c) 에 대응하는 허상의 종 일렬 마스크 (162a, 162b, 162c) 가 각각 시표 화면 (150) 의 시표에 선택적으로 겹쳐진다. 이 때, 종 일렬 마스크 (162a 및 162c) 로 정시되는 시표 중심은 종 일렬 마스크 (162b) 에 의해 정시되는 시표 중심에 대하여 각각 거리 h4 로 된다. 거리 h4 는, 거리 h3 에 결상 배율 (β) 을 곱함으로써 구해진다.FIG. 8 is a view for explaining the rotational drive of the beam splitter 26 for defining the longitudinal column marks at the center of the left and right when the longitudinal alignment mask is removed from the center, and the optical system is viewed from above. In addition, as an example of the arrangement information of the targets to which the masks of a vertical row are applied, the target screen 50 of the character dense target of three horizontal columns x 5 vertical columns is demonstrated using FIG. 9A. In this figure, when arranging the time series of the left end, the center row, and the right end separately, the vertical row masks 62a, 62b, and 62c in the mask plate 22 are respectively superimposed. The target columns of the left end and the right end are arranged at a distance h3 with respect to the target centers of the central column, respectively. FIG. 9B is a virtual image display screen 150 shown at a position of an inspection distance of 5 m. The virtual image vertical masks 162a, 162b, and 162c corresponding to the vertical masks 62a, 62b, and 62c are respectively displayed on the target screen. It is optionally superimposed on the target of 150. At this time, the target center defined by the vertical masks 162a and 162c becomes a distance h4 with respect to the target center defined by the vertical mask 162b, respectively. The distance h4 is obtained by multiplying the distance h3 by the imaging magnification β.

그리고, 좌단의 시표열에 종 일렬 마스크 (62a) 를 건 경우, 도 8 과 같이, 빔 스플리터 (26) 를 화살표 (R) 방향 (피검사자에서 봤을 때 우 방향) 으로 회전 각도 (γ) 만큼 회전시킴으로써, 종 일렬 마스크 (62a) 가 걸린 좌단의 시표를 시축 (A) 상으로 이동시킬 수 있다. 피검안 (E) 에서 빔 스플리터 (26) 의 회전 중심인 광축 (L01) 까지의 거리를 L1 이라고 하고, 또한 검사 거리를 L2 라고 하면, 회전 각도 (γ) 는 이하의 식으로 구해진다.And when the vertical row | line | column mask 62a is applied to the left column | stage time series, as shown in FIG. 8, by rotating the beam splitter 26 by the rotation angle (gamma) in the arrow R direction (right direction seen from the examinee), The left end target on which the vertical alignment mask 62a is applied can be moved on the visual axis A. FIG. If the distance from the eye E to the optical axis L01, which is the rotation center of the beam splitter 26, is referred to as L1 and the inspection distance is referred to as L2, the rotation angle γ is obtained by the following equation.

h4 = (L2 - L1)tanγh4 = (L2-L1) tanγ

또한, 우단의 시표열에 종 일렬 마스크 (62c) 를 건 경우에는, 빔 스플리터 (26) 를 화살표 (R) 방향과는 역방향 (피검사자에서 봤을 때 좌 방향) 으로 회전 각도 (γ) 만큼 회전시킴으로써, 종 일렬 마스크 (62c) 가 걸린 우단의 시표를 시축 (A) 상으로 이동시킬 수 있다.In addition, in the case where the vertical row mask 62c is applied to the right end time sequence, the beam splitter 26 is rotated by the rotational angle γ in the direction opposite to the direction of the arrow R (left direction when viewed from the examinee). The right end target on which the one-line mask 62c is applied can be moved on the visual axis A. FIG.

다음으로, 이상과 같은 구성을 갖는 장치를 사용한 검사 동작에 대해 설명한다. 먼저, 피검사자를 케이싱 (1a) 의 정시창으로부터 1.1m 의 소정 위치에 위치시킴으로써, 검사 거리가 소정 거리 (5m) 로 설정된다. 다음으로, 피검안 (E) 의 높이 위치를 입력하기 위해, 검사자가 피검안 (E) 의 눈 근방에 리모콘 (40) 을 위치시키고, 스위치 (45) 를 누른다. 이 조작에 의해 통신창 (40a) 으로부터 송신된 위치 신호는, 집광 렌즈 (31) 에 의해 위치 검출 소자 (32) 로 집광되고, 피검안의 높이 위치 데이터가 검출된다 (시표광의 광로를 피검안의 높이에 맞추는 방법은, 상세하게는 일본 공개특허공보 평7-236612호를 참조한다). 이 위치 데이터에 기초하여 제어부 (10) 는 상하 회전 모터 (29) 를 상응하는 양만큼 회전시킨다. 상하 회전 모터 (29) 의 회전에 의해 빔 스플리터 (26) 의 각도가 바뀌고, 시표 화면 (50) 중심의 시표 광속이 피검안 (E) 의 높이 방향으로 향해진다.Next, the inspection operation using the apparatus having the above configuration will be described. First, the inspection distance is set to a predetermined distance (5 m) by positioning the inspected person at a predetermined position of 1.1 m from the viewing window of the casing 1a. Next, in order to input the height position of the eye to be examined E, the examiner places the remote controller 40 near the eye of the eye to be examined E and presses the switch 45. The position signal transmitted from the communication window 40a by this operation is condensed by the condenser lens 31 to the position detection element 32, and the height position data of the eye to be detected is detected (the optical path of the target light is set to the height of the eye to be examined). For details, see Japanese Laid-Open Patent Publication No. 7-236612). Based on this positional data, the controller 10 rotates the vertical rotation motor 29 by a corresponding amount. The angle of the beam splitter 26 changes by rotation of the up-and-down rotation motor 29, and the target light beam centered on the target screen 50 is directed in the height direction of the eye E.

시표 광속이 피검안에 정확하게 입사되도록 한 후, 검사자는 리모콘 (40) 을 조작하여 시력 검사를 실시한다. 검사자가 정시하고자 하는 시표를 리모콘 (40) 의 스위치 (42) 로 선택하면, 선택된 시표의 종류가 리모콘 (40) 의 액정 디스플레이 (46) 에 표시되고, 동시에 송신창 (40a) 으로부터 시표 선택 신호가 장치 본체 (1) 로 송신된다. 시표 선택 신호는 장치 본체 (1) 의 송수신부 (4) 에서 수신되고, 시표 디스크 (20) 중에서 선택된 시표 화면 (50) 이 광로 중에 세트된다. 예를 들어, 검사 시표는 도 7 에서 나타낸 횡 3 열 × 종 5 열의 시표 화면 (50) 의 것이 선택된 것으로 한다.After allowing the target beam to enter the test object accurately, the inspector operates the remote controller 40 to perform the vision test. When the examiner selects the target to be scheduled by the switch 42 of the remote controller 40, the type of the selected target is displayed on the liquid crystal display 46 of the remote controller 40, and at the same time, the target selection signal is transmitted from the transmission window 40a. It is transmitted to the apparatus main body 1. The target selection signal is received by the transmission / reception unit 4 of the apparatus main body 1, and the target screen 50 selected from the target disk 20 is set in the optical path. For example, it is assumed that the inspection target is selected from the target screen 50 having three horizontal rows and five vertical columns shown in FIG. 7.

리모콘 (40) 의 스위치 (47a 또는 47b) 가 눌리면, 제어부 (10) 에 의해 마스크판 (22) 이 회전 구동되고, 정시된 시표 화면 (50) 의 중단에 횡 일렬 마스크 (61b) 가 걸린다. 다음으로, 검사자가 횡 일렬 마스크의 시력값 시표를 하나 큰 것으로 하기 위해 스위치 (47a) 를 누르면, 상단 횡 일렬 마스크 (61a) 가 걸린다. 이 때, 제어부 (10) 는 스위치 (47a) 의 신호에 응답하여 모터 (29) 를 구동시켜, 도 6 과 같이 빔 스플리터 (26) 를 회전 각도 (α) 만큼 회전축 (28) 의 축 둘레에 회전시킨다. 이 때의 회전 방향은 도 6 의 화살표 (F) 방향과 역방향이다. 회전 각도 (α) 는, 전술한 수학식 2 에 의해 제어부 (10) 가 연산에 의해 결정한다. 회전 방향은, 시표 화면 (50) 의 중앙에 대하여 상측인지 하측인지에 따라 결정된다. 또한, 마스크 선택 스위치 (47a, 47b) 에 응답하여 제어부 (10) 가 결정하는 빔 스플리터 (26) 의 회전 각도 (α) 와 회전 방향은 매회 연산하는 것이 아니라, 마스크 선택용 스위치 (47a 또는 47b) 의 신호에 응답하여, 미리 메모리에 기억해 둔 것을 호출하는 것이어도 된다.When the switch 47a or 47b of the remote controller 40 is pressed, the mask plate 22 is driven to rotate by the control unit 10, and the horizontal line mask 61b is applied to the interruption of the indicated time screen 50. Next, when the inspector presses the switch 47a in order to make the visual acuity value index of the horizontal row mask one larger, the upper horizontal row mask 61a is engaged. At this time, the controller 10 drives the motor 29 in response to the signal of the switch 47a, and rotates the beam splitter 26 around the axis of the rotation shaft 28 by the rotation angle α as shown in FIG. Let's do it. The direction of rotation at this time is the opposite direction to the direction of arrow F in FIG. 6. The rotation angle (alpha) is determined by the control part 10 by calculation by the above formula (2). The rotation direction is determined depending on whether it is upper side or lower side with respect to the center of the target screen 50. Further, the rotation angle α and the rotation direction of the beam splitter 26 determined by the controller 10 in response to the mask selection switches 47a and 47b are not calculated every time, but the mask selection switches 47a or 47b are not calculated. In response to the signal of, the one stored in the memory in advance may be called.

도 10a 는, 빔 스플리터 (26) 가 회전 구동되지 않는 경우의 종래 장치에 있어서의 상단 횡 일렬 마스크에 의한 시표의 정시 상태이다. 종래에 있어서는, 횡 일렬 마스크가 걸린 시표가 정시창 (2) 의 상측에 보이도록 정시된다. 이 경우, 피검사자는 시선을 위로 이동시킬 필요가 있다. 또한, 피검사자는 검사 시표의 위치에 의해 시표 내용을 파악하기 쉬워진다. 이에 대하여, 도 10b 는 본 장치에 의한 시표의 정시 상태로, 상단 마스크 (61a) 를 선택한 경우에서도 정시창의 상하 중앙에 횡 일렬 마스크가 걸린 시표가 정시되어 있다. 이 때문에, 피검사자는 시선을 이동시키지 않고 시표를 볼 수 있어, 시표의 위치에 의해 시표 내용을 기억해 버리는 것이 경감된다.FIG. 10A is a timing state of the target by the upper horizontal row mask in the conventional apparatus when the beam splitter 26 is not rotationally driven. In the related art, the target subjected to the horizontal line mask is shown so as to be visible on the upper side of the viewing window 2. In this case, the examinee needs to shift his gaze upward. In addition, the examinee can easily grasp the contents of the target by the position of the inspection target. On the other hand, in FIG. 10B, the target in which the horizontal line mask is applied to the upper and lower centers of the viewing window is shown in the time when the top mask 61a is selected in the time-of-day state of the target by the apparatus. For this reason, the examinee can see the target without moving the gaze, and it is reduced that the target contents are memorized by the position of the target.

또한, 스위치 (47b) 를 조작하여 시표 화면 (50) 의 하단에 있는 시표를 정시하기 위해 하단 횡 일렬 마스크 (61c) 를 거는 신호가 입력되면, 제어부 (10) 는 그 신호에 응답하여 모터 (29) 를 구동시켜, 빔 스플리터 (26) 를 도 6 의 화살표 (F) 방향으로 회전 각도 (α) 만큼 회전시킨다. 이로써, 하단 횡 일렬 마스크 (61c) 를 건 경우에도, 도 10d 와 같이 정시창 (2) 의 중앙에 검사 시표가 정시된다. 도 10c 는 빔 스플리터 (26) 를 회전시키지 않은 경우의 종래 장치의 정시 상태이다.Further, when a signal for hanging the lower horizontal row mask 61c is inputted to operate the switch 47b to display the target at the lower end of the target screen 50, the control unit 10 responds to the signal to output the motor 29 ), The beam splitter 26 is rotated by the rotation angle α in the direction of the arrow F in FIG. 6. Thus, even when the lower horizontal row mask 61c is worn, the inspection target is shown at the center of the viewing window 2 as shown in FIG. 10D. Fig. 10C is a timing state of the conventional apparatus when the beam splitter 26 is not rotated.

또한, 종 일렬 마스크 및 1 문자 마스크에 의한 시표 정시에 있어서도, 중앙에 시표를 정시할 수 있는 것이 바람직하다. 도 9a 의 횡 3 열 × 종 5 열의 시표 화면 (50) 에 있어서, 좌단의 시표열에 종 일렬 마스크를 걸기 위해 종 마스크를 선택하는 스위치 (47c) 가 눌리면, 제어부 (10) 는 마스크판 (22) 을 회전시켜 좌단 종 마스크 (62a) 를 광로 중에 전환 배치한다. 또한, 동시에 제어부 (10) 는 그 스위치 신호에 응답하여 모터 (39) 를 구동시켜, 도 8 과 같이 빔 스플리터 (26) 를 화살표 (R) 방향 (피검사자에서 봤을 때 우 방향) 으로 각도 (γ) 만 큼 회전시킨다. 이로써, 도 11a 와 같이 종래에 있어서는 정시창 (2) 의 좌측에 정시되었던 종 일렬의 시표가, 도 11b 와 같이 중앙에 정시되게 된다.In addition, it is preferable that a target can be shown at the center also at the time of the target time by a vertical mask and a single character mask. In the target screen 50 of the horizontal 3 column x vertical 5 column of FIG. 9A, when the switch 47c which selects a vertical mask is pressed in order to apply a vertical line mask to the left column time column, the control part 10 is a mask board 22 Is rotated to switch the left end vertical mask 62a in the optical path. At the same time, the control unit 10 drives the motor 39 in response to the switch signal, and moves the beam splitter 26 in the direction of the arrow R (right direction when viewed by the examinee) as shown in FIG. Rotate as much as As a result, in the prior art as shown in Fig. 11A, the vertical line of time indicators specified on the left side of the sight window 2 are shown in the center as shown in Fig. 11B.

또한, 1 문자 마스크를 선택하기 위해 도 10b 의 횡 일렬 마스크의 정시 상태에서 1 문자/횡 마스크 전환 스위치 (43) 가 눌리면, 마스크판 (22) 이 갖는 소정의 1 문자 마스크가 광로 중으로 전환된다. 1 문자 마스크의 경우, 스위치 (47a ∼ 47b) 에 의해 마스크 위치를 이동시키는 신호를 입력할 수 있다. 여기서, 예를 들어 도 7a 의 횡 3 열 × 종 5 열의 시표 화면 (50) 에 있어서, 좌상 (左上) 의 시표를 정시하도록 1 문자 마스크가 바뀐 것으로 한다. 이 경우, 제어부 (10) 는, 스위치 (43) 등의 1 문자 마스크의 선택 신호에 응답하여, 회전축 (28) 을 중심으로 도 6 의 화살표 (F) 의 역방향으로 각도 (α) 만큼 빔 스플리터 (26) 를 회전시킴과 함께, 광축 (L01) 을 중심으로 도 8 의 화살표 (R) 방향으로 각도 (γ) 만큼 빔 스플리터 (26) 를 회전시킨다. 이로써, 도 12a 와 같이 종래에 있어서 정시창 (2) 의 좌상에 정시되었던 1 문자의 시표가, 도 12b 와 같이 좌우 및 상하의 중앙에 정시된다. 이로써, 1 문자 마스크의 시표 정시의 경우에는, 피검사자가 시표의 정시 위치에 의해 시표 내용을 기억해 버리는 것을 경감시킬 수 있어, 기억에 의한 응답을 피할 수 있다. 이 때문에, 시력 검사를 보다 정확하게 실시할 수 있다.Further, when the one-character / lateral mask changeover switch 43 is pressed in the on-time state of the horizontal line mask in Fig. 10B to select one-character mask, the predetermined one-character mask that the mask plate 22 has is switched to the optical path. In the case of a single character mask, the signal which moves a mask position can be input by switches 47a-47b. Here, for example, in the schedule screen 50 in the horizontal 3 rows x 5 columns of FIG. 7A, it is assumed that the one-character mask is changed so as to display the upper left target. In this case, the control unit 10 responds to the selection signal of the one-character mask such as the switch 43, and the beam splitter () by the angle α in the reverse direction of the arrow F in FIG. 6 about the rotation axis 28. While rotating 26), the beam splitter 26 is rotated by the angle γ in the direction of the arrow R in FIG. 8 about the optical axis L01. Thereby, the 1-character time mark currently shown on the upper left of the viewing window 2 as shown in FIG. 12A is shown in the center of left, right, and top and bottom like FIG. 12B. Thereby, in the case of the target time of the one-character mask, it is possible to reduce the examinee from storing the contents of the target by the time position of the target, thereby avoiding the response by the memory. For this reason, a visual inspection can be performed more correctly.

상기의 도 2 에서 나타낸 시표 정시의 도광 광학계는 다양한 변용이 가능하다. 예를 들어, 도 13 에 나타내는 바와 같이, 빔 스플리터 (26) 의 배후에 오목면경 (27) 을 배치한 구성이어도 된다. 이 광학계에 있어서는, 조명 광원 (24) 에 의해 조명된 검사 시표의 광속은 미러 (25) 에 의해 상방으로 반사되고, 다시 빔 스플리터 (26) 에서 배후의 오목면경 (27) 측으로 반사된 후, 오목면경 (27) 에서 반사된다. 오목면경 (27) 에서 반사된 시표 광속은 빔 스플리터 (26) 를 투과한 후, 정시창 (2) 을 통하여 피검안 (E) 으로 향한다. 이 구성의 경우, 빔 스플리터 (26) 가 회전축 (28) 의 축 둘레에 회전됨으로써, 빔 스플리터 (26) 에서 반사되어 오목면경 (27) 으로 향하는 시표 광속의 높이가 바뀐다. 전술한 예와 동일하게, 상단 또는 하단의 횡 일렬 마스크가 선택되면, 선택된 횡 일렬 마스크에 따라 빔 스플리터 (26) 가 회전되고, 피검안의 대략 동일 높이의 시선상에 횡 일렬 마스크가 걸린 시표가 정시된다. 또한, 회전축 (28) 및 오목면경 (27) 의 광축을 통과하여 상하로 연장되는 광축 (L01) 의 축 둘레에 빔 스플리터 (26) 가 회전됨으로써, 빔 스플리터 (26) 에서 반사되어 오목면경 (27) 으로 향하는 시표 광속의 좌우 위치가 바뀐다. 종 일렬 마스크가 선택되었을 때에는, 선택된 종 일렬 마스크에 따라 광축 (L01) 을 중심으로 하여 빔 스플리터 (26) 가 회전됨으로써, 피검안의 좌우 방향의 동일 시선상에 종 일렬 마스크가 걸린 시표가 정시된다. 상하 방향의 회전 각도, 좌우 방향의 회전 각도는, 횡 일렬 마스크 또는 종 일렬 마스크의 선택 신호에 따라, 전술한 바와 같이 제어부 (10) 에 의해 결정된다. 1 문자 마스크의 선택시에는, 상하 방향의 회전과 좌우 방향의 회전이 합성된다.The light guide optical system shown in FIG. 2 can be modified in various ways. For example, as shown in FIG. 13, the structure which arrange | positioned the concave mirror 27 behind the beam splitter 26 may be sufficient. In this optical system, the light beam of the inspection target illuminated by the illumination light source 24 is upwardly reflected by the mirror 25, and is further reflected by the beam splitter 26 toward the rear concave mirror 27, and then concave. Reflected at the mirror mirror 27. The target light beam reflected by the concave mirror 27 passes through the beam splitter 26 and then goes to the eye to be examined E through the viewing window 2. In this configuration, the beam splitter 26 is rotated around the axis of the rotation shaft 28, so that the height of the target light beam reflected by the beam splitter 26 and directed to the concave mirror 27 changes. As in the above-described example, when the upper or lower horizontal row mask is selected, the beam splitter 26 is rotated according to the selected horizontal row mask, and the target in which the horizontal row mask is applied on the line of sight of approximately the same height of the eye to be examined is displayed on time. do. Further, the beam splitter 26 is rotated around the axis of the optical axis L01 which extends up and down through the optical axis of the rotating shaft 28 and the concave mirror 27, thereby being reflected by the beam splitter 26 to reflect the concave mirror 27. The position of the left and right of the target beam heading toward) is changed. When the vertical mask is selected, the beam splitter 26 is rotated around the optical axis L01 in accordance with the selected vertical mask so that the target in which the vertical mask is applied on the same line of sight in the left and right directions of the eye to be examined is defined. The rotation angle of the up-down direction and the rotation angle of the left-right direction are determined by the control part 10 as mentioned above according to the selection signal of a horizontal line mask or a vertical line mask. In the case of selecting a single character mask, rotation in the vertical direction and rotation in the horizontal direction are combined.

또한, 빔 스플리터 (26) 의 배후에 오목면경 (27) 을 배치한 도광 광학계에 있어서는, 빔 스플리터 (26) 및 오목면경 (27) 을 일체로 하여, 상하 회전 구동 기 구 (100) 에 의해 회전축 (28) 을 중심으로 하여 상하 방향으로 회전되고, 또한 좌우 회전 기구 (101) 에 의해 광축 (L01) 을 중심으로 좌우 방향으로 회전되는 구성이어도 된다. 빔 스플리터 (26) 및 오목면경 (27) 이 일체적으로 회전되는 구성에 있어서는, 오목면경 (27) 이 큰 사이즈가 아니라도 피검안의 높이에 따른 대응이 가능하게 된다. 또한, 오목면경 (27) 의 광축에 가능한 한 가까운 미러면이 사용되므로, 수차의 영향을 줄일 수 있다.In the light guide optical system in which the concave mirror 27 is disposed behind the beam splitter 26, the beam splitter 26 and the concave mirror 27 are integrally formed and rotated by the vertical rotation drive mechanism 100. The configuration may be rotated in the vertical direction around the center 28 and rotated in the horizontal direction around the optical axis L01 by the left and right rotation mechanism 101. In the configuration in which the beam splitter 26 and the concave mirror 27 are integrally rotated, the concave mirror 27 can correspond to the height of the eye to be examined even if the concave mirror 27 is not large in size. In addition, since the mirror surface as close as possible to the optical axis of the concave mirror 27 is used, the influence of aberration can be reduced.

도 1 은 장치 본체의 외관을 나타내는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The figure which shows the external appearance of the apparatus main body.

도 2 는 장치의 케이싱을 우측면에서 봤을 때의 투시 개략도이다.2 is a perspective schematic view of the casing of the device as seen from the right side;

도 3 은 장치의 케이싱을 정면에서 봤을 때의 투시 개략도이다.3 is a perspective schematic view of the casing of the device when viewed from the front.

도 4a 는 시표 디스크판의 상세함을 나타내는 도면이다.4A is a diagram illustrating the details of the target disk plate.

도 4b 는 마스크판의 상세함을 나타내는 도면이다.4B is a view showing the details of the mask plate.

도 5 는 리모콘의 외관과 시표 정시 장치 전체의 제어 블록도를 설명하는 도면이다.5 is a view for explaining the appearance of the remote control and the control block diagram of the entire visual display device.

도 6 은 상하 방향의 중앙에 횡 일렬의 시표를 정시하기 위한 빔 스플리터의 회전 구동을 설명하는 도면이다.It is a figure explaining rotational drive of the beam splitter for defining the horizontal line of sight in the center of an up-down direction.

도 7a 는 횡 일렬 마스크가 걸리는 시표의 배치 정보의 예로, 횡 3 열 × 종 5 열의 시표 화면의 예이다.7A is an example of arrangement information of a target to which a horizontal line mask is applied, and is an example of the target screen of 3 columns x 5 columns.

도 7b 는 횡 일렬 마스크가 걸려, 검사 거리 5m 의 위치에 정시되는 허상의 시표 화면의 예이다.FIG. 7B is an example of the virtual image target screen shown by the horizontal line mask, and shown at the position of inspection distance 5m.

도 8 은 좌우 방향의 중앙에 종 일렬의 시표를 정시하기 위한 빔 스플리터의 회전 구동을 설명하는 도면이다.FIG. 8 is a view for explaining the rotational drive of the beam splitter for defining a vertical row of targets in the center in the left and right directions.

도 9a 는 종 일렬 마스크가 걸리는 시표의 배치 정보의 예로, 횡 3 열 × 종 5 열의 시표 화면의 예이다.9A is an example of arrangement information of a target to which a vertical alignment mask is applied, and is an example of the target screen of 3 columns x 5 columns.

도 9b 는 종 일렬 마스크가 걸려, 검사 거리 5m 의 위치에 정시되는 허상의 시표 화면의 예이다.Fig. 9B is an example of a virtual image target screen which is fitted with a vertical mask and is shown at a position of an inspection distance of 5 m.

도 10a 는 상단의 횡 일렬 마스크에 의한 시표의 정시 상태를 설명하는 도면으로, 종래 장치에 의한 예이다.FIG. 10A is a diagram for explaining a timing state of a target by the horizontal horizontal mask on the upper side, and is an example using a conventional apparatus.

도 10b 는 상단의 횡 일렬 마스크에 의한 시표의 정시 상태를 설명하는 도면으로, 본 장치에 의한 예이다.FIG. 10B is a view for explaining the timing state of the target by the horizontal horizontal mask on the upper side, and is an example by the present apparatus.

도 10c 는 하단의 횡 일렬 마스크에 의한 시표의 정시 상태를 설명하는 도면으로, 종래 장치에 의한 예이다.FIG. 10C is a view for explaining the timing state of the target by the horizontal row mask at the bottom, and is an example using a conventional apparatus.

도 10d 는 하단의 횡 일렬 마스크에 의한 시표의 정시 상태를 설명하는 도면으로, 본 장치에 의한 예이다.FIG. 10D is a view for explaining the timing state of the target by the horizontal row mask at the bottom, and is an example by the present apparatus.

도 11a 는 종 일렬 마스크에 의한 시표의 정시 상태를 설명하는 도면으로, 종래 장치에 의한 예이다.FIG. 11A is a diagram for explaining the on-time state of a target by a vertical line mask, and is an example using a conventional apparatus.

도 11b 는 종 일렬 마스크에 의한 시표의 정시 상태를 설명하는 도면으로, 본 장치에 의한 예이다.FIG. 11B is a view for explaining the on-time state of the target by the vertical line mask, and is an example by the present apparatus. FIG.

도 12a 는 1 문자 마스크에 의한 시표의 정시 상태를 설명하는 도면으로, 종래 장치에 의한 예이다.It is a figure explaining the on-time state of the target by 1 character mask, and is an example by the conventional apparatus.

도 12b 는 1 문자 마스크에 의한 시표의 정시 상태를 설명하는 도면으로, 본 장치에 의한 예이다.12B is a view for explaining the on-time state of the target by the one-character mask, and is an example by the present apparatus.

도 13 은 빔 스플리터의 배후에 오목면경을 배치한 장치에 있어서, 케이싱을 우측면에서 봤을 때의 투시도이다.Fig. 13 is a perspective view of the casing viewed from the right side in the apparatus in which the concave mirror is arranged behind the beam splitter.

Claims

Time display device,

A light guide optical system disposed in a casing of a device and guiding a target light flux to an eye to be examined through a sight window, comprising: a test plate having an upper and lower stage and a target screen on which a plurality of targets are drawn at each stage; and a part of the target drawn on the target screen. A mask plate having a mask for selectively presenting a light source, a concave mirror that optically displays the target screen at a predetermined inspection distance, and a beam splitter inclined on an optical axis of the concave mirror, wherein the beam splitter and the concave surface A light guide optical system that directs the target beam to the eye under a mirror;

Vertical rotation means for rotating the beam splitter about a rotation axis extending in the horizontal direction through the optical axis of the concave mirror;

Mask selection means for inputting a selection signal of a mask of the mask plate;

When the selection signal of the horizontal line mask is input by the said mask selection means, based on the arrangement | positioning information of the target which a horizontal line mask takes, the said target which a horizontal line mask will apply on the eye of about the same height of an eye to be examined may be located. And a control means for determining a rotation angle (α) for rotating the beam splitter, and for controlling the driving of the vertical rotation means in accordance with the determined rotation angle (α).

The method of claim 1,

The control means may include a distance in the vertical direction of the target to which the horizontal line mask is applied to the center of the target screen, an optical inspection distance of the target screen, a distance from the eye to the rotation center of the beam splitter, and an image of the concave mirror. And said rotation angle (α) is determined based on magnification.

The method of claim 1 further comprising:

An input means for inputting the height of the eye to be examined,

The control means controls driving of the vertical rotation means based on the height of the input eye to be directed to the eye beam of the target screen in the center of the target screen, and then selects the horizontal line mask input by the mask selecting means. And the rotation angle (α) is determined based on the signal, and the drive of the vertical rotation means is controlled.

The method of claim 1 further comprising

A left and right rotation means for rotating the beam splitter about an axis extending in an up and down direction,

The control means, when the selection signal of the vertical alignment mask is input by the mask selection means, based on the arrangement information of the target to which the vertical alignment mask is applied, the vertical alignment mask is applied on the line of sight of which the left and right directions of the eye to be examined are substantially the same. And a rotation angle (γ) for rotating the beam splitter in the left and right directions to position the target, and controlling the driving of the left and right rotation means in accordance with the determined rotation angle (γ).

The method of claim 4, wherein

When the selection signal of one character mask is input by the said mask selection means, the said control means is based on the eye of the eye which the height direction and the left-right direction are all substantially the same based on the arrangement | positioning information of the target which one character mask takes. Determine the up and down rotation angle α and the left and right rotation angle γ that rotate the beam splitter so as to position the target on which the character mask is placed, and to the determined rotation angle α and the rotation angle γ And the upper and lower rotation means and the left and right rotation means according to the target display device.