KR20090000326A - 플라즈마 디스플레이 패널 및 이의 제조방법 - Google Patents

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KR20090000326A
KR20090000326A KR1020070064310A KR20070064310A KR20090000326A KR 20090000326 A KR20090000326 A KR 20090000326A KR 1020070064310 A KR1020070064310 A KR 1020070064310A KR 20070064310 A KR20070064310 A KR 20070064310A KR 20090000326 A KR20090000326 A KR 20090000326A
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송정석
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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 전면기판과 간격을 두고 서로 마주하는 배면기판, 상기 배면기판 위에서 제1 방향으로 신장되어 형성되는 어드레스전극, 상기 전면기판 위에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 신장되어 형성되는 표시전극, 상기 표시전극을 덮는 전면 유전층, 상기 어드레스전극을 덮는 배면 유전층, 상기 배면 유전층 위에 배치되어 다수의 방전셀을 구획하는 격벽 및 비표시 영역에서 상기 배면 기판 위에 형성되는 얼라인 마크를 포함하되, 상기 얼라인 마크와 상기 격벽은 상기 배면 유전층으로 연결된다.
플라즈마, 디스플레이, 패널, PDP, 몰드, 얼라인, 마크, 테이블, 롤러

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 이의 제조방법{PLASMA DISPLAY PANEL AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME}
도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 사시도이다.
도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 일부 분해 사시도이다.
도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ 선에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 일부 평면도이다.
도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 한 실시예에 따른 배면 유전층, 격벽 및 얼라인 마크를 형성하는 방법을 도시한 작업 순서도이다.
도 6은 본 발명의 한 실시예에 따른 롤러에 의해서 페이스트를 가압하는 모습을 도시한 측면도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10: 배면기판 11: 어드레스전극
12: 배면 유전층 13: 격벽
13a: 가로 격벽부재 13b: 세로 격벽부재
14: 형광체층 14R: 적색 형광체층
14G: 녹색 형광체층 14B: 청색 형광체층
15: 전면기판 16: 표시전극
16a: 유지전극 16b: 주사전극
16ab, 16bb: 버스전극 16aa, 16ba: 투명전극
17: 전면 유전층 18: 보호층
19a: 표시 영역 19b: 비표시 영역
20: 얼라인 마크 22: 보조 얼라인 마크
50: 얼라인 테이블 52: 페이스트(paste)
54: 몰드(mold) 57: 제1 홈
59: 제2 홈 60: 롤러
W1: 제1 폭 W2: 제2 폭
H1: 제1 높이 H2: 제2 높이
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 전면기판과 배면기판이 서로 정렬되고 조립되어 제작되는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널은 기체방전을 통하여 얻어진 플라즈마로부터 방사되는 진공자외선(VUV: Vacuum Ultra-Violet)을 이용한다. 이러한 진공자외선은 형광체를 활성화시키고, 이렇게 활성화된 형광체는 안정화되면서 가시광을 발생시킨다. 이러한 가시광은 형광체의 종류에 따라 적색(Red), 녹색(Green) 및 청색(Blue)을 띠며, 이들이 적절하게 조합되어 영상으로 구현된다.
일례로서, 교류형 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판 위에는 어드레스전극이 구비되고, 유전층이 이러한 어드레스전극을 덮고 있다. 또한, 유전층 위에 격벽이 스트라이프(stripe) 또는 메트릭스(matrix) 형상으로 형성된다. 이러한 격벽은 방전셀을 구획하고, 이러한 방전셀에는 형광체층이 형성된다. 또한, 방전셀 내에는 불활성 기체가 주입된다.
배면기판에 대향하는 전면기판에는 어드레스전극과 교차하는 표시전극들이 형성되고, 유전층과 보호층이 차례로 이 표시전극들을 덮고 있다. 배면기판 상의 어드레스전극과 전면기판 상의 표시전극이 교차하는 지점에 방전셀이 형성된다.
일반적으로, 격벽을 사이에 두고 표시전극이 형성된 전면기판과 어드레스전극이 형성된 배면기판을 정렬(alignment) 시킨다. 이렇게 정렬된 상태에서 본딩재를 이용하여 이들(전면기판과 배면기판)을 서로 부착시킴으로써 플라즈마 디스플레이 패널이 제작된다.
한편, 격벽, 어드레스전극 및 표시전극들이 서로 정확하게 정렬되지 않으면 오방전이 발생하거나 화질이 저하되는 문제점이 있다.
본 발명은 전면기판과 배면기판을 조립할 때 이들을 서로 정확하게 정렬시키기 위한 얼라인 마크가 비표시 영역에 구비된 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
또한 본 발명은 몰드 공법에 의해서 얼라인 마크가 비표시 영역에 구비된 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 것이다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은, 전면기판과 간격을 두고 서로 마주하는 배면기판, 상기 배면기판 위에서 제1 방향으로 신장되어 형성되는 어드레스전극, 상기 전면기판 위에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 신장되어 형성되는 표시전극, 상기 표시전극을 덮는 전면 유전층, 상기 어드레스전극을 덮는 배면 유전층, 상기 배면 유전층 위에 배치되어 다수의 방전셀을 구획하는 격벽 및 비표시 영역에서 상기 배면 기판 위에 형성되는 얼라인 마크를 포함하되, 상기 얼라인 마크와 상기 격벽은 상기 배면 유전층으로 연결된다.
또한 본 발명의 실시예에서, 상기 얼라인 마크는 상기 격벽 및 상기 배면 유전층의 재질로 형성되고, 상기 얼라인 마크의 높이는 상기 격벽의 높이 보다 작게 형성되는 것이 바람직하며, 상기 얼라인 마크의 높이는 최대 10㎛ 일 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에서, 상기 얼라인 마크는 상기 배면기판에서 상기 전면기판 방향으로 점차 폭이 좁아지는 것이 바람직하다.
아울러, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은, 어드레스 전극이 형성된 배면기판 위에 페이스트를 형성하는 제1 단계 및 음각 형상의 몰드를 상 기 페이스트에 가압하는 제2 단계, 상기 페이스트를 경화시키는 제3 단계 및 상기 페이스트에서 상기 몰드를 분리하여 비표시 영역에 얼라인 마크를 형성하는 제4 단계를 포함한다.
또한 본 발명의 실시예에서, 상기 제2 단계는, 회전하는 롤러에 의해서 상기 몰드를 순차적으로 눌러줌으로써 상기 페이스트를 가압할 수 있고, 상기 제2 단계는 유연한 몰드를 사용하여 가압할 수 있으며, 상기 제2 단계, 상기 제3 단계 및 상기 제4 단계는 상기 어드레스전극을 덮는 배면 유전층과 방전셀을 형성하는 격벽을 더 형성할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지 식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 붙였다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 대해 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 사시도이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 전면기판(15)과 배면 기판(10)으로 이루어져 있다. 또한 플라즈마 디스플레이 패널은 화상이 표시되는 표시 영역(19a)과 화상이 표시되지 않는 비표시 영역(19b)으로 나누어진다. 플라즈마 디스플레이 패널의 상세한 구조에 대해서는 도 2 및 도 3을 참조하여 상세하게 설명한다.
도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 일부 분해 사시도이고, 도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ 선에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 단면도이다.
도 1과 도 2를 참조하여 설명하면, 본 발명의 실시예의 플라즈마 디스플레이 패널은 배면기판(10)과 전면기판(15) 및 양 기판(10, 15) 사이에 형성되어 방전셀들을 구획하는 격벽(13)과 이들 방전셀에 대응하여 형성되는 어드레스전극들(11) 및 표시전극(16)을 포함하여 구성된다.
배면기판(10)과 전면기판(15)은 소정의 간격을 두고 서로 평행하게 마주보고 있다. 배면기판(10)의 상부 면에는 제1 방향(도면에서 y축 방향)으로 어드레스전극(11)들이 신장되어 형성되어 있다. 이들은 이웃하는 다른 어드레스전극(11)들과 소정 간격을 두고 나란하게 배치된다.
또한 배면기판(10)의 상부 면에는 배면 유전층(12)이 형성되며, 이러한 배면 유전층(12)은 어드레스전극(11)을 덮는다. 어드레스전극(11)은 화학적으로 안정하여 배면 유전층(12) 및 배면기판(10)과는 반응하지 않는 것이 바람직하다. 예를 들어 어드레스전극(11)은 은(Ag)과 같은 도전성이 높은 금속 재질로 형성되는 것이 바람직하다.
또한 전면기판(15)의 하부 면에는 제2 방향(도면에서 x축 방향)으로 표시전극(16)들이 신장되어 형성되어 있다. 이들은 이웃하는 다른 표시전극(16)들과 소정 간격을 두고 나란하게 배치된다.
또한 표시전극(16)은 각 방전셀에서 서로 대응되는 유지전극(16a)과 주사전극(16b)을 포함한다. 유지전극(16a)과 주사전극(16b)은 각각 투명전극(16aa, 16ba)과 버스전극(16ab, 16bb)을 포함한다. 또한 투명전극(16aa, 16ba)은 소정 거리로 이격되어 방전 갭(Gap)을 형성한다.
한편 투명전극(16aa, 16ba)은 ITO(Indium Tin Oxide)와 같이 투명한 재질로 형성되어 가시광을 용이하게 투과시킨다. 한편, 투명전극(16aa, 16ba)은 전기 저항이 높아서 도전성은 좋지 않다. 그러나 버스전극(16ab, 16bb)은 도전성이 좋은 금속 재질(예를 들어 은(Ag)이나 Cr/Cu/Cu)로 형성되어 투명전극(16aa, 16ba)에 전압을 인가한다.
도 3에 도시된 바와 같이, 전면기판(15)의 하부 면에는 전면 유전층(17)이 형성된다. 전면 유전층(17)은 표시전극(16)을 덮는 구조로 되어 있다. 이러한 전면 유전층(17)은 표시전극(16)을 방전 현상으로부터 보호한다. 또한 전면 유전층(17)은 벽 전하를 축적하여 방전셀에서 방전을 일으킨다.
또한 전면 유전층(17)은 보호층(18)으로 덮인다. 보호층(18)은 투명한 재질로써 형광체층(14)에서 발산하는 가시광을 용이하게 투과시킨다. 뿐만 아니라 방전 현상으로부터 전면 유전층(17)을 보호한다. 또한 보호층(18)은 이차전자 방출계수를 증가시켜 방전 개시전압을 낮춘다. 예를 들면, 보호층(18)은 산화마그네슘(MgO) 으로 형성될 수 있다. 이러한 산화마그네슘(MgO)은 가시광을 쉽게 투과시키는 특징을 가진다.
보호층(18)과 배면 유전층(12) 사이에는 격벽(13)이 형성되어 방전셀을 구획한다. 이 격벽(13)은 가로 격벽부재(13a)와 세로 격벽부재(13b)를 포함한다.
가로 격벽부재(13a)는 제2 방향(도면에서 x축 방향)으로 신장되어 형성되고, 세로 격벽부재(13b)는 제1 방향(도면에서 y축 방향)으로 신장되어 형성된다. 또한, 가로 격벽부재(13a)와 세로 격벽부재(13b)는 서로 교차한다. 본 실시예에서는 가로 격벽부재(13a)와 세로 격벽부재(13b)는 격자(Matrix) 형태로 방전셀들을 구획한다.
본 발명의 실시예에 따른 방전셀들은 격자(Matrix) 형태 이외에도 스트라이프(Stripe) 또는 델타(Delta) 형태 등 다양하게 형성될 수 있음은 당연하다. 본 발명의 실시예에서 격벽(13)은 방전 시 방전셀들 간에 크로스토크(Cross Talk)를 방지하고, 형광체층(14)이 도포되는 면을 제공한다.
도 2에 도시된 바와 같이 형광체층(14)은 각각의 발광 특징에 따라서 나뉜다. 즉, 진공자외선에 의해서 적색(Red)의 가시광을 생성하는 적색 형광체층(14R), 녹색(Green)의 가시광을 생성하는 녹색 형광체층(14G), 청색(Blue)의 가시광을 생성하는 청색 형광체층(14B)이 있다.
방전셀에는 불활성가스(일례로 Ne과 Xe의 혼합가스)인 방전 가스가 충전되어 있다. 이러한 방전 가스는 유지전극(16a)과 주사전극(16b) 사이에 기체 방전을 일으킨다. 이러한 기체 방전에 의해서 플라즈마가 형성되고, 플라즈마에서 발생하는 진공자외선에 의해서 형광체층(14)이 활성화된다. 이렇게 활성화된 형광체층(14)이 안정화되면서 가시광을 방출한다.
일반적으로 표시전극(16)이 형성된 전면기판(15)과 어드레스전극(11)이 형성된 배면기판(10)이 준비되고, 이들을 정렬(alignment) 시킨 후에 본딩재를 이용하여 이들을 서로 부착시킴으로써 플라즈마 디스플레이 패널이 제작된다. 한편, 격벽(13), 어드레스전극(11) 및 표시전극(16)들이 서로 정확하게 정렬되지 않으면 오방전이 발생하여 화질이 떨어지는 문제점이 있다. 이러한 문제점을 미연에 방지하기 위해서 본 발명의 실시예에서는 배면기판(10)에 얼라인 마크(20)가 형성된다.
도 1 및 도 2를 참조해서 설명하면, 본 발명의 실시예에 따른 얼라인 마크(20)는 화상이 표시되지 않는 비표시 영역(19b)에 형성된다.
도 3에 도시한 바와 같이 얼라인 마크(20)는 배면 유전층(12)에서 돌출되어 형성된다. 또한 전면기판(15)에는 얼라인 마크(20)와 대응하는 보조 얼라인 마크(22)가 더욱 형성된다.
도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 얼라인 마크(20)의 상단부는 제1 폭(W1)을 가지고 있고, 하단부는 제2 폭(W2)을 가지고 있다. 특히 제2 폭(W2)은 제1 폭(W1)보다 더 큰 구조로 되어 있다. 예를 들어 정렬오차를 줄이기 위해서 얼라인 마크(20)의 폭(W1 또는 W2)은 10㎛이내로 설정할 수 있다.
본 발명의 실시예에서 얼라인 마크(20)가 하단부에서 상단부 쪽으로 폭이 점차 좁아지는 구조로 되어 있는 이유는 얼라인 마크(20)가 몰드 공법에 의해서 제작되기 때문이다. 이러한 얼라인 마크(20)가 제작되는 방법에 대해서는 도 5a 내지 도 5d를 참조하여 상세하게 설명한다.
도 3에 도시한 바와 같이, 격벽(13)은 제1 높이(H1)를 가지고 있고, 얼라인 마크(20)는 제2 높이(H2)를 가지고 있다. 특히 본 발명의 실시예에서는 제2 높이(H2)보다 제1 높이(H1)가 크다. 예를 들어 얼라인 마크(20)의 성형 정밀도를 높이고, 정렬오차를 줄이기 위해서 얼라인 마크(20)의 높이는 10㎛이내로 설정할 수 있다. 얼라인 마크(20)의 높이가 높아지면 변형성이 커지기 때문에 정밀도가 낮아진다.
본 발명의 실시예에서는 보조 얼라인 마크(22)의 특징에 대해서는 상세하게 설명하지 않는다. 일반적으로 보조 얼라인 마크(22)는 전면기판(15)에 형성되는 표시전극(16)과 함께 형성될 수 있다. 예를 들어, 보조 얼라인 마크(22)는 투명전극(16aa, 16ba)의 재료인 ITO로 형성될 수 있고, 버스전극(16ab, 16bb)의 재료인 은(Ag)이나 Cr/Cu/Cr 등으로 형성될 수 있다.
도 4는 본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 일부 평면도이다.
도 4에 도시한 바와 같이, 배면기판(10)에 형성된 얼라인 마크(20)와 전면기판(15)에 형성된 보조 얼라인 마크(22)를 일치시킴으로써 전면기판(15)과 배면기판(10)을 용이하게 정렬시킬 수 있다.
본 발명의 실시예에서 보조 얼라인 마크(22)는 원통 형상이고 얼라인 마크(20)는 원뿔 형상이다. 하지만, 본 발명의 다른 실시예에서는 보조 얼라인 마 크(22)가 원뿔 형상이고 얼라인 마크(20)가 원통 형상으로 형성될 수 있다. 또한 본 발명의 실시예에 따른 얼라인 마크(20, 22)는 십자형, 사각형 및 삼각형 등 여러 가지 형상으로 응용 가능하며 그 형상이나 개수에 있어서 특별한 제한은 없다.
도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 한 실시예에 따른 배면 유전층, 격벽 및 얼라인 마크를 형성하는 방법을 도시한 작업 순서도이다.
도 5a에 도시한 바와 같이, 얼라인 테이블(50) 위에 배면기판(10)이 놓여진다. 또한 배면기판(10) 위에는 어드레스전극(11)이 형성되어 있다. 일반적으로 어드레스전극(11)은 진공 증착법이나 스퍼터링 방법으로 형성될 수 있다.
다음 도 5b에 도시한 바와 같이, 어드레스전극(11)이 형성된 배면기판(10) 위에 격벽 형성용 페이스트(52)를 균일하게 도포한다. 또한 격벽(13)과 얼라인 마크(20)를 형성하기 위한 몰드(54)(금형)를 준비한다. 몰드(54)에는 얼라인 마크(20)를 형성하기 위한 제1 홈(57)과 격벽(13)을 형성하기 위한 제2 홈(59)이 형성되어 있다.
다음 도 5c에 도시한 바와 같이, 몰드(54)를 배면기판(10) 측으로 가압하면 페이스트(52)는 제1 홈(57)과 제2 홈(59)을 채운다. 다음 이 몰드(54)를 가열함으로써 페이스트(52)를 경화시킨다.
다음 경화된 페이스트(52)에서 몰드(54)를 제거하면, 도 5d에 도시한 바와 같이, 배면 유전층(12), 격벽(13) 및 얼라인 마크(20)가 형성된다. 일반적으로 몰드(54)의 재료로는 고강도 강재 합금, 티탄 합금 및 알루미늄 합금 등이 사용될 수도 있고, 플라스틱이나 고무 재질의 사용도 가능하다.
한편, 몰드(54)(금형)에 의해서 얼라인 마크(20)를 형성하는 경우 몰드(54)와 경화된 페이스트(52)가 잘 분리되도록 하기 위해 몰드(54)의 홈(57, 59)에는 테이퍼(Taper)각을 부여한다. 따라서 몰드(54)에 의해서 형성된 얼라인 마크(20)와 격벽(13)은 모두 하부에서 상부 방향으로 점차 좁아지는 구조로 되어 있다.
전술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에서는 배면 유전층(12), 격벽(13) 및 얼라인 마크(20)를 함께 형성하였다. 하지만 본 발명의 다른 실시예에서는 이들(12, 13, 20)이 각각 별도로 형성될 수 있음은 당연하다.
도 6은 본 발명의 한 실시예에 따른 롤러에 의해서 페이스트를 가압하는 모습을 도시한 측면도이다.
도 6에 도시한 바와 같이, 어드레스전극(11)이 형성된 배면기판(10) 위에 페이스트(52)가 도포되고, 이 위로 몰드(54)와 롤러(60)가 차례로 구비된다. 특히 본 발명의 실시예에서는 회전하면서 이동하는 롤러(60)에 의해서 몰드(54)는 페이스트(52)를 순차적으로 가압한다.
또한 본 발명의 실시예에 따른 몰드(54)는 플라스틱이나 고무와 같은 재질로 형성될 수 있다. 유연한 몰드는 롤러에 일부가 감길 수 있고, 경화된 페이스트와 용이하게 분리되어 성형성이 뛰어나다.
도 6에 도시한 바와 같이, 유연한 몰드(54)가 롤러(60)에 의해서 페이스트(52)를 순차적으로 가압한다. 따라서 페이스트(52)에 잔류하는 기포가 외부로 용이하게 빠져나감으로써 격벽(13)의 성형 불량이 줄어들고 강도도 높아진다.
이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.
이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 의하면, 몰드에 의해서 배면 유전층 및 격벽과 함께 얼라인 마크가 형성됨에 따라서 제조방법이 단순해진다.
아울러, 하나의 몰드에 의해서 배면 유전층, 격벽 및 얼라인 마크가 함께 형성됨에 따라서 얼라인 마크의 위치가 상대적으로 변하지 않는다. 따라서 전면기판과 배면기판을 서로 조립할 때에도 정렬 오차가 작아진다.
아울러, 얼라인 마크의 높이(예를 들어 10㎛)가 격벽보다 작기 때문에 전면기판과 배면기판이 조립될 때 얼라인 마크가 파손되지 않는다.
아울러, 얼라인 마크의 폭이 10㎛이내로 형성되기 때문에 전면기판과 배면기판의 조립 정밀도가 높아진다.
아울러, 몰드 공법에 의해서 형성된 얼라인 마크는 하단부에서 상단부로 점차 좁아지는 구조로 되어 있다. 따라서 좁아진 상단부는 그 폭이 좁아서 얼라인 마크의 정밀도가 더욱 향상된다.
아울러, 회전하면서 움직이는 롤러에 의해서 페이스트를 순차적으로 가압함으로써 페이스트에 함유되는 기포의 개수와 양이 줄어들어 격벽의 불량이 줄어들고 강도가 높아진다.
아울러, 유연한 몰드를 사용함으로써, 몰드와 경화된 페이스트가 용이하게 이격된다.

Claims (9)

  1. 전면기판과 간격을 두고 서로 마주하는 배면기판;
    상기 배면기판 위에서 제1 방향으로 신장되어 형성되는 어드레스전극;
    상기 전면기판 위에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 신장되어 형성되는 표시전극;
    상기 표시전극을 덮는 전면 유전층;
    상기 어드레스전극을 덮는 배면 유전층;
    상기 배면 유전층 위에 배치되어 다수의 방전셀을 구획하는 격벽; 및
    비표시 영역에서 상기 배면 기판 위에 형성되는 얼라인 마크
    를 포함하되,
    상기 얼라인 마크와 상기 격벽은 상기 배면 유전층으로 연결되는
    플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 얼라인 마크는 상기 격벽 및 상기 배면 유전층의 재질로 형성되는
    플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 얼라인 마크의 높이는 상기 격벽의 높이 보다 작은 플라즈마 디스플레 이 패널.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 얼라인 마크의 높이는 최대 10㎛인 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 얼라인 마크는 상기 배면기판에서 상기 전면기판 방향으로 점차 폭이 좁아지는
    플라즈마 디스플레이 패널.
  6. 어드레스 전극이 형성된 배면기판 위에 페이스트를 형성하는 제1 단계; 및
    음각 형상의 몰드를 상기 페이스트에 가압하는 제2 단계;
    상기 페이스트를 경화시키는 제3 단계; 및
    상기 페이스트에서 상기 몰드를 분리하여 비표시 영역에 얼라인 마크를 형성하는 제4 단계
    를 포함하는
    플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 제2 단계는,
    회전하는 롤러에 의해서 상기 몰드를 순차적으로 눌러줌으로써 상기 페이스트를 가압하는
    플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  8. 제6 항에 있어서,
    상기 제2 단계는 유연한 몰드를 사용하여 가압하는
    플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  9. 제6 항에 있어서,
    상기 제2 단계, 상기 제3 단계 및 상기 제4 단계는
    상기 어드레스전극을 덮는 배면 유전층과 방전셀을 형성하는 격벽을 더 형성하는
    플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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