KR20080097429A - Near-infrared absorbing film - Google Patents

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KR20080097429A
KR20080097429A KR1020087020315A KR20087020315A KR20080097429A KR 20080097429 A KR20080097429 A KR 20080097429A KR 1020087020315 A KR1020087020315 A KR 1020087020315A KR 20087020315 A KR20087020315 A KR 20087020315A KR 20080097429 A KR20080097429 A KR 20080097429A
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겐이치 모리
고지 이토
아키라 요시미
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도요 보세키 가부시키가이샤
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Abstract

Disclosed is a near-infrared absorbing film which absorbs light over a wide range of near-infrared wavelengths, while being highly excellent in durability, especially in wet heat resistance and heat resistance. Specifically disclosed is a near-infrared absorbing film wherein a near-infrared absorbing layer composed of a composition mainly containing a near-infrared absorbing dye and a resin is formed on a transparent base. This near-infrared absorbing film is characterized in that the composition contains either a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis(trifluoromethansulfonyl)imide compound.

Description

근적외선 흡수 필름{Near-infrared absorbing film}Near-infrared absorbing film

본 발명은 근적외선을 흡수하는 광학 필름에 관한 것으로, 상세하게는 고온시의 색조변화가 적고, 내구성이 우수한 근적외선 흡수 필름에 관한 것이다.The present invention relates to an optical film that absorbs near infrared rays, and more particularly, to a near infrared absorbing film which is less in color tone change at high temperatures and has excellent durability.

근적외선의 흡수능을 갖는 광학 필름은 근적외선을 차단하고, 가시광을 통과시키는 성질을 가지고 있어, 각종 용도에 사용되고 있다.The optical film which has the near-infrared absorption ability has the property to block | block near-infrared and let visible light pass, and is used for various uses.

최근, 박형 대화면 디스플레이로서 플라즈마 디스플레이가 주목되고 있지만, 플라즈마 디스플레이로부터 방출되는 근적외선에 의해, 근적외선 리모컨을 사용하는 전자기기가 오작동을 일으키는 문제가 있어, 플라즈마 디스플레이의 전면(前面)에 상기의 근적외선 흡수능을 갖는 필름이 사용되고 있다.In recent years, plasma displays have attracted attention as thin large-screen displays, but there is a problem that electronic devices using the near-infrared remote control cause malfunction due to near-infrared radiation emitted from the plasma display, and the near-infrared absorption ability is applied to the front surface of the plasma display. The film which has is used.

근적외선의 흡수능을 갖는 필름으로서는, (1) 인산계 유리에, 구리나 철 등의 금속이온을 함유, (2) 굴절률이 상이한 층을 적층하고, 투과광을 간섭시킴으로써 특정 파장을 투과시키는 간섭 필터, (3) 공중합체에 구리이온을 함유하는 아크릴계 수지 필름, (4) 수지에 색소를 분산 또는 용해한 층을 적층한 필름이 제안되어 있다.As a film having a near-infrared absorptive capacity, (1) an interference filter containing metal ions such as copper or iron in a phosphate-based glass, and (2) laminating layers having different refractive indices and interfering transmitted light, ( 3) The acrylic resin film containing copper ion in a copolymer, and the film which laminated | stacked the layer which disperse | distributed or melt | dissolved the pigment in (4) resin are proposed.

이들 중에서 (4)의 필름은 가공성, 생산성이 양호하고, 광학설계의 자유도도 비교적 커서, 각종 방법이 제안되어 있다(특허문헌 1~9 참조).In these, the film of (4) has good workability and productivity, the degree of freedom of optical design is also comparatively large, and the various methods are proposed (refer patent document 1-9).

특허문헌 1: 일본국 특허공개 제2002-82219호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-82219

특허문헌 2: 일본국 특허공개 제2002-138203호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-138203

특허문헌 3: 일본국 특허공개 제2002-214427호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-214427

특허문헌 4: 일본국 특허공개 제2002-264278호 공보Patent Document 4: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-264278

특허문헌 5: 일본국 특허공개 제2002-303720호 공보Patent Document 5: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-303720

특허문헌 6: 일본국 특허공개 제2002-333517호 공보Patent Document 6: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-333517

특허문헌 7: 일본국 특허공개 제2003-82302호 공보Patent Document 7: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-82302

특허문헌 8: 일본국 특허공개 제2003-96040호 공보Patent Document 8: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-96040

특허문헌 9: 일본국 특허공개 제2003-114323호 공보Patent Document 9: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-114323

이들의 방법 중에는, 플라즈마 디스플레이로부터 방출되는 근적외선을 충분히 차단하는 능력을 가지고, 또한 장시간 사용에도 경시변화가 적은 것이 있다.Some of these methods have the capability of sufficiently blocking the near infrared rays emitted from the plasma display, and there is little change over time even for long time use.

한편, 디스플레이의 경량화나 고화질화를 위해, 유리를 사용하지 않고 근적외선 흡수 필름을 포함하는 광학 필터를 플라즈마 디스플레이의 패널에 첩합(貼合)시키는 방식이 제안되어 있다. 이 방식에서는 근적외선 흡수 필름에 디스플레이의 열이 전달되기 쉬워, 내습열성이나 내열성이 우수한 근적외선 흡수 필름이 요망되고 있다.On the other hand, in order to reduce the weight and quality of a display, the method of bonding together the optical filter containing a near-infrared absorbing film to the panel of a plasma display without using glass is proposed. In this system, heat of a display is easily transmitted to a near-infrared absorbing film, and the near-infrared absorbing film excellent in moisture heat resistance and heat resistance is desired.

발명의 개시Disclosure of the Invention

발명이 해결하고자 하는 과제Problems to be Solved by the Invention

본 발명의 목적은, 상기 종래기술의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 근적외 영역을 크고, 또한 폭 넓게 흡수하는 동시에, 내구성, 특히 내습열성이나 내열성이 고도로 우수한 근적외선 흡수 필름을 제공하는 것에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a near-infrared absorbing film which is designed to solve the above-mentioned problems of the prior art and absorbs the near-infrared region largely and broadly, and is highly excellent in durability, in particular, moist heat resistance and heat resistance.

과제를 해결하기 위한 수단Means to solve the problem

상기의 과제를 해결할 수 있었던 본 발명의 근적외선 흡수 필름은, 이하의 구성으로 된다.The near-infrared absorption film of this invention which could solve the said subject becomes the following structures.

제1 발명은, 투명기재 상에, 근적외선 흡수 색소, 수지로 주로 구성되는 조성물로 되는 근적외선 흡수층을 설치한 근적외선 흡수 필름으로서, 상기의 조성물 중에 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물 중 어느 하나를 함유하는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 필름이다.1st invention is a near-infrared absorption film which provided the near-infrared absorption layer which consists of a composition comprised mainly from a near-infrared absorption pigment | dye and resin on a transparent base material, In a said composition, a trifluoromethanesulfonic acid compound or bis (trifluoromethane) It is a near-infrared absorptive film containing any one of the sulfonyl) imide acid compounds.

제2 발명은, 근적외선 흡수 색소가 디임모늄염 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 제1 발명에 기재된 근적외선 흡수 필름이다.2nd invention is a near-infrared absorbing film of 1st invention characterized by the near-infrared absorption pigment | dye containing a dimonium salt compound.

제3 발명은, 디임모늄염 화합물이 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산을 반대이온(counter ion)으로 하는 디임모늄염 화합물인 것을 특징으로 하는 제2 발명에 기재된 근적외선 흡수 필름이다.The third invention is a near-infrared absorbing film according to the second invention, wherein the diimmonium salt compound is a diimmonium salt compound having bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid as a counter ion.

제4 발명은, 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물이 이온성 액체로서, 근적외선 흡수층 중에 0.1 질량% 이상 10.0 질량% 이하 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 제1~3 발명 중 어느 하나에 기재된 근적외선 흡수 필름이다.In a fourth aspect of the present invention, a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound is contained as an ionic liquid in an amount of 0.1% by mass or more and 10.0% by mass or less in the near infrared absorbing layer. It is a near-infrared absorption film in any one of 1-3 invention.

제5 발명은, 근적외선 흡수 색소로서, 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물을 반대이온으로 하는 시아닌 색소가, 근적외선 흡수층 중에 0.1 질량% 이상 10.0 질량% 이하 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 제1~3 발명 중 어느 하나에 기재된 근적외선 흡수 필름이다.In the fifth invention, a cyanine dye having a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound as a counterion as a near infrared absorbing dye is 0.1% by mass or more and 10.0% by mass or less in the near infrared absorbing layer. It is the near-infrared absorption film in any one of the 1st-3rd invention characterized by containing.

제6 발명은, 근적외선 흡수층을 구성하는 수지가 아크릴계 수지인 것을 특징으로 하는 제1~5 발명 중 어느 하나에 기재된 근적외선 흡수 필름이다.Resin which comprises a near-infrared absorption layer is acrylic resin, 6th invention is the near-infrared absorption film in any one of the 1st-5th invention characterized by the above-mentioned.

발명의 효과Effects of the Invention

본 발명의 근적외선 흡수 필름을 근적외선 흡수 필터로서 플라즈마 디스플레이의 전면에 설치한 경우, 종래의 근적외선 흡수 필터와 마찬가지로, 디스플레이로부터 방출되는 불필요한 근적외선을 흡수하여, 정밀기기의 오작동을 방지할 수 있을 뿐 아니라, 열에 의한 색조의 변화를 대폭 저감할 수 있기 때문에, 플라즈마 디스플레이의 고화질화에 기여할 수 있는 동시에, 광학 필터의 설계 자유도가 높아진다는 이점이 있다.When the near-infrared absorbing film of the present invention is installed on the front side of a plasma display as a near-infrared absorbing filter, like the conventional near-infrared absorbing filter, it absorbs unnecessary near-infrared rays emitted from the display, thereby preventing malfunction of precision instruments. Since the change in color tone due to heat can be greatly reduced, there is an advantage that it can contribute to the high quality of the plasma display and the design freedom of the optical filter is increased.

발명을 실시하기Implement the invention 위한 최선의 형태 Best form for

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.

(투명기재)(Transparent material)

본 발명에 있어서, 투명기재는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 전광선 투과율이 80% 이상이고, 또한 헤이즈가 5% 이하인 것이 바람직하다. 기재가 투명성이 떨어지는 경우에는 디스플레이의 휘도를 저하시킬 뿐 아니라, 화상의 샤프니스가 불량해진다.In the present invention, the transparent substrate is not particularly limited, but it is preferable that the total light transmittance is 80% or more, and the haze is 5% or less. When the substrate is poor in transparency, not only the brightness of the display is lowered, but also the sharpness of the image is poor.

이와 같은 투명기재로서는, 예를 들면 폴리에스테르계, 아크릴계, 셀룰로오스계, 폴리에틸렌계, 폴리프로필렌계, 폴리올레핀계, 폴리염화비닐계, 폴리카보네이트, 페놀계, 우레탄계 등의 플라스틱 필름 또는 시트, 유리 및 이들의 임의의 2종류 이상을 첩합시킨 것을 들 수 있다. 바람직하게는, 내열성, 유연성의 균형이 양호한 폴리에스테르계 필름이고, 보다 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이다.As such a transparent base material, For example, plastic film, sheet, glass, etc. of polyester type, acryl type, cellulose type, polyethylene type, polypropylene type, polyolefin type, polyvinyl chloride type, polycarbonate, phenol type, urethane type, etc. The thing which bonded two or more arbitrary types of is mentioned. Preferably, it is a polyester film with a good balance of heat resistance and flexibility, and more preferably a polyethylene terephthalate film.

본 발명에서 사용하는 투명기재로서 적합한 폴리에스테르계 필름이란, 디카르복실산 성분으로서, 테레프탈산, 이소프탈산, 나프탈렌디카르복실산 등의 방향족 디카르복실산 또는 그의 에스테르와, 글리콜 성분으로서 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 1,4-부탄디올, 네오펜틸글리콜 등을 에스테르화 반응 또는 에스테르 교환반응을 행하고, 이어서 중축합 반응시켜서 얻은 폴리에스테르 칩을 건조한 후, 압출기로 용융하여, T 다이로부터 시트상으로 압출하여 얻은 미연신 시트를 적어도 1축방향으로 연신하고, 이어서 열고정처리, 완화처리를 행함으로써 제조되는 필름이다.The polyester film suitable as a transparent base material used by this invention is an aromatic dicarboxylic acid or ester thereof, such as terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, as a dicarboxylic acid component, ethylene glycol as a glycol component, Polyester chip obtained by esterification or transesterification of diethylene glycol, 1,4-butanediol, neopentylglycol and the like, followed by polycondensation reaction is dried, melted with an extruder and extruded into a sheet form from a T die. It is a film manufactured by extending | stretching the unstretched sheet | seat obtained by extending | stretching at least in 1 axial direction, and then performing heat setting process and a relaxation process.

상기의 필름은 강도 등의 측면에서, 이축연신 필름이 특히 바람직하다. 연신방법으로서는, 튜뷸러 연신법, 동시 이축연신법, 축차 이축연신법 등을 들 수 있지만, 평면성, 치수 안정성, 두께 불균일 등으로부터 축차 이축연신법이 바람직하다. 축차 이축연신 필름은, 예를 들면 폴리에스테르의 유리전이온도(Tg)~(Tg+30℃)에서 2.0~5.0배로 길이방향으로 롤 연신하고, 계속해서 텐터로 예열한 후 120~150℃에서 1.2~5.0배로 폭방향으로 연신한다. 또한, 이축연신 후에 220℃ 이상 (융점-10℃) 이하의 온도에서 열고정처리를 행하고, 이어서 폭방향으로 3~8% 완화시킴으로써 제조할 수 있다. 또한, 필름 길이방향의 치수 안정성을 더욱 개선하기 위해, 세로 이완처리를 병용해도 된다.The biaxially oriented film is particularly preferable for the above film in terms of strength and the like. Examples of the stretching method include a tubular stretching method, simultaneous biaxial stretching method, and successive biaxial stretching method, and the like, and the sequential biaxial stretching method is preferable because of planarity, dimensional stability, and thickness nonuniformity. The sequential biaxially oriented film is, for example, roll drawn in the longitudinal direction at a glass transition temperature (Tg) of the polyester (Tg) to (Tg + 30 ° C) at 2.0 to 5.0 times, and then preheated with a tenter, followed by 1.2 at 120 to 150 ° C. Stretch in the width direction at ˜5.0 times. Moreover, it can manufacture by performing heat-setting process at the temperature of 220 degreeC or more (melting point-10 degreeC) or less after biaxial stretching, and then relaxing 3 to 8% in the width direction. Moreover, in order to further improve the dimensional stability of a film longitudinal direction, you may use together a longitudinal relaxation process.

필름에는, 핸들링성(예를 들면, 적층 후의 권취성(捲取性))을 부여하기 위해, 입자를 함유시켜 필름 표면에 돌기를 형성시키는 것이 바람직하다. 필름에 함유시키는 입자로서는 실리카, 카올리나이트, 탈크, 탄산칼슘, 제올라이트, 알루미나 등의 무기입자, 아크릴, PMMA, 나일론, 폴리스티렌, 폴리에스테르, 벤조구아나민·포르말린 축합물 등의 내열성 고분자 입자를 들 수 있다. 투명성의 측면에서, 필름 중의 입자의 함유량은 적은 것이 바람직하고, 예를 들면 1 ppm 이상 1000 ppm 이하인 것이 바람직하다. 또한, 투명성의 측면에서 사용하는 수지와 굴절률이 가까운 입자를 선택하는 것이 바람직하다. 또한, 필름에는 필요에 따라서 각종 기능을 부여하기 위해 내광제(자외선방지제), 색소, 대전방지제 등을 함유시켜도 된다.In order to provide handling property (for example, winding property after lamination) to a film, it is preferable to contain particle | grains and to form a processus | protrusion on the film surface. Examples of the particles to be contained in the film include inorganic particles such as silica, kaolinite, talc, calcium carbonate, zeolite, and alumina, and heat resistant polymer particles such as acrylic, PMMA, nylon, polystyrene, polyester, and benzoguanamine formalin condensate. . In terms of transparency, the content of particles in the film is preferably small, for example, preferably 1 ppm or more and 1000 ppm or less. Moreover, it is preferable to select the particle | grains whose refractive index and the resin used for transparency are close. Moreover, in order to provide various functions to a film as needed, you may contain a light resistant agent (ultraviolet-proof agent), a pigment | dye, an antistatic agent, etc.

본 발명에 있어서, 근적외선 흡수층을 적층하는 면의 반대면에 반사방지층을 설치하는 경우, 외부로부터 입사하는 자외선에 의한 근적외선 흡수 색소가 열화(劣化)되기 쉬워지기 때문에, 투명기재 내에 자외선 흡수제를 함유시키는 것이 바람직하다.In the present invention, when the anti-reflection layer is provided on the surface opposite to the surface on which the near-infrared absorbing layer is laminated, the near-infrared absorbing pigment due to the ultraviolet light incident from the outside tends to deteriorate, so that the ultraviolet ray absorbent is contained in the transparent substrate. It is preferable.

자외선 흡수제로서는, 유기계 자외선 흡수제와 무기계 자외선 흡수제로 크게 구별되지만, 투명성 확보의 관점에서는 유기계 자외선 흡수제(저분자형, 고분자형)의 사용이 바람직하다. 유기계 자외선 흡수제(저분자형)로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 벤조트리아졸계, 벤조페논계, 고리상 이미노에스테르계 등, 및 이들의 조합을 들 수 있다. 이들 중에서, 내구성의 관점에서는 벤조트리아졸계, 고리상 이미노에스테르계가 바람직하고, 또한 기재 제조시의 온도에 견디기 위해 분해온도가 290℃ 이상인 자외선 흡수제를 사용하는 것이 바람직하다.As a ultraviolet absorber, although it is classified roughly into organic type ultraviolet absorber and inorganic type ultraviolet absorber, use of organic type ultraviolet absorber (low molecular type, high molecular type) is preferable from a viewpoint of transparency. Although it does not specifically limit as an organic type ultraviolet absorber (low molecular type), For example, a benzotriazole type, a benzophenone type, a cyclic imino ester type, etc., and a combination thereof are mentioned. Among them, from the viewpoint of durability, a benzotriazole type and a cyclic imino ester type are preferable, and in order to withstand the temperature at the time of production of the substrate, it is preferable to use an ultraviolet absorber having a decomposition temperature of 290 ° C or higher.

자외선 흡수제의 함유량은, 근적외선 흡수층의 광열화(光劣化)를 억제할 수 있도록, 380 ㎚ 이하의 파장에서의 투과율이 10% 이하가 되도록 조정하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 자외선 흡수제의 함유량은 투명기재 중에 0.1~4 질량%인 것이 바람직하고, 0.3~2 질량%인 것이 보다 바람직하다. 자외선 흡수제량이 지나치게 적으면 자외선 흡수능이 작아지고, 지나치게 많으면 필름이 황변하는 경우나, 필름의 제막성이 저하되는 경우가 있기 때문에 바람직하지 않다.It is preferable to adjust content of a ultraviolet absorber so that the transmittance | permeability in the wavelength of 380 nm or less may be 10% or less so that photodeterioration of a near-infrared absorption layer can be suppressed. Specifically, the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.1 to 4% by mass, more preferably 0.3 to 2% by mass in the transparent substrate. If the amount of the ultraviolet absorber is too small, the ultraviolet absorbing ability is small. If the amount of the ultraviolet absorber is too large, yellowing of the film or deterioration of the film forming property of the film may be undesirable.

본 발명에서 사용하는 투명기재는 단층 필름이어도, 표층과 중심층을 적층한 2층 이상의 복합 필름이어도 상관없다. 복합 필름의 경우, 표층과 중심층의 기능을 독립적으로 설계할 수 있는 이점이 있다. 예를 들면, 두께가 얇은 표층에만 입자를 함유시켜서 표면에 요철을 형성함으로써 핸들링성을 유지하면서, 두께가 두꺼운 중심층에는 입자를 실질상 함유시키지 않음으로써, 복합 필름 전체로서 투명성을 더욱 향상시킬 수 있다. 또한, 자외선 흡수능을 부여하는 경우, 중심층에만 자외선 흡수제를 함유시킴으로써, 필름 제조시나 시간 경과에 따른 자외선 흡수제의 필름 표면으로의 석출을 저감할 수 있기 때문에, 근적외선 흡수층으로의 내열성 열화 등의 악영향을 억제할 수 있다. 상기 복합 필름의 제조방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 생산성을 고려하면, 표층과 중심층의 원료를 각각의 압출기로부터 압출하고, 1개의 다이스로 도입하여 미연신 시트를 얻은 후, 적어도 1축방향으로 배향시키는, 이른바 공압출법에 의한 적층이 특히 바람직하다.The transparent base material used by this invention may be a single | mono layer film, or the composite film of two or more layers which laminated | stacked the surface layer and the center layer may be sufficient. In the case of a composite film, there is an advantage that the functions of the surface layer and the center layer can be designed independently. For example, it is possible to further improve transparency as a whole composite film by containing particles only in a thin surface layer and forming irregularities on the surface, while maintaining handling properties while substantially not including particles in a thick center layer. have. In addition, in the case of providing the ultraviolet absorbing ability, by containing the ultraviolet absorbent only in the center layer, the precipitation of the ultraviolet absorbent on the film surface during film production or over time can be reduced, so that adverse effects such as deterioration of heat resistance to the near infrared absorbing layer can be reduced. It can be suppressed. Although the manufacturing method of the said composite film is not specifically limited, Taking productivity into consideration, the raw material of a surface layer and a center layer is extruded from each extruder, and it introduce | transduces into one die, and obtains an unstretched sheet, at least in 1 axial direction. Lamination | stacking by what is called co-extrusion method to orientate is especially preferable.

투명기재의 두께는 소재에 따라 상이하지만, 폴리에스테르 필름을 사용하는 경우에는 하한은 35 ㎛ 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 50 ㎛ 이상이다. 한편, 두께의 상한은 260 ㎛ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 200 ㎛ 이하이다. 두께가 얇은 경우에는 핸들링성이 불량해질 뿐 아니라, 근적외선 흡수층의 잔류 용매를 적어지도록 건조시에 가열한 경우, 필름에 열주름이 발생하여 평면성이 불량해지기 쉽다. 한편, 두께가 두꺼운 경우에는 비용면에서 문제가 있을 뿐 아니라, 롤상으로 권취하여 보존한 경우에 감긴 자국에 의한 평면성 불량이 발생하기 쉬워진다.Although the thickness of a transparent base material changes with raw materials, when using a polyester film, a minimum is 35 micrometers or more, More preferably, it is 50 micrometers or more. On the other hand, the upper limit of the thickness is preferably 260 µm or less, and more preferably 200 µm or less. In the case where the thickness is thin, not only the handling property is poor, but when the heating is performed at a time such that the residual solvent of the near-infrared absorbing layer is reduced, heat wrinkles occur in the film, and the planarity tends to be poor. On the other hand, when the thickness is thick, not only is there a problem in terms of cost, but also poor planarity due to the wound wound is likely to occur in the case of winding up and storing in roll shape.

(중간층)(Middle floor)

본 발명의 근적외선 흡수 필터는, 투명기재 상에 근적외선 흡수층을 적층한 구성으로 되지만, 투명기재와 근적외선 흡수층의 밀착성 향상이나 투명기재의 투명성 향상을 목적으로 중간층을 설치하는 것이 바람직하다. 또한, 필름 중에 입자를 함유시키지 않는 경우, 입자를 함유하는 중간층을 필름 제조시에 동시에 설치함으로써, 핸들링성을 유지하면서 고도의 투명성을 얻을 수 있다.Although the near-infrared absorption filter of this invention is a structure which laminated | stacked the near-infrared absorption layer on the transparent base material, it is preferable to provide an intermediate | middle layer for the purpose of improving the adhesiveness of a transparent base material and a near-infrared absorption layer, or the transparency of a transparent base material. Moreover, when particle | grains are not contained in a film, high transparency can be obtained, maintaining handling property by providing the intermediate | middle layer containing particle | grains simultaneously at the time of film manufacture.

상기 중간층을 구성하는 수지로서는 폴리에스테르계 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르우레탄 수지, 아크릴계 수지, 멜라민 수지 등을 들 수 있는데, 기재 및 근적외선 흡수층과의 밀착성이 양호하도록 선택하는 것이 중요하고, 구체적으로는, 기재 및 근적외선 흡수층을 구성하는 수지가 아크릴계라면, 아크릴계, 공중합 폴리에스테르계, 폴리에스테르우레탄계를 선정하는 것이 바람직하다.Examples of the resin constituting the intermediate layer include polyester resins, polyurethane resins, polyester urethane resins, acrylic resins, melamine resins, and the like, and it is important to select such resins to have good adhesion with the substrate and the near infrared absorbing layer. If the resin constituting the base material and the near-infrared absorbing layer is an acrylic, it is preferable to select an acrylic, a co-polyester type, and a polyester urethane type.

상기 중간층에는, 밀착성의 향상, 내수성의 향상을 목적으로 가교제를 함유시켜서 가교구조를 형성시켜도 상관없다. 가교제로서는 요소계, 에폭시계, 멜라민계, 이소시아네이트계를 들 수 있다. 특히, 수지가 고온·고습도하에서의 백화(白化)나 강도가 저하되는 경우에는 가교제에 의한 효과가 현저하다. 또한, 가교제를 사용하지 않고, 수지로서 자기 가교성을 갖는 그래프트 공중합 수지를 사용해도 된다.You may form a crosslinked structure by including a crosslinking agent in the said intermediate | middle layer for the purpose of improving adhesiveness and water resistance. Examples of the crosslinking agent include urea, epoxy, melamine and isocyanate. In particular, the effect of the crosslinking agent is remarkable when the whitening or strength of the resin decreases under high temperature and high humidity. In addition, you may use the graft copolymer resin which has self crosslinking property as resin, without using a crosslinking agent.

중간층에는, 표면에 요철을 형성시켜서 활성(滑性)을 개선할 목적으로, 각종 입자를 함유시켜도 된다. 중간층 중에 함유시키는 입자로서는, 예를 들면 실리카, 카올리나이트, 탈크, 탄산칼슘, 제올라이트, 알루미나 등의 무기입자, 아크릴, PMMA, 나일론, 스티렌, 폴리에스테르, 벤조구아나민·포르말린 축합물 등의 유기입자를 들 수 있다. 또한, 투명성의 측면에서 사용하는 수지와 굴절률이 가까운 입자를 선택하는 것이 바람직하다.The intermediate layer may contain various particles for the purpose of improving the activity by forming irregularities on the surface. Examples of the particles to be contained in the intermediate layer include inorganic particles such as silica, kaolinite, talc, calcium carbonate, zeolite and alumina, and organic particles such as acrylic, PMMA, nylon, styrene, polyester, and benzoguanamine formalin condensate. Can be mentioned. Moreover, it is preferable to select the particle | grains whose refractive index and the resin used for transparency are close.

또한, 중간층에 각종 기능을 부여하기 위해, 계면활성제, 대전방지제, 색소, 자외선 흡수제 등을 함유시켜도 된다.Moreover, in order to provide various functions to an intermediate | middle layer, you may contain surfactant, an antistatic agent, a pigment | dye, a ultraviolet absorber, etc.

중간층은 목적으로 하는 기능을 갖는 경우는 단층이어도 상관없지만, 필요에 따라서 2층 이상으로 적층해도 상관없다.Although the intermediate | middle layer may be a single | mono layer, when it has a target function, you may laminate | stack two or more layers as needed.

중간층의 두께는, 목적으로 하는 기능을 가지면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 0.01 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하가 바람직하다. 두께가 얇은 경우에는 중간층으로서도 기능이 발현되기 어려워지고, 반대로 두꺼운 경우에는 투명성이 불량해지기 쉬워진다.Although the thickness of an intermediate | middle layer will not be specifically limited if it has a target function, 0.01 micrometer or more and 5 micrometers or less are preferable. When the thickness is thin, the function is less likely to be expressed even as the intermediate layer. On the contrary, when the thickness is thick, transparency tends to be poor.

중간층을 설치하는 방법으로서는, 도포법이 바람직하다. 도포법으로서는, 그라비아코트 방식, 키스코트 방식, 딥 방식, 스프레이코트 방식, 커튼코트 방식, 에어나이프코트 방식, 블레이드코트 방식, 리버스 롤 코트 방식 등의 공지의 도포방법을 사용하여, 필름의 제조공정에서 도포층을 설치하는 인라인코트 방식, 필름 제조 후에 도포층을 설치하는 오프라인 코트 방식에 의해 설치할 수 있다. 이들의 방식 중, 인라인코트 방식이 비용면에서 우수할 뿐 아니라, 도포층에 입자를 함유시킴으로써, 투명기재에 입자를 함유시킬 필요가 없어지기 때문에, 투명성을 고도로 개선할 수 있어 바람직하다.As a method of providing the intermediate layer, a coating method is preferable. As a coating method, it is a manufacturing process of a film using well-known coating methods, such as a gravure coat system, a kiss coat system, a dip system, a spray coat system, a curtain coat system, an air knife coat system, a blade coat system, a reverse roll coat system. Can be installed by an inline coat method for installing the coating layer, or an offline coat method for installing the coating layer after film production. Among these methods, the inline coating method is not only excellent in terms of cost, but also by including particles in the coating layer, there is no need to include particles in the transparent base material, and therefore, transparency can be highly improved, which is preferable.

(근적외선 흡수층)(Near infrared absorption layer)

본 발명의 근적외선 흡수 필터는, 투명기재 상에 직접 또는 중간층을 매개로 근적외선 흡수 색소와 수지를 주로 함유하는 조성물로 되는 근적외선 흡수층이 설치되어 있다. 상기의 「근적외선 흡수 색소와 수지를 주로 함유」란, 상기 조성물 중에 근적외선 흡수 색소와 수지를 80 질량% 이상 함유하는 것을 의미한다.The near-infrared absorption filter of this invention is provided with the near-infrared absorption layer which consists of a composition which mainly contains a near-infrared absorbing dye and resin on a transparent base material directly or via an intermediate | middle layer. Said "mainly containing a near-infrared absorbing dye and resin" means containing 80 mass% or more of a near-infrared absorbing dye and resin in the said composition.

근적외선 흡수 색소란, 파장 800~1200 ㎚의 근적외선 영역에 극대 흡수를 갖는 색소로서, 디임모늄계, 프탈로시아닌계, 디티올 금속착체계, 나프탈로시아닌계, 아조계, 폴리메틴계, 안트라퀴논계, 나프토퀴논계, 피릴륨계, 티오피릴륨계, 스쿠아릴륨계, 크로코늄계, 테트라히드로콜린계, 트리페닐메탄계, 시아닌계, 아조계, 아미늄계 등의 화합물을 들 수 있다. 이들의 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용되지만, 근적외선 영역의 흡수가 크고, 또한 흡수역도 넓으며, 또한 가시광 영역의 투과율도 높은 하기의 화학식 1로 나타내어지는 디임모늄염 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The near-infrared absorbing dye is a dye having a maximum absorption in the near-infrared region having a wavelength of 800 to 1200 nm and includes a diimmonium, phthalocyanine, dithiol metal complex, naphthalocyanine, azo, polymethine, anthraquinone and naph. Compounds, such as a toquinone type, a pyryllium type, a thiopyryllium type, a squarylium type, a croconium type, a tetrahydrocholine type, a triphenylmethane type, a cyanine type, an azo type, and an aluminum type, are mentioned. Although these compounds are used individually or in mixture of 2 or more types, they contain the diimmonium salt compound represented by following General formula (1) which has large absorption of a near-infrared region, wide absorption range, and high transmittance of visible region. It is preferable.

Figure 112008059125510-PCT00001
Figure 112008059125510-PCT00001

상기의 화학식 1 중의 R1~R8의 구체예로서는, (a) 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, iso-부틸기, ter-부틸기, n-아밀기, n-헥실기, n-옥틸기, 2-히드록시에틸기, 2-시아노에틸기, 3-히드록시프로필기, 3-시아노프로필기, 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 부톡시에틸기 등의 알킬기, (b) 페닐기, 플루오로페닐기, 클로로페닐기, 톨릴기, 디에틸아미노페닐기, 나프틸기 등의 아릴기, (c) 비닐기, 프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기 등의 알케닐기, (d) 벤질기, p-플루오로벤질기, p-클로로페닐기, 페닐프로필기, 나프틸에틸기 등의 알랄킬기를 들 수 있다.As a specific example of R <1> -R <8> in said Formula (1), (a) methyl group, an ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, ter-butyl group, n-amyl group , n-hexyl group, n-octyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-cyanopropyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, butoxyethyl group, etc. Aryl groups such as alkyl groups, (b) phenyl groups, fluorophenyl groups, chlorophenyl groups, tolyl groups, diethylaminophenyl groups, naphthyl groups, (c) alkenyl groups such as vinyl groups, propenyl groups, butenyl groups, pentenyl groups, and (d ) Allylalkyl groups such as benzyl group, p-fluorobenzyl group, p-chlorophenyl group, phenylpropyl group and naphthylethyl group.

또한, R9~R12로서는 수소, 플루오르, 염소, 브롬, 디에틸아미노기, 디메틸아미노기, 시아노기, 니트로기, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 트리플루오로메틸기, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기 등을 들 수 있다.R 9 to R 12 include hydrogen, fluorine, chlorine, bromine, diethylamino group, dimethylamino group, cyano group, nitro group, methyl group, ethyl group, propyl group, trifluoromethyl group, methoxy group, ethoxy group and propoxy group Etc. can be mentioned.

또한, X-는 플루오르이온, 염소이온, 브롬이온, 요오드이온, 과염소산염이온, 헥사플루오로안티몬산이온, 헥사플루오로인산이온, 테트라플루오로붕산이온, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산이온 등을 들 수 있다.X - is fluorine, chlorine, bromine, iodine, perchlorate, hexafluoroantimonate, hexafluorophosphate, tetrafluoroborate, bis (trifluoromethanesulfonyl) Deacid ions, and the like.

이 디임모늄염 화합물은 시판품으로서 입수 가능하고, 예를 들면 니폰카야쿠제 Kayasorb IRG-022, IRG-023, IRG-024, IRG-068, 일본 칼리트제 CIR-1080, CIR-1081, CIR-1083, CIR-1085, CIR-1085F, CIR-RL 등이 적합하다.This diimmonium salt compound can be obtained as a commercial item, For example, Kayasorb IRG-022, IRG-023, IRG-024, IRG-068 by Nippon Kayaku, CIR-1080, CIR-1081, CIR-1083, CIR-1085, CIR-1085F, CIR-RL, etc. are suitable.

이들 중에서, 근적외선 흡수층 중에 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물을 함유시키는 것에 의한 내습열성이나 내열성 향상의 측면에서, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산이온을 반대이온으로 하는 디임모늄염 화합물이 바람직하다.Among them, the bis (trifluoromethanesulfonyl) imide is already in view of improving the heat resistance and the heat resistance by containing a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound in the near infrared absorbing layer. The diimmonium salt compound which makes deacid ion a counter ion is preferable.

비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산이온을 반대이온으로 하는 디임모늄염 화합물로서, 상기 시판의 디임모늄염 화합물 중에서, 니폰카야쿠제 Kayasorb IRG-068, 일본 칼리트제 CIR-1085, CIR-1085F, CIR-RL이 예시된다.As a diimmonium salt compound having bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid ion as a counter ion, among commercially available diimmonium salt compounds, Kayasorb IRG-068 manufactured by Nippon Kayaku Co., CIR-1085, CIR-1085F manufactured by Nippon Kaliton , CIR-RL is illustrated.

본 발명의 근적외선 흡수 필름은, 상기의 화학식 1로 나타내어지는 디임모늄염계 화합물 이외에, 근적외선 영역의 흡수역의 확대, 색조의 조정을 목적으로, 다른 근적외선 흡수 색소를 첨가하는 것도 가능하다.In the near-infrared absorbing film of the present invention, other near-infrared absorbing dyes may be added for the purpose of expanding the absorption range of the near-infrared region and adjusting the color tone, in addition to the diimmonium salt compound represented by the formula (1).

상기의 디임모늄염계 화합물과 병용할 수 있는 다른 근적외선 흡수 색소로서는, 프탈로시아닌계 화합물, 디티올 금속착체계 화합물, 시아닌계 화합물, 나프탈로시아닌계 화합물, 스쿠아릴륨염계 화합물, 피릴륨염계 화합물, 티오페릴륨계 화합물, 크로코늄계 화합물, 인도아닐린킬레이트계 색소, 인도나프톨킬레이트계 색소, 아조계 색소, 아조킬레이트계 색소, 아미늄염계 색소, 퀴논계 색소, 안트라퀴논계 색소, 폴리메틴계 색소, 트리페닐메탄계 색소 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 색소 자체의 고온고습도하의 열화가 적은 프탈로시아닌계 화합물, 디티올계 금속착체계 화합물이 바람직하다. 열화되기 쉬운 색소를 사용한 경우에는, 근적외 영역의 투과율의 경시 안정성이 불량해질 뿐 아니라, 디임모늄염계 화합물이 켄처(quencher)로서 작용하여 열화되고, 근적외선 흡수 필름이 노랗게 변색된다.As another near-infrared absorbing dye which can be used together with the said diimmonium salt type compound, a phthalocyanine type compound, a dithiol metal complex system compound, a cyanine type compound, a naphthalocyanine type compound, a squarylium salt type compound, a pyryllium salt type compound, thi Operyllium compounds, croconium compounds, inaniline chelate dyes, innaphthol chelate dyes, azo dyes, azochelate dyes, aluminium salt dyes, quinone dyes, anthraquinone dyes, polymethine dyes, Triphenylmethane type pigment | dye etc. are mentioned. Among them, phthalocyanine-based compounds and dithiol-based metal complex-based compounds with less deterioration under the high temperature and high humidity of the dye itself are preferred. When the pigment | dye which tends to deteriorate is used, not only stability of the transmittance | permeability of the near-infrared region becomes poor, a dimonium salt type compound acts as a quencher, deteriorates, and a near-infrared absorbing film discolors yellow.

이들의 일부는 시판품으로서 입수 가능하고, 예를 들면 니폰쇼쿠바이제의 프탈로시아닌계 색소(IR-1, IR-2, IR-3, IR-4, IR-10, IR-10A, IR-12, IR-14), 아사히덴카제의 시아닌계 색소(TZ-111, 114, 119, 121, 123), 미도리 화학제의 니켈 착체계 색소(MIR-101, MIR-111, MIR-121, MIR-102, MIR-1011, MIR-1021), 야마다카가쿠제의 시아닌계 색소(IR-301), 야마모토 화성제의 시아닌계 색소(YKR-2900), 프탈로시아닌계 색소(YKR-3070, YKR-3081)를 들 수 있다.Some of these can be obtained as a commercial item, for example, the phthalocyanine pigment | dye (IR-1, IR-2, IR-3, IR-4, IR-10, IR-10A, IR-12, made from Nippon Shokubai) IR-14), cyanine dyes (TZ-111, 114, 119, 121, 123) made by Asahi Denka, nickel complex dyes (MIR-101, MIR-111, MIR-121, MIR-102) , MIR-1011, MIR-1021), cyanine pigments (IR-301) made by Yamada Kagaku, cyanine pigments (YKR-2900) made by Yamamoto Chemicals, phthalocyanine pigments (YKR-3070, YKR-3081) Can be.

또한, 상기의 근적외선 흡수 색소 중에서도, 내습열성이나 내열성 향상의 측면에서, 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물을 반대이온으로 하는 시아닌계 색소가 바람직하다. 예를 들면, 시판품으로서, 니폰카야쿠제의 CY-40MC(F), CYP4646(F), 또는 아사히덴카 공업제의 TZ-109D를 들 수 있다.Among the near-infrared absorbing dyes described above, cyanine-based dyes containing a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound as counter ions are preferable from the viewpoint of moisture-heat resistance and heat resistance improvement. For example, CY-40MC (F), CYP4646 (F) by Nippon Kayaku, or TZ-109D by Asahi Denka Co., Ltd. is mentioned as a commercial item.

본 발명에 있어서, 목적으로 하는 근적외선 영역의 흡수, 가시광 영역에서의 투과율을 제어하기 위해, 근적외선 흡수 색소의 양을, 근적외선 흡수층의 두께방향에서의 임의의 면에서 0.01 g/㎡ 이상 1.0 g/㎡ 이하로 존재하도록 조정하는 것이 바람직하다. 근적외선 흡수 색소의 양이 적은 경우에는, 근적외선 영역에서의 흡수능이 부족하고, 반대로 많은 경우에는 가시광 영역에서의 투명성이 부족하여 디스 플레이의 휘도가 저하되는 문제가 있다.In the present invention, in order to control the absorption of the near-infrared region of interest and the transmittance in the visible region, the amount of the near-infrared absorbing dye is 0.01 g / m 2 or more and 1.0 g / m 2 in any aspect in the thickness direction of the near-infrared absorbing layer. It is preferable to adjust so that it exists below. When the amount of the near infrared absorbing dye is small, the absorption ability in the near infrared region is insufficient. On the contrary, in many cases, there is a problem that the brightness of the display is lowered due to the lack of transparency in the visible region.

본 발명에 있어서, 근적외선 흡수층을 투명기재에 적층하는 방법으로서는, 근적외선 흡수 색소와 수지를 가열에 의해 용융시켜 투명기재 상에 설치하는 방법, 근적외선 흡수 색소와 수지를 유기용제에 용해하여 투명기재 상에 도포, 건조하여 적층하는 도포법을 들 수 있다. 근적외선 흡수층의 폭방향 및 흐름방향의 균일성이 얻어지기 쉬운 도포법이 바람직하다.In the present invention, a method of laminating a near infrared absorbing layer on a transparent substrate includes a method of melting a near infrared absorbing dye and a resin by heating to install on a transparent substrate, and dissolving the near infrared absorbing dye and a resin in an organic solvent on a transparent substrate. The coating method of apply | coating, drying, and laminating is mentioned. The coating method in which the uniformity of the width direction and the flow direction of a near-infrared absorption layer is easy to be obtained is preferable.

본 발명에 있어서, 근적외선 흡수층에 사용하는 수지로서는, 근적외선 흡수 색소를 균일하게 용해 또는 분산할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 폴리에스테르계, 아크릴계, 폴리아미드계, 폴리우레탄계, 폴리올레핀계, 폴리카보네이트계 수지를 적합하게 사용할 수 있다. 그 중에서도 내열성이 우수한 아크릴계 수지가 바람직하다. 또한, 수지의 유리전이온도가, 이용하는 기기의 사용 보증온도 이상인 것이 바람직하다.In the present invention, the resin used for the near infrared absorbing layer is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse the near infrared absorbing dye uniformly, but is not limited to polyester, acrylic, polyamide, polyurethane, polyolefin, and polycarbonate. Resin can be used suitably. Especially, acrylic resin which is excellent in heat resistance is preferable. Moreover, it is preferable that the glass transition temperature of resin is more than the usage guarantee temperature of the apparatus to be used.

유리전이온도가 기기 사용온도 이하이면, 수지 중에 분산된 색소끼리가 반응하여, 또는 수지가 외기 중의 수분 등을 흡수하여, 색소나 바인더 수지의 열화가 커진다. 또한, 본 발명에 있어서, 수지의 유리전이온도는 기기 사용온도 이상이면 특별히 한정되지 않지만, 특히 바람직하게는 85℃ 이상 160℃ 이하가 바람직하다.When the glass transition temperature is equal to or lower than the device use temperature, the pigments dispersed in the resin react, or the resin absorbs moisture in the outside air and the like, and the deterioration of the dye and the binder resin increases. In the present invention, the glass transition temperature of the resin is not particularly limited as long as the glass transition temperature of the resin is higher than or equal to the apparatus use temperature, and particularly preferably 85 ° C. or higher and 160 ° C. or lower.

또한, 유리전이온도는 JIS K 7121에 준거하여, 시차주사 열량법(DSC)을 사용하여 행하고, 유리전이온도는 보외(補外) 유리전이 개시온도를 사용한다. 측정의 순서는 이하와 같이 하였다.In addition, glass transition temperature is performed using differential scanning calorimetry (DSC) based on JISK7112, and glass transition temperature uses extrapolation glass transition start temperature. The measurement procedure was as follows.

시료 약 5 ㎎을 측정용 알루미늄제 팬에 봉입(封入)하여 시차열량계(MAC 사 이언스 DSC3100S))에 장착하고, 질소 분위기하, 10℃/분의 속도로 30℃에서 200℃까지 승온시키고, 200℃에 도달한 후 시료를 취출(取出)하여, 바로 급냉한다. 이 팬을 다시 시차열량계에 장착하고, 30℃에서 10℃/분의 속도로 승온시켜서 유리전이온도(Tg:℃)를 측정한다.About 5 mg of sample was enclosed in a measuring aluminum pan, mounted on a differential calorimeter (MAC Science DSC3100S), and heated up from 30 ° C. to 200 ° C. at a rate of 10 ° C./min under a nitrogen atmosphere. After reaching 200 ° C, the sample is taken out and immediately quenched. This pan is again mounted on a differential calorimeter, and the glass transition temperature (Tg: degreeC) is measured by heating at 30 degreeC at the speed of 10 degree-C / min.

근적외선 흡수층에 사용하는 수지의 유리전이온도가 85℃ 미만인 경우, 색소와 수지의 상호작용, 색소간의 상호작용 등이 일어나, 색소의 변성이 발생하기 쉬워진다. 또한, 유리전이온도가 160℃를 초과하는 경우, 이 수지를 용매에 용해하고, 투명기재 상에 도포할 때 충분한 건조를 하고자 하면 고온으로 해야만 하여, 기재의 열주름에 의한 평면성 불량, 더 나아가서는 색소의 열화가 발생한다. 또한, 저온에서 건조한 경우, 건조시간이 길어 생산성이 나빠져, 생산성이 불량해진다. 또한, 충분한 건조가 불가능할 가능성도 있어, 용매가 도막 중에 잔류하여, 전술한 바와 같이 수지 외관의 유리전이온도가 저하되고, 마찬가지로 색소의 변성이 발생하기 쉬워진다.When the glass transition temperature of resin used for a near-infrared absorption layer is less than 85 degreeC, interaction of a pigment | dye and resin, interaction of a pigment | dye, etc. arise, and a pigment | dye of a pigment becomes easy to generate | occur | produce. In addition, when the glass transition temperature exceeds 160 ° C., the resin should be heated to a high temperature to dissolve the resin in a solvent and to be sufficiently dried to apply it on a transparent substrate. Deterioration of the pigment occurs. In addition, when drying at low temperatures, the drying time is long, resulting in poor productivity and poor productivity. In addition, sufficient drying may not be possible, and a solvent remains in the coating film, and the glass transition temperature of the external appearance of a resin falls as mentioned above, and it becomes easy to generate | occur | produce a denaturation of a pigment similarly.

또한, 유리전이온도가 높은 아크릴계 수지는 유연성이 부족하여, 근적외선 흡수층이 충격이나 굽힘에 의해 균열이 발생하기 쉬운 문제가 있다. 후술하는 바와 같이 이온성 액체를 근적외선 흡수층 중에 함유함으로써 유연성을 부여하는 것이 가능해진다.In addition, the acrylic resin having a high glass transition temperature is insufficient in flexibility, and the near-infrared absorbing layer has a problem that cracks are likely to occur due to impact or bending. As described later, flexibility can be imparted by containing the ionic liquid in the near infrared absorbing layer.

근적외선 흡수층에 있어서의 근적외선 흡수 색소의 양은, 수지에 대해 1 질량% 이상 10 질량% 이하인 것이 바람직하다. 수지 중의 근적외선 흡수 색소의 양이 적은 경우에는, 목적으로 하는 근적외선 흡수능을 달성하기 위해 근적외선 흡수층 의 도공량을 늘릴 필요가 있고, 충분한 건조를 하고자 하면 고온 및/또는 장시간으로 할 필요가 있어, 색소의 열화나 기재의 평면성 불량 등이 일어나기 쉬워진다. 반대로, 수지 중의 근적외선 흡수 색소의 양이 많은 경우에는 색소간의 상호작용이 강해져, 근적외선 흡수층 중의 잔류 용매량을 적게 하였다 하더라도 색소의 경시적인 변성이 일어나기 쉬워진다.It is preferable that the quantity of a near-infrared absorbing dye in a near-infrared absorbing layer is 1 mass% or more and 10 mass% or less with respect to resin. When the amount of near-infrared absorbing dye in resin is small, it is necessary to increase the coating amount of a near-infrared absorbing layer in order to achieve the target near-infrared absorbing ability, and to make it dry enough, it is necessary to make it high temperature and / or long time, Deterioration, poor planarity of the substrate, and the like tend to occur. On the contrary, in the case where the amount of the near-infrared absorbing dye in the resin is large, the interaction between the dyes becomes strong, and even if the amount of the residual solvent in the near-infrared absorbing layer is reduced, the dye tends to change over time.

본 발명에 있어서, 근적외선 흡수층은 근적외선 흡수 색소, 수지, 및 유기용매를 포함하는 도포액을 투명기재 상에 도포, 건조시켜서 형성된다. 이때, 상기 도포액 중에 계면활성제를 함유시키는 것이 중요하다. 계면활성제를 함유시킴으로써 근적외선 흡수층의 도공 외관, 특히 미소(微小)한 기포에 의한 빠짐, 이물질 등의 부착에 의한 패임, 건조공정에서 튀는 것이 개선된다. 더 나아가서는, 계면활성제는 도포건조에 의해 표면으로 블리드되어 국재화(局在化)함으로써, HLB의 낮은 계면활성제를 첨가하면 내구성이 향상될 뿐 아니라, 활성이 부여되어, 근적외선 흡수층 또는/및 반대면에 표면요철을 형성하지 않아도 핸들링성이 양호해져, 롤상으로 권취하는 것이 용이해진다.In the present invention, the near infrared absorbing layer is formed by applying and drying a coating liquid containing a near infrared absorbing dye, a resin, and an organic solvent on a transparent substrate. At this time, it is important to contain a surfactant in the coating liquid. By containing surfactant, the coating appearance of a near-infrared absorption layer, especially the removal by the micro bubble, the dent by adhesion of a foreign material, etc., and splashing in a drying process are improved. Further, the surfactant is bleeded to the surface by application drying and localized, so that the addition of a low surfactant of HLB not only improves durability, but also gives activity, so that the near infrared absorbing layer or / and vice versa. Even if surface unevenness is not provided in a surface, handling property becomes favorable and it becomes easy to wind up in roll shape.

계면활성제는, 양이온계, 음이온계, 비이온계의 공지의 것을 적합하게 사용할 수 있지만, 근적외선 흡수 색소와의 열화 등의 문제로부터 극성기를 가지고 있지 않은 비이온계가 바람직하고, 더 나아가서는, 계면활성능이 우수한 실리콘계 또는 플루오르계 계면활성제가 바람직하다.Although surfactant can use suitably well-known thing of a cationic system, an anionic system, and a nonionic system, The nonionic system which does not have a polar group from the problem, such as deterioration with a near-infrared absorbing dye, is preferable, Furthermore, surfactant activity Silicone or fluorine-based surfactants having excellent performance are preferred.

실리콘계 계면활성제로서는 디메틸실리콘, 아미노실란, 아크릴실란, 비닐벤질실란, 비닐벤질아미노실란, 글리시드실란, 메르캅토실란, 디메틸실란, 폴리디메 틸실록산, 폴리알콕시실록산, 하이드로겐 변성 실록산, 비닐 변성 실록산, 히드록시 변성 실록산, 아미노 변성 실록산, 카르복실 변성 실록산, 할로겐화 변성 실록산, 에폭시 변성 실록산, 메타크릴옥시 변성 실록산, 메르캅토 변성 실록산, 플루오르 변성 실록산, 알킬기 변성 실록산, 페닐 변성 실록산, 알킬렌옥시드 변성 실록산 등을 들 수 있다.Silicone surfactants include dimethylsilicone, aminosilane, acrylicsilane, vinylbenzylsilane, vinylbenzylaminosilane, glycidsilane, mercaptosilane, dimethylsilane, polydimethylsiloxane, polyalkoxysiloxane, hydrogen-modified siloxane, vinyl-modified siloxane , Hydroxy modified siloxane, amino modified siloxane, carboxyl modified siloxane, halogenated modified siloxane, epoxy modified siloxane, methacryloxy modified siloxane, mercapto modified siloxane, fluorine modified siloxane, alkyl group modified siloxane, phenyl modified siloxane, alkylene oxide modified Siloxane and the like.

플루오르계 계면활성제로서는, 사플루오르화에틸렌, 퍼플루오로알킬암모늄염, 퍼플루오로알킬설폰산아미드, 퍼플루오로알킬설폰산나트륨, 퍼플루오로알킬칼륨염, 퍼플루오로알킬카르복실산염, 퍼플루오로알킬설폰산염, 퍼플루오로알킬에틸렌옥시드 부가물, 퍼플루오로알킬트리메틸암모늄염, 퍼플루오로알킬아미노설폰산염, 퍼플루오로알킬인산에스테르, 퍼플루오로알킬알킬 화합물, 퍼플루오로알킬알킬베타인, 퍼플루오로알킬할로겐화물 등을 들 수 있다.Examples of fluorine-based surfactants include ethylene tetrafluoride, perfluoroalkyl ammonium salts, perfluoroalkyl sulfonate amides, sodium perfluoroalkyl sulfonates, perfluoroalkyl potassium salts, perfluoroalkyl carboxylates, and perfluoro Roalkylsulfonic acid salts, perfluoroalkylethylene oxide adducts, perfluoroalkyltrimethylammonium salts, perfluoroalkylaminosulfonates, perfluoroalkyl phosphate esters, perfluoroalkylalkyl compounds, perfluoroalkylalkylbeta Phosphorus, perfluoroalkyl halide, etc. are mentioned.

계면활성제의 함유량은, 근적외선 흡수층을 구성하는 수지에 대해 0.01 질량% 이상 2.00 질량% 이하인 것이 바람직하다. 계면활성제의 함유량이 적은 경우에는 도공 외관의 향상이나 활성 부여의 효과가 부족하고, 반대로 많은 경우에는 근적외선 흡수층이 수분을 흡수하기 쉬워져, 색소의 열화가 촉진되는 경우가 있다.It is preferable that content of surfactant is 0.01 mass% or more and 2.00 mass% or less with respect to resin which comprises a near-infrared absorption layer. When there is little content of surfactant, the effect of the improvement of coating appearance and the provision of activity are lacking, On the contrary, in many cases, a near-infrared absorbing layer becomes easy to absorb water and the deterioration of a pigment may be accelerated.

본 발명에 있어서, 계면활성제의 HLB는 2 이상 12 이하인 것이 바람직하다. HLB의 하한값은 바람직하게는 3이고, 특히 바람직하게는 4이다. 한편, HLB의 상한값은 바람직하게는 11이고, 특히 바람직하게는 10이다. HLB가 낮은 경우에는, 표면이 발수화(撥水化)되어 내습열에 의한 색소의 열화를 억제할 수 있고, 또한 이활성을 부여하기 쉽지만, 지나치게 낮은 경우에는, 계면활성능의 부족에 의해 레벨링성 이 불충분해지는 경향이 있다. 반대로, HLB가 높은 경우에는 활성이 부족할 뿐 아니라, 근적외선 흡수층이 수분을 흡수하기 쉬워져, 색소의 경시 안정성이 불량해지기 쉽다.In the present invention, the HLB of the surfactant is preferably 2 or more and 12 or less. The lower limit of the HLB is preferably 3, particularly preferably 4. On the other hand, the upper limit of the HLB is preferably 11, and particularly preferably 10. When the HLB is low, the surface is water-repellent and the deterioration of the pigment due to moisture-resistant heat can be suppressed, and it is easy to impart diactivation. However, when the HLB is too low, the leveling is caused by the lack of surfactant activity. Gender tends to be insufficient. On the contrary, when the HLB is high, not only the activity is insufficient, but the near-infrared absorbing layer tends to absorb moisture, and the color stability of the pigment tends to be poor.

또한, HLB란 미국의 Atlas Powder사의 W. C. Griffin이 Hydorophil Lyophile Balance로 이름 붙여서 계면활성제의 분자 중에 포함되는 친수기와 친유기의 균형을 특성값으로서 지표화한 값으로, 이값이 낮을수록 친유성이 높아지고, 반대로 높을수록 친수성이 높아진다.In addition, HLB is WC Griffin of Atlas Powder of the United States named Hydorophil Lyophile Balance and indexed the balance between hydrophilic and lipophilic groups contained in the molecule of surfactant as a characteristic value. The higher the hydrophilicity.

근적외선 흡수층의 표면으로의 계면활성제의 국재화는 수지의 종류나 용제에 따라 상이하지만, HLB의 값이 7 부근에서 가장 일어나기 쉽고, 또한 초기의 건조가 완만한 쪽이 일어나기 쉽다. 국재화의 정도는, ESCA를 사용하여 측정한 근적외선 흡수층의 표면 근방의 계면활성제의 양과, 화학분석법으로 측정한 근적외선 흡수층 중의 계면활성제의 양을 대비함으로써 평가할 수 있다.The localization of the surfactant to the surface of the near-infrared absorbing layer differs depending on the type of resin and the solvent, but the HLB value is most likely to occur around 7, and the initial drying tends to occur more slowly. The degree of localization can be evaluated by comparing the amount of the surfactant in the vicinity of the surface of the near infrared absorbing layer measured using ESCA with the amount of the surfactant in the near infrared absorbing layer measured by chemical analysis.

본 발명에 있어서, 근적외선 흡수층 중에 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물 중 어느 하나를 함유시키는 것이 중요하다. 상기의 화합물을 함유시킴으로써, 근적외선 흡수 색소, 특히 디임모늄염 화합물의 열에 의한 열화를 저감하는 것이 가능해진다. 작용 메커니즘은 명확하지는 않지만, 상기의 화합물이 디임모늄염 화합물의 반대이온과 도포액 중 또는 건조 후에 이온교환하여, 디임모늄염 화합물을 안정화시키는 것으로 추정하고 있다. 디임모늄염 화합물의 반대이온이, 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물인 경우는, 다른 색소나 수지에 함유되는 저분자 량의 반대이온이 디임모늄염 화합물의 반대이온과 이온교환하는 것을 억제하기 때문에, 내습열성이나 내열성이 향상될 것으로 생각된다.In the present invention, it is important to contain either a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound in the near infrared absorbing layer. By containing the said compound, it becomes possible to reduce the deterioration by the heat of a near-infrared absorbing dye, especially a diimmonium salt compound. Although the mechanism of action is not clear, it is presumed that the above-mentioned compound is ion-exchanged in the coating liquid or after drying with the counterion of the diimmonium salt compound to stabilize the dimonium salt compound. When the counterion of the diimmonium salt compound is a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound, the low-molecular weight counterion contained in another dye or resin is the diimmonium salt compound. Since the ion exchange with the counterion of is suppressed, it is thought that the heat and moisture resistance and the heat resistance are improved.

본 발명에 있어서, 트리플루오로메탄설폰산 화합물로서는 공지의 것이 사용 가능하고, 트리플루오로메탄설폰산리튬, 트리플루오로메탄설폰산칼륨, 트리플루오로메탄설폰산은, 트리플루오로메탄설폰산무수물, 트리플루오로메탄설폰산아연, 트리플루오로메탄설폰산암모늄, 트리플루오로메탄설폰산이트륨, 트리플루오로메탄설폰산가돌리늄, 트리플루오로메탄설폰산칼륨, 트리플루오로메탄설폰산 3,5-디클로로-1-플루오로피리디늄, 트리플루오로메탄설폰산 2,2,2-트리플루오로에틸, 트리플루오로메탄설폰산트리메틸실릴, 트리플루오로메탄설폰산나트륨을 들 수 있다. 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물로서는, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산리튬, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산은, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산나트륨, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산칼륨, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산세슘, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 테트라메틸암모늄, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 에틸트리메틸암모늄, 디에틸디메틸암모늄, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 트리에틸메틸암모늄, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 테트라에틸암모늄, 테트라부틸암모늄, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 N,N-디메틸피롤리디늄, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 N-에틸-N-메틸피롤리디늄, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 N,N-디메틸피페리디늄, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 N-에틸-N-메틸피페리디늄, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 테트라메틸포스포늄, 테트라에틸포스포늄, 비 스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 1-에틸-2-메틸이미다졸륨, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 1-에틸-2,3-디메틸이미다졸리늄, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 1,2,3,4-테트라메틸이미다졸리늄을 들 수 있다.In this invention, a well-known thing can be used as a trifluoromethanesulfonic acid compound, and lithium trifluoromethanesulfonic acid, potassium trifluoromethanesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid are trifluoromethanesulfonic anhydrides. Zinc trifluoromethanesulfonic acid, ammonium trifluoromethanesulfonic acid, yttrium trifluoromethanesulfonic acid, gadolinium trifluoromethanesulfonic acid, potassium trifluoromethanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid 3,5 -Dichloro-1-fluoropyridinium, trifluoromethanesulfonic acid 2,2,2-trifluoroethyl, trifluoromethanesulfonic acid trimethylsilyl, and sodium trifluoromethanesulfonic acid are mentioned. As the bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid lithium and bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid are already bis (trifluoromethanesulfonyl) imides Sodium Date, Bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid potassium, Bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid cesium, Bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid tetramethylammonium, Bis (trifluoromethane Sulfonyl) imide acid ethyltrimethylammonium, diethyldimethylammonium, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid triethylmethylammonium, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid tetraethylammonium, tetrabutylammonium, bis (Trifluoromethanesulfonyl) imide acid N, N-dimethylpyrrolidinium, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid N-ethyl-N-methylpyrrolidinium, bis (trifluoromethanesulfonyl) Imide acid N, N-dimethyl Ferridinium, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid N-ethyl-N-methylpiperidinium, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid tetramethylphosphonium, tetraethylphosphonium, bis (tri Fluoromethanesulfonyl) imide acid 1-ethyl-2-methylimidazolium, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid 1-ethyl-2,3-dimethylimidazolinium, bis (trifluoromethane Sulfonyl) imide acid 1,2,3,4-tetramethylimidazolinium.

본 발명에 있어서, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물에 유사한 구조로서, 비스(퍼플루오로알칸설포닐)이미드산류, 트리스(퍼플루오로알칸설포닐)메티드류도 공업적으로 입수할 수 있으면 사용 가능하다.In the present invention, as a structure similar to the bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound, bis (perfluoroalkanesulfonyl) imide acids and tris (perfluoroalkanesulfonyl) methides are also industrially It is available if it is available.

본 발명에 있어서, 디임모늄염 화합물 이외의 근적외선 흡수 색소가, 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 중 어느 하나를 반대이온으로 해서 되는 것이어도 상관없다. 그 경우에는 광학특성으로부터 함유량이 제약되지만, 필요에 따라서, 다른 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물 중 어느 하나를 별도로 함유시키면 된다.In the present invention, the near-infrared absorbing dyes other than the diimmonium salt compound may be any of the trifluoromethanesulfonic acid compound or the bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid as the counterion. In that case, although content is restrict | limited from an optical characteristic, what is necessary is just to contain either another trifluoromethanesulfonic acid compound or bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound separately as needed.

본 발명에 있어서, 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물 중 어느 하나를, 근적외선 흡수층 중에 0.1 질량% 이상 10.0 질량% 이하 함유시키는 것이 바람직하다. 상기의 화합물이 0.1 질량% 미만에서는 내열성의 향상효과가 얻어지기 어려워진다. 반대로, 상기의 화합물이 10 질량%를 초과하는 경우에는 용해성 불량에 의해 헤이즈가 높아지는 문제가 발생한다.In the present invention, it is preferable to contain at least 0.1% by mass or more and 10.0% by mass or less of the trifluoromethanesulfonic acid compound or the bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound in the near infrared absorbing layer. If the said compound is less than 0.1 mass%, the improvement effect of heat resistance will become difficult to be acquired. On the contrary, when said compound exceeds 10 mass%, the problem that a haze becomes high by poor solubility arises.

또한, 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물이 이온성 액체인 경우, 이온성 액체를 근적외선 흡수층 중에 함유시킴으로써, 근적외선 흡수층의 유연성이 향상될 뿐 아니라, 근적외선 흡수 색소, 특 히 디임모늄염 화합물의 열에 의한 열화를 저감하는 것이 가능해진다. 이온을 다량으로 근적외선 흡수층에 함유시킴으로써, 가소제로서 작용하여 유연성을 부여할 수 있고, 또한, 디임모늄염 화합물의 반대이온과 이온교환하여 안정화한다. 디임모늄염 화합물의 반대이온과 이온성 액체가 동일한 경우에는, 다른 색소나 수지에 함유되는 저분자량의 반대이온이 디임모늄염 화합물의 반대이온과 이온교환을 방해하여, 내열성이 향상된다.In addition, when the trifluoromethanesulfonic acid compound or the bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound is an ionic liquid, by containing the ionic liquid in the near infrared absorption layer, not only the flexibility of the near infrared absorption layer is improved, but also the near infrared ray It becomes possible to reduce deterioration due to heat of the absorbing dye, especially the diimmonium salt compound. By containing a large amount of ions in the near-infrared absorbing layer, it can act as a plasticizer to impart flexibility, and is also stabilized by ion exchange with a counterion of the diimmonium salt compound. When the counterion of the diimmonium salt compound and the ionic liquid are the same, low molecular weight counterions contained in other dyes or resins interfere with ion exchange with the counterion of the diimnium salt compound, thereby improving heat resistance.

상기의 이온성 액체는 음이온, 양이온의 이온만으로 구성되는 액체상의 염이다.Said ionic liquid is a liquid salt consisting only of ions of an anion and a cation.

이온성 액체를 구성하는 음이온종으로서는, 예를 들면 Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)2N-, (CF3SO2)3C-, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, F(HF)n-, (CN)2N-, C4F9SO3 -, (C2F5SO2)2N-, C3F7COO-, (CF3SO2)(CF3CO)N- 등을 들 수 있다. 이들 중에서 플루오르 함유 원자를 포함하는 음이온 성분은 저융점의 이온성 화합물을 얻기 쉬워, 근적외선 흡수층의 유연성을 부여하기 쉬워진다. 또한, 디임모늄염 화합물의 반대이온이 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산인 경우에는, 동일한 반대이온을 사용함으로써, 내습열성이나 내열성의 향상효과가 얻어진다.Examples of anionic species that make up the ionic liquid, for example, Cl -, Br -, I - , AlCl 4 -, Al 2 Cl 7 -, BF 4 -, PF 6 -, ClO 4 -, NO 3 -, CH 3 COO -, CF 3 COO -, CH 3 SO 3 -, CF 3 SO 3 -, (CF 3 SO 2) 2 N -, (CF 3 SO 2) 3 C -, AsF 6 -, SbF 6 -, NbF 6 -, TaF 6 -, F ( HF) n -, (CN) 2 N -, C 4 F 9 SO 3 -, (C 2 F 5 SO 2) 2 N -, C 3 F 7 COO -, (CF 3 SO 2 ) (CF 3 CO) N and the like. Among these, an anion component containing a fluorine-containing atom easily obtains an ionic compound having a low melting point, and easily provides flexibility of the near infrared absorbing layer. In the case where the counterion of the diimmonium salt compound is bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid, by using the same counterion, the effect of improving moisture resistance and heat resistance is obtained.

양이온종으로서는 이미다졸륨, 피리디늄을 구체적으로 들 수 있다. 질소 함 유 오늄, 황 함유 오늄, 인 함유 오늄으로 되는 것을 사용함으로써, 근적외선 흡수층에 대전방지효과를 부여하는 것이 가능해져 바람직하다.Specific examples of the cationic species include imidazolium and pyridinium. By using nitrogen-containing onium, sulfur-containing onium and phosphorus-containing onium, it is possible to impart an antistatic effect to the near infrared absorbing layer, which is preferable.

상기와 같은 이온성 액체는 시판품을 사용해도 되지만, 하기와 같이 하여 합성하는 것도 가능하다. 이온성 액체의 합성방법으로서는 목적으로 하는 이온성 액체가 얻어지면 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로는, 문헌 "이온성 액체-개발의 최전선과 미래-" [(주)씨엠씨 출판 발행]에 기재되어 있는 바와 같은, 할로겐화물법, 수산화물법, 산에스테르법, 착형성법, 및 중화법 등이 사용된다.Although a commercial item may be used for the above ionic liquid, it is also possible to synthesize | combine as follows. The method for synthesizing the ionic liquid is not particularly limited as long as the target ionic liquid is obtained, but is generally described in the document "Ionic Liquid-Forefront and Future of Development" published by CMC Corporation. As the halide method, the hydroxide method, the acid ester method, the complexing method, the neutralization method, and the like are used.

이온성 화합물의 함유량은, 근적외선 흡수층 중에 0.1 질량% 이상 10.0 질량% 이하 함유시키는 것이 바람직하다. 0.1 질량% 미만에서는 이온성 액체 함유에 의한 내열성의 향상이나 유연성 부여의 효과가 발현되기 어려워진다. 반대로, 10 질량%를 초과하는 경우에는, 근적외선 흡수층의 표면으로 석출되어 점착제와의 밀착성이 저하되기 쉬워진다.It is preferable to make content of an ionic compound contain 0.1 mass% or more and 10.0 mass% or less in a near-infrared absorption layer. If it is less than 0.1 mass%, the effect of the improvement of heat resistance and flexibility provision by ionic liquid containing becomes difficult to be expressed. On the contrary, when it exceeds 10 mass%, it will precipitate on the surface of a near-infrared absorption layer, and adhesiveness with an adhesive will fall easily.

본 발명에 있어서, 근적외선 흡수층은 수지, 근적외선 흡수 색소, 계면활성제를 포함하는 도포액을 투명기재 상에 도포·건조함으로써 적층하는 것이 바람직하다. 이 도포액은 도공성으로부터 유기용매에 의해 희석하는 것이 필요하다.In this invention, it is preferable to laminate | stack a near-infrared absorption layer by apply | coating and drying a coating liquid containing resin, a near-infrared absorbing dye, and surfactant on a transparent base material. It is necessary to dilute this coating liquid with an organic solvent from coating property.

상기 유기용매로서는, (1) 메틸알코올, 에틸알코올, n-프로필알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, 트리데실알코올, 시클로헥실알코올, 2-메틸시클로헥실알코올 등의 알코올류, (2) 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 글리세린 등의 글리콜류, (3) 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸렌에테르, 에틸렌글리콜모노부 틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜부틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸아세테이트 등의 글리콜에테르류, (4) 초산에틸, 초산이소프로필렌, 초산 n-부틸 등의 에스테르류, (5) 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 이소포론, 디아세톤알코올 등의 케톤류를 예시할 수 있고, 이들 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the organic solvent include (1) alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, tridecyl alcohol, cyclohexyl alcohol, and 2-methylcyclohexyl alcohol, and (2) Glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, etc. (3) Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethylene ether, ethylene glycol monobutyl ether, di Ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol butyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl acetate, ethylene glycol monobutyl acetate, diethylene glycol monomethyl acetate, diethylene glycol monoethyl Glycol ethers such as acetate and diethylene glycol monobutyl acetate (4) esters such as ethyl acetate, isopropylene acetate, n-butyl acetate, (5) acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, isophorone, diacetone alcohol, etc. Ketones may be exemplified, and these may be used alone or in combination of two or more thereof.

바람직하게는, 색소의 용해성이 우수한 케톤류를, 도포액에 사용하는 전체 유기용매에 대해 30 질량% 이상 80 질량% 이하 함유시킨다. 그 밖의 유기용매는 레벨링성, 건조성을 고려하여 선정하는 것이 바람직하다. 또한, 유기용매의 비점은 60℃ 이상 180℃ 이하가 바람직하다. 비점이 낮은 경우에는 도공 중에 도포액의 고형분 농도가 변화하여, 도공 두께가 안정화되기 어렵다. 반대로, 비점이 높은 경우에는 도막 중에 잔존하는 유기용매량이 증가하여, 경시 안정성이 불량해진다.Preferably, 30 mass% or more and 80 mass% or less of ketones excellent in the solubility of a pigment | dye are contained with respect to the all organic solvent used for a coating liquid. It is preferable to select other organic solvents in consideration of leveling properties and drying properties. Moreover, as for the boiling point of an organic solvent, 60 degreeC or more and 180 degrees C or less are preferable. When boiling point is low, solid content concentration of a coating liquid changes during coating, and coating thickness is hard to stabilize. On the contrary, when the boiling point is high, the amount of the organic solvent remaining in the coating film increases, resulting in poor stability over time.

근적외선 흡수 색소 및 수지를 유기용매 중에 용해 또는 분산하는 방법으로서는, 가온하에서의 교반, 분산 및 분쇄의 방법을 들 수 있다. 가온함으로써 색소 및 수지의 용해성을 향상시킬 수 있어, 미용해물 등에 의한 도공 외관으로의 불량이 방해된다. 또한, 분산 및 분쇄하여 수지 및 색소를 0.3 ㎛ 이하의 미립자 상태로 도포액 중에 분산함으로써, 투명성이 우수한 층을 형성하는 것이 가능해진다. 분산기 및 분쇄기로서는 공지의 것을 사용할 수 있고, 구체적으로는 볼밀, 샌드밀, 아트라이터, 롤밀, 애지테이터(agitator), 콜로이드밀, 초음파 호모지나이저, 호모믹서, 펄밀, 습식 제트밀, 페인트 쉐이커, 버터플라이 믹서, 플래니터리 믹서, 헨셀 믹서 등을 들 수 있다.As a method of dissolving or dispersing a near-infrared absorbing dye and resin in an organic solvent, the method of stirring, dispersion, and grinding | pulverization under heating is mentioned. By heating, the solubility of a pigment | dye and resin can be improved, and the defect to coating appearance by undissolved matter etc. is hindered. Moreover, it becomes possible to form a layer excellent in transparency by disperse | distributing and pulverizing and disperse | distributing resin and a pigment in a coating liquid in 0.3 micrometer or less fine particle state. As the disperser and the pulverizer, known ones can be used, and specifically, ball mills, sand mills, attritors, roll mills, agitators, colloid mills, ultrasonic homogenizers, homomixers, pearl mills, wet jet mills, paint shakers, A butterfly mixer, a planetary mixer, a Henschel mixer, etc. are mentioned.

도포액 중에 컨태미네이션이나 1 ㎛ 이상의 미용해물이 존재한 경우, 도포 후의 외관이 불량해지기 때문에, 도포하기 전에, 필터 등으로 제거할 필요가 있다. 필터로서, 각종의 것을 적합하게 사용할 수 있지만, 1 ㎛ 크기의 것을 99% 이상 제거하는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 1 ㎛ 이상의 컨태미네이션이나 미용해물을 포함하는 도포액을 도포하여 건조한 경우에는, 그 주위에 패임 등이 발생하여 100~1000 ㎛ 사이즈의 결점이 되는 경우가 있다.In the case where the contamination or undissolved lysate of 1 µm or more is present in the coating liquid, since the appearance after application becomes poor, it is necessary to remove it with a filter or the like before applying. Although various things can be used suitably as a filter, It is preferable to use 99% or more of things of 1 micrometer size removal. In the case of applying and drying a coating liquid containing 1 µm or more of contaminants or unsealed products, dents or the like may occur around it, resulting in a defect of a size of 100 to 1000 µm.

도포액 중에 포함되는 수지 및 색소 등의 고형분 농도는 10 질량% 이상 30 질량%가 바람직하다. 고형분 농도가 낮은 경우에는, 도포 후의 건조에 시간이 걸려 생산성이 떨어질 뿐 아니라, 도막 중에 잔존하는 용매량이 증가하여, 경시 안정성이 불량해진다. 반대로, 고형분 농도가 높은 경우에는, 도포액의 점도가 높아져 레벨링성이 부족하여 도공 외관이 불량해진다. 도포액의 점도는 10 cps 이상 300 cps 이하가 도공 외관의 면에서 바람직하고, 이 범위가 되도록 고형분 농도, 유기용매 등을 조정하는 것이 바람직하다.As for solid content concentration, such as resin and pigment | dye contained in a coating liquid, 10 mass% or more and 30 mass% are preferable. When the solid content concentration is low, drying after application takes time, not only the productivity decreases, but also the amount of solvent remaining in the coating film increases, resulting in poor stability over time. On the contrary, when solid content concentration is high, the viscosity of a coating liquid will become high, and leveling property will become inferior and coating appearance will be bad. As for the viscosity of a coating liquid, 10 cps or more and 300 cps or less are preferable at the point of coating appearance, and it is preferable to adjust solid content concentration, an organic solvent, etc. so that it may become this range.

본 발명에서, 근적외선 흡수층을 도포법에 의해 투명기재 상에 적층하는 방법으로서는, 그라비아코트 방식, 키스코트 방식, 딥 방식, 스프레이코트 방식, 커튼코트 방식, 에어나이프코트 방식, 블레이드코트 방식, 리버스롤코트 방식, 바코트 방식, 립코트 방식 등 통상 사용되고 있는 방법을 적용할 수 있다. 이들 중에 서, 균일하게 도포할 수 있는 그라비아코트 방식, 특히 리버스그라비아 방식이 바람직하다. 또한, 그라비아의 직경은 80 ㎜ 이하인 것이 바람직하다. 직경이 큰 경우에는 흐름방향에 구불구불한 선이 발생하는 빈도가 증가한다.In the present invention, as a method of laminating the near-infrared absorbing layer on the transparent substrate by a coating method, a gravure coat method, a kiss coat method, a dip method, a spray coat method, a curtain coat method, an air knife coat method, a blade coat method, a reverse roll The method normally used, such as a coat system, a bar coat system, and a lip coat system, can be applied. Among these, the gravure coat method which can apply | coat uniformly, especially the reverse gravure method are preferable. Moreover, it is preferable that the diameter of gravure is 80 mm or less. Larger diameters increase the frequency of serpentine lines in the flow direction.

근적외선 흡수층의 건조 후의 도포량은 특별히 한정되지 않지만, 하한은 1 g/㎡가 바라직하고, 보다 바람직하게는 3 g/㎡이며, 상한은 50 g/㎡가 바람직하고, 보다 바람직하게는 30 g/㎡이다. 건조 후의 도포량이 적은 경우에는 근적외선의 흡수력이 부족해지기 쉬워진다. 그 때문에, 수지 중의 근적외선 흡수 색소의 존재량을 늘리면, 색소간의 거리가 짧아지기 때문에, 색소간의 상호작용이 강해진다. 그 결과, 색소의 열화 등이 일어나기 쉬워져, 경시 안정성이 불량해진다. 반대로, 건조 후의 도포량이 많은 경우에는 근적외선의 흡수능은 충분하지만, 가시광 영역에서의 투명성이 저하되어, 디스플레이의 휘도가 저하된다. 그 때문에, 수지 중의 근적외선 흡수 색소의 존재량을 저감하면, 광학특성은 조절할 수 있지만, 건조가 불충분해지기 쉬워진다. 그 결과, 도막 중의 잔류용매에 의해 색소의 경시 안정성이 불량해진다. 한편, 건조를 충분히 한 경우에는 기재의 평면성이 불량해진다.Although the coating amount after drying of a near-infrared absorption layer is not specifically limited, 1 g / m <2> is preferable for a minimum, More preferably, it is 3 g / m <2>, 50 g / m <2> is preferable and more preferably 30 g / m <2>. M 2. When the application amount after drying is small, the absorption power of near-infrared rays will tend to run short. Therefore, when the amount of the near-infrared absorbing dye in resin is increased, the distance between the dyes becomes shorter, so that the interaction between the dyes becomes stronger. As a result, deterioration of a dye tends to occur, and stability with time becomes poor. On the contrary, when the application amount after drying is large, the absorption ability of near-infrared rays is sufficient, but transparency in the visible light region is lowered and the brightness of the display is lowered. For this reason, when the amount of the near-infrared absorbing dye in the resin is reduced, the optical characteristics can be adjusted, but the drying tends to be insufficient. As a result, stability with time of a pigment | dye becomes poor with the residual solvent in a coating film. On the other hand, when dry enough, the planarity of a base material will become inferior.

도포액을 투명기재 상에 도포하고, 건조하는 방법으로서는 공지의 열풍건조, 적외선 히터 등을 들 수 있지만, 건조속도가 빠른 열풍건조가 바람직하다.Although a well-known hot air drying, an infrared heater, etc. are mentioned as a method of apply | coating a coating liquid on a transparent base material, and drying, hot air drying with a quick drying speed is preferable.

도포 후의, 초기의 항률(恒率) 건조의 단계에서는 20℃ 이상 80℃ 이하에서, 2 m/초 이상 30 m/초의 열풍을 사용하여 건조하는 것이 바람직하다. 초기건조를 강하게 행하는(열풍온도가 높고, 열풍의 풍량이 큰) 경우에는, 계면활성제의 표면으로의 국재화가 일어나기 어려워 내구성 향상이나 활성 부여의 효과가 나오기 어려 울 뿐 아니라, 기포 유래의 미소한 코트 누락, 미소한 튐, 크랙 등의 도막의 미소한 결점이 발생하기 쉬워진다. 반대로, 초기건조를 약하게 하는(열풍온도가 낮고, 열풍의 풍량이 작은) 경우에는, 외관은 양호해지지만 건조시간이 걸려 비용면에서 문제가 있을 뿐 아니라, 브러싱 등의 문제가 발생한다. 도포액에 계면활성제를 첨가하지 않는 경우에는, 상기의 미소한 결점이 발생하기 쉬워, 초기건조를 매우 약하게 할 필요가 있다.It is preferable to dry using hot air of 2 m / sec or more and 30 m / sec at 20 degreeC or more and 80 degrees C or less in the stage of initial stage drying after application | coating. When the initial drying is performed strongly (hot wind temperature is high and the amount of hot air is large), localization to the surface of the surfactant is difficult to occur, and the effect of improving the durability and imparting activity is hardly obtained. It is easy to produce minute defects in coating films such as missing coats, minute cracks, and cracks. On the contrary, in the case of weakening the initial drying (low hot air temperature and small amount of hot air), the appearance is good, but the drying time is not only troublesome in terms of cost, but also causes problems such as brushing. When surfactant is not added to a coating liquid, said small fault arises easily and it is necessary to make initial drying very weak.

감률(減率) 건조의 공정에서는, 초기건조보다도 고온으로 하여, 도막 중의 용매를 감소시킬 필요가 있고, 바람직한 온도는 120℃ 이상 180℃ 이하이다. 특히 바람직하게는 하한값이 140℃이고, 상한값은 170℃이다. 온도가 낮은 경우에는, 도막 중의 용매가 감소하기 어려워져, 잔류용매가 되어 색소의 경시적인 안정성이 불충분해진다. 반대로, 고온인 경우에는, 열주름에 의해 기재의 평면성이 불량해질 뿐 아니라, 근적외선 흡수 색소가 열에 의해 열화된다. 또한, 통과시간으로서는 5초 이상 180초 이하인 것이 바람직하다. 시간이 짧은 경우에는 도막 중의 잔류하는 용매가 많아져 경시 안정성이 불량해지고, 반대로 시간이 긴 경우에는 생산성이 불량해질 뿐 아니라, 기재에 열주름이 발생하여 평면성이 불량해진다. 통과시간의 상한은 생산성과 평면성의 측면에서, 30초로 하는 것이 특히 바람직하다.In the reduction rate drying step, the solvent in the coating film needs to be reduced to a higher temperature than the initial drying, and the preferred temperature is 120 ° C or more and 180 ° C or less. Especially preferably, a lower limit is 140 degreeC and an upper limit is 170 degreeC. When the temperature is low, the solvent in the coating film is less likely to decrease, becoming a residual solvent and insufficient stability of the dye over time. On the contrary, in the case of high temperature, not only the planarity of a base material becomes poor by heat wrinkle, but a near-infrared absorbing dye deteriorates by heat. Moreover, as passage time, it is preferable that they are 5 second or more and 180 second or less. If the time is short, the amount of solvent remaining in the coating film increases, resulting in poor temporal stability. On the contrary, in the case of long time, not only the productivity is poor, but also heat wrinkles occur on the substrate, resulting in poor planarity. The upper limit of the passage time is particularly preferably 30 seconds in terms of productivity and planarity.

건조의 최종에서는 열풍온도를 수지의 유리전이온도 이하로 하고, 플랫 상태로 기재의 실온을 수지의 유리전이온도 이하로 하는 것이 바람직하다. 고온 상태로 건조로를 나온 경우에는, 도공면이 롤 표면에 접촉했을 때 미끄러짐이 불량해져, 흠집 등이 발생할 뿐 아니라, 컬 등이 발생하는 경우가 있다.In the end of drying, it is preferable to make hot air temperature below the glass transition temperature of resin, and to make room temperature of a base material below the glass transition temperature of resin in a flat state. In the case of leaving the drying furnace in a high temperature state, when the coated surface comes into contact with the roll surface, slippage becomes poor, not only scratches occur, but also curls may occur.

(근적외선 흡수 필름)(Near infrared absorption film)

본 발명에 있어서 근적외선 흡수 필름이란, 800~1200 ㎚의 근적외 영역의 투과율이 낮고, 400 ㎚~800 ㎚의 가시광 영역의 투과율이 높은 필름을 말한다. 근적외 영역의 투과율은 낮을수록 바람직하고, 구체적으로는 40% 이하, 보다 바람직하게는 30% 이하이다. 투과율이 높은 경우에는, 플라즈마 디스플레이로부터 방출되는 근적외선의 흡수가 부족하여, 근적외선 리모컨을 사용하는 전자기기의 오작동을 방지할 수 없다.In this invention, a near-infrared absorption film means the film with the low transmittance | permeability of the near infrared region of 800-1200 nm, and the high transmittance | permeability of the visible light region of 400 nm-800 nm. The lower the transmittance of the near infrared region, the more preferable. Specifically, the transmittance is 40% or less, and more preferably 30% or less. When the transmittance is high, absorption of near infrared rays emitted from the plasma display is insufficient, and malfunction of the electronic apparatus using the near infrared remote controller cannot be prevented.

투과율의 조정으로서는, 전술한 근적외선 흡수 색소의 종류, 단위면적당 근적외선 흡수 색소의 존재량에 따라 변경할 수 있다.As adjustment of a transmittance | permeability, it can change according to the kind of above-mentioned near-infrared absorbing dye and the amount of presence of a near-infrared absorbing dye per unit area.

근적외선 흡수 필름의 색조로서는, Lab 표색계로 표현하면, a값은 -10.0~+10.0, b값은 -10.0~+10.0인 것이 바람직하다. 이 범위이면, 플라즈마 디스플레이의 전면에 설치한 경우에도 자연스러운 색이 되어 바람직하다.As a hue of a near-infrared absorbing film, when expressing with a Lab colorimeter, it is preferable that a value is -10.0-+10.0, and b value is -10.0-+10.0. If it is this range, it becomes a natural color also when it is provided in the front surface of a plasma display, and it is preferable.

색조를 조정하는 방법으로서는, 전술한 근적외선 흡수 색소의 종류, 단위면적당 근적외선 흡수 색소의 존재량, 더 나아가서는 다른 색소의 혼합에 의해 달성할 수 있다. 또한, 후술의 근적외선 흡수 필름의 전면 또는 이면에 착색된 점착층을 사용하여 전자파방지 필름, 반사방지 필름, 유리 등의 다른 부재와 첩합하는 경우에는, 광학 필터로서 자연스러운 색이 되도록 색조를 조정하는 것이 바람직하다.As a method of adjusting a color tone, it can achieve by mixing with the kind of above-mentioned near-infrared absorbing dye, the amount of a near-infrared absorbing dye per unit area, and further mixing with other pigment | dye. In addition, when bonding together with other members, such as an electromagnetic wave prevention film, an antireflection film, and glass, using the adhesive layer colored on the front surface or the back surface of the near-infrared absorption film mentioned later, adjusting a color tone so that it may become a natural color as an optical filter. desirable.

근적외선 흡수층의 도공 외관으로서는, 직경 300 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 100 ㎛의 사이즈의 결점을 존재하지 않도록 해야한다. 300 ㎛ 이상의 결점은 플라즈마 디스플레이의 전면에 설치하면 휘점(輝点)과 같이 되어, 결점이 현저해진 다. 100 ㎛ 이상 300 ㎛ 미만의 결점도 점착가공 등의 첩합에 의해 렌즈효과 등으로 강조되는 경우가 있어, 가능한 존재하지 않도록 해야한다. 또한, 도공층의 얇은 선, 불균일 등도 디스플레이 전면에서는 현저해져 문제가 된다.As a coating appearance of a near-infrared absorption layer, it should be made to avoid the fault of the size of 300 micrometers or more, More preferably, 100 micrometers in diameter. The defect of 300 micrometers or more becomes like a bright spot when installed in front of a plasma display, and a defect becomes remarkable. The defect of 100 micrometers or more and less than 300 micrometers may be emphasized by the lens effect etc. by the bonding of adhesive processing, etc., and it should not exist as much as possible. In addition, thin lines, unevenness, and the like of the coating layer also become prominent on the front of the display and become a problem.

근적외선 흡수 필름은 고온, 고습도하에 장기간 방치되어도, 근적외선의 투과율, 가시광의 투과율이 변화하지 않는 것이 바람직하다. 고온, 고습도하의 경시 안정성이 불량인 경우에는, 디스플레이 영상의 색조가 변화할 뿐 아니라, 근적외선 리모컨을 사용한 전자기기의 오작동을 방지하는 본 발명의 효과가 없어지는 경우가 있다.Even when the near-infrared absorbing film is left for a long time under high temperature and high humidity, it is preferable that the transmittance of the near infrared ray and the transmittance of the visible light do not change. When the stability over time under high temperature and high humidity is poor, not only the color tone of the display image changes, but also the effect of the present invention which prevents malfunction of the electronic device using the near infrared remote controller may be lost.

경시 안정성을 양호하게 하기 위해서는, 색소나 수지의 종류, 첨가제에 따라 변화하지만, 도포액에서 사용하는 유기용매의 종류, 도포층의 두께, 건조조건 등을 제어함으로써 근적외선 흡수층 중의 잔류 용매량을 저감하는 것, 또는 수지 중의 색소의 함유량을 조정함으로써 양호하게 할 수 있다. 또한, 근적외선 흡수층의 잔류용매의 양은 적으면 적을수록 좋지만, 3 질량% 이하로 하는 것이 바람직하다. 3 질량% 이하가 되면, 실질적으로 경시 안정성에 차이가 없어진다. 그러나, 추가적으로 잔류 용매량을 저하시키기 위해, 예를 들면 건조를 과혹한 조건으로 하면, 필터의 평면성이 불량해지는 등의 폐해가 발생하여, 감압건조와 같은 방법에서는 생산성이 저하된다.In order to improve the stability over time, the amount of solvent or solvent in the near-infrared absorbing layer is reduced by controlling the type of organic solvent used in the coating liquid, the thickness of the coating layer, and the drying conditions. It can be made favorable by adjusting content of the thing or the pigment in resin. The smaller the amount of the residual solvent in the near infrared absorbing layer, the better. The lower the amount of the residual solvent, the better. When it becomes 3 mass% or less, there will be no difference in stability with time substantially. However, in order to further reduce the amount of residual solvent, for example, if drying is made in an excessive condition, adverse effects such as poor flatness of the filter are generated, and productivity is lowered in a method such as vacuum drying.

본 발명에 있어서, 근적외선 흡수층을 설치하지 않은 면에 다른 기능을 부여해도 상관없다. 구체적으로는, 대전방지층, 이(易)접착층, 이활층(易滑層), 반사방지층, 전자파방지층을 들 수 있다. 반사방지층, 전자파방지층을 설치함으로써, 광 학 필터의 부재를 줄일 수 있어, 저렴하게 할 수 있을 뿐 아니라, 빛이 간섭하는 면이 감소하여 플라즈마 디스플레이의 화질을 향상할 수 있다. 대전방지층은 근적외선 흡수층의 형성시, 후공정에서의 먼지의 부착을 저감할 수 있어, 미소 결점의 저감이나 제조시의 수율을 향상하는 것이 가능해진다. 이접착층은 점착제로 다른 부재와 첩합했을 때의 밀착력의 향상, 이활층은 핸들링성을 향상하는 것이 가능해진다.In this invention, you may provide another function to the surface which does not provide a near-infrared absorption layer. Specifically, an antistatic layer, an easily bonding layer, an easily slid layer, an antireflection layer, and an electromagnetic wave prevention layer are mentioned. By providing the antireflection layer and the electromagnetic wave prevention layer, the member of the optical filter can be reduced, making it inexpensive, and reducing the interference surface of light, thereby improving the image quality of the plasma display. In the formation of the near infrared absorbing layer, the antistatic layer can reduce the adhesion of dust in a later step, thereby reducing the fine defects and improving the yield at the time of manufacture. The easily adhesive layer becomes able to improve the adhesiveness at the time of bonding together with another member with an adhesive, and an easily slid layer to improve handling property.

대전방지층에 사용하는 대전방지제로서는 공지의 것을 사용할 수 있지만, 근적외선 흡수 필름의 제조시에 롤 상에서 권취했을 때, 근적외선 흡수층에 대전방지층이 접촉하여, 근적외선 흡수 색소, 특히 디임모늄염 화합물이 열화되는 경우가 있기 때문에, 음이온계나 양이온계 계면활성제 타입이나, 4급 암모늄염의 양이온계 수지를 사용하는 것은 바람직하지 않고, π공액계 도전성 고분자를 함유하는 것이 필요하다. π공액계 도전성 고분자는 근적외선 흡수 색소, 특히 디임모늄염의 열화를 촉진하는 경우가 없고, 반대로 경시 안정성이 양호해지는 경우가 있다. π공액계 도전성 고분자로서는, 아닐린 및/또는 그의 유도체, 피롤 및/또는 그의 유도체, 이소티아나프텐 및/또는 그의 유도체, 아세틸렌 및/또는 그의 유도체, 티오펜 및/또는 그의 유도체 등을 들 수 있다. 그 중에서도 착색이 적은 티오펜 및/또는 그의 유도체가 바람직하다.As an antistatic agent used for an antistatic layer, a well-known thing can be used, but when winding up on a roll at the time of manufacture of a near-infrared absorption film, when an antistatic layer contacts a near-infrared absorption layer and a near-infrared absorbing pigment, especially a diimium salt compound deteriorates, It is not preferable to use anionic or cationic surfactant types or cationic resins of quaternary ammonium salts, and it is necessary to contain π-conjugated conductive polymers. The conjugated system conductive polymer does not promote deterioration of near-infrared absorbing dyes, especially dimonium salts, and on the contrary, stability with time may be good. Examples of? conjugated conductive polymers include aniline and / or derivatives thereof, pyrrole and / or derivatives thereof, isothianaphthene and / or derivatives thereof, acetylene and / or derivatives thereof, thiophene and / or derivatives thereof and the like. . Especially, thiophene and / or its derivative which are few in coloring are preferable.

본 발명에 있어서, 디스플레이로부터 방출되는 유해 전자파를 차단할 목적으로, 적외선 흡수층과 동일면 내지는 반대면에 도전층을 직접 또는 점착제를 매개로 설치해도 된다. 이 도전층은 금속 메시와 도전 박막 중 어느 것을 사용해도 되고, 금속 메시를 사용한 경우, 개구율이 50% 이상인 금속 메시 도전층을 가지고 있을 필요가 있다. 금속 메시의 개구율이 낮으면 전자파 차폐성은 양호해지지만 광선 투과율이 저하되는 문제가 있기 때문에, 양호한 광선 투과율을 얻기 위해서는 개구율이 50% 이상은 필요로 된다. 본 발명에 사용되는 금속 메시로서는, 전기전도성이 높은 금속박에 에칭처리를 실시하여, 메시상으로 한 것이나, 금속 섬유를 사용한 직물상의 메시나, 고분자 섬유의 표면에 금속을 도금 등의 수법을 사용하여 부착시킨 섬유를 사용해도 된다. 상기 전자파 흡수층에 사용되는 금속은 전기전도성이 높고, 안정성이 좋으면 어떠한 금속이어도 되고 특별히 한정되는 것은 아니지만, 가공성, 비용 등의 관점으로부터, 바람직하게는 구리, 니켈, 텅스텐 등이 좋다.In the present invention, for the purpose of blocking harmful electromagnetic waves emitted from the display, the conductive layer may be provided directly or on the opposite side to the infrared absorbing layer via a pressure-sensitive adhesive. This conductive layer may use either a metal mesh or a conductive thin film, and when using a metal mesh, it is necessary to have a metal mesh conductive layer with an opening ratio of 50% or more. When the opening ratio of the metal mesh is low, electromagnetic shielding properties are improved, but there is a problem that the light transmittance is lowered. Therefore, an opening ratio of 50% or more is required to obtain a good light transmittance. As the metal mesh used in the present invention, a metal foil having high electrical conductivity is etched to form a mesh, or a metal mesh is fabricated using metal fibers, or a metal is attached to the surface of a polymer fiber by using a method such as plating. You may use the fiber made. The metal used for the electromagnetic wave absorbing layer may be any metal as long as it has high electrical conductivity and good stability, but is not particularly limited, but copper, nickel, tungsten, or the like is preferable from the viewpoint of workability and cost.

또한, 도전 박막을 사용한 경우, 투명 도전층은 어떠한 도전막이어도 되지만, 바람직하게는 금속산화물인 것이 바람직하다. 이것에 의해, 보다 높은 가시광선 투과율을 얻을 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서 투명 도전층의 도전율을 향상시키고자 하는 경우는, 금속산화물/금속/금속산화물의 3층 이상의 반복구조인 것이 바람직하다. 금속을 다층화함으로써, 높은 가시광선 투과율을 유지하면서, 전도성을 얻을 수 있다. 본 발명에 사용되는 금속산화물은, 전도성과 가시광선 투과성을 가지고 있으면 어떠한 금속산화물이어도 된다. 일례로서, 산화주석, 인듐산화물, 인듐주석산화물, 산화아연, 산화티탄, 산화비스무트 등이 있다. 이상은 일례로서, 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명에 사용되는 금속층은 도전성의 관점으로부터 금, 은 및 이들을 포함하는 화합물이 바람직하다.In addition, when a conductive thin film is used, what kind of conductive film may be sufficient as a transparent conductive layer, Preferably it is preferable that it is a metal oxide. As a result, a higher visible light transmittance can be obtained. In the present invention, when the electrical conductivity of the transparent conductive layer is to be improved, it is preferable that the structure is a repeating structure of three or more layers of metal oxide / metal / metal oxide. By multilayering the metal, conductivity can be obtained while maintaining high visible light transmittance. The metal oxide used in the present invention may be any metal oxide as long as it has conductivity and visible light transmittance. Examples include tin oxide, indium oxide, indium tin oxide, zinc oxide, titanium oxide, bismuth oxide, and the like. The above is an example and is not specifically limited. In addition, the metal layer used in the present invention is preferably gold, silver and a compound containing these from the viewpoint of conductivity.

또한, 도전층을 다층화한 경우, 예를 들면 반복층수가 3층인 경우, 은층의 두께는 50~200Å가 바람직하고, 보다 바람직하게는 50~100Å이다. 이보다도 막두께가 두꺼운 경우는 광선 투과율이 저하되고, 얇은 경우는 저항값이 올라가 버린다. 또한, 금속산화물층의 두께로서는, 바람직하게는 100~1000Å, 보다 바람직하게는 100~500Å이다. 이 두께보다 두꺼운 경우에는 착색되어 색조가 변해버리고, 얇은 경우에는 저항값이 올라가 버린다. 또한, 3층 이상 다층화하는 경우, 예를 들면 금속산화물/은/금속산화물/은/금속산화물과 같이 5층으로 한 경우, 중심의 금속산화물의 두께는 그 이외의 금속산화물층의 두께보다도 두꺼운 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 다층막 전체의 광선 투과율이 향상된다.In the case where the conductive layer is multilayered, for example, when the number of repeating layers is three, the thickness of the silver layer is preferably 50 to 200 kPa, more preferably 50 to 100 kPa. When the film thickness is thicker than this, the light transmittance decreases, and when thin, the resistance increases. Moreover, as thickness of a metal oxide layer, Preferably it is 100-1000 GPa, More preferably, it is 100-500 GPa. If it is thicker than this thickness, the color tone changes, and if thin, the resistance value rises. In the case of multilayering three or more layers, for example, in the case of five layers such as metal oxide / silver / metal oxide / silver / metal oxide, the thickness of the center metal oxide is thicker than the thickness of other metal oxide layers. desirable. By doing in this way, the light transmittance of the whole multilayer film improves.

반사방지층이란, 표면 반사를 방지하고, 형광등 등의 비침을 방지하는 기능을 갖는다. 이 반사방지기능을 부여하는 방법은 한정되지 않고 임의로 선택할 수 있지만, 예를 들면 기재의 표면에 굴절률이 상이한 층을 적층하고, 이 층의 계면에 있어서의 반사광의 간섭을 이용하여 저감하는 방법, 표면에 요철을 부여하는 방법을 들 수 있다. 이 방법의 반사방지막을 형성하는 방법으로서, 크게는 하기의 두가지 방법을 들 수 있다. 하나의 방법은, 기재의 표면에, 증착법이나 스퍼터링법에 의해 반사방지막을 형성하는 방법이고, 또 하나의 방법은, 기재의 표면에, 반사방지용 도포액을 도포하여 건조시킴으로써 반사방지막을 형성하는 방법이다. 일반론으로서는, 반사방지 특성에서는 전자가, 경제성에서는 후자가 우수하다고 일컬어지고 있지만, 본 발명에 있어서는 어느 쪽의 방법을 사용해도 상관없다.The antireflection layer has a function of preventing surface reflection and preventing shining of a fluorescent lamp or the like. The method of imparting the antireflection function is not limited and can be arbitrarily selected. For example, a method of laminating a layer having a different refractive index on the surface of the substrate and reducing the interference by using interference of reflected light at the interface of the layer, surface The method of giving an unevenness | corrugation to is mentioned. As a method of forming the antireflection film of this method, the following two methods can be mentioned. One method is a method of forming an antireflection film on the surface of a substrate by a vapor deposition method or a sputtering method, and another method is a method of forming an antireflection film by applying an antireflection coating liquid to the surface of a substrate and drying it. to be. As a general theory, the former is said to be excellent in the antireflection characteristic, and the latter is excellent in economical efficiency. In the present invention, either method may be used.

(광학 필터)(Optical filter)

본 발명에 있어서 광학 필터란, 플라즈마 디스플레이의 전면에 설치되는 것 으로, 디스플레이로부터 발생하는 근적외선, 전자파를 차단하는 동시에, 디스플레이의 시인성(視認性) 향상을 위한 반사방지, 색 재현성 향상 등의 기능을 가지고, 더 나아가서는 디스플레이의 보호기능을 갖는다.In the present invention, the optical filter is provided on the front surface of the plasma display, and blocks the near infrared rays and electromagnetic waves generated from the display, and also functions to prevent reflection and improve color reproducibility for improving the visibility of the display. And furthermore, the display has a protective function.

광학 필터는 반사방지 필름, 유리, 전자파방지 필름, 근적외선 흡수 필름을 점착제로 첩합한 구성을 일례로서 들 수 있고, 점착제에 자외선 흡수능, 색 보정기능, 색 재현성의 향상기능을 부여하는 것이 바람직하다. 또한, 필름의 동일면 또는 반대면에 각각의 기능을 부여한 복합 필름을 사용함으로써, 부재수의 저감, 경량화를 행할 수 있기 때문에, 비용 절감의 측면에서 상기의 복합 필름은 바람직한 실시형태이다. 더 나아가서는, 경량화, 고화질화를 위해, 유리를 사용하지 않고, 직접 플라즈마 디스플레이의 패널에 첩합하는 직첩(直貼) 필터도 바람직한 실시형태이다.An optical filter can mention the structure which bonded together an antireflection film, glass, an electromagnetic wave prevention film, and a near-infrared absorption film with an adhesive as an example, It is preferable to provide an ultraviolet-ray absorption ability, a color correction function, and the improvement function of color reproducibility to an adhesive. Moreover, since the number of members can be reduced and the weight can be reduced by using the composite film which provided each function to the same surface or the opposite surface of a film, said composite film is preferable embodiment from a cost reduction point. Furthermore, in order to reduce weight and image quality, direct connection filter which directly bonds to a panel of a plasma display without using glass is also a preferred embodiment.

유리를 사용하지 않고 직접 플라즈마 디스플레이의 패널에 광학 필터를 첩합함으로써, 화질의 향상 및 경량화가 가능해지지만, 패널의 열이 전달되기 쉬워지기 때문에, 고도한 내열성이 요구된다. 그러나, 본 발명의 근적외선 흡수 필름은 내열성이 고도로 우수하기 때문에, 직첩 필터용에도 적합하다.By bonding an optical filter directly to a panel of a plasma display without using glass, the image quality can be improved and reduced in weight, but since heat of the panel can be easily transmitted, high heat resistance is required. However, since the near-infrared absorbing film of this invention is highly excellent in heat resistance, it is suitable also for a direct filter.

다음으로 본 발명의 실시예 및 비교예를 나타낸다. 또한, 본 발명에서 사용한 특성값의 측정방법 및 효과의 평가방법은 다음과 같다.Next, the Example and comparative example of this invention are shown. In addition, the measuring method of the characteristic value used by this invention, and the evaluation method of an effect are as follows.

<도포액 점도>Coating Liquid Viscosity

도포액을 20℃로 조절하고, B형 점도계(도쿄케이키제, BL)를 사용하여, 로터 회전수 60 rpm으로 측정하였다.The coating liquid was adjusted to 20 ° C. and measured at a rotor rotation speed of 60 rpm using a type B viscometer (manufactured by Tokyo Keiki, BL).

<투과율><Transmittance>

분광 광도계(히타치 U-3500형)를 사용하여, 파장 1100~200 ㎚의 범위에서 근적외선 흡수층측에 빛이 조사되도록 하여, 실내의 공기를 투과율의 참조로서 측정하였다.Using a spectrophotometer (Hitachi U-3500 type), light was irradiated to the near-infrared absorbing layer side in the range of wavelength 1100-200 nm, and the indoor air was measured as a reference of the transmittance | permeability.

<색조><Tint>

색차계(니폰덴쇼쿠 공업제, ZE-2000)를 사용하여, 근적외선 흡수층측에 빛이 조사되도록 하여, D65 광원, 10도의 시야각에서 측정하였다.Using a color difference meter (ZE-2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), light was irradiated to the near-infrared absorbing layer side and measured at a D65 light source and a viewing angle of 10 degrees.

<내습열성><Heat resistance heat resistance>

온도 60℃, 습도 95% 분위기 중에서 500시간 방치한 후의 색조를 측정하여, 처리전후의 색조의 변화량 △x, △y를 구하였다.The color tone after leaving for 500 hours in a 60 degreeC temperature and 95% humidity atmosphere was measured, and the change amount (DELTA) x, (DELTA) y of before and after process was calculated | required.

<내열성><Heat resistance>

온도 90℃의 분위기 중에서 500시간 방치한 후의 색조를 측정하여, 처리 전후의 색조의 변화량 △x, △y를 구하였다.The color tone after leaving for 500 hours in the atmosphere of a temperature of 90 degreeC was measured, and the change amount (DELTA) x, (DELTA) y of the color tone before and behind a process was calculated | required.

<유연성><Flexibility>

필름을 폭 10 ㎜로 컷팅하고, 근적외선 흡수층을 바깥쪽으로 하여 금속막대에 휘감아서, 근적외선 흡수층의 균열의 유무를 확인하였다. 금속막대는 직경이 1~20 ㎜이고 1 ㎜ 간격의 20개를 사용하여, 균열이 발생하지 않는 최소 직경을 유연성의 평가값으로 하였다.The film was cut to 10 mm in width, wrapped around the metal rod with the near infrared absorbing layer outward, and the presence or absence of cracking of the near infrared absorbing layer was confirmed. The metal rods were 1-20 mm in diameter, and 20 pieces of 1 mm intervals were used, and the minimum diameter which a crack does not produce was made into the evaluation value of flexibility.

실시예 1Example 1

1. 투명기재의 제조1. Manufacturing of transparent substrate

(1) 자외선 흡수제 함유 마스터배치의 조제(1) Preparation of a masterbatch containing ultraviolet absorber

건조시킨 자외선 흡수제(사이텍사제, CYASORB UV-3638;2,2'-(1,4-페닐렌)비스(4H-3,1-벤즈옥사진-4-온)) 10 질량부, 입자를 함유하지 않는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지(도요보세키제, ME553) 90 질량부를 혼합하고, 혼련 압출기를 사용하여, 마스터배치를 제작하였다. 이때의 압출온도는 285℃이며, 압출시간은 7분이었다.10 parts by mass of dried ultraviolet absorber (CYASORB UV-3638; 2,2 '-(1,4-phenylene) bis (4H-3,1-benzoxazin-4-one)) and particles 90 parts by mass of a polyethylene terephthalate (PET) resin (manufactured by TOYOBO-SEKI, ME553), which was not used, was mixed, and a master batch was produced using a kneading extruder. The extrusion temperature at this time was 285 degreeC, and the extrusion time was 7 minutes.

(2) 이접착층 형성용 도포액의 조제(2) Preparation of coating liquid for forming easily adhesive layer

이접착층 형성용 도포액을 이하의 방법에 따라서 조제하였다. 디메틸테레프탈레이트 95 질량부, 디메틸이소프탈레이트 95 질량부, 에틸렌글리콜 35 질량부, 네오펜틸글리콜 145 질량부, 초산아연 0.1 질량부 및 삼산화안티몬 0.1 질량부를 반응용기에 넣고, 180℃에서 3시간에 걸쳐서 에스테르 교환반응을 행하였다. 다음으로, 5-나트륨설포이소프탈산 6.0 질량부를 첨가하고, 240℃에서 1시간에 걸쳐서 에스테르화 반응을 행한 후, 중축합반응을 행하여, 폴리에스테르 수지를 얻었다.The coating liquid for easily bonding layer formation was prepared according to the following method. 95 parts by mass of dimethyl terephthalate, 95 parts by mass of dimethyl isophthalate, 35 parts by mass of ethylene glycol, 145 parts by mass of neopentylglycol, 0.1 parts by mass of zinc acetate and 0.1 parts by mass of antimony trioxide were added to the reaction vessel and over 3 hours at 180 ° C. The transesterification reaction was performed. Next, 6.0 mass parts of 5-sodium sulfoisophthalic acid were added, and after esterifying over 240 hours at 240 degreeC, polycondensation reaction was performed and the polyester resin was obtained.

얻어진 폴리에스테르 수지의 30 질량% 수분산액을 6.7 질량부, 중아황산소다로 블록한 이소시아네이트기를 함유하는 자기 가교형 폴리우레탄 수지의 20 질량% 수용액(다이이치 공업제약제, 엘라스트론 H-3)을 40 질량부, 엘라스트론용 촉매(Cat 64)를 0.5 질량부, 물을 47.8 질량부 및 이소프로필알코올을 5 질량부, 각각 혼합하고, 추가로 음이온성 계면활성제를 도포액에 대해 1 질량%, 콜로이달 실리카 입자(닛산 화학공업사제, 스노우 텍스 OL)를 도포액의 고형분에 대해 5 질량% 첨가하여 도포액으로 하였다.20 mass% aqueous solution of the self-crosslinking polyurethane resin containing the isocyanate group which blocked the 30 mass% aqueous dispersion of the obtained polyester resin with 6.7 mass parts and sodium bisulfite (Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Elastron H-3) 40 parts by mass, 0.5 parts by mass of the catalyst for elastron (Cat 64), 47.8 parts by mass of water and 5 parts by mass of isopropyl alcohol, respectively, and anionic surfactant was added to the coating liquid by 1 mass. % And colloidal silica particles (Snowtex OL, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) were added to 5% by weight based on the solids content of the coating liquid to obtain a coating liquid.

(3) 기재 필름의 제막(3) Production of base film

고유점도가 0.62 dl/g이고, 입자를 함유하지 않는 PET 수지의 펠릿(도요보세키사제, ME553) 90 질량부와 상기의 자외선 흡수제 함유 마스터배치 10 질량부를 135℃에서 6시간 감압건조(1 Torr)한 후, 압출기에 공급하였다. 압출기의 용융부, 혼련부, 폴리머관, 기어펌프, 필터까지의 수지온도는 280℃, 그 후의 폴리머관에서는 275℃로 하고, 구금으로부터 시트상으로 하여 압출하였다. 이들의 폴리머는 각각 스테인리스 소결체의 여재(濾材)(공칭여과정밀도: 10 ㎛ 이상의 입자를 95% 컷팅)를 사용하여 여과하였다. 또한, 플랫 다이(flat die)는 수지온도가 275℃가 되도록 하였다. 압출한 수지를, 정전 인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 30℃의 캐스팅 드럼(롤 직경 400ø, Ra 0.1 ㎛ 이하)에 휘감아 냉각 고화하고, 미연신 필름을 제작하였다. 이때의 토출량은 48 ㎏/hr이고, 얻어진 미연신 시트는 폭 300 ㎜, 두께 1400 ㎛였다.90 parts by mass of pellets of PET resin (ME553, manufactured by Toyoboseki Co., Ltd.) and intrinsic viscosity of 0.62 dl / g and 10 parts by mass of the above-described ultraviolet absorber-containing master batch at 135 ° C for 6 hours under reduced pressure drying (1 Torr And then fed to an extruder. The resin temperature to the melting part, the kneading part, the polymer pipe, the gear pump, and the filter of the extruder was 280 ° C, and the subsequent polymer pipe was 275 ° C, and extruded into a sheet form from the detention. These polymers were each filtered using the filter medium of a stainless sintered compact (nominal filter density: 95% cutting of 10 micrometers or more of particle | grains). In addition, the flat die was made to have a resin temperature of 275 ° C. The extruded resin was wrapped in a casting drum (roll diameter 400 °, Ra 0.1 μm or less) having a surface temperature of 30 ° C. by using an electrostatically applied cast method, cooled and solidified to produce an unstretched film. The discharge amount at this time was 48 kg / hr, and the obtained unstretched sheet was 300 mm in width and 1400 micrometers in thickness.

다음으로, 상기 캐스트 필름을 가열된 롤군 및 적외선 히터를 사용하여 100℃로 가열한 후, 주속차가 있는 롤군으로 길이방향(주행방향)으로 3.5배 연신하여 일축배향 필름을 얻었다. 이 필름 제조시에 사용하는 전체 롤에 관해서, 롤의 표면조도를 Ra로 0.1 ㎛ 이하로 관리하고, 세로연신 공정의 예열입구와 냉각 롤에 롤 클리너를 설치하였다. 세로연신 공정의 롤 직경은 150 ㎜로서, 석션 롤, 정전밀착, 파트 닙(part nip)의 밀착장치를 채용하여 필름을 롤로 밀착시켰다.Next, the cast film was heated to 100 ° C using a heated roll group and an infrared heater, and then stretched 3.5 times in the longitudinal direction (running direction) with a roll group having a circumferential speed difference to obtain a uniaxially oriented film. About the whole roll used at the time of this film manufacture, the surface roughness of the roll was controlled to 0.1 micrometer or less with Ra, and the roll cleaner was installed in the preheating inlet of a longitudinal drawing process, and a cooling roll. The roll diameter of the longitudinal stretching process was 150 mm, and the film was adhere | adhered to the roll by employ | adopting the adhesion apparatus of a suction roll, electrostatic adhesion, and a part nip.

그 후, 이접착층 형성용 도포액을 여과입자 사이즈(초기 여과효율: 95%) 25 ㎛의 펠트형 폴리프로필렌제 여재로 정밀여과하고, 리버스 롤법으로 양면에 도포, 건조하였다. 도포 후, 계속해서 필름의 단부를 클립으로 파지하여 130℃로 가열된 열풍 존으로 유도하고, 건조 후 폭방향으로 4.0배로 연신하여 230℃에서 5초간 열처리하고, 이 열처리공정 중에서 폭방향으로 3%의 이완처리하여, 기재 필름(B)을 얻었다. 이 필름의 두께는 100 ㎛이고, 이때의 이접착층의 코트량은 0.01 g/㎡였다. 얻어진 필름의 파장 380 ㎚에 있어서의 투과율은 4%이고, 우수한 자외선 흡수성을 가지고 있었다. 또한, 전광선 투과율이 91%, 헤이즈가 0.6%로, 투명성이 우수하였다.Then, the coating liquid for easily bonding layer formation was filtrated microscopically by the filter medium of 25 micrometers of filter particle size (initial filtration efficiency: 95%), and it apply | coated and dried on both surfaces by the reverse roll method. After coating, the end of the film was subsequently gripped with a clip to guide the hot air zone heated to 130 ° C., stretched to 4.0 times in the width direction after drying, and heat treated at 230 ° C. for 5 seconds, and 3% in the width direction during this heat treatment step. Was subjected to relaxation treatment to obtain a base film (B). The thickness of this film was 100 micrometers, and the coating amount of the easily bonding layer at this time was 0.01 g / m <2>. The transmittance | permeability in wavelength 380nm of the obtained film was 4%, and it had the outstanding ultraviolet absorbency. Moreover, the total light transmittance was 91% and the haze was 0.6%, and the transparency was excellent.

2. 근적외선 흡수층의 적층2. Lamination of Near Infrared Absorption Layer

하기의 도포액 A(점도: 23 cps)를 상기의 중간 도포층 상에, 건조한 후에 950 ㎚의 투과율이 4.3%가 되도록 직경 60 ㎝의 사선 그라비아를 사용하여 리버스로 도공하고, 40℃에서 5 m/초의 열풍으로 20초간, 150℃에서 20 m/초의 열풍으로 20초간, 추가로 90℃에서 20 m/초의 열풍으로 10초간 통과시켜서 건조하여, 근적외선 흡수 필터를 제작하였다.The following coating liquid A (viscosity: 23 cps) was dried on the intermediate coating layer described above, and coated in reverse using diagonal gravure with a diameter of 60 cm so that the transmittance of 950 nm was 4.3%. It was made to dry by passing for 20 seconds with hot air of / sec for 20 seconds, hot air of 20 m / sec at 150 ° C for 20 seconds, and further for 10 seconds with hot air of 20 m / sec at 90 ° C, to prepare a near-infrared absorbing filter.

(근적외선 흡수층용 도포액 A)(Coating Liquid A for Near Infrared Absorption Layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 A를 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 µm to prepare a coating solution A.

·톨루엔 22.193 질량%Toluene 22.193% by mass

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄염 화합물(색소 A) 0.937 질량%Dimonium salt compound (pigment A) 0.937 mass%

(일본 칼리트제, CIR1085, 반대이온: 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산)(Made by Nippon Kalitz, CIR1085, counterion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid)

·시아닌계 색소 0.076 질량%Cyanine pigment 0.076 mass%

(아사히덴카 공업제, TZ-123)(Made by Asahi Denka Kogyo, TZ-123)

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

·트리플루오로메탄설폰산리튬(화합물 C) 0.890 질량%0.890 mass% of lithium trifluoromethanesulfonate (Compound C)

근적외선 흡수층에 함유시키는 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류, 트리플루오로메탄설폰산 화합물의 종류 및 함유량을 표 1에 나타낸다. 얻어진 근적외선 흡수 필름은 표 2에 나타내는 바와 같이, 근적외 영역의 흡수가 강하고, 가시광 영역에서의 투과율이 높을 뿐 아니라, 내습열성이나 내열성도 양호하였다.Table 1 shows the kind of near-infrared absorbing dye (diimmonium salt compound), the kind of trifluoromethanesulfonic acid compound, and content which are contained in a near-infrared absorption layer. As shown in Table 2, the obtained near-infrared absorptive film was strong in absorption of a near-infrared region, the transmittance | permeability in the visible light region was high, and the heat-and-moisture resistance and heat resistance were also favorable.

실시예 2Example 2

하기의 도포액 B를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다.A near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating liquid B was used.

(근적외선 흡수층용 도포액 B)(Coating Liquid B for Near Infrared Absorption Layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 B를 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 µm to prepare a coating solution B.

·톨루엔 22.998 질량%22.998 mass% of toluene

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄염 화합물(색소 A) 0.937 질량%Dimonium salt compound (pigment A) 0.937 mass%

(일본 칼리트제, CIR1085, 반대이온: 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산)(Made by Nippon Kalitz, CIR1085, counterion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid)

·시아닌계 색소 0.076 질량%Cyanine pigment 0.076 mass%

(아사히덴카 공업제, TZ-123)(Made by Asahi Denka Kogyo, TZ-123)

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

·트리플루오로메탄설폰산리튬(화합물 C) 0.085 질량%0.085% by mass of lithium trifluoromethanesulfonate (Compound C)

근적외선 흡수층에 함유시키는 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류, 트리플루오로메탄설폰산 화합물의 종류 및 함유량을 표 1에 나타낸다. 얻어진 근적외선 흡수 필름은 표 2에 나타내는 바와 같이, 근적외 영역의 흡수가 강하고, 가시광 영역에서의 투과율이 높을 뿐 아니라, 내습열성이나 내열성도 양호하였다.Table 1 shows the kind of near-infrared absorbing dye (diimmonium salt compound), the kind of trifluoromethanesulfonic acid compound, and content which are contained in a near-infrared absorption layer. As shown in Table 2, the obtained near-infrared absorptive film was strong in absorption of a near-infrared region, the transmittance | permeability in the visible light region was high, and the heat-and-moisture resistance and heat resistance were also favorable.

실시예 3Example 3

하기의 도포액 C를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다.A near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating liquid C was used.

(근적외선 흡수층용 도포액 C)(Coating Liquid C for Near Infrared Absorption Layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 C를 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 μm to prepare a coating solution C.

·톨루엔 21.411 질량%21.411 mass% of toluene

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄염 화합물(색소 A) 0.937 질량%Dimonium salt compound (pigment A) 0.937 mass%

(일본 칼리트제, CIR1085, 반대이온: 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산)(Made by Nippon Kalitz, CIR1085, counterion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid)

·시아닌계 색소 0.076 질량%Cyanine pigment 0.076 mass%

(아사히덴카 공업제, TZ-123)(Made by Asahi Denka Kogyo, TZ-123)

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

·트리플루오로메탄설폰산리튬(화합물 C) 1.671 질량%Lithium trifluoromethanesulfonate (Compound C) 1.671 mass%

근적외선 흡수층에 함유시키는 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류, 트리플루오로메탄설폰산 화합물의 종류 및 함유량을 표 1에 나타낸다. 얻어진 근적외선 흡수 필름은 표 2에 나타내는 바와 같이, 근적외 영역의 흡수가 강하고, 가시광 영역에서의 투과율이 높을 뿐 아니라, 내습열성이나 내열성도 양호하였다.Table 1 shows the kind of near-infrared absorbing dye (diimmonium salt compound), the kind of trifluoromethanesulfonic acid compound, and content which are contained in a near-infrared absorption layer. As shown in Table 2, the obtained near-infrared absorptive film was strong in absorption of a near-infrared region, the transmittance | permeability in the visible light region was high, and the heat-and-moisture resistance and heat resistance were also favorable.

비교예 1Comparative Example 1

하기의 도포액 D를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다. 본 비교예 1은, 근적외선 흡수층 중에 트리플루오로메탄설폰 산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물을 함유시키지 않은 예이다.A near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating liquid D was used. This comparative example 1 is an example which does not contain a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound in a near-infrared absorption layer.

(근적외선 흡수층용 도포액 D)(Coating Liquid D for Near Infrared Absorption Layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 D를 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 μm to prepare a coating solution D.

·톨루엔 23.083 질량%Toluene 23.083 mass%

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄염 화합물(색소 A) 0.937 질량%Dimonium salt compound (pigment A) 0.937 mass%

(일본 칼리트제, CIR1085, 반대이온: 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산)(Made by Nippon Kalitz, CIR1085, counterion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid)

·시아닌계 색소 0.076 질량%Cyanine pigment 0.076 mass%

(아사히덴카 공업제, TZ-123)(Made by Asahi Denka Kogyo, TZ-123)

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

근적외선 흡수층에 함유시키는 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류를 표 1에 나타낸다. 얻어진 근적외선 흡수 필름은 표 2에 나타내는 바와 같이, 근적외 영역의 흡수가 강하였다. 그러나, 가시광 영역에서의 투과율이, 근적외선 흡수층 중에 트리플루오로메탄설폰산 화합물(화합물 C)을 함유시킨 실시예 1~3보다 도 조금 저하되어, 내열성은 불량하였다.Table 1 shows the kinds of near infrared absorbing dyes (diimmonium salt compounds) contained in the near infrared absorbing layer. As shown in Table 2, the obtained near-infrared absorbing film had strong absorption of a near-infrared region. However, the transmittance in the visible light region was slightly lower than those in Examples 1 to 3 containing the trifluoromethanesulfonic acid compound (Compound C) in the near infrared absorbing layer, and the heat resistance was poor.

실시예 4Example 4

실시예 1에 있어서, 근적외선 흡수층 중에 함유시키는 트리플루오로메탄설폰산리튬(화합물 C)을 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물(화합물 D)로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다.In Example 1, it carried out similarly to Example 1 except having changed the lithium trifluoromethanesulfonate (compound C) contained in a near-infrared absorption layer into the bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound (compound D). To obtain a near-infrared absorbing film.

근적외선 흡수층에 함유시키는 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물의 종류 및 함유량을 표 1에 나타낸다. 얻어진 근적외선 흡수 필름은 표 2에 나타내는 바와 같이, 근적외 영역의 흡수가 강하고, 가시광 영역에서의 투과율이 높을 뿐 아니라, 내습열성이나 내열성도 양호하였다.Table 1 shows the kind and content of the near-infrared absorbing dye (dimonium salt compound) and the bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound which are contained in a near-infrared absorption layer are shown in Table 1. As shown in Table 2, the obtained near-infrared absorptive film was strong in absorption of a near-infrared region, the transmittance | permeability in the visible light region was high, and the heat-and-moisture resistance and heat resistance were also favorable.

실시예 5Example 5

하기의 도포액 E를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다.A near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating liquid E was used.

(근적외선 흡수층용 도포액 E)(Coating solution E for near infrared absorption layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 E를 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 µm to prepare a coating solution E.

·톨루엔 22.193 질량%Toluene 22.193% by mass

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄염 화합물(색소 B) 0.937 질량%Dimonium salt compound (pigment B) 0.937 mass%

(일본 칼리트제, CIR1081, 반대이온: 육플루오르화 안티몬)(Made by Nippon Kalitz, CIR1081, counterion: antimony hexafluoride)

·시아닌계 색소 0.076 질량%Cyanine pigment 0.076 mass%

(아사히덴카 공업제, TZ-123)(Made by Asahi Denka Kogyo, TZ-123)

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

·트리플루오로메탄설폰산리튬(화합물 C) 0.890 질량%0.890 mass% of lithium trifluoromethanesulfonate (Compound C)

근적외선 흡수층에 함유시키는 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류, 트리플루오로메탄설폰산 화합물의 종류 및 함유량을 표 1에 나타낸다. 얻어진 근적외선 흡수 필름은 표 2에 나타내는 바와 같이, 근적외 영역의 흡수가 강하고, 가시광 영역에서의 투과율이 높을 뿐 아니라, 내습열성이나 내열성도 양호하였다.Table 1 shows the kind of near-infrared absorbing dye (diimmonium salt compound), the kind of trifluoromethanesulfonic acid compound, and content which are contained in a near-infrared absorption layer. As shown in Table 2, the obtained near-infrared absorptive film was strong in absorption of a near-infrared region, the transmittance | permeability in the visible light region was high, and the heat-and-moisture resistance and heat resistance were also favorable.

비교예 2Comparative Example 2

하기의 도포액 F를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다. 본 비교예 2는, 근적외선 흡수층 중에 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물을 함유시키지 않은 예이다.A near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating liquid F was used. This comparative example 2 is an example which does not contain a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound in a near-infrared absorption layer.

(근적외선 흡수층용 도포액 F)(Coating Liquid F for Near Infrared Absorption Layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 F를 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 µm to prepare a coating solution F.

·톨루엔 23.083 질량%Toluene 23.083 mass%

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄염 화합물(색소 B) 0.937 질량%Dimonium salt compound (pigment B) 0.937 mass%

(일본 칼리트제, CIR1081, 반대이온: 육플루오르화 안티몬)(Made by Nippon Kalitz, CIR1081, counterion: antimony hexafluoride)

·시아닌계 색소 0.076 질량%Cyanine pigment 0.076 mass%

(아사히덴카 공업제, TZ-123)(Made by Asahi Denka Kogyo, TZ-123)

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

근적외선 흡수층에 함유시키는 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류를 표 1에 나타낸다. 얻어진 근적외선 흡수 필름은 표 2에 나타내는 바와 같이, 근적외 영역의 흡수가 강하였지만, 내습열성(특히, △y) 및 내열성이 떨어졌다.Table 1 shows the kinds of near infrared absorbing dyes (diimmonium salt compounds) contained in the near infrared absorbing layer. As shown in Table 2, the obtained near-infrared absorbing film had strong absorption of the near-infrared region, but was inferior in moist heat resistance (particularly Δy) and heat resistance.

실시예 6Example 6

하기의 도포액 G를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다.A near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating liquid G was used.

(근적외선 흡수층용 도포액 G)(Coating Liquid G for Near Infrared Absorption Layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 G를 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 μm to prepare a coating solution G.

·톨루엔 23.083 질량%Toluene 23.083 mass%

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄염 화합물(색소 A) 0.937 질량%Dimonium salt compound (pigment A) 0.937 mass%

(일본 칼리트제, CIR1085, 반대이온: 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산)(Made by Nippon Kalitz, CIR1085, counterion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid)

·화합물 E 0.076 질량%Compound E 0.076 mass%

(비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산을 반대이온으로 하는 시아닌 색소(Cyanine Dye with Bis (trifluoromethanesulfonyl) imide Acid as Counter Ion)

;아사히덴카 공업제, TZ-109D)Asahi Denka Kogyo, TZ-109D)

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

근적외선 흡수층에 함유시키는 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류, 트리플루오로메탄설폰산 화합물의 종류 및 함유량을 표 1에 나타낸다. 얻어진 근적외선 흡수 필름은 표 2에 나타내는 바와 같이, 근적외 영역의 흡수가 강하고, 가시광 영역에서의 투과율이 높을 뿐 아니라, 내습열성이나 내열성도 양호하였다.Table 1 shows the kind of near-infrared absorbing dye (diimmonium salt compound), the kind of trifluoromethanesulfonic acid compound, and content which are contained in a near-infrared absorption layer. As shown in Table 2, the obtained near-infrared absorptive film was strong in absorption of a near-infrared region, the transmittance | permeability in the visible light region was high, and the heat-and-moisture resistance and heat resistance were also favorable.

실시예 7Example 7

하기의 도포액 H를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다.A near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating liquid H was used.

(근적외선 흡수층용 도포액 H)(Coating solution H for near infrared absorption layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 H를 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 µm to prepare a coating solution H.

·톨루엔 23.083 질량%Toluene 23.083 mass%

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄염 화합물(색소 A) 0.937 질량%Dimonium salt compound (pigment A) 0.937 mass%

(일본 칼리트제, CIR1085, 반대이온: 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산)(Made by Nippon Kalitz, CIR1085, counterion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid)

·화합물 E 0.076 질량%Compound E 0.076 mass%

(비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산을 반대이온으로 하는 시아닌 색소(Cyanine Dye with Bis (trifluoromethanesulfonyl) imide Acid as Counter Ion)

;니폰카야쿠제, CY-40MC(F))Nippon Kayaku Co., CY-40MC (F))

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

비교예 3Comparative Example 3

하기의 도포액 I를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다. A near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating liquid I was used.

(근적외선 흡수층용 도포액 I)(Coating Liquid I for Near Infrared Absorption Layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 I를 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 µm to prepare a coating solution I.

·톨루엔 23.083 질량%Toluene 23.083 mass%

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄염 화합물(색소 A) 0.937 질량%Dimonium salt compound (pigment A) 0.937 mass%

(일본 칼리트제, CIR1085, 반대이온: 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산)(Made by Nippon Kalitz, CIR1085, counterion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid)

·화합물 F 0.076 질량%Compound F 0.076 mass%

(육플루오르화 안티몬을 반대이온으로 하는 시아닌 색소; 니폰카야쿠제, CY-40MC(S))(Cyanine pigment | dye which makes antimony hexafluoride a counter ion; Nippon Kayaku Co., CY-40MC (S))

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

Figure 112008059125510-PCT00002
Figure 112008059125510-PCT00002

표 1에 있어서, 색소 A-B, 화합물 C-F는 하기의 화합물을 의미한다.In Table 1, pigment | dye A-B and compound C-F mean the following compounds.

(색소 A)(Color A)

비스(트리플루오로메탄설폰)이미드산을 반대이온으로 하는, N,N,N',N'-테트라키스(p-디-n-부틸아미노페닐)-p-페닐렌디임모늄염N, N, N ', N'-tetrakis (p-di-n-butylaminophenyl) -p-phenylenedimonium salt having bis (trifluoromethanesulfon) imide acid as the counterion

(색소 B)(Color B)

육플루오르화 안티몬을 반대이온으로 하는, N,N,N',N'-테트라키스(p-디-n-부틸아미노페닐)-p-페닐렌디임모늄염N, N, N ', N'-tetrakis (p-di-n-butylaminophenyl) -p-phenylenedimonium salt having antimony hexafluoride as the counterion

(화합물 C)(Compound C)

트리플루오로메탄설폰산리튬Lithium trifluoromethanesulfonate

(화합물 D)(Compound D)

n-부틸-3-메틸피리디늄 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드n-butyl-3-methylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide

(화합물 E)(Compound E)

비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산을 반대이온으로 하는 시아닌 색소Cyanine dyes having bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid as the counterion

(화합물 F)(Compound F)

육플루오르화 안티몬을 반대이온으로 하는 시아닌 색소Cyanine pigment with antimony hexafluoride as counterion

Figure 112008059125510-PCT00003
Figure 112008059125510-PCT00003

실시예 8Example 8

1. 투명기재의 제조1. Manufacturing of transparent substrate

(1) 자외선 흡수제 함유 마스터배치의 조제(1) Preparation of a masterbatch containing ultraviolet absorber

건조시킨 자외선 흡수제(사이텍사제, CYASORB UV-3638;2,2'-(1,4-페닐렌)비스(4H-3,1-벤즈옥사지논-4-온)) 10 질량부, 입자를 함유하지 않는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지(도요보세키제, ME553) 90 질량부를 혼합하고, 혼련 압출기를 사용하여, 마스터배치를 제작하였다. 이때의 압출온도는 285℃이며, 압출시간은 7분이었다.10 parts by mass of dried ultraviolet absorber (CYASORB UV-3638; 2,2 '-(1,4-phenylene) bis (4H-3,1-benzoxazinone-4-one)) and particles 90 parts by mass of a polyethylene terephthalate (PET) resin (manufactured by TOYOBO-SEKI, ME553), which was not used, was mixed, and a master batch was produced using a kneading extruder. The extrusion temperature at this time was 285 degreeC, and the extrusion time was 7 minutes.

(2) 이접착층 형성용 도포액의 조제(2) Preparation of coating liquid for forming easily adhesive layer

이접착층 형성용 도포액을 이하의 방법에 따라서 조제하였다. 디메틸테레프탈레이트 95 질량부, 디메틸이소프탈레이트 95 질량부, 에틸렌글리콜 35 질량부, 네오펜틸글리콜 145 질량부, 초산아연 0.1 질량부 및 삼산화안티몬 0.1 질량부를 반응용기에 넣고, 180℃에서 3시간에 걸쳐서 에스테르 교환반응을 행하였다. 다음으로, 5-나트륨설포이소프탈산 6.0 질량부를 첨가하고, 240℃에서 1시간에 걸쳐서 에스테르화 반응을 행한 후, 중축합반응을 행하여, 폴리에스테르 수지를 얻었다.The coating liquid for easily bonding layer formation was prepared according to the following method. 95 parts by mass of dimethyl terephthalate, 95 parts by mass of dimethyl isophthalate, 35 parts by mass of ethylene glycol, 145 parts by mass of neopentylglycol, 0.1 parts by mass of zinc acetate and 0.1 parts by mass of antimony trioxide were added to the reaction vessel and over 3 hours at 180 ° C. The transesterification reaction was performed. Next, 6.0 mass parts of 5-sodium sulfoisophthalic acid were added, and after esterifying over 240 hours at 240 degreeC, polycondensation reaction was performed and the polyester resin was obtained.

얻어진 폴리에스테르 수지의 30 질량% 수분산액을 6.7 질량부, 중아황산소다로 블록한 이소시아네이트기를 함유하는 자기 가교형 폴리우레탄 수지의 20 질량% 수용액(다이이치 공업제약제, 엘라스트론 H-3)을 40 질량부, 엘라스트론용 촉매(Cat 64)를 0.5 질량부, 물을 47.8 질량부 및 이소프로필알코올을 5 질량부, 각각 혼합하고, 추가로 음이온성 계면활성제를 도포액에 대해 1 질량%, 콜로이달 실리카 입자(닛산 화학공업사제, 스노우 텍스 OL)를 도포액의 고형분에 대해 5 질량% 첨가하여 도포액으로 하였다.20 mass% aqueous solution of the self-crosslinking polyurethane resin containing the isocyanate group which blocked the 30 mass% aqueous dispersion of the obtained polyester resin with 6.7 mass parts and sodium bisulfite (Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Elastron H-3) 40 parts by mass, 0.5 parts by mass of the catalyst for elastron (Cat 64), 47.8 parts by mass of water and 5 parts by mass of isopropyl alcohol, respectively, and anionic surfactant was added to the coating liquid by 1 mass. % And colloidal silica particles (Snowtex OL, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) were added to 5% by weight based on the solids content of the coating liquid to obtain a coating liquid.

(3) 기재 필름의 제막(3) Production of base film

고유점도가 0.62 dl/g이고, 입자를 함유하지 않는 PET 수지의 펠릿(도요보세키사제, ME553) 90 질량부와 상기의 자외선 흡수제 함유 마스터배치 10 질량부를 135℃에서 6시간 감압건조(1 Torr)한 후, 압출기에 공급하였다. 압출기 용융부, 혼련부, 폴리머관, 기어펌프, 필터까지의 수지온도는 280℃, 그 후의 폴리머관에서는 275℃로 하고, 구금으로부터 시트상으로 하여 압출하였다. 이들의 폴리머는, 각각 스테인리스 소결체의 여재(공칭여과정밀도: 10 ㎛ 이상의 입자를 95% 컷팅)를 사용하여 여과하였다. 또한, 플랫 다이는 수지온도가 275℃가 되도록 하였다. 압출한 수지를, 정전 인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 30℃의 캐스팅 드럼(롤 직경 400ø, Ra 0.1 ㎛ 이하)에 휘감아 냉각 고화하고, 미연신 필름을 만들었다. 이때의 토출량은 48 ㎏/hr이고, 얻어진 미연신 시트는 폭 300 ㎜, 두께 1400 ㎛였다.90 parts by mass of pellets of PET resin (ME553, manufactured by Toyoboseki Co., Ltd.) and intrinsic viscosity of 0.62 dl / g and 10 parts by mass of the above-described ultraviolet absorber-containing master batch at 135 ° C for 6 hours under reduced pressure drying (1 Torr And then fed to an extruder. The resin temperature to the extruder melting part, the kneading part, the polymer pipe, the gear pump, and the filter was 280 ° C, and the subsequent polymer pipe was 275 ° C. These polymers were filtered using the filter media of a stainless sintered compact (nominal filter density: 95% of 10 micrometers or more). In addition, the flat die was made to have a resin temperature of 275 ° C. The extruded resin was wound around a casting drum (roll diameter 400 °, Ra 0.1 μm or less) having a surface temperature of 30 ° C. by using an electrostatically applied cast method, and cooled to solidify, thereby forming an unstretched film. The discharge amount at this time was 48 kg / hr, and the obtained unstretched sheet was 300 mm in width and 1400 micrometers in thickness.

다음으로, 상기 캐스트 필름을 가열된 롤군 및 적외선 히터를 사용하여 100℃로 가열한 후, 주속차가 있는 롤군으로 길이방향(주행방향)으로 3.5배 연신하여 일축배향 필름을 얻었다. 이 필름 제조시에 사용하는 전체 롤에 관해서, 롤의 표면조도를 Ra로 0.1 ㎛ 이하로 관리하고, 세로연신 공정의 예열입구와 냉각 롤에 롤 클리너를 설치하였다. 세로연신 공정의 롤 직경은 150 ㎜로서, 석션 롤, 정전밀착, 파트 닙의 밀착장치를 채용하여 필름을 롤로 밀착시켰다.Next, the cast film was heated to 100 ° C using a heated roll group and an infrared heater, and then stretched 3.5 times in the longitudinal direction (running direction) with a roll group having a circumferential speed difference to obtain a uniaxially oriented film. About the whole roll used at the time of this film manufacture, the surface roughness of the roll was controlled to 0.1 micrometer or less with Ra, and the roll cleaner was installed in the preheating inlet of a longitudinal drawing process, and a cooling roll. The roll diameter of the longitudinal stretching process was 150 mm, and the film was adhere | adhered to the roll by employ | adopting the adhesion device of a suction roll, electrostatic adhesion, and a part nip.

그 후, 이접착층 형성용 도포액을 여과입자 사이즈(초기 여과효율: 95%) 25 ㎛의 펠트형 폴리프로필렌제 여재로 정밀여과하고, 리버스 롤법으로 양면에 도포, 건조하였다. 도포 후, 계속해서, 필름의 단부를 클립으로 파지하여 130℃로 가열된 열풍 존으로 유도하고, 건조 후 폭방향으로 4.0배로 연신하여 230℃에서 5초간 열처리하고, 이 열처리공정 중에서 폭방향으로 3%의 이완처리하여, 기재 필름(B)을 얻었다. 이 필름의 두께는 100 ㎛이고, 이때의 이접착층의 코트량은 0.01 g/㎡였다. 얻어진 필름의 파장 380 ㎚의 투과율은 4%이고, 우수한 자외선 흡수성을 가지고 있었다. 또한, 전광선 투과율이 91%, 헤이즈가 0.6%로, 투명성이 우수하였다.Then, the coating liquid for easily bonding layer formation was filtrated microscopically by the filter medium of 25 micrometers of filter particle size (initial filtration efficiency: 95%), and it apply | coated and dried on both surfaces by the reverse roll method. After coating, the end of the film was subsequently gripped with a clip to guide the hot air zone heated to 130 ° C., stretched to 4.0 times in the width direction after drying, and heat treated at 230 ° C. for 5 seconds. Relaxation of% gave a base film (B). The thickness of this film was 100 micrometers, and the coating amount of the easily bonding layer at this time was 0.01 g / m <2>. The transmittance | permeability of wavelength 380nm of the obtained film was 4%, and it had the outstanding ultraviolet absorbency. Moreover, the total light transmittance was 91% and the haze was 0.6%, and the transparency was excellent.

2. 근적외선 흡수층의 적층2. Lamination of Near Infrared Absorption Layer

하기의 도포액 J(점도가 23 cps)를 상기의 중간 도포층 상에 건조한 후에 950 ㎚의 투과율이 4.3%가 되도록 직경 60 ㎝의 사선 그라비아를 사용하여 리버스로 도공하고, 40℃에서 5 m/초의 열풍으로 20초간, 150℃에서 20 m/초의 열풍으로 20초간, 추가로 90℃에서 20 m/초의 열풍으로 10초간 통과시켜서 건조하여, 근적외선 흡수 필터를 제작하였다.The following coating solution J (viscosity 23 cps) was dried on the intermediate coating layer, and then coated in reverse using diagonal gravure with a diameter of 60 cm so as to have a transmittance of 950 nm of 4.3% and 5 m / at 40 ° C. It was made to dry by passing 20 seconds with hot air of 20 seconds, 20 seconds with hot air of 20 m / sec at 150 degreeC, and 10 second with hot air of 20 m / sec at 90 degreeC, and the near-infrared absorption filter was produced.

(근적외선 흡수층용 도포액 J)(Coating Liquid J for Near Infrared Absorption Layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 J를 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 µm to prepare a coating solution J.

·톨루엔 22.193 질량%Toluene 22.193% by mass

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄염 화합물(색소 A) 0.937 질량%Dimonium salt compound (pigment A) 0.937 mass%

(일본 칼리트제, CIR1085, 반대이온: 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산)(Made by Nippon Kalitz, CIR1085, counterion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid)

·시아닌계 색소 0.076 질량%Cyanine pigment 0.076 mass%

(아사히덴카 공업제, TZ-123)(Made by Asahi Denka Kogyo, TZ-123)

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

·이온성 액체 D 0.890 질량%Ionic liquid D 0.890 mass%

(n-부틸-3-메틸피리디늄 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드)(n-butyl-3-methylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide)

근적외선 흡수층 중의 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류, 이온성 액체의 종류와 함유량을 표 3에 나타낸다. 또한, 얻어진 근적외선 흡수 필름의 물성을 표 4에 나타낸다. 근적외 영역의 흡수가 강하고, 가시광 영역에서의 투과율이 높은 필름이 얻어졌다. 또한, 내열성, 유연성도 양호하였다.Table 3 shows the kind of near-infrared absorbing dye (dimonium salt compound) and the kind and content of an ionic liquid in a near-infrared absorbing layer. In addition, the physical property of the obtained near-infrared absorption film is shown in Table 4. A film with strong absorption in the near infrared region and high transmittance in the visible light region was obtained. Moreover, heat resistance and flexibility were also favorable.

실시예 9Example 9

하기의 도포액 K를 사용한 것 이외에는 실시예 8과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다.A near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 8 except that the following coating liquid K was used.

(근적외선 흡수층용 도포액 K)(Coating Liquid K for Near Infrared Absorption Layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 K를 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 μm to prepare a coating solution K.

·톨루엔 22.998 질량%22.998 mass% of toluene

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄염 화합물(색소 A) 0.937 질량%Dimonium salt compound (pigment A) 0.937 mass%

(일본 칼리트제, CIR1085, 반대이온: 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산)(Made by Nippon Kalitz, CIR1085, counterion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid)

·시아닌계 색소 0.076 질량%Cyanine pigment 0.076 mass%

(아사히덴카 공업제, TZ-123)(Made by Asahi Denka Kogyo, TZ-123)

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

·이온성 액체 D 0.085 질량%Ionic liquid D 0.085 mass%

(n-부틸-3-메틸피리디늄 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드)(n-butyl-3-methylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide)

근적외선 흡수층 중의 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류, 이온성 액체의 종류와 함유량을 표 3에 나타낸다. 또한, 얻어진 근적외선 흡수 필름의 물성을 표 4에 나타낸다. 근적외 영역의 흡수가 강하고, 가시광 영역에서의 투과율이 높은 필름이 얻어졌다. 또한, 내열성, 유연성도 양호하였다.Table 3 shows the kind of near-infrared absorbing dye (dimonium salt compound) and the kind and content of an ionic liquid in a near-infrared absorbing layer. In addition, the physical property of the obtained near-infrared absorption film is shown in Table 4. A film with strong absorption in the near infrared region and high transmittance in the visible light region was obtained. Moreover, heat resistance and flexibility were also favorable.

실시예 10Example 10

하기의 도포액 L을 사용한 것 이외에는 실시예 8과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다.A near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 8 except that the following coating liquid L was used.

(근적외선 흡수층용 도포액 L)(Coating Liquid L for Near Infrared Absorption Layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 L을 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 µm to prepare a coating solution L.

·톨루엔 21.411 질량%21.411 mass% of toluene

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄염 화합물(색소 A) 0.937 질량%Dimonium salt compound (pigment A) 0.937 mass%

(일본 칼리트제, CIR1085, 반대이온: 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산)(Made by Nippon Kalitz, CIR1085, counterion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid)

·시아닌계 색소 0.076 질량%Cyanine pigment 0.076 mass%

(아사히덴카 공업제, TZ-123)(Made by Asahi Denka Kogyo, TZ-123)

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

·이온성 액체 D 1.671 질량%Ionic liquid D 1.671 mass%

(n-부틸-3-메틸피리디늄 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드)(n-butyl-3-methylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide)

근적외선 흡수층 중의 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류, 이온성 액체의 종류와 함유량을 표 3에 나타낸다. 또한, 얻어진 근적외선 흡수 필름의 물성을 표 4에 나타낸다. 근적외 영역의 흡수가 강하고, 가시광 영역에서의 투과율이 높은 필름이 얻어졌다. 또한, 내열성, 유연성도 양호하였다.Table 3 shows the kind of near-infrared absorbing dye (dimonium salt compound) and the kind and content of an ionic liquid in a near-infrared absorbing layer. In addition, the physical property of the obtained near-infrared absorption film is shown in Table 4. A film with strong absorption in the near infrared region and high transmittance in the visible light region was obtained. Moreover, heat resistance and flexibility were also favorable.

비교예 4Comparative Example 4

하기의 도포액 M을 사용한 것 이외에는 실시예 8과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다.A near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 8 except that the following coating liquid M was used.

(근적외선 흡수층용 도포액 M)(Coating Liquid M for Near Infrared Absorption Layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 M을 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 μm to prepare a coating solution M.

·톨루엔 23.083 질량%Toluene 23.083 mass%

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄염 화합물(색소 A) 0.937 질량%Dimonium salt compound (pigment A) 0.937 mass%

(일본 칼리트제, CIR1085, 반대이온: 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산)(Made by Nippon Kalitz, CIR1085, counterion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid)

·시아닌계 색소 0.076 질량%Cyanine pigment 0.076 mass%

(아사히덴카 공업제, TZ-123)(Made by Asahi Denka Kogyo, TZ-123)

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

근적외선 흡수층 중의 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류를 표 3에 나타낸다. 또한, 얻어진 근적외선 흡수 필름의 물성을 표 4에 나타낸다. 근적외 영역의 흡수가 강한 필름이 얻어졌다. 가시광 영역에서의 투과율은, 이온성 액체를 첨가한 실시예 8~10보다도 조금 낮지만, 내열성, 유연성은 불량해졌다.Table 3 shows the kind of near-infrared absorbing dye (dimonium salt compound) in the near-infrared absorbing layer. In addition, the physical property of the obtained near-infrared absorption film is shown in Table 4. A film with strong absorption in the near infrared region was obtained. Although the transmittance | permeability in visible region is a little lower than Examples 8-10 which added the ionic liquid, heat resistance and flexibility became poor.

참고예 1Reference Example 1

실시예 8에 있어서, 이온성 액체의 종류를 하기의 이온성 액체 G로 변경한 것 이외에는 실시예 8과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다.In Example 8, the near-infrared absorbing film was obtained like Example 8 except having changed the kind of ionic liquid to the following ionic liquid G.

이온성 액체 G: n-부틸-3-메틸피리디늄 테트라플루오로보레이트Ionic liquid G: n-butyl-3-methylpyridinium tetrafluoroborate

근적외선 흡수층 중의 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류, 이온성 액체의 종류와 함유량을 표 3에 나타낸다. 또한, 얻어진 근적외선 흡수 필름의 물성을 표 4에 나타낸다. 근적외 영역의 흡수가 강하고, 가시광 영역에서의 투과율이 높은 필름이 얻어졌다. 또한, 내열성, 유연성도 양호하였다.Table 3 shows the kind of near-infrared absorbing dye (dimonium salt compound) and the kind and content of an ionic liquid in a near-infrared absorbing layer. In addition, the physical property of the obtained near-infrared absorption film is shown in Table 4. A film with strong absorption in the near infrared region and high transmittance in the visible light region was obtained. Moreover, heat resistance and flexibility were also favorable.

실시예 11Example 11

실시예 8에 있어서, 이온성 액체의 종류를 하기의 이온성 액체 H로 변경한 것 이외에는 실시예 8과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다.In Example 8, the near-infrared absorption film was obtained like Example 8 except having changed the kind of ionic liquid to the following ionic liquid H.

이온성 액체 H: N,N,N-트리메틸-N-프로필암모늄 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드Ionic liquid H: N, N, N-trimethyl-N-propylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide

근적외선 흡수층 중의 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류, 이온성 액체의 종류와 함유량을 표 3에 나타낸다. 또한, 얻어진 근적외선 흡수 필름의 물성을 표 4에 나타낸다. 근적외 영역의 흡수가 강한 필름이 얻어졌다. 내열성은 실시예 8보다도 떨어지지만, 비교예 4보다도 양호하였다. 또한, 유연성은 양호하였다.Table 3 shows the kind of near-infrared absorbing dye (dimonium salt compound) and the kind and content of an ionic liquid in a near-infrared absorbing layer. In addition, the physical property of the obtained near-infrared absorption film is shown in Table 4. A film with strong absorption in the near infrared region was obtained. Although heat resistance was inferior to Example 8, it was better than Comparative Example 4. In addition, the flexibility was good.

실시예 12Example 12

하기의 도포액 P를 사용한 것 이외에는 실시예 8과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다.A near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 8 except that the following coating liquid P was used.

(근적외선 흡수층용 도포액 P)(Coating Liquid P for Near Infrared Absorption Layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 P를 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 μm to prepare a coating solution P.

·톨루엔 22.193 질량%Toluene 22.193% by mass

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄염 화합물(색소 B) 0.937 질량%Dimonium salt compound (pigment B) 0.937 mass%

(일본 칼리트제, CIR1081, 반대이온: 육플루오르화 안티몬)(Made by Nippon Kalitz, CIR1081, counterion: antimony hexafluoride)

·시아닌계 색소 0.076 질량%Cyanine pigment 0.076 mass%

(아사히덴카 공업제, TZ-123)(Made by Asahi Denka Kogyo, TZ-123)

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

·이온성 액체 D 0.890 질량%Ionic liquid D 0.890 mass%

(n-부틸-3-메틸피리디늄 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드)(n-butyl-3-methylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide)

근적외선 흡수층 중의 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류, 이온성 액체의 종류와 함유량을 표 3에 나타낸다. 또한, 얻어진 근적외선 흡수 필름의 물성을 표 4에 나타낸다. 근적외 영역의 흡수가 강하고, 가시광 영역에서의 투과율이 높은 필름이 얻어졌다. 또한, 내열성, 유연성도 양호하였다.Table 3 shows the kind of near-infrared absorbing dye (dimonium salt compound) and the kind and content of an ionic liquid in a near-infrared absorbing layer. In addition, the physical property of the obtained near-infrared absorption film is shown in Table 4. A film with strong absorption in the near infrared region and high transmittance in the visible light region was obtained. Moreover, heat resistance and flexibility were also favorable.

비교예 5Comparative Example 5

하기의 도포액 Q를 사용한 것 이외에는 실시예 8과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다. A near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 8 except that the following coating liquid Q was used.

(근적외선 흡수층용 도포액 Q)(Coating Liquid Q for Near Infrared Absorption Layer)

도포액의 재료를 하기의 질량비로 혼합하고, 30분 이상 교반하였다. 이어서, 공칭여과정밀도 1 ㎛의 필터로 미용해물을 제거하여 도포액 Q를 조제하였다.The material of the coating liquid was mixed in the following mass ratio, and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved matter was removed with a filter having a nominal filter density of 1 µm to prepare a coating solution Q.

·톨루엔 23.083 질량%Toluene 23.083 mass%

·메틸에틸케톤 23.083 질량%Methyl ethyl ketone 23.083 mass%

·아크릴계 수지 52.762 질량%52.762 mass% of acrylic resin

(소켄 화학제, GS-1030, 고형분 농도: 30 질량%, Tg: 115℃)(Soken chemicals, GS-1030, solid content concentration: 30 mass%, Tg: 115 degreeC)

·디임모늄계 색소(색소 B) 0.937 질량%0.97 mass% of diimmonium pigment | dyes (pigment B)

(일본 칼리트제, CIR1081, 반대이온: 육플루오르화 안티몬)(Made by Nippon Kalitz, CIR1081, counterion: antimony hexafluoride)

·시아닌계 색소 0.076 질량%Cyanine pigment 0.076 mass%

(아사히덴카 공업제, TZ-123)(Made by Asahi Denka Kogyo, TZ-123)

·실리콘계 계면활성제 0.059 질량%0.059% by mass of silicon-based surfactant

(다우코닝제, 페인태드 57, HLB: 6.7)(Dow Corning, Painted 57, HLB: 6.7)

근적외선 흡수층 중의 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류, 이온성 액체의 종류와 함유량을 표 3에 나타낸다. 또한, 얻어진 근적외선 흡수 필름의 물성을 표 4에 나타낸다. 근적외 영역의 흡수가 강하고, 가시광 영역에서의 투과율이 높은 필름이 얻어졌다. 또한, 내열성, 유연성도 양호하였다.Table 3 shows the kind of near-infrared absorbing dye (dimonium salt compound) and the kind and content of an ionic liquid in a near-infrared absorbing layer. In addition, the physical property of the obtained near-infrared absorption film is shown in Table 4. A film with strong absorption in the near infrared region and high transmittance in the visible light region was obtained. Moreover, heat resistance and flexibility were also favorable.

실시예 13Example 13

투명기재로서, 반사 필름(일본 유지제, 리아룩 7700S)을 사용하여, 반사방지층과는 반대면에 근적외선 흡수층을 적층한 것 이외에는, 실시예 8과 동일하게 하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다.As a transparent base material, the near-infrared absorbing film was obtained like Example 8 except having laminated | stacked the near-infrared absorbing layer on the surface opposite to an anti-reflective layer using the reflecting film (Japanese fats and oils, Liaruk 7700S).

근적외선 흡수층 중의 근적외선 흡수 색소(디임모늄염 화합물)의 종류, 이온성 액체의 종류와 함유량을 표 3에 나타낸다. 또한, 얻어진 근적외선 흡수 필름의 물성을 표 4에 나타낸다. 근적외 영역의 흡수가 강하고, 가시광 영역에서의 투과율이 높은 필름이 얻어졌다. 또한, 내열성, 유연성도 양호하였다.Table 3 shows the kind of near-infrared absorbing dye (dimonium salt compound) and the kind and content of an ionic liquid in a near-infrared absorbing layer. In addition, the physical property of the obtained near-infrared absorption film is shown in Table 4. A film with strong absorption in the near infrared region and high transmittance in the visible light region was obtained. Moreover, heat resistance and flexibility were also favorable.

Figure 112008059125510-PCT00004
Figure 112008059125510-PCT00004

표 3에 있어서, 색소 A, B, 화합물 D, G, H는 하기의 화합물을 의미한다.In Table 3, pigment | dye A, B, compound D, G, H means the following compound.

(색소 A)(Color A)

비스(트리플루오로메탄설폰)이미드산을 반대이온으로 하는 N,N,N',N'-테트라키스(p-디-n-부틸아미노페닐)-p-페닐렌디임모늄염N, N, N ', N'-tetrakis (p-di-n-butylaminophenyl) -p-phenylenedimonium salt having bis (trifluoromethanesulfon) imide acid as counterion

(색소 B)(Color B)

육플루오르화 안티몬을 반대이온으로 하는 N,N,N',N'-테트라키스(p-디-n-부틸아미노페닐)-p-페닐렌디임모늄염N, N, N ', N'-tetrakis (p-di-n-butylaminophenyl) -p-phenylenedimonium salt having antimony hexafluoride as the counterion

(이온성 액체 D)(Ionic liquid D)

n-부틸-3-메틸피리디늄 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드n-butyl-3-methylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide

(이온성 액체 G)(Ionic liquid G)

n-부틸-3-메틸피리디늄 테트라플루오로보레이트n-butyl-3-methylpyridinium tetrafluoroborate

(이온성 액체 H)(Ionic liquid H)

N,N,N-트리메틸-N-프로필암모늄 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드N, N, N-trimethyl-N-propylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide

Figure 112008059125510-PCT00005
Figure 112008059125510-PCT00005

본 발명의 근적외선 흡수 필름을 근적외선 흡수 필터로서 플라즈마 디스플레이의 전면에 설치한 경우, 종래의 근적외선 흡수 필터와 마찬가지로, 디스플레이로부터 방출되는 불필요한 근적외선을 흡수하여, 정밀기기의 오작동을 방지할 수 있을 뿐 아니라, 열에 의한 색조의 변화를 대폭 저감할 수 있기 때문에, 플라즈마 디스플레이의 고화질화에 기여할 수 있는 동시에, 광학 필터의 설계의 자유도가 높아진다는 이점이 있어, 산업계에 기여하는 바가 크다.When the near-infrared absorbing film of the present invention is installed on the front side of a plasma display as a near-infrared absorbing filter, like the conventional near-infrared absorbing filter, it absorbs unnecessary near-infrared rays emitted from the display, thereby preventing malfunction of precision instruments. Since the change in the color tone due to heat can be greatly reduced, there is an advantage that it can contribute to the high quality of the plasma display and the degree of freedom in designing the optical filter is increased, which contributes greatly to the industry.

Claims (6)

투명기재 상에, 근적외선 흡수 색소, 수지로 주로 구성되는 조성물로 되는 근적외선 흡수층을 설치한 근적외선 흡수 필름으로서, 상기의 조성물 중에 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물 중 어느 하나를 함유하는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 필름.A near-infrared absorbing film having a near-infrared absorbing layer composed of a composition mainly composed of a near-infrared absorbing dye and a resin on a transparent substrate, wherein the trifluoromethanesulfonic acid compound or bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid is contained in the composition. The near-infrared absorption film containing any one of the compounds. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 근적외선 흡수 색소가 디임모늄염 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 필름.The near-infrared absorbing pigment contains a dimonium salt compound, The near-infrared absorption film characterized by the above-mentioned. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 디임모늄염 화합물이 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산을 반대이온으로 하는 디임모늄염 화합물인 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 필름.A near-infrared absorption film characterized in that the diimmonium salt compound is a diimmonium salt compound having bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid as a counterion. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 3, 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물이 이온성 액체로서, 근적외선 흡수층 중에 0.1 질량% 이상 10.0 질량% 이하 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 필름.A near-infrared absorbing film, wherein a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound is contained as an ionic liquid in an amount of 0.1 mass% or more and 10.0 mass% or less in the near infrared absorbing layer. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 3, 근적외선 흡수 색소로서, 트리플루오로메탄설폰산 화합물 또는 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산 화합물을 반대이온으로 하는 시아닌 색소가, 근적외선 흡수층 중에 0.1 질량% 이상 10.0 질량% 이하 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 필름.As a near-infrared absorbing dye, the cyanine pigment | dye which makes a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound the counter ion contains 0.1 mass% or more and 10.0 mass% or less in a near-infrared absorption layer, It is characterized by the above-mentioned. Near-infrared absorption film made with. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 5, 근적외선 흡수층을 구성하는 수지가 아크릴계 수지인 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 필름.Resin which comprises a near-infrared absorption layer is acrylic resin, The near-infrared absorption film characterized by the above-mentioned.
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