KR20080066414A - Display panel - Google Patents

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KR20080066414A
KR20080066414A KR1020070003847A KR20070003847A KR20080066414A KR 20080066414 A KR20080066414 A KR 20080066414A KR 1020070003847 A KR1020070003847 A KR 1020070003847A KR 20070003847 A KR20070003847 A KR 20070003847A KR 20080066414 A KR20080066414 A KR 20080066414A
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유혜란
유승후
강성민
도희욱
김훈
문현철
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삼성전자주식회사
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Abstract

A display panel is provided to define an up capacitor by crossing a prolongation unit and a protrusion pattern, thereby reducing a process error of a manufacturing process and designing the up capacitor more stably. A substrate has plural gate lines(GLn,GLn+1) and plural data lines(DLm-1,DLm,DLm+1). The data lines define plural pixel areas by crossing the gate lines. The pixel area comprises a main pixel area and a sub pixel area adjacent to the main pixel area. A first TFT(Thin Film Transistor)(T1) is formed on the substrate, and is connected to a current gate line and a current data line. A second TFT(T2) is formed on the substrate, and is connected to the current gate line and the current data line. A main pixel electrode(MP) is installed in the main pixel area, and electrically connected to a drain electrode(DE1) of the first TFT. In the main pixel electrode, a protrusion pattern is formed in an end portion adjacent to the next gate line. A sub pixel electrode(SP) is installed in the sub pixel area, and is electrically insulated form the main pixel electrode. The sub pixel electrode is electrically connected to a drain electrode(DE2) of the second TFT. A third TFT(T3) comprises a gate electrode branched from the next gate line, a first electrode(E1) electrically connected to the sub pixel electrode, and a second electrode(E2) crossing the protrusion pattern of the main pixel electrode.

Description

표시패널{DISPLAY PANEL}Display panel {DISPLAY PANEL}

본 발명의 상세한 설명에서 사용되는 도면을 보다 충분히 이해하기 위하여, 각 도면의 간단한 설명이 제공된다.In order to more fully understand the drawings used in the detailed description of the invention, a brief description of each drawing is provided.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시패널에 구비된 m×n 화소의 등가 회로도이다.1 is an equivalent circuit diagram of an m × n pixel of a display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 m×n 화소의 레이아웃이다.FIG. 2 is a layout of m × n pixels shown in FIG. 1.

도 3은 도 2의 A 부분의 확대도로서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 돌기 패턴과 연장부 간의 교차 구조를 나타낸 도면이다.3 is an enlarged view of a portion A of FIG. 2 and illustrates an intersecting structure between the protrusion pattern and the extension part, according to another exemplary embodiment.

도 4는 도 2의 A 부분의 확대도로서, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 돌기 패턴과 연장부 간의 교차 구조를 나타낸 도면이다.FIG. 4 is an enlarged view of a portion A of FIG. 2 and illustrates an intersecting structure between the protrusion pattern and the extension part, according to another exemplary embodiment.

도 5는 도 2의 A 부분의 확대도로서, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 돌기 패턴과 연장부 간의 교차 구조를 나타낸 도면이다.FIG. 5 is an enlarged view of a portion A of FIG. 2 and illustrates an intersecting structure between the protrusion pattern and the extension part, according to another exemplary embodiment.

본 발명은 표시패널에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 표시품질을 향상시킬 수 있는 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display panel, and more particularly, to a display device capable of improving display quality.

일반적으로, 액정표시장치는 하부기판, 하부기판과 대향하여 구비되는 상부기판 및 하부기판과 상부기판과의 사이에 형성된 액정층으로 이루어져 영상을 표시하는 액정표시패널을 구비한다. 액정표시패널에는 다수의 게이트 라인, 다수의 데이터 라인, 다수의 게이트 라인과 다수의 데이터 라인에 연결된 다수의 화소가 구비된다.In general, a liquid crystal display includes a lower substrate, an upper substrate provided to face the lower substrate, and a liquid crystal layer formed between the lower substrate and the upper substrate to display an image. The LCD panel includes a plurality of gate lines, a plurality of data lines, a plurality of gate lines, and a plurality of pixels connected to the plurality of data lines.

최근에는 액정표시장치의 좁은 시야각를 개선하기 위하여 피브이에이(Patterned Vertical Alignment: PVA) 모드, 엠브이에이(Multi-domain Vertical Alignment: MVA) 모드 및 에스-피브이에이(Super-Patterned Vertical Alignment: S-PVA) 모드 액정표시장치가 개발되고 있다.Recently, in order to improve a narrow viewing angle of a liquid crystal display, a patterned vertical alignment (PVA) mode, a multi-domain vertical alignment (MVA) mode, and a super-patterned vertical alignment (S) are used. PVA mode liquid crystal display devices have been developed.

S-PVA 모드 액정표시장치는 두 개의 서브 화소로 이루어진 화소를 구비하고, 화소에 서로 다른 그레이를 갖는 도메인을 형성하기 위하여 두 개의 서브화소는 서로 다른 서브전압이 인가되는 메인 및 서브 화소전극을 각각 구비한다. 이때, 액정표시장치를 바라보는 사람의 눈은 두 개의 서브전압의 중간값을 인식하므로, 중간 계조 이하에서 감마커브가 왜곡되어 측면 시야각이 저하되는 것을 방지한다. 이로써, 액정표시장치의 측면 시인성을 개선할 수 있다.The S-PVA mode liquid crystal display includes a pixel composed of two subpixels, and in order to form a domain having different grays in the pixels, the two subpixels respectively include main and subpixel electrodes to which different subvoltages are applied. Equipped. At this time, the eye of the person looking at the liquid crystal display recognizes the median value of the two sub-voltages, thereby preventing the gamma curve from being distorted below the mid-level gray level and thus reducing the side viewing angle. Thereby, side visibility of the liquid crystal display device can be improved.

S-PVA 모드 액정표시장치는 구동방식에 따라서 CC(Coupling Capacitor)-타입과 TT(Two Transistor)-타입으로 구분된다. CC-타입은 메인 화소전극과 서브 화소전극 간의 사이에 커플링 커패시터를 추가하여 서브 화소전극으로 인가되는 데이터 전압을 전압 강하시켜 메인 픽셀전압보다 낮은 전압을 서브 픽셀전압으로써 인가하는 구동방식이다. S-PVA mode LCDs are classified into a coupling capacitor (CC) type and a two transistor (TT) type according to a driving method. The CC-type is a driving method in which a coupling capacitor is added between the main pixel electrode and the sub pixel electrode to drop the data voltage applied to the sub pixel electrode to apply a voltage lower than the main pixel voltage as the sub pixel voltage.

그러나, 공정오차에 따른 미스얼라인을 인해 상기 커플링 커패시터가 정상적으로 형성되지 못한다. 또한, 한 화소영역의 대부분을 차지하고 있는 화소 전극에 의해 상기 커플링 캐패시터가 차지할 수 있는 면적은 매우 작다. 따라서, 커플링 캐패시터의 전체용량을 늘리는데 한계가 있다. 이것은 표시패널의 표시품질을 저하시키는 주요한 원인이 된다.However, due to the misalignment due to the process error, the coupling capacitor cannot be formed normally. In addition, the area occupied by the coupling capacitor is very small by the pixel electrode occupying most of one pixel region. Therefore, there is a limit in increasing the total capacity of the coupling capacitor. This is a major cause of lowering the display quality of the display panel.

따라서, 본 발명의 목적은 표시품질을 향상시키는 표시패널을 제공하는 데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a display panel for improving display quality.

상기와 같은 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 표시패널은 기판, 제 1 박막 트랜지스터, 제 2 박막 트랜지스터, 메인 화소전극, 서브 화소전극 및 제 3 박막 트랜지스터를 포함한다. 상기 기판은 다수의 게이트 라인과 상기 다수의 게이트 라인과 교차하는 다수의 데이터 라인을 포함한다. 상기 다수의 게이트 라인과 상기 다수의 데이터 라인에 의해 다수의 화소 영역이 정의된다. 상기 다수의 화소 영역 각각은 메인 화소영역과 서브 화소영역으로 이루어진다. 상기 제 1 박막 트랜지스터는 현재 게이트 라인과 현재 데이터 라인에 연결된다. 상기 제 2 박막 트랜지스터는 상기 현재 게이트 라인과 상기 현재 데이터 라인에 연결된다. 상기 메인 화소전극은 상기 메인 화소영역에 구비되고, 상기 제 1 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 전기적으로 연결된다. 여기서, 상기 메인 화소전극의 단부에는 돌기패턴이 형성된다. 상기 서브 화소전극은 상기 서브 화소영역에 구비되고, 상기 메인 화소 전극과 전기적으로 연결되며, 상기 제 2 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 전기적으로 연결된다. 상기 제 3 박막 트랜지스터는 상기 다음 게이트 라인으로부터 분기된 게이트 전극, 상기 서브 화소전극과 전기적으로 연결된 제 1 전극 및 상기 메인 화소전극의 돌기 패턴과 교차하는 제 2 전극으로 이루어진다.The display panel of the present invention for achieving the above technical problem includes a substrate, a first thin film transistor, a second thin film transistor, a main pixel electrode, a sub pixel electrode and a third thin film transistor. The substrate includes a plurality of gate lines and a plurality of data lines crossing the plurality of gate lines. A plurality of pixel areas is defined by the plurality of gate lines and the plurality of data lines. Each of the plurality of pixel areas includes a main pixel area and a sub pixel area. The first thin film transistor is connected to a current gate line and a current data line. The second thin film transistor is connected to the current gate line and the current data line. The main pixel electrode is provided in the main pixel region and is electrically connected to the drain electrode of the first thin film transistor. Here, a protrusion pattern is formed at an end of the main pixel electrode. The sub pixel electrode is provided in the sub pixel area, is electrically connected to the main pixel electrode, and is electrically connected to a drain electrode of the second thin film transistor. The third thin film transistor includes a gate electrode branched from the next gate line, a first electrode electrically connected to the sub pixel electrode, and a second electrode crossing the protrusion pattern of the main pixel electrode.

본 발명에 따르면, 본 발명의 표시패널은 제 3 박막 트랜지스터의 제 2 전극으로부터 연장된 연장부과, 메인 화소전극으로부터 연장되어 요철형상을 갖는 돌기 패턴을 갖는다. According to the present invention, the display panel of the present invention has an extension portion extending from the second electrode of the third thin film transistor and a projection pattern extending from the main pixel electrode to have an uneven shape.

또한, 상기 돌기패턴과 상기 연장부의 개수를 적절히 조절함으로써, 상기 교차구조에 의해 형성되는 교차영역의 개수를 늘림으로써, 상기 업 캐패시터의 커패시턴스를 증가시킬수 있다. In addition, by appropriately adjusting the number of the projection pattern and the extension portion, by increasing the number of the cross-sectional area formed by the cross structure, it is possible to increase the capacitance of the up capacitor.

또한, 상기 연장부의 길이에 대한 폭을 증가시켜 상기 업 캐패시터의 커패시턴스를 증가시킬수 있다. In addition, it is possible to increase the capacitance of the up capacitor by increasing the width over the length of the extension.

결과적으로, 본 발명에 따른 표시패널은 보다 향상된 표시품질을 제공한다.As a result, the display panel according to the present invention provides improved display quality.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다. 각 도면을 이해함에 있어서, 동일한 부재는 가능한 한 동일한 참조부호로 도시하고자 함에 유의해야 한다. 또한, 하기의 설명에서, 구체적인 처리흐름과 같은 많은 특정 상세들은 본 발명의 보다 전반적인 이해를 제공하기 위해 기술된다. 그리고, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 기술은 생략된다.In order to fully understand the present invention, the operational advantages of the present invention, and the objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention and the contents described in the accompanying drawings. In understanding the drawings, it should be noted that like parts are intended to be represented by the same reference numerals as much as possible. In addition, in the following description, numerous specific details, such as specific processing flows, are described to provide a more general understanding of the invention. Incidentally, detailed descriptions of well-known functions and configurations that are determined to unnecessarily obscure the subject matter of the present invention will be omitted.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시패널에 구비된 m×n화소의 등가 회로도이다.1 is an equivalent circuit diagram of m × n pixels of a display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, n×m화소는 제n 게이트 라인(GLn), 제m 데이터 라인(DLm) 및 제 1 내지 제 3 박막 트랜지스터(T1, T2 및 T3)를 포함한다. 상기 제 1 박막 트랜지스터(T1)는 상기 제n 게이트 라인(GLn)과 제m 데이터 라인(DLm)에 전기적으로 연결된다. 구체적으로, 상기 제 1 박막 트랜지스터(T1)의 게이트 전극(GE1)은 상기 제n 게이트 라인(GLn)에 전기적으로 연결되고, 소오스 전극(SE1)은 상기 제 m 데이터 라인(DLm)에 전기적으로 연결된다. 또한, 상기 박막 트랜지스터(T1)는 제 1 드레인 전극(DE1)을 구비한다.Referring to FIG. 1, an n × m pixel includes an nth gate line GLn, an mth data line DLm, and first to third thin film transistors T1, T2, and T3. The first thin film transistor T1 is electrically connected to the nth gate line GLn and the mth data line DLm. Specifically, the gate electrode GE1 of the first thin film transistor T1 is electrically connected to the nth gate line GLn, and the source electrode SE1 is electrically connected to the mth data line DLm. do. In addition, the thin film transistor T1 includes a first drain electrode DE1.

제 2 박막 트랜지스터(T2)는 상기 제 n 게이트 라인(GLn)과 제 m 데이터 라인(DLm)에 전기적으로 연결된다. 구체적으로, 상기 제 2 박막 트랜지스터(T2)의 게이트 전극(GE2)은 상기 제n 게이트 라인(GLn)에 전기적으로 연결되고, 소오스 전극(SE2)은 상기 제m 데이터 라인(DLm)에 전기적으로 연결된다. 또한, 상기 박막 트랜지스터(T1)는 제 2 드레인 전극(DE2)을 구비한다. The second thin film transistor T2 is electrically connected to the nth gate line GLn and the mth data line DLm. Specifically, the gate electrode GE2 of the second thin film transistor T2 is electrically connected to the nth gate line GLn, and the source electrode SE2 is electrically connected to the mth data line DLm. do. In addition, the thin film transistor T1 includes a second drain electrode DE2.

제 3 박막 트랜지스터(T3)는 제 n+1 게이트 라인(GLn)과 상기 제 1 및 제 2 드레인 전극(DE1, DE2)에 전기적으로 연결된다. 구체적으로, 상기 제 3 박막 트랜지스터(T3)의 게이트 전극(GE3)은상기 제 n+1 게이트 라인(GLn+1)에 전기적으로 연결되고, 상기 제 3 박막 트랜지스터(T3)의 제 2 전극(E1)은 하기에서 기술되는 캐 패시터(C_up)에 연결되고, 상기 제 3 박막 트랜지스터(T3)의 제 1 전극(E2)은 상기 제 2 박막 트랜지스터(T2)의 드레인 전극(DE2)에 연결된다. 이에 대한 설명은 하기에서 구체적으로 기술하기로 한다. The third thin film transistor T3 is electrically connected to the n + 1 th gate line GLn and the first and second drain electrodes DE1 and DE2. In detail, the gate electrode GE3 of the third thin film transistor T3 is electrically connected to the n + 1th gate line GLn + 1 and the second electrode E1 of the third thin film transistor T3. Is connected to the capacitor C_up described below, and the first electrode E2 of the third thin film transistor T3 is connected to the drain electrode DE2 of the second thin film transistor T2. Description of this will be described in detail below.

또한, 상기 n×m화소는 메인 픽셀과 서브 픽셀을 더 포함하고, 상기 메인 픽셀은 상기 제 1 박막 트랜지스터(T1)의 제 1 드레인 전극(DE1)에 연결되며, 상기 서브 픽셀은 상기 제 2 박막 트랜지스터(T2)의 제 2 드레인 전극(DE2)에 연결된다.In addition, the n × m pixel further includes a main pixel and a sub pixel, and the main pixel is connected to the first drain electrode DE1 of the first thin film transistor T1, and the sub pixel is connected to the second thin film. It is connected to the second drain electrode DE2 of the transistor T2.

상기 메인 픽셀은 제 1 스토리지 캐패시터(H_cst) 및 제 1 액정 캐패시터(H_clc)를 포함한다. 상기 제 1 스토리지 캐패시터(H_cst)는 스토리지 전극, 절연층 및 메인 화소전극에 의해서 형성된다. 상기 제 1 액정 캐패시터(H_clc)는 메인 화소전극, 액정층 및 공통전극에 의해서 형성된다.The main pixel includes a first storage capacitor H_cst and a first liquid crystal capacitor H_clc. The first storage capacitor H_cst is formed by a storage electrode, an insulating layer, and a main pixel electrode. The first liquid crystal capacitor H_clc is formed by the main pixel electrode, the liquid crystal layer, and the common electrode.

상기 서브 픽셀은 제 2 스토리지 캐패시터(L_cst) 및 제 2 액정 캐패시터(L_clc)를 포함한다. 상기 제 2 스토리지 캐패시터(L_cst)는 스토리지 전극, 절연층 및 서브 화소전극에 의해서 형성된다. 상기 제 2 액정 캐패시터(L_clc)는 서브 화소전극, 액정층 및 공통 전극에 의해서 형성된다. The subpixel includes a second storage capacitor L_cst and a second liquid crystal capacitor L_clc. The second storage capacitor L_cst is formed by a storage electrode, an insulating layer, and a sub pixel electrode. The second liquid crystal capacitor L_clc is formed of a sub pixel electrode, a liquid crystal layer, and a common electrode.

그리고, 상기 n×m화소는 상기 메인 화소전극의 전위를 상승시키는 업 캐패시터(C_up)와 상기 서브 화소전극의 전위를 감소시키는 제 2 캐패시터(C_down)를 더 포함한다. 상기 업 캐패시터(C_up)는 상기 메인 화소전극, 상기 제 1 전극(E1) 및 절연층에 의해서 형성된다. 상기 다운 캐패시터(C_down)는 상기 제 2 전극(E2), 절연층 및 상기 스토리지 전극에 의해 형성된다. 결과적으로, 상기 제 3 박막 트랜지스터(T3)의 제 2 전극(E2)은 상기 업 캐패시터(C_up)를 통해 상기 메인 화소전극 과 전기적으로 연결된다.The n × m pixel further includes an up capacitor C_up for raising the potential of the main pixel electrode and a second capacitor C_down for decreasing the potential of the sub pixel electrode. The up capacitor C_up is formed by the main pixel electrode, the first electrode E1, and the insulating layer. The down capacitor C_down is formed by the second electrode E2, the insulating layer, and the storage electrode. As a result, the second electrode E2 of the third thin film transistor T3 is electrically connected to the main pixel electrode through the up capacitor C_up.

상기 제 n 게이트 라인(GLn)에 n번째 게이트 신호가 인가되면, 제 1 및 제 2 박막 트랜지스터(T1, T2)가 턴-온된다. 따라서, 상기 제 m 데이터 라인(DLm)으로 인가된 상기 데이터 전압은 상기 제 1 및 제 2 박막 트랜지스터(T1, T2)를 통과하여 상기 제1 및 제2 액정 커패시터(H_clc, L_clc)의 메인 화소전극 및 서브 화소전극으로 인가된다. 여기서, 상기 메인 화소전극 및 서브 화소전극으로 인가되는 데이터 전압이 동일하므로, 상기 제 1 및 제 2 액정 커패시터(H_clc, L_clc)에는 동일한 전압이 충전된다. 즉, 상기 제1 및 제2 액정 커패시터(H_clc, L_Clc) 각각에 충전되는 전압을 제 1 및 제 2 화소 전압으로 정의하면, n번째 수평주사구간 동안 상기 제1 및 제2 화소 전압은 서로 동일한 전압레벨을 갖는다.When the n-th gate signal is applied to the n-th gate line GLn, the first and second thin film transistors T1 and T2 are turned on. Therefore, the data voltage applied to the m-th data line DLm passes through the first and second thin film transistors T1 and T2 and the main pixel electrodes of the first and second liquid crystal capacitors H_clc and L_clc. And a sub pixel electrode. Here, since the data voltages applied to the main pixel electrode and the sub pixel electrode are the same, the same voltage is charged in the first and second liquid crystal capacitors H_clc and L_clc. That is, when the voltages charged in the first and second liquid crystal capacitors H_clc and L_Clc are defined as first and second pixel voltages, the first and second pixel voltages are the same voltage during the nth horizontal scanning interval. Have a level.

상기 제n 게이트 라인(GLn)으로 인가된 n번째 게이트 신호에 응답하여 상기 제 3 박막 트랜지스터(T3)가 턴-온되면, 상기 제 3 박막 트랜지스터(T3)와 상기 업캐패시터(C_up)가 전기적으로 연결된다. 따라서, 상기 제 1 액정 커패시터(H-Clc)에 충전된 상기 제1 화소 전압과 상기 제2 액정 커패시터(L_clc)에 충전된 상기 제2 화소 전압의 전압레벨이 상기 업 커패시터(C-up)와 상기 다운 커패시터(C-down)에 의해서 조절된다. When the third thin film transistor T3 is turned on in response to an nth gate signal applied to the nth gate line GLn, the third thin film transistor T3 and the up capacitor C_up are electrically connected to each other. Connected. Therefore, the voltage level of the first pixel voltage charged in the first liquid crystal capacitor H-Clc and the second pixel voltage charged in the second liquid crystal capacitor L_clc is equal to the up capacitor C-up. It is controlled by the down capacitor (C-down).

구체적으로, 상기 업 커패시터(C-up1)와 상기 다운 커패시터(C-down1)에 의해서 상기 제1 화소 전압의 전압레벨은 상승하고, 상기 제 2 화소 전압의 전압레벨은 하강한다. 이때, 상기 제 1 화소 전압의 상승폭과 상기 제2 화소 전압의 하강폭은 상기 업 커패시터(C_up)와 상기 다운 커패시터(C_down)의 커패시턴스의 비율에 따라서 변화된다.Specifically, the voltage level of the first pixel voltage increases and the voltage level of the second pixel voltage decreases by the up capacitor C-up1 and the down capacitor C-down1. In this case, the rising width of the first pixel voltage and the falling width of the second pixel voltage change according to a ratio of capacitances of the up capacitor C_up and the down capacitor C_down.

따라서, 상기 제 1 및 제 2 액정 캐패시터(H_clc, L_clc)로 서로 다른 전압이 인가되면, 액정층에 포함된 액정 분자들의 배향각도가 달라진다. 그 결과 상기 제 1 및 제 2 액정 캐패시터를 포함하는 메인 픽셀과 서브 픽셀에서는 서로 다른 계조의 영상을 디스플레이하게 된다. 표시장치를 사용하는 사용자는 상기 메인 픽셀과 서브 픽셀에서 표시되는 두 개의 영상을 혼합하여 시인하게 된다. 따라서, 표시장치의 측면 시인성이 향상될 수 있다.Therefore, when different voltages are applied to the first and second liquid crystal capacitors H_clc and L_clc, the alignment angles of the liquid crystal molecules included in the liquid crystal layer are changed. As a result, the main pixel and the sub pixel including the first and second liquid crystal capacitors display different gray levels. A user who uses the display device recognizes by mixing two images displayed in the main pixel and the sub pixel. Therefore, the side visibility of the display device can be improved.

도 2는 도 1에 도시된 m×n 화소의 레이아웃으로서, 도면의 간략화를 위해 블랙 매트릭스 및 색화소는 생략된다. FIG. 2 is a layout of m × n pixels shown in FIG. 1, and a black matrix and color pixels are omitted for simplicity of the drawing.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 표시패널은 제 1 표시기판(미도시), 상기 제 1 표시기판과 마주하는 제 2 표시기판(미도시) 및 상기 제 1 표시기판(110)과 상기 제 2 표시기판(120)과의 사이에 개재된 액정층(미도시)으로 이루어진다. 2, a display panel according to the present invention includes a first display substrate (not shown), a second display substrate facing the first display substrate (not shown), and the first display substrate 110 and the first display substrate. It consists of a liquid crystal layer (not shown) interposed between the two display substrates 120.

제 1 표시기판은 베이스 기판(미도시), 제 m 데이터 라인과 제 n 게이트 라인(GLn), 제 1 및 제 2 박막 트랜지스터, 메인 화소전극, 서브 화소전극 및 제 3 박막 트랜지스터를 포함한다. The first display substrate includes a base substrate (not shown), an m-th data line and an n-th gate line GLn, first and second thin film transistors, a main pixel electrode, a sub pixel electrode, and a third thin film transistor.

상기 베이스 기판 위에는 게이트 메탈로 이루어진 제 n 게이트 라인(GLn)과 스토리지 라인(STL)이 구비된다. 상기 스토리지 라인(STL)에는 공통전압이 인가되고, 상기 제n 게이트 라인(GLn)에는 게이트 신호가 인가된다.An n-th gate line GLn and a storage line STL made of a gate metal are provided on the base substrate. A common voltage is applied to the storage line STL, and a gate signal is applied to the nth gate line GLn.

상기 베이스 기판 위에는 상기 제 n 게이트 라인(GLn)으로부터 분기된 제 1 게이트 전극(GE1) 및 제 2 게이트 전극(GE2), 상기 제 n+1 게이트 라인(GLn+1)으로 부터 분기된 제 3 게이트 전극(GE3)이 더 구비된다.The third gate branched from the first and second gate electrodes GE1 and GE2 and the n + 1 gate line GLn + 1 branched from the nth gate line GLn on the base substrate. The electrode GE3 is further provided.

상기 베이스 기판(111) 위에는 상기 제 n 게이트 라인(GLn) 및 스토리지 라인(STL)을 커버하는 게이트 절연막이 더 구비된다. 상기 게이트 절연막(112) 상에는 제m 데이터 라인(DLm), 상기 제 m 데이터 라인(DLm)으로부터 분기된 제 1 및 제 2 소오스 전극(SE1, SE2), 상기 제 1 및 제 2 소오스 전극(SE1, SE2)으로부터 각각 이격된 제1 및 제2 드레인 전극(DE1, DE2)이 구비된다. A gate insulating layer covering the n-th gate line GLn and the storage line STL is further provided on the base substrate 111. On the gate insulating layer 112, an m-th data line DLm, first and second source electrodes SE1 and SE2 branched from the m-th data line DLm, and the first and second source electrodes SE1, First and second drain electrodes DE1 and DE2 are respectively spaced apart from SE2.

이로써, 상기 베이스 기판에는 상기 제 1 게이트 전극(GE1), 제 1 소오스 전극(SE1) 및 제 1 드레인 전극(DE1)으로 이루어진 제 1 박막 트랜지스터(T1)가 형성된다. 그리고 상기 제 2 게이트 전극(GE2), 제 2 소오스 전극(SE2) 및 제 2 드레인 전극(DE2)으로 이루어진 제 2 박막 트랜지스터(T2)가 형성된다.As a result, a first thin film transistor T1 including the first gate electrode GE1, the first source electrode SE1, and the first drain electrode DE1 is formed on the base substrate. The second thin film transistor T2 including the second gate electrode GE2, the second source electrode SE2, and the second drain electrode DE2 is formed.

또한, 상기 게이트 절연막 상에는 상기 제 3 게이트 전극(GE3)에 대응하는 위치에서 서로 소정의 간격으로 이격된 제 1 전극(E1) 및 제 2 전극(E2)이 더 구비된다. 따라서, 상기 어레이 기판(110)에는 상기 제 3 게이트 전극(GE3), 제 1 전극(E1) 및 제 2 전극(E2)으로 이루어진 제 3 박막 트랜지스터(T4)가 형성된다. In addition, the gate insulating layer further includes a first electrode E1 and a second electrode E2 spaced apart from each other at a predetermined interval at a position corresponding to the third gate electrode GE3. Accordingly, the third thin film transistor T4 including the third gate electrode GE3, the first electrode E1, and the second electrode E2 is formed on the array substrate 110.

상기 게이트 절연막 상에 형성된 상기 제 2 전극(E2)과 상기 스토리지 라인(STL)이 부분적으로 오버랩된 부분에서 다운 커패시터(C_down)가 형성된다. 또한, 상기 게이트 절연막 상에는 상기 제 2 전극으로부터 연장된 연장부이 형성된다. 상기 연장부은 하기에서 기술되는 업 캐패시터(C_up)의 한쪽 전극을 형성한다. A down capacitor C_down is formed at a portion where the second electrode E2 and the storage line STL partially overlap the gate insulating layer. In addition, an extension part extending from the second electrode is formed on the gate insulating film. The extension forms one electrode of the up capacitor C_up described below.

상기 베이스 기판은 상기 제 1, 제 2 및 제 3 박막 트랜지스터(T1, T2, T3), 상기 제 2 전극(E2)을 커버하는 보호막(미도시) 및 유기 절연막(미도시)을 구비한 다. 상기 보호막 및 유기 절연막에는 상기 제1 드레인 전극(DE1)을 노출시키는 제 1 콘택홀(C1), 상기 제 2 드레인 전극(DE2)을 노출시키는 제 2 콘택홀(C2) 및 제 1 전극(E1)을 노출시키는 제3 콘택홀(C3)이 형성된다.The base substrate includes the first, second and third thin film transistors T1, T2, and T3, a passivation layer (not shown) and an organic insulating layer (not shown) covering the second electrode E2. The protective layer and the organic insulating layer have a first contact hole C1 exposing the first drain electrode DE1, a second contact hole C2 exposing the second drain electrode DE2, and a first electrode E1. The third contact hole C3 exposing the gap is formed.

상기 유기 절연막 상에는 메인 화소전극(MP)과 서브 화소전극(SP)이 형성된다. 상기 메인 화소전극(MP)과 상기 서브 화소전극(SP)과의 사이에는 개구부(OP)가 형성되고, 상기 개구부(OP)에 의해서 서로 전기적으로 분리된다.The main pixel electrode MP and the sub pixel electrode SP are formed on the organic insulating layer. An opening OP is formed between the main pixel electrode MP and the sub pixel electrode SP, and is electrically separated from each other by the opening OP.

상기 메인 화소전극(MP)은 상기 제 1 콘택홀(C1)을 통해 상기 제 1 드레인 전극(DE1)과 전기적으로 연결되고, 상기 제 2 서브 화소전극(SP)은 상기 제 2 콘택홀(C2)을 통해 상기 제 2 드레인 전극(DE2)과 전기적으로 연결된다. The main pixel electrode MP is electrically connected to the first drain electrode DE1 through the first contact hole C1, and the second sub pixel electrode SP is connected to the second contact hole C2. The second drain electrode DE2 is electrically connected to the second drain electrode DE2 through the second drain electrode DE2.

상기 메인 화소전극(MP)은 상기 스토리지 라인(STL)과 부분적으로 오버랩되어 제 1 스토리지 커패시터(H-Cst)를 형성하고, 상기 서브 화소전극(SP)은 상기 스토리지 라인(STL)과 부분적으로 오버랩되어 제 2 스토리지 커패시터(L-Cst)를 형성한다. 또한, 상기 서브 화소전극(SP)은 상기 제 3 콘택홀(C3)을 통해 상기 제 1 전극(E1)과 전기적으로 연결된다.The main pixel electrode MP partially overlaps the storage line STL to form a first storage capacitor H-Cst, and the sub pixel electrode SP partially overlaps the storage line STL. To form a second storage capacitor L-Cst. In addition, the sub pixel electrode SP is electrically connected to the first electrode E1 through the third contact hole C3.

한편, 상기 메인 화소전극(MP)은 제 n+1 게이트 라인(GLn+1)과 인접한 단부에 요철형상의 적어도 하나의 돌기 패턴을 갖는다. 상기 돌기 패턴은 상기 제 2 전극으로부터 연장된 연장부과 교차한다. 상기 연장부은 상기 적어도 하나의 돌기 패턴과 교차하도록 형성된다. 상기 돌기 패턴과 상기 연장부의 교차 영역에서 업 캐패시터(C_up)가 형성된다. 상기 돌기 패턴과 상기 연장부은 완전히 교차하도록 형성된다. 이렇게 함으로써, 제조공정에서 발생할 수 있는 상기 돌기 패턴과 상기 연 장부 간의 미스 얼라인의 편차에 대한 마진을 충분히 확보할 수 있다. The main pixel electrode MP has at least one protrusion pattern having an uneven shape at an end adjacent to the n + 1th gate line GLn + 1. The protrusion pattern intersects an extension portion extending from the second electrode. The extension part is formed to intersect the at least one protrusion pattern. An up capacitor C_up is formed at an intersection of the protrusion pattern and the extension part. The protrusion pattern and the extension part are formed to completely cross. By doing so, it is possible to sufficiently secure a margin for the deviation of the misalignment between the protrusion pattern and the extension part that may occur in the manufacturing process.

전술한 바와 같이, 메인 화소전극에 제공되는 제 1 화소 전압의 상승폭과 서브 화소전극에 제공되는 제 2 화소 전압의 하강 폭이 클수록 표시장치의 시인성은 향상된다. 다시 말해, 업 캐패시터(C_up)의 캐패시턴스가 커질수록 제 1 화소 전압의 상승폭은 커지게 된다. As described above, as the rising width of the first pixel voltage provided to the main pixel electrode and the falling width of the second pixel voltage provided to the sub pixel electrode become larger, the visibility of the display device is improved. In other words, as the capacitance of the up capacitor C_up increases, the rising width of the first pixel voltage increases.

이하, 상기 업 캐패시터(C_up)의 캐패시턴스를 증가시킬 수 있는 다양한 실시예가 기술된다. Hereinafter, various embodiments that can increase the capacitance of the up capacitor C_up are described.

도 3 내지 도 5는 도 2의 A 부분을 확대한 도면으로서, 상기 업 캐패시터(C_up)의 캐패시턴스를 증가시킬 수 있는 다양한 구조를 나타낸다. 3 to 5 are enlarged views of portion A of FIG. 2, and show various structures capable of increasing capacitance of the up capacitor C_up.

도 3을 참조하면, 메인 화소전극(MP)으로부터 연장된 두 개의 돌기 패턴이 형성된다. 그리고, 제 2 전극(E2)으로부터 연장된 연장부이 상기 두 개의 돌기 패턴에 모두 교차하게 형성된다. 이렇게 함으로써, 상기 돌기 패턴과 상기 연장부 간의 두 개의 교차영역이 확보됨으로써, 상기 업 캐패시터(C_up)의 캐패시턴스를 증가시킬 수 있다. 여기서, 세 개 이상의 돌기 패턴을 형성함으로써, 상기 돌기 패턴과 상기 연장부 간의 더 많은 교차영역이 형성될 수 있음은 자명하다.Referring to FIG. 3, two projection patterns extending from the main pixel electrode MP are formed. An extension part extending from the second electrode E2 intersects the two protrusion patterns. By doing so, two intersection regions between the protrusion pattern and the extension part are secured, thereby increasing the capacitance of the up capacitor C_up. Here, it is apparent that by forming three or more protrusion patterns, more cross sections between the protrusion patterns and the extension part may be formed.

도 4를 참조하면, 메인 화소전극(MP)으로부터 연장된 돌기 패턴의 개수는 도 3의 실시 예와 동일하다. 다만, 제 2 전극으로부터 연장된 연장부의 개수가 두 개인점에서 그 차이가 있다. 따라서, 두 개의 연장부과 상기 두 개의 돌기 패턴이 모두 교차하도록 형성하면, 총 4개의 교차영역이 제공된다. 이렇게 함으로써, 도 3의 실시예에서 보다 향상된 상기 업 캐패시터(C_up)의 캐패시턴스를 증가시킬수 있다.Referring to FIG. 4, the number of protrusion patterns extending from the main pixel electrode MP is the same as the embodiment of FIG. 3. However, there is a difference in the number of extension portions extending from the second electrode. Therefore, if the two extension portions and the two projection patterns are formed to intersect, a total of four intersection regions are provided. By doing so, it is possible to increase the capacitance of the up capacitor C_up further improved in the embodiment of FIG. 3.

도 5를 참조하면, 도 3의 실시예와 거의 유사한 구조를 갖는다. 다만, 도 5 도시된 연장부의 폭(W2)이 도 3에 도시된 연장부의 폭(W1)보다 더 넓게 형성된다. 이렇게 함으로써, 상기 업 캐패시터(C_up)의 캐패시턴스를 증가시킬 수 있다. Referring to FIG. 5, the structure is substantially similar to the embodiment of FIG. 3. However, the width W2 of the extension shown in FIG. 5 is formed to be wider than the width W1 of the extension shown in FIG. 3. By doing this, it is possible to increase the capacitance of the up capacitor C_up.

한편, 도면에 도시되지는 않았으나, 상기 제 2 표시 기판은 제 2 베이스 기판, 블랙 매트릭스 및 공통전극을 구비한다. 상기 블랙 매트릭스는 상기 제 2 베이스 기판 중 비유효 표시영역에 대응하여 구비되고, 상기 공통전극은 상기 블랙 매트릭스 및 상기 제2 베이스 기판 위에 구비된다. 상기 공통전극에는 메인 화소전극(MP)과 상기 서브 화소전극(SP)을 하나 이상의 도메인으로 분할하는 개구부가 형성될 수 있다. Although not shown in the drawings, the second display substrate includes a second base substrate, a black matrix, and a common electrode. The black matrix is provided to correspond to an ineffective display area of the second base substrate, and the common electrode is provided on the black matrix and the second base substrate. An opening for dividing the main pixel electrode MP and the sub pixel electrode SP into one or more domains may be formed in the common electrode.

제 1 표시기판과 제 2 표시기판과의 사이에는 액정층이 개재된다. 따라서, 상기 공통전극, 상기 메인 화소전극(MP) 및 상기 액정층에 의해서 제 1 액정 커패시터(H_clc)가 형성된다. 그리고 상기 공통전극, 상기 제 2 서브 화소전극(SP) 및 상기 액정층에 의해서 제 2 액정 커패시터(L_clc)가 형성된다.The liquid crystal layer is interposed between the first display substrate and the second display substrate. Therefore, a first liquid crystal capacitor H_clc is formed by the common electrode, the main pixel electrode MP, and the liquid crystal layer. A second liquid crystal capacitor L_clc is formed by the common electrode, the second sub pixel electrode SP, and the liquid crystal layer.

상술한 바와 같은, 본 발명의 표시패널은 제 3 박막 트랜지스터의 제 2 전극으로부터 연장된 연장부과, 메인 화소전극으로부터 연장되어 요철형상을 갖는 돌기 패턴을 갖는다. As described above, the display panel of the present invention has an extension portion extending from the second electrode of the third thin film transistor and a projection pattern extending from the main pixel electrode to have an uneven shape.

상기 연장부과 상기 돌기패턴은 교차구하여 이루어져 업 캐패시터를 정의한다. 따라서, 제조공정상의 공정오차를 줄임으로써, 보다 안정적인 업 캐패시터를 설계할수 있다. The extension portion and the protrusion pattern are intersected to define an up capacitor. Therefore, by reducing the process error in the manufacturing process, it is possible to design a more stable up capacitor.

또한, 상기 돌기패턴과 상기 연장부의 개수를 적절히 조절함으로써, 상기 교차구조에 의해 형성되는 교차영역의 개수를 늘림으로써, 상기 업 캐패시터의 커패시턴스를 증가시킬수 있다. In addition, by appropriately adjusting the number of the projection pattern and the extension portion, by increasing the number of the cross-sectional area formed by the cross structure, it is possible to increase the capacitance of the up capacitor.

또한, 상기 연장부의 길이에 대한 폭을 증가시켜 상기 업 캐패시터의 커패시턴스를 증가시킬수 있다.  In addition, it is possible to increase the capacitance of the up capacitor by increasing the width over the length of the extension.

결과적으로, 본 발명에 따른 표시패널은 보다 향상된 표시품질을 제공한다. As a result, the display panel according to the present invention provides improved display quality.

본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the drawings, this is merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

Claims (7)

다수의 게이트 라인과 상기 다수의 게이트 라인과 교차하여 각각 메인 화소영역과 상기 메인 화소영역에 인접한 서브 화소영역으로 이루어진 다수의 화소영역을 정의하는 다수의 데이터 라인이 구비된 기판;A substrate having a plurality of data lines crossing the plurality of gate lines and the plurality of gate lines and defining a plurality of pixel regions each consisting of a main pixel region and a sub pixel region adjacent to the main pixel region; 상기 기판 위에 형성되고, 현재 게이트 라인과 현재 데이터 라인에 연결된 제 1 박막 트랜지스터;A first thin film transistor formed on the substrate and connected to a current gate line and a current data line; 상기 기판 위에 형성되며, 상기 현재 게이트 라인과 상기 현재 데이터 라인에 연결된 제 2 박막 트랜지스터;A second thin film transistor formed on the substrate and connected to the current gate line and the current data line; 상기 메인 화소영역에 구비되고, 상기 제 1 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 전기적으로 연결되며, 다음 게이트 라인과 인접한 단부에 돌기 패턴이 형성된 메인 화소전극;A main pixel electrode provided in the main pixel region, electrically connected to the drain electrode of the first thin film transistor, and having a protrusion pattern formed at an end adjacent to a next gate line; 상기 서브 화소영역에 구비되고, 상기 메인 화소전극과 전기적으로 절연되며, 상기 제 2 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 전기적으로 연결된 서브 화소전극; 및A sub pixel electrode disposed in the sub pixel area, electrically insulated from the main pixel electrode, and electrically connected to a drain electrode of the second thin film transistor; And 상기 다음 게이트 라인으로부터 분기된 게이트 전극, 상기 서브 화소전극과 전기적으로 연결된 제 1 전극 및 상기 메인 화소전극의 돌기 패턴과 교차하는 제 2 전극으로 이루어진 제 3 박막 트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시패널.And a third thin film transistor including a gate electrode branched from the next gate line, a first electrode electrically connected to the sub pixel electrode, and a second electrode crossing the protrusion pattern of the main pixel electrode. . 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 메인 화소전극과 상기 제 2 전극 사이에 구비된 절연막을 더 포함하고,An insulating film provided between the main pixel electrode and the second electrode; 상기 제 2 전극은 상기 다음 게이트 라인과 중첩된 전극부와 상기 전극부로부터 연장되어 상기 절연막을 사이에 두고 상기 돌기 패턴과 교차하는 연장부를 구비하여 캐패시터를 정의하는 것을 특징으로 하는 표시패널.And the second electrode includes an electrode portion overlapping with the next gate line and an extension portion extending from the electrode portion and intersecting the protrusion pattern with the insulating layer therebetween to define a capacitor. 제 2 항에 있어서, 상기 돌기패턴은 하나의 돌기로 이루어지고,The method of claim 2, wherein the projection pattern is made of one projection, 상기 연장부는 상기 하나의 돌기와 교차하는 것을 특징으로 하는 표시패널.And the extension portion intersects with the one projection. 제 2 항에 있어서, 상기 돌기패턴은 서로 이격된 다수의 돌기로 이루어지고, The method of claim 2, wherein the projection pattern is composed of a plurality of projections spaced apart from each other, 상기 연장부는 돌기들 중에서 적어도 두개의 돌기와 교차하는 것을 특징으로 하는 표시패널.And the extension part intersects at least two of the protrusions. 제 1 항에 있어서, 상기 메인 화소전극과 상기 제 2 전극 사이에 구비된 절연막을 더 포함하고,The display device of claim 1, further comprising an insulating film provided between the main pixel electrode and the second electrode. 상기 돌기패턴은 서로 이격된 다수의 돌기로 이루어지고,The protrusion pattern is composed of a plurality of protrusions spaced apart from each other, 상기 제 2 전극은 상기 다음 게이트 라인과 중첩된 전극부와 상기 전극부로부터 연장된 다수의 연장부로 이루어지며,The second electrode includes an electrode portion overlapping the next gate line and a plurality of extension portions extending from the electrode portion. 상기 다수의 연장부 각각은 상기 절연막을 사이에 두고 상기 다수의 돌기와 교차하는 것을 특징으로 하는 표시패널.And each of the plurality of extension portions intersects the plurality of protrusions with the insulating layer therebetween. 제 5 항에 있어서, 상기 다수의 돌기 중 상기 연장부와 교차하는 돌기는 나머지 돌기들의 길이보다 더 긴 길이를 갖는 것을 특징으로 하는 표시패널. The display panel of claim 5, wherein the protrusions intersecting the extension part of the plurality of protrusions have a length longer than the length of the remaining protrusions. 제 1 항에 있어서, 상기 돌기 패턴은 요철형상으로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시패널.The display panel of claim 1, wherein the protrusion pattern has an uneven shape.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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