KR20080062195A - Mega-sonic apparatus - Google Patents

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KR20080062195A
KR20080062195A KR1020060137674A KR20060137674A KR20080062195A KR 20080062195 A KR20080062195 A KR 20080062195A KR 1020060137674 A KR1020060137674 A KR 1020060137674A KR 20060137674 A KR20060137674 A KR 20060137674A KR 20080062195 A KR20080062195 A KR 20080062195A
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nozzle
cleaning
megasonic
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최중봉
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세메스 주식회사
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Abstract

A mega-sonic apparatus is provided to maximize a cleaning effect of a rod by directly spraying a cleaning solution to a rod, thereby maintaining the cleanness of the apparatus and thus improving the effect of cleaning a substrate. A megasonic apparatus includes a rod(110) disposed on one end of an arm(120) and receiving megasonic energy to generate vibration, and a first nozzle for spraying a first cleaning solution to the rod. The nozzle is connected to the arm at one end thereof, and the other end is positioned adjacent to the rod. The first nozzle is rotatable, and an angle of the first nozzle is adjusted. One end of a second nozzle(140) for spraying a second cleaning solution to the rod is connected to the arm, and the other end is disposed adjacent to the rod.

Description

메가소닉 장치{MEGA-SONIC APPARATUS}Megasonic Device {MEGA-SONIC APPARATUS}

도 1은 종래 기술에 따른 메가소닉 장치를 도시한 정면도.1 is a front view showing a megasonic device according to the prior art.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 메가소닉 장치를 도시한 정면도.Figure 2 is a front view showing a megasonic device according to an embodiment of the present invention.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>

100; 메가소닉 장치 110; 로드100; Megasonic device 110; road

120; 아암 130; 제1 노즐120; Arm 130; First nozzle

140; 제2 노즐140; Second nozzle

본 발명은 메가소닉 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 고청정을 유지할 수 있는 메가소닉 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a megasonic device, and more particularly, to a megasonic device capable of maintaining high cleanliness.

메가소닉을 이용하여 기판으로부터 이물질을 제거하는 메가소닉 장치를 이용하는 것이 점점 늘어가고 있는 추세이다. 도 1은 종래 기술에 따른 메가소닉 장치를 도시한 정면도이다. 도 1을 참조하면, 종래의 메가소닉 장치(10)는 아암(12)의 일단에 메가소닉 에너지를 전달받아 진동을 일으키는 로드(11)을 포함하여 구성된다. 메가소닉 장치(10)를 이용한 기판 세정 처리후에 메가소닉 장치(10), 특히 로 드(11)의 세정을 위해선 탱크(20)에 계속적으로 채워지고 배출되는 초순수(22)에 로들(11)를 담그는 방식을 이용한다.Increasingly, megasonic devices using megasonics to remove foreign substances from substrates are increasingly used. 1 is a front view showing a megasonic device according to the prior art. Referring to FIG. 1, the conventional megasonic apparatus 10 includes a rod 11 generating vibration by receiving megasonic energy at one end of an arm 12. After the substrate cleaning process using the megasonic device 10, the rods 11 are placed in the ultrapure water 22 which is continuously filled and discharged in the tank 20 for cleaning the megasonic device 10, in particular, the load 11. Use dipping method.

종래의 메가소닉 장치(10)는 상술한 바와 같은 간접적인 세정방식을 이용한다. 따라서, 메가소닉 장치(10)의 로드(11)의 청결을 유지하는데 있어서는 세정효과의 극대화를 기대할 수 없는 실정이다. 로드(11)의 청결이 불량하게 되면 기판 세정 처리시 로드(11)로부터 기판으로의 이물질 전달이 일어나 기판 세정 효과 또한 기대할 수 없게 된다.The conventional megasonic apparatus 10 uses an indirect cleaning method as described above. Therefore, in maintaining cleanliness of the rod 11 of the megasonic apparatus 10, it is impossible to maximize the cleaning effect. If the cleanliness of the rod 11 is poor, foreign matter is transferred from the rod 11 to the substrate during the substrate cleaning process, so that the substrate cleaning effect cannot be expected.

본 발명은 상술한 종래 기술상의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 청결 유지를 극대화할 수 있는 메가소닉 장치를 제공함에 있다.The present invention has been made to solve the above-described problems in the prior art, an object of the present invention to provide a megasonic device that can maximize the maintenance of clean.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 메가소닉 장치는 로드를 직접적으로 세정할 수 있도록 세정노즐을 더 구비한 것을 특징으로 한다.Megasonic device according to the present invention for achieving the above object is characterized in that it further comprises a cleaning nozzle to directly clean the rod.

상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 실시예에 따른 메가소닉 장치는, 아암의 일단에 배치되어 에너지를 전달받아 진동하는 로드와; 상기 아암과 연결되고 상기 로드를 향해 제1 세정액을 분사하는 제1 노즐을 포함하는 것을 특징으로 한다.Megasonic device according to an embodiment of the present invention that can implement the above features, the rod is disposed on one end of the arm to receive the energy and vibrating; And a first nozzle connected to the arm and spraying a first cleaning liquid toward the rod.

본 실시예에 있어서, 상기 아암과 연결되고 상기 로드를 향해 제2 세정액을 분사하는 제2 노즐을 더 포함한다. 상기 제1 세정액은 초순수이고, 상기 제2 세정액은 암모니아수와 과산화수소스와 초순수와의 혼합액이다.In this embodiment, it further comprises a second nozzle connected to the arm and for spraying a second cleaning liquid toward the rod. The first cleaning liquid is ultrapure water, and the second cleaning liquid is a mixture of ammonia water, a peroxide water source and ultrapure water.

본 발명에 의하면, 메가소닉 장치의 로드에 세정액을 직접적으로 분사함으로써 로드의 세정 효과를 극대화할 수 있어서 메가소닉 장치의 청결을 최적으로 유지할 수 있게 된다.According to the present invention, the cleaning effect of the rod can be maximized by directly injecting the cleaning liquid into the rod of the megasonic device, thereby maintaining the cleanliness of the megasonic device optimally.

이하, 본 발명에 따른 메가소닉 장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a megasonic device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명과 종래 기술과 비교한 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명은 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명은 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 도면에 있어서 동일한 참조부호는 다양한 도면을 통해서 동일한 구성요소를 나타낸다.Advantages over the present invention and prior art will become apparent through the description and claims with reference to the accompanying drawings. In particular, the present invention is well pointed out and claimed in the claims. However, the present invention may be best understood by reference to the following detailed description in conjunction with the accompanying drawings. Like reference numerals in the drawings denote like elements throughout the various drawings.

(실시예)(Example)

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 메가소닉 장치를 도시한 정면도이다. 도 2를 참조하면, 본 실시예의 메가소닉 장치(100)는 아암(120)의 일단에 배치되고 메가소닉 에너지를 전달받아 진동을 일으키는 로드(110)를 포함한다. 로드(110)는 가령 석영으로 구성될 수 있다. 메가소닉 장치(100)를 이용하여 기판을 세정 처리를 진행하게 되면 로드(110)에 이물질이 묻을 수 있다. 로드(110)에 묻은 이물질을 제거하지 아니하면 기판 세정 처리시 로드(110)로부터 기판으로의 이물질이 전달되어 기판을 오염시킬 수 있는 염려가 있다. 따라서, 기판 세정 처리후에는 로드(110)를 세정 처리를 하는 것이 바람직하다.2 is a front view showing a megasonic device according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, the megasonic device 100 of the present embodiment includes a rod 110 disposed at one end of the arm 120 and receiving vibrations by receiving megasonic energy. The rod 110 may be made of quartz, for example. When the substrate is cleaned using the megasonic apparatus 100, foreign matter may be attached to the rod 110. If the foreign matter on the rod 110 is not removed, foreign matter may be transferred from the rod 110 to the substrate during the substrate cleaning process to contaminate the substrate. Therefore, it is preferable to wash the rod 110 after the substrate cleaning treatment.

메가소닉 장치(100)의 세정, 특히 로드(110)의 세정은 직접적인 방식으로 구현하는 것이 세정 효과를 극대화하는데 바람직하다. 이를 위해, 본 실시예의 메가소닉 장치(100)에는 로드(110)로 세정액을 분사하는 제1 노즐(130)이 더 구비되어 있다. 제1 노즐(130)은 일단(130a)이 아암(120)과 연결되고 타단(130b)은 로드(110)에 근접하도록 배치된다. 제1 노즐(130)은 제1 세정액, 가령 초순수(DIW)를 로드(110)에 분사하는 세정 노즐이다. 제1 노즐(130)은 회전 가능하게 설계될 수 있다. 또한, 제1 노즐(130)은 각도(θ1) 조절이 가능하게 설계될 수 있다.The cleaning of the megasonic device 100, in particular the cleaning of the rod 110, is preferably implemented in a direct manner to maximize the cleaning effect. To this end, the megasonic apparatus 100 of the present embodiment is further provided with a first nozzle 130 for spraying the cleaning liquid to the rod 110. The first nozzle 130 is disposed such that one end 130a is connected to the arm 120 and the other end 130b is close to the rod 110. The first nozzle 130 is a cleaning nozzle that sprays a first cleaning liquid, such as ultrapure water (DIW), to the rod 110. The first nozzle 130 may be rotatably designed. In addition, the first nozzle 130 may be designed to adjust the angle θ 1 .

부가적으로, 제2 세정액을 분사하는 제2 노즐(140)이 더 부가될 수 있다. 제2 노즐(140)은 일단(140a)이 아암(120)과 연결되고 타단(140b)은 로드(110)에 근접하도록 배치된다. 제2 노즐(140)은 제2 세정액, 가령 암모니아수(NH4OH)와 과산화수소수(H2O2)와 초수수(H2O)와의 혼합액인 SC-1 세정액을 로드(110)에 분사하는 약액 노즐이다. 제2 노즐(110)은 로드(110) 세정 이외에 기판 세정 처리 목적으로 사용될 수 있다. 제2 노즐(140)은 회전 가능하게 설계될 수 있다. 또한, 제2 노즐(140)은 각도(θ2) 조절이 가능하게 설계될 수 있다.In addition, a second nozzle 140 for spraying the second cleaning liquid may be further added. The second nozzle 140 is disposed such that one end 140a is connected to the arm 120 and the other end 140b is close to the rod 110. The second nozzle 140 sprays the rod 110 with the SC-1 cleaning liquid, which is a mixture of a second cleaning liquid, for example, ammonia water (NH 4 OH), hydrogen peroxide water (H 2 O 2 ), and superhydrogen water (H 2 O). Chemical liquid nozzle. The second nozzle 110 may be used for substrate cleaning processing in addition to cleaning the rod 110. The second nozzle 140 may be rotatably designed. In addition, the second nozzle 140 may be designed to be able to adjust the angle θ 2 .

로드(110)에 대한 세정 처리시 메가소닉 장치(100)의 하부에 용기(200)를 준비해주게 되면 로드(110) 세정 처리시 사용된 제1 세정액이나 제2 세정액을 별도로 모으거나 회수할 수 있다. 용기(200)의 하단에 배출구(202)가 형성되어 있으면 세정액들의 배출을 용이하게 할 수 있다.When the container 200 is prepared under the megasonic apparatus 100 during the cleaning process for the rod 110, the first cleaning liquid or the second cleaning liquid used for the cleaning process of the rod 110 may be collected or collected separately. . If the outlet 202 is formed at the bottom of the container 200 may facilitate the discharge of the cleaning liquids.

이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의 도가 아니며, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 할 것이다.The detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments, but may be used in various other combinations, modifications, and environments without departing from the spirit of the invention. The appended claims should be construed to include other embodiments.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 메가소닉 장치의 로드에 세정액을 직접적으로 분사함으로써 로드의 세정 효과를 극대화할 수 있다. 따라서, 메가소닉 장치의 청결을 최적으로 유지할 수 있어 이를 이용한 기판 세정 처리시에도 기판의 세정 효과를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.As described above in detail, according to the present invention, the cleaning effect of the rod can be maximized by spraying the cleaning liquid directly on the rod of the megasonic apparatus. Therefore, the cleanliness of the megasonic device can be optimally maintained, and thus the cleaning effect of the substrate can be improved even during the substrate cleaning process using the same.

Claims (3)

아암의 일단에 배치되어 에너지를 전달받아 진동하는 로드와;A rod disposed at one end of the arm to receive energy and vibrate; 상기 아암과 연결되고 상기 로드를 향해 제1 세정액을 분사하는 제1 노즐을;A first nozzle connected to the arm and spraying a first cleaning liquid toward the rod; 포함하는 것을 특징으로 하는 메가소닉 장치.Megasonic device comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 아암과 연결되고 상기 로드를 향해 제2 세정액을 분사하는 제2 노즐을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 메가소닉 장치.And a second nozzle connected to the arm and spraying a second cleaning liquid toward the rod. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제1 세정액은 초순수이고, 상기 제2 세정액은 암모니아수와 과산화수소스와 초순수와의 혼합액인 것을 특징으로 하는 메가소닉 장치.And the first cleaning liquid is ultrapure water, and the second cleaning liquid is a mixed liquid of ammonia water, a peroxide source and ultrapure water.
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