KR20080057960A - Vacuum chamber, fabricating apparatus and method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 진공 챔버의 개략적인 구성을 나타내는 사시도이다.1 is a perspective view showing a schematic configuration of a vacuum chamber according to an embodiment of the present invention.
도 2는 도 1의 진공 챔버를 제조하기 위한 제조 장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면이다.FIG. 2 is a diagram illustrating a schematic configuration of a manufacturing apparatus for manufacturing the vacuum chamber of FIG. 1.
도 3은 도 2의 "Ⅲ-Ⅲ" 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along line III-III of FIG. 2.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 마찰 교반 용접에 사용되는 접합 툴의 사시도이다.4 is a perspective view of a joining tool used for friction stir welding in accordance with an embodiment of the present invention.
본 발명은 진공 챔버와 그 제조장치 및 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평판 표시장치의 제조에 사용되는 진공 챔버와, 마찰 교반 용접을 이용한 진공 챔버 제조장치 및 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum chamber, a manufacturing apparatus and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a vacuum chamber used for manufacturing a flat panel display, a vacuum chamber manufacturing apparatus and a manufacturing method using friction stir welding.
근래에는 음극선관의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시장치들이 개발되고 있다. 이러한 평판 표시장치는 액정 표시장치(LCD: Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시장치(FED: Field Emission Display), 플라즈마 표시장치(PDP: Plasma Display Panel) 및 유기 발광 표시장치(Organic Light Emitting Display) 등이 있다.Recently, various flat panel displays have been developed to reduce weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes. Such flat panel displays include Liquid Crystal Display (LCD), Field Emission Display (FED), Plasma Display Panel (PDP) and Organic Light Emitting Display (PDP), etc. There is this.
이 중에서, 상기 액정 표시장치는 통상적으로 게이트 배선과 데이터 배선이 매트릭스(matrix) 형태로 배열되고 그 교차점에 박막 트랜지스터가 형성된 제1 기판, 상기 제1 기판과 합착되는 제2 기판 및 상기 두 기판 사이에 충진되는 액정층을 포함하여 구성된다.Among these, the liquid crystal display typically includes a first substrate in which gate wirings and data wirings are arranged in a matrix, and a thin film transistor is formed at an intersection thereof, a second substrate bonded to the first substrate, and the two substrates. It comprises a liquid crystal layer filled in.
이러한 구성의 액정 표시장치에 있어서, 게이트 배선, 데이터 배선 및 박막 트랜지스터를 제조하기 위해서는 박막 증착, 사진, 식각, 세정 등의 단위 공정 기술들이 반복적으로 사용되는 데, 상기한 단위 공정 기술들은 진공 챔버의 내부에서 이루어진다.In the liquid crystal display of such a configuration, in order to manufacture a gate wiring, a data wiring, and a thin film transistor, unit process technologies such as thin film deposition, photography, etching, and cleaning are repeatedly used. It is done internally.
이와 같이, 액정 표시장치를 포함한 평판 표시장치를 제조하기 위해서는 다수의 진공 챔버가 필요한데, 상기한 진공 챔버는 주로 알루미늄 소재를 사용하여 정밀 가공 및 아노다이징 표면 처리 등의 공정을 통하여 제작된다.As described above, in order to manufacture a flat panel display including a liquid crystal display, a plurality of vacuum chambers are required. The vacuum chamber is mainly manufactured using aluminum materials through processes such as precision processing and anodizing surface treatment.
일례로, 종래에는 후판 알루미늄의 내부 전체를 파내어 제조하였는바, 이러한 제조 방법은 가공 시간이 과다하고, 알루미늄 판재의 유효 사용률이 낮을 뿐 아니라, 표시장치의 대형화에 필요한 대형 진공 챔버를 제작함에 있어서 진공 챔버의 높이에 해당하는 극후판 두께의 알루미늄 원소재를 제조하는 것이 불가능한 문제점이 있었다.For example, conventionally, the entire inside of the thick aluminum plate was manufactured by digging, and such a manufacturing method is excessive in processing time, low effective utilization rate of the aluminum plate material, and vacuum in manufacturing a large vacuum chamber required for the enlargement of the display device. There was a problem that it is impossible to manufacture an aluminum raw material of the ultra-thick plate thickness corresponding to the height of the chamber.
진공 챔버를 제조하는 다른 예로, 대한민국 특허출원번호 2002-87406호는 제 1 잉곳과 제2 잉곳에서 제1 가공 잉곳을 제작하고, 상기 제1 가공 잉곳과 동일한 측면부를 갖는 제2 가공 잉곳을 제작하여 제1 가공 잉곳 및 제2 가공 잉곳의 측면부가 일치되게 정렬하고 용접하여 접합시키는 챔버 제조 방법을 개시하고 있다.As another example of manufacturing a vacuum chamber, Korean Patent Application No. 2002-87406 manufactures a first processing ingot from a first ingot and a second ingot, and manufactures a second processing ingot having the same side portion as the first processing ingot. A chamber fabrication method is disclosed in which the side portions of a first processed ingot and a second processed ingot are aligned, welded, and joined together.
이 방법에 의하면, 가공된 두 개의 알루미늄 잉곳을 접합하여 진공 챔버를 제조하게 되므로, 알루미늄 잉곳의 크기 한계를 극복하여 대형의 진공 챔버를 제조할 수 있지만, 제1 가공 잉곳 및 제2 가공 잉곳을 제조함에 있어서 여전히 후판 알루미늄의 내부 전체를 파내어 가공하는 방법을 채택하고 있으므로 알루미늄 판재의 유효 사용률이 낮은 문제점이 있다.According to this method, since the vacuum chamber is manufactured by joining two processed aluminum ingots, a large vacuum chamber can be manufactured by overcoming the size limitation of the aluminum ingot, but the first and second processing ingots are manufactured. In the case of using a method of still digging the entire inside of the thick aluminum plate, there is a problem that the effective utilization rate of the aluminum plate material is low.
상기한 종래 기술들의 문제점을 제거하기 위해, 대한민국 특허출원번호 2004-110164호는 면삭 가공된 밑판과, 면삭 가공된 4개의 측벽을 전자빔 용접 방법으로 접합하여 진공 챔버를 제조하는 제조 방법을 개시하고 있다.In order to eliminate the problems of the prior arts, Korean Patent Application No. 2004-110164 discloses a manufacturing method for manufacturing a vacuum chamber by joining a faceted bottom plate and four faceted sidewalls by an electron beam welding method. .
이 방법에 의하면, 알루미늄 판재의 유효 사용률을 향상시킬 수 있지만, 고출력 전자빔 장치를 이용해야 하고 진공 분위기에서 접합을 해야 하기 때문에 많은 어려움이 발생되며, 용융 접합시에 발생하는 문제점(열변형, 잔류 응력, 비경제성 등)으로 인해 진공 챔버의 품질이 낮은 문제점이 있다.According to this method, the effective utilization rate of the aluminum sheet can be improved, but many difficulties arise due to the use of a high-power electron beam apparatus and the bonding in a vacuum atmosphere, and problems that occur during melt bonding (heat deformation and residual stress). , Economical efficiency, etc.) has a problem of low quality of the vacuum chamber.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 열변형 및 잔류 응력 등의 문제점이 제거된 고품질의 진공 챔버를 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to provide a high quality vacuum chamber in which problems such as thermal deformation and residual stress are eliminated.
본 발명의 다른 목적은 상기한 진공 챔버를 효과적으로 제조할 수 있는 제조 방법 및 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a manufacturing method and apparatus capable of effectively manufacturing the above-described vacuum chamber.
상기한 본 발명의 첫 번째 목적은,The first object of the present invention described above,
면삭 가공된 밑판; 및Faceted base plate; And
면삭 가공된 측벽; 및Faceted sidewalls; And
상기 밑판과 측벽을 접합하도록 마찰 교반 용접에 의해 형성되는 접합부A joint formed by friction stir welding to join the bottom plate and the side wall
를 포함하는 진공 챔버에 의해 달성할 수 있다.It can be achieved by a vacuum chamber comprising a.
본 발명의 실시예에 의하면, 상기 밑판 및 측벽은 알루미늄으로 형성될 수 있으며, 상기 측벽은 밑판의 모서리에 접합될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the bottom plate and the side wall may be formed of aluminum, the side wall may be bonded to the edge of the bottom plate.
이러한 구성의 진공 챔버는 고상 접합법인 마찰 교반 용접에 의해 제조되므로, 용접부에서 용융이 일어나지 않아 미세한 결정립의 압출 조직이 남아 있게 되고, 전자빔 용접을 포함하는 용융 접합법에서 발생하는 문제점(액상에서 고상으로의 변태에 따른 기공, 응고 균열, 잔류 응력, 열변형 등)이 제거되어 품질이 향상된다.Since the vacuum chamber of such a configuration is manufactured by friction stir welding, which is a solid state joining method, no melting occurs in the welded portion, so that an extruded structure of fine crystal grains remains, and a problem arises in the melt bonding method including electron beam welding (from liquid to solid phase). Pore, solidification crack, residual stress, heat deformation, etc. caused by the transformation are eliminated to improve the quality.
이러한 구성의 진공 챔버를 제조하기 위하여 본 발명은,In order to manufacture a vacuum chamber of such a configuration, the present invention,
용접 테이블;Welding table;
밑판 및 측벽을 상기 용접 테이블에 고정하는 고정 지그; 및A fixing jig for fixing a bottom plate and a side wall to the welding table; And
밑판과 측벽을 마찰 교반 용접하여 접합부를 형성하는 접합 툴Joining tools to form joints by friction stir welding the base and sidewalls
을 포함하는 진공 챔버 제조장치를 제공한다.It provides a vacuum chamber manufacturing apparatus comprising a.
본 발명의 실시예에 의하면, 상기 접합 툴은 숄더 및 상기 숄더의 단부에 구비되는 핀 부재를 포함한다. 이러한 구성의 접합 툴은 회전 유닛에 의해 회전 구 동되며, 이송 유닛에 의해 밑판과 측벽의 접합부를 따라 이송될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the joining tool includes a shoulder and a pin member provided at an end of the shoulder. The bonding tool of this configuration is rotationally driven by the rotating unit and can be conveyed along the joint of the base plate and the side wall by the conveying unit.
이러한 구성의 진공 챔버 제조장치를 이용하면,Using the vacuum chamber manufacturing apparatus of such a configuration,
면삭 가공된 밑판 및 측벽을 준비하는 단계;Preparing a faceted base plate and sidewalls;
고정 지그를 이용하여 상기 밑판 및 측벽을 상기 용접 테이블에 고정하는 단계; 및Fixing the bottom plate and the sidewall to the welding table using a fixing jig; And
접합 툴을 이송하면서 상기 밑판과 측벽의 접합부를 마찰 교반 용접하는 단계Friction stir welding the joint between the base and sidewalls while transferring a bonding tool
를 포함하는 진공 챔버의 제조 방법에 의해 진공 챔버를 제조할 수 있다.The vacuum chamber may be manufactured by a method of manufacturing a vacuum chamber including a.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 진공 챔버의 개략적인 구성을 나타내는 사시도를 도시한 것이고, 도 2는 도 1의 진공 챔버를 제조하기 위한 제조 장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면이다.1 is a perspective view showing a schematic configuration of a vacuum chamber according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a diagram showing a schematic configuration of a manufacturing apparatus for manufacturing the vacuum chamber of FIG.
그리고, 도 3은 도 2의 "Ⅲ-Ⅲ" 단면도이며, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 마찰 교반 용접에 사용되는 접합 툴의 사시도이다.3 is a sectional view taken along line III-III of FIG. 2, and FIG. 4 is a perspective view of a joining tool used for friction stir welding according to an embodiment of the present invention.
먼저, 도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 진공 챔버(10)는 밑판(12)과, 상기 밑판(12)의 모서리에 접합되는 측벽(14)을 포함한다. 여기에서, 상기 밑판(12) 및 측벽(14)은 알루미늄 판재를 면삭 가공하여 제조할 수 있으며, 측벽(14)은 밑판(12)의 모서리 수와 동일한 개수로 준비할 수 있다.First, as shown in FIG. 1, the
이때, 상기 밑판(12)과 측벽(14)은 도 2에 도시한 고정 지그(110)에 의해 용 접 테이블(120)에 설치된 상태에서 도 4에 도시한 접합 툴(130)에 의해 접합된다.At this time, the
상기 접합 툴(130)은 밑판(12)과 측벽(14)을 마찰 교반 용접하는데 사용되는 것으로, 구체적으로 도시하지는 않았지만 회전 유닛에 의해 설정 속도로 회전하는 숄더(132)와, 숄더(132)의 단부에 구비되는 핀(134)을 포함할 수 있다.The
그리고, 상기 숄더(132)는 도시하지 않은 이송 유닛에 의해 접합부(WP; welding portion)를 따라 이송될 수 있으며, 상기 핀(134)에는 소성 유동을 효과적으로 발생시키기 위해 나사 형태의 홈들이 형성될 수 있다.In addition, the
이러한 구성의 접합 툴(130)은 상기 숄더(132) 및 핀(134)이 일정한 속도로 회전되면서 접합부(WP)를 따라 이송되는 동안 상기 밑판(12) 및 측벽(14)의 접합 계면에서 마찰 교반 용접에 의한 접합을 발생시킨다.
상기한 접합 툴(130)을 이용하는 마찰 교반 용접은 75㎜ 정도의 두께까지 원 패스(one pass)로 작업이 가능하다. 따라서, 상기한 마찰 교반 용접을 이용하면 대형화된 진공 챔버의 제조가 가능하다.The friction stir welding using the
이하, 상기한 구성의 진공 챔버 제조장치를 이용하여 진공 챔버를 제조하는 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, the method of manufacturing a vacuum chamber using the vacuum chamber manufacturing apparatus of the said structure is demonstrated.
먼저, 면삭 가공된 밑판(12)과 측벽(14)을 준비한다. 위에서 설명한 바와 같이, 상기 밑판(12) 및 측벽(14)은 알루미늄 판재로 이루어질 수 있다.First, the
이어서, 상기 밑판(12)과 측벽(14)을 고정 지그(110)를 이용하여 용접 테이블(120)에 고정한다.Subsequently, the
이후, 상하 이동이 가능한 접합 툴(130)을 이용하여 마찰 교반 용접을 실시 함으로써 진공 챔버(10)의 접합부(WP)를 접합한다. Then, the joint part WP of the
이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the scope of the invention.
상기한 바와 같이 본 발명의 실시예에 따르면, 밑판 및 측벽만으로 진공 챔버를 형성하고 있으므로, 알루미늄 판재의 유효 사용률을 향상시킬 수 있고, 대형 진공 챔버를 제조할 수 있다.According to the embodiment of the present invention as described above, since the vacuum chamber is formed only by the bottom plate and the side wall, the effective utilization rate of the aluminum sheet can be improved, and a large vacuum chamber can be manufactured.
또한, 본 발명의 실시예는 상기한 밑판 및 측벽을 마찰 교반 용접에 의해 접합하고 있으므로, 전자빔 용접을 포함하는 용융 접합시에 발생하는 문제점, 예컨대 액상에서 고상으로의 변태에 따른 기공, 응고 균열, 잔류 응력, 열변형 등의 문제점을 제거할 수 있다.In addition, in the embodiment of the present invention, since the bottom plate and the sidewall are joined by friction stir welding, problems occurring during melt bonding including electron beam welding, for example, pores, solidification cracks, Problems such as residual stress and heat deformation can be eliminated.
따라서, 고품질의 진공 챔버를 제조할 수 있는 효과가 있다.Therefore, there is an effect that can produce a high quality vacuum chamber.
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WO2016003015A1 (en) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | (주)태광테크 | Chamber and manufacturing method therefor |
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2006
- 2006-12-21 KR KR1020060131925A patent/KR20080057960A/en not_active Application Discontinuation
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WO2016003015A1 (en) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | (주)태광테크 | Chamber and manufacturing method therefor |
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