KR20080057093A - 레이저 간섭 리소그라피 장치 및 이를 이용한 나노그래이팅 형성 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (7)
- 레이저 발진기, 반사 거울, 빔 스플릿터, 빔 확장기로 이루어진 레이저 간섭 리소그라피 장치에 있어서,시료에 일정한 각도로 편광된 빛을 조사하는 광원부,상기 시료로부터 투과 또는 반사되는 빛의 위상 변화를 검출하는 검출부,상기 검출부에서 측정된 데이터를 전송받아 시료의 복굴절성을 측정하고, 상기 측정값에 따라 상기 레이저 간섭 리소그라피 장치의 각 부분을 제어하는 제어부를 더 구비하여, 나노 그래이팅의 형성 정도를 실시간으로 모니터링할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그라피 장치.
- 제1항에 있어서,상기 광원부는 상기 시료에 흡수되지 않는 파장의 빛을 조사하는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그라피 장치.
- 제1항에 있어서,상기 검출부는 특정 위상을 갖는 빛만을 분리하여 출력하는 편광판과,상기 편광판으로부터 출력되는 빛의 양을 검출하는 디텍터를 포함하여 이루 어지는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그라피 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제어부는 상기 레이저 발진기에서 출력되는 레이저의 출력량 및 출력시간을 제어할 수 있도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그라피 장치.
- 제1항에 있어서,상기 광원부와 검출부는 상기 시료를 기준으로 대칭되게 배치되는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그라피 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 광원부와 검출부는 상기 시료를 기준으로 같은 방향에 배치되는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그라피 장치.
- 레이저 발진기에서 레이저 빔을 발사하는 단계;상기 레이저 빔이 빔 스플릿터를 통과하여 두 개의 빔으로 분리되는 단계;상기 두 개의 빔이 각각 다른 경로를 거쳐 시료에 조사되어 그래이팅 패턴을 형성하는 단계;광원부에서 상기 시료에 일정한 각도로 편광된 빛을 조사하는 단계;상기 편광된 빛이 상기 시료로부터 투과 또는 반사되어 편광판으로 투과되는 단계;디텍터에서 상기 편광판에서 출력되는 빛의 양을 검지하고, 그 데이터를 제어부로 전송하는 단계;상기 제어부에서 상기 전송된 데이터를 처리하여 상기 시료의 복굴절성을 측정하는 단계;상기 제어부에서 상기 시료의 복굴절성을 이용하여 그래이팅의 형성에 이상이 있는지 여부를 판단하고, 그 판단 결과에 따라 그래이팅 형성 공정을 제어하는 단계;를 포함하여 이루어지며, 그래이팅의 형성 과정을 실시간으로 모니터링하는 것을 특징으로 하는 나노 그래이팅 형성 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060130441A KR101072370B1 (ko) | 2006-12-19 | 2006-12-19 | 레이저 간섭 리소그라피 장치 및 이를 이용한 나노그래이팅 형성 방법 |
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KR20080057093A true KR20080057093A (ko) | 2008-06-24 |
KR101072370B1 KR101072370B1 (ko) | 2011-10-11 |
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Country Status (1)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101043122B1 (ko) * | 2009-08-04 | 2011-06-20 | 한국기계연구원 | 리소그래피 방법 및 장치 |
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2006
- 2006-12-19 KR KR1020060130441A patent/KR101072370B1/ko active IP Right Grant
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KR101043122B1 (ko) * | 2009-08-04 | 2011-06-20 | 한국기계연구원 | 리소그래피 방법 및 장치 |
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