KR20080057038A - Apparatus for removing edge bead for a substrate - Google Patents

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Abstract

An edge bead removing apparatus of a substrate is provided to remove edge beads formed at the edge side of a substrate effectively, thereby reducing the badness in the manufacturing process. A fixing member fixes a substrate(100). A body(101) is located at a side of the substrate and injects the medicine liquid to a side of the substrate. At least one brush(130) is installed at a side of the body opposite to the side of the substrate. A driving motor is connected with the brush and rotates the brush. A washing solution supply member(133) is formed at the side of the body and supplies the washing solution to the brush. An upper head member(110) is extended from the body toward the upper direction of the substrate and injects the medicine liquid to the upper edge portion of the substrate. A lower head member(120) is extended from the body toward the lower direction of the substrate and injects the medicine liquid to the lower edge portion of the substrate.

Description

기판의 에지비드 제거장치{APPARATUS FOR REMOVING EDGE BEAD FOR A SUBSTRATE}Substrate Edge Bead Removal Device {APPARATUS FOR REMOVING EDGE BEAD FOR A SUBSTRATE}

도 1은 종래의 액정표시장치를 나타낸 분해사시도.1 is an exploded perspective view showing a conventional liquid crystal display device.

도 2은 기판에 에지비드가 형성된 상태를 나타낸 개념도.2 is a conceptual view illustrating a state in which edge beads are formed on a substrate.

도 3는 본 발명의 실시예에 따른 에지비드 제거장치를 나타낸 사시도.Figure 3 is a perspective view of the edge bead removal apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 에지비드 제거장치를 나타낸 단면도.4 is a cross-sectional view showing an edge bead removal device according to an embodiment of the present invention.

도 5는 도 4의 기판의 가장자리와 브러쉬 부분을 나타낸 제1실시예.FIG. 5 is a first embodiment showing the edge and the brush portion of the substrate of FIG. 4; FIG.

도 6은 도 4의 기판의 가장자리와 브러쉬 부분을 나타낸 제2실시예.Figure 6 is a second embodiment showing the edge and the brush portion of the substrate of Figure 4;

도 7은 도 4의 기판의 가장자리와 브러쉬 부분을 나타낸 제3실시예.FIG. 7 is a third embodiment showing the edge and the brush portion of the substrate of FIG. 4; FIG.

<도면의 주요 부분에 대한 설명>Description of the main parts of the drawing

100 : 기판 101 : 본체100: substrate 101: main body

110 : 상부헤드부 111 : 세정부110: upper head 111: cleaning unit

113 : 기체분사부 115 : 약액분사부113: gas injection unit 115: chemical liquid injection unit

120 : 하부헤드부 130 : 브러쉬120: lower head 130: brush

133 : 세정액공급부 140 : 배출부133: cleaning liquid supply unit 140: discharge unit

150 : 고정부150: fixed part

본 발명은 액정표시장치의 제조공정에서 발생하는 에지비드(edge bead)를 제거하기 위한 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 기판의 측면에 형성된 에지비드를 제거하는 브러쉬를 포함하는 에지비드제거(EBR) 장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for removing edge beads generated in a manufacturing process of a liquid crystal display, and more particularly, to edge bead removal (EBR) including a brush for removing edge beads formed on a side of a substrate. ) Relates to the device.

근래, 핸드폰(Mobile Phone), PDA, 컴퓨터, 대형 TV와 같은 각종 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 평판표시장비(Flat Panel Display Device)에 대한 요구가 점차 증대되고 있다. Recently, with the development of various electronic devices such as mobile phones, PDAs, computers, and large TVs, the demand for flat panel display devices that can be applied thereto is gradually increasing.

이러한 평판표시장치로는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), FED(Field Emission Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등이 활발히 연구되고 있지만, 양산화 기술, 구동수단의 용이성, 고화질의 구현이라는 이유로 인해 현재에는 액정표시장치(LCD)가 각광을 받고 있다.Such flat panel displays are being actively researched, such as LCD (Liquid Crystal Display), PDP (Plasma Display Panel), FED (Field Emission Display), VFD (Vacuum Fluorescent Display), but mass production technology, ease of driving means, Liquid crystal displays (LCDs) are in the spotlight for reasons of implementation.

일반적으로, 액정표시장치는 매트릭스(matrix) 형태로 배열된 액정셀들에 화상정보에 따른 데이터신호를 개별적으로 공급하여, 상기 액정셀들의 광투과율을 조절함으로써 원하는 화상을 표시할 수 있도록 한 표시장치이다.In general, a liquid crystal display device displays a desired image by individually supplying data signals according to image information to liquid crystal cells arranged in a matrix form to adjust a light transmittance of the liquid crystal cells. to be.

도 1은 일반적인 액정표시장치의 구조를 개략적으로 나타내는 분해사시도로, 도면을 참조하여 액정표시장치에 대해 설명한다.FIG. 1 is an exploded perspective view schematically illustrating a structure of a general liquid crystal display device. Referring to the drawings, the liquid crystal display device will be described.

도면에 도시한 바와 같이, 액정표시장치는 액정패널(1)을 포함하여 구성되는데, 액정패널(1)은 어레이 기판(21)과 이에 대향하는 컬러필터 기판(20) 및 상기 어레이 기판(21)과 컬러필터 기판(20) 사이에 형성된 액정층(22)으로 구성되어 있 다. As shown in the figure, the liquid crystal display device includes a liquid crystal panel 1, which includes an array substrate 21, a color filter substrate 20 facing the array substrate 21, and the array substrate 21. And a liquid crystal layer 22 formed between the color filter substrate 20.

상기 액정층(22)을 형성하는 액정은 광학적 이방성을 가진 물질로서, 인가되는 전압에 따라 배향성이 달라지므로 광투과율을 조절할 수 있다. 따라서 액정층(22)의 광투과율에 따라 이에 대응되어 정지된 화상이나 움직이는 화상이 액정표시장치 상에 표현된다. The liquid crystal forming the liquid crystal layer 22 is a material having optical anisotropy, and thus the light transmittance may be adjusted because the orientation is changed according to the applied voltage. Accordingly, a still image or a moving image corresponding to the light transmittance of the liquid crystal layer 22 is displayed on the liquid crystal display device.

어레이 기판(21)은 기판 상에 게이트라인(4) 및 데이터라인(5)이 종횡으로 배열되어 화소를 정의한다. 상기 게이트라인(4) 및 데이터라인(5)의 교차점에는 상기 화소를 구동하는 스위칭 소자인 박막트랜지스터(TFT : Thin Film Transistor, 9)가 형성되어 있다. 상기 박막트랜지스터(9)에는 화소전극(7)이 연결되어 컬러필터 기판(20)에 형성된 공통전극(16)과 전계를 형성하여 액정을 배향시킨다.In the array substrate 21, the gate lines 4 and the data lines 5 are vertically and horizontally arranged on the substrate to define pixels. A thin film transistor (TFT) 9, which is a switching element for driving the pixel, is formed at an intersection point of the gate line 4 and the data line 5. The pixel electrode 7 is connected to the thin film transistor 9 to form an electric field with the common electrode 16 formed on the color filter substrate 20 to align the liquid crystal.

컬러필터 기판(20)은, 컬러를 구현하기 위한 적(R), 녹(G), 청(B)의 컬러필터층(44)과 컬러필터층의 경계부에 블랙매트릭스(2)가 형성되어 있으며, 컬러필터 기판(20)의 전면에는 공통전극(16)이 형성되어 있다.In the color filter substrate 20, a black matrix 2 is formed at a boundary between the color filter layer 44 of red (R), green (G), and blue (B) and the color filter layer to realize color. The common electrode 16 is formed on the front surface of the filter substrate 20.

상기 어레이 기판(21) 및 컬러필터 기판(20)은 실링재(Sealing material, 미도시)에 의해 합착되어 있으며, 상기 어레이 기판(21)에 형성된 박막트랜지스터(9)에 의해 액정분자를 구동하여 액정층(22)을 투과하는 광량을 제어함으로써 정보를 표시하게 된다.The array substrate 21 and the color filter substrate 20 are bonded by a sealing material (not shown), and the liquid crystal layer is driven by driving the liquid crystal molecules by the thin film transistor 9 formed on the array substrate 21. Information is displayed by controlling the amount of light that passes through (22).

상기한 액정표시장치의 제조하기 위한 공정에는 박막 증착공정과 상기 박막 중 선택된 영역을 노출시켜 노광 및 현상시키는 포토리소그래피공정 및 상기 선택된 영역의 박막을 제거하는 식각공정이 복수 회 포함된다. 특히 상기 포토리소그래 피공정은 기판 상에 감광성 물질의 포토레지스트막을 형성하는 코팅공정과 소정의 패턴이 형성된 마스크를 사용하여 이를 패터닝하는 노광 및 현상공정으로 이루어져 있다.The manufacturing process of the liquid crystal display includes a thin film deposition process, a photolithography process of exposing and developing a selected region of the thin film, and an etching process of removing the thin film of the selected region a plurality of times. In particular, the photolithography process includes a coating process for forming a photoresist film of a photosensitive material on a substrate, and an exposure and developing process for patterning it using a mask having a predetermined pattern.

이때, 일반적으로 포토레지스트막을 형성하는 코팅공정으로는 다양한 방법이 있으나 상기 기판을 회전시켜 포토레지스트막을 코팅하는 스핀(spin) 코팅방법이 주로 사용된다.In this case, a coating process for forming a photoresist film generally has various methods, but a spin coating method for coating a photoresist film by rotating the substrate is mainly used.

그런데, 포토레지스트는 점성과 유동성을 갖는 유체이므로 기판이 회전함에 따라 원심력에 의해 기판의 가장자리로 퍼지게 되는데, 기판의 가장자리에서는 포토레지스트와 기판 사이의 표면장력에 의해 원심력에 대항하여 포토레지스트가 점점 쌓이게 되는 에지비드(edge bead)가 형성된다. 이때, 포토레지스트의 용제가 점점 증발하여 점성이 증가하게 되므로 상대적으로 기판의 가장자리에 포토레지스트가 쌓이는 현상이 심화된다.However, since the photoresist is a fluid having viscosity and fluidity, it spreads to the edge of the substrate by centrifugal force as the substrate rotates. At the edge of the substrate, the photoresist gradually accumulates against the centrifugal force by the surface tension between the photoresist and the substrate. Edge bead is formed. At this time, since the solvent of the photoresist is gradually evaporated to increase the viscosity, the phenomenon that the photoresist is accumulated on the edge of the substrate is intensified.

도 2은 이러한 에지비드가 형성된 상태를 나타낸 개념도이다. 도면을 참조하면 기판(10)의 가장자리에 포토레지스트(30)가 쌓여 부풀어 올라 에지비드(31)가 형성된다.2 is a conceptual diagram illustrating a state in which such an edge bead is formed. Referring to the drawing, the photoresist 30 is stacked and swelled on the edge of the substrate 10 to form an edge bead 31.

상기 에지비드(31)는 액정표시장치의 제조공정 중 타 기기와 접촉하게 되면 파손되어 후속공정에서 오염물질로 작용하게 된다. 예를 들면, 러빙공정 중 기판을 러빙하는 과정에서 에지비드가 파손되면 러빙포가 권포된 러빙롤러에 부착되어 러빙포가 오염되며, 결국 이물로 작용하게 된다. 상기 이물은 이후 러빙될 기판에 스크래치(scratch)를 형성하게 되어 액정표시장치의 화질을 저하시키는 원인이 된다. When the edge bead 31 comes into contact with other devices during the manufacturing process of the liquid crystal display, the edge bead 31 may act as a contaminant in a subsequent process. For example, if the edge bead is damaged in the process of rubbing the substrate during the rubbing process, the rubbing cloth is attached to the wound rubbing roller, which contaminates the rubbing cloth and eventually acts as a foreign material. The foreign material may form scratches on the substrate to be rubbed thereafter, causing deterioration of image quality of the liquid crystal display.

그뿐만 아니라 기판의 편평도를 저하시켜 노광시의 정렬 등에 악영항을 미치고 후속 공정에서의 기판 로딩 등에서 많은 문제점을 초래한다.In addition, the flatness of the substrate is lowered, which adversely affects alignment during exposure and causes many problems in loading the substrate in a subsequent process.

상기한 문제점을 해결하기 위해 본 발명은, 에지비드를 효과적으로 제거할 수 있는 에지비드제거(edge bead removal; EBR) 장치를 제공하고자 한다. In order to solve the above problems, the present invention is to provide an edge bead removal (EBR) device that can effectively remove the edge bead.

특히, 기판의 가장자리 측면에 형성된 에지비드를 효과적으로 제거함으로써, 러빙공정에 있어서 러빙포의 오염을 방지하고 액정표시장치의 제조공정에 있어서 불량을 줄여 고품질의 액정표시장치를 제공하고자 한다.In particular, by effectively removing the edge bead formed on the edge side of the substrate, to prevent contamination of the rubbing cloth in the rubbing process and to reduce the defects in the manufacturing process of the liquid crystal display device to provide a high quality liquid crystal display device.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 에지비드 제거장치는, 기판을 고정하는 고정부와, 상기 기판의 측면에 위치하며, 상기 기판의 측면에 약액을 분사하는 본체, 및 상기 기판의 측면에 대향하는 상기 본체의 일측에 적어도 1개의 브러쉬를 포함한다.Edge bead removal device according to the present invention for achieving the above object, the fixing portion for fixing the substrate, located on the side of the substrate, the main body for injecting the chemical to the side of the substrate, and the side of the substrate It includes at least one brush on one side of the opposite main body.

상기 브러쉬에는 브러쉬를 회전구동하는 구동모터가 연결되며, 상기 본체의 일측에는 브러쉬에 세정액을 공급하는 세정액공급부가 더 구비될 수 있다.The brush is connected to a drive motor for rotating the brush, one side of the main body may be further provided with a cleaning solution supply for supplying a cleaning solution to the brush.

또한 본 발명에 따른 에지비드 제거장치는, 상기 본체로부터 기판의 상면방향으로 연장되며 기판 가장자리 상측에 약액을 분사하는 상부헤드부 및 상기 본체로부터 기판의 하면방향으로 연장되며 기판 가장자리 하측에 약액을 분사하는 하부 헤드부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the edge bead removal device according to the present invention, the upper head portion extending from the main body toward the upper surface of the substrate and spraying the chemical liquid on the upper edge of the substrate and extending from the main body toward the lower surface of the substrate and spraying the chemical liquid below the substrate edge It characterized in that it further comprises a lower head portion.

이때, 상기 상부헤드부 및 하부헤드부는 기체를 분사하는 기체분사부를 더 구비할 수 있으며, 상기 약액은 시너가 바람직하고, 상기 기체는 질소기체가 바람직하다.In this case, the upper head portion and the lower head portion may further include a gas injection unit for injecting gas, the chemical liquid is preferably thinner, the gas is preferably a nitrogen gas.

상기 에지비드 제거장치의 본체에는 상기 기판의 한 변을 따라 수평이동시키는 이동장치가 더 포함되어 에지비드 제거장치를 이동시키며 에지비드를 제거할 수 있다.The main body of the edge bead removing device further includes a moving device for horizontally moving along one side of the substrate to move the edge bead removing device and remove the edge bead.

본 발명은 액정표시장치의 제조공정에서 기판의 가장자리에 형성되는 에지비드를 제거하기 위한 장치에 관한 것으로, 특히 기판의 측면에 형성되는 에지비드를 제거하기 위한 브러쉬를 포함하는 에지비드 제거장치에 관한 것이다. 이하 도면을 참조하여 본 발명에 따른 에지비드 제거장치에 대해 설명한다.The present invention relates to an apparatus for removing edge beads formed on the edge of the substrate in the manufacturing process of the liquid crystal display device, and more particularly, to an edge bead removing apparatus including a brush for removing edge beads formed on the side of the substrate. will be. Hereinafter, an edge bead removing device according to the present invention will be described with reference to the drawings.

도 3는 본 발명의 실시예에 따른 에지비드 제거장치를 나타낸 사시도이며, 도 4은 단면도이다.3 is a perspective view showing an edge bead removal device according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a cross-sectional view.

도면을 참조하면, 본 발명에 따른 에지비드 제거장치는 포토레지스트가 도포된 기판(100)을 고정하는 고정부(150)와, 상기 기판(100)의 측면에 위치하며, 상기 기판(100)의 측면에 약액을 분사하는 본체(101), 및 기판(100)의 측면에 대향하는 영역에 구비된 1개 이상의 브러쉬(130)를 포함하여 구성된다. Referring to the drawings, the edge bead removal device according to the present invention is a fixing portion 150 for fixing the substrate 100 coated with a photoresist, and is located on the side of the substrate 100, It comprises a main body 101 for injecting the chemical liquid to the side, and one or more brushes 130 provided in the region facing the side of the substrate 100.

상기 기판(100)은 장변과 단변을 가지는 사각형의 판상으로 마련되며, 소정의 두께를 갖는다.The substrate 100 is provided in a rectangular plate shape having long sides and short sides, and has a predetermined thickness.

상기 고정부(150)는 상부면이 기판(100)의 하면과 접하여 기판(100)을 고정한다. 고정부(150)에는 필요에 따라 상기 기판(100)을 수평이동시키기 위한 구동모 터(미도시)가 구비될 수 있으며, 상기 구동모터에 의해 기판(100)은 장변이나 단변 방향으로 수평이동될 수 있다.The fixing part 150 fixes the substrate 100 by the upper surface thereof contacting the lower surface of the substrate 100. The fixing part 150 may be provided with a driving motor (not shown) for horizontally moving the substrate 100 as needed. The substrate 100 may be horizontally moved in a long side or a short side direction by the driving motor. Can be.

이때, 상기 에지비드 제거장치는 상기 본체(101)로부터 기판(100)의 상면방향으로 연장되며 기판(100) 가장자리 상측에 약액을 분사하는 상부헤드부(110) 및 상기 본체(101)로부터 기판(100)의 하면방향으로 연장되며 기판(100) 가장자리 하측에 약액을 분사하는 하부헤드부(120)를 구비한다. 상부헤드부(110)와 하부헤드부(120)는 기판(100)과 접촉되지 않도록 일정 간격 이격되어 배치된다. 따라서, 본체(101)는 전체적으로 기판(100)이 삽입되는 개구부를 가진 ㄷ자 형상이 된다.At this time, the edge bead removal device is extended from the main body 101 in the upper surface direction of the substrate 100 and the upper head portion 110 for injecting a chemical solution on the upper edge of the substrate 100 and the substrate (from the main body 101) The lower head portion 120 extends in the lower direction of the substrate 100 and sprays the chemical liquid below the edge of the substrate 100. The upper head portion 110 and the lower head portion 120 are spaced apart from each other so as not to contact the substrate 100. Therefore, the main body 101 has a U-shape having an opening through which the substrate 100 is inserted as a whole.

상부헤드부(110)에는 기판(100)의 상면에 형성된 에지비드를 제거하기 위한 세정부(111)가 형성되는데, 상기 세정부(111)는 약액이 분사되는 약액분사부(115)와 기체가 분사되는 기체분사부(113)로 구성된다. The upper head unit 110 is provided with a cleaning unit 111 for removing the edge bead formed on the upper surface of the substrate 100, the cleaning unit 111 is a chemical liquid injection unit 115 and the gas to which the chemical liquid is injected It is composed of a gas injection unit 113 is injected.

약액분사부(115)는 에지비드를 용해하기 위한 약액을 담고 있는 약액 용기와 기판의 가장자리로 약액을 분사시키기 위한 노즐을 포함한다. 상기 약액은 에지비드를 용해하고 씻겨내는 것으로, 특별히 한정되지는 않으나 시너(thinner)가 바람직하다.The chemical liquid injection unit 115 includes a chemical liquid container containing a chemical liquid for dissolving edge beads and a nozzle for injecting the chemical liquid to the edge of the substrate. The chemical liquid dissolves and washes off the edge beads, although not particularly limited, thinner is preferable.

기체분사부(113)는 에지비드가 용해된 약액과, 에지비드가 혼합된 폐액 등을 기판(100)의 바깥 방향으로 인도하기 위하여 구비되며, 기체를 일정 압력으로 분사하여 상기 약액 등이 기판(110)의 바깥으로 유도되도록 한다.The gas injection unit 113 is provided to guide the chemical liquid in which the edge beads are dissolved and the waste liquid in which the edge beads are mixed to the outside of the substrate 100. To be guided out of 110).

기체분사부(113)에서 분사되는 기체는 기판 및 타 구성요소에 영향을 미치지 않는 안정적인 기체를 사용하는 것이 바람직하며 특별히 한정되는 것은 아니나, 질 소기체(N2)가 바람직하다.The gas injected from the gas injection unit 113 is preferably a stable gas that does not affect the substrate and other components, and is not particularly limited, but nitrogen gas (N 2 ) is preferable.

이때, 상기 약액분사부(115)와 기체분사부(113)는 노즐의 방향은 배출된 약액과 기체가 기판(100)의 바깥 방향으로 향하도록 기판(100)의 가장자리 방향으로 경사지게 형성된다. 또한 약액분사부(115)를 기체분사부(113)보다 가장자리 바깥 방향에 위치시킴으로써 분사된 약액이 기판(100) 가장자리로 유도되도록 한다.At this time, the chemical liquid injection unit 115 and the gas injection unit 113 is formed inclined in the direction of the edge of the substrate 100 so that the direction of the nozzle and the discharged chemical liquid and the gas toward the outer direction of the substrate 100. In addition, by placing the chemical liquid injection unit 115 in the edge outward direction than the gas injection unit 113 so that the injected chemical liquid is guided to the edge of the substrate 100.

하부헤드부(120)에도 상부헤드부(110)와 유사하게 기판 가장자리 하면에 형성된 에지비드를 제거하기 위한 세정부(121)가 마련된다. 하부헤드부(120)에서 분사된 약액과 기체는 상부헤드부(110)와 같으며, 하부에서 기판(100) 방향으로 분사된다는 점이 다르다.Similar to the upper head part 110, the lower head part 120 is provided with a cleaning part 121 for removing edge beads formed on the lower surface of the substrate edge. The chemical liquid and the gas injected from the lower head part 120 are the same as the upper head part 110, except that the chemical liquid and the gas are injected from the lower side toward the substrate 100.

한편 약액과 기체가 동시에 분사되면서 기판(100)의 상면과 하면을 세정하는 경우, 약액과 기체의 분사 노즐의 방향으로 인해 약액과 폐액 등이 기판(100)의 가장자리로 몰림으로써 가장자리부에 오염원이 축적될 수 있다. On the other hand, when the upper and lower surfaces of the substrate 100 are cleaned while the chemical and gas are sprayed at the same time, the chemicals and the waste liquid are driven to the edge of the substrate 100 due to the direction of the injection nozzles of the chemical and gas. Can accumulate.

이를 제거하기 위해 본 발명에 따른 에지비드 제거장치(101)에는 기판(100)의 측면에 대응하는 위치에 한 개 이상의 브러쉬(130)가 구비된다. 상기 브러쉬(130)는 세정부(111, 121)에 의해 충분히 제거되지 못한 기판(100) 가장자리의 측면의 에지비드를 효율적으로 제거한다.In order to remove this, the edge bead removing device 101 according to the present invention is provided with one or more brushes 130 at positions corresponding to the side surfaces of the substrate 100. The brush 130 effectively removes edge beads on the side of the edge of the substrate 100 that are not sufficiently removed by the cleaning parts 111 and 121.

도 5는 도 4의 기판(100)의 가장자리와 브러쉬(130) 부분을 나타낸 것으로, 본 발명의 제1실시예의 일부를 나타낸 것이다. 설명의 편의를 위해, 나머지 구성요소는 생략하였다.FIG. 5 shows the edge of the substrate 100 and the brush 130 of FIG. 4, and shows a part of the first embodiment of the present invention. For convenience of description, the remaining components are omitted.

도 4와 도 5도를 참조하면, 브러쉬(130)는 회전축과 외주면을 가지는 원기둥의 형태로 마련된다. 회전축은 기판(100)의 한 변과 평행하게 배치되며, 외주면에는 다수의 터럭이 형성되어 있어, 터럭의 끝이 기판(100)의 측면과 접촉한다. 4 and 5, the brush 130 is provided in the form of a cylinder having a rotating shaft and an outer circumferential surface. The rotating shaft is disposed in parallel with one side of the substrate 100, and a plurality of turrets are formed on the outer circumferential surface thereof, and the ends of the turret come into contact with the side surfaces of the substrate 100.

상기 브러쉬(130)에는 회전축을 중심으로 브러쉬를 회전구동하는 구동모터(미도시)가 연결된다. 구동모터는 브러쉬(130)에 회전구동력을 전달하여 회전축을 중심으로 회전시키므로, 외주면에 형성된 터럭이 기판(100)의 측면에 접촉하여 기판(100)의 측면에 형성된 에지비드뿐만 아니라, 상기 세정부(111, 121)에서 분사된 약액 및 폐액 등을 제거한다. 회전의 방향도 필요에 따라 다양하게 조절할 수 있다. The brush 130 is connected to a drive motor (not shown) for rotating the brush around the axis of rotation. The driving motor transmits a rotational driving force to the brush 130 and rotates about the rotation axis, so that the turret formed on the outer circumferential surface contacts the side surface of the substrate 100, so as to contact the side surface of the substrate 100. Remove the chemical liquid and the waste liquid sprayed from (111, 121). The direction of rotation can also be adjusted as needed.

또한, 본 발명에 따른 에지비드 제거장치는 브러쉬를 적어도 1개 이상을 구비하는 것을 특징으로 한다. 원기둥 형태로 길게 마련된 브러쉬의 경우 1개가 구비될 수도 있으나 작은 브러쉬를 각각 회전구동시킬 경우에는 복수 개를 장착할 수 있다.In addition, the edge bead removal device according to the invention is characterized in that it comprises at least one brush. One long brush may be provided in the form of a cylinder, but a plurality of brushes may be installed when the small brushes are rotated.

상기 브러쉬(130)의 주변에는 브러쉬(130)에 의해 제거되는 에지비드를 용해시키기 위한 세정액공급부(133)가 더 구비될 수 있다. 상기 세정액공급부(133)는 브러쉬(130)의 상부에 형성되어 브러쉬(130) 방향으로 세정액을 공급하는 것이 바람직하나 필요에 따라 위치를 적절하게 조절할 수 있다. A cleaning solution supply unit 133 may be further provided around the brush 130 to dissolve the edge beads removed by the brush 130. The cleaning solution supply unit 133 is formed on the upper portion of the brush 130, it is preferable to supply the cleaning solution in the direction of the brush 130, but the position can be properly adjusted as necessary.

상기 공급부(133)에 의해 공급된 세정액은 브러쉬(130)에 에지비드 조각들이 부착되는 것을 방지하고 브러쉬(130)에 의해 부서진 에지비드를 후술할 배출부(140)로 쉽게 이동시키게 된다. 이때, 세정액으로는 시너가 적합하나 다른 약액 을 사용해도 무방하다. The cleaning liquid supplied by the supply unit 133 prevents the edge bead pieces from being attached to the brush 130 and easily moves the edge bead broken by the brush 130 to the discharge unit 140 which will be described later. At this time, thinner is suitable as the cleaning liquid, but other chemical liquids may be used.

본 발명에 따른 에지비드 제거장치는 약액분사부(115, 125)에서 분사된 약액과 세정액공급부(133)에서의 세정액과 에지비드와의 혼합된 폐액 등을 배출시키는 배출부(140)를 더 구비할 수 있다. 배출부(140)는 본체에 하부방향으로 관통된 구멍의 형태로 형성되며, 도시하지는 않았지만 필요에 따라 배출된 폐액 등을 저장하는 저장부가 더 구비될 수 있다. The edge bead removing device according to the present invention further includes a discharge part 140 for discharging the chemical liquid injected from the chemical liquid injection parts 115 and 125 and the waste liquid mixed with the cleaning liquid and the edge bead from the cleaning liquid supply part 133. can do. Discharge unit 140 is formed in the form of a hole penetrated downward in the body, although not shown, may be further provided with a storage unit for storing the discharged waste liquid, if necessary.

또한 본 발명에 따른 에지비드 제거장치는 본체(101)를 기판(100)의 한 변을 따라 수평방향으로 이동시키는 이동장치(미도시)를 더 포함하여 구성될 수 있다. 상기 이동장치에 의해 에지비드 제거장치는 기판(100)의 한 변을 따라 일단에서 타단까지 평행하게 이동하여 에지비드를 제거한다. In addition, the edge bead removing device according to the present invention may further comprise a moving device (not shown) for moving the main body 101 in a horizontal direction along one side of the substrate 100. The edge bead removing device removes edge beads by moving in parallel from one end to the other end along one side of the substrate 100 by the moving device.

본 발명에 따른 에지비드 제거장치는 상기한 실시예뿐만 아니라 브러쉬의 모양이나 회전방법에 따라 다양한 실시예가 가능하다.Edge bead removal device according to the present invention can be various embodiments depending on the shape or rotation method of the brush as well as the above embodiments.

도 6와 도 7은 브러쉬의 모양에 따른 제2실시예와 제3실시예를 나타낸 것이다. 6 and 7 show a second embodiment and a third embodiment according to the shape of the brush.

도 6를 참조하면, 브러쉬(230)는 회전축과 외주면을 가지는 원기둥의 형태로 마련되며, 회전축은 기판(100)의 측면과 평행한 방향으로 형성된다. 브러쉬(230)의 외주면에는 다수의 터럭이 형성되어 있어, 터럭의 끝이 기판(100)의 측면과 접촉하면서 회전축을 기준으로 회전하면서 에지비드 등을 제거한다.Referring to FIG. 6, the brush 230 is provided in the form of a cylinder having a rotating shaft and an outer circumferential surface, and the rotating shaft is formed in a direction parallel to the side surface of the substrate 100. A plurality of turrets are formed on the outer circumferential surface of the brush 230, and the edges of the turrets are rotated with respect to the side of the substrate 100 and rotated about the rotation axis to remove edge beads.

도 7를 참조하면, 브러쉬(330)는 원반의 한 면에 터럭이 형성된 형태로 마련되며, 회전축은 접하는 기판(100)의 측면에 수직한 방향으로 배치된다. Referring to FIG. 7, the brush 330 is provided in a form in which a truck is formed on one surface of the disc, and the rotation axis is disposed in a direction perpendicular to the side surface of the substrate 100 in contact with each other.

상기한 바와 같이 브러쉬의 모양은 다양한 형태로 마련된다. 도시하지는 않았으나 구형이나 타원형태의 브러쉬도 가능하다.As described above, the shape of the brush is provided in various forms. Although not shown, a spherical or oval brush is also possible.

전술한 구성을 갖는 에지비드 제거장치의 동작을 도4를 참조로 하여 설명하면, 먼저 포토레지스트가 도포된 기판(100)이 고정부(150)에 의해 고정되어 에지비드 제거장치의 ㄷ자형으로 형성된 개구부에 삽입된다. 이때 에지비드 제거장치의 본체(101)가 고정되고 기판(100)이 이동할 수 있으며, 반대로 기판(100)이 고정되고 에지비드 제거장치의 본체(101)가 이동할 수도 있다. The operation of the edge bead removing device having the above-described configuration will be described with reference to FIG. 4. First, the photoresist-coated substrate 100 is fixed by the fixing unit 150 to form a U-shaped edge bead removing device. It is inserted into the opening. In this case, the main body 101 of the edge bead removing apparatus may be fixed and the substrate 100 may move. In contrast, the substrate 100 may be fixed and the main body 101 of the edge bead removing apparatus may move.

기판(100)이 삽입되면 상부헤드부(110)와 하부헤드부(120)의 세정부(111, 121)에서 약액과 기체가 분사됨과 동시에 브러쉬(130)가 회전하여 기판(100)의 가장자리에 형성된 에지비드를 제거한다. 이때, 브러쉬(130)의 근처에 형성된 세정액공급장치(133)로부터 세정액이 분사될 수 있다.When the substrate 100 is inserted, the chemical liquid and gas are injected from the cleaning parts 111 and 121 of the upper head part 110 and the lower head part 120, and the brush 130 is rotated to the edge of the substrate 100. Remove the edge bead formed. In this case, the cleaning liquid may be injected from the cleaning liquid supply device 133 formed near the brush 130.

한편, 약액과 에지비드와의 혼합물 등의 폐액은 본체(101)의 하부에 형성된 배출부(140)를 통해 배출된다.On the other hand, the waste liquid, such as a mixture of the chemical liquid and the edge bead is discharged through the discharge portion 140 formed in the lower portion of the main body 101.

이때, 상기 에지비드 제거장치는 기판(100) 가장자리의 에지비드를 제거하면서 기판의 일단에서 타단까지 스캔하듯 이동하여 전 가장자리 영역의 에지비드를 제거한다.At this time, the edge bead removal device removes the edge bead of the entire edge area by moving as if scanning from one end of the substrate to the other end while removing the edge bead of the edge of the substrate 100.

상기한 과정이 끝나면 기판이 반송된다.After the above process, the substrate is conveyed.

상술한 실시예는 본 발명을 설명하기 위한 하나의 예에 불과한 것으로, 본 발명은 상기한 바와 같은 실시예에만 한정되는 것은 아니다. The above-described embodiment is only one example for explaining the present invention, and the present invention is not limited to the above-described embodiment.

따라서, 본 발명의 권리의 범위는 상술한 상세한 설명에 의해 정의되는 것이 아니라 첨부한 특허청구범위에 의해 정의되어야만 할 것이다.Accordingly, the scope of the present invention should not be defined by the above detailed description, but should be defined by the appended claims.

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 에지비드 제거장치는, 기판의 가장자리의 에지비드를 효과적으로 제거할 수 있다. 특히, 기판의 가장자리 측면에 형성된 에지비드를 효과적으로 제거함으로써, 러빙공정에 있어서 러빙포의 오염을 방지할 수 있는 등 액정표시장치의 제조공정에 있어서 불량을 줄여 고품질의 액정표시장치를 제공한다.As described above, the edge bead removing apparatus according to the embodiment of the present invention can effectively remove the edge bead of the edge of the substrate. In particular, by effectively removing the edge bead formed on the edge side of the substrate, it is possible to prevent contamination of the rubbing cloth in the rubbing process, such as to reduce the defects in the manufacturing process of the liquid crystal display device to provide a high quality liquid crystal display device.

Claims (8)

기판을 고정하는 고정부와;A fixing part fixing the substrate; 상기 기판의 측면에 위치하며, 상기 기판의 측면에 약액을 분사하는 본체;Located in the side of the substrate, the main body for injecting the chemical to the side of the substrate; 상기 기판의 측면에 대향하는 상기 본체의 일측에 적어도 1개의 브러쉬를 포함하여 구성되는 에지비드 제거장치.Edge bead removal device comprising at least one brush on one side of the body facing the side of the substrate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 브러쉬에 연결되며 브러쉬를 회전구동하는 구동모터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 에지비드 제거장치.Edge bead removal device further comprises a drive motor connected to the brush and rotates the brush. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 본체의 일측에 형성되며 브러쉬에 세정액을 공급하는 세정액공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 에지비드 제거장치.Edge bead removal device formed on one side of the main body further comprises a cleaning solution supply unit for supplying a cleaning solution to the brush. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 본체로부터 상기 기판의 상면방향으로 연장되며 기판 가장자리 상측에 약액을 분사하는 상부헤드부; 및An upper head portion extending from the main body toward the upper surface of the substrate and injecting a chemical solution onto the substrate edge; And 상기 본체로부터 상기 기판의 하면방향으로 연장되며 기판 가장자리 하측에 약액을 분사하는 하부 헤드부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 에지비드 제거장 치.And a lower head portion extending from the main body toward the lower surface of the substrate and injecting a chemical solution under the substrate edge. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 약액은 시너인 것을 특징으로 하는 에지비드 제거장치.Edge chemical removal device, characterized in that the chemical liquid is thinner. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 상부헤드부 및 하부헤드부는 기체를 분사하는 기체분사부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 에지비드 제거장치.The upper head portion and the lower head portion edge bead removal device characterized in that it further comprises a gas injection unit for injecting gas. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 기체는 질소기체인 것을 특징으로 하는 에지비드 제거장치.Edge gas removal apparatus, characterized in that the gas is a nitrogen gas. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 본체를 상기 기판의 한 변을 따라 수평이동시키는 이동장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 에지비드 제거장치.Edge removing device further comprises a moving device for horizontally moving the main body along one side of the substrate.
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