KR20080048337A - Substrate drying system - Google Patents

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KR20080048337A
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Abstract

A substrate drying system is provided to make a flow of compressed air ejected from air knifes parallel with the rubbing axis of an alignment layer, thereby preventing the rubbing axis from being changed by the force of the compressed air and water gathering by the force of the compressed air. A substrate drying system comprises a substrate(123), a conveying unit, and a pair of air knifes(135,137). An alignment layer is formed on the substrate. The surface of the alignment layer is rubbed. The conveying unit conveys the substrate in a state when a side of the alignment layer is put to face upward. The pair of air knifes are opposite to face each other with the substrate therebetween and eject compressed air to be parallel with the rubbing axis(125) of the alignment layer. The conveying unit exposes the upper and lower surfaces of the substrate and includes rollers(131) which rotate in a direction.

Description

기판건조장치{Substrate drying system}Substrate drying system

도 1은 액정표시장치용 액정패널의 제조공정을 공정순서에 따라 도시한 흐름도.1 is a flowchart illustrating a manufacturing process of a liquid crystal panel for a liquid crystal display device according to a process sequence.

도 2a ~ 2b는 일반적인 배향막 러빙공정을 설명하기 위한 사시도.2A to 2B are perspective views for explaining a general alignment film rubbing process.

도 3은 일반적인 에어나이프를 포함하는 기판건조장치의 공정사시도.3 is a process perspective view of a substrate drying apparatus including a general air knife.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 액정패널의 제조공정을 공정순서에 따라 도시한 흐름도.4 is a flowchart illustrating a manufacturing process of a liquid crystal panel for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention according to a process sequence.

도 5는 본 발명에 따른 에어나이프를 포함하는 기판건조장치의 간략한 단면도.5 is a simplified cross-sectional view of a substrate drying apparatus including an air knife according to the present invention.

도 6은 한 쌍의 에어나이프 및 그 사이를 통과하는 기판을 도시한 공정사시도.6 is a process perspective view showing a pair of air knives and a substrate passing therebetween.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

123 : 기판 125 : 러빙축123: substrate 125: rubbing shaft

131 : 롤러 135, 137 : 상, 하부 에어나이프131: roller 135, 137: upper, lower air knife

본 발명은 액정표시장치를 위한 제조장비에 관한 것으로, 좀더 자세하게는 기판의 세정 후, 상기 기판의 잔류수분 제거를 위한 에어나이프를 통한 기판건조 공정 시, 횡전계 모드 기판 상에 형성된 배향막 러빙축이 변동되는 문제점을 미연에 방지하고자 하는 것이다. The present invention relates to a manufacturing apparatus for a liquid crystal display device, and more particularly, after the cleaning of the substrate, during the substrate drying process through the air knife for removing residual moisture of the substrate, the alignment film rubbing axis formed on the transverse electric field mode substrate This is to prevent the fluctuation problem in advance.

일반적으로, 액정표시장치의 구동원리는 액정의 광학적 이방성과 분극성질을 이용한다. 상기 액정은 구조가 가늘고 길기 때문에 분자의 배열에 방향성을 가지고 있으며, 인위적으로 액정에 전기장을 인가하여 분자배열의 방향을 제어할 수 있다. In general, the driving principle of the liquid crystal display device uses the optical anisotropy and polarization of the liquid crystal. Since the liquid crystal is thin and long in structure, the liquid crystal has directivity in the arrangement of molecules, and the direction of the molecular arrangement can be controlled by artificially applying an electric field to the liquid crystal.

따라서, 상기 액정의 분자배열 방향을 임으로 조절하면 액정의 분자배열이 변하게 되고, 광학적 이방성에 의하여 상기 액정의 분자 배열 방향으로 빛이 굴절하여 화상정보를 표현할 수 있다. Therefore, when the molecular arrangement direction of the liquid crystal is arbitrarily adjusted, the molecular arrangement of the liquid crystal is changed, and light is refracted in the molecular arrangement direction of the liquid crystal by optical anisotropy to express image information.

도 1은 일반적인 액정표시장치의 액정패널을 개략적으로 도시한 사시도이다. 1 is a perspective view schematically illustrating a liquid crystal panel of a general liquid crystal display device.

도시한 바와 같이, 일반적인 액정패널(3)은 어레이기판(31)과 컬러필터기판(33)이 소정 간격 이격하여 합착되고, 상기 컬러필터기판(33)과 마주보는 어레이기판(31)의 일면에는 서로 수직하게 교차하여 화소영역(39)을 정의하는 데이터배선(DL)과 게이트배선(GL)이 구성되고, 상기 두 배선(DL, GL)의 교차지점에는 박막트랜지스터(37)가 구성된다. As shown in the drawing, a general liquid crystal panel 3 is bonded to the array substrate 31 and the color filter substrate 33 at predetermined intervals, and on one surface of the array substrate 31 facing the color filter substrate 33. The data line DL and the gate line GL defining the pixel area 39 are perpendicularly intersected with each other, and the thin film transistor 37 is formed at the intersection of the two lines DL and GL.

상기 어레이기판(31)과 마주보는 컬러필터기판(33)의 일면에는 격자형상의 블랙매트릭스(41)와 컬러필터(43)가 구성되며, 상기 컬러필터(43)와 블랙매트릭 스(41)를 포함하는 컬러필터기판(33)의 전면에는 투명한 공통전극(45)이 구성된다.On one surface of the color filter substrate 33 facing the array substrate 31, a grid-like black matrix 41 and a color filter 43 are formed, and the color filter 43 and the black matrix 41 are formed. The transparent common electrode 45 is formed on the front surface of the color filter substrate 33.

상기 어레이기판(31)과 컬러필터기판(33)사이에는 액정(35)이 충진 되어있다.The liquid crystal 35 is filled between the array substrate 31 and the color filter substrate 33.

이때, 도시하지는 않았지만 상기 박막트랜지스터(37)는 게이트전극, 활성층, 소스 및 드레인전극을 포함한다.At this time, although not shown, the thin film transistor 37 includes a gate electrode, an active layer, a source and a drain electrode.

최종적으로 상기 어레이기판(31)과 컬러필터기판(33)의 각각 마주보는 면에는 배향막(47)이 형성된다. Finally, an alignment layer 47 is formed on surfaces of the array substrate 31 and the color filter substrate 33 that face each other.

상기 액정표시장치(3)는 상기 광학적 이방성을 나타내는 액정의 배열특성에 따라, 액정층(35)을 투과하는 빛의 양을 조절함으로써 이미지가 표현되는 장치이다.The liquid crystal display device 3 is an apparatus in which an image is represented by adjusting an amount of light passing through the liquid crystal layer 35 according to the arrangement characteristic of the liquid crystal exhibiting the optical anisotropy.

상기 액정분자의 배열특성은 액정표시장치(3)의 광학적 특성에 많은 영향을 끼치게 된다. 따라서 상기 액정의 배열특성을 제어하는 것은 아주 중요한 문제이며 특히, 상기 액정의 분자배열에 가장 큰 영향을 미치는 것은 상기 배향막(47)이다.The arrangement characteristic of the liquid crystal molecules has a great influence on the optical characteristics of the liquid crystal display device 3. Therefore, controlling the alignment characteristics of the liquid crystal is a very important problem. In particular, the alignment layer 47 has the greatest influence on the molecular arrangement of the liquid crystal.

상기 배향막(47)은 표면에 홈을 주기 위한 러빙처리를 하게 되며, 이러한 러빙공정은 러빙포를 롤러에 감아 이를 이용하여 배향막의 표면을 일정한 방향으로 문질러주는 것을 말한다.The alignment layer 47 is subjected to a rubbing treatment for giving a groove to the surface, and this rubbing process refers to rubbing the surface of the alignment layer in a predetermined direction by using a rubbing cloth wrapped around a roller.

상기 배향막(47)의 표면을 러빙(Rubbing)처리하게 되면, 상기 배향막(47)의 표면은 미세한 홈을 갖는 형상이 된다.When the surface of the alignment layer 47 is rubbed, the surface of the alignment layer 47 is shaped to have fine grooves.

도 2a ~ 2b는 일반적인 배향막 러빙공정을 설명하기 위한 사시도이다.2A to 2B are perspective views for explaining a general alignment film rubbing process.

일반적인 배향막 러빙장치는 기판(3)을 위치시키는 스테이지(17), 러빙 포(15)가 부착된 러빙롤(11)과, 상기 러빙롤(11)을 지지해주는 지지대(13)로 구성된다.The general alignment layer rubbing device includes a stage 17 for positioning the substrate 3, a rubbing roll 11 to which the rubbing cloth 15 is attached, and a support 13 for supporting the rubbing roll 11.

상기 스테이지(17) 위에 배향막(미도시)이 형성된 기판(3)을 위치시키면 상기 러빙롤(11)이 고속 회전을 하면서, 상기 러빙롤(11) 표면에 부착된 러빙포(15)가 상기 기판(3)상의 배향막에 접촉하며 상기 배향막 표면을 마찰시킴으로써, 상기 배향막의 표면에 러빙축(5)을 형성하게 된다. When the substrate 3 on which the alignment layer (not shown) is formed is placed on the stage 17, the rubbing roll 11 rotates at high speed, and the rubbing cloth 15 attached to the surface of the rubbing roll 11 is placed on the substrate. By rubbing the surface of the alignment film in contact with the alignment film on (3), the rubbing shaft 5 is formed on the surface of the alignment film.

이때, 도 2a는 트위스트네마틱(twisted nematic : TN) 모드의 기판(3)이 배치되어 있는 경우로, 기판(3)이 스테이지(17)를 따라 이동하게 되면, 상기 러빙포(15)가 부착된 러빙롤(11)은 상기 기판(3)의 이동방향과 45°의 예각을 이루도록 위치하여, 상기 기판(3) 상에 러빙공정을 진행하게 된다. In this case, FIG. 2A illustrates a case in which the substrate 3 of the twisted nematic (TN) mode is disposed. When the substrate 3 moves along the stage 17, the rubbing cloth 15 is attached. The rubbing roll 11 is positioned to form an acute angle of 45 ° with the moving direction of the substrate 3 to perform a rubbing process on the substrate 3.

즉, 트위스트네마틱 모드의 기판(3)은 액정분자를 기판(3)에 대해 수직하게 구동시킴으로써, 도시하지는 않았지만 제 1 및 제 2 기판 상에 각각 구성된 공통전극 및 화소전극 위에 형성되는 배향막의 러빙축은 예를 들면 게이트배선 및 데이터배선과 45°를 이루도록 형성되며, 상기 각각의 배향막의 러빙축은 서로 수직하게 배향되도록 구성된다.That is, the substrate 3 in the twisted nematic mode drives the liquid crystal molecules perpendicular to the substrate 3, thereby rubbing the alignment layer formed on the common electrode and the pixel electrode, respectively, on the first and second substrates, although not shown. The axis is formed to form, for example, 45 ° with the gate wiring and the data wiring, and the rubbing axes of the respective alignment films are configured to be oriented perpendicular to each other.

반면에 도 2b의 횡전계(in plane switching : IPS) 모드 기판(23)의 경우에는, 러빙축(25)이 기판(23)의 이동방향과 평행하게 형성된다. On the other hand, in the case of the in-plane switching (IPS) mode substrate 23 of FIG. 2B, the rubbing shaft 25 is formed parallel to the moving direction of the substrate 23.

즉, 횡전계 모드의 기판(23)은 기판(23)에 대해 수평한 방향으로 액정분자를 구동시키므로, 상기 기판(23)이 스테이지(17)를 따라 이동하게 되면, 상기 러빙포(15)가 부착된 러빙롤(11)은 기판(23)의 이동방향과 수직하게 위치하여, 상기 기 판(23)의 이동방향과 반대방향으로 이동하면서 상기 기판(23) 상에 러빙공정을 진행하게 된다.That is, since the substrate 23 in the transverse electric field mode drives the liquid crystal molecules in a horizontal direction with respect to the substrate 23, when the substrate 23 moves along the stage 17, the rubbing cloth 15 is moved. The attached rubbing roll 11 is positioned perpendicular to the moving direction of the substrate 23 to move the rubbing process on the substrate 23 while moving in the direction opposite to the moving direction of the substrate 23.

따라서, 상기 기판(23) 상에 형성되는 러빙축(25)은 상기 기판(23)의 이동방향과 평행하게 형성된다. Therefore, the rubbing shaft 25 formed on the substrate 23 is formed in parallel with the moving direction of the substrate 23.

이러한 러빙공정이 완료되면, 상기 기판(23)의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 세정공정 및 건조공정을 진행하는데 이때, 건조공정은 최근 기판(23) 사이즈의 대형화에 따라 에어나이프(도 3의 35, 37)를 사용하는 것이 일반적이다. When the rubbing process is completed, a cleaning process and a drying process for removing the foreign matter adhering to the surface of the substrate 23 are carried out. At this time, the drying process is performed according to the recent increase in the size of the substrate 23. It is common to use 35, 37).

도 3은 일반적인 에어나이프를 포함하는 기판건조장치의 공정사시도로써, 기판건조장치는 기판(23)을 이동시키기 위한 롤러(31)와 상기 기판(23)을 사이에 두고 서로 대향하는 한 쌍의 상, 하부 에어나이프(35, 37)를 포함한다. 3 is a process perspective view of a substrate drying apparatus including a general air knife, wherein the substrate drying apparatus includes a pair of images facing each other with a roller 31 for moving the substrate 23 and the substrate 23 therebetween. And lower air knives 35 and 37.

상기 상, 하부 에어나이프(35, 37)는 각각 바(bar) 형상으로, 서로 마주보는 방향으로 압축공기를 분사한다. 이때, 상, 하부 에어나이프(35, 37)는 상기 기판(23)의 일모서리에서부터 시작하여 이와 대각선 방향으로 대향하는 모서리 끝으로 이동하면서 압축공기를 분사하게 된다. The upper and lower air knifes 35 and 37 each have a bar shape and spray compressed air in a direction facing each other. At this time, the upper, lower air knife (35, 37) is to start the starting edge of the substrate 23 to move to the edge end opposite to the diagonal direction to spray the compressed air.

따라서, 이러한 에어나이프(35, 37)를 통한 세정공정은 상기 기판(23) 상에 압축공기를 분사하는 과정에서, 상기 기판(23) 상에 형성된 배향막의 러빙축(25)에 영향을 줄 수 있는데 특히, 횡전계 모드의 배향막일 경우 상기 에어나이프(35, 37)의 분사되는 압축공기에 의해 영향을 받게 된다. Accordingly, the cleaning process through the air knifes 35 and 37 may affect the rubbing shaft 25 of the alignment layer formed on the substrate 23 in the process of spraying compressed air onto the substrate 23. In particular, in the case of the alignment layer in the transverse electric field mode, the compressed air is injected by the air knives 35 and 37.

이에 대해 좀더 자세하게 살펴보면, 일반적인 트위스트네마틱 모드의 기판(도 2a의 3) 상에 형성된 배향막의 러빙축(도 2a의 5)은 상기 기판(도 2a의 3)의 이동방향과 45°의 예각을 이루도록 형성되므로 이는, 에어나이프(35, 37)가 기판(도 2a의 3)의 일모서리에서부터 시작하여 대각선 방향으로 진행하므로 상기 기판(도 2a의 3) 상에 형성된 배향막의 러빙축(도 2a의 5)과 동일한 방향으로 압축공기를 분사하게 된다. 따라서, 에어나이프(35, 37)에서 분사되는 압축공기는 트위스트네마틱 모드의 배향막 러빙축(도 2a의 5)에 영향을 미치지 않게 된다. In more detail, the rubbing axis (5 in FIG. 2A) of the alignment layer formed on the substrate in the general twisted nematic mode (3 in FIG. 2A) has an acute angle of 45 ° with the moving direction of the substrate (3 in FIG. 2A). Since the air knives 35 and 37 proceed in a diagonal direction starting from one corner of the substrate (3 in FIG. 2A), the rubbing axis of the alignment film formed on the substrate (3 in FIG. 2A) is formed. Compressed air is injected in the same direction as 5). Therefore, the compressed air injected from the air knives 35 and 37 does not affect the alignment film rubbing axis (5 in FIG. 2A) in the twisted nematic mode.

그러나, 횡전계 모드의 기판(23) 상에 형성된 배향막의 러빙축(25)은 상기 기판(23)의 이동방향과 평행하게 형성되므로, 상기 에어나이프(35, 37)가 기판(23)의 일모서리에서부터 시작하여 대각선 방향으로 진행하게 되면, 상기 배향막의 러빙축(25)과 상기 에어나이프(35, 37)에서 분사되는 압축공기는 45°의 예각을 이루게 된다. However, since the rubbing axis 25 of the alignment layer formed on the substrate 23 in the transverse electric field mode is formed in parallel with the moving direction of the substrate 23, the air knives 35 and 37 are formed on the substrate 23. Starting from the corner and proceeding diagonally, compressed air injected from the rubbing shaft 25 of the alignment layer and the air knives 35 and 37 forms an acute angle of 45 °.

따라서, 상기 에어나이프(35, 37)에서 분사되는 압축공기의 힘과, 압축공기의 힘에 의한 수분 쏠림 현상에 의해 러빙축(25)이 변동되는 문제점이 발생하게 된다. Therefore, a problem arises in that the rubbing shaft 25 is fluctuated due to the force of the compressed air injected from the air knives 35 and 37 and the water deflection phenomenon caused by the force of the compressed air.

이러한 러빙축(25)의 변동은 콘트라스트(contrast) 특성에 영향을 미치게 되는데 즉, 콘트라스트는 화이트 휘도를 블랙 휘도로 나눈 값으로 계산하는데, 횡전계 모드의 경우 러빙축(25)이 최초 설정한 기판(23)의 이동방향과 평행한 0°에서 0.1°만 변동되어도 블랙 휘도 값이 커지게 되므로 콘트라스트 특성은 그 만큼 저하되게 된다.The fluctuation of the rubbing axis 25 affects the contrast characteristic, that is, the contrast is calculated by dividing the white luminance by the black luminance. In the transverse electric field mode, the substrate first set by the rubbing axis 25 is used. Even if only 0 ° to 0.1 ° in parallel with the moving direction of (23) changes, the black luminance value increases, so that the contrast characteristic is reduced by that much.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 기판의 잔류 수분 제거를 위해 에어나이프를 이용한 기판 건조 공정 시, 횡전계 모드 기판 상에 형성된 배향막 러빙축의 변동을 방지하고자 하는 것을 제 1 목적으로 한다.The present invention is to solve the above problems, the first object is to prevent the variation of the alignment film rubbing axis formed on the transverse electric field mode substrate during the substrate drying process using an air knife to remove the residual moisture of the substrate .

또한, 배향막 러빙축의 변동으로 인해 콘트라스트가 저하되는 문제점을 해결하고자 하는 것을 제 2 목적으로 한다. In addition, another object of the present invention is to solve the problem of lowering the contrast due to the variation of the alignment film rubbing axis.

전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 표면이 러빙(rubbing) 처리된 배향막이 형성된 기판과; 상기 배향막이 형성된 일면을 위로 하여 놓여진 기판을 이송하는 운송수단과; 상기 기판을 사이에 두고 서로 마주보도록 대향하며, 상기 배향막의 러빙축과 평행하도록 압축공기를 분사하는 한 쌍의 에어나이프를 포함하는 기판건조장치를 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate comprising: a substrate on which an alignment film on which a surface is rubbed is formed; Transport means for transporting a substrate placed with one surface on which the alignment layer is formed; A substrate drying apparatus including a pair of air knives facing each other with the substrate interposed therebetween and spraying compressed air to be parallel to the rubbing axis of the alignment layer.

상기 운송수단은 상기 기판의 상, 하부면을 노출하며, 일방향으로 회전하는 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하며, 상기 한 쌍의 에어나이프는 노즐을 포함하는 바(bar)형상인 것을 특징으로 한다. The vehicle is characterized in that it comprises a roller that rotates in one direction, exposing the upper and lower surfaces of the substrate, the pair of air knife is characterized in that the bar (bar) shape including a nozzle.

이때, 상기 한 쌍의 에어나이프는 각각 상기 기판과 소정각도 경사를 이루도록 배열되는 것을 특징으로 하며, 상기 노즐을 통해 순도 높은 공기 또는 질소(N2) 등을 포함하는 압축공기를 분사하는 것을 특징으로 한다. In this case, the pair of air knives are each arranged to form a predetermined angle with the substrate, characterized in that the injection of compressed air containing high-purity air or nitrogen (N 2 ) through the nozzle. do.

또한, 상기 한 쌍의 에어나이프는 상기 기판의 이동방향과 반대방향을 향해 압축공기를 분사하는 것을 특징으로 하며, 상기 운송수단의 로더부에 기판을 회전시킬 수 있는 회전스테이지를 더욱 포함하는 것을 특징으로 한다. In addition, the pair of air knives are characterized in that the compressed air is injected in a direction opposite to the moving direction of the substrate, further comprising a rotating stage capable of rotating the substrate to the loader portion of the vehicle. It is done.

또한, 상기 운송수단에 외부의 로봇을 통해 상기 기판을 안착시키는 것을 특징으로 하며, 상기 외부의 로봇은 상기 기판을 회전시켜 상기 운송수단 상에 안착시킬 수 있는 것을 특징으로 한다. In addition, the vehicle is characterized in that seating the substrate via an external robot, the external robot is characterized in that it can be mounted on the vehicle by rotating the substrate.

이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 상세히 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 액정패널의 제조공정을 공정순서에 따라 도시한 흐름도이다. 4 is a flowchart illustrating a manufacturing process of a liquid crystal panel for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention according to a process sequence.

제 1 단계(st1)는, 컬러필터기판인 제 1 기판과 어레이기판인 제 2 기판을 각각 준비하는 단계이다. 상기 제 2 기판에는 게이트전극, 반도체층, 소스 및 드레인전극으로 이루어진 박막트랜지스터와 전극역할을 하는 화소전극이 형성되어 있다. The first step st1 is a step of preparing a first substrate, which is a color filter substrate, and a second substrate, which is an array substrate. The second substrate includes a thin film transistor including a gate electrode, a semiconductor layer, a source and a drain electrode, and a pixel electrode serving as an electrode.

상기 제 1 기판에는 제 2 기판의 화소전극과 대응되는 위치에 특정 파장대의 빛만을 투과시키는 컬러필터층이 형성되어 있고, 컬러필터층의 컬러별 경계부에는 비화소영역을 가리기 위한 블랙매트릭스가 형성되어 있다. A color filter layer is formed on the first substrate to transmit only light of a specific wavelength band at a position corresponding to the pixel electrode of the second substrate, and a black matrix is formed at the boundary of each color of the color filter layer to cover the non-pixel region.

또한, 컬러필터층 및 블랙매트릭스의 하부에는 액정층에 전압을 인가하는 공통전극이 형성되어 있다. In addition, a common electrode for applying a voltage to the liquid crystal layer is formed under the color filter layer and the black matrix.

제 2 단계(st2)는, 상기 제 1 및 제 2 기판 상에 배향막을 형성하는 단계이다. 상기 액정표시장치는 액정의 전기적인 광학적 효과를 이용한 것이고, 이러한 전기 광학효과는 액정 자체의 이방성과 액정의 분자배열 상태에 의해 결정되며, 상기 액정의 분자배열에 대한 제어는 액정표시장치에서의 화상표시 품위를 안정화하 는 데 큰 영향을 미치게 된다. 따라서 액정 분자의 초기 배열을 고르게 하기 위해서 배향 공정을 진행하게 된다. The second step st2 is a step of forming an alignment layer on the first and second substrates. The liquid crystal display device utilizes the electrical optical effect of the liquid crystal, and the electro-optical effect is determined by the anisotropy of the liquid crystal itself and the molecular arrangement state of the liquid crystal, and the control of the molecular arrangement of the liquid crystal is an image in the liquid crystal display device. This will greatly affect the stabilization of the display quality. Therefore, an alignment process is performed to even the initial arrangement of liquid crystal molecules.

이 단계는 제 1 및 제 2 기판의 액정과 접촉되는 전극부 상에 각각 배향막을 형성하는 것으로, 배향막의 도포 및 경화 그리고, 러빙(rubbing)처리 공정이 포함된다. 상기 배향막은 유기배향막인 폴리이미드계열(polyimide)이 주로 쓰인다.This step forms an alignment film on each of the electrode portions in contact with the liquid crystals of the first and second substrates, and includes application and curing of the alignment film, and a rubbing treatment process. As the alignment layer, polyimide, which is an organic alignment layer, is mainly used.

특히, 본 발명에서는 기판에 대해 수평한 방향으로 액정분자를 구동시키는 횡전계 모드를 사용하는 것을 특징으로 하며 따라서, 상기 기판 상에 형성하는 배향막의 러빙축은 상기 기판의 이동방향과 평행하게 형성한다. In particular, the present invention is characterized by using a transverse electric field mode for driving the liquid crystal molecules in a horizontal direction with respect to the substrate, so that the rubbing axis of the alignment film formed on the substrate is formed parallel to the moving direction of the substrate.

제 3 단계(st3)는, 씰패턴을 인쇄하는 단계이다. 이때, 씰패턴은 디스펜서(dispenser)나 스크린(screen) 인쇄방법으로 열경화성 또는 자외선경화성 수지의 실런트(sealant)를 양 기판 중 어느 하나의 가장자리로 둘러 형성한다. 이때, 상기 씰패턴 가장자리의 일부 구간에는 액정이 주입될 수 있는 액정주입구와, 액정의 주입을 손쉽게 하기 위해 개구된 진공흡입구를 구성한다. The third step st3 is a step of printing the seal pattern. At this time, the seal pattern is formed by enclosing a sealant of a thermosetting or ultraviolet curable resin with an edge of any one of the two substrates by a dispenser or a screen printing method. In this case, the liquid crystal inlet through which the liquid crystal can be injected is formed in a portion of the edge of the seal pattern, and the vacuum inlet opened to facilitate the injection of the liquid crystal.

제 4 단계(st4)는, 스페이서(spacer)를 산포하는 공정이다. 상기 제 1 및 제 2 기판 사이의 셀갭(cell gap)을 정밀하고 균일하게 유지하기 위해 일정한 크기의 스페이서가 사용된다.The fourth step st4 is a step of dispersing a spacer. Spacers of constant size are used to precisely and uniformly maintain a cell gap between the first and second substrates.

제 5 단계(st5)는, 상기 스페이서 산포공정이 끝나면, 제 1 및 제 2 기판의 합착공정을 통해 액정셀을 형성하는 단계이다.The fifth step st5 is a step of forming a liquid crystal cell through the bonding process of the first and second substrates after the spacer spreading process is completed.

이로 인하여, 상기 제 1 및 제 2 기판의 서로 마주보는 가장자리에 구성되는 액정주입구 및 진공흡입구와 연결되는 액정충진공간이 형성된다. As a result, a liquid crystal filling space connected to the liquid crystal injection hole and the vacuum suction hole formed at edges facing each other of the first and second substrates is formed.

제 6 단계(st6)는, 상기 제작된 액정셀을 단위 액정셀로 절단하는 공정이다.The sixth step st6 is a step of cutting the prepared liquid crystal cell into a unit liquid crystal cell.

일반적으로 액정셀은 대면적의 유리기판에 다수개의 액정셀을 형성한 후 각각 하나의 액정셀로 분리하게 된다. In general, a liquid crystal cell is formed of a plurality of liquid crystal cells on a large glass substrate, and then separated into one liquid crystal cell.

제 7 단계(st7)는, 액정셀에 액정을 주입하는 단계이다. 초기 액정표시장치의 제조공정에서는 여러 셀을 동시에 액정주입 후 셀단위로 절단하는 공정을 진행하였으나, 셀 크기가 증가함에 따라 단위 셀로 절단한 후, 액정을 주입하는 방법을 사용한다. A seventh step st7 is to inject liquid crystal into the liquid crystal cell. In the initial manufacturing process of the liquid crystal display device, a process of cutting several cells at the same time and then cutting them into cell units is performed. However, as the cell size increases, the cells are cut into unit cells and then a liquid crystal is injected.

제 8 단계(st8)는 상기 액정이 주입된 액정셀의 액정주입구 및 진공흡입구를 봉지하는 단계이다. An eighth step st8 is a step of encapsulating the liquid crystal inlet and the vacuum inlet of the liquid crystal cell into which the liquid crystal is injected.

액정주입 공정을 마친 후에 이어지는 봉지 공정은 액정 주입이 완료된 후, 액정셀의 주입구와 진공흡입을 위해 구성된 흡입구에서 액정이 흘러나오지 않게 막아주는 공정으로, 보통 디스펜서를 이용하여 자외선 경화 수지를 도포한 후에 자외선을 조사하여 막아준다.After the liquid crystal injection process is completed, the encapsulation process is a process to prevent the liquid crystal from flowing out of the liquid crystal cell injection port and the suction port configured for vacuum suction after the liquid crystal injection is completed. Irradiate with UV rays to prevent it.

이때, 액정이 주입된 상태에서 주입구 및 흡입구가 외부와 접촉이 일어나면, 오염에 의한 불량이 발생할 수 있으므로 셀 이동이나 공정 진행시 외부 접촉이 일어나지 않게 주의가 필요하며, 외부에 오래 방치되지 않도록 해야 한다. At this time, if the injection hole and the suction hole are in contact with the outside while the liquid crystal is injected, defects may occur due to contamination, so care must be taken not to cause external contact during cell movement or process progress, and it should not be left outside for a long time. .

전술한 공정을 거친 액정셀은 품질검사 후, 액정셀에 구동회로를 연결한 다음, 편광판 및 다수의 모듈을 구성하면 액정표시장치가 완성된다. After the quality test, the liquid crystal cell that has undergone the above-described process is connected to a driving circuit to the liquid crystal cell, and then a polarizing plate and a plurality of modules are configured to complete the liquid crystal display device.

이러한 액정표시장치의 액정셀을 구성하는 제 1 및 제 2 기판은 다수의 기계적, 화학적 처리공정을 수반하므로, 각 공정 이후 표면을 세정하는 세정공정 및 잔 류 수분을 제거하는 건조공정이 필수적으로 뒤따른다. Since the first and second substrates constituting the liquid crystal cell of the liquid crystal display device are accompanied by a number of mechanical and chemical treatment processes, a cleaning process for cleaning the surface and a drying process for removing residual water are essential after each process. Follow.

일반적인 기판 세정공정은 린싱(rinsing)용 분사유닛을 통해 기판에 순수(純水) 등의 세정액을 분사하고, 브러시(brush)를 통해 표면을 털어내며, 초음파 유닛을 사용하여 초음파를 가하는 등의 과정으로 진행된다. A general substrate cleaning process involves spraying a cleaning liquid such as pure water onto a substrate through a rinsing spray unit, brushing off the surface through a brush, and applying ultrasonic waves using an ultrasonic unit. Proceeds to.

이때, 순수는 통상 D.I 워터(de ionixed water 또는 semiconductor grade water)라 불리는 물로써, 이를 사용한 기판의 세정 후에는 반드시 잔존하는 수분을 제거해야만 물얼룩(water mark) 등의 얼룩을 방지할 수 있다.In this case, pure water is water, commonly referred to as D.I water (de ionixed water or semiconductor grade water), and after cleaning the substrate using the same, the remaining water must be removed to prevent stains such as water marks.

이를 위한 장비가 기판건조장치로, 스핀드라이(spin dry)방식과 에어나이프(air knife)방식이 있으나, 최근 기판 사이즈의 대형화에 따라 에어나이프를 사용하는 것이 일반적이다. Equipment for this purpose is a substrate drying apparatus, such as spin dry (spin dry) method and air knife (air knife) method, but in recent years it is common to use air knife according to the larger substrate size.

도 5는 본 발명에 따른 에어나이프(135, 137)를 포함하는 기판건조장치의 간략한 단면도로서, 기판(123)을 이동시키기 위한 롤러(131)와, 상기 기판(123)을 사이에 두고 서로 대향하는 한 쌍의 상, 하부 에어나이프(135, 137)를 포함한다. 5 is a simplified cross-sectional view of a substrate drying apparatus including air knives 135 and 137 according to the present invention, and is opposed to each other with a roller 131 for moving the substrate 123 and the substrate 123 therebetween. It includes a pair of upper, lower air knife (135, 137).

상기 상, 하부 에어나이프(135, 137)는 각각 압축공기를 분사하기 위한 노즐(미도시)이 구성된 직선의 바(bar) 형상을 가지고 서로 마주보도록 위치하여, 상기 기판(123)의 이동방향과 반대방향으로 이동하면서 상기 기판(123) 상에 순도 높은 공기(Clean Dry Air : CDA) 또는 질소(N2) 등의 압축공기를 분사한다.The upper and lower air knives 135 and 137 are positioned to face each other in a straight bar shape having nozzles (not shown) for injecting compressed air, respectively, so as to face the movement direction of the substrate 123. While moving in the opposite direction, compressed air such as clean dry air (CDA) or nitrogen (N 2 ) is injected onto the substrate 123.

이때, 상기 한 쌍의 상, 하부 에어나이프(135, 137)는 각각 기판(123) 이동방향과 일정한 경사를 이루도록 배열되어 신속하게 잔류수분을 기판(123) 외부로 밀 어내거나 건조시킬 수 있다. In this case, the pair of upper and lower air knives 135 and 137 are arranged to form a predetermined inclination with the moving direction of the substrate 123, respectively, so that the residual moisture can be quickly pushed out of the substrate 123 or dried.

따라서 롤러(131)에 안착되어 슬라이딩 이동되는 기판(123)은 상, 하부 에어나이프(135, 137) 사이를 통과하면서 건조기체에 의해 표면의 잔류수분이 건조 및 제거되는 것으로, 상, 하부 에어나이프(135, 137) 사이를 통과하는 기판(123) 표면의 잔류수분은 최초 에어나이프(135, 137)와 가장 근접되는 일측 가장자리로부터 타측 가장자리 방향으로 밀려나가면서 건조 및 제거되게 된다. Accordingly, the substrate 123 seated on the roller 131 and slidably moves is the dry and removed residual moisture on the surface of the substrate 123 through the upper and lower air knifes 135 and 137. The residual moisture on the surface of the substrate 123 passing between the 135 and 137 is dried and removed while being pushed toward the other edge from one edge closest to the first air knife 135 and 137.

이때, 상기 상, 하부 에어나이프(135, 137)는 기판(123) 이동방향과 일정한 경사를 이루도록 배열되므로, 상기 상, 하부 에어나이프(135, 137)에서 분사되는 압축공기는 상기 기판(123)의 이동방향과 평행하게 형성되어 있는 배향막의 러빙축(125)과 평행한 방향으로 흐르게 된다. In this case, since the upper and lower air knives 135 and 137 are arranged to have a predetermined inclination with the moving direction of the substrate 123, the compressed air injected from the upper and lower air knives 135 and 137 is the substrate 123. It flows in the direction parallel to the rubbing axis 125 of the alignment film formed in parallel with the moving direction of.

이에 대해서는 도 6을 참조하여 좀더 자세하게 설명하도록 하겠다. This will be described in more detail with reference to FIG. 6.

도 6은 한 쌍의 에어나이프(135, 137) 및 그 사이를 통과하는 기판(123)을 도시한 공정사시도로써, 상기 상, 하부 에어나이프(135, 137)는 기판(123) 상에 형성된 배향막의 러빙축(125)과 평행한 방향으로 압축공기를 분사한다. FIG. 6 is a process perspective view showing a pair of air knives 135 and 137 and a substrate 123 passing therebetween, wherein the upper and lower air knives 135 and 137 are formed on the substrate 123. Compressed air is sprayed in a direction parallel to the rubbing shaft 125.

즉, 상기 기판(123) 상에 형성된 배향막의 러빙축(125)이 상기 기판(123)의 이동방향과 평행하게 형성되어, 상기 기판(123)이 롤러(131)에 의해 이동하게 되면, 상기 에어나이프(135, 137)는 상기 기판(123)의 이동방향과 수직하게 위치하여 상기 기판(123)의 이동방향과 반대방향으로 이동하면서 상기 기판(123) 상에 압축공기를 분사하여, 기판 상의 잔존하는 수분을 제거하게 된다. That is, when the rubbing axis 125 of the alignment layer formed on the substrate 123 is formed parallel to the moving direction of the substrate 123, and the substrate 123 is moved by the roller 131, the air Knives 135 and 137 are positioned perpendicular to the moving direction of the substrate 123 and sprayed compressed air onto the substrate 123 while moving in a direction opposite to the moving direction of the substrate 123, and remain on the substrate. It will remove moisture.

한편, 상기 기판 세정공정은 어레이기판(도 1의 31)과 컬러필터기판(도 1의 33)이 합착되어 액정셀 단위로 절단(st6)된 상태가 아닌, 대면적의 기판(123)에 다수개의 단위셀(미도시)들이 정의되어 있는 상태로, 액정표시장치의 각 모델에 따라 정의된 단위셀(미도시)의 면치수를 달리하기 위하여 대면적의 기판(123) 상에 정의된 단위셀(미도시)의 개수를 달리하거나, 단위셀(미도시)이 배치되는 형태를 달리 구성하게 된다. In the substrate cleaning process, the array substrate (31 in FIG. 1) and the color filter substrate (33 in FIG. 1) are bonded to each other and are cut in the liquid crystal cell unit (st6). Unit cells (not shown) are defined, the unit cell defined on the large-area substrate 123 in order to change the surface dimensions of the unit cell (not shown) defined according to each model of the liquid crystal display device The number of (not shown) or the unit cell (not shown) is arranged differently.

이는, 상기 기판(123) 상에 정의된 단위셀(미도시)들의 배향막 러빙축(125)은 각 모델에 따른 기판(123) 마다 다르게 형성되는데, 크게 기판(123) 가장자리의 장변(長邊)과 단변(短邊)을 따라 형성된 러빙축(125)으로 나뉘게 된다. That is, the alignment layer rubbing axis 125 of the unit cells (not shown) defined on the substrate 123 is formed differently for each substrate 123 according to each model, and a long side of the edge of the substrate 123 is large. And is divided into a rubbing shaft 125 formed along the short side (短 邊).

따라서, 본 발명에서 기판(123) 상에 형성된 배향막의 러빙축(125)을 기판(123)의 이동방향과 평행하게 형성하여, 에어나이프(135, 137)가 기판(123) 상에 형성된 배향막의 러빙축(125)과 평행한 방향으로 압축공기를 분사하도록 해야 하므로, 상기 기판(123)을 이동시키기 위한 롤러(131)에 기판(123)을 이송하기 전에, 각 모델에 따라 다양하게 구성된 기판(123)을 판변하여, 상기 기판(123)의 이동방향과 배향막의 러빙축(125)이 평행하도록 상기 기판(123)을 회전시켜야 하는 경우가 발생된다. Therefore, in the present invention, the rubbing axis 125 of the alignment film formed on the substrate 123 is formed in parallel with the moving direction of the substrate 123, so that the air knives 135 and 137 of the alignment film formed on the substrate 123 are formed. Since compressed air must be sprayed in a direction parallel to the rubbing shaft 125, before the substrate 123 is transferred to the roller 131 for moving the substrate 123, various substrates configured according to each model ( The substrate 123 needs to be rotated so that the moving direction of the substrate 123 and the rubbing axis 125 of the alignment layer are parallel to each other.

이는, 상기 기판(123)을 이동시키기 위한 롤러(131)에 기판(123)을 이송하기 전의 기판(123) 로더(load)부에 별도의 회전스테이지(미도시)를 구성하여, 기판(123)의 이동방향과 기판(123) 상에 형성된 배향막의 러빙축(125)을 평행하게 구성하거나, 외부의 로봇(미도시) 등에 의해 기판(123)을 지지하여 상기 롤러(131) 상에 직접 이송시킬 때에는 상기 로봇(미도시)을 통해 상기 기판(123)의 이동방향 과 기판(123) 상에 형성된 배향막의 러빙축(125)을 평행하게 구성한다. This constitutes a separate rotating stage (not shown) in the load unit of the substrate 123 before transferring the substrate 123 to the roller 131 for moving the substrate 123, thereby providing a substrate 123. The rubbing axis 125 of the alignment layer formed on the substrate 123 and the moving direction of the substrate may be parallel to each other, or may be directly transferred onto the roller 131 by supporting the substrate 123 by an external robot (not shown) or the like. At this time, the moving direction of the substrate 123 and the rubbing axis 125 of the alignment layer formed on the substrate 123 are configured in parallel with the robot (not shown).

이로 인하여, 횡전계 모드의 기판(123) 상에 형성된 배향막의 러빙축(125)은 상기 기판(123)의 이동방향과 평행하게 형성되어 있어 에어나이프(135, 137)가 기판(123) 상에 형성된 배향막의 러빙축(125)과 평행한 방향으로 압축공기를 분사하므로, 기판(123)의 배향막 러빙축(125)에 아무런 영향을 미치지 않게 된다.Therefore, the rubbing axis 125 of the alignment layer formed on the substrate 123 in the transverse electric field mode is formed in parallel with the moving direction of the substrate 123 so that the air knifes 135 and 137 are formed on the substrate 123. Since compressed air is sprayed in a direction parallel to the rubbing axis 125 of the formed alignment film, it does not affect the alignment film rubbing axis 125 of the substrate 123.

따라서, 러빙축(125) 변동을 방지함으로써, 기존의 러빙축(도 2b의 25) 변동으로 인한 콘트라스트가 저하되는 문제점 역시 미연에 방지하게 된다. Therefore, by preventing the rubbing axis 125 fluctuation, the problem that the contrast due to the fluctuation of the existing rubbing axis (25 of FIG. 2b) is also reduced in advance.

본 발명은 상기 실시예들로 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한도내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다. The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

위에 상술한 바와 같이, 본 발명에 따라 기판 세정 후, 기판 상에 잔류수분을 제거하기 위한 에어나이프를 통한 기판 건조공정에서, 상기 에어나이프에서 분사되는 압축공기를 기판 상에 형성된 배향막의 러빙축과 평행하게 분사함으로써, 상기 에어나이프에서 분사되는 압축공기의 힘과, 압축공기의 힘에 의한 수분 쏠림 현상에 의해 러빙축이 변동되었던 문제점을 미연에 방지하게 되는 효과가 있다. As described above, after cleaning the substrate according to the present invention, in the substrate drying process through the air knife for removing residual moisture on the substrate, the rubbing axis of the alignment film formed on the substrate with the compressed air injected from the air knife By spraying in parallel, there is an effect of preventing the problem that the rubbing axis is fluctuated by the force of the compressed air injected from the air knife and the water concentration caused by the force of the compressed air.

또한, 러빙축의 변동으로 인해 콘트라스트가 저하되는 문제점 역시 미연에 방지하게 되는 효과가 있다. In addition, the problem that the contrast is lowered due to the fluctuation of the rubbing shaft also has an effect of preventing the problem.

Claims (9)

표면이 러빙(rubbing) 처리된 배향막이 형성된 기판과;A substrate on which an alignment film on which a surface is rubbed is formed; 상기 배향막이 형성된 일면을 위로 하여 놓여진 기판을 이송하는 운송수단과;Transport means for transporting a substrate placed with one surface on which the alignment layer is formed; 상기 기판을 사이에 두고 서로 마주보도록 대향하며, 상기 배향막의 러빙축과 평행하도록 압축공기를 분사하는 한 쌍의 에어나이프A pair of air knives that face each other with the substrate therebetween and spray compressed air parallel to the rubbing axis of the alignment layer; 를 포함하는 기판건조장치.Substrate drying apparatus comprising a. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 운송수단은 상기 기판의 상, 하부면을 노출하며, 일방향으로 회전하는 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판건조장치. The transport means is a substrate drying apparatus, characterized in that it comprises a roller that rotates in one direction, exposing the upper and lower surfaces of the substrate. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 한 쌍의 에어나이프는 노즐을 포함하는 바(bar)형상인 것을 특징으로 하는 기판건조장치. The pair of air knife is a substrate drying apparatus, characterized in that the bar (bar) shape including a nozzle. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 한 쌍의 에어나이프는 각각 상기 기판과 소정각도 경사를 이루도록 배열되는 것을 특징으로 하는 기판건조장치. And the pair of air knives are arranged to form a predetermined angle with the substrate, respectively. 제 4 항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 노즐을 통해 순도 높은 공기 또는 질소(N2) 등을 포함하는 압축공기를 분사하는 것을 특징으로 하는 기판건조장치. Substrate drying apparatus, characterized in that for injecting compressed air containing high purity air or nitrogen (N 2 ) through the nozzle. 제 5 항에 있어서, The method of claim 5, wherein 상기 한 쌍의 에어나이프는 상기 기판의 이동방향과 반대방향을 향해 압축공기를 분사하는 것을 특징으로 하는 기판건조장치. And the pair of air knives spray compressed air in a direction opposite to the moving direction of the substrate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 운송수단의 로더부에 기판을 회전시킬 수 있는 회전스테이지를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 기판건조장치. And a rotating stage capable of rotating the substrate in the loader portion of the vehicle. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 운송수단에 외부의 로봇을 통해 상기 기판을 안착시키는 것을 특징으로 하는 기판 건조장치. Substrate drying apparatus, characterized in that for mounting the substrate to the vehicle via an external robot. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 외부의 로봇은 상기 기판을 회전시켜 상기 운송수단 상에 안착시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 기판건조장치. The external robot is a substrate drying apparatus, characterized in that to rotate on the substrate to be mounted on the vehicle.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20130051148A (en) * 2011-11-09 2013-05-20 엘지디스플레이 주식회사 Rubbing system and substrate transporting robot therefor

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