KR20080046763A - Device for jetting of thin film liquid - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막액 토출 장치를 간단하게 나타낸 평면도이다.1 is a plan view briefly showing a thin film liquid discharge apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 2는 도 1에 도시된 박막액 토출 장치를 구체적으로 나타낸 측면도이다.FIG. 2 is a side view illustrating the thin film liquid discharging device of FIG. 1 in detail.
도 3은 도 2에 도시된 헤드유닛과 헤드보정장치를 구체적으로 나타낸 측면도이다.FIG. 3 is a side view illustrating the head unit and the head compensation device shown in FIG. 2 in detail.
도 4는 도 3에 도시된 토출 헤드의 하면을 바라본 평면도이다.4 is a plan view of the lower surface of the discharge head illustrated in FIG. 3.
도 5는 도 1에 도시된 박막액 토출 장치의 다른 측면을 간단하게 나타낸 측면도이다.FIG. 5 is a side view briefly showing another side of the thin film liquid discharging device shown in FIG. 1.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
10 : 박막액 20 : 기판10: thin film liquid 20: substrate
100 : 박막액 토출 장치 200 : 저장탱크100: thin film liquid discharge device 200: storage tank
300 : 공급탱크 400 : 헤드유닛300: supply tank 400: head unit
410 : 토출 헤드 500 : 헤드보정장치410: discharge head 500: head correction device
510 : 보정 헤드 520 : 밀폐 챔버510
530 : 제1 보정헤드라인 540 : 토출량 측정부530: first correction headline 540: discharge amount measuring unit
550 : 토출량 보정부 560 : 제2 보정헤드라인550: discharge amount correction unit 560: second correction headline
700 : 배수탱크 800 : 노즐검사장치700: drain tank 800: nozzle inspection device
본 발명은 박막액 토출 장치에 관한 것으로써, 더욱 상세하게는 토출 헤드의 토출량을 보정할 수 있는 헤드보정장치가 포함된 박막액 토출 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a thin film liquid discharge device, and more particularly, to a thin film liquid discharge device including a head correction device capable of correcting the discharge amount of the discharge head.
일반적으로, 액정표시장치(Liquid Crystal Display; LCD)는 영상을 표시하기 위하여 어레이 기판, 컬러필터 기판 및 어레이 기판과 컬러필터 기판 사이에 개재되어 액정 분자들을 갖는 액정층으로 이루어진 액정표시패널을 포함한다. In general, a liquid crystal display (LCD) includes a liquid crystal display panel including an array substrate, a color filter substrate, and a liquid crystal layer having liquid crystal molecules interposed between the array substrate and the color filter substrate to display an image. .
액정표시패널은 액정 분자들의 배향 방향에 따라 외부로부터 공급되는 광의 투과율을 변경시켜 사용자가 원하는 계조의 영상을 표시되도록 한다. 여기서, 액정 분자들은 인가되는 전계에 따라 배향 방향이 변화한다. 이때, 액정표시패널의 어레이 기판과 컬러필터 기판의 내면에는 각각 액정 분자들의 배향 방향을 일정하게 변화되도록 하기 위하여 배향막이 형성된다.The liquid crystal display panel changes the transmittance of light supplied from the outside according to the alignment direction of the liquid crystal molecules so that an image of a gray scale desired by the user is displayed. Here, the alignment direction of the liquid crystal molecules changes according to the applied electric field. In this case, an alignment layer is formed on the inner surface of the array substrate and the color filter substrate of the liquid crystal display panel so as to change the alignment direction of the liquid crystal molecules.
최근 들어, 배향막은 이전의 롤러 코팅 방식에서 잉크젯 프린터를 응용한 토출 방식에 따라 형성되는 추세에 있다. 이는, 토출 방식이 롤러 코팅 방식에 비해, 품목 교체 시간이 단축되고, 어레이 기판 또는 컬러필터 기판의 사이즈가 대형화됨에 따라서도 그 대응성이 우수하다는 장점이 있기 때문이다. In recent years, the alignment film has a tendency to be formed according to the ejection method applying the inkjet printer in the previous roller coating method. This is because the discharging method has advantages in that the item replacement time is shorter than the roller coating method, and the correspondence is excellent as the size of the array substrate or the color filter substrate is increased.
토출 방식에 따른 박막액 토출 장치는 배향막을 형성하는 배향액이 채워진 공급탱크 및 공급탱크와 연결되며 다수의 노즐들을 갖는 토출 헤드들 핵심으로 하 여 구성된다. 여기서, 토출 헤드는 배향막을 일정한 두께로 형성시키기 위하여 노즐을 통해 균일한 토출량이 토출될 필요성이 있다. The thin film liquid ejecting apparatus according to the ejection method is connected to a supply tank filled with an alignment liquid forming an alignment film and a supply tank, and is configured as a core of ejection heads having a plurality of nozzles. Here, it is necessary for the discharge head to discharge a uniform discharge amount through the nozzle in order to form the alignment film in a constant thickness.
그러나, 토출 헤드는 장기 사용 또는 공급 업체에서의 운반 및 관리 소흘 등의 이유로 토출량이 불균일해지는 문제점이 있다.However, the discharge head has a problem in that the discharge amount is uneven due to long term use or transportation and maintenance in a supplier.
따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안한 것으로써, 본 발명은 토출 헤드의 토출량을 보정할 수 있는 헤드보정장치를 갖는 박막액 토출 장치를 제공한다.Accordingly, the present invention has been made in view of such a problem, and the present invention provides a thin film liquid ejecting apparatus having a head correction apparatus capable of correcting the ejection amount of the ejecting head.
상술한 본 발명의 일 특징에 따른 박막액 토출 장치는 공급탱크, 헤드유닛 및 헤드보정장치를 포함한다. 상기 공급탱크에는 박막액이 채워진다. 상기 헤드유닛은 상기 공급탱크와 공급 라인을 통해 연결되며, 복수의 노즐들을 통해 기판에 상기 박막액을 토출하여 박막을 형성시키는 복수의 토출 헤드들을 갖는다. 상기 헤드보정장치는 상기 헤드유닛의 길이 방향에 따른 측부에서 상기 공급 라인과 연결되며, 상기 박막액의 토출량을 보정하여 상기 토출 헤드와 교체되는 보정 헤드를 갖는다.The thin film liquid discharging device according to an aspect of the present invention described above includes a supply tank, a head unit, and a head correction device. The supply tank is filled with a thin film liquid. The head unit is connected through the supply tank and the supply line, and has a plurality of discharge heads for forming a thin film by discharging the thin film liquid to the substrate through a plurality of nozzles. The head correction apparatus has a correction head connected to the supply line at the side along the longitudinal direction of the head unit, and is replaced with the discharge head by correcting the discharge amount of the thin film liquid.
상기 헤드보정장치는 밀폐 챔버, 상기 공급 라인으로부터 분기되어 상기 보정 헤드와 결합 및 분리되는 보정헤드라인, 상기 밀폐 챔버에 배치되어 상기 박막액의 토출량을 측정하는 토출량 측정부 및 상기 토출량 측정부 및 상기 보정 헤드와 연결되며, 상기 토출량을 분석하여 상기 보정 헤드를 보정하는 토출량 보정부를 더 포함한다.The head correction apparatus includes a closed chamber, a correction headline branched from the supply line and coupled to and separated from the correction head, a discharge amount measuring unit arranged in the closed chamber to measure the discharge amount of the thin film liquid, and the discharge amount measuring unit and the It is connected to the correction head, and further comprises a discharge amount correction unit for correcting the correction head by analyzing the discharge amount.
상기 보정헤드라인은 상기 박막액을 개폐하는 보정 밸브 및 상기 보정 헤드를 결합 및 분리시키는 제1 보정헤드소켓을 포함한다. 이에, 상기 보정 헤드는 상기 제1 보정헤드소켓과 결합 및 분리되는 제2 보정헤드소켓을 포함한다.The correction headline includes a correction valve for opening and closing the thin film liquid, and a first correction head socket for coupling and separating the correction head. Thus, the correction head includes a second correction head socket coupled to and separated from the first correction head socket.
한편, 상기 헤드유닛은 상기 공급 라인으로부터 분기되어 상기 토출 헤드와 결합 및 분리되는 토출헤드라인을 더 포함한다.On the other hand, the head unit further comprises a discharge head line branched from the supply line and coupled to and separated from the discharge head.
상기 토출량 측정부는 상기 토출된 박막액을 수납하는 수납 용기 및 상기 박막액이 수납된 수납 용기의 질량을 측정하는 전자 저울을 포함한다. 여기서, 상기 토출량 측정부는 각 노즐당 350,000 내지 450,000 방울씩 측정할 수 있다.The discharge amount measuring unit includes a storage container accommodating the discharged thin film liquid and an electronic scale measuring a mass of the storage container in which the thin film liquid is accommodated. Here, the discharge amount measuring unit may measure 350,000 to 450,000 drops per nozzle.
또한, 상기 밀폐 챔버는 상기 보정 헤드가 로딩 및 언로딩되도록 도어부를 포함한다.The hermetic chamber also includes a door portion for loading and unloading the calibration head.
한편, 상기 박막액 토출 장치는 상기 토출 헤드의 노즐들에서 토출되는 상태를 검사하는 노즐검사장치를 더 포함한다.On the other hand, the thin film liquid discharge device further comprises a nozzle inspection device for inspecting the state discharged from the nozzles of the discharge head.
상기 노즐검사장치는 상기 헤드유닛의 길이 방향에 수직하게 배치되어 상기 노즐들에서 상기 박막액이 토출되는 상태를 촬영하는 촬영부 및 상기 촬영부와 연결되어 상기 노즐들의 토출 불량을 검출하는 검출부를 포함한다.The nozzle inspection apparatus includes a photographing unit which is disposed perpendicular to the longitudinal direction of the head unit to photograph a state in which the thin film liquid is ejected from the nozzles, and a detection unit which is connected to the photographing unit to detect a poor ejection of the nozzles. do.
또한, 상기 박막액 토출 장치는 상기 공급 라인으로부터 연장된 배수 라인과 연결되어 상기 박막액을 배수하는 배수탱크를 더 포함한다.The thin film liquid discharging device may further include a drain tank connected to the drain line extending from the supply line to drain the thin film liquid.
이러한 박막액 토출 장치에 따르면, 보정 헤드의 토출량을 자동으로 보정할 수 있는 헤드보정장치가 헤드유닛의 측부에 배치되어 토출 불량인 토출 헤드를 교체함으로써, 토출 헤드를 보정할 수 있다.According to such a thin film liquid ejecting apparatus, a head correcting apparatus capable of automatically correcting the ejection amount of the correcting head is disposed on the side of the head unit, so that the ejecting head can be corrected by replacing the ejecting head having ejection failure.
이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세하게 설명하고자 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막액 토출 장치를 간단하게 나타낸 평면도이며, 도 2는 도 1에 도시된 박막액 토출 장치를 구체적으로 나타낸 측면도이다.1 is a plan view briefly showing a thin film liquid discharging device according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a side view showing the thin film liquid discharging device shown in FIG.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 박막액 토출 장치(100)는 저장탱크(200), 공급탱크(300), 헤드유닛(400) 및 헤드보정장치(500)를 포함한다.1 and 2, the thin film
저장탱크(200)는 경우에 따라 다르지만, 일반적으로, 약 3.5ℓ의 용량을 갖는다. 저장탱크(200)에는 박막액(10)이 채워진다. 박막액(10)은 일 예로, 폴리 이미드 용액(polyimide solution)을 포함할 수 있다. 폴리 이미드 용액은 액정을 이용하여 영상을 표시하는 액정표시장치에서 액정의 방향을 가이드하는 배향막을 형성하기 위한 배향액으로써, 사용된다. 여기서, 배향막은 액정을 감싸는 어레이 기판과 컬러필터 기판의 내면에 형성된다.
공급탱크(300)에는 저장탱크(200)로부터 박막액(10)을 공급받아 채워진다. 공급탱크(300)의 용량은 저장탱크(200)와 동일하거나, 작을 수 있다. 이와 같은 저장탱크(200)와 공급탱크(300)는 둘다 박막액(10)으로 채워져 있다는 공통점을 갖는다. 이와 반대로, 저장탱크(200)는 단순히 외부로부터 박막액(10)을 공급받아 그 수위에 상관없이 채우는데 반해, 공급탱크(300)는 헤드유닛(400)에 일정하게 박 막액(10)을 공급하기 위하여 일정한 수위를 항상 유지할 필요성이 있다는 차이점을 갖는다. The
즉, 공급탱크(300)는 헤드유닛(400)보다 수위가 높도록 하여 수위차에 의해 자동적으로, 헤드유닛(400)에 박막액(10)이 공급되도록 한다. 이에 따라, 공급탱크(300)에는 수위레벨센서가 장착되어 수위가 일정 수준 이하로 떨어질 경우, 자동적으로 저장탱크(200)로부터 박막액(10)을 공급받을 수 있다.That is, the
헤드유닛(400)은 공급탱크(300)와 공급 라인(310)을 통해 연결되며, 실질적으로 기판(20)에 박막을 형성시키는 역할을 한다. 이에, 헤드유닛(400)은 박막액(10)을 기판(20)에 토출시키는 복수의 토출 헤드(410)들을 갖는다. 토출 헤드(410)들의 하면에는 다수의 노즐들이 형성되며, 이에 대해서는 도 4를 참조하여 설명하기로 한다. 여기서, 박막액 토출 장치(100)는 기판(20)을 배치시키는 스테이지(600)를 더 포함한다.The
토출 헤드(410)들은 서로 밀착 배치되어 기판(20)에 균일하게 박막액(10)이 토출되도록 한다. 이러한 기능을 보다 확실하게 이행하기 위해 토출 헤드(410)들은 동일선을 기준으로 서로 소정의 길이만큼 오버랩되어 엇갈리도록 배치될 수 있다. 이는, 박막액(10)이 배향액으로 사용될 경우, 노즐간의 피치는 약 742㎛ 정도로 유지하여야 균일한 배향막을 형성시킬 수 있기 때문이다. 이때, 노즐의 지름은 약 120㎛일 수 있다.The
토출 헤드(410)들의 개수는 기판(20)의 폭에 따라, 다양하게 형성될 수 있다. 이는, 다시 말하여 기판(20)의 사이즈에 따라 단순하게 토출 헤드(410)들의 개수만 증가시킴으로써, 박막을 형성시킬 수 있다는 의미이다. 즉, 본 발명의 박막액 토출 장치(100)는 기본적으로, 기판(20)의 사이즈에 대해서는 탄력적으로 대응할 수 있다.The number of discharge heads 410 may be variously formed according to the width of the
토출 방식은 공급라인으로만 박막액(10)을 공급받아 토출하는 것이 일반적이지만, 본 실시예에서와 같이 토출 작용을 보다 원활하게 하기 위하여 박막액(10)을 공급라인과 연결된 배수라인을 통하여 배수탱크(700)로 흘려 보낼 수 있다. In the discharging method, the
이는, 박막액(10)이 배향액으로 사용될 경우, 폴리 이미드 용액은 순환되지 않으면 일부 경화될 우려가 있기 때문이다. 결과적으로, 토출 헤드(410)는 공급라인으로부터 박막액(10)을 공급받아 일부는 토출시키고 일부는 다시 배수라인으로 인가시켜 배수탱크(700)로 흘려 보낼 수 있다. 이때, 배수탱크(700)에 모아진 박막액(10)은 별도의 정제 과정을 거쳐 다시 사용하거나, 폐기할 수 있다.This is because when the
헤드보정장치(500)는 헤드유닛(400)의 길이 방향에 따른 측부에 배치된다. 여기서, 헤드보정장치(500)는 헤드유닛(400)의 양측부에 모두 배치될 수 있고, 어느 하나의 측부에만 배치될 수도 있다. 헤드보정장치(500)는 헤드유닛(400)과 같이 공급 라인(310)에 연결된다. 구체적으로, 헤드보정장치(500)는 공급 라인(310) 상에서 헤드유닛(400)과 직렬로 연결된다.The
헤드보정장치(500)는 토출 헤드(410)와 동일한 형상을 갖는 보정 헤드(510)를 포함한다. 보정 헤드(510)는 헤드보정장치(500)에서 보정되어 토출량이 불균일하게 토출되는 토출 헤드(410)와 교체된다. 이렇게 교체된 토출 헤드(410)는 다시 보정 헤드(510)로써 간주되어 헤드보정장치(500)에서 보정되거나, 불량 상태가 심 각할 경우에는 폐기될 수 있다. 또한, 보정 헤드(510)는 신규로 장착하기 전인 토출 헤드(410)일 수도 있다.The
이때, 토출 헤드(410)의 불균일 수준은 토출되는 토출량이 기설정된 기준값과 비교하여 그 오차가 약 3% 이내로 한다. 여기서, 약 3% 이내의 수준은 박막을 형성한 후, 진행될 수 있는 인쇄 공정에서 인쇄 패턴을 안정하게 형성시킬 수 있는 최소한의 수준이다. 또한, 이 오차는 검사자가 박막 표면을 육안으로도 확인하여 판단할 수 있는 범위이다. At this time, the non-uniform level of the
이와 같이, 박막액 토출 장치(100)가 실질적으로, 기판(20)에 박막액(10)을 토출하여 박막을 형성시키는 헤드유닛(400)의 측부에 헤드보정장치(500)를 가짐으로써, 헤드유닛(400)의 토출량을 보정할 수 있다. 뿐만 아니라, 헤드보정장치(500)가 박막액 토출 장치(100)에 포함됨으로써, 헤드보정장치(500)의 설치 공간 및 설치 비용을 최소화할 수 있다.As described above, the thin film
또한, 헤드보정장치(500)에서 실질적으로, 보정되는 보정 헤드(510)는 토출 헤드(410)와 동일한 공급 라인(310)과 연결됨으로써, 토출량 보정에 대한 신뢰성을 확보할 수 있다. In addition, since the
도 3은 도 2에 도시된 헤드유닛과 헤드보정장치를 구체적으로 나타낸 측면도이다.FIG. 3 is a side view illustrating the head unit and the head compensation device shown in FIG. 2 in detail.
도 2 및 도 3을 참조하면, 헤드보정장치(500)는 밀폐 챔버(520), 제1 보정헤드라인(530), 토출량 측정부(540) 및 토출량 보정부(550)를 포함한다.2 and 3, the
밀폐 챔버(520)는 헤드보정장치(500)의 외곽에 형성되어 헤드보정장치(500) 를 외부와 차단시키는 역할을 한다. 즉, 밀폐 챔버(520)는 헤드보정장치(500)에서 보정 헤드(510)가 보정될 때, 외부의 기류에 영향을 받지 않도록 한다. 밀폐 챔버(520)는 본 실시예에서와 같이, 공급 라인(310)을 포함하여 밀폐시킬 수도 있고, 공급 라인(310)을 제외하여 밀폐시킬 수도 있다.The
제1 보정헤드라인(530)은 공급 라인(310)으로부터 병렬로 분기되어 보정 헤드(510)와 결합 및 분리된다. 이러기 위하여, 제1 보정헤드라인(530)은 박막액(10)을 개폐하는 제1 보정 밸브(532), 및 보정 헤드(510)를 결합 및 분리시키는 제1 보정헤드소켓(534)을 포함한다. 이에, 보정 헤드(510)도 제1 보정헤드소켓(534)과 결합 및 분리되는 제2 보정헤드소켓(512)을 포함한다.The
제1 및 제2 보정헤드소켓(534, 512)은 서로 반대의 암수 형상을 가지면서 결합 및 분리될 수 있다. 이와 달리, 제1 및 제2 보정헤드소켓(534, 512)은 후크 결합 방식에 따라 결합될 수 있다. 이때, 제1 및 제2 보정헤드소켓(534, 512) 사이에는 박막액(10)을 긴밀하게 유지시키기 위하여 실링부가 형성될 수 있다.The first and second
여기서, 헤드보정장치(500)는 박막액(10)을 순환시키기 위하여 저장탱크(200)와 연결된 배수 라인(710)으로부터 병렬로 연결된 제2 보정헤드라인(560)은 더 포함할 수 있다. 이때에도, 제2 보정헤드라인(560)은 제1 보정헤드라인(530)과 동일한 역할을 하는 제2 보정 밸브(562) 및 제3 보정헤드소켓(564)을 포함할 수 있다. 이에, 보정 헤드(510)도 제2 보정헤드소켓(512)과 동일한 제4 보정헤드소켓(514)을 포함할 수 있다.Here, the
한편, 헤드유닛(400)은 공급 라인(310)으로부터 병렬로 분기되어 토출 헤 드(410)와 결합 및 분리되는 제1 토출헤드라인(420)을 더 포함한다. 이러기 위하여, 제1 토출헤드라인(420)은 박막액(10)을 개폐하는 제1 토출 밸브(422), 및 토출 헤드(410)를 결합 및 분리시키는 제1 토출헤드소켓(424)을 포함한다. 이에, 토출 헤드(410)도 제1 토출헤드소켓(424)과 결합 및 분리되는 제2 토출헤드소켓(412)을 포함한다.Meanwhile, the
마찬가지로, 헤드유닛(400)은 배수 라인(710)으로부터 병렬로 연결된 제2 토출헤드라인(430)은 더 포함할 수 있다. 이때에도, 제2 토출헤드라인(430)은 제1 토출헤드라인(420)과 동일한 역할을 하는 제2 토출 밸브(432) 및 제3 토출헤드소켓(434)을 포함할 수 있다. 이에, 보정 헤드(510)도 제2 토출헤드소켓(412)과 동일한 제4 토출헤드소켓(414)을 포함할 수 있다.Similarly, the
한편, 밀폐 챔버(520)는 제1 및 제2 보정헤드라인(530, 560)으로부터 결합 및 분리되는 보정 헤드(510)가 로딩 및 언로딩되도록 도어부(522)를 포함한다. 도어부(522)는 일측에 힌지가 형성되어 외부 방향으로 개폐되거나, 밀폐 챔버(520)에 추가적으로, 가이드홈이 형성되어 슬라이딩 방식에 따라 개폐될 수 있다. On the other hand, the
이와 같이, 헤드유닛(400) 및 헤드보정장치(500)에서 토출 헤드(410) 및 보정 헤드(510)가 결합 및 분리되는 구조를 가짐으로써, 양산 중인 박막액 토출 장치(100)를 장시간 멈출 필요 없이 간단하게 보정된 보정 헤드(510)를 토출 불량의 토출 헤드(410)와 교체할 수 있다. 결과적으로, 토출 헤드(410)의 토출 불량에 따른 보정 시간을 단축시켜, 기판(20)의 박막 형성 품질을 향상시키면서 생산 로스(loss)를 최소화할 수 있다.As such, the
토출량 측정부(540)는 밀폐 챔버(520)에 배치된다. 토출량 측정부(540)는 보정 헤드(510)에서 토출된 박막액(10)을 수납하는 수납 용기(542) 및 박막액(10)이 수납된 수납 용기(542)의 질량을 측정하여 결과적으로, 토출량을 측정하는 전자 저울(544)을 포함한다. 여기서, 수납 용기(542)는 보정 헤드(510)의 노즐들이 형성된 하면보다 소정의 차이로 크게 형성되는 것이 바람직하다. 이는, 수납 용기(542)에 토출된 박막액(10)이 누설되는 것을 방지하기 위해서이다. The discharge
토출량 측정부(540)는 보정 헤드(510)의 각 노즐당 약 350,000 방울 내지 약 450,000 방울을 측정하며, 바람직하게는 약 400,000 방울이다. 여기서, 약 400,000 방울을 부피로 산출하면 약 125 pℓ 정도일 수 있다. 이를 구체적으로 설명하면, 토출량 측정부(540)는 각 노즐 당 약 10㎑, 10초씩 4회에 걸쳐 토출량을 측정한다.The discharge
토출량 보정부(550)는 밀폐 챔버(520)의 외부에서 토출량 측정부(540) 및 보정 헤드(510)와 연결된다. 토출량 보정부(550)는 토출량을 분석하여 보정 헤드(510)를 보정한다. 구체적으로, 토출량 보정부(550)는 전자 저울(544)에서 측정된 질량을 기설정된 기준값과 비교하여 이를 토대로 다시 보정 헤드(510)를 보정한다. 이때, 상기에서 언급하였듯이 , 토출량의 오차 범위는 약 3% 이내로 한다.The
토출량 보정부(550)는 토출 방식이 통상적으로, 압전 소자를 이용하기 때문에, 상기 압전 소자에 인가되는 압전 전압을 조절함으로써, 보정 헤드(510)의 토출량을 보정할 수 있다. 여기서, 압전 전압에 따른 토출량은 비례적인 특징으로 갖는다. Since the
즉, 압전 전압을 임의로 두 개만 인가하여 토출량을 측정하면, 압전 전압에 따른 토출량 그래프를 도시할 수 있다. 이러한 그래프를 이용하여, 작업자는 보정하는 작업 외에 원하는 토출량이 보정 헤드(510)에서 토출되도록 할 수도 있다. 이와 달리, 토출량 보정부(550)는 정밀 제어가 가능한 전자 밸브를 이용하여 토출량을 보정할 수도 있다. That is, when only two piezoelectric voltages are applied and the discharge amount is measured, the discharge amount graph according to the piezoelectric voltage can be shown. By using such a graph, the operator may allow a desired discharge amount to be discharged from the
도 4는 도 3에 도시된 토출 헤드의 하면을 바라본 평면도이며, 도 5는 도 1에 도시된 박막액 토출 장치의 다른 측면을 간단하게 나타낸 측면도이다.FIG. 4 is a plan view of the lower surface of the discharge head shown in FIG. 3, and FIG. 5 is a side view schematically showing another side of the thin film liquid discharge device illustrated in FIG. 1.
도 3, 도 4 및 도 5를 참조하면, 박막액 토출 장치(100)는 토출 헤드(410)의 노즐들(NZ1~NZ2n)에서 토출되는 상태를 검사하는 노즐검사장치(800)를 더 포함한다.3, 4, and 5, the thin film
노즐들(NZ1~NZ2n)은 일반적으로 두 개의 제1 및 제2 열(N100, N200)로 이루어진다. 제1 열(N100)에서 노즐들(NZ1~NZn)은 좌에서 우로 진행하면서 인식되며, 제2 열(N200)에서 노즐들(NZn+1~NZ2n)은 우에서 좌로 진행하면서 인식된다. 이는, 토출량 측정부(540)에서 토출량을 측정하는 노즐 순서에 따른 것이다. 통상적으로, 노즐들(NZ1~NZ2n)은 전체적으로 각 토출 헤드(410) 당 약 64개 정도일 수 있다.The nozzles NZ1 to NZ2n generally consist of two first and second rows N100 and N200. In the first row N100, the nozzles NZ1 to NZn are recognized as going from left to right, and in the second row N200, the nozzles NZn + 1 to NZ2n are recognized as going from right to left. This is in accordance with the nozzle order for measuring the discharge amount in the discharge
노즐검사장치(800)는 촬영부(810) 및 검출부(820)를 포함한다. 촬영부(810)는 헤드유닛(400)의 길이 방향에 수직하게 배치된다. 촬영부(810)는 노즐들(NZ1~NZ2n)에서 박막액(10)이 토출되는 상태를 촬영한다. 이때, 촬영부(810)에는 별도의 조명이 배치되어 촬영하고자 하는 위치에 광을 공급한다. 이와 달리, 노즐검사장치(800)는 별도의 조명부를 포함할 수도 있다. 촬영부(810)는 일 예로, 고해상도의 CCD 카메라를 포함할 수 있다. The
검출부(820)는 촬영부(810)와 연결된다. 검출부(820)는 노즐들(NZ1~NZ2n)의 토출 불량을 검출한다. 이에, 제1 및 제2 열(N100, N200)에 대응되는 노즐들(NZ1~NZ2n)은 서로 엇갈린 구조를 가질 필요성이 있다. 이는, 촬영부(810)에서 촬영한 이미지가 평면 영상이기 때문이다.The
따라서, 본 발명의 박막액 토출 장치(100)는 노즐검사장치(800)도 포함함으로써, 각각의 노즐들(NZ1~NZ2n)의 토출 불량을 검출할 수도 있다.Therefore, the thin film
한편, 기판(20)이 배치되는 스테이지(600)는 별도의 이동 장치(900)와 연결되어 노즐들(NZ1~NZ2n)의 길이 방향에 수직한 방향을 따라 이동될 수 있다.Meanwhile, the
이와 같은 박막액 토출 장치에 따르면, 박막액 토출 장치가 실질적으로, 기판에 박막액을 토출하여 박막을 형성시키는 헤드유닛의 측부에 헤드보정장치를 가짐으로써, 헤드유닛의 토출량을 보정할 수 있다. 뿐만 아니라, 헤드보정장치가 박막액 토출 장치에 포함됨으로써, 헤드보정장치의 설치 공간 및 설치 비용을 최소화할 수 있다.According to such a thin film liquid discharge device, the discharge amount of the head unit can be corrected by the thin film liquid discharge device having the head correction device on the side of the head unit which discharges the thin film liquid to the substrate to form the thin film. In addition, since the head compensator is included in the thin film liquid discharging device, the installation space and the installation cost of the head compensator can be minimized.
또한, 헤드보정장치에서 실질적으로, 보정되는 보정 헤드는 토출 헤드와 동일한 공급 라인과 연결됨으로써, 토출량에 대한 신뢰성도 확보할 수 있다. Further, in the head correction apparatus, the correction head to be substantially corrected is connected to the same supply line as the discharge head, thereby ensuring the reliability of the discharge amount.
앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통 상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. Although the above description of the present invention has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art or those skilled in the art will have the idea of the present invention described in the claims to be described below. It will be understood that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the scope of the present invention.
Claims (11)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060116144A KR20080046763A (en) | 2006-11-23 | 2006-11-23 | Device for jetting of thin film liquid |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020060116144A KR20080046763A (en) | 2006-11-23 | 2006-11-23 | Device for jetting of thin film liquid |
Publications (1)
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Family
ID=39663497
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KR1020060116144A KR20080046763A (en) | 2006-11-23 | 2006-11-23 | Device for jetting of thin film liquid |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101251872B1 (en) * | 2012-12-06 | 2013-04-10 | 주식회사 한국카본 | Nozzle modules |
KR101369700B1 (en) * | 2011-08-05 | 2014-03-04 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | Thin-film pattern forming apparatus, thin-film pattern forming method, and adjusting method of the apparatus |
-
2006
- 2006-11-23 KR KR1020060116144A patent/KR20080046763A/en not_active Application Discontinuation
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