KR20080042411A - Recipe management method and recipe management system - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 레시피 운영 시스템을 나타내는 구성도이다.1 is a block diagram showing a recipe operating system according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 레시피 운영 방법을 나타내는 흐름도이다.2 is a flowchart illustrating a recipe operating method according to an embodiment of the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
100 : 레시피 생성부 110 : 패턴 저장부100: recipe generation unit 110: pattern storage unit
111 : 공통맵 결정부 112 : 얼라인 결정부111: common map determiner 112: alignment determiner
113 : 측정부위 결정부 120 : 레시피 선정부113: Determination of measurement site 120: Selection of recipe
121 : 적층막 결정부 121 : 파라미터 결정부121: laminated film determining unit 121: parameter determining unit
200, 210, 220 : 레시피 제공부200, 210, 220: Recipe provider
300, 301 ,302 : 검사 장치 300, 301, 302: Inspection device
본 발명은 레시피 운영 방법 및 레시피 운영 시스템에 관한 것으로, 보다 상 세하게는 라인별로 배치되는 복수의 검사 장치들에 일괄적으로 레시피를 제공할 수 있는 레시피 운영 방법 및 레시피 운영 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a recipe operating method and a recipe operating system, and more particularly, to a recipe operating method and a recipe operating system that can provide recipes collectively to a plurality of inspection devices arranged for each line.
일반적으로 반도체 장치는 반도체 웨이퍼으로 사용되는 실리콘웨이퍼 상에 전기 소자들을 포함하는 전기적인 회로를 형성하는 팹(Fab) 공정과, 상기 팹 공정에서 형성된 반도체 장치들의 전기적인 특성을 검사하기 위한 EDS(electrical die sorting) 공정과, 상기 반도체 장치들을 각각 에폭시 수지로 봉지하고 개별화시키기 위한 패키지 조립 공정을 통해 제조된다.In general, a semiconductor device includes a Fab process for forming an electrical circuit including electrical elements on a silicon wafer used as a semiconductor wafer, and an EDS (electrical) for inspecting electrical characteristics of the semiconductor devices formed in the fab process. die sorting) and a package assembly process for encapsulating and individualizing the semiconductor devices with an epoxy resin.
상기 팹 공정은 웨이퍼 상에 막을 형성하기 위한 증착 공정과, 상기 막을 평탄화하기 위한 화학적 기계적 연마 공정과, 상기 막 상에 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 포토리소그래피 공정과, 상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 막을 전기적인 특성을 갖는 패턴으로 형성하기 위한 식각 공정과, 웨이퍼의 소정 영역에 특정 이온을 주입하기 위한 이온 주입 공정과, 웨이퍼 상의 불순물을 제거하기 위한 세정 공정등을 포함한다.The fab process includes a deposition process for forming a film on a wafer, a chemical mechanical polishing process for planarizing the film, a photolithography process for forming a photoresist pattern on the film, and the photoresist pattern using the photoresist pattern. An etching process for forming the film into a pattern having electrical characteristics, an ion implantation process for implanting specific ions into a predetermined region of the wafer, a cleaning process for removing impurities on the wafer, and the like.
각각의 공정에는 상기 막 또는 패턴이 형성된 웨이퍼의 표면을 검사하여 공정의 수준을 평가하기 위한 검사 공정이 수행되고, 상기 검사 공정은 반도체 전 공정의 60% 이상을 차지하는 중요한 공정이다. In each process, an inspection process for evaluating the level of the process by inspecting the surface of the wafer on which the film or pattern is formed is performed, and the inspection process is an important process that accounts for 60% or more of the entire semiconductor process.
일반적으로 동일 공정에 4 내지 5대 이상의 계측 설비들이 설치된다. 그러나, 최근 생산 라인의 구분없이 동일한 제품을 생산하는 반도체 공정에 따르면, 동일 공정에 14 내지 15대 이상의 계측 설비들이 설치된다. 이 경우에 있어서, 동일 공정의 기준 레시피(recipe)를 설정하고, 각 계측 설비들에 상기 기준 레시피를 기 준으로 다시 레시피를 설정하는 반복 작업을 진행하여야 한다.Typically four to five or more metrology facilities are installed in the same process. However, according to the semiconductor process which produces the same product without the division of a recent production line, 14-15 or more measuring facilities are installed in the same process. In this case, it is necessary to set a reference recipe of the same process, and to perform the repetitive work of setting a recipe again on the basis of the reference recipe in each measurement facility.
이에 따라, 각 계측 설비들에 각각 레시피를 설정하기 위하여 런을 홀드하기 때문에 그에 따른 상당한 정체시간이 발생하게 된다. 따라서, 반도체 장치의 생산 지연을 발생시키게 되는 문제점이 있다. This results in significant stall time due to holding the run to set recipes for each of the metrology facilities. Therefore, there is a problem that a production delay of the semiconductor device occurs.
본 발명의 목적은 복수의 검사 장치들에 공통적으로 적용되는 일괄 레시피를 제공하는 레시피 운영 방법 및 레시피 운영 시스템을 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to provide a recipe operating method and a recipe operating system for providing a batch recipe commonly applied to a plurality of inspection devices.
상기 본 발명의 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 레시피 운영 방법은 공정 라인별로 배치되는 복수의 검사 장치들에 공통적으로 적용되는 레시피(recipe)를 생성하는 단계 및 상기 레시피를 상기 검사 장치들에 입력하는 단계를 포함한다.In order to achieve the object of the present invention, the recipe operating method according to the present invention comprises the steps of generating a recipe (common) that is commonly applied to a plurality of inspection devices arranged for each process line and inputting the recipe to the inspection devices It includes a step.
본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 레시피를 생성하는 단계는 피검사체의 검사 영역을 결정하는 단계 및 상기 레시피의 검사 항목을 결정하는 단계를 포함할 수 있다. 이 경우에 있어서, 상기 피검사체의 검사 영역을 결정하는 단계는 상기 검사 영역 상에 공통맵(common map)을 형성하는 단계, 상기 피검사체의 얼라인을 결정하는 단계 및 상기 검사 영역 상에 측정 부위를 결정하는 단계를 포함할 수 있다. 또한, 상기 레시피의 검사 항목을 결정하는 단계는 상기 피검사체 상에 적층되는 적층막을 결정하는 단계 및 상기 적층막에 따른 최적 파라미터(parameter)를 결정하는 단계를 포함할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the generating of the recipe may include determining a test region of a subject and determining a test item of the recipe. In this case, the determining of the inspection region of the inspected object may include forming a common map on the inspected region, determining an alignment of the inspected object, and a measurement site on the inspected region. Determining may include. In addition, the determining of the inspection item of the recipe may include determining a laminated film laminated on the inspected object and determining an optimal parameter according to the laminated film.
본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 검사 장치들에 제공된 레시피를 상기 검사 장치에 적합한 파일로 보정하는 단계를 더 포함할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the method may further include correcting a recipe provided to the inspection apparatus into a file suitable for the inspection apparatus.
본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일실시예에 따른 레시피 운영 시스템은 피검사체가 운반되는 공정 라인별로 배치되는 복수의 검사 장치들에 공통적으로 적용되는 레시피(recipe)를 생성하는 레시피 생성부 및 상기 레시피 생성부로부터 생성된 레시피를 상기 공정 라인별로 배치된 상기 검사 장치들 각각으로 제공하는 레시피 제공부를 포함한다.In order to achieve another object of the present invention, a recipe operating system according to an embodiment of the present invention generates a recipe for generating a recipe (recipe) commonly applied to a plurality of inspection devices arranged for each process line for transporting the inspected object And a recipe providing unit for providing a recipe generated from the recipe generating unit to each of the inspection apparatuses arranged for each process line.
본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 레시피 생성부로부터 생성된 레시피를 상기 검사 장치에 적합한 파일로 변환시키는 파일 변환부를 더 포함할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the recipe generation unit may further include a file conversion unit for converting the recipe generated by the file suitable for the inspection apparatus.
이와 같이 구성된 본 발명에 따른 레시피 운영 방법 및 레시피 운영 시스템에 따르면, 하나의 레시피 생성부를 통해 라인 간 구분없이 모든 레시피를 저장하고, 복수의 검사 장치들에 공통적으로 적용되는 일괄 레시피를 설정하여 상기 검사 장치들에 제공할 수 있다. According to the recipe operating method and the recipe operating system according to the present invention configured as described above, all the recipes are stored without distinction between lines through one recipe generating unit, and the batch recipes commonly applied to a plurality of inspection apparatuses are set for the inspection. To devices.
이리하여, 레시피의 일원화를 이룰 수 있으며, 각각의 설비에 일일이 레시피를 설정하는 시간을 줄여 작업 효율화 및 작업 처리량을 향상시킬 수 있다.In this way, the recipe can be unified, and the time for setting recipes in each facility can be reduced, thereby improving work efficiency and throughput.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 레시피 운영 방법 및 레시피 운영 시스템에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. Hereinafter, a recipe operating method and a recipe operating system according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. As the inventive concept allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing the drawings, similar reference numerals are used for similar elements. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown in an enlarged scale than actual for clarity of the invention.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprise" or "have" are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof described in the specification, and one or more other features. It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않 는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art, and, unless expressly defined in this application, are construed in ideal or excessively formal meanings. It doesn't work.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 레시피 운영 시스템을 나타내는 구성도이다.1 is a block diagram showing a recipe operating system according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 레시피 운영 시스템은 레시피 생성부(100) 및 레시피 제공부(200, 210, 220)를 포함한다. Referring to Figure 1, the recipe operating system according to an embodiment of the present invention includes a
상기 레시피 생성부(100)는 웨이퍼와 같은 피검사체가 운반되는 공정 라인별로 배치되는 복수의 검사 장치들(300, 301, ..., 322)에 공통적으로 적용되는 레시피를 생성한다. 상기 레시피 제공부(200, 210, 220)는 상기 레시피 생성부(100)로부터 생성된 레시피를 상기 검사 장치(200)들 각각으로 제공한다.The
상기 레시피 생성부(100)는 패턴 저장부(110) 및 레시피 선정부(120)를 포함한다. 상기 패턴 저장부(110)는 상기 피검사체의 검사 영역을 결정하기 위한 피검사체의 패턴 정보를 저장하고, 상기 레시피 선정부(120)는 상기 레시피 중의 적어도 어느 하나의 레시피를 선정한다.The
구체적으로, 상기 레시피는 검사 공정의 잡 프로파일(job profile)에 따라 작성된 피검사체에 대한 측정코드이다. 레시피는 상기 검사 장치의 작동 제어에 이용되며, 피검사체의 종류, 피검사체의 상태, 피검사체에 수행된 공정의 종류 등에 따라 작성된다. Specifically, the recipe is a measurement code for the inspected object prepared according to the job profile of the inspection process. A recipe is used for the operation control of the said inspection apparatus, and is prepared according to the kind of test subject, the state of a test subject, the kind of process performed on a test subject, and the like.
본 발명에 따르면, 상기 검사 장치들은 동일한 제품을 생산하는 동일 공정 상에 배치되고, 상기 레시피는 상기 검사 장치들에 공통적으로 적용될 수 있다. According to the invention, the inspection devices are arranged on the same process to produce the same product, and the recipe can be commonly applied to the inspection devices.
상기 레시피 생성부(100)에는 피검사체에 따라 검사 항목이 각기 다르게 설 정된 복수개의 레시피들이 저장되고, 상기 검사 장치들에 적합하고 공통적으로 적용되는 레시피를 생성한다.The
본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 패턴 저장부(110)는 상기 검사 영역 상에 공통맵(common map)을 결정하기 위한 공통맵 결정부(111), 상기 피검사체의 얼라인을 결정하기 위한 얼라인 결정부(112) 및 상기 검사 영역 상에 측정 부위를 결정하기 위한 측정부위 결정부(113)를 포함한다.According to one embodiment of the present invention, the
상기 공통맵 결정부(111)는 피검사체의 검사 영역 상에 측정되는 샷(shot)의 위치나 크기 등의 정보를 갖는 공통맵을 결정하고 저장한다. 상기 얼라인 결정부(112)는 피검사체의 위치를 정렬하기 위하여 피검사체의 이동 폭과, X, Y 좌표 및 각각의 실험값을 결정하여 저장한다. 상기 측정부위 결정부(113)는 피검사체의 검사 영역 상에서 측정하고자 하는 위치를 결정하고 저장한다.The common map determiner 111 determines and stores a common map having information such as the position and size of a shot measured on the inspection region of the object under test. The alignment determiner 112 determines and stores the moving width, the X, Y coordinates, and the respective experimental values of the inspected object in order to align the position of the inspected object. The measurement site determiner 113 determines and stores a location to be measured on the inspection area of the object under test.
본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 데이터 저장부(120)는 상기 피검사체 상에 적층되는 적층막을 결정하기 위한 적층막 결정부(121) 및 상기 적층막에 따른 최적 파라미터(parameter)를 결정하기 위한 파라미터 결정부(122)를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the
상기 적층막 결정부(121)는 각 공정에서 적층되는 막의 두께, 종류에 관한 정보를 저장한다. 또한, 상기 검사 장치의 공정 파라미터에 관한 정보를 저장한다. 상기 공정 파라미터들은 상기 검사 장치에 따라 광학 기기의 검출기의 개구율, 조명의 조도, 검출기의 이득값 등을 포함할 수 있다.The laminated film determiner 121 stores information on the thickness and type of the film laminated in each process. It also stores information about process parameters of the inspection apparatus. The process parameters may include the aperture ratio of the detector of the optical instrument, the illumination intensity of the detector, the gain value of the detector, and the like, according to the inspection apparatus.
상기 파라미터 결정부(122)는 상기 적층막 결정부(121)에서 저장되는 파라미터들을 수집하여 피검사체 상에 적층되는 막의 최적 파라미터를 결정한다.The
상기 피검사체의 검사 영역과 상기 최적 파라미터에 관한 정보들은 다양한 소트트웨어들을 통해 상기 레시피 생성부에서 레시피 파일로 저장된다. Information about the test region and the optimal parameter of the object is stored as a recipe file in the recipe generator through various software.
상기 레시피 제공부(200, 210, 220)는 상기 레시피 생성부(100)로부터 생성된 레시피를 상기 공정 라인별로 배치된 상기 검사 장치들 각각으로 제공하며, 상기 레시피 생성부(100)는 라인 서버들을 포함하는 레시피 제공부(200, 210, 220)를 통해 상기 검사 장치들과 네크워크로 연결되고, 파일전송프로토콜(FTP;File Transfer Protocol) 방식을 이용하여 상기 레시피 생성부(100)에서 생성된 레시피는 상기 레시피 제공부(200, 210, 220)를 통해 상기 검사 장치들에 전송된다.The
상기 검사 장치들은 상기 레시피 생성부로부터 생성된 레시피를 상기 검사 장치에 적합한 파일로 변환시키는 파일 변환부를 포함할 수 있다.The inspection apparatuses may include a file converting unit converting a recipe generated from the recipe generating unit into a file suitable for the inspection apparatus.
구체적으로, 상기 검사 장치의 파일 변환부(도시되지 않음)는 상기 레시피 생성부(100)에서 생성된 레시피 파일명과 상기 검사 장치의 레시피 파일명의 일치 여부를 확인하는 상관 관계(correlation) 파일 관리 시스템이다. 상기 파일 변환부에서는 상기 검사 장치의 레시피 파일명과 일치하는 경우에만 상기 레시피를 검사 장치에 적용하여 공정을 진행시킨다. Specifically, the file conversion unit (not shown) of the inspection apparatus is a correlation file management system for confirming whether or not the recipe file name generated by the
또한, 상기 검사 장치들은 상기 검사 장치들의 소트프웨어, 좌표 및 이미지간의 상관 관계를 일치시켜 공통 레시피에 따라 검사 공정을 수행한다.In addition, the inspection apparatuses perform the inspection process according to a common recipe by matching correlations among software, coordinates, and images of the inspection apparatuses.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 레시피 운영 방법을 나타내는 흐름도이다.2 is a flowchart illustrating a recipe operating method according to an embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 반도체 제조 공정은 복수의 공정 라인으로 구성되고, 각각 의 공정 라인에는 복수의 검사 장치들에 의해서 검사 공정이 수행된다. Referring to FIG. 2, a semiconductor manufacturing process includes a plurality of process lines, and each process line is subjected to an inspection process by a plurality of inspection devices.
상기 공정 라인별로 배치되는 복수의 검사 장치들에 공통적으로 적용되는 레시피를 생성한다.(S100)Create a recipe that is commonly applied to a plurality of inspection devices arranged for each process line (S100).
본 발명의 일실시예에 따르면, 복수의 검사 장치들은 네트워크를 통해 레시피를 생성하는 레시피 운영 시스템과 연결된다. 상기 레시피 운영 시스템은 피검사체에 따라 검사 항목이 각기 다르게 설정된 복수개의 레시피들을 저장하고, 상기 레시피들 중에서 복수의 검사 장치들에 공통적으로 적용되는 레시피를 선택하여 저장한다.According to one embodiment of the invention, the plurality of inspection devices are connected with a recipe operating system for generating a recipe via a network. The recipe operating system stores a plurality of recipes in which inspection items are set differently according to an inspected object, and selects and stores a recipe that is commonly applied to a plurality of inspection apparatuses among the recipes.
먼저, 상기 피검사체의 검사 영역을 결정한다. 구체적으로, 상기 피검사체의 검사 영역 상에 측정되는 샷(shot)의 위치나 크기 등의 정보를 갖는 공통맵을 결정하고, 상기 피검사체의 이동 폭과, X, Y 좌표 및 각각의 실험값을 통해 상기 피검사체의 얼라인을 결정한다. 또한, 상기 피검사체의 검사 영역 상에 측정 부위를 결정한다. First, the inspection area of the subject is determined. Specifically, the common map having information such as the position and size of the shot measured on the inspection region of the inspected object is determined, and through the moving width of the inspected object, the X, Y coordinates, and each experimental value. The alignment of the subject is determined. In addition, a measurement site is determined on the test area of the test object.
이후, 상기 레시피의 검사 항목을 결정한다. 각 공정에서 적층되는 막의 두께, 종류에 관한 정보를 저장하고, 검사 장치의 조명의 조도, 검출기의 개구율 등의 공정 파라미터들로부터 최적 파라미터를 결정한다.Then, the inspection item of the recipe is determined. Information on the thickness and type of the film laminated in each process is stored, and an optimal parameter is determined from process parameters such as illumination of the inspection apparatus and aperture ratio of the detector.
이리하여, 상기 검사 장치들에 공통적으로 적용되는 레시피를 생성한다.This creates a recipe that is commonly applied to the inspection devices.
상기 레시피는 다양한 소프트웨어들을 통해 상기 레시피 파일로 저장되어 파일전송프로토콜 방식등을 통해 라인 서버들로 전송된다.The recipe is stored as the recipe file through various software and transmitted to the line servers through a file transfer protocol.
상기 레시피를 상기 라인 서버들을 통해 상기 검사 장치들에 입력한다 .(S200) 상기 검사 장치들에 공통적으로 적용되는 레시피는 라인 서버들을 포함하는 레시피 제공부를 통해 파일전송프로토콜(FTP;File Transfer Protocol) 방식을 이용하여 상기 검사 장치들에 전송된다.The recipe is input to the inspection apparatuses through the line servers (S200). A recipe commonly applied to the inspection apparatuses is a file transfer protocol (FTP) method through a recipe providing unit including line servers. Is transmitted to the inspection apparatus.
상기 검사 장치들에 제공된 레시피를 상기 검사 장치에 적합한 파일로 변환한다.(S300)The recipes provided to the inspection apparatuses are converted into a file suitable for the inspection apparatus (S300).
상기 검사 장치들에 제공된 레시피의 파일명과 상기 검사 장치의 레시피 파일명의 일치 여부를 확인한다. 상기 두 개의 파일명이 불일치할 경우, 상기 파일명을 수정하여 일치시키는 보정 작업을 진행한다. 상기 두 개의 파일명이 일치할 경우, 상기 검사 장치들은 상기 레시피에 따라 검사 공정을 수행한다. The file name of the recipe provided to the inspection apparatuses and the recipe file name of the inspection apparatus are checked. If the two file names do not match, a correction operation for correcting the file names is performed. If the two file names match, the inspection apparatus performs the inspection process according to the recipe.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 레시피 운영 방법 및 레시피 운영 시스템에 따르면, 하나의 레시피 생성부를 통해 라인 간 구분없이 모든 레시피를 저장하고, 복수의 검사 장치들에 공통적으로 적용되는 일괄 레시피를 설정하여 상기 검사 장치들에 제공할 수 있다. As described above, according to the recipe operating method and the recipe operating system according to a preferred embodiment of the present invention, a batch that stores all the recipes without distinction between the lines through one recipe generation unit, commonly applied to a plurality of inspection devices Recipes can be set and provided to the inspection devices.
이리하여, 레시피의 일원화를 이룰 수 있으며, 각각의 설비에 일일이 레시피를 설정하는 시간을 줄여 작업 효율화 및 작업 처리량을 향상시킬 수 있다.In this way, the recipe can be unified, and the time for setting recipes in each facility can be reduced, thereby improving work efficiency and throughput.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the foregoing has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. It will be appreciated.
Claims (10)
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KR1020060110799A KR20080042411A (en) | 2006-11-10 | 2006-11-10 | Recipe management method and recipe management system |
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