KR20080029142A - Semiconductor package and method of producing the same - Google Patents

Semiconductor package and method of producing the same Download PDF

Info

Publication number
KR20080029142A
KR20080029142A KR1020060094759A KR20060094759A KR20080029142A KR 20080029142 A KR20080029142 A KR 20080029142A KR 1020060094759 A KR1020060094759 A KR 1020060094759A KR 20060094759 A KR20060094759 A KR 20060094759A KR 20080029142 A KR20080029142 A KR 20080029142A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
semiconductor substrate
external connection
solder
tape
semiconductor
Prior art date
Application number
KR1020060094759A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
정기현
이준영
김중현
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020060094759A priority Critical patent/KR20080029142A/en
Publication of KR20080029142A publication Critical patent/KR20080029142A/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/831Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus
    • H01L2224/83101Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus as prepeg comprising a layer connector, e.g. provided in an insulating plate member

Abstract

A semiconductor package and a manufacturing method thereof are provided to increase a joint area of a solder and a semiconductor substrate by inserting the solder at a connection point between insulation support tapes. A semiconductor package includes first and second semiconductor substrates(100a,100b) and a soldering tape(200). The first semiconductor substrate includes a first external connection electrode(120a). The second semiconductor substrate includes a second external connection electrode(120b), which corresponds to the first external connection electrode. The soldering tape is applied between the first and second semiconductor substrates and has an insulation property. A solder(220) is inserted into a connection position between the first and second external connection electrodes.

Description

반도체 패키지 및 그의 제조 방법 {Semiconductor package and method of producing the same}Semiconductor package and method of manufacturing the same {Semiconductor package and method of producing the same}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 패키지의 측면 분해도이다.1 is an exploded side view of a semiconductor package according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 패키지의 측면도이다.2 is a side view of a semiconductor package according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 패키지의 솔더링 테이프의 사시도이다.3 is a perspective view of a soldering tape of a semiconductor package according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100a: 제 1 반도체 기판 100b: 제 2 반도체 기판100a: first semiconductor substrate 100b: second semiconductor substrate

110a, 110b: 반도체 소자 120a, 120b: 외부 접속 전극110a and 110b: semiconductor elements 120a and 120b: external connection electrodes

130a, 130b: 절연층 200: 솔더링 테이프130a, 130b: insulation layer 200: soldering tape

210: 지지 테이프 220: 솔더 210: support tape 220: solder

230: 점착층 240: 삽입공230: adhesive layer 240: insertion hole

본 발명은 반도체 패키지 및 그의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 솔더와 반도체 기판 사이의 실질적인 접합 면적이 증가하여 외부에서 가해 지거나 자체적으로 발생하는 응력에 대하여 더욱 높은 내성을 발휘할 수 있는 반도체 패키지 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor package and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a semiconductor package capable of exhibiting a higher resistance to stress applied externally or generated by itself due to an increase in the substantial bonding area between the solder and the semiconductor substrate, and It relates to a manufacturing method thereof.

최근 전자 장치의 경박단소화에 부응하여 이러한 전자 장치에 내장되는 반도체 패키지의 소형화도 함께 이루어지고 있다. 이러한 반도체 패키지는 기판에 직접 실장될 수도 있고, 반도체 패키지끼리 서로 적층될 수도 있는데, 이 때 솔더볼을 이용한 접합 방법이 널리 이용되고 있다. 반도체 패키지의 소형화와 함께 솔더볼의 크기도 감소하고 있으며, 이로 인해 솔더 접합부의 접합력이 크게 감소하고 있다. 더구나, 솔더볼을 이용하는 경우 솔더볼과 반도체 패키지의 전극이 실질적으로 접촉하는 면적은 솔더볼의 지름에 비해 매우 작기 때문에 솔더 접합부의 접합력은 매우 취약한 실정이다.In recent years, in response to light and short size reduction of electronic devices, miniaturization of semiconductor packages embedded in such electronic devices has been achieved. Such a semiconductor package may be directly mounted on a substrate, or the semiconductor packages may be stacked on each other. At this time, a bonding method using solder balls is widely used. With the miniaturization of semiconductor packages, the size of solder balls is also decreasing, which significantly reduces the bonding strength of solder joints. In addition, in the case of using the solder ball, the contact area between the solder ball and the electrode of the semiconductor package is very small compared to the diameter of the solder ball, and thus the bonding strength of the solder joint is very weak.

또한 POP(package-on-package) 또는 3차원 스택 패키지에서는 패키지의 휨(warpage) 거동에 의한 솔더 접합 균열이 빈발하고 있다. 이를 개선하기 위해 언더필을 사용하는 방법이 제안되었지만 언더필을 사용하는 경우 플럭스 잔사물의 영향으로 언더필 박리 현상이 발생하기도 하고, 언더필 자체의 가격도 높아 특별한 제품에만 제한적으로 사용되고 있는 실정이다.In addition, solder joint cracks are frequently caused by package warpage behavior in package-on-package (POP) or three-dimensional stack packages. In order to improve this, a method of using an underfill has been proposed, but when the underfill is used, underfill peeling may occur under the influence of flux residues, and the price of the underfill itself is limited and is used only for a special product.

일반적으로, 솔더 접합부의 균열은 기판과 솔더와의 접합이 이루어지는 계면을 중심으로 성장하게 되는데 이를 방지하기 위해 솔더 접합 강도를 개선하는 것이 우선 필요하다. 또한, 언더필에 의한 접합 개선 효과를 누리기 위한 대안적인 수단이 필요하다.In general, cracks in the solder joints grow around the interface between the substrate and the solder. In order to prevent this, it is necessary to first improve the solder joint strength. In addition, there is a need for an alternative means to enjoy the effect of joint improvement by underfill.

본 발명의 첫 번째 기술적 과제는, 솔더와 반도체 기판 사이의 실질적인 접합 면적이 증가하여 외부에서 가해지거나 자체적으로 발생하는 응력에 대하여 더욱 높은 내성을 발휘하는 반도체 패키지를 제공하는 것이다.The first technical problem of the present invention is to provide a semiconductor package which has a higher resistance to stress applied to itself or generated externally by increasing the substantial junction area between the solder and the semiconductor substrate.

본 발명의 두 번째 기술적 과제는, 상기와 같은 반도체 패키지의 제조 방법을 제공하는 것이다.The second technical problem of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor package as described above.

본 발명은 상기 첫 번째 기술적 과제를 이루기 위하여, 외부 접속 전극을 구비하는 제 1 반도체 기판; 상기 제 1 반도체 기판의 외부 접속 전극과 대응되는 외부 접속 전극을 구비하는 제 2 반도체 기판; 및 상기 제 1 반도체 기판과 상기 제 2 반도체 기판 사이에 개재되는 절연성의 테이프로서, 서로 대응되어 접속되는 상기 제 1 반도체 기판의 외부 접속 전극과 제 2 반도체 기판의 외부 접속 전극의 대응되는 위치에 솔더가 삽입되어 있는 솔더링 테이프를 포함하는 반도체 패키지를 제공한다.The present invention to achieve the first technical problem, the first semiconductor substrate having an external connection electrode; A second semiconductor substrate having an external connection electrode corresponding to the external connection electrode of the first semiconductor substrate; And an insulating tape interposed between the first semiconductor substrate and the second semiconductor substrate, the solder being located at corresponding positions of the external connection electrodes of the first semiconductor substrate and the external connection electrodes of the second semiconductor substrate that are connected in correspondence with each other. It provides a semiconductor package comprising a soldering tape is inserted.

이 때, 상기 솔더링 테이프의 솔더가 삽입된 부분 이외의 부분에서 상기 솔더링 테이프와 상기 제 1 반도체 기판 및 상기 제 2 반도체 기판 사이에 점착층이 더 있을 수 있다.In this case, an adhesive layer may be further disposed between the soldering tape, the first semiconductor substrate, and the second semiconductor substrate at a portion other than a portion of the soldering tape in which the solder is inserted.

또한, 선택적으로, 상기 솔더링 테이프에 평행한 방향으로의 상기 솔더의 단면이 원형 또는 다각형일 수 있다. 이 때, 상기 솔더링 테이프의 두께 방향을 따라 어느 위치에서 상기 솔더의 단면을 취하더라도 상기 솔더의 단면적이 일정할 수 있다.Also, optionally, the cross section of the solder in a direction parallel to the soldering tape may be circular or polygonal. At this time, the cross-sectional area of the solder may be constant even if the cross section of the solder is taken at any position along the thickness direction of the soldering tape.

또한, 상기 절연성의 지지 테이프는 폴리이미드 수지 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지일 수 있다.In addition, the insulating support tape may be polyimide resin or polyethylene terephthalate resin.

본 발명은 상기 두 번째 기술적 과제를 이루기 위하여, 외부 접속 전극을 구비하는 제 1 반도체 기판을 준비하는 단계; 상기 제 1 반도체 기판의 외부 접속 전극과 대응되는 외부 접속 전극을 구비하는 제 2 반도체 기판을 준비하는 단계; 절연성의 지지 테이프를 준비하는 단계; 상기 절연성의 지지 테이프의, 서로 대응되어 접속되는 상기 제 1 반도체 기판의 외부 접속 전극과 제 2 반도체 기판의 외부 접속 전극에 대응되는 위치에 솔더가 삽입될 수 있는 삽입공을 형성하는 단계; 상기 삽입공 내에 솔더를 삽입하여 솔더링 테이프를 형성하는 단계; 및 상기 제 1 반도체 기판과 제 2 반도체 기판 사이에 솔더가 삽입공에 삽입된 솔더링 테이프를 개재시켜 접합시키는 단계를 포함하는 반도체 패키지의 제조 방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of preparing a semiconductor device including: preparing a first semiconductor substrate having an external connection electrode; Preparing a second semiconductor substrate having an external connection electrode corresponding to the external connection electrode of the first semiconductor substrate; Preparing an insulating support tape; Forming insertion holes through which the solder can be inserted into positions of the insulating support tape corresponding to the external connection electrodes of the first semiconductor substrate and the external connection electrodes of the second semiconductor substrate that are connected to each other; Inserting solder into the insertion hole to form a soldering tape; And bonding a soldering tape in which solder is inserted into the insertion hole between the first semiconductor substrate and the second semiconductor substrate.

특히, 상기 삽입공을 형성하는 단계는 펀치 또는 레이저 커팅에 의해 수행될 수 있다.In particular, the forming of the insertion hole may be performed by punching or laser cutting.

이 때, 상기 삽입공의 형태는 원형 또는 다각형일 수 있다.At this time, the shape of the insertion hole may be circular or polygonal.

또한, 상기 절연성 테이프에 삽입공을 형성하기 이전에 상기 절연성 지지 테이프의 양면에 점착층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include forming an adhesive layer on both sides of the insulating support tape before forming the insertion hole in the insulating tape.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어져서는 안된다. 본 발명의 실시예들은 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것으로 해석되는 것이 바람직하다. 동일한 부호는 시종 동일한 요소를 의미한다. 나아가, 도면에서의 다양한 요소와 영역은 개략적으로 그려진 것이다. 따라서, 본 발명은 첨부한 도면에 그려진 상대적인 크기나 간격에 의해 제한되어지지 않는다. 어떤 층이 다른 층 또는 반도체 반도체 칩 "상"에 있다라고 기재되는 경우에, 상기 어떤 층은 상기 다른 층 또는 반도체 반도체 칩에 직접 접촉하여 존재할 수도 있고, 또는, 그 사이에 제3의 층이 개재될 수도 있다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, embodiments of the present invention may be modified in many different forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiments described below. Embodiments of the invention are preferably interpreted to be provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Like numbers refer to like elements all the time. Furthermore, various elements and regions in the drawings are schematically drawn. Accordingly, the present invention is not limited by the relative size or spacing drawn in the accompanying drawings. When a layer is described as "on" another layer or semiconductor semiconductor chip, the layer may be present in direct contact with the other layer or semiconductor semiconductor chip, or a third layer therebetween. May be

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 패키지의 측면 분해도이다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명은 외부 접속 전극(120a)을 구비하는 제 1 반도체 기판(100a); 상기 제 1 반도체 기판(100a)의 외부 접속 전극(120a)과 대응되는 외부 접속 전극(120b)을 구비하는 제 2 반도체 기판(100b); 및 상기 제 1 반도체 기판(100a)과 상기 제 2 반도체 기판(100b) 사이에 개재되는 절연성의 테이프(210)로서, 서로 대응되어 접속되는 상기 제 1 반도체 기판(100a)의 외부 접속 전극(120a)과 제 2 반도체 기판(100b)의 외부 접속 전극(120b)의 대응되는 위치에 솔더(220)가 삽입되어 있는 솔더링 테이프(200)를 포함하는 반도체 패키지를 제공한다.1 is an exploded side view of a semiconductor package according to an embodiment of the present invention. As shown in Fig. 1, the present invention provides a semiconductor device comprising: a first semiconductor substrate 100a having an external connection electrode 120a; A second semiconductor substrate (100b) having an external connection electrode (120b) corresponding to the external connection electrode (120a) of the first semiconductor substrate (100a); And an insulating tape 210 interposed between the first semiconductor substrate 100a and the second semiconductor substrate 100b, the external connection electrode 120a of the first semiconductor substrate 100a connected to each other. And a soldering tape 200 in which solder 220 is inserted at a corresponding position of the external connection electrode 120b of the second semiconductor substrate 100b.

상기 제 1 반도체 기판(100a) 및 제 2 반도체 기판(100b)은 서로 대응되어 접속될 외부 접속 전극(120a, 120b)을 각각 갖는다. 이들 외부 접속 전극(120a, 120b)은 절연층(130a, 130b)에 의해 전기적으로 분리되고, 상기 제 1 반도체 기판(100a) 및 제 2 반도체 기판(100b)을 준비하는 방법은 당 업계에 알려진 통상의 방법에 의할 수 있으므로 여기서는 설명을 생략한다.The first semiconductor substrate 100a and the second semiconductor substrate 100b respectively have external connection electrodes 120a and 120b to be connected to each other. These external connection electrodes 120a and 120b are electrically separated by the insulating layers 130a and 130b, and a method of preparing the first semiconductor substrate 100a and the second semiconductor substrate 100b is generally known in the art. Since the method can be used, the description thereof is omitted here.

상기 솔더링 테이프(200)는 절연성의 지지 테이프(210)의 곳곳에 솔더(220)가 삽입되어 있는 것으로서 상기 제 1 반도체 기판(100a)과 제 2 반도체 기판(100b) 사이에 개재된다. 상기 솔더(220)의 삽입 위치는 제 1 반도체 기판(100a) 및 제 2 반도체 기판(100b)의 서로 대응되어 접속될 외부 접속 전극(120a, 120b)의 위치에 대응된다.The soldering tape 200 has solder 220 inserted in various places of the insulating support tape 210 and is interposed between the first semiconductor substrate 100a and the second semiconductor substrate 100b. The insertion position of the solder 220 corresponds to the positions of the external connection electrodes 120a and 120b to be connected to correspond to each other of the first semiconductor substrate 100a and the second semiconductor substrate 100b.

상기 솔더(220)가 삽입되는 삽입공(240)은 상기 절연성의 지지 테이프(210)의 두께 방향을 따라 일정한 모양과 면적을 갖는다. 상기 삽입공(240)이 지지 테이프(210)의 두께 방향을 따라 일정한 모양과 면적을 갖기 때문에 여기에 삽입되는 솔더(220) 역시 지지 테이프(210)의 두께 방향을 따라 어느 위치에서 단면을 취하더라도 일정한 모양과 면적을 갖는다. 상기 삽입공(240)은 원형 또는 다각형의 모양일 수 있다. 따라서, 솔더링 테이프(200)에 평행한 방향으로의 상기 솔더(220)의 단면 역시 원형 또는 다각형일 수 있다. 상기 다각형은 사각형, 삼각형, 또는 육각형 등으로 하는 것이 공간활용에 효율적이어서 바람직하다.The insertion hole 240 into which the solder 220 is inserted has a predetermined shape and area along the thickness direction of the insulating support tape 210. Since the insertion hole 240 has a predetermined shape and area along the thickness direction of the support tape 210, the solder 220 inserted therein may also take a cross section at any position along the thickness direction of the support tape 210. It has a certain shape and area. The insertion hole 240 may have a circular or polygonal shape. Accordingly, the cross section of the solder 220 in a direction parallel to the soldering tape 200 may also be circular or polygonal. The polygon is preferably rectangular, triangular, hexagonal or the like because it is efficient for space utilization.

이와 같이 본 발명의 반도체 패키지는 테이프의 두께를 따라 솔더의 단면적이 일정하므로, 중심부분에서 같은 단면적을 갖는 종래의 솔더와 비교하였을 때 반도체 기판(더욱 구체적으로는 외부 접속 전극)과의 접촉부에서의 단면적이 더 크고 따라서 외부로부터의 응력에 더 잘 견딜 수 있게 되는 것이다.As described above, the semiconductor package of the present invention has a constant cross-sectional area of the solder along the thickness of the tape, so that the semiconductor package (more specifically, the external connection electrode) of the semiconductor package can be compared with the conventional solder having the same cross-sectional area at the center portion. The larger the cross-sectional area is and therefore better able to withstand stress from the outside.

상기 삽입공(240)에 삽입되는 솔더(220)는 통상의 알려진 솔더 소재를 이용할 수 있으며 특별히 한정되지 않는다. 상기 지지 테이프(210)는 전기를 통하지 않는 테이프이면 되고, 예를 들면, 폴리이미드계 수지 또는 폴리에틸렌테레프탈레이 트계 수지 일 수 있지만 여기에 한정되지 않는다. 상기 삽입공(240)은, 예를 들면, 펀치 또는 레이저 커팅(laser cutting)에 의해 형성될 수 있지만 여기에 한정되지 않는다.The solder 220 inserted into the insertion hole 240 may use a conventional known solder material and is not particularly limited. The support tape 210 may be a tape that does not pass through electricity. For example, the support tape 210 may be a polyimide resin or a polyethylene terephthalate resin, but is not limited thereto. The insertion hole 240 may be formed by, for example, punching or laser cutting, but is not limited thereto.

선택적으로, 상기와 같이 삽입공(240)을 형성하기 이전에 상기 절연성 지지 테이프(210)의 양면에 점착층(230)을 형성할 수 있다.Optionally, the adhesive layer 230 may be formed on both surfaces of the insulating support tape 210 before the insertion hole 240 is formed as described above.

솔더(220)를 상기 삽입공(240) 내에 삽입하는 방법은 상기 삽입공(240)의 크기에 맞는 솔더(220)를 별도로 제조한 후 삽입할 수 있고 특별히 한정되지 않는다.The method of inserting the solder 220 into the insertion hole 240 may be performed after separately preparing the solder 220 suitable for the size of the insertion hole 240 and is not particularly limited.

상기 솔더링 테이프(200)의 솔더(220)가 삽입된 부분 이외의 부분에서, 상기 솔더링 테이프(200)와 상기 제 1 반도체 기판(100a) 및 상기 제 2 반도체 기판(100b) 사이에 점착층(230)이 더 있을 수 있다. 상기 점착층(230)은 상기 솔더링 테이프(200)가 상기 제 1 반도체 기판(100a) 및 상기 제 2 반도체 기판(100b)에 더욱 견고하게 부착되도록 하고, 나아가 제 1 반도체 기판(100a)과 상기 제 2 반도체 기판(100b)이 서로 견고하게 부착되도록 하는 역할을 한다. 다시 말해, 솔더(220)가 받는 응력을 분산시켜 상기 솔더(220)가 외력에 더 잘 견디도록 하는 역할을 한다.The adhesive layer 230 is formed between the soldering tape 200 and the first semiconductor substrate 100a and the second semiconductor substrate 100b in a portion other than a portion where the solder 220 of the soldering tape 200 is inserted. There may be more). The adhesive layer 230 allows the soldering tape 200 to be more firmly attached to the first semiconductor substrate 100a and the second semiconductor substrate 100b, and furthermore, the first semiconductor substrate 100a and the first 2 semiconductor substrate 100b serves to firmly adhere to each other. In other words, by dispersing the stress received by the solder 220 serves to better withstand the external force.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 패키지의 측면도이다. 도 2에서 보는 바와 같이 상기 솔더(220)는 외부 접속 전극(120a, 120b)에 접속되고, 선택적으로, 점착층(230)이 제 1 반도체 기판(100a) 및 제 2 반도체 기판(100b)의 절연층(130a, 130b)과 결합된다.2 is a side view of a semiconductor package according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, the solder 220 is connected to the external connection electrodes 120a and 120b, and optionally, the adhesive layer 230 is insulated from the first semiconductor substrate 100a and the second semiconductor substrate 100b. Layers 130a, 130b.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 솔더링 테이프(200)의 사시도로서, 도 3 에서 보는 바와 같이 상기 솔더(220)는 상기 지지 테이프(210)의 표면 위로 약간 돌출되는 것이 상기 외부 접속 전극과 접합시키는 데 유리하다. 상기 솔더(220)의 돌출 높이는 50 ㎛ 이내인 것이 바람직하지만 여기에 한정되는 것은 아니다.3 is a perspective view of a soldering tape 200 according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, the solder 220 protrudes slightly above the surface of the support tape 210. It is advantageous for bonding. The protrusion height of the solder 220 is preferably within 50 μm, but is not limited thereto.

본 발명의 다른 태양은, 외부 접속 전극(120a)을 구비하는 제 1 반도체 기판(100a)을 준비하는 단계; 상기 제 1 반도체 기판(100a)의 외부 접속 전극(120a)과 대응되는 외부 접속 전극(120b)을 구비하는 제 2 반도체 기판(100b)을 준비하는 단계; 절연성의 지지 테이프(210)를 준비하는 단계; 상기 절연성의 지지 테이프(210)의, 서로 대응되어 접속되는 상기 제 1 반도체 기판(100a)의 외부 접속 전극(120a)과 제 2 반도체 기판(100b)의 외부 접속 전극(120b)에 대응되는 위치에 솔더(220)가 삽입될 수 있는 삽입공(240)을 형성하는 단계; 상기 삽입공(240) 내에 솔더(220)를 삽입하여 솔더링 테이프(200)를 형성하는 단계; 및 상기 제 1 반도체 기판(100a)과 제 2 반도체 기판(100b) 사이에 솔더(220)가 삽입공(240)에 삽입된 솔더링 테이프(200)를 개재시켜 접합시키는 단계를 포함하는 반도체 패키지의 제조 방법을 제공한다.Another aspect of the present invention is to prepare a first semiconductor substrate (100a) having an external connection electrode (120a); Preparing a second semiconductor substrate (100b) having an external connection electrode (120b) corresponding to the external connection electrode (120a) of the first semiconductor substrate (100a); Preparing an insulating support tape 210; At the position corresponding to the external connection electrode 120a of the said 1st semiconductor substrate 100a and the external connection electrode 120b of the 2nd semiconductor substrate 100b of the said insulating support tape 210 connected correspondingly to each other. Forming an insertion hole 240 into which the solder 220 may be inserted; Inserting solder 220 into the insertion hole 240 to form a soldering tape 200; And bonding the solder 220 between the first semiconductor substrate 100a and the second semiconductor substrate 100b through a soldering tape 200 inserted into the insertion hole 240. Provide a method.

상기 반도체 패키지의 제조 방법의 각 단계는 앞서 설명하였으므로 여기서는 생략한다.Since each step of the method of manufacturing the semiconductor package has been described above, it is omitted here.

상기 제 1 반도체 기판(100a)과 제 2 반도체 기판(100b) 사이에 솔더(220)가 삽입공(240)에 삽입된 절연성 테이프(200)를 개재시켜 접합시키는 방법은 특별히 한정되지 않고 다양한 방법이 가능하다. 예를 들면, 먼저 절연성 테이프(200)를 제 1 반도체 기판(100a) 위에 대응시켜 위치시킨 후 솔더(220)가 적절히 용융되도록 열을 가하고 그 위에 제 2 반도체 기판(100b)을 얹은 후 압착 용융시키는 방법을 이용할 수 있다.The method for bonding the first and second semiconductor substrates 100a and 100b through the insulating tape 200 inserted into the insertion hole 240 is not particularly limited, and various methods may be used. It is possible. For example, first, the insulating tape 200 is positioned to correspond to the first semiconductor substrate 100a, and then heat is applied so that the solder 220 is properly melted, and then the second semiconductor substrate 100b is placed thereon, followed by compression melting. Method can be used.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상세히 기술되었지만, 본 발명이 속하는 기술분야에 있어서 통상의 지식을 가진 사람이라면, 첨부된 청구 범위에 정의된 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 본 발명을 여러 가지로 변형하여 실시할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 앞으로의 실시예들의 변경은 본 발명의 기술을 벗어날 수 없을 것이다.Although described in detail with respect to preferred embodiments of the present invention as described above, those of ordinary skill in the art, without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims Various modifications may be made to the invention. Therefore, changes in the future embodiments of the present invention will not be able to escape the technology of the present invention.

본 발명의 반도체 패키지 및 그의 제조 방법을 이용하면, 솔더와 반도체 기판 사이의 실질적인 접합 면적이 증가하여 외부에서 가해지거나 자체적으로 발생하는 응력에 대하여 더욱 높은 내성을 발휘하는 효과가 있다.By using the semiconductor package of the present invention and a method of manufacturing the same, there is an effect of increasing the substantial bonding area between the solder and the semiconductor substrate to exhibit a higher resistance to externally applied or self-induced stress.

Claims (9)

외부 접속 전극을 구비하는 제 1 반도체 기판;A first semiconductor substrate having an external connection electrode; 상기 제 1 반도체 기판의 외부 접속 전극과 대응되는 외부 접속 전극을 구비하는 제 2 반도체 기판; 및A second semiconductor substrate having an external connection electrode corresponding to the external connection electrode of the first semiconductor substrate; And 상기 제 1 반도체 기판과 상기 제 2 반도체 기판 사이에 개재되는 절연성의 테이프로서, 서로 대응되어 접속되는 상기 제 1 반도체 기판의 외부 접속 전극과 제 2 반도체 기판의 외부 접속 전극의 대응되는 위치에 솔더가 삽입되어 있는 솔더링 테이프;An insulating tape interposed between the first semiconductor substrate and the second semiconductor substrate, wherein solder is provided at corresponding positions of the external connection electrodes of the first semiconductor substrate and the external connection electrodes of the second semiconductor substrate, which are connected in correspondence with each other. Inserted soldering tape; 를 포함하는 반도체 패키지.Semiconductor package comprising a. 제 1 항에 있어서, 상기 솔더링 테이프의 솔더가 삽입된 부분 이외의 부분에서 상기 솔더링 테이프와 상기 제 1 반도체 기판 및 상기 제 2 반도체 기판 사이에 점착층이 더 있는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The semiconductor package according to claim 1, further comprising an adhesive layer between the soldering tape, the first semiconductor substrate, and the second semiconductor substrate at a portion other than the soldered portion of the soldering tape. 제 1 항에 있어서, 상기 솔더링 테이프에 평행한 방향으로의 상기 솔더의 단면이 원형 또는 다각형인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The semiconductor package according to claim 1, wherein a cross section of the solder in a direction parallel to the soldering tape is circular or polygonal. 제 3 항에 있어서, 상기 솔더링 테이프의 두께 방향을 따라 어느 위치에서 상기 솔더의 단면을 취하더라도 상기 솔더의 단면적이 일정한 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The semiconductor package according to claim 3, wherein a cross-sectional area of the solder is constant even when the cross-section of the solder is taken at any position along the thickness direction of the soldering tape. 제 1 항에 있어서, 상기 절연성의 지지 테이프가 폴리이미드 수지 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The semiconductor package according to claim 1, wherein the insulating support tape is a polyimide resin or a polyethylene terephthalate resin. 외부 접속 전극을 구비하는 제 1 반도체 기판을 준비하는 단계;Preparing a first semiconductor substrate having an external connection electrode; 상기 제 1 반도체 기판의 외부 접속 전극과 대응되는 외부 접속 전극을 구비하는 제 2 반도체 기판을 준비하는 단계;Preparing a second semiconductor substrate having an external connection electrode corresponding to the external connection electrode of the first semiconductor substrate; 절연성의 지지 테이프를 준비하는 단계;Preparing an insulating support tape; 상기 절연성의 지지 테이프의, 서로 대응되어 접속되는 상기 제 1 반도체 기판의 외부 접속 전극과 제 2 반도체 기판의 외부 접속 전극에 대응되는 위치에 솔더가 삽입될 수 있는 삽입공을 형성하는 단계;Forming insertion holes through which the solder can be inserted into positions of the insulating support tape corresponding to the external connection electrodes of the first semiconductor substrate and the external connection electrodes of the second semiconductor substrate that are connected to each other; 상기 삽입공 내에 솔더를 삽입하여 솔더링 테이프를 형성하는 단계; 및Inserting solder into the insertion hole to form a soldering tape; And 상기 제 1 반도체 기판과 제 2 반도체 기판 사이에 솔더가 삽입공에 삽입된 솔더링 테이프를 개재시켜 접합시키는 단계를 포함하는 반도체 패키지의 제조 방법.A method of manufacturing a semiconductor package comprising the step of bonding between the first semiconductor substrate and the second semiconductor substrate via a soldering tape inserted into the insertion hole. 제 6 항에 있어서, 상기 삽입공을 형성하는 단계가 펀치 또는 레이저 커팅에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.7. The method of claim 6, wherein the forming of the insertion hole is performed by punching or laser cutting. 제 6 항에 있어서 상기 삽입공의 형태가 원형 또는 다각형인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.The method of manufacturing a semiconductor package according to claim 6, wherein the insertion hole has a circular or polygonal shape. 제 6 항에 있어서, 상기 절연성 테이프에 삽입공을 형성하기 이전에 상기 절연성 지지 테이프의 양면에 점착층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.The method of claim 6, further comprising forming an adhesive layer on both sides of the insulating support tape before forming the insertion hole in the insulating tape.
KR1020060094759A 2006-09-28 2006-09-28 Semiconductor package and method of producing the same KR20080029142A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060094759A KR20080029142A (en) 2006-09-28 2006-09-28 Semiconductor package and method of producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060094759A KR20080029142A (en) 2006-09-28 2006-09-28 Semiconductor package and method of producing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20080029142A true KR20080029142A (en) 2008-04-03

Family

ID=39531760

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060094759A KR20080029142A (en) 2006-09-28 2006-09-28 Semiconductor package and method of producing the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20080029142A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7388284B1 (en) Integrated circuit package and method of attaching a lid to a substrate of an integrated circuit
JP2009026969A (en) Stacked semiconductor device and manufacturing method
JP2006344917A (en) Semiconductor device, stacked semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device
US8779603B2 (en) Stacked semiconductor device with heat dissipation
JP2006196709A (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2009141169A (en) Semiconductor device
US9271388B2 (en) Interposer and package on package structure
JP2007019484A (en) Stacked package
JP2006294976A (en) Semiconductor device and its manufacturing method
JP2010050150A (en) Semiconductor device, and semiconductor module
JP4197140B2 (en) Semiconductor device
JP2005286087A (en) Semiconductor device
JP2009105441A (en) Semiconductor device
JP2008103725A (en) Flexible film, semiconductor package using the flexible film and method for manufacturing the semiconductor package
JP2005129844A (en) Semiconductor chip, semiconductor device, circuit board, and electronic equipment
JP2010087403A (en) Semiconductor device
JP2007103681A (en) Semiconductor device and its manufacturing method
KR20080029142A (en) Semiconductor package and method of producing the same
JP2005183836A (en) Tape carrier for semiconductor device, and semiconductor device using same tape carrier
TWI423405B (en) Package structure with carrier
JP2004266016A (en) Semiconductor device, its manufacturing method and semiconductor substrate
JP3917344B2 (en) Semiconductor device and method for mounting semiconductor device
JP4654971B2 (en) Multilayer semiconductor device
JP2012227320A (en) Semiconductor device
US20070241444A1 (en) Carrier board structure with chip embedded therein and method for fabricating the same

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid