KR20080025097A - Color filter and liquid crystal display device using same - Google Patents

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KR20080025097A
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히데유키 나카무라
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후지필름 가부시키가이샤
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Abstract

Provided is a color filter for a liquid crystal display device, which includes a transparent substrate and a black matrix arranged on the transparent substrate. The color filter is characterized in that a G (green) color pixel is included in an area demarcated by the black matrix; a part of a color layer of the G (green) color pixel is laminated on a part of the black matrix; the black matrix contains a pigment and at least one kind of particles selected from metal particles and a metal compound particles; a ratio (B/A) of a contained amount (B) of the pigment to a contained amount (A) of the metal particles and the metal compound particles in the black matrix is within a range of 0.2-10; and a film thickness ratio (TG/BM) of the film thickness (TG) of the G (green) color pixel to the black matrix film thickness (BM) is within a range of 1.2-10. A liquid crystal display device which includes such color filter is also provided. ® KIPO & WIPO 2008

Description

컬러 필터 및 이것을 사용한 액정 표시 장치{COLOR FILTER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING SAME}COLOR FILTER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING SAME}

본 발명은 액정 표시 장치용 컬러 필터 및 액정 표시 장치에 관한 것이고, 특히, 표시 콘트라스트가 우수하고, TFT의 오동작이 없고, 표시 불균일이 없고, 또한 고색순도와 고투과율을 양립시킬 수 있는 액정 표시 장치용 컬러 필터 및 액정 표시 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter and a liquid crystal display device for a liquid crystal display device. In particular, a liquid crystal display device having excellent display contrast, no malfunction of TFTs, no display unevenness, and capable of achieving both high color purity and high transmittance. The present invention relates to a color filter for liquid crystal and a liquid crystal display device.

컬러 액정 디스플레이 등에 사용되는 컬러 필터는 투명 기판 상에 착색 화소(R, G, B)가 형성되고, 또한 R(적색), G(녹색), B(청색)의 각 착색 화소의 간극에는 표시 콘트라스트의 향상 등의 목적으로, 블랙 매트릭스가 형성되어 있다. 특히, 박막 트랜지스터(TFT)를 사용한 액티브 매트릭스 구동 방식의 액정 표시 소자에 사용되는 블랙 매트릭스에는 상기 목적에 더하여, 박막 트랜지스터의 광에 의한 전류 리크(leak)에 따르는 화질의 저하를 막기 위하여, 높은 차광성이 요구된다.In the color filter used for a color liquid crystal display or the like, colored pixels R, G, and B are formed on a transparent substrate, and display contrast is provided in a gap between each of the colored pixels of R (red), G (green), and B (blue). For the purpose of improvement of the black matrix, a black matrix is formed. In particular, in addition to the above object, the black matrix used in the liquid crystal display device of the active matrix driving method using the thin film transistor (TFT) has a high difference in order to prevent the deterioration of the image quality caused by the current leakage caused by the light of the thin film transistor. Luminance is required.

크롬 등의 금속막을 차광층으로서 사용하는 블랙 매트릭스의 형성 방법의 공지예로는, 금속 박막을 증착법이나 스패터링법에 의해 제작하고, 상기 금속 박막 상에 포토 레지스트를 도포하고, 이어서 블랙 매트릭스용의 패턴을 갖는 포토 마스크를 통하여 포토 레지스트층을 노광하고 현상한 후, 노출된 금속 박막을 에칭하 고, 최후에 금속 박막상의 레지스트층을 박리하는 것을 포함하는 방법이 포함된다(예를 들면, 「컬러 TFT 액정 모니터」 제 218∼220페이지(쿄리츠 출판(주), 1997년 4월 10일 간행)).As a well-known example of the formation method of the black matrix which uses a metal film, such as chromium, as a light shielding layer, a metal thin film is produced by a vapor deposition method or a sputtering method, a photoresist is apply | coated on the said metal thin film, and then the black matrix The method includes exposing and developing a photoresist layer through a photomask having a pattern, etching the exposed metal thin film, and finally peeling off the resist layer on the metal thin film (eg, "color TFT Liquid Crystal Monitor "218-220 pages (Kyoritsu Publication, April 10, 1997).

이 방법은 금속 박막을 사용하므로 막두께가 얇아도 높은 차광 효과가 얻어진다. 반면, 증착법이나 스패터링법이라고 하는 진공 막형성 공정이나, 에칭 공정이 필요로 되고, 비용이 높아짐과 아울러 환경에 대한 부하도 무시할 수 없다고 하는 문제를 갖는다. 또한, 이 방법은 금속막이기 때문에 반사율이 상승하여, TFT의 오작동을 야기하거나, 명실(明室)에서의 콘트라스트가 저하한다고 하는 문제도 갖는다. 이들의 문제에 대해서, 저반사 크롬막(금속크롬과 산화크롬의 2층으로 이루어지는 것 등)을 사용한다고 하는 수단을 강구할 수 있지만, 상기 수단에 의해 더욱 비용이 커지는 것은 부정할 수 없다.Since this method uses a metal thin film, a high light shielding effect can be obtained even if the film thickness is thin. On the other hand, there is a problem that a vacuum film forming step such as a vapor deposition method or a sputtering method or an etching step is required, and the cost is high and the load on the environment cannot be ignored. In addition, since this method is a metal film, the reflectance is increased to cause malfunction of the TFT or to reduce the contrast in bright room. For these problems, a means of using a low-reflection chromium film (such as two layers of metal chromium and chromium oxide) can be devised, but it can not be denied that the cost increases further.

또한, 블랙 매트릭스의 형성 방법의 다른 공지예로는 차광성 안료(예를 들면, 카본블랙)을 함유하는 감광성 수지 조성물을 사용하는 방법도 알려져 있다. 이 소위, 셀프 얼라이먼트 방식의 블랙 매트릭스 형성 방법은 투명 기판 상에 R, G, B의 각 화소를 형성한 후, 이 화소 상에 카본블랙 함유 감광성 수지 조성물을 도포하고, 상기 투명 기판의 R, G, B 화소 비형성면측으로부터 전체면으로 노광하는 공정을 포함한다(예를 들면, 일본특허공개 소62-9301호).Moreover, as another well-known example of the formation method of a black matrix, the method of using the photosensitive resin composition containing a light-shielding pigment (for example, carbon black) is also known. In this so-called self-aligning black matrix forming method, after forming each pixel of R, G, and B on a transparent substrate, carbon black containing photosensitive resin composition is apply | coated on this pixel, and R, G of the said transparent substrate is carried out. And exposing to the entire surface from the B pixel non-forming surface side (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-9301).

이 방법은 상기 금속막의 에칭에 의한 방법에 비교해서 제조 비용은 낮지만, 충분한 차광성(예를 들면, OD=4.0)을 얻기 위해서 필요한 막두께가 1.1∼1.4㎛정도가 필요로 된다. 이 막두께 증가라고 하는 문제의 결과, 블랙 매트릭스와 R, G, B 의 각 화소의 중첩(단차)이 발생하고, 컬러 필터의 평탄성이 악화되고, 액정 표시 소자의 셀갭(cell gap)에 불균일이 발생하여 색불균일 등의 표시 불량으로 이어진다.Although the manufacturing cost is low compared with the method by etching the said metal film, this method requires about 1.1-1.4 micrometers of film thicknesses required in order to acquire sufficient light-shielding property (for example, OD = 4.0). As a result of the problem of increasing the film thickness, overlapping (stepping) of the black matrix and each pixel of R, G, and B occurs, flatness of the color filter deteriorates, and unevenness in the cell gap of the liquid crystal display device. Occurs, leading to poor display such as color unevenness.

따라서, 두께가 얇고 OD가 높은 막을 얻기 위해서, 금속 입자를 포함하는 감광성 수지 조성물을 사용하여 블랙 매트릭스 제작용의 차광막을 제작하는 기술이 제안되어 있다(일본특허공개 2004-240039호).Therefore, in order to obtain a film with a thin thickness and high OD, the technique of manufacturing the light shielding film for black-matrix manufacture using the photosensitive resin composition containing a metal particle is proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 2004-240039).

또한, 블랙 매트릭스의 색미를 흑색에 가깝게 하기 위해서, 금속 입자와 안료 미립자를 함유하는 차광막을 갖는 블랙 매트릭스가 제안되어 있다(일본특허공개 2004-317897호).Moreover, in order to make the color taste of a black matrix close to black, the black matrix which has a light shielding film containing a metal particle and pigment microparticles | fine-particles is proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 2004-317897).

그러나, 블랙 매트릭스에 있어서의 금속 입자의 함유량이 많으면, 금속 광택으로 반사율이 상승하기 때문에, 상기 블랙 매트릭스를 사용하여 컬러 필터를 제작했을 때에 명실 콘트라스트가 저하하는 문제가 있었다. 또한, 블랙 매트릭스에 있어서의 흑색 안료 미립자의 함유량이 많으면, 블랙 매트릭스의 박층화가 곤란하고, 블랙 매트릭스의 두께가 두꺼워진다. 그 결과, 블랙 매트릭스와 R, G, B(적, 녹, 청) 화소의 중첩(단차)이 발생하고, 컬러 필터의 평탄성이 악화하고, 액정 표시 소자의 셀갭이 발생하여 색불균일 등의 표시 불량으로 이어진다.However, when the content of the metal particles in the black matrix is large, the reflectance increases due to the metallic gloss, and thus there is a problem that the clear room contrast decreases when the color filter is produced using the black matrix. Moreover, when there is much content of the black pigment microparticles | fine-particles in a black matrix, thinning of a black matrix becomes difficult and the thickness of a black matrix becomes thick. As a result, superimposition (step) of the black matrix and the R, G, and B (red, green, and blue) pixels occurs, flatness of the color filter deteriorates, and cell gaps of the liquid crystal display elements occur, resulting in display defects such as color irregularities. Leads to.

비특허문헌 1: 「컬러 TFT 액정 디스플레이」 제 218∼220페이지(교리츠 출판(주), 1997년 4월 10일 간행)Non-Patent Document 1: 218-220 pages of "Color TFT Liquid Crystal Display" (Kyoritsu Publishing Co., Ltd., published April 10, 1997)

특허문헌 1: 일본특허공개 소62-9301호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-9301

특허문헌 2: 일본특허공개 2004-240039호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-240039

특허문헌 3: 일본특허공개 2004-317897호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-317897

본 발명은 상기의 사정을 감안하여 이루어졌다. 본 발명은 명실에서의 표시 콘트라스트가 우수하고, TFT의 오동작이 없고, 표시 불균일이 없고, 또한 고색순도와 고투과율을 양립시킨 액정 표시 장치용 컬러 필터 및 액정 표시 장치를 제공한다.The present invention has been made in view of the above circumstances. The present invention provides a color filter and a liquid crystal display device for a liquid crystal display device having excellent display contrast in bright room, no malfunction of the TFT, no display unevenness, and high color purity and high transmittance.

본 발명의 상기 목적은 하기의 구성으로 이루어지는 액정 표시 장치용 컬러 필터, 액정 표시 장치를 제공함으로써 달성된다.The said object of this invention is achieved by providing the color filter for liquid crystal display devices and liquid crystal display devices which consist of the following structures.

(1)투명 기판 및 상기 투명 기판 상에 형성된 블랙 매트릭스를 포함하는 액정 표시 장치용 컬러 필터로서:(1) A color filter for a liquid crystal display device comprising a transparent substrate and a black matrix formed on the transparent substrate:

상기 블랙 매트릭스가 구획하는 영역에, G(녹색)의 착색 화소를 포함하고;A black (green) colored pixel in a region partitioned by the black matrix;

상기 블랙 매트릭스 상의 일부에, 상기 G(녹색)의 착색 화소의 착색층의 일부가 적층되어 있고;A part of the colored layer of said G (green) colored pixel is laminated on a part of said black matrix;

상기 블랙 매트릭스가 안료와, 금속 입자 및 금속 화합물 입자로부터 선택되는 적어도 하나를 함유하고;The black matrix contains a pigment and at least one selected from metal particles and metal compound particles;

상기 블랙 매트릭스에 있어서의 상기 금속 입자 및 금속 화합물 입자의 함유량 A에 대한 안료의 함유량 B의 비(B/A)가 0.2∼10의 범위에 있고; 또한 The ratio (B / A) of the content B of the pigment to the content A of the metal particles and the metal compound particles in the black matrix is in the range of 0.2 to 10; Also

상기 G(녹색)의 착색 화소의 막두께 TG와 블랙 매트릭스의 막두께 BM의 막두께비(TG/BM)가 1.2∼10의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 상기 액정 표시 장치용 컬러 필터.A film thickness ratio (TG / BM) of the film thickness TG of the G (green) colored pixel and the film thickness BM of the black matrix is in the range of 1.2 to 10, wherein the color filter for a liquid crystal display device.

(2)상기 블랙 매트릭스가 구획하는 영역에 R(적색)의 착색 화소 및 B(청색)의 착색 화소를 더 포함하고;(2) further comprising colored pixels of R (red) and colored pixels of B (blue) in a region partitioned by the black matrix;

상기 R(적색)의 착색 화소의 막두께 TR와 상기 BM의 막두께비(TR/BM)가 1.2∼10의 범위에 있고; 또한The film thickness TR of the colored pixel of R (red) and the film thickness ratio TR / BM of the BM are in the range of 1.2 to 10; Also

상기 B(청색)의 착색 화소의 막두께 TB와 상기 BM의 막두께비(TB/BM)가 1.2∼10의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 기재된 액정 표시 장치용 컬러 필터.The film thickness TB of the colored pixel of said B (blue) and the film thickness ratio (TB / BM) of said BM exist in the range of 1.2-10, The color filter for liquid crystal display devices of said (1) characterized by the above-mentioned.

(3)상기 블랙 매트릭스 상의 일부에 착색 화소의 착색층의 일부가 적층되어 형성된 돌기 부분의 착색 화소에 대하여 돌기해 있는 높이가 0.4㎛이하인 것을 특징으로 하는 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 액정 표시 장치용 컬러 필터.(3) The liquid crystal as described in said (1) or (2) characterized by the height which protrudes with respect to the colored pixel of the processus | protrusion part by which one part of the colored layer of a colored pixel was laminated | stacked on a part of said black matrix, or less. Color filter for display devices.

(4)상기 블랙 매트릭스의 투과 농도가 3.5이상이고, 또한 막두께가 1.3㎛이하인 것을 특징으로 하는 상기 (1)∼ (3) 중 어느 한 항에 기재된 액정 표시 장치용 컬러 필터.(4) The color filter for liquid crystal display devices according to any one of (1) to (3), wherein the black matrix has a transmission density of 3.5 or more and a film thickness of 1.3 µm or less.

(5)상기 기재의 G(녹색)의 C광원에 의한 CIE색도도 상에서의 색도점이 G(x≤0.32, y≥0.56)의 색도 범위에 있는 것을 특징으로 하는 상기 (1)∼(4) 중 어느 한 항에 기재된 액정 표시 장치용 컬러 필터.(5) In the above (1) to (4), the chromaticity point on the CIE chromaticity diagram by the G (green) C light source described above is in the chromaticity range of G (x≤0.32, y≥0.56). The color filter for liquid crystal display devices of any one of Claims.

(6)상기 기재의 R(적색), G(녹색), B(청색)의 3원색의 C광원에 의한 CIE색도도 상에서의 색도점이 R(x≥0.62, y≤0.35), G(x≤0.32, y≥0.56), 및 B(x≤0.17, y≤0.14)의 색도 범위에 있는 것을 특징으로 하는 상기 (2)∼(5) 중 어느 한 항에 기재된 액정 표시 장치용 컬러 필터.(6) The chromaticity points on the CIE chromaticity diagram of three primary colors of R (red), G (green), and B (blue) described above are R (x ≧ 0.62, y ≦ 0.35), and G (x ≦ 0.32, y≥0.56) and B (x≤0.17, y≤0.14) It exists in the chromaticity range, The color filter for liquid crystal display devices in any one of said (2)-(5) characterized by the above-mentioned.

(7)상기 안료가 카본블랙 및 흑연으로부터 선택되는 적어도 하나를 함유하는 것을 특징으로 하는 상기 (1)∼(6) 중 어느 한 항에 기재된 액정 표시 장치용 컬러 필터.(7) The color filter for liquid crystal display device according to any one of (1) to (6), wherein the pigment contains at least one selected from carbon black and graphite.

(8)상기 블랙 매트릭스에 함유되는 금속 입자 또는 금속 화합물 입자가 금속 입자인 것을 특징이라고 하는 상기 (1)∼(7) 중 어느 한 항에 기재된 액정 표시 장치용 컬러 필터.(8) The metal filter or metal compound particle contained in the said black matrix is a metal particle, The color filter for liquid crystal display devices in any one of said (1)-(7) characterized by the above-mentioned.

(9)상기 블랙 매트릭스에 함유되는 금속 입자 또는 금속 화합물 입자가 Ag 미립자 및 AgSn 합금 미립자로부터 선택되는 적어도 하나를 함유하는 것을 특징으로 하는 상기 (1)∼(7) 중 어느 한 항에 기재된 액정 표시 장치용 컬러 필터.(9) The liquid crystal display according to any one of (1) to (7), wherein the metal particles or metal compound particles contained in the black matrix contain at least one selected from Ag fine particles and AgSn alloy fine particles. Color filter for the device.

(10)상기 블랙 매트릭스가 상기 안료와, 상기 금속 입자 및 금속 화합물 입자로부터 선택되는 적어도 하나를 함유하는 감광성 수지 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 (1)∼(9) 중 어느 한 항에 기재된 액정 표시 장치용 컬러 필터.(10) Said black matrix contains photosensitive resin composition containing the said pigment and at least 1 selected from the said metal particle and a metal compound particle, The said any one of said (1)-(9) characterized by the above-mentioned. Color filter for liquid crystal display device.

(11)상기 블랙 매트릭스가 상기 안료와, 상기 금속 입자 및 금속 화합물 입자로부터 선택되는 적어도 하나를 함유하는 감광성 전사 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 (1)∼(10) 중 어느 한 항에 기재된 액정 표시 장치용 컬러 필터.(11) Said black matrix contains the pigment and the photosensitive transfer material containing at least 1 chosen from the said metal particle and a metal compound particle, The said any one of said (1)-(10) characterized by the above-mentioned. Color filter for liquid crystal display device.

(12) 상기 (1)∼(11) 중 어느 한 항에 기재된 액정 표시 장치용 컬러 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.(12) The liquid crystal display device containing the color filter for liquid crystal display devices in any one of said (1)-(11).

본건 특허 발명의 액정 표시 장치용 컬러 필터 및 액정 표시 장치에 의해, 명실에서의 표시 콘트라스트가 높고, TFT의 오동작이 없고, 표시 불균일이 없으며, 또한, 고색순도와 고투과율을 양립시킬 수 있다.By the color filter and liquid crystal display device for liquid crystal display devices of this invention, the display contrast in a bright room is high, there is no malfunction of TFT, there is no display unevenness, and high color purity and high transmittance can be made compatible.

도 1은 비교예에 있어서의 착색 화소의 두께와 돌기부의 높이의 일실시 형태를 나타내는 설명도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is explanatory drawing which shows one Embodiment of the thickness of the colored pixel and the height of a projection part in a comparative example.

도 2는 본 발명에 있어서의 착색 화소의 두께와 돌기부의 높이의 다른 실시 형태를 나타내는 설명도이다.It is explanatory drawing which shows another embodiment of the thickness of the colored pixel in this invention, and the height of a projection part.

본 발명의 액정 표시 장치용 컬러 필터는 투명 기판 상에 블랙 매트릭스를 갖는다. 상기 블랙 매트릭스가 구획하는 영역에 적어도 G(녹색)의 착색 화소를 갖는다. 상기 블랙 매트릭스 상의 일부에 상기 G(녹색)의 착색 화소의 착색층의 일부가 적층되어 있다. 상기 블랙 매트릭스가 안료와, 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자를 함유하여 이루어진다. 상기 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자의 함유량 A와 안료의 함유량 B의 비(질량비)(B/A)는 0.2이상 10이하이다. 또한, 상기 G(녹색)의 착색 화소의 막두께 TG와 블랙 매트릭스의 막두께 BM의 비(막두께 비) (TG/BM)는 1.2이상 10이하다.The color filter for liquid crystal display devices of this invention has a black matrix on a transparent substrate. At least G (green) colored pixels are included in the region partitioned by the black matrix. A part of the colored layer of the said G (green) colored pixel is laminated | stacked on the one part on the said black matrix. The black matrix comprises a pigment and metal particles and / or metal compound particles. The ratio (mass ratio) (B / A) of the content A of the metal particles and / or the metal compound particles and the content B of the pigment is 0.2 or more and 10 or less. The ratio (film thickness ratio) (TG / BM) of the film thickness TG of the G (green) colored pixel to the film thickness BM of the black matrix is 1.2 or more and 10 or less.

이하, 본 발명의 액정 표시 장치용 컬러 필터에 대하여, 그 주요한 구성 요건을 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이들의 설명 사항에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the main structural requirements of the color filter for liquid crystal display devices of this invention are demonstrated in detail. However, this invention is not limited to these description matters.

본 발명에 있어서, 블랙 매트릭스 중에는 적어도 안료와, 금속 입자 및 금속 화합물 입자 중 적어도 하나가 함유된다. 이들은 적어도 고분자 화합물 중에 분산 된 상태로 블랙 매트릭스 중에 함유된다.In the present invention, the black matrix contains at least one of a pigment, and metal particles and metal compound particles. They are contained in the black matrix at least in a dispersed state in the polymer compound.

본 발명에서 사용되는 금속 입자는 특별히 한정되지 않고, 어떠한 것이라도 사용하여도 좋다. 상기 금속 입자가 그 주성분으로서 포함하는 바람직한 금속의 예로는 원소 주기표의 제 4 주기, 제 5 주기, 및 제 6 주기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 금속, 및 제 8 족, 제 9 족, 제 10 족, 제 11 족, 제 12 족, 제 13 족 및 제 14 족으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 금속이 포함된다. 이들의 금속 중 제 4 주기, 제 5 주기, 또는 제 6 주기로 분류되고, 또한, 제 10 족, 제 11 족 또는 제 12 족으로 분류되는 금속이 보다 바람직하고, 금, 은, 구리, 백금, 또는 팔라듐이 더욱 바람직하다. 그 중에서도 금, 은, 구리가 특히 바람직하고, 특히 은이 바람직하다. 본 발명의 금속 입자에 함유되는 은은 콜로이드 은인 것이 가장 바람직하다. 금속 입자의 제조에는 상기 금속을 2종이상 조합시켜서 사용해도 좋다. 또한, 금속 입자의 제조에는 2종 이상의 상기 금속으로 이루어지는 합금으로서 사용하는 것도 가능하다.The metal particle used by this invention is not specifically limited, Any thing may be used. Examples of preferred metals that the metal particles contain as their main components include metals selected from the group consisting of the fourth, fifth, and sixth periods of the periodic table of elements, and Groups 8, 9, 10, and 10 Metals selected from the group consisting of Group 11, Group 12, Group 13 and Group 14 are included. Among these metals, metals classified into the fourth, fifth, or sixth cycles, and further classified into Group 10, Group 11, or Group 12 are more preferable, and include gold, silver, copper, platinum, or Palladium is more preferred. Especially, gold, silver, and copper are especially preferable, and silver is especially preferable. Most preferably, the silver contained in the metal particles of the present invention is colloidal silver. In the production of metal particles, two or more kinds of the above metals may be used in combination. Moreover, it can also be used as an alloy which consists of 2 or more types of said metals for manufacture of metal particle.

금속 입자는 시판의 것을 사용할 수 있다. 또한, 금속 입자는 금속 이온의 화학적 환원법, 무전해 도금법, 금속의 증발법 등에 의해 제조하는 것도 가능하다.Commercially available metal particles can be used. The metal particles can also be produced by chemical reduction of metal ions, electroless plating, evaporation of metals, or the like.

은 미립자(콜로이드 은)을 제조하는 방법의 예로는 미국 특허 제 2,688,601호 명세서에 기재되어 있는 젤라틴 수용액 중에서 가용성 은염을 하이드로퀴논에 의해 환원하는 방법, 독일 특허 제 1,096,193호 명세서에 기재되어 있는 난용성 은염을 히드라진에 의해 환원하는 방법, 미국 특허 제 2,921,914호 명세서에 기재되어 있는 탄닌산에 의해 은으로 환원하는 방법과 같이 은 이온을 용액 중에서 화학 적으로 환원하는 방법, 일본특허공개 평5-134358호 공보에 기재되어 있는 무전해 도금에 의해 은 입자를 형성하는 방법, 벌크 금속을 헬륨 등의 불활성 가스 중으로 증발시켜서, 용매로 콜드 트랩(cold trap)하는 가스 중 증발법 등의 방법 등의 종래부터 알려져 있는 방법이 포함된다. 또한, 은미립자(콜로이드 은)를 제조하는 방법의 예로는 Wiley & Sons, New York, 1933년 발행, Weiser저의 Colloidal Elements 에 기재된 Carey Le의 덱스트린 환원법에 의한 황색 콜로이드 은의 제조방법도 포함된다.Examples of the method for preparing silver fine particles (colloidal silver) include a method for reducing soluble silver salts with hydroquinone in an aqueous solution of gelatin described in US Pat. No. 2,688,601, and the poorly soluble silver salt described in German Pat. To chemically reduce silver ions in solution, such as the method of reducing by hydrazine to silver by tannic acid described in US Pat. No. 2,921,914, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-134358 Conventionally known methods such as a method of forming silver particles by the electroless plating described, a method of evaporating a bulk metal into an inert gas such as helium, and a cold trap with a solvent This includes. In addition, examples of the method for producing silver fine particles (colloidal silver) include a method for producing yellow colloidal silver by a dextrin reduction method of Carey Le described in Colloidal Elements of Wiley & Sons, New York, 1933, Weiser.

본 발명에서 말하는 「금속 화합물」이란, 상기 금속과 금속 이외의 원소의 화합물이다. 금속과 다른 원소의 화합물의 예로는 금속의 산화물, 황화물, 황산염, 탄산염 등이 포함된다. 이 중 황화물이 색조나 미립자 형성이 용이하기 때문에 특히 바람직하다. 이들 금속 화합물의 예로는 산화구리(II), 황화철, 황화 은, 황화 구리(II), 티탄블랙 등이 포함된다. 이 중 황화은은 색조, 미립자 형성의 용이함 및 안정성의 관점에서 특히 바람직하다.The "metal compound" used in this invention is a compound of the said metal and elements other than a metal. Examples of compounds of metals and other elements include oxides, sulfides, sulfates, carbonates, and the like of metals. Of these, sulfides are particularly preferred because they easily form color or fine particles. Examples of these metal compounds include copper oxide (II), iron sulfide, silver sulfide, copper sulfide (II), titanium black and the like. Among these, silver sulfide is particularly preferable in view of color tone, ease of particle formation, and stability.

본 발명에서 말하는 금속 화합물 입자의 예로는 다음과 같은 것도 포함된다.Examples of the metal compound particles referred to in the present invention include the following ones.

(1)상기 금속 화합물로 이루어지는 미립자(1) Fine particles composed of the metal compound

(2)2종류 이상의 금속 화합물 입자가 복합되어서 1개의 입자가 된 미립자(2) Fine particles in which two or more kinds of metal compound particles are combined to form one particle

(3)금속 입자와 금속 화합물 입자로 이루어지는 미립자(3) fine particles comprising metal particles and metal compound particles

2종류 이상의 금속 화합물 입자가 복합된 미립자의 구체예로는 은과 황화은의 복합 미립자, 황화구리와 황화은의 복합 미립자, 은과 산화구리(II)의 복합 미립자 등이 포함된다.Specific examples of the fine particles in which two or more kinds of metal compound particles are combined include composite fine particles of silver and silver sulfide, composite fine particles of copper sulfide and silver sulfide, composite fine particles of silver and copper (II) oxide, and the like.

또한, 금속 입자와 금속 화합물 입자로 이루어지는 미립자의 구체예로는 은과 황화은의 복합 미립자, 황화구리와 황화은의 복합 미립자, 은과 산화구리(II)의 복합 미립자 등이 포함된다.Specific examples of the fine particles composed of metal particles and metal compound particles include composite fine particles of silver and silver sulfide, composite fine particles of copper sulfide and silver sulfide, composite fine particles of silver and copper (II) oxide, and the like.

복합 미립자의 형상에는 특별히 제한은 없다. 상기 형상의 예로는 입자의 내부와 표면에서 조성이 다른 형상, 2종류의 입자가 합일된 형상 등이 포함된다.There is no restriction | limiting in particular in the shape of a composite fine particle. Examples of the shape include a shape having a different composition in the interior and the surface of the particle, a shape in which two kinds of particles are combined, and the like.

본 발명에서 사용되는 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자의 입자 지름에는 특별히 제한은 없다. 상기 평균 입자 지름은 바람직하게는 10∼3000nm의 범위내에 있고, 보다 바람직하게는 평균 입자 지름이 30∼2000nm의 범위내에 있으며, 더욱 바람직하게는 60∼200nm정도의 범위내에 있는 것이 바람직하다. 단, 상기 (1)의 금속 화합물 입자(복합 미립자가 아닌 것)의 경우, 평균 입자 지름이 60nm미만의 것은 색조가 약간 열악할 경우가 있다. 또한, 입자 지름이 3000nm를 초과하는 것은 분산성의 점에서 바람직하지 않은 경우가 있다.There is no restriction | limiting in particular in the particle diameter of a metal particle and / or a metal compound particle used by this invention. The average particle diameter is preferably in the range of 10 to 3000 nm, more preferably in the range of 30 to 2000 nm, and still more preferably in the range of about 60 to 200 nm. However, in the case of the metallic compound particles (not composite fine particles) of the above (1), the average particle diameter is less than 60 nm may be slightly poor in color tone. In addition, it is not preferable that particle diameter exceeds 3000 nm from a dispersible point.

금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자의 입자 지름 분포에 대해서도 특별히 제약은 없다.There is no restriction | limiting in particular also about the particle diameter distribution of a metal particle and / or a metal compound particle.

본 발명에서 사용되는 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자는 필요한 광학 농도를 얻기 위해서, 유색인 것이 필요하다. 여기서 유색이란, 400∼700nm의 파장 영역에서 광학 흡수를 나타내는 것을 말한다. 유색 금속 화합물의 예로는 황화은 황화구리, 황화철, 황화팔라듐, 산화은, 티탄블랙 등이 포함된다.The metal particles and / or metal compound particles used in the present invention need to be colored in order to obtain the required optical density. Here, colored means that optical absorption is shown in the wavelength range of 400-700 nm. Examples of colored metal compounds include silver sulfide, iron sulfide, palladium sulfide, silver oxide, titanium black and the like.

본 발명의 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자의 형상에는 특별히 제한은 없다. 사용할 수 있는 상기 입자 형상의 예로는 구형, 부정형, 판상, 입방체, 정팔 면체, 주상 등이 포함된다.There is no restriction | limiting in particular in the shape of the metal particle and / or metal compound particle of this invention. Examples of the particle shape that can be used include spherical shape, irregular shape, plate shape, cube, octahedron, columnar shape and the like.

필요에 따라서, 조성, 형상, 입자 지름, 광학 흡수 파장 영역이 다른 2종류 이상의 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자를 혼합하여 사용할 수 있다.If necessary, two or more kinds of metal particles and / or metal compound particles having different compositions, shapes, particle diameters, and optical absorption wavelength ranges can be mixed and used.

또한, 금속 입자의 제조방법에 대해서는 예를 들면,「초미립자의 기술과 응용에 있어서의 최신 동향 II(주우페 테크노리서치(주) 발행, 2002년)에 기재되어 있다.In addition, the manufacturing method of a metal particle is described, for example in "the latest trend II in the technique and application of ultra-fine particle | grains (Jupeu Techno Research Co., Ltd., 2002).

안료Pigment

본 발명에 있어서, 안료로서는 특히 흑색 안료 미립자가 바람직하게 사용된다. 그 예로는, Pigment Black 7(카본블랙 C.I.No.77266, 예를 들면 상품명: 미쓰비시 카본블랙 MA100(미쓰비시 가가쿠(주) 제작), 상품명: 미쓰비시 카본블랙#5(미쓰비시 가가쿠(주) 제작), 상품명: Black Pearls 430(Cabot Co.(카보트 사)제작), 흑연 등이 포함된다. 이들의 중에서 특히 카본블랙 및 흑연이 바람직하다.In the present invention, particularly black pigment fine particles are preferably used as the pigment. As an example, Pigment Black 7 (carbon black CINo.77266, for example, a brand name: Mitsubishi carbon black MA100 (made by Mitsubishi Kagaku Co., Ltd.), a brand name: Mitsubishi carbon black # 5 (made by Mitsubishi Kagaku Co., Ltd.)) , Black Pearls 430 (manufactured by Cabot Co.), graphite, etc. Among these, carbon black and graphite are particularly preferable.

본 발명에 있어서의 금속 입자 및 안료 미립자의 평균 입자 지름은 투과형 전자 현미경(TEM)에 의한 관찰에 의해, 50개의 입자 지름을 측정하고, 그 평균값을 산출한 것이다.The average particle diameter of the metal particle and pigment fine particle in this invention measures 50 particle diameters by observation with a transmission electron microscope (TEM), and calculates the average value.

본 발명의 컬러 필터를 구성하는 블랙 매트릭스 중에 함유되는 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자의 양 A와 안료의 양 B의 비(질량비 B/A)는 0.2∼10의 범위에 있고, 바람직하게는 0.3∼6.0의 범위에 있고, 보다 바람직하게는 0.8∼5.0의 범위에 있다. 상기 질량비 B/A가 0.2미만인 경우, 블랙 매트릭스 중에 있어서의 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자의 첨가량이 많기 때문에, 블랙 매트릭스의 반사율 이 높아지고, 그 때문에 TFT의 오동작이 발생되기 쉬워진다. 한편, 상기 질량비 B/A가 10을 초과할 경우, 블랙 매트릭스 중에 있어서의 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자가 적기 때문에, 블랙 매트릭스의 투과 광학 농도가 저하하고, 소정의 투과 광학 농도를 유지하기 위해서 블랙 매트릭스의 두께를 두껍게 할 필요가 있다. 이 결과, 블랙 매트릭스와 R, G, B의 각 화소의 중첩(단차)이 발생되므로, 컬러 필터의 평탄성이 악화되고 액정 표시 소자의 셀갭에 불균일이 발생한다. 이 불균일은 본 발명의 액정 표시 장치에 있어서 색불균일 등의 표시 불량으로 이어지기 쉽다.The ratio (mass ratio B / A) of the amount A of the metal particles and / or the metal compound particles and the amount B of the pigment contained in the black matrix constituting the color filter of the present invention is in the range of 0.2 to 10, preferably 0.3 It exists in the range of -6.0, More preferably, it exists in the range of 0.8-5.0. When the said mass ratio B / A is less than 0.2, since the addition amount of the metal particle and / or metal compound particle in a black matrix is large, the reflectance of a black matrix becomes high, and therefore malfunction of TFT becomes easy to occur. On the other hand, when the said mass ratio B / A exceeds 10, since there are few metal particles and / or metal compound particles in a black matrix, in order to maintain the predetermined transmission optical density, the transmission optical density of a black matrix falls. It is necessary to thicken the black matrix. As a result, overlapping (stepping) of the black matrix and the pixels of R, G, and B occurs, so that flatness of the color filter is deteriorated and nonuniformity occurs in the cell gap of the liquid crystal display element. This nonuniformity tends to lead to display defects, such as a color nonuniformity, in the liquid crystal display device of this invention.

또한, 본 발명의 컬러 필터를 구성하는 RGB화소 중에서 가장 시감도가 높은 G(녹색)의 착색 화소의 막두께(TG)와 블랙 매트릭스의 막두께(BM)의 막두께비 (TG/BM)는 1.2∼10의 범위에 있고, 바람직하게는 1.4∼5.0의 범위에 있으며, 보다 바람직하게는 2.0∼4.0의 범위에 있다. 또한, R(적색), G(녹색), B(청색)의 착색 화소의 각 막두께 TR, TG, TB와 블랙 매트릭스의 막두께 BM의 막두께비 TR/BM, TG/BM 및 TB/BM이 모두 1.2∼10의 범위에 있는 것이 바람직하고, 이들의 막두께비가 모두 1.4∼5.0의 범위에 있는 것이 보다 바람직하고, 이들의 막두께비가 모두 2.0∼4.0의 범위에 있는 것이 더욱 바람직하다.In addition, among the RGB pixels constituting the color filter of the present invention, the film thickness ratio TG of the G (green) colored pixel having the highest visibility and the film thickness ratio TG / BM of the black matrix film thickness BM are 1.2 to It exists in the range of 10, Preferably it exists in the range of 1.4-5.0, More preferably, it exists in the range of 2.0-4.0. In addition, the film thickness ratios TR, BM, TG / BM, and TB / BM of the respective film thicknesses TR, TG, TB of the colored pixels R (red), G (green), and B (blue), and the film thickness BM of the black matrix are It is preferable that all are in the range of 1.2-10, It is more preferable that all these film thickness ratios are in the range of 1.4-5.0, It is still more preferable that all these film thickness ratios are in the range of 2.0-4.0.

여기서, 착색 화소의 막두께는 하기와 같다. 즉, 도 1에 있어서, 착색 화소의 막두께란, 착색 화소(10)의 플랫 부분의 두께이고, Ha로 나타내어지는 두께를 말한다.(도 1에 있어서는 BM>Ha다.) 또한, 도 2에 있어서, 착색 화소의 막두께란, 착색 화소(12)의 플랫 부분의 두께이고, Hc로 나타내어진 두께를 말한다.(도 2에 있어서는 Hc>BM이다.)Here, the film thickness of a colored pixel is as follows. That is, in FIG. 1, the film thickness of a colored pixel is the thickness of the flat part of the colored pixel 10, and refers to the thickness shown by Ha. (In FIG. 1, BM> Ha.) Moreover, in FIG. In this case, the film thickness of the colored pixel is the thickness of the flat portion of the colored pixel 12, and refers to the thickness expressed by Hc. (Hc> BM in FIG. 2).

본 발명에 있어서, 상기 블랙 매트릭스상 일부에 착색 화소(G)의 착색층의 일부가 적층되어 형성된 돌기 부분의 착색 화소에 대하여 돌기해 있는 높이는 0∼0.4㎛의 범위에 있는 것이 바람직하고, 0∼0.3㎛의 범위에 있는 것이 보다 바람직하고, 0∼0.2㎛의 범위에 있는 것이 더욱 바람직하다. 여기서, 블랙 매트릭스상의 돌기 부분의 돌기 높이란 하기와 같다. 즉, 도 1에 있어서, 돌기 높이란, 블랙 매트릭스(BM) 상의 착색 화소(10)의 플랫 부분의 두께로부터 돌기해 있는 부분의 높이(두께)를 말하고, 돌기 부분의 막두께 Hb를 말한다. 또한, 도 2에 있어서, 돌기 높이란, 착색 화소(12)의 플랫 부분의 두께로부터 돌기해 있는 부분의 높이(두께)를 말하고, 돌기 부분의 막두께 Hd를 말한다. 블랙 매트릭스상의 착색 화소의 돌기 부분의 높이(두께)가 0.4㎛보다 크면, 광이 통과하는 화소의 두께 차에 의한 액정 배향의 흐트러짐에 의한 색불균일이 발생할 경우가 있으므로 바람직하지 않다.In this invention, it is preferable that the height which protrudes with respect to the colored pixel of the projection part by which one part of the colored layer of the colored pixel G was laminated | stacked on the said black matrix part is laminated | stacked, and it is preferable that it is 0-0.4 micrometer. It is more preferable to exist in the range of 0.3 micrometer, and it is still more preferable to exist in the range of 0-0.2 micrometer. Here, the projection height of the projection portion on the black matrix is as follows. That is, in FIG. 1, projection height means the height (thickness) of the part which protrudes from the thickness of the flat part of the colored pixel 10 on black-matrix BM, and means the film thickness Hb of a projection part. In addition, in FIG. 2, projection height means the height (thickness) of the part which protrudes from the thickness of the flat part of the colored pixel 12, and means the film thickness Hd of a projection part. When the height (thickness) of the projection part of the colored pixel on a black matrix is larger than 0.4 micrometer, since the color nonuniformity by the disturbance of the liquid-crystal orientation by the thickness difference of the pixel which light passes may generate | occur | produce, it is unpreferable.

블랙 매트릭스의 투과 농도가 3.5∼10.0의 범위에 있고, 또한 막두께가 0.1∼1.3㎛의 범위에 있는 것이 바람직하다. 상기 투과 농도는 3.8이상이고, 또한, 상기 막두께가 1.1㎛이하인 것이 보다 바람직하다. 상기 투과 농도는 4.0이상이고, 또한 상기 막두께가 1.0㎛이하인 것이 더욱 바람직하다. 블랙 매트릭스의 투과 농도가 높고, 또한 그 막두께가 충분한 차광을 유지할 수 있는 범위로 얇다면, 블랙 매트릭스와 R, G, B의 각 화소의 중첩(단차)이 발생하기 어려우므로, 컬러 필터의 평탄성이 개선된다. 그 때문에 액정표시 소자의 셀갭에 의한 불균일이 발생하기 어려우므로, 색불균일 등의 표시 불량이 발생하지 않는다.It is preferable that the permeation density | concentration of a black matrix exists in the range of 3.5-10.0, and the film thickness exists in the range of 0.1-1.3 micrometer. It is more preferable that the said permeation concentration is 3.8 or more and the said film thickness is 1.1 micrometers or less. It is further more preferable that the said permeation concentration is 4.0 or more, and the said film thickness is 1.0 micrometer or less. If the black matrix has a high transmittance density and is thin in a range in which the film thickness thereof can maintain sufficient light shielding, superimposition (step difference) between the black matrix and each pixel of R, G, and B is less likely to occur. This is improved. Therefore, since the nonuniformity by the cell gap of a liquid crystal display element hardly arises, display defects, such as a color nonuniformity, do not arise.

블랙 매트릭스의 투과 농도와 막두께를 상기 범위내로 제어하기 위한 수단의 예로는 블랙 매트릭스 중에 있어서의 안료와 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자의 질량비 등을 소정의 범위로 조정하는 것 등이 포함된다.Examples of the means for controlling the permeation concentration and the film thickness of the black matrix within the above ranges include adjusting the mass ratio of the pigment and the metal particles and / or the metal compound particles in the black matrix to a predetermined range and the like.

블랙 매트릭스Black matrix

본 발명의 블랙 매트릭스는 안료 및 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자를 함유하고, 또한 바인더가 되는 폴리머나 분산 안정제 및 계면활성제 등을 함유하는 수지 조성물로 형성되는 것이 바람직하다. 특히, 상기 블랙 매트릭스는 감광성을 갖는 금속 입자를 함유하는 감광성 수지 조성물(이하, 「블랙 매트릭스 제작용 조성물」이라고도 말한다)에 의해 형성되는 것이 바람직하다. 이러한 감광성을 부여하기 위한 상기 감광성 수지 조성물의 예로는 일본특허공개 평 10-160926호 공보의 단락 [0016]∼[0022] 및 [0029]에 기재된 것이 포함된다.It is preferable that the black matrix of this invention is formed from the resin composition which contains a pigment, a metal particle, and / or a metal compound particle, and contains the polymer used as a binder, a dispersion stabilizer, surfactant, etc. In particular, the black matrix is preferably formed of a photosensitive resin composition (hereinafter also referred to as "composition for producing black matrix") containing metal particles having photosensitivity. Examples of the photosensitive resin composition for imparting such photosensitivity include those described in paragraphs [0016] to [0022] and [0029] of JP-A-10-160926.

상기 은 콜로이드와 같은 금속 입자를 수분산물의 형태로 사용하는 경우에는, 상기 블랙 매트릭스 제작용 조성물이 수매체계의 조성물인 것이 바람직하다. 이러한 수계 블랙 매트릭스 제작용 조성물의 예로는, 일본특허공개 평 8-271727호 공보의 단락 [0015]∼[0023]에 기재된 것이 포함되고, 시판의 상기 조성물의 바람직한 예로는 SPP-M20(상품명, 도요 고우세이 고교(주) 제작) 등이 포함된다.When metal particles such as silver colloid are used in the form of an aqueous product, the composition for preparing the black matrix is preferably a composition of a purchase system. Examples of such a composition for producing an aqueous black matrix include those described in paragraphs [0015] to [0023] of JP-A-8-271727, and a preferred example of the commercially available composition is SPP-M20 (trade name, Toyo Kosei Kogyo Co., Ltd.) etc. are included.

블랙 매트릭스 제작용 조성물은 광중합성 화합물이나 광중합 개시제 및 금지제 등을 첨가해서 조제하여도 좋다.The composition for preparing the black matrix may be prepared by adding a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, a inhibitor, and the like.

상기의 블랙 매트릭스 제작용 조성물에 사용하는 광중합성 화합물의 바람직한 예로는 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖고, 광의 조사에 의하여 부가 중합할 수 있는 모노머 또는 올리고머가 포함된다. 이러한 모노머 또는 올리고머의 예로는, 분자내에 적어도 1개의 부가 중합가능한 에틸렌성 불포화기를 갖고, 비점이 상압에서 100℃이상인 화합물이 포함된다.Preferable examples of the photopolymerizable compound used in the composition for producing the black matrix include monomers or oligomers having an ethylenically unsaturated double bond and capable of addition polymerization by irradiation with light. Examples of such monomers or oligomers include compounds having at least one addition polymerizable ethylenically unsaturated group in a molecule and having a boiling point of 100 ° C. or higher at atmospheric pressure.

상기 광중합성 화합물의 구체예로는 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트 및 페녹시에틸(메타)아크릴레이트 등의 단관능 아크릴레이트나 단관능 메타크릴레이트; 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 헥산디올디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(아크릴로일옥시프로필)에테르, 트리(아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 트리(아크릴로일옥시에틸)시아누레이트, 글리세린트리(메타)아크릴레이트; 및 트리메틸올프로판이나 글리세린 등의 다관능 알코올에 에틸렌옥시드 또는 프로필렌 옥시드를 부가한 후, (메타)아크릴레이트화한 것 등의 다관능 아크릴레이트나 다관능 메타크릴레이트가 포함된다.Specific examples of the photopolymerizable compound include monofunctional acrylates and monofunctional methacrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, and phenoxyethyl (meth) acrylate; Polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylol ethane triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropanediacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, hexanedioldi (meth) acrylate, trimethylolpropane Tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, tri (acryloyloxyethyl) cyanurate, glycerin tri (meth) acrylate; And polyfunctional acrylates and polyfunctional methacrylates such as those obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to polyfunctional alcohols such as trimethylolpropane and glycerin and then (meth) acrylated.

상기 광중합성 화합물의 구체예로는 일본특허공고 소48-41708호 공보, 일본특허공고 소50-6034호 공보 및 일본특허공개 소51-37193호 공보에 기재되어 있는 우레탄아크릴레이트류; 일본특허공개 소48-64183호 공보, 일본특허공고 소49-43191호 공보 및 일본특허공고 소52-30490호 공보에 기재되어 있는 폴리에스테르아크릴레이트류; 에폭시 수지와 (메타)아크릴산의 반응 생성물인 에폭시아크릴레이트류 등의 다관능 아크릴레이트나 메타크릴레이트를 들 수 있다. 이들 중에서도 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트 등도 포함된다.Specific examples of the photopolymerizable compound include urethane acrylates described in JP-A-48-41708, JP-A-50-6034, and JP-A-51-37193; Polyester acrylates described in JP-A-48-64183, JP-A-49-43191 and JP-A-52-30490; Polyfunctional acrylates and methacrylates, such as epoxy acrylates which are reaction products of an epoxy resin and (meth) acrylic acid, are mentioned. Among them, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate and the like are also included.

이상의 모노머 또는 올리고머는 1종을 단독으로도 2종류 이상을 혼합하여 사용해도 좋다. 상기 블랙 매트릭스 제작용 조성물의 전체 고형분에 대하여 상기 광중합성 화합물의 함유량은 5∼50질량%가 일반적이고, 특히 10∼40질량%가 바람직하다.You may use the above monomer or oligomer individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. As for content of the said photopolymerizable compound with respect to the total solid of the said composition for black matrix preparation, 5-50 mass% is common, and 10-40 mass% is especially preferable.

본 발명의 블랙 매트릭스 제작용 조성물에 사용하는 광중합 개시제의 예로는, 미국 특허 제2367660호 명세서에 개시되어 있는 비시날폴리케탈도닐 화합물, 미국 특허 제2448828호 명세서에 기재되어 있는 아실로인에테르 화합물, 미국 특허 제2722512호 명세서에 기재되어 있는 α-탄화수소로 치환된 방향족 아실로인 화합물, 미국 특허 제3046127호 명세서 및 동 제2951758호 명세서에 기재되어 있는 다핵 퀴논 화합물, 미국 특허 제3549367호 명세서에 기재되어 있는 트리아릴이미다졸 이량체와 p-아미노케톤의 조합, 일본특허공개 소51-48516호 공보에 기재된 벤조티아졸 화합물과 트리할로메틸-s-트리아진 화합물, 미국 특허 제4239850호 명세서에 기재되어 있는 트리할로메틸-s-트리아진 화합물, 미국 특허 제4212976호 명세서에 기재되어 있는 트리할로메틸옥사디아졸 화합물 등이 포함된다. 특히, 트리할로메틸-s-트리아진, 트리할로메틸옥사디아졸 및 트리아릴이미다졸 이량체가 바람직하다. 블랙 매트릭스 제작용 조성물의 전체 고형분에 대한 상기 광중합 개시제의 함유량 은 0.5∼20질량%가 일반적이고, 특히 1∼15질량%가 바람직하다.As an example of the photoinitiator used for the composition for black matrix manufacture of this invention, the bisinal poly ketaldonyl compound disclosed by US patent 2367660 specification, and the acyl inether compound described in US patent 2448828 specification are mentioned. , Aromatic acyloin compounds substituted with α-hydrocarbons described in US Pat. No. 2722512, multinuclear quinone compounds described in US Pat. No. 3046127 and 2951758, US Pat. Combination of described triarylimidazole dimers and p-aminoketones, benzothiazole compounds and trihalomethyl-s-triazine compounds described in Japanese Patent Application Laid-open No. 51-48516, US Pat. No. 4,393,850 Trihalomethyl-s-triazine Compounds Described in the specification, trihalomethyloxadiazoles described in US Pat. No. 4212976 And the like. In particular, trihalomethyl-s-triazine, trihalomethyloxadiazole and triarylimidazole dimers are preferred. As for content of the said photoinitiator with respect to the total solid of the composition for black-matrix preparation, 0.5-20 mass% is common, and 1-15 mass% is especially preferable.

본 발명에 있어서의 블랙 매트릭스 제작용 조성물에는 금지제(열중합 방지제)를 더 포함할 수 있다. 상기 열중합 방지제의 예로는, 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, 디-t-부틸-p-크레졸, 피로갈롤, t-부틸카테콜, 벤조퀴논, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2-메르캅토벤즈이미다졸, 페노티아진 등이 포함된다.The composition for black matrix preparation in the present invention may further contain an inhibitor (thermal polymerization inhibitor). Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl -6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, phenothiazine, and the like.

본 발명에 있어서의 블랙 매트릭스 제작용 조성물에는, 필요에 따라서, 각종 첨가제, 예를 들면 가소제, 계면활성제, 밀착 촉진제, 자외선 흡수제, 용제 등을 함유시킬 수 있다.The composition for black matrix preparation in this invention can be made to contain various additives, for example, a plasticizer, surfactant, an adhesion promoter, a ultraviolet absorber, a solvent, etc. as needed.

본 발명에 있어서의 블랙 매트릭스 제작용 조성물은 상술한 각 고형 성분을 용제에 용해 또는 분산시킨 도포액으로서 조제하고, 이들을 기판이나 가지지체 등의 표면에 도포시켜 건조하여 착색 수지층을 형성하기 위해서 이용한다.The composition for black matrix preparation in this invention is prepared as a coating liquid which melt | dissolved or disperse | distributed each solid component mentioned above in a solvent, apply | coats these to the surface, such as a board | substrate or a support body, and is used in order to form a colored resin layer. .

블랙 매트릭스 제작용 조성물의 제조에 사용되는 상기 유기용제의 예로는 메틸에틸케톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 시클로헥사놀, 유산 에틸, 유산 메틸, 카프로락탐 등이 포함된다.Examples of the organic solvent used in the preparation of the composition for preparing the black matrix include methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, cyclohexanol, ethyl lactate, methyl lactate, caprolactam, and the like. This includes.

블랙 매트릭스용 수지층(이하, 「차광층」이라고도 함)의 막두께는 최종적으로는 컬러 필터 상에 형성되는 스페이서부의 구성과 셀갭 및 블랙 매트릭스 제작용 조성물을 사용한 블랙 매트릭스 형성 공정에서의 막두께의 감소율 등을 감안하여 결정된다.The film thickness of the resin layer for black matrices (hereinafter also referred to as "light shielding layer") is the composition of the spacer part finally formed on the color filter and the film thickness in the black matrix forming step using the cell gap and the composition for producing the black matrix. It is decided in consideration of the reduction rate.

본 발명에 있어서의 블랙 매트릭스 제작용 조성물을 공지의 방법으로 기판 또는 후술하는 가지지체의 표면에 도포하여 건조하고, 감광성 시트(차광층)를 형성할 수 있다.The composition for black matrix preparation in this invention can be apply | coated to the surface of a board | substrate or the support body mentioned later by a well-known method, and it can dry, and can form a photosensitive sheet (light shielding layer).

블랙 매트릭스 제작용 조성물의 도포 수단의 예로는 슬릿 코터, 스피너, 회전 코터, 롤러 코터, 커튼 코터, 나이프 코터, 와이어 바코터, 압출기 등이 포함된다. 상기 형성된 도포층은 그 후 건조함으로써 감광성 수지층 또는 감광성 전사 시트를 얻을 수 있다.Examples of the application means of the composition for producing the black matrix include slit coaters, spinners, rotary coaters, roller coaters, curtain coaters, knife coaters, wire bar coaters, extruders, and the like. The formed coating layer can then be dried to obtain a photosensitive resin layer or a photosensitive transfer sheet.

감광성 전사 재료Photosensitive transfer material

본 발명에 있어서는 상술의 감광성을 갖는 블랙 매트릭스 작성용의 안료 및 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자 함유 조성물을 사용하고, 감광성 전사 재료를 제작하고, 상기 감광성 전사 재료를 사용하여 블랙 매트릭스를 제작할 수 있다. 상기 감광성 전사 재료는 가지지체 상에, 적어도 상기의 감광성을 갖는 안료 및 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자를 함유하는 블랙 매트릭스 작성용 조성물로 이루어지는 감광성 차광층을 형성한 것이다. 이 감광성 차광층의 막두께는 0.3∼3.0㎛정도의 범위에 있는 것이 바람직하고, 0.5∼2.0㎛정도의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다.In the present invention, a photosensitive transfer material can be produced using the pigment for producing a black matrix having the above photosensitivity, a metal particle and / or a metal compound particle-containing composition, and a black matrix can be produced using the above photosensitive transfer material. . The said photosensitive transfer material forms the photosensitive light shielding layer which consists of a composition for black-matrix creation containing the pigment | dye and metal particle which have said photosensitive property, and / or metal compound particle on the branch body at least. It is preferable that the film thickness of this photosensitive light shielding layer exists in the range of about 0.3-3.0 micrometers, and it is more preferable that it exists in the range which is about 0.5-2.0 micrometers.

상기 감광성 전사 재료는 그 감광성 수지 재료로서 상술의 감광성의 안료 및 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자 함유 조성물을 사용하는 것 이외는, 공지의 감광성 전사 재료와 기본적으로는 동일한 구성을 가질 수 있다. 공지의 감광성 전사 재료의 구성의 예는 일본특허공개 평 5-173320호 공보 등에 기재되어 있다. 이 러한 감광성 전사 재료의 가장 기본적인 구성은 유연한 플라스틱 필름 등으로 이루어지는 가지지체의 시트와 상기 가지지체 시트 상에 형성된 블랙 매트릭스 제작용 조성물로 이루어지는 박층을 포함한다. 가지지체 시트와 차광층의 사이에, 그들간의 박리를 용이하게 하는 층, 차광층의 쿠션이 되는 층 등과 같은 언더코트층이나 중간층을 임의로 형성할 수 있다. 바람직한 구성의 예로는 가지지체 시트 상에, 알칼리 가용인 열가소성 수지층, 중간층, 그리고 차광층이 형성된 구성이 포함된다. 차광층 상에는, 임의로 보호 필름이 더 적층되어도 좋다.The photosensitive transfer material may have a structure basically the same as that of a known photosensitive transfer material, except that the above-mentioned photosensitive pigment and metal particles and / or metal compound particle-containing compositions are used as the photosensitive resin material. Examples of the configuration of known photosensitive transfer materials are described in JP-A-5-173320. The most basic configuration of such a photosensitive transfer material includes a sheet of a sheet made of a flexible plastic film or the like and a thin layer made of a composition for preparing a black matrix formed on the sheet sheet. An undercoat layer or an intermediate layer, such as a layer for facilitating peeling therebetween, a layer serving as a cushion for the light shielding layer, or the like can be arbitrarily formed between the support sheet and the light shielding layer. Examples of the preferred configuration include a configuration in which an alkali-soluble thermoplastic resin layer, an intermediate layer, and a light shielding layer are formed on a support sheet. On the light shielding layer, a protective film may be further arbitrarily laminated.

본 발명에 있어서의 상기 가지지체, 중간층, 열가소성 수지층으로서, 일본특허공개 2004-347801호 공보의 단락번호 「0034」∼[0040]에 기재된 것과 동일한 가지지체, 중간층, 열가소성 수지층을 사용할 수 있다.As the supporting member, the intermediate layer, and the thermoplastic resin layer in the present invention, the same supporting member, intermediate layer, and thermoplastic resin layer as described in paragraphs “0034” to [0040] of JP-A-2004-347801 can be used. .

본 발명의 감광성 전사 재료를 제작하는 공정에는 가지지체 상에 본 발명의 감광성을 갖는 금속 입자를 함유하는 블랙 매트릭스 작성용 조성물의 용액을 예를 들면, 슬릿 코터, 스피너, 회전 코터, 롤러 코터, 커튼 코터, 나이프 코터, 와이어 바코터, 압출기 등의 도포 수단을 사용하여 도포하여 건조시키는 공정이 포함될 수 있다. 상기의 알칼리 가용성 열가소성 수지의 층을 형성할 경우, 상기 알칼리 가용성 열가소성 수지층도 동일한 공정으로 제작할 수 있다.In the process of producing the photosensitive transfer material of the present invention, a solution of the composition for preparing a black matrix containing the metal particles having the photosensitivity of the present invention on a support, for example, a slit coater, a spinner, a rotation coater, a roller coater, a curtain A coating and drying process may be included using a coating means such as a coater, knife coater, wire bar coater, or extruder. When forming the layer of said alkali-soluble thermoplastic resin, the said alkali-soluble thermoplastic resin layer can also be manufactured by the same process.

본 발명의 감광성 전사 재료는, 상술한 바와 같이 안료 및 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자 함유 조성물로 이루어지는 감광성 차광층을 형성하고 있기 때문에, 상기 전사 재료를 사용하고, 박막으로 또한 광학농도가 높은 차광층을 형성하여 블랙 매트릭스를 제작할 수 있다.Since the photosensitive transfer material of this invention forms the photosensitive light shielding layer which consists of a pigment, a metal particle, and / or a metal compound particle containing composition as mentioned above, it uses the said transfer material, and is light-shielded with high optical density in a thin film The layers can be formed to produce a black matrix.

블랙 매트릭스의 제작Fabrication of the Black Matrix

본 발명의 블랙 매트릭스는 상술의 (감광성)안료 입자 및 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자 함유 조성물 또는 이 조성물을 갖는 감광성 전사 재료를 사용하여 제작되는 차광층으로부터 형성된다. 상기 블랙 매트릭스의 막두께는 0.1∼1.3㎛정도가 일반적이다. 본 발명의 블랙 매트릭스는 안료 입자 및 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자를 균일하게 분산시키는 것이므로, 상기 범위내의 막두께를 갖는 박막이라도 충분한 광학 농도(차폐 성능)을 나타낼 수 있다.The black matrix of the present invention is formed from the above-mentioned (photosensitive) pigment particles and metal particles and / or metal compound particle-containing compositions or light shielding layers produced using the photosensitive transfer material having the composition. The film thickness of the black matrix is generally about 0.1 to 1.3 mu m. Since the black matrix of the present invention uniformly disperses pigment particles and metal particles and / or metal compound particles, even a thin film having a film thickness within the above range can exhibit sufficient optical density (shielding performance).

감광성을 갖는 안료 입자 및 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자 함유 조성물을 사용하여 블랙 매트릭스를 제작하는 방법의 예로는 광투과성의 기판에 감광성을 갖고, 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자 함유 조성물을 도포하여 형성되는 층(차광층)에 통상의 방법에 의해 블랙 매트릭스용의 포토 마스크를 통하여 노광하고, 그 후 현상함으로써 블랙 매트릭스를 형성하는 방법 등이 포함된다. 상기 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자 함유 조성물을 도포하는 방법에는 상기 감광성 전사 재료를 제작할 때의 도포 방법을 동일하게 시용할 수 있다.An example of a method of producing a black matrix using a photosensitive pigment particle and a metal particle and / or a metal compound particle-containing composition is to have a photosensitivity on a light-transmissive substrate and to apply the metal particle and / or metal compound particle-containing composition to The method of forming a black matrix by exposing through the photomask for black matrices by a conventional method, and developing after that to the layer (light shielding layer) formed, etc. are included. The coating method at the time of producing the said photosensitive transfer material can be similarly applied to the method of apply | coating the said metal particle and / or metal compound particle containing composition.

또, 안료 입자 및 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자 함유 조성물이 감광성을 갖지 않을 경우는 광투과성 기판에 안료 입자 및 금속 입자 및/또는 금속 화합물 입자 함유 조성물을 도포하여 형성한 층 상에, 현상 가능한 감광성 수지 조성물로부터의 층을 형성하고, 통상의 방법에 의해 블랙 매트릭스용 포토 마스크를 통하여 노광하고, 이어서 현상하고 에칭함으로써 블랙 매트릭스를 형성할 수 있다.Moreover, when a pigment particle and a metal particle and / or a metal compound particle containing composition do not have photosensitivity, it is developable on the layer formed by apply | coating a pigment particle and a metal particle and / or a metal compound particle containing composition to a light transmissive substrate. A black matrix can be formed by forming a layer from the photosensitive resin composition, exposing through a photomask for black matrices by a conventional method, then developing and etching.

상기의 감광성 전사 재료를 사용하는 블랙 매트릭스의 제작 방법은 광투과성 기판 상에 상기 감광성 전사 재료를 감광성 전사 재료의 감광성 차광층이 접촉하도록 배치하여 적층하고, 이어서, 감광성 전사 재료와 광투과성 기판의 적층체로부터 가지지체를 박리하고, 그 후 블랙 매트릭스용 포토 마스크를 통하여 상기 감광성 차광층을 노광한 후, 현상하여 블랙 매트릭스를 형성하는 방법 등을 이용할 수 있다. 이와 같이, 본 발명의 블랙 매트릭스의 제조 방법은 번거로운 공정을 필요로 하지 않고, 간편하며 저렴하다.In the method for producing a black matrix using the photosensitive transfer material, the photosensitive transfer material is disposed on the light transmissive substrate so that the photosensitive light shielding layer of the photosensitive transfer material is in contact with each other, and then the photosensitive transfer material and the light transmissive substrate are laminated. The base member is peeled from the sieve, and then the photosensitive light-shielding layer is exposed through a black matrix photomask, and then developed to form a black matrix. As such, the method for producing the black matrix of the present invention does not require a cumbersome process, and is simple and inexpensive.

착색 조성물 및 안료Coloring Compositions and Pigments

다음에, 본 발명의 컬러 필터에 사용하는 착색 화소용의 조성물에 대해서 설명한다.Next, the composition for colored pixels used for the color filter of this invention is demonstrated.

본 발명의 컬러 필터용 착색 조성물로서 사용 가능한 조성물의 예에는 일본특허공개 2004-347831호 공보의 단락번호[0046]∼[0056]에 기재된 조성물이 포함된다.Examples of the composition which can be used as the color composition for color filters of the present invention include the compositions described in paragraphs [0046] to [0056] of JP-A-2004-347831.

상기 안료 중에서도, 본 발명의 액정 표시 장치용 컬러 필터의 R(적색)화소는 고색순도와 평탄성을 얻는 관점에서, 안료로서 적어도 C.I.피그먼트 레드 254(C.I.PR-254)를 함유하는 것이 바람직하다.Among the said pigments, it is preferable that the R (red) pixel of the color filter for liquid crystal display devices of this invention contains at least C.I. pigment red 254 (C.I.PR-254) as a pigment from a viewpoint of obtaining high color purity and flatness.

또, 본 발명의 상기 컬러 필터의 G(녹색)화소는, 고색순도와 평탄성을 얻는 관점에서, 안료로서 적어도 C.I.피그먼트 그린 36(C.I.PG-36) 및 C.I.피그먼트 옐로우 138(C.I.PY-138), C.I.피그먼트 옐로우 139(C.I.PY-139), C.I.피그먼트 옐로우 150(C.I.PY-150) 중 어느 하나를 함유하는 것이 바람직하다.In addition, the G (green) pixel of the color filter of the present invention has at least CI pigment green 36 (CIPG-36) and CI pigment yellow 138 (CIPY-138) as a pigment from the viewpoint of obtaining high color purity and flatness. ), CI pigment yellow 139 (CIPY-139), CI pigment yellow 150 (CIPY-150) preferably contains any one.

또한, 본 발명의 컬러 필터의 B(청색)화소는, 고색순도와 평탄성을 얻는 관 점에서, 안료로서 적어도 C.I.피그먼트 블루 15:6(C.I.PB-15:6)을 함유하는 것이 바람직하다.In addition, the B (blue) pixel of the color filter of the present invention preferably contains at least C.I. Pigment Blue 15: 6 (C.I.PB-15: 6) as a pigment from the viewpoint of obtaining high color purity and flatness.

상기의 안료계는 투과 영역이 장파측에 있어 고색순도를 달성할 수 있다. 또한, 안료의 분산성 및 안정성이 양호하고, 본 발명의 액정 표시 장치용 컬러 필터 용도에 적합한 물성을 갖고 있다.The pigment system can achieve high color purity in the permeable region on the long wave side. Moreover, the dispersibility and stability of a pigment are favorable, and it has a physical property suitable for the color filter use for liquid crystal display devices of this invention.

본 발명의 안료 조성물에 있어서, 상기 착색제(안료)의 함유량은 조성물의 전체 고형분 질량에 대하여, 0.1∼70질량%의 범위에 있는 것이 바람직하고, 0.5∼60질량%의 범위에 있는 것이 보다 바람직하고, 1.0∼50질량%의 범위에 있는 것이 특히 바람직하다.In the pigment composition of this invention, it is preferable that content of the said coloring agent (pigment) exists in the range of 0.1-70 mass% with respect to the total solid mass of a composition, It is more preferable to exist in the range of 0.5-60 mass%, It is especially preferable to exist in the range of 1.0-50 mass%.

상기한 바와 같이 안료계를 선정함으로써, R(적색), G(녹색), B(청색)의 3원색의 C광원에 의한 CIE색도도 상에서의 색도점이 G(x≤0.32, y≥0.56)이 바람직하고, 보다 바람직하게는 R(x≥0.62, y≤0.35), G(x≤0.32,y≥0.56), B(x≤0.17, y≤0.14)를 만족하는 바람직한 액정 표시 장치용 컬러 필터를 얻을 수 있다. 이것에 의해, 백라이트 광의 이용 효율을 저하시키지 않고, TV 용도의 주요한 색도 규격인 HDTV규격, 즉, R(x=0.64, y=0.33), G(x=0.3, y=0.6), B(x=0.15, y=0.06)을 상회하도록 고색순도화를 더욱 실현시킬 수 있다.By selecting the pigment system as described above, the chromaticity point on the CIE chromaticity diagram of three primary colors of R (red), G (green), and B (blue) is G (x≤0.32, y≥0.56). Preferred color filters for preferred liquid crystal display devices, more preferably satisfying R (x? 0.62, y? 0.35), G (x? 0.32, y? 0.56), and B (x? 0.17, y? 0.14) You can get it. Thereby, the HDTV standard which is the main chromaticity standard for TV use, without degrading the utilization efficiency of backlight light, ie, R (x = 0.64, y = 0.33), G (x = 0.3, y = 0.6), B (x High color purity can be further realized so as to exceed 0.15, y = 0.06).

컬러 필터의 C광원에 의한 CIE색도도 상에서의 색도점의 측정 방법의 예로는 투명 기판상에 형성된 각 화소를 현미 분광 광도계를 사용하여 측정하는 방법, 또는 사방이 3cm 정도의 크기의 화소를 제작하고, 통상의 자외 가시 분광 광도계로 측정하는 방법 등이 포함된다.Examples of the method for measuring the chromaticity point on the CIE chromaticity diagram by the C light source of the color filter include measuring each pixel formed on the transparent substrate using a microscopic spectrophotometer, or manufacturing pixels having a size of about 3 cm in all directions. And the method of measuring with a normal ultraviolet visible spectrophotometer, etc. are included.

본 발명에 있어서는 바람직한 안료는 분산액의 상태로 사용되는 것이 바람직하다. 이러한 분산액의 예로는 일본특허공개 2004-347831호 공보의 단락번호 [ 0058]∼[0059]에 기재된 분산액이 포함된다.In this invention, it is preferable that a preferable pigment is used in the state of a dispersion liquid. Examples of such dispersions include dispersions described in paragraphs [0058] to [0059] of JP-A-2004-347831.

컬러 필터의 제작Production of color filter

본 발명의 컬러 필터는 광투과성 기판 상에 적어도 R(적색), G(녹색), B(청색)의 각 착색 화소군을 갖고, 상기 화소군을 구성하는 각 화소는 서로 블랙 매트릭스에 의해 구획되어 있는 구성을 이루고, 상기 블랙 매트릭스는 본 발명의 상술의 블랙 매트릭스 작성용 착색 조성물 또는 감광성 전사 재료를 이용해서 제작된다. 이들 적어도 적색, 녹색, 청색의 3종의 화소군은 모자이크형, 스트라이프형 또는 트라이앵글형 등으로 배치되는 것이 바람직하다.The color filter of the present invention has at least R (red), G (green), and B (blue) colored pixel groups on the light transmissive substrate, and each pixel constituting the pixel group is divided by a black matrix. The said black matrix is produced using the coloring composition for black matrix preparation of this invention, or the photosensitive transfer material of this invention. These at least three types of pixel groups of red, green, and blue are preferably arranged in a mosaic, stripe, triangle, or the like.

상기 광투과성의 기판의 예에는, 표면에 산화 규소 피막을 갖는 소다 유리판, 저팽창 유리판, 논알칼리 유리판, 석영 유리판 등의 공지의 유리판 또는 플라스틱 필름 등이 포함된다.Examples of the light-transmitting substrate include known glass plates or plastic films such as a soda glass plate, a low-expansion glass plate, a non-alkali glass plate, a quartz glass plate and the like having a silicon oxide film on its surface.

컬러 필터를 제작하는 방법은 광투과성의 기판에 통상의 방법에 의해 2개 이상의 화소군을 형성한 후, 상기한 바와 같이 하여 블랙 매트릭스를 형성하는 공정을 포함해도 좋다. 또는 최초에 블랙 매트릭스를 형성하고, 그 후 2개 이상의 화소군을 형성하는 공정을 포함해도 좋다. 본 발명의 컬러 필터는 상기한 바와 같은 블랙 매트릭스를 구비하고 있으므로, 높은 표시 콘트라스트 및 우수한 평탄성을 갖는다.The method for producing a color filter may include a step of forming a black matrix as described above after forming two or more pixel groups on a transparent substrate by a conventional method. Alternatively, the method may include forming a black matrix first and then forming two or more pixel groups. Since the color filter of this invention is equipped with the black matrix as mentioned above, it has high display contrast and excellent flatness.

이하에, 본 발명의 컬러 필터의 제조 방법에 대해서 자세하게 설명한다. 본 발명의 컬러 필터는, R, G, B의 각 화소 마다 제조할 수 있다. 이 제조 방법의 예로는 하기의 각 공정을 순차로 실시하는 것이 포함될 수 있다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, the manufacturing method of the color filter of this invention is demonstrated in detail. The color filter of this invention can be manufactured for every pixel of R, G, and B. Examples of this manufacturing method may include performing each of the following steps sequentially.

(1)기판 상에 광중합성 화합물, 광중합 개시제, 바인더, 착색 성분(안료) 등을 포함하는 컬러 필터 작성용 착색 조성물로 이루어지는 감광성 시트를 접합하여 감광성 착색 수지층을 형성하는 공정;(1) a step of forming a photosensitive colored resin layer by bonding a photosensitive sheet composed of a color composition for preparing a color filter containing a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, a binder, a coloring component (pigment) and the like on a substrate;

(2)상기 감광성 착색 수지층을 패턴상으로 노광하는 공정;(2) exposing the photosensitive colored resin layer in a pattern;

(3)노광한 감광성 착색 수지층을 현상하고, 감광성 착색 수지층의 노광 부분으로 구성되는 패턴상 착색 경화막 층을 얻는 공정; 및 (3) Process of developing exposed photosensitive colored resin layer and obtaining patterned colored cured film layer comprised from the exposure part of photosensitive colored resin layer; And

(4)상기 패턴상 착색 경화막 층을 가열 등 함으로써, 소성하여 더 경화시키는 일정.(4) The schedule which bakes and hardens further by heating the said patterned colored cured film layer.

상기(1)∼(4)의 공정은, 일본특허공개 2004-347831호 공보의 단락번호[0062]∼[0065]에 기재된 방법과 동일하게 행할 수 있다.The steps (1) to (4) can be carried out in the same manner as described in paragraphs [0062] to [0065] of JP-A-2004-347831.

액정 표시 장치Liquid crystal display

본 발명의 액정 표시 장치의 1실시형태는, 적어도 한 쪽이 광투과성의 1쌍의 기판 사이에 컬러 필터, 액정층 및 액정 구동 수단(단순 매트릭스 구동 방식 또는 액티브 매트릭스 구동 방식 등을 포함)을 적어도 구비한 것이다. 상기 컬러 필터는 적어도 3색의 화소군을 갖는다. 상기 화소군을 구성하는 각 화소는 서로 본 발명의 블랙 매트릭스에 의해 구획되어 있다. 본 발명의 컬러 필터는 평탄성이 높기 때문에, 이 컬러 필터를 구비한 액정 표시 장치는 컬러 필터와 기판의 사이에 셀갭이 발생되지 않는다. 그 때문에, 색불균일 등의 표시 불량이 발생하지 않는다.At least one of the embodiments of the liquid crystal display device of the present invention includes at least one of a color filter, a liquid crystal layer, and liquid crystal driving means (including a simple matrix driving method or an active matrix driving method) between a pair of optically transparent substrates. It is equipped. The color filter has a pixel group of at least three colors. Each pixel constituting the pixel group is divided by the black matrix of the present invention. Since the color filter of this invention has high flatness, the cell gap does not generate | occur | produce between a color filter and a board | substrate in the liquid crystal display device provided with this color filter. Therefore, display defects, such as a color nonuniformity, do not arise.

또한, 본 발명의 액정 표시 장치의 다른 실시형태는 적어도 1개가 광투과성의 1쌍의 기판의 사이에 컬러 필터, 액정층 및 액정 구동 수단을 적어도 구비한 것이다. 상기 액정 구동 수단은 액티브 소자(예를 들면, TFT)를 갖고, 또한 각 액티브 소자의 사이에 본 발명의 3색의 화소군 및 블랙 매트릭스가 형성된 컬러 필터를 구비하고 있다.Moreover, in another embodiment of the liquid crystal display device of this invention, at least 1 is equipped with at least a color filter, a liquid crystal layer, and liquid crystal drive means between a pair of light transmissive board | substrates. The liquid crystal drive means has an active element (for example, a TFT), and is provided with a color filter in which the pixel group of the three colors of the present invention and the black matrix are formed between each active element.

또한, 본 발명의 컬러 필터를 사용한 본 발명으로 액정 표시 장치의 바람직한 예는 3파장 광원을 갖고, 백라이트와 상기 R(적색), G(녹색), B(청색)의 3원색의 화소를 조합시켜서 갖는다. 여기서, 본 발명의 액정 표시 장치에 있어서, R(적색), G(녹색), B(청색)의 3원색의 C광원에 의한 CIE색도도 상에서의 색도점이 R(x≥0.62, y≤0.35), G(x≤0.32, y≥0.56), B(x≤0.17, y≤0.14)의 색도 범위에 있는 것이 바람직하다.In addition, a preferred example of the liquid crystal display device according to the present invention using the color filter of the present invention has a three wavelength light source, by combining a backlight and the pixels of the three primary colors of R (red), G (green), and B (blue) Have Here, in the liquid crystal display device of the present invention, the chromaticity point on the CIE chromaticity diagram of three primary colors of R (red), G (green), and B (blue) is R (x ≧ 0.62, y ≦ 0.35) It is preferable to be in the chromaticity range of G (x ≦ 0.32, y ≧ 0.56) and B (x ≦ 0.17, y ≦ 0.14).

(실시예)(Example)

이하, 본 발명을 실시예에 기초하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들의 예로 한정되는 것이 아니다. 또한, 본 실시예 중의 「부」,「%」 및 「분자량」은 특별히 언급하지 않는 한, 「질량부」, 「질량%」 및 「질량 평균 분자량」을 의미한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to these examples. In addition, "part", "%", and "molecular weight" in a present Example mean the "mass part", the "mass%", and the "mass average molecular weight" unless there is particular notice.

실시예 1Example 1

카본블랙 분산액의 조제Preparation of Carbon Black Dispersion

모터 밀(상품명: M50, 아이거(주) 제작)로 직경 0.65mm의 지르코니아 비즈를 사용하여 하기 처방의 카본블랙의 분산액을 제작하였다.The dispersion of the carbon black of the following prescription was produced using the zirconia beads of 0.65 mm in diameter by the motor mill (brand name: M50, Eiger Co., Ltd. product).

·노르말 프로판올 69부Normal propanol 69 parts

·메타크릴산/알릴메타크릴레이트 공중합체(공중합비=20:80 ) 10부10 parts of methacrylic acid / allyl methacrylate copolymer (copolymerization ratio = 20: 80)

·분산제(상품명: 솔스파스 20000, 아베시아(주) 제작) 1부Dispersant (trade name: Sol Spath 20000, manufactured by Avecia Co., Ltd.)

·카본블랙(상품명: 카본블랙 MA100, 미쓰비시 화학(주) 제작) 20부Carbon black (trade name: Carbon Black MA100, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts

은입자의 제작Production of silver particles

젤라틴 112g에 증류수 3488g을 첨가하고, 얻어진 혼합물을 약 47℃까지 가열하여 젤라틴을 용해하였다. 이것에 초산 칼슘 4.0g 및 붕화 수소 칼륨 2.0g을 첨가하였다. 그 직후에 증류수 1.0L에 용해한 초산은 6.0g을 급속히 교반하면서 첨가하였다. 증류수를 더 첨가하고, 최종 질량을 5.0kg로 조정하였다. 그 다음에 생성물을 겔화 온도 근방까지 냉각하고, 작은 구멍을 통과시켜서 냉각한 물 중으로 압출하고, 그것에 의해 매우 미세한 누들(noodle)을 제작하였다. 이들의 누들을 현장에서 청색은을 생성하기 위한 증폭 촉매로서 공급하였다. 편의상, 누들이 용융 덩어리를 형성하는 것을 막기 위해서, 물을 사용하여 누들을 희석해서 물 1 대 누들 3으로 하였다.3488 g of distilled water was added to 112 g of gelatin, and the obtained mixture was heated to about 47 DEG C to dissolve the gelatin. 4.0 g of calcium acetate and 2.0 g of potassium hydrogen boride were added thereto. Immediately thereafter, acetic acid dissolved in 1.0 L of distilled water was added while rapidly stirring 6.0 g. Further distilled water was added and the final mass was adjusted to 5.0 kg. The product was then cooled to near the gelling temperature and extruded into cooled water through a small hole, thereby producing a very fine noodle. Their noodle was fed as an amplification catalyst to produce blue silver in situ. For convenience, to prevent the noodle from forming a molten mass, the noodle was diluted with water to 1 water to noodle 3.

붕화 수소 환원 은핵 650g에, 증류수 81g에 용해한 모노술폰산 히드로퀴논 칼륨 6.5g 및 KCl 0.29g을 첨가하였다. 상기의 누들 슬러리를 약 6℃까지 냉각하였다. 또한 별도로 용기에, 하기 조성을 갖는 2종의 용액(A) 및 (B)을 조제하였다.To 650 g of hydrogen boron-reduced silver core, 6.5 g of monosulfonic acid hydroquinone potassium and 0.29 g of KCl dissolved in 81 g of distilled water were added. The noodle slurry was cooled to about 6 ° C. In addition, two kinds of solutions (A) and (B) having the following composition were prepared in a container separately.

(A)19.5g 아황산 나트륨(무수), 0.98g 중아황산 나트륨(무수), 122.0g 증류수(A) 19.5 g sodium sulfite (anhydrous), 0.98 g sodium bisulfite (anhydrous), 122.0 g distilled water

(B)9.75g 초산은, 122.0g 증류수 용액(B) 9.75 g silver acetate, 122.0 g distilled water solution

상기의 용액(A) 및 (B)을 혼합하여 교반을 계속하고, 백색 침전을 형성시켰다. 이어서 즉시, 이 혼합물을 단시간으로 (5분간 이내) 급속히 교반하면서 상기 누들 슬러리에 첨가하였다. 온도를 10℃로 유지하고, 그리고 모든의 가용성 은염이 핵 상에서 환원될때 까지, 약 80분간 증폭을 진행시켰다. 얻어진 청색 슬러리 입자를 나일론 메쉬 백 중으로 슬러리를 통하여 수도물을 통과시키고, 그리고 약 30분간 세정수가 백을 통과하도록 하여 세정하였으므로, 모든 염을 씻어 버릴 수 있었다. 겔 슬러리에 분산시켜 세정한 청색은을 용융했을 경우에 1.5질량%의 농도의 은을 갖는 청색은 분산체를 얻도록 생성물의 질량이 412g이 될 때 까지 물기를 없앴다. 투과 전자 현미경 사진은 이 은이 표 중 기재된 입자 지름의 입자로 이루어지는 것을 나타내었다.The above solutions (A) and (B) were mixed and stirring continued to form a white precipitate. Immediately, the mixture was added to the noodle slurry with rapid stirring for a short time (within 5 minutes). The temperature was kept at 10 ° C. and amplification was allowed to proceed for about 80 minutes until all of the soluble silver salts were reduced on the nucleus. The obtained blue slurry particles were washed with a tap water through a slurry into a nylon mesh bag, and washed with water for about 30 minutes through the bag, so that all salts could be washed away. When the blue silver, which had been dispersed and washed in the gel slurry, was melted, the blue silver having a concentration of 1.5% by mass of silver was drained until the mass of the product became 412 g to obtain a dispersion. Transmission electron micrographs showed that this silver consists of particles of the particle diameters described in the table.

은입자 분산액의 조제Preparation of Silver Particle Dispersion

상기와 같이 하여 얻어진 은분산 슬러리 4000g에, 분산제(상품명: 라피졸 B-90, 니폰유지(주) 제작) 6g과 파파인 5% 수용액 2000g을 첨가하고, 온도 37℃로 24시간 보존하였다. 이 액을 2000rpm으로 5분간 걸쳐서 원심분리하고, 은입자를 침강시켰다. 상청액을 버린 후, 증류수로 세정하여 효소로 분해된 젤라틴 분해물을 제거하였다. 이어서, 상기 은입자 침강물을 메틸알코올로 세정하고나서 건조시켰다. 약 60g의 은미립자의 응집물이 얻어졌다. 이 응집물 53g과 분산제(상품명: 솔스파스 20000, 아베시아 (주) 제작) 5g, 메틸에틸케톤 22g을 혼합하였다. 이것에 2mmφ 유리 비즈 100g을 혼합하고, 페인트 셰이커로 3시간 걸쳐서 분산하여, 목적으로 하는 은입자 분산액(A1)을 얻었다.To 4000 g of the silver dispersion slurry obtained as described above, 6 g of a dispersant (trade name: Rapisol B-90, manufactured by Nippon Oil Holding Co., Ltd.) and 2000 g of papain 5% aqueous solution were added, and stored at 37 ° C. for 24 hours. The solution was centrifuged at 2000 rpm for 5 minutes and the silver particles were allowed to settle. The supernatant was discarded and washed with distilled water to remove the enzyme-degraded gelatin digest. The silver particle precipitate was then washed with methyl alcohol and dried. An aggregate of about 60 g of silver fine particles was obtained. 53 g of this aggregate, 5 g of a dispersing agent (trade name: Solfas 20000, manufactured by Avecia Co., Ltd.), and 22 g of methyl ethyl ketone were mixed. 100 g of 2 mm diameter glass beads were mixed with this, and it disperse | distributed over 3 hours with the paint shaker, and the target silver particle dispersion (A1) was obtained.

상기에서 얻어진 은입자 분산액(A1)에 하기의 첨가제를 첨가하여 혼합하고, 은입자 함유 도포액을 얻었다.The following additive was added and mixed with the silver particle dispersion (A1) obtained above, and the silver particle containing coating liquid was obtained.

·상기의 은입자 분산액(A1) 40.0g40.0 g of the silver particle dispersion (A1) described above

·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 40.0gPropylene glycol monomethyl ether acetate 40.0 g

·메틸에틸케톤 37.6gMethyl ethyl ketone 37.6 g

·불소계 계면활성제 1(상품명: F-780-F, 다이니폰 잉크 가가쿠 고교(주) 제작, 30% 메틸에틸케톤 용액) 0.1g0.1 g of fluorine-based surfactant 1 (trade name: F-780-F, manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., 30% methyl ethyl ketone solution)

·히드로퀴논모노메틸에테르 0.001gHydroquinone monomethyl ether 0.001 g

·디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 2.1gDipentaerythritol hexaacrylate 2.1 g

·비스[4-[N-[4-(4,6-비스트리클로로메틸-s-트리아진 2-일)Bis [4- [N- [4- (4,6-bistrichloromethyl-s-triazin 2-yl)

페닐]카르바모일]페닐]세바케이트 0.1gPhenyl] carbamoyl] phenyl] sebacate 0.1 g

차광층용 도포액의 제조Preparation of coating liquid for light shielding layer

상기에서 얻어진 카본블랙 분산액과 상기에서 얻어진 은입자 함유 도포액을 첨가하여 혼합하고, 차광층용 도포액을 제조하였다. 상기 차광층용 도포액은 표 2에 나타내는 카본블랙(C.B.)/은입자의 혼합비가 되도록 제조되었다.The carbon black dispersion liquid obtained above and the silver particle containing coating liquid obtained above were added and mixed, and the coating liquid for light shielding layers was manufactured. The said light shielding layer coating liquid was manufactured so that it might become the mixing ratio of carbon black (C.B.) / silver particle shown in Table 2.

감광성 전사 재료의 제법Preparation of Photosensitive Transfer Material

두께 75㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 가지지체 상에, 슬릿상 노즐을 사용하고, 하기 처방 H1으로 이루어지는 열가소성 수지층용 도포액을 도포, 건조시켰다. 이어서, 하기 처방 P1으로 이루어지는 중간층용 도포액을 도포, 건조시켰다. 또한, 상기 차광층용 도포액을 도포, 건조시켰다. 이렇게 하여 가지지체 상에 건조 막두께가 14.6㎛의 열가소성 수지층과 건조 막두께가 1.6㎛의 중간층과 차광층을 형성하고 최후에 보호 필름(두께 12㎛ 폴리프로필렌 필름)을 압착하였다.On the 75-micrometer-thick polyethylene terephthalate film support body, the coating liquid for thermoplastic resin layers which consists of following formula H1 was apply | coated and dried using the slit-shaped nozzle. Next, the coating liquid for intermediate | middle layers which consists of following prescription P1 was apply | coated and dried. Furthermore, the said light shielding layer coating liquid was apply | coated and dried. In this way, a thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 14.6 μm, an intermediate layer having a dry film thickness of 1.6 μm, and a light shielding layer were formed on the support and finally a protective film (thickness 12 μm polypropylene film) was pressed.

이렇게 하여 가지지체와 열가소성 수지층과 중간층(산소 차단막)과 차광층이 일체가 된 짙은색 감광성 전사 재료를 제작하고, 샘플명을 감광성 전사 재료 K1이라 하였다.In this way, the dark photosensitive transfer material which integrated the support body, the thermoplastic resin layer, the intermediate | middle layer (oxygen barrier film), and the light shielding layer was produced, and the sample name was called photosensitive transfer material K1.

열가소성 수지층용 도포액: 처방 H1Coating liquid for thermoplastic resin layer: prescription H1

·메탄올 11.1부Methanol 11.1 parts

·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 6.36부Propylene glycol monomethyl ether acetate 6.36 parts

·메틸에틸케톤 52.4부Methyl ethyl ketone 52.4 parts

·메틸메타크릴레이트/2-에틸헥실아크릴레이트/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체(공중합 조성비(몰비)=55/11.7/4.5/28.8, 분자량=10만, Tg≒70℃) Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio (molar ratio) = 55 / 11.7 / 4.5 / 28.8, molecular weight = 100,000, Tg ≒ 70 ° C.)

5.83부                                                               Part 5.83

·스티렌/아크릴산 공중합체(공중합 조성비(몰비)=63/37, 분자량=1만, Tg≒100℃) 13.6부13.6 parts of styrene / acrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio (molar ratio) = 63/37, molecular weight = 10,000, Tg ≒ 100 ° C.)

·비스 페놀 A에 펜타에틸렌글리콜모노메타크릴레이트를 2당량 탈수 축합한 화합물(2,2-비스[4-(메타크릴옥시폴리에톡시)페닐]프로판, 신나카무라 가가쿠 고교(주) 제작) 9.1부Compound (2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane produced by Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd., dehydrated and condensed with 2 equivalents of pentaethylene glycol monomethacrylate to bisphenol A. Part 9.1

·불소계 계면활성제 10.54부10.54 parts of fluorine-based surfactant

중간층용 도포액: 처방 P1Intermediate Coating Solution: Prescription P1

·폴리비닐알코올(상품명: PVA205, (주)클라레 제작, 비누화도=88%, 중합도 550) 32.2부32.2 parts of polyvinyl alcohol (trade name: PVA205, Clare Corporation, degree of saponification = 88%, degree of polymerization 550)

·폴리비닐피롤리돈(상품명: K-30, 아이에스피·재팬사 제작) 14.9부14.9 parts of polyvinylpyrrolidone (trade name: K-30, manufactured by ISP Japan)

·증류수 524부524 parts of distilled water

·메탄올 429부Methanol 429 parts

유리 기판을 실란 커플링제 용액(상품명: KBM-603, 신에츠 가가쿠 고교(주) 제작, 1% 희석액)을 사용하고, 실란 커플링 처리 유리 기판을 얻었다.The silane coupling process glass substrate was obtained using the silane coupling agent solution (brand name: KBM-603, the Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. make, 1% dilution liquid) as a glass substrate.

얻어진 실란 커플링 처리 유리 기판에 상기의 제법으로 제작된 감광성 전사 재료로부터 보호 필름을 제거하고, 제거 후에 노출된 차광층의 표면과 상기 실란 커플링 처리 유리 기판의 표면이 접하도록 중첩시키고, 라미네이터(상품명: Lamic II형, (주) 히타치 인더스트리즈사 제작)을 사용하고, 기판에 고무 롤러 온도 130℃, 선압 100N/cm, 반송 속도 2.2m/분으로 라미네이트하였다. 이어서, 폴리에틸렌테레프탈레이트의 가지지체를 열가소성 수지층과의 계면으로 박리하고, 가지지체를 제거하였다. 초고압 수은 등을 갖는 프록시미티형 노광기(히타치 하이 테크 덴시 엔지니어링(주) 제작)로, 기판과 마스크(화상 패턴을 갖는 석영 노광 마스크)를 수직으로 세운 상태로, 노광 마스크면과 중간층의 사이의 거리를 200㎛로 설정하고, 노광량 200mJ/cm2으로 패턴 노광하였다.The protective film is removed from the photosensitive transfer material produced by the above-described manufacturing method on the obtained silane coupling treated glass substrate, and the surface of the light shielding layer exposed after the removal is overlapped so as to be in contact with the surface of the silane coupling treated glass substrate. Brand name: Lamic II type | mold, the Hitachi Industries Co., Ltd. product) was used, and it laminated | stacked to the board | substrate at the rubber roller temperature of 130 degreeC, linear pressure 100N / cm, and conveyance speed 2.2m / min. Subsequently, the branched support of the polyethylene terephthalate was peeled off at the interface with the thermoplastic resin layer, and the branched support was removed. Proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi Hi-Tech Denshi Engineering Co., Ltd.) having ultra-high pressure mercury or the like, and the distance between the exposure mask surface and the intermediate layer in a state where the substrate and the mask (quartz exposure mask having an image pattern) are placed vertically. Was set to 200 µm, and the pattern was exposed to an exposure dose of 200 mJ / cm 2 .

다음에, 트리에탄올아민계 현상액(트리에탄올아민 30질량% 함유, 상품명: T-PD2, 후지샤신 필름(주) 제작)을 순수한 물로 12배(T-PD2를 1질량부와 순수한 물을 11질량부의 비율로 혼합)로 희석한 액(30℃)을 사용하여 50초간, 플랫 노즐로 압력 0.04MPa로 하여 샤워 현상하고, 열가소성 수지층과 중간층을 제거하였다. 계속해서, 이 기판상에 에어를 블로잉하여 액을 제거한 후, 순수한 물을 샤워에 의해 10초간 분무하고, 순수한 물 샤워 세정을 행하고, 에어를 블로잉하여 기판 상에 고인 액을 감소시켰다.Next, triethanolamine-based developer (containing 30 mass% of triethanolamine, trade name: T-PD2, manufactured by Fujishashin Film Co., Ltd.) was purified 12 times with pure water (1 part by mass of T-PD2 and 11 parts by mass of pure water). The mixture was diluted with a liquid (30 ° C.) and shower-developed at a pressure of 0.04 MPa with a flat nozzle for 50 seconds to remove the thermoplastic resin layer and the intermediate layer. Subsequently, air was blown onto this substrate to remove the liquid, and then pure water was sprayed by a shower for 10 seconds, pure water shower cleaning was performed, and air was blown to reduce the amount of liquid accumulated on the substrate.

이어서, 탄산 Na계 현상액(0.38몰/리터의 탄산수소 나트륨, 0.47몰/리터의 탄산 나트륨, 5질량%의 디부틸나프탈렌 술폰산 나트륨, 음이온 계면활성제, 소포제, 및 안정제 함유; 상품명: T-CD1, 후지샤신 필름(주) 제작)을 순수한 물로 5배로 희석한 액(29℃)을 사용해서 30초간, 콘형 노즐로 압력 0.15MPa으로 샤워 현상을 행하여 감광성 수지층을 현상 제거하고, 패턴상을 얻었다.Next, Na carbonate developer (0.38 mol / liter sodium bicarbonate, 0.47 mol / liter sodium carbonate, 5 mass% sodium dibutylnaphthalene sulfonate, anionic surfactant, an antifoamer, and stabilizer containing; brand name: T-CD1, The image development of the photosensitive resin layer was carried out by shower-development by pressure of 0.15 MPa with a cone nozzle for 30 seconds using the liquid (29 degreeC) diluted 5 times of Fujishashin Film Co., Ltd. with pure water.

이어서, 세정제(인산염, 규산염, 비이온 계면활성제, 소포제 및 안정제 함유; 상품명: T-SD1, 후지샤신 필름(주) 제작)를 순수한 물로 10배로 희석한 액(33℃)을 사용해서 20초간, 콘형 노즐로 압력 0.02MPa로 샤워로서 분무하고, 나일론 모를 갖는 회전 브러시에 의해 패턴 상을 마찰시켜 잔사 제거를 행하여, 블랙 매트릭스를 얻었다.Next, 20 seconds using the liquid (33 degreeC) which diluted the washing | cleaning agent (phosphate, a silicate, a nonionic surfactant, an antifoamer, and a stabilizer; brand name: T-SD1, Fujishashin Film Co., Ltd.) 10-fold with pure water 10 times, It sprayed as a shower with a cone nozzle at the pressure of 0.02 Mpa, and rubbed the pattern image with the rotary brush which has a nylon wool, and the residue was removed, and the black matrix was obtained.

이어서, 대기하에서, 얼라이너로 기판의 표면에서 기판의 전체면을 2000 mJ/cm2로 포스트 노광하고, 220℃ 30분의 열처리를 실시하고, 실시예 1의 블랙 매트릭스를 얻었다.Subsequently, in the air, the whole surface of the board | substrate was post-exposed at 2000 mJ / cm <2> on the surface of a board | substrate with an aligner, the heat processing for 220 degreeC 30 minutes was performed, and the black matrix of Example 1 was obtained.

또한, 각 차광층용 도포액을 표 2에 나타내는 카본블랙/은입자의 혼합비를 갖도록 조제하여 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하고, 실시예 2∼4 및 실 시예 7, 8 및 12의 블랙 매트릭스를 얻었다.In addition, except that the coating liquid for each light shielding layer was prepared and used so that it might have a mixing ratio of carbon black / silver particle shown in Table 2, it carried out similarly to Example 1, and the black of Examples 2-4 and Examples 7, 8, and 12 A matrix was obtained.

컬러 필터의 제작Production of color filter

감광성 수지 전사 재료의 제작Fabrication of Photosensitive Resin Transfer Material

상기 감광성 전사 재료 K1제작과 동일한 방법으로 하기의 표 1에 기재된 착색 감광성 수지 조성물을 사용하고, 감광성 전사 재료 R, 감광성 전사 재료 G, 감광성 전사 재료 B를 제작하였다.The photosensitive transfer material R, the photosensitive transfer material G, and the photosensitive transfer material B were produced using the coloring photosensitive resin composition of Table 1 below by the method similar to the said photosensitive transfer material K1 production.

레드(R)화소의 형성Formation of red (R) pixel

노광 공정에서의 노광량을 40mJ/cm2로 탄산 Na계 현상액에 의한 샤워 현상을 35℃에서 35초간으로, 또한 열처리를 220℃에서 15분간으로 변경한 것 이외는, 상기 블랙 매트릭스의 형성과 동일한 공정을 행하고, 상기 감광성 수지 전사 재료 R를 사용하고, 유리 기판의 블랙 매트릭스가 형성되어 있는 측에 레드(R) 화소를 형성하였다.The same process as the formation of the black matrix, except that the exposure phenomenon in the exposure step is 40 mJ / cm 2 and the shower phenomenon with the Na carbonate developer is changed from 35 ° C. to 35 seconds and the heat treatment is changed from 220 ° C. to 15 minutes. The photosensitive resin transfer material R was used, and the red (R) pixel was formed in the side in which the black matrix of a glass substrate is formed.

R화소의 두께는 2.0㎛이고, C.I.피그먼트·레드(C.I.P.R.) 254, C.I.P.R. 177의 도포량은 각각 0.88g/m2, 0.22g/m2이었다.The thickness of the R pixel and 2.0㎛, CI Pigment Red-(CIPR) 254, application amount of CIPR 177 are respectively 0.88g / m 2, 0.22g / m 2.

그 후, R화소가 형성된 유리 기판을 다시, 상기한 바와 같이 세정제를 이용해서 브러시 세정하고, 순수한 물로 샤워 세정한 후, 실란 커플링액은 사용하지 않고, 기판 예비 가열 장치에 의해 100℃에서 2분간 가열하였다.Thereafter, the glass substrate on which the R pixel was formed was brush-washed again using a cleaning agent as described above, and after shower-cleaning with pure water, the silane coupling liquid was not used and the substrate preheating apparatus was used at 100 ° C. for 2 minutes. Heated.

그린(G) 화소의 형성Formation of Green (G) Pixels

노광 공정에서의 노광량을 40mJ/cm2로, 탄산 Na계 현상액에 의한 샤워 현상 을 34℃에서 45초간으로, 또한 열처리를 220℃에서 15분간으로 변경한 것 이외는 상기 R화소의 형성과 동일한 공정을 행하고, 상기에서 얻은 감광성 수지 전사 재료 G를 이용하고, 유리 기판의 블랙 매트릭스 및 R화소가 형성되어 있는 측에 그린 화소(G화소)를 형성하였다.The same process as the formation of the above R pixels except that the exposure amount in the exposure step is 40 mJ / cm 2 , the shower phenomenon by Na carbonate developer is changed from 34 ° C. to 45 seconds, and the heat treatment is changed from 220 ° C. to 15 minutes. Using the photosensitive resin transfer material G obtained above, the green pixel (G pixel) was formed in the side in which the black matrix and R pixel of a glass substrate are formed.

G화소의 두께는 2.0㎛이며, C.I.피그먼트·그린(C.I.P.G.) 36, C.I.피그먼트·옐로우(C.I.P.Y.) 150의 도포량은 각각 1.12g/m2, 0.48g/m2이었다.The thickness of the G pixel is 2.0㎛, CI Pigment Green, (CIPG) 36, CI Pigment Yellow-(CIPY) coating amount of 150 each was 1.12g / m 2, 0.48g / m 2.

그 후, 블랙 매트릭스, R화소 및 G화소가 형성된 유리 기판을 다시, 상기한 바와 같이 세정제를 이용해서 브러시 세정하고, 순수한 물로 샤워 세정한 후, 실란 커플링액은 사용하지 않고, 기판 예비 가열 장치에 의해 100℃에서 2분간 가열하였다.Thereafter, the glass substrate on which the black matrix, the R pixel, and the G pixel was formed was brush-washed again using a cleaning agent as described above, and after shower-cleaning with pure water, the silane coupling liquid was not used, and the substrate preheater was used. Heated at 100 ° C. for 2 minutes.

블루(B) 화소의 형성Formation of Blue (B) Pixels

노광 공정에서의 노광량을 30mJ/cm2, 탄산 Na계 현상액에 의한 샤워 현상을 36℃로 40초간으로 변경한 것 이외는, 상기 R화소의 형성과 동일한 공정을 행하고, 상기에서 얻은 감광성 수지 전사 재료 B를 이용하고, 유리 기판의 블랙 매트릭스와, R화소 및 G화소가 형성되어 있는 측에 블루 화소(B화소)를 형성하였다.The photosensitive resin transfer material obtained by performing the same process as the above-mentioned R pixel formation except that the exposure amount in the exposure step was changed to 30 mJ / cm 2 and the shower phenomenon by Na carbonate developer at 36 ° C. for 40 seconds. Using B, blue pixels (B pixels) were formed on the side where the black matrix of the glass substrate and the R pixels and the G pixels were formed.

B화소의 두께는 2.0㎛이고, C.I. 피그먼트·블루(C.I.P.B.) 15:6, C.I.피그먼트·바이올렛(C.I.P.V.) 23의 도포량은 각각 0.63g/m2, 0.07g/m2이었다.The thickness of the B pixels and 2.0㎛, CI Pigment Blue, (CIPB) 15: 6, the application amount of CI Pigment Violet, (CIPV) 23 are respectively 0.63g / m 2, 0.07g / m 2.

그 후, R, G, B의 각 화소가 형성된 유리 기판을 240℃에서 50분간 베이크하고, 컬러 필터를 얻었다.Then, the glass substrate in which each pixel of R, G, and B was formed was baked at 240 degreeC for 50 minutes, and the color filter was obtained.

Figure 112007094877950-PCT00001
Figure 112007094877950-PCT00001

표 1 중 바인더 2의 조성은 하기한 바와 같다.The composition of the binder 2 in Table 1 is as follows.

·폴리머(벤질메타크릴레이트/메타크릴산=78/22몰비의 랜덤 공중합물, 분자량 3.8만) 27부27 parts of a polymer (benzyl methacrylate / methacrylic acid = 78/22 molar ratio random copolymer, molecular weight 3.8 million)

·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 73부Propylene glycol monomethyl ether acetate 73 parts

DPHA액의 조성은 하기한 바와 같다.The composition of the DPHA liquid is as follows.

·디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(중합 금지제 MEHQ 500ppm함유, 니폰카야쿠(주) 제작, 상품명: KAYARAD DPHA) 76부76 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (containing a polymerization inhibitor MEHQ 500 ppm, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYARAD DPHA)

·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 24부Propylene glycol monomethyl ether acetate 24 parts

R안료 분산물 1의 조성은 하기한 바와 같다. The composition of R pigment dispersion 1 is as follows.

·C.I.P.R. 254(상품명:Irgaphor Red B-CF, 치바·스페셜티·케미컬즈(주) 제작) 8부C.I.P.R. 254 (brand name: Irgaphor Red B-CF, Chiba specialty chemicals production) eight copies

·하기 화합물1 0.8부0.8 parts of Compound 1

·폴리머(벤질메타크릴레이트/메타크릴산=73/27몰비의 랜덤 공중합물) 8부8 parts of polymer (benzyl methacrylate / methacrylic acid = random copolymer of 73/27 molar ratio)

·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 83부Propylene glycol monomethyl ether acetate 83 parts

화합물 1Compound 1

Figure 112007094877950-PCT00002
Figure 112007094877950-PCT00002

R안료 분산물 2의 조성은 하기한 바와 같다.The composition of R pigment dispersion 2 is as follows.

·C.I.P.R. 177(상품명: Cromophtal Red A2B, 치바·스페셜티·케미컬즈(주) 제작) 18부C.I.P.R. 177 (brand name: Cromophtal Red A2B, Chiba specialty chemicals production) 18 copies

·폴리머(벤질메타크릴레이트/메타크릴산=73/27몰비의 랜덤 공중합물) Polymer (random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid = 73/27 molar ratio)

12부                                                           Part 12

·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 70부70 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate

바인더 1의 조성은 하기한 바와 같다.The composition of the binder 1 is as follows.

·폴리머(벤질메타크릴레이트/메타크릴산/메틸메타크릴레이트=38/25/37몰비의 랜덤 공중합물, 분자량 4만) 27부27 parts of polymer (benzyl methacrylate / methacrylic acid / methyl methacrylate = 38/25/37 molar ratio random copolymer, molecular weight 40,000)

·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 73부Propylene glycol monomethyl ether acetate 73 parts

첨가제 1은 인산 에스테르계 특수 활성제(상품명:HIPLAAD ED152, 쿠쓰모토가세이(주) 제작).Additive 1 is a phosphate ester type special activator (brand name: HIPLAAD ED152, manufactured by Kutsumoto Chemical Co., Ltd.).

G안료 분산물 1로서는 GT-2(상품명, 후지 필름 일렉트로닉스 마테리얼즈(주) 제작)을 이용하였다.GT-2 (brand name, Fujifilm Electronics Co., Ltd. product) was used as G pigment dispersion 1.

Y안료 분산물 1로서는 CF옐로우 EX3393(상품명, 미쿠니 시키소(주)사 제작)을 이용하였다.As the Y pigment dispersion 1, CF yellow EX3393 (trade name, manufactured by Mikuni Shikiso Co., Ltd.) was used.

B안료 분산물 1로서는 CF블루 EX3357(상품명, 미쿠니 시키소(주)사 제작)을 이용하였다.As the B pigment dispersion 1, CF blue EX3357 (trade name, manufactured by Mikuni Shikiso Co., Ltd.) was used.

B안료 분산물 2로서는 CF블루 EX3383(상품명, 미쿠니 시키소(주)사 제작)을 이용하였다.As the B pigment dispersion 2, CF blue EX3383 (trade name, manufactured by Mikuni Shikiso Co., Ltd.) was used.

또한, 바인더 3의 조성은 하기한 바와 같다.In addition, the composition of the binder 3 is as follows.

·폴리머(벤질메타크릴레이트/메타크릴산/메틸메타크릴레이트Polymer (benzyl methacrylate / methacrylic acid / methyl methacrylate

=36/22/42몰비의 랜덤 공중합물, 분자량 3.8만) 27부 (36/22/42 mole ratio random copolymer, molecular weight 3.8 million) 27 parts

·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 73부Propylene glycol monomethyl ether acetate 73 parts

실시예 5 및 6Examples 5 and 6

블랙 매트릭스의 형성Formation of black matrix

각 차광층용 도포액을 표 2에 나타내는 카본블랙/은입자의 혼합비를 갖도록 조제하여 사용한 것 이외는, 상기 실시예 1과 동일한 공정에 의해, 차광층용 도포액을 유리 기판상에 도포시켜 건조시키고, 실시예 5 및 6에 사용되는 감광성 차광층을 형성하였다.The coating liquid for light shielding layers was apply | coated on a glass substrate by the same process as Example 1 except having prepared and used each coating liquid for light shielding layers to have a mixing ratio of the carbon black / silver particle shown in Table 2, The photosensitive light shielding layer used for Examples 5 and 6 was formed.

이어서, 초고압 수은등을 사용하고, 상기 감광성 차광층에 500mJ/cm2의 패턴 노광을 행하였다. 그 후, 현상액으로서, 0.38몰/리터의 탄산수소 나트륨, 0.47몰/리터의 탄산 나트륨, 5질량%의 디부틸나프탈렌 술폰산 나트륨, 음이온 계면활성제, 소포제 및 안정제를 함유하는 탄산 나트륨계 현상액(상품명: T-CD1, 후지샤신 필름(주) 제작)을 순수한 물로 5배로 희석한 액(29℃)을 사용해서 차광층의 감광성 흑색 수지층을 현상하여 미노광부를 제거하고, 목적으로 하는 실시예 5 및 6의 블랙 매트릭스를 형성하였다. 이후 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 5 및 6의 컬러 필터를 제작하였다.Subsequently, 500 mJ / cm <2> pattern exposure was performed to the said photosensitive light shielding layer using the ultrahigh pressure mercury lamp. Then, a sodium carbonate developer containing 0.38 mol / liter of sodium bicarbonate, 0.47 mol / liter of sodium carbonate, 5% by mass of sodium dibutylnaphthalene sulfonate, anionic surfactant, antifoaming agent, and stabilizer as a developer. The photosensitive black resin layer of the light shielding layer was developed by using T-CD1, manufactured by Fujishashin Film Co., Ltd., diluted five times with pure water (29 ° C) to remove the unexposed portions, and the target Example 5 and A black matrix of 6 was formed. Thereafter, the color filters of Examples 5 and 6 were prepared in the same manner as in Example 1.

실시예 9Example 9

실시예 1에 있어서 사용한 「차광층용 도포액」을 하기의 「은/황화은 함유 차광층용 도포액」으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 표 3에 나타내는 컬러 필터를 제작하였다.The color filter shown in Table 3 was produced like Example 1 except having changed the "coating liquid for light shielding layers" used in Example 1 into the following "coating liquid for silver / silver sulfide containing light shielding layers."

은/황화은 코어쉘 입자의 제작Fabrication of silver / silver sulfide coreshell particles

은입자의 아세톤 분산물(평균 입자 지름 30nm, 농도 2.5질량%)200g에 비닐피롤리돈/초산 비닐 공중합체(=60/40[질량비], 분자량 5000)를 0.95g 첨가하고, 30분간 교반하였다. 이어서, 이것에 농도 7.2질량%의 황화나트륨 수용액(23℃)을 교반하면서 금속의 황화율이 30%가 되도록 첨가하고, 첨가 종료 후 그대로 30분간 교반을 행하고, 황화은의 쉘을 지닌 은/황화은 코어쉘 입자를 얻었다.0.95 g of vinylpyrrolidone / vinyl acetate copolymer (= 60/40 [mass ratio], molecular weight 5000) was added to 200 g of acetone dispersions (average particle diameter 30 nm, concentration 2.5 mass%) of silver particles, and it stirred for 30 minutes. Subsequently, while stirring the sodium sulfide aqueous solution (23 degreeC) of concentration 7.2 mass%, it adds so that the sulfidation rate of metal will be 30%, and after completion | finish of addition, stirring for 30 minutes as it is, and silver / silver sulfide which has a shell of silver sulfide Core shell particles were obtained.

여기서, 황화율이란, 금속 입자가 황화되어 있는 비율을 나타낸다. 황화율 0%는 전혀 황화되지 않고 있는 상태를 의미하고, 황화율 100%는 입자 전체가 완전하게 황화물이 되어 있는 상태를 의미한다.Here, the sulfidation rate represents the ratio at which metal particles are sulfided. A sulfidation rate of 0% means a state that is not sulfided at all, and a sulfidation rate of 100% means a state in which the entire particle is completely sulfide.

실시예 10Example 10

은입자 대신에 주석 입자를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 동일한 방법으로 주석 입자를 제작하고, 실시예 1과 동일하게 하여 표 3에 나타내는 컬러 필터를 제작하였다.Tin particles were produced in the same manner as in Example 1 except that tin particles were used instead of silver particles, and the color filters shown in Table 3 were produced in the same manner as in Example 1.

실시예 11Example 11

차광층용 도포액을 하기의 은주석 합금 함유 차광층용 도포액으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 하고, 표 3에 나타내는 컬러 필터를 제작하였다.The color filter shown in Table 3 was produced like Example 1 except having changed the coating liquid for light shielding layers into the coating liquid for silver tin alloy containing light shielding layers below.

AgSn 합금 입자 분산액(분산액 A1)의 제조Preparation of AgSn Alloy Particle Dispersion (Dispersion A1)

순수한 물 1000ml에, 초산은(I) 23.1g, 초산 주석(II) 65.1g, 글루콘산 54g, 피롤린산 나트륨 45g, 폴리에틸렌 글리콜(분자량 3,000) 2g 및 E735(ISP사 제작; 비닐피롤리돈/초산 비닐 코폴리머) 5g을 용해하고, 용액 1을 얻었다.In 1000 ml of pure water, 23.1 g of silver acetate (I), 65.1 g of tin (II) acetate, 54 g of gluconate, 45 g of sodium pyrrolate, 2 g of polyethylene glycol (molecular weight 3,000), and E735 (manufactured by ISP; vinylpyrrolidone / vinyl acetate) 5 g of copolymer) was dissolved to obtain a solution 1.

별도, 순수한 물 500ml에 히드록시아세톤 36.1g을 용해하고, 용액 2를 얻었다.Separately, 36.1 g of hydroxyacetone was dissolved in 500 ml of pure water to obtain a solution 2.

상기에서 얻은 용액 1을 25℃로 유지하면서 격렬하게 교반하면서, 이것에 상기 용액 2를 2분간 걸쳐서 첨가하고, 상기 첨가에 의해 얻어진 혼합액을 완만하게 6시간 교반을 계속하였다. 그러자, 상기 혼합액은 흑색으로 변화되고, 은주석(AgSn) 합금 미립자가 얻어졌다. 이어서, 상기 혼합액을 원심분리하여 상기 AgSn합금 미립자를 침전시켰다. 상기 원심분리 공정은 상기 혼합액을 액량 150ml씩으로 소분하고, 탁상 원심 분리기(상품명: H-103n, (주)코쿠산 제작)에 의해 회전수 2,000r.p.m.으로 30분간 행하였다. 상기 원심 분리 후, 시료 중의 상청액을 버려 전체 액량을 150ml로 하였다. 상기 시료에 순수한 물 1350ml를 가하고, 15분간 교반하여 상기 AgSn 합금 미립자를 다시 분산시켰다. 이 침전 및 분산의 조작을 2회 반복하여 수상의 가용성 물질을 제거하였다.The solution 2 was added to this over 2 minutes, stirring vigorously, maintaining solution 1 obtained at 25 degreeC, and stirring the mixed liquid obtained by the said addition was continued for 6 hours gently. Then, the mixed solution turned black, and silver tin (AgSn) alloy fine particles were obtained. Subsequently, the mixed solution was centrifuged to precipitate the AgSn alloy fine particles. In the centrifugation step, the mixed solution was subdivided into 150 ml portions each, and a 30-minute centrifugal separator (trade name: H-103n, manufactured by Kokusan Co., Ltd.) was used for 30 minutes at a speed of 2,000 r.p.m. After the centrifugation, the supernatant in the sample was discarded to make the total liquid amount 150 ml. 1350 ml of pure water was added to the sample, followed by stirring for 15 minutes to disperse the AgSn alloy fine particles again. This precipitation and dispersion operation was repeated twice to remove the soluble material in the aqueous phase.

그 후, 원심 분리를 더 행하고, 상기 AgSn 합금 미립자를 다시 침전시켰다. 원심 분리는 상기와 동일한 조건으로 행하였다. 원심 분리한 후, 상기와 동일하게 상청액을 버려 전체 액량을 150ml로 하고, 이것에 순수한 물 850ml 및 아세톤 500ml를 가하고, 15분간 더 교반하여 AgSn 합금 미립자를 다시 분산시켰다.Thereafter, centrifugation was further performed, and the AgSn alloy fine particles were precipitated again. Centrifugation was performed on the same conditions as the above. After centrifugation, the supernatant was discarded in the same manner as described above to make the total liquid amount to 150 ml, 850 ml of pure water and 500 ml of acetone were added thereto, and the mixture was further stirred for 15 minutes to further disperse the AgSn alloy fine particles.

다시 상기와 동일하게 하여 원심분리를 행하고, AgSn 합금 미립자를 침전시킨 후, 상기와 같이 상청액을 버려 액량을 150ml로 하고, 이것에 순수한 물 150ml 및 아세톤 1200ml을 가해서 15분간 더 교반하고, AgSn 합금 미립자를 다시 분산시켰다. 그리고 다시, 원심 분리를 행하였다. 이 때의 원심 분리의 조건은 시간을 90분으로 연장시킨 것 이외는 상기와 동일하다. 그 후, 상청액을 버려 전체 액량을 70ml로 하고, 이것에 아세톤 30ml을 가하였다. 이것을 아이거 밀(상품명: M-50형태(메디어: 직경 0.65mm 지르코니아 비즈 130g), 아이거·재팬(주) 제작)을 이용해서 6시간 분산되고, 은주석(AgSn)합금 미립자 분산액을 얻었다. 이 미립자 분산액을 투과형 전자 현미경으로 관찰한 결과, 분산 평균 입자 지름은 수평균 입자 사이즈로 약 40nm이었다.In the same manner as above, centrifugation was carried out to precipitate AgSn alloy fine particles, and then the supernatant was discarded as described above to make 150 ml of liquid, and 150 ml of pure water and 1200 ml of acetone were added thereto, followed by further stirring for 15 minutes. Was dispersed again. And again, centrifugation was performed. The conditions for centrifugation at this time were the same as above except that the time was extended to 90 minutes. Thereafter, the supernatant was discarded to make the total liquid amount 70 ml, and 30 ml of acetone was added thereto. This was disperse | distributed for 6 hours using the Eiger mill (brand name: M-50 form (medium: 0.65 mm diameter zirconia beads), Eiger Japan make), and obtained the silver tin (AgSn) alloy fine particle dispersion. As a result of observing this fine particle dispersion with a transmission electron microscope, the dispersion average particle diameter was about 40 nm in number average particle size.

은주석 합금 함유 차광층용 도포액의 조제Preparation of coating liquid for silver tin alloy containing light shielding layer

하기 조성을 혼합하고, 은주석 합금 함유 차광층용 도포액을 조제하였다.The following composition was mixed and the coating liquid for silver tin alloy containing light shielding layers was prepared.

·상기의 AgSn합금 입자 분산액(분산액 A1) 50.00부50.00 parts of the above-described AgSn alloy particle dispersion (dispersion A1)

·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 28.6부Propylene glycol monomethyl ether acetate 28.6 parts

·메틸에틸케톤 37.6부Methyl ethyl ketone 37.6 parts

·상기 불소계 계면활성제 0.2부0.2 part of the fluorine-based surfactant

·히드로퀴논모노메틸에테르 0.001부0.001 part of hydroquinone monomethyl ether

·스티렌/아크릴산 공중합체(몰비=56/44, 중량 평균 분자량 30,000) Styrene / acrylic acid copolymer (molar ratio = 56/44, weight average molecular weight 30,000)

9.6부                                                             Part 9.6

·디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(상품명: KAYARAD DPHA, 니폰카야쿠사 제작) 9.6부Dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: KAYARAD DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 9.6

·비스[4-[N-[4-(4,6-비스트리클로로메틸-s-트리아진-2-일)페닐]카르바모일]페닐]세바케이트 0.5부0.5 parts of bis [4- [N- [4- (4,6-bistrichloromethyl-s-triazin-2-yl) phenyl] carbamoyl] phenyl] sebacate

비교예 1∼4Comparative Examples 1 to 4

실시예 1과 동일한 방법으로, 카본블랙, 은입자의 첨가량 등을 조정하고, 표 3에 나타내는 컬러 필터를 제작하였다.In the same manner as in Example 1, the addition amount of carbon black, silver particles, and the like were adjusted to prepare a color filter shown in Table 3.

각각 얻어진 컬러 필터에 있어서 TFT측 반사율, 투과 광학 농도, 단위 막두께당의 투과 광학 농도, R, G, B의 막두께, 막두께비(TR/BM, TG/BM 및 TB/BM), 돌기부 높이, 색도, 표시 불균일을 측정하고, 그 결과를 표 2 및 표 3에 나타낸다.In the obtained color filters, the TFT-side reflectance, the transmission optical density, the transmission optical density per unit film thickness, the film thicknesses of R, G, and B, the film thickness ratios (TR / BM, TG / BM and TB / BM), the projection height, Chromaticity and display nonuniformity are measured, and the result is shown to Table 2 and Table 3.

액정 표시 장치의 제작Fabrication of Liquid Crystal Display

상기 실시예 및 비교예에서 얻은 각 컬러 필터 기판의 R화소, G화소, 및 B화 및 블랙 매트릭스 상에 ITO(Indium Tin Oxide)의 투명 전극을 스패터링에 의해 형성하였다. 이어서, 일본특허공개 2006-64921호 공보의 실시예 1을 따라서, 상기에서 형성한 ITO막 상의 격벽(블랙 매트릭스) 상부에 상당하는 부분에 스페이서를 형성하였다.On the R pixels, G pixels, and B and black matrices of each color filter substrate obtained in the above Examples and Comparative Examples, transparent electrodes of ITO (Indimum Tin Oxide) were formed by sputtering. Subsequently, according to Example 1 of JP-A-2006-64921, a spacer was formed in a portion corresponding to the upper part of the partition (black matrix) on the ITO film formed above.

별도, 상대 기판으로서 유리 기판을 준비하였다. 컬러 필터 기판의 투명 전극상 및 상대 기판상에 각각 PVA모드용에 패터닝을 실시하고, 그 상에 폴리이미드로 이루어지는 배향막을 더 형성하였다. Separately, a glass substrate was prepared as a counter substrate. Patterning was performed for the PVA mode on the transparent electrode and the counter substrate of the color filter substrate, respectively, and the alignment film which consists of polyimide was further formed on it.

그 후, 컬러 필터의 화소군을 둘러싸도록 주위에 형성된 블랙 매트릭스 외곽선에 상당하는 위치에 자외선 경화 수지의 시일제를 디스펜서 방식에 의해 도포하고, PVA모드용 액정을 적하하고, 상대 기판과 서로 접합시켰다. 접합된 기판을 UV조사한 후, 열처리하여 시일제를 경화시켰다. 이렇게 하여 얻은 액정 셀의 양면에, 편광판(상품명: HLC2-2518, (주)산리츠 제작)을 부착하였다. 이어서, 적색(R) LED로서 칩형 LED인 FR1112H(상품명, 스탠레이(주) 제작), 녹색(G) LED로서 칩형 LED인 DG1112H(상품명, 스탠레이(주) 제작), 청색(B) LED로서 칩형 LED인 DB1112H(상품명, 스탠레이(주) 제작)을 이용해서 사이드 라이트 방식의 백라이트를 구성하였다. 상기 백라이트를 상기 편광판이 형성된 액정 셀의 배면이 되는 측에 배치하고, 액정 표시 장치를 작성하였다.Then, the sealing compound of ultraviolet curable resin was apply | coated by the dispenser method at the position corresponded to the black matrix outline formed around the pixel group of a color filter by the dispenser method, the liquid crystal for PVA mode was dripped, and it bonded together with the counterpart substrate. . The bonded substrate was irradiated with UV and then heat treated to cure the sealing agent. The polarizing plate (brand name: HLC2-2518, the Sanlitz Corporation make) was attached to both surfaces of the liquid crystal cell obtained in this way. Subsequently, FR1112H (brand name, manufactured by Stanley Co., Ltd.) which is a chip type LED as a red (R) LED, and DG1112H (brand name, manufactured by Stanley Co., Ltd.), which is a chip type LED as a green (G) LED, and a blue (B) LED. The backlight of the side light system was comprised using DB1112H (brand name, Stanley Co., Ltd.) which is a chip | tip LED. The said backlight was arrange | positioned at the side used as the back surface of the liquid crystal cell in which the said polarizing plate was formed, and the liquid crystal display device was created.

평가 방법Assessment Methods

막두께 측정Film thickness measurement

막두께는 접촉식 표면 조도계(상품명: P-10, TENCOR사(주) 제작)을 이용하고, 베이크 후의 형성된 각각의 블랙 매트릭스 또는 착색 화소에 대해서 측정하였다.The film thickness was measured about each black matrix or colored pixel formed after baking using the contact surface roughness meter (brand name: P-10, the product made by TENCOR Corporation).

투과 광학 농도 측정Transmission optical density measurement

블랙 매트릭스의 투과 광학 농도는 이하의 방법으로 측정하였다.The transmission optical density of the black matrix was measured by the following method.

우선, 실시예 및 비교예에서 블랙 매트릭스를 형성한 재료를 이용하고, 유리 기판 상에 OD가 3.0이하가 되도록 박막으로 도설된 차광층에 상기 초고압 수은등을 사용해서 도포면측으로부터 500mJ/cm2의 노광을 행하였다. 이어서, 이 광학 농도(O.D.)를 맥베스 농도계(상품명: TD-904, 맥베스사 제작)을 이용하여 측정하였다. 별도로 유리 기판의 투과 광학 농도(OD0)를 동일한 방법으로 측정하였다. 접촉식 표면 조도계(상품명: P-10, 케이엘에이·텐코르(주) 제작)을 이용하고, 측정용 샘플의 막두께를 측정하고, 상기 OD로부터 OD0을 뺀 값을 차광층의 투과 광학 농도라고 하고, 상기 측정 결과의 투과 광학 농도와 막두께의 관계로부터 실시예로 제작한 막두께의 블랙 매트릭스의 광학 농도를 산출하였다.First, exposure of 500 mJ / cm 2 from the application surface side using the material having the black matrix formed in the Examples and Comparative Examples and using the ultra-high pressure mercury lamp on the light shielding layer coated with a thin film so that the OD is 3.0 or less on the glass substrate Was performed. Next, this optical density (OD) was measured using the Macbeth densitometer (brand name: TD-904, Macbeth company make). Separately, the transmission optical concentration (OD 0 ) of the glass substrate was measured by the same method. Using a contact surface roughness meter (trade name: P-10, manufactured by KLA Tencor Co., Ltd.), the film thickness of the sample for measurement was measured, and the value obtained by subtracting OD 0 from the OD was obtained by transmitting optical concentration of the light shielding layer. The optical density of the black matrix of the film thickness produced in the Example was computed from the relationship between the transmission optical density and the film thickness of the said measurement result.

TFT측 반사율 측정TFT side reflectance measurement

스펙트로포토미터(상품명: V-560, JASCO Corporation 제작)와 조합된 절대 반사율 측정 장치(상품명: ARV-474, JASCO Corporation 제작)를 이용하고, TFT측 반사율의 (도포막이 형성되어 있는 면)의 절대 반사율을 측정하였다.Absolute reflectance measuring device (trade name: ARV-474, manufactured by JASCO Corporation) in combination with a spectrophotometer (trade name: V-560, manufactured by JASCO Corporation), and the absolute side of the TFT-side reflectance (the surface on which the coating film is formed) Reflectance was measured.

측정 각도는 수직 방향으로부터 5도, 파장은 555nm이다.The measurement angle is 5 degrees from the vertical direction and the wavelength is 555 nm.

입자 지름 측정Particle diameter measurement

투과형 전기 현미경(상품명: JEM-2010, 배율 200000배, 일본 전자(JEOL Ltd. 제작)에 의해, 100개의 입자를 측정하고, 투영 면적 동면적의 원으로서 환산하고, 그 직경을 입자 지름으로 하고, 평균값을 그 값으로 하였다.100 particle | grains are measured by a transmission electron microscope (brand name: JEM-2010, magnification 200000 times, Japan Electronics (made by JEOL Ltd.), and converted into the circle of a projection area coplanar area, and let the diameter be a particle diameter, The average value was made into that value.

색도의 측정Measurement of chromaticity

상기에서 얻어진 컬러 필터의 색도를 현미 분광 광도계(상품명: OSP100, 올림푸스 고우가쿠샤 제작)을 사용하고, 핀홀 지름 5㎛로 측정하고, C광원 시야 2도의 결과로서 계산하였다.The chromaticity of the color filter obtained above was measured with the pinhole diameter of 5 micrometers using the brown rice spectrophotometer (brand name: OSP100, Olympus Kogakusha Co., Ltd.), and computed it as a result of C light source visual field 2 degree | times.

표시 혼색Display mixed color

실시예 및 비교예에 있어서, 적색(R), 녹색(G), 청색(B)을 동시에 발색시켜, 일정 면적(10cm×10cm)의 범위에 있어서의 농도 불균일을 육안으로 판정하였다. 상기 판정은 10명에 의해 실시되고, 농도 불균일이 있다고 판정한 인원수가 제로일 경우는 A, 상기 인원수가 1∼2명일 경우는 B, 상기 인원수가 3명 이상일 경우는 X로 평가하였다.In an Example and a comparative example, red (R), green (G), and blue (B) were simultaneously developed, and the density nonuniformity in the range of a fixed area (10 cm x 10 cm) was visually determined. The determination was carried out by ten people, and the evaluation was made by A when the number of people determined to have a concentration unevenness was zero, B when the number of people was 1 to 2, and X when the number of people was 3 or more.

TFT의 오작동TFT malfunction

LCD의 백라이트의 일부가 블랙 매트릭스층 표면으로 반사하고, TFT로의 입사광이 되고, 흑색 표시시의 누설광이 된다. 이 누설광이 있는 것을 오작동으로서 평가하였다. 표 2 및 표 3 중에 그 유무를 나타낸다. 누설광에 대해서는, 암소(暗所)에서 확인을 행하는 것으로 평가하였다.A part of the backlight of the LCD reflects on the surface of the black matrix layer, becomes incident light to the TFT, and becomes leaked light in black display. The presence of this leaked light was evaluated as a malfunction. Its presence or absence is shown in Table 2 and Table 3. About leakage light, it evaluated by confirming in the dark.

표시 불균일Non-uniform indication

액정 표시 장치에 그레이의 테스트 신호를 입력시켰을 때에, 육안 및 루페(loupe)로 관찰하고, 불균일의 발생의 유무를 판단하였다.When the gray test signal was input to the liquid crystal display device, it was observed with the naked eye and a loupe, and the presence or absence of the generation of the nonuniformity was judged.

Figure 112007094877950-PCT00003
Figure 112007094877950-PCT00003

LR※:액상 레지스트 사용에 의한 현상법LR *: Developing method by using liquid resist

Figure 112007094877950-PCT00004
Figure 112007094877950-PCT00004

표 2, 표 3의 결과로부터, 다음 것이 확인된다.From the result of Table 2 and Table 3, the following is confirmed.

실시예의 컬러 필터는 블랙 매트릭스의 두께를 얇게 하여도 투과 광학 농도가 높고, 또한, 단위 막두께당의 투과 광학 농도가 높고, 또한 색도가 양호하여 표시 불균일이 없어 TFT측 반사율이 낮으므로 콘트라스트가 우수하다.Even if the thickness of the black matrix is reduced, the color filter of the embodiment has a high transmission optical density, a high transmission optical density per unit film thickness, and a good chromaticity so that there is no display unevenness and the TFT-side reflectance is low, thereby providing excellent contrast. .

본 발명의 액정 표시 장치용 컬러 필터 및 액정 표시 장치는 명실에서의 표시 콘트라스트가 우수하고, TFT의 오동작이 없고, 표시 불균일이 없고, 또한, 고색순도와 고투과율을 양립시킬 수 있다.The color filter and liquid crystal display device for a liquid crystal display device of the present invention are excellent in display contrast in bright room, have no malfunction of TFTs, are not uneven in display, and can achieve both high color purity and high transmittance.

Claims (12)

투명 기판 및 상기 투명 기판 상에 형성된 블랙 매트릭스를 포함하는 액정 표시 장치용 컬러 필터로서: A color filter for a liquid crystal display device comprising a transparent substrate and a black matrix formed on the transparent substrate: 상기 블랙 매트릭스가 구획하는 영역에 G(녹색)의 착색 화소를 포함하고;A colored pixel of green color (G) in a region partitioned by the black matrix; 상기 블랙 매트릭스 상의 일부에 상기 G(녹색)의 착색 화소의 착색층의 일부가 적층되어 있고;A part of the colored layer of said G (green) colored pixel is laminated on a part of said black matrix; 상기 블랙 매트릭스는 안료와, 금속 입자 및 금속 화합물 입자로부터 선택되는 하나 이상을 함유하고;The black matrix contains a pigment and at least one selected from metal particles and metal compound particles; 상기 블랙 매트릭스에 있어서의 상기 금속 입자 및 금속 화합물 입자의 함유량 A에 대한 안료의 함유량 B의 비(B/A)가 0.2∼10의 범위에 있고; 또한 The ratio (B / A) of the content B of the pigment to the content A of the metal particles and the metal compound particles in the black matrix is in the range of 0.2 to 10; Also 상기 G(녹색)의 착색 화소의 막두께 TG와 블랙 매트릭스의 막두께 BM의 막두께비(TG/BM)가 1.2∼10의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 컬러 필터.The film thickness ratio (TG / BM) of the film thickness TG of said G (green) colored pixel and the film thickness BM of a black matrix is in the range of 1.2-10, The color filter for liquid crystal display devices characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서, 상기 블랙 매트릭스가 구획하는 영역에 R(적색)의 착색 화소 및 B(청색)의 착색 화소를 더 포함하고;The method according to claim 1, further comprising colored pixels of R (red) and colored pixels of B (blue) in a region defined by the black matrix; 상기 R(적색)의 착색 화소의 막두께 TR과 상기 BM의 막두께비(TR/BM)가 1.2∼10의 범위에 있고; 또한 The film thickness TR of the colored pixel of R (red) and the film thickness ratio TR / BM of the BM are in the range of 1.2 to 10; Also 상기 B(청색)의 착색 화소의 막두께 TB와 상기 BM의 막두께비(TB/BM)가 1.2 ∼10의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 컬러 필터.The film thickness TB of the colored pixel of said B (blue) and the film thickness ratio (TB / BM) of said BM exist in the range of 1.2-10, The color filter for liquid crystal display devices characterized by the above-mentioned. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 블랙 매트릭스 상의 일부에 착색 화소의 착색층의 일부가 적층되어 형성된 돌기 부분의 착색 화소에 대하여 돌기해 있는 높이가 0.4㎛이하인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 컬러 필터.The liquid crystal display device according to claim 1 or 2, wherein the height of the projections relative to the colored pixels of the projections formed by laminating a part of the colored layers of the colored pixels on a part of the black matrix is 0.4 µm or less. Color filter. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 블랙 매트릭스의 투과 농도가 3.5이상이고, 또한 막두께가 1.3㎛이하인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 컬러 필터.The color filter for a liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 3, wherein the black matrix has a transmission density of 3.5 or more and a film thickness of 1.3 µm or less. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 G(녹색)의 C광원에 의한 CIE색도도 상에서의 색도점이 G(x≤0.32, y≥0.56)의 색도 범위에 있는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 컬러 필터.The chromaticity point on the CIE chromaticity diagram according to the C light source of G (green) is in the chromaticity range of G (x≤0.32, y≥0.56). Color filter for liquid crystal display device. 제 2 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 R(적색), G(녹색), B(청색)의 3원색의 C광원에 의한 CIE색도도 상에서의 색도점이 R(x≥0.62, y≤0.35), G(x≤0.32, y≥0.56) 및 B(x≤0.17, y≤0.14)의 색도 범위에 있는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 컬러 필터.The chromaticity point according to any one of claims 2 to 5, wherein the chromaticity point on the CIE chromaticity diagram of three primary colors of R (red), G (green), and B (blue) is R (x≥0.62, A color filter for a liquid crystal display device, characterized by being in a chromaticity range of y ≦ 0.35), G (x ≦ 0.32, y ≧ 0.56) and B (x ≦ 0.17, y ≦ 0.14). 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안료는 카본블랙 및 흑 연으로부터 선택되는 하나 이상을 함유하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 컬러 필터.The color filter according to any one of claims 1 to 6, wherein the pigment contains at least one selected from carbon black and graphite. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 블랙 매트릭스에 함유되는 금속 입자 또는 금속 화합물 입자는 금속 입자인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 컬러 필터.The color filter for a liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 7, wherein the metal particles or metal compound particles contained in the black matrix are metal particles. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 블랙 매트릭스에 함유되는 금속 입자 또는 금속 화합물 입자가 Ag 미립자 및 AgSn 합금 미립자로부터 선택되는 하나 이상을 함유하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 컬러 필터.The color for a liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 7, wherein the metal particles or metal compound particles contained in the black matrix contain at least one selected from Ag fine particles and AgSn alloy fine particles. filter. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 블랙 매트릭스는 상기 안료와, 상기 금속 입자 및 금속 화합물 입자로부터 선택되는 하나 이상을 함유하는 감광성 수지 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 컬러 필터.The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 9, wherein the black matrix comprises a photosensitive resin composition containing the pigment and at least one selected from the metal particles and the metal compound particles. Color filter. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 블랙 매트릭스는 상기 안료와, 상기 금속 입자 및 금속 화합물 입자로부터 선택되는 하나 이상을 함유하는 감광성 전사 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 컬러 필터.The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the black matrix comprises a photosensitive transfer material containing the pigment and at least one selected from the metal particles and the metal compound particles. Color filter. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 액정 표시 장치용 컬러 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.The liquid crystal display device containing the color filter for liquid crystal display devices of any one of Claims 1-11.
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