JP4667969B2 - Black composition, photosensitive transfer material, substrate with light-shielding image, color filter, liquid crystal display element, and method for producing light-shielding image - Google Patents

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Description

本発明は、黒色組成物、該黒色組成物を用いた感光性転写材料、該黒色組成物にて遮光画像を形成した遮光画像付き基板、カラーフィルタ、液晶表示素子及び遮光画像の製造方法に関する。   The present invention relates to a black composition, a photosensitive transfer material using the black composition, a substrate with a light-shielding image on which a light-shielding image is formed with the black composition, a color filter, a liquid crystal display element, and a method for producing a light-shielding image.

黒色組成物は、印刷インク、インクジェットインク、エッチングレジスト、ソルダーレジスト、プラズマデイスプレイパネル(PDP)の隔壁、誘電体パターン、電極(導体回路)パターン、電子部品の配線パターン、導電ペースト、導電フイルム、ブラックマトリックス等の遮光画像等に広く用いられている。前記遮光画像としては液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、EL表示装置、CRT表示装置などの表示装置の周辺部に設けられた黒色の縁や、赤、青、緑の画素間の格子状やストライプ状の黒色の部、更にTFT遮光のためのドット状や線状の黒色パターン等、いわゆるブラックマトリックス等の各種遮光画像が挙げられる。
ブラックマトリックスは表示コントラストを向上させるため、また薄膜トランジスター(TFT)を用いたアクティブマトリックス駆動方式の液晶表示装置の場合には光の電流リークによる画質低下を防止するために用いられており、高い遮光性(光学濃度ODで3以上)が必要である。
Black composition includes printing ink, inkjet ink, etching resist, solder resist, plasma display panel (PDP) partition, dielectric pattern, electrode (conductor circuit) pattern, wiring pattern of electronic parts, conductive paste, conductive film, black Widely used for shading images such as matrix. Examples of the light-shielded image include black edges provided at the periphery of display devices such as liquid crystal display devices, plasma display devices, EL display devices, and CRT display devices, and grids or stripes between red, blue, and green pixels. Various shaded images such as a so-called black matrix, such as a black portion of the shape, and further a dot-like or linear black pattern for shielding the TFT.
The black matrix is used to improve display contrast, and in the case of an active matrix driving type liquid crystal display device using a thin film transistor (TFT), is used to prevent deterioration in image quality due to light current leakage. Property (optical density OD of 3 or more) is required.

一方で、近年は液晶表示装置がTVへ応用されるようになってきたが、TVでは透過率が低く、かつ高い色純度カラーフィルタを使用して高輝度を得るため、バックライトの輝度が高くなる傾向にあり、コントラストの低下や、周辺額縁部分の透けを防止するため、ブラックマトリックスに高い遮光性が要求される。   On the other hand, in recent years, liquid crystal display devices have been applied to TVs. However, since TVs have low transmittance and high luminance is obtained using high color purity color filters, the luminance of the backlight is high. The black matrix is required to have a high light-shielding property in order to prevent a decrease in contrast and see-through of the peripheral frame portion.

更にTVは、太陽光が入射する部屋に長期間設置されることから、太陽光によるTFTの劣化が懸念され、また、(1)ODが高いことで画像の引締まり感がでること、つまりコントラストが高いこと、及び(2)外光での液晶の白さが目立たなくなることの意味でもブラックマトリックスに高い遮光性が要求される。   Furthermore, since the TV is installed in a room where sunlight is incident for a long period of time, there is a concern about deterioration of the TFT due to sunlight, and (1) a high OD makes the image feel tight, that is, contrast. The black matrix is also required to have high light-shielding properties in the sense that it is high and (2) the white color of the liquid crystal becomes inconspicuous under external light.

クロム等の金属膜を遮光層とするブラックマトリックスの形成方法としては、例えば、金属薄膜を蒸着法やスパッタリング法により作製し、該金属薄膜の上にフォトレジストを塗布し、次いでブラックマトリックス用パターンをもつフォトマスクを用いてフォトレジスト層を露光現像し、その後露出した金属薄膜をエッチングし、最後に金属薄膜上のレジスト層を剥離することによりブラックマトリックスを形成する方法がある(例えば、非特許文献1参照)。   As a method for forming a black matrix using a metal film such as chromium as a light shielding layer, for example, a metal thin film is produced by vapor deposition or sputtering, a photoresist is applied on the metal thin film, and then a black matrix pattern is formed. There is a method of forming a black matrix by exposing and developing a photoresist layer using a photomask having the same, etching the exposed metal thin film, and finally peeling off the resist layer on the metal thin film (for example, non-patent literature) 1).

この方法は金属薄膜を用いるため、膜厚が小さくても高い遮光効果が得られるという利点がある。しかし、蒸着法やスパッタリング法という真空成膜工程やエッチング工程が必要となり、コストが高くなるとともに環境に対する負荷も無視できないという問題がある。また、金属膜であるため反射率が高く、強い外光の下では表示コントラストが低いという問題もある。これに対して、前記金属薄膜として、低反射クロム膜(金属クロムと酸化クロムとの2層からなるもの等)を用いるという手段があるが、更にコストアップとなることは否めない。   Since this method uses a metal thin film, there is an advantage that a high light shielding effect can be obtained even if the film thickness is small. However, there is a problem that a vacuum film forming process or an etching process such as a vapor deposition method or a sputtering method is required, which increases the cost and cannot be ignored. In addition, since it is a metal film, there is a problem that the reflectance is high and the display contrast is low under strong external light. On the other hand, as the metal thin film, there is a means of using a low-reflective chromium film (such as two layers of metal chromium and chromium oxide), but it cannot be denied that the cost is further increased.

また、他のブラックマトリックス形成方法としては、遮光性顔料、例えばカーボンブラックを含有する感光性樹脂組成物を用いる方法も知られている。該方法としては、例えば、透明基板にR、G、B画素を形成した後、この画素の上にカーボンブラック含有感光性樹脂組成物を塗布し、透明基板のR、G、B画素非形成面側から全面に露光する、セルフアライメント方式のブラックマトリックス形成方法が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
該方法は、前記金属膜のエッチングによる方法に比較して製造コストは低くなるものの、十分な遮光性を得るためには膜厚が厚くなるという問題がある。その結果、ブラックマトリックスとR、G、B画素との重なり(段差)が生じ、カラーフィルタの平坦性が悪くなって液晶表示素子のセルギャップムラが発生し、色ムラ等の表示不良につながることになる。
As another black matrix forming method, a method using a light-sensitive pigment, for example, a photosensitive resin composition containing carbon black is also known. As the method, for example, after forming R, G, B pixels on a transparent substrate, a carbon black-containing photosensitive resin composition is applied onto the pixels, and the R, G, B pixel non-formation surface of the transparent substrate is applied. There is known a self-alignment black matrix forming method in which the entire surface is exposed from the side (see, for example, Patent Document 1).
Although this method is lower in manufacturing cost than the method by etching the metal film, there is a problem that the film thickness is increased in order to obtain a sufficient light shielding property. As a result, there is an overlap (step) between the black matrix and the R, G, and B pixels, the flatness of the color filter is deteriorated, and the cell gap unevenness of the liquid crystal display element occurs, leading to display defects such as color unevenness. become.

一方、透明基板上に親水性樹脂を含有する感光性レジスト層を形成し、ブラックマトリックス用パターンを有するフォトマスクを介して露光・現像して透明基板上にレリーフを形成し、この透明基板を無電解メッキの触媒となる金属化合物の水溶液に接触させ、金属化合物をレリーフ中に含有させ乾燥した後、熱処理を施し、その後、前記透明基板上のレリーフを無電解メッキ液に接触させることにより、粒径0.01〜0.05μmの遮光用の金属微粒子がその内部に均一に分散されたブラックマトリックスを作製する方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。前記金属微粒子としてはニッケル、コバルト、鉄、銅、クロムが記載され、具体例としては唯一ニッケルが示されている。
しかしながら、この方法は、露光現像工程を含むレリーフ形成−無電解メッキ触媒の付与−熱処理−無電解メッキという、水を扱う煩瑣な処理工程が多い。そのため、低コストでのブラックマトリックス製造を大きくは期待できない。
On the other hand, a photosensitive resist layer containing a hydrophilic resin is formed on a transparent substrate, and exposed and developed through a photomask having a black matrix pattern to form a relief on the transparent substrate. By contacting with an aqueous solution of a metal compound serving as a catalyst for electroplating, containing the metal compound in the relief, drying, applying heat treatment, and then bringing the relief on the transparent substrate into contact with the electroless plating solution, There has been proposed a method for producing a black matrix in which metal fine particles for light shielding having a diameter of 0.01 to 0.05 μm are uniformly dispersed therein (see, for example, Patent Document 2). Nickel, cobalt, iron, copper, and chromium are described as the metal fine particles, and nickel is shown as a specific example.
However, this method has many troublesome processing steps for handling water, such as relief formation including exposure and development steps, application of an electroless plating catalyst, heat treatment, and electroless plating. Therefore, it cannot be expected to produce a black matrix at a low cost.

また、黒色パターンを作製する着色組成物に磁性フィラーを使った例がある(例えば、特許文献3参照)が、これらの例は10ミクロン以上の厚膜であり、単位膜厚辺りの濃度が低く、薄膜で遮光性能が高い遮光画像を低コストで作製することができない。   In addition, there is an example in which a magnetic filler is used in a colored composition for producing a black pattern (see, for example, Patent Document 3). However, these examples are thick films of 10 microns or more and have a low concentration per unit film thickness. Therefore, it is impossible to produce a light-shielded image with a thin film and high light-shielding performance at low cost.

また、黒色パターンを作製する着色組成物にアスペクト比が2以上である金属微粒子を使った例がある(例えば、特許文献4参照)が、作成された黒色カラーフィルタは耐熱性が低く、色味変化や濃度低下の問題点があった。そのため、ブラックマトリックス基板としては十分といえるものではなかった。
特開昭62−9301号公報 特許第3318353号公報 特開2001−13678号公報 特開2005−17322号公報 共立出版(株)発行「カラーTFT液晶ディスプレイ」第218〜220頁(1997年4月10日)
In addition, there is an example in which metal fine particles having an aspect ratio of 2 or more are used as a coloring composition for producing a black pattern (see, for example, Patent Document 4), but the prepared black color filter has low heat resistance and color tone. There was a problem of change and density reduction. Therefore, it cannot be said to be sufficient as a black matrix substrate.
JP-A-62-9301 Japanese Patent No. 3318353 JP 2001-13678 A JP 2005-17322 A Published by Kyoritsu Shuppan Co., Ltd. “Color TFT LCD”, pp. 218-220 (April 10, 1997)

本発明は前記のごとき問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、高い耐熱性を有すると共に、色味変化や濃度低下を効果的に抑制した黒色組成物、及び該黒色組成物を用いた感光性転写材料を提供することにある。また、高い耐熱性を有すると共に、色味変化や濃度低下を効果的に抑制した遮光画像を得ることができる遮光画像の製造方法、該遮光画像を備えた遮光画像付き基板、該基板を用いたカラーフィルタ、及び液晶表示素子を提供することにある。   The present invention has been made in view of the problems as described above, and its purpose is to provide a black composition having high heat resistance and effectively suppressing color change and density reduction, and the black composition. It is to provide a photosensitive transfer material used. Further, a method for producing a light-shielded image having high heat resistance and capable of effectively suppressing color change and density reduction, a substrate with a light-shielded image provided with the light-shielded image, and using the substrate The object is to provide a color filter and a liquid crystal display element.

前記課題は以下の手段によって解決される。即ち、本発明は、
<1> 黒色の棒状金属微粒子と、樹脂又はその前駆体の少なくとも1種と、モノマー及び開始剤と、を含むことを特徴とする黒色組成物。前記金属微粒子は、金属、金属化合物、金属化合物と金属との複合微粒子のいずれかから形成され、銀元素又は金元素を含む。
<2> 前記金属微粒子が、銀微粒子、金微粒子、銀微粒子のコアに硫化銀のシェルを持つ微粒子又は銀錫合金微粒子であることを特徴とする前記<1>に記載の黒色組成物である。
The said subject is solved by the following means. That is, the present invention
<1> A black composition comprising black rod-shaped metal fine particles, at least one of a resin or a precursor thereof, a monomer and an initiator. The metal particles include metals, metal compounds, are formed from one of the composite fine particles of the metal compound and a metal, the elemental silver or Kanemoto element.
<2> The black composition according to <1>, wherein the metal fine particles are silver fine particles, gold fine particles, fine particles having a silver sulfide shell in the core of silver fine particles, or silver tin alloy fine particles. .

> 前記棒状金属微粒子の長軸長さ(L)と、幅(b)及び厚み(t)が以下の条件(1)〜(3)を満足することを特徴とする前記<1>又は<2>に記載の黒色組成物。
(1)長軸長さ(L)が10nm以上1000nm以下である。
(2)長軸長さ(L)>幅(b)≧厚さ(t)
(3)幅(b)と厚み(t)との比(b/t)が2.0以下である。
<3> long axis length of the rod-shaped metal fine particles (L), said that satisfies the width (b) and thickness (t) of the following conditions (1) to (3) <1> or The black composition as described in <2> .
(1) The major axis length (L) is 10 nm or more and 1000 nm or less.
(2) Long axis length (L)> Width (b) ≧ Thickness (t)
(3) The ratio (b / t) of the width (b) to the thickness (t) is 2.0 or less.

> 前記棒状金属微粒子の粒度分布が、粒子の分布を正規分布近似して得られた数平均粒子径の粒度分布幅(D90/D10)で1.2以上20未満であることを特徴とする前記<1>〜<3>のいずれか1項に記載の黒色組成物である。 < 4 > The particle size distribution of the rod-shaped metal fine particles is 1.2 or more and less than 20 in the particle size distribution width (D90 / D10) of the number average particle diameter obtained by approximating the particle distribution to a normal distribution. The black composition according to any one of <1> to <3> .

<5> 更に顔料を含むことを特徴とする前記<1>〜<4>のいずれか一項に記載の黒色組成物である。   <5> The black composition according to any one of <1> to <4>, further including a pigment.

<6> 前記顔料が、カーボンブラック、チタンブラック、黒鉛から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする前記<5>に記載の黒色組成物である。   <6> The black composition according to <5>, wherein the pigment is at least one selected from carbon black, titanium black, and graphite.

> 遮光画像の作製に用いられることを特徴とする前記<1>〜<>のいずれか1項に記載の黒色組成物である。 < 7 > The black composition according to any one of <1> to < 6 >, wherein the black composition is used for production of a light-shielding image.

> 支持体上に少なくとも感光性遮光層を設けた感光性転写材料であって、前記感光性遮光層が前記<>に記載の黒色組成物によって形成されていることを特徴とする感光性転写材料である。 < 8 > A photosensitive transfer material having at least a photosensitive light-shielding layer provided on a support, wherein the photosensitive light-shielding layer is formed of the black composition described in < 7 >. Transfer material.

> 前記<>に記載の黒色組成物を用いて作製される遮光画像を有することを特徴とする遮光画像付き基板である。 < 9 > A light-shielding image-attached substrate comprising a light-shielding image produced using the black composition according to < 7 >.

10> 前記<>に記載の感光性転写材料を用いて作製される遮光画像を有することを特徴とする遮光画像付き基板である。 < 10 > A substrate with a light-shielding image, comprising a light-shielded image produced using the photosensitive transfer material according to < 8 >.

11> 光透過性基板の上に、着色層からなり、互いに異なる色を呈する2以上の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素は互いに遮光画像により離画されているカラーフィルタにおいて、前記遮光画像が前記<>に記載の黒色組成物、或いは前記<>に記載の感光性転写材料を用いて作製されていることを特徴とするカラーフィルタである。 < 11 > A color filter comprising a colored layer on a light-transmitting substrate and having two or more pixel groups exhibiting different colors, each pixel constituting the pixel group being separated from each other by a light-shielding image In the color filter, the light-shielded image is produced using the black composition described in < 7 > or the photosensitive transfer material described in < 8 >.

12> 少なくとも一方が光透過性の1対の基板の間に、カラーフィルタ、液晶層及び液晶駆動手段を少なくとも備えた液晶表示素子において、前記カラーフィルタが、前記<11>に記載のカラーフィルタであることを特徴とする液晶表示素子である。 < 12 > In a liquid crystal display device comprising at least one of a pair of light-transmitting substrates and at least one of a color filter, a liquid crystal layer, and a liquid crystal driving means, the color filter is the color filter according to < 11 > It is a liquid crystal display element characterized by being.

13> 光透過性基板の上に、前記<>に記載の黒色組成物を用いて遮光層を形成する工程と、前記遮光層を露光し現像する工程と、を有することを特徴とする遮光画像の製造方法である。 < 13 > A step of forming a light-shielding layer on the light-transmitting substrate using the black composition according to the above < 7 >, and a step of exposing and developing the light-shielding layer. It is a manufacturing method of a shading image.

14> 支持体上に少なくとも感光性遮光層を設けた前記<>に記載の感光性転写材料を用い、光透過性基板の上に、前記感光性遮光層が接するように前記感光性転写材料を積層する工程と、前記感光性転写材料と光透過性基板との積層体から前記支持体を剥離する工程と、前記感光性遮光層を露光し現像する工程と、を有することを特徴とする遮光画像の製造方法である。 < 14 > The photosensitive transfer material according to < 8 >, wherein at least a photosensitive light-shielding layer is provided on a support, and the photosensitive transfer layer is in contact with the photosensitive light-shielding layer on a light-transmitting substrate. A step of laminating a material, a step of peeling the support from a laminate of the photosensitive transfer material and a light transmissive substrate, and a step of exposing and developing the photosensitive light-shielding layer. This is a method for producing a light-shielded image.

本発明によれば、高い耐熱性を有すると共に、色味変化や濃度低下を効果的に抑制した黒色組成物、及び該黒色組成物を用いた感光性転写材料を提供することができるまた、高い耐熱性を有すると共に、色味変化や濃度低下を効果的に抑制した遮光画像を得ることができる遮光画像の製造方法、該遮光画像を備えた遮光画像付き基板、該基板を用いたカラーフィルタ、及び液晶表示素子を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while having high heat resistance, the black composition which suppressed the color change and the density | concentration fall effectively, and the photosensitive transfer material using this black composition can be provided. A method for producing a light-shielded image capable of obtaining a light-shielded image having heat resistance and effectively suppressing color change and density reduction, a substrate with a light-shielded image provided with the light-shielded image, a color filter using the substrate, In addition, a liquid crystal display element can be provided.

本発明の黒色組成物は、黒色の棒状金属微粒子と、樹脂またはその前駆体の少なくとも1種と、モノマー及び開始剤と、を含むことを特徴とし、また必要に応じて、顔料微粒子、バインダーとなるポリマー、溶媒等を含有してもよい。 Black composition of the present invention includes a rod-shaped metal fine particles of black, and at least one resin or its precursor, characterized in that it comprises a monomer and initiator, and also optionally, pigment particles, and a binder comprising polymer may contain solvent like.

前記黒色組成物は、印刷インク、インクジェットインク、フォトマスク作製材料、印刷用プルーフ作製用材料、エッチングレジスト、ソルダーレジスト、プラズマデイスプレイパネル(PDP)の隔壁、誘電体パターン、電極(導体回路)パターン、電子部品の配線パターン、導電ペースト、導電フイルム、ブラックマトリックス等の遮光画像等に用いることができる。好ましくは、カラー液晶表示装置等に用いるカラーフィルタの表示特性向上のために、着色パターンの間隔部、周辺部分、及びTFTの外光側等に遮光画像を設けるために好適に用いることができる。特に好ましくは、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、EL表示装置、CRT表示装置などの表示装置の周辺部に設けられた黒色の縁や、赤、青、緑の画素間の格子状やストライプ状の黒色の部分、更に好ましくはTFT遮光のためのドット状や線状の黒色パターン等のブラックマトリックスとして好適に用いられる。   The black composition includes printing ink, inkjet ink, photomask preparation material, printing proof preparation material, etching resist, solder resist, plasma display panel (PDP) partition, dielectric pattern, electrode (conductor circuit) pattern, It can be used for light-shielded images such as wiring patterns of electronic parts, conductive paste, conductive film, black matrix, and the like. Preferably, in order to improve the display characteristics of a color filter used in a color liquid crystal display device or the like, it can be suitably used to provide a light-shielded image on the spacing portion of the colored pattern, the peripheral portion, the outside light side of the TFT, and the like. Particularly preferably, a black edge provided at the periphery of a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display display device, an EL display device, a CRT display device, or a grid or stripe between red, blue, and green pixels. The black portion is more preferably used as a black matrix such as a dot-like or linear black pattern for shielding a TFT.

≪黒色組成物≫
以下、本発明を詳細に説明するにあたり、まず黒色組成物について詳述する。
<棒状金属微粒子>
本発明において金属微粒子が「棒状」であるとは、下記の方法によって粒子を、X軸、Y軸、Z軸からなる三軸径の直方体と捉えた場合に、細長い棒状形態となることを指す。即ち、三軸径の直方体と捉えた場合に、平板状となる粒子や、正側面体となる粒子(例えば、粒子自体の形状が真球、立方体等の粒子)を除くことを意味する。
具体的には粒子自体の形状が、例えば、針状、円柱状、直方体等の角柱状、ラグビーボール状、繊維状、コイル状等である粒子が、本発明における棒状の金属微粒子として挙げられ、これらの中でも、針状、円柱状、直方体等の角柱状、ラグビーボール状である粒子がより好ましい。
≪Black composition≫
Hereinafter, in describing the present invention in detail, first, the black composition will be described in detail.
<Bar-shaped metal fine particles>
In the present invention, that the metal fine particles are “bar-shaped” means that when the particles are regarded as a rectangular parallelepiped having the X axis, the Y axis, and the Z axis by the following method, an elongated bar shape is formed. . That is, when it is regarded as a cuboid with a triaxial diameter, it means to exclude particles that are flat and particles that are regular side bodies (for example, particles having a shape of a true sphere, a cube, etc.).
Specifically, the shape of the particles themselves, for example, particles such as needles, cylinders, rectangular prisms such as cuboids, rugby balls, fibers, coils, etc., are mentioned as rod-shaped metal fine particles in the present invention, Among these, particles having a needle shape, a cylindrical shape, a rectangular column shape such as a rectangular parallelepiped, or a rugby ball shape are more preferable.

(三軸径)
本発明における金属微粒子は下記の方法によって直方体として捉えられ、各寸法が測定される。すなわち、1個の金属微粒子がちょうど(きっちりと)収まるような三軸径の直方体の箱を考え、この箱の長さの一番長いものを長軸長さLとし、厚みt、幅bをもってこの金属微粒子の寸法と定義する。前記寸法にはL>b≧tの関係をもたせ、同一の場合以外は、bとtの大きい方を幅bと定義する。
具体的には、まず、平面上に、金属微粒子を、最も重心が低くて安定に静止するように置く。次に、平面に対し直角に立てた2枚の平行な平板により金属微粒子を挟み、その平板間隔が最も短くなる位置の平板間隔をたもつ。次に、前記平板間隔を決する2枚の平板に対し直角で前記平面に対しても直角の2枚の平行な平板により金属微粒子を挟み、この2枚の平板間隔を保つ。最後に金属微粒子の最も高い位置に接触するように天板を前記平面に平行に載せる。この方法により平面、2対の平板及び天板によって画される直方体が形成される。
尚、コイル状やループ状のものはその形状を伸ばした状態で前記測定を行った場合の値と定義する。
(Triaxial diameter)
The metal fine particles in the present invention are captured as a rectangular solid by the following method, and each dimension is measured. In other words, a rectangular parallelepiped box with a single metal fine particle that fits exactly (tightly) is considered, and the longest length of this box is defined as the long axis length L, with thickness t and width b. This is defined as the size of the metal fine particles. The dimension has a relationship of L> b ≧ t, and the larger of b and t is defined as the width b unless otherwise the same.
Specifically, first, a metal fine particle is placed on a flat surface so that the center of gravity is the lowest and stably remains. Next, the metal fine particles are sandwiched between two parallel flat plates standing at right angles to the plane, and the flat plate interval at the position where the flat plate interval is the shortest is provided. Next, metal fine particles are sandwiched between two parallel flat plates that are perpendicular to the two flat plates that determine the flat plate interval and are also perpendicular to the flat surface, and the distance between the two flat plates is maintained. Finally, the top plate is placed parallel to the plane so as to come into contact with the highest position of the metal fine particles. By this method, a rectangular parallelepiped defined by a plane, two pairs of flat plates and a top plate is formed.
In addition, a coil shape or a loop shape is defined as a value when the measurement is performed in a state where the shape is extended.

(長軸長さL)
棒状金属微粒子の長軸長さLは、10nm乃至1000nmであることが好ましく、10nm乃至800nmであることがより好ましく、20nm乃至400nmである(可視光の波長より短い)ことが最も好ましい。10nm以上であることにより、製造上調製が簡便で、且つ、耐熱性や色味も良好という利点があり、また1000nm以下であることにより、面状欠陥が少ないという利点がある。
(Long axis length L)
The major axis length L of the rod-shaped metal fine particles is preferably 10 nm to 1000 nm, more preferably 10 nm to 800 nm, and most preferably 20 nm to 400 nm (shorter than the wavelength of visible light). When it is 10 nm or more, there are advantages that preparation is easy in production and heat resistance and color are good, and when it is 1000 nm or less, there are advantages that there are few planar defects.

(幅bと厚みtとの比)
本発明において、棒状金属微粒子の「幅bと厚みtとの比」とは、100個の棒状金属微粒子について測定した値の平均値と定義する。棒状金属微粒子の幅bと厚みtとの比(b/t)は2.0以下であることが好ましく、1.5以下であることがより好ましく、1.3以下であることが特に好ましい。b/t比が2.0を超えると平板状に近くなり、耐熱性が低下することがある。
(Ratio of width b to thickness t)
In the present invention, the “ratio between the width b and the thickness t” of the rod-shaped metal fine particles is defined as an average value of values measured for 100 rod-shaped metal fine particles. The ratio (b / t) between the width b and the thickness t of the rod-like fine metal particles is preferably 2.0 or less, more preferably 1.5 or less, and particularly preferably 1.3 or less. If the b / t ratio exceeds 2.0, it may be nearly flat and heat resistance may be reduced.

(長軸長さLと幅b及び厚みtとの関係)
長軸長さLは、幅bの1.2倍以上100倍以下であることが好ましく、1.3倍以上50倍以下であることがより好ましく、1.4倍以上20倍以下であることが特に好ましい。長軸長さLが幅bの1.2倍未満となると平板の特徴が生じ、耐熱性が悪化することがある。また、長軸長さLが幅bの100倍を超えると黒色濃度が低くなり薄層高濃度化ができないことがある。
(Relationship between major axis length L, width b, and thickness t)
The major axis length L is preferably 1.2 to 100 times the width b, more preferably 1.3 to 50 times, and more preferably 1.4 to 20 times. Is particularly preferred. When the major axis length L is less than 1.2 times the width b, the characteristics of a flat plate are produced, and the heat resistance may be deteriorated. On the other hand, if the long axis length L exceeds 100 times the width b, the black density may become low and the high density of the thin layer may not be achieved.

(長さLと幅b及び厚みtの測定)   (Measurement of length L, width b, and thickness t)

長さL、幅b及び厚みtの測定は、電子顕微鏡による表面観察図(×500000)と、原子間力顕微鏡(AFM)によってすることが出来、100個の棒状金属微粒子について測定した値の平均値とする。
前記原子間力顕微鏡(AFM)にはいくつかの動作モードがあり、用途によって使い分けている。大別すると以下の3つになる。
(1)接触方式
プローブを試料表面に接触させ、カンチレバーの変位から表面形状を測定する方式。
(2)タッピング方式
プローブを試料表面に周期的に接触させ、カンチレバーの振動振幅の変化から表面形状を測定する方式。
(3)非接触方式
プローブを試料表面に接触させずに、カンチレバーの振動周波数の変化から表面形状を測定する方式。
一方、非接触方式は極めて弱い引力を高感度に検出する必要がある。そのため、カンチレバーの変位を直接測定する静的な力の検出では難しく、カンチレバーの機械的共振を応用している。
前記の3つの方法が挙げられるが、試料に合わせ何れかの方法をとることが可能である。
The length L, width b, and thickness t can be measured with an electron microscope surface observation (× 500000) and an atomic force microscope (AFM), and the average of the values measured for 100 rod-shaped metal fine particles. Value.
The atomic force microscope (AFM) has several operation modes, which are properly used depending on the application. Broadly divided into the following three.
(1) Contact system A system in which a probe is brought into contact with the sample surface and the surface shape is measured from the displacement of the cantilever.
(2) Tapping method A method in which a probe is periodically brought into contact with the sample surface and the surface shape is measured from a change in vibration amplitude of the cantilever.
(3) Non-contact method A method for measuring the surface shape from the change in the vibration frequency of the cantilever without bringing the probe into contact with the sample surface.
On the other hand, the non-contact method needs to detect extremely weak attractive force with high sensitivity. For this reason, it is difficult to detect static force by directly measuring the displacement of the cantilever, and the mechanical resonance of the cantilever is applied.
The above three methods can be mentioned, and any method can be taken according to the sample.

尚、本発明において、前記電子顕微鏡としては、日本電子社製 電子顕微鏡 JEM2010を用い、加速電圧200kVで測定を行った。また、原子間力顕微鏡(AFM)は、セイコーインスツルメンツ株式会社製 SPA−400を使用した。該、原子間力顕微鏡(AFM)での測定では、比較にポリスチレンビーズを入れておくことにより、測定が容易になる。   In the present invention, the electron microscope JEM2010 manufactured by JEOL Ltd. was used as the electron microscope, and measurement was performed at an acceleration voltage of 200 kV. Moreover, the atomic force microscope (AFM) used SPA-400 by Seiko Instruments Inc. In the measurement with the atomic force microscope (AFM), the measurement is facilitated by adding polystyrene beads for comparison.

(棒状金属微粒子の金属)
本発明で用いられる棒状金属微粒子における金属としては、銀元素又は金元素を含むものが用いられる。金属微粒子は、2種以上の金属を組み合わせて用いてもよく、合金として用いることも可能である。具体的には金属、金属化合物、金属化合物と金属との複合微粒子のいずれかから形成される。
棒状金属微粒子としては、金属及び/又は金属化合物から形成されるものが好ましく、金属から形成されるものが特に好ましい。
特に本発明においては、長周期周期律表(IUPAC1991)の第4周期、第5周期、及び第6周期からなる群から選ばれる金属を主成分として含むことが好ましい。また、第2〜14族からなる郡から選ばれる金属を含有することが好ましく、第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族、及び第14族からなる群から選ばれる金属を主成分として含むことがより好ましい。これらの金属のうち、本発明における金属微粒子としては第4周期、第5周期、又は第6周期の金属であって、第2族、第10族、第11族、第12族、又は第14族の金属が更に好ましく、カルシウム、金、銀、銅、白金、スズ又はパラジウムが特に好ましい。その中でも金、銀、銅、スズが好ましい。但し、前記の通り銀元素又は金元素を含むことを要件とし、とりわけ銀が好ましく、銀としてはコロイド銀が最も好ましい。
(Bar metal fine metal)
The metal in the rod-shaped metal fine particles used in the present invention, is used as the silver-containing or Kanemoto element. The metal fine particles may be used in combination of two or more metals, and may be used as an alloy. Specifically, it is formed from any one of metal, a metal compound, and composite fine particles of a metal compound and a metal.
As the rod-shaped metal fine particles, those formed from a metal and / or a metal compound are preferable, and those formed from a metal are particularly preferable.
In particular, in the present invention, a metal selected from the group consisting of the fourth period, the fifth period, and the sixth period of the long period periodic table (IUPAC 1991) is preferably included as a main component. Moreover, it is preferable to contain the metal chosen from the group which consists of 2-14 groups, 2nd group, 8th group, 9th group, 10th group, 11th group, 12th group, 13th group, and More preferably, a metal selected from the group consisting of Group 14 is included as a main component. Among these metals, the metal fine particles in the present invention are metals of the fourth period, the fifth period, or the sixth period, and are Group 2, Group 10, Group 11, Group 12, or Group 14. Group metals are more preferred, with calcium, gold, silver, copper, platinum, tin or palladium being particularly preferred. Of these, gold, silver, copper, and tin are preferable. However, the requirement to include the street elemental silver or Kanemoto elements of, particularly silver are preferred, and most preferably colloidal silver as silver.

前記金属微粒子として分散金属微粒子の好ましい例は、例えば、銀、金、又はこれらと銅、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛との合金、から選ばれる少なくとも1種を挙げることができる。更に好ましい金属は、銀、金、又はこれらと銅、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウムとの合金、より好ましい金属は、銀、金、又はこれらと銅、白金、錫との合金から選ばれる少なくとも1種である。 Preferred examples of dispersing metal fine particles as the metal fine particles, for example, silver, gold, or these with copper, platinum, palladium, nickel, tin, cobalt, rhodium, iridium, iron, ruthenium, osmium, manganese, molybdenum, tungsten, Examples thereof include at least one selected from niobium, tantalum, titanium, bismuth, antimony, and an alloy with lead. Further preferred metals are silver, gold, or these with copper, platinum, palladium, nickel, tin, cobalt, rhodium, an alloy of iridium, more preferred metals are silver, gold, or with these copper, platinum, tin And at least one selected from alloys thereof.

(金属化合物)
本発明で言う「金属化合物」とは前記のごとき金属と金属以外の元素との化合物である。
金属と他の元素の化合物としては金属の酸化物、硫化物、硫酸塩、炭酸塩などがある。このうち硫化物が色調や微粒子形成のしやすさから特に好ましい。これら金属化合物の例としては酸化銅(II)、硫化鉄、硫化銀、硫化銅(II)、チタンブラックなどがあるが、硫化銀は色調、微粒子形成のしやすさや安定性の観点から特に好ましい。
(Metal compound)
The “metal compound” referred to in the present invention is a compound of a metal and an element other than the metal as described above.
Examples of compounds of metals and other elements include metal oxides, sulfides, sulfates, and carbonates. Of these, sulfide is particularly preferred from the viewpoint of color tone and ease of fine particle formation. Examples of these metal compounds include copper oxide (II), iron sulfide, silver sulfide, copper sulfide (II), and titanium black. Silver sulfide is particularly preferable from the viewpoints of color tone, ease of fine particle formation, and stability. .

(複合微粒子)
本発明で言う金属化合物と金属との複合微粒子とは金属と金属化合物が結合して1つの粒子になったものを言う。例えば粒子の内部と表面で組成の異なるもの、2種類の粒子が合一したもの等を挙げることができる。また、金属化合物と金属は、それぞれ1種でも2種以上であってもよい。金属化合物と金属との複合微粒子の具体例としては銀と硫化銀の複合微粒子、銀と酸化銅(II)の複合微粒子などがある。
(Composite fine particles)
The composite fine particles of a metal compound and a metal referred to in the present invention are those in which a metal and a metal compound are combined to form one particle. For example, those having different compositions between the inside and the surface of the particles, and those obtained by combining two kinds of particles can be exemplified. Moreover, 1 type or 2 types or more may be sufficient as a metal compound and a metal, respectively. Specific examples of the composite fine particles of the metal compound and metal include composite fine particles of silver and silver sulfide, and composite fine particles of silver and copper (II) oxide.

(コア・シェル)
更に、本発明の棒状金属微粒子は、コア・シェル型の複合粒子であってもよい。コア・シェル型の複合粒子とは、コア材料の表面をシェル材料でコートしたものである。コア・シェル型の複合粒子に用いる本発明のシェル材料としては、例えば、Si、Ge、AlSb、InP 、Ga、As、GaP 、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdTe、PbS、PbSe、PbTe、Se、Te、CuCl、CuBr、CuI、TlCl、TlBr、TlIや、これらの固溶体又はこれらを90mol%以上含む固溶体から選ばれる少なくとも1種の半導体、若しくは、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、又はこれらの合金、から選ばれる少なくとも1種の金属が挙げられる。
好ましいコア材料としては、銅、銀、金、パラジウム、ニッケル、錫、ビスマス、アンモチン、鉛、又はこれらの合金から選ばれる少なくとも1種を挙げることができる。
前記シェル材料は、反射率を低下させる目的で屈折率の調整剤としても好適に用いられる。
(Core shell)
Further, the rod-shaped metal fine particles of the present invention may be core / shell type composite particles. The core-shell type composite particles are obtained by coating the surface of a core material with a shell material. Examples of the shell material of the present invention used for the core-shell type composite particles include Si, Ge, AlSb, InP, Ga, As, GaP, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, PbS, PbSe, PbTe. , Se, Te, CuCl, CuBr, CuI, TlCl, TlBr, TlI, at least one semiconductor selected from these solid solutions or solid solutions containing 90 mol% or more of these, or copper, silver, gold, platinum, palladium, And at least one metal selected from nickel, tin, cobalt, rhodium, iridium, iron, ruthenium, osmium, manganese, molybdenum, tungsten, niobium, tantalum, titanium, bismuth, antimony, lead, or alloys thereof. .
Preferable core materials include at least one selected from copper, silver, gold, palladium, nickel, tin, bismuth, ammotine, lead, or alloys thereof.
The shell material is also preferably used as a refractive index adjusting agent for the purpose of reducing the reflectance.

コア・シェル構造を有する複合微粒子の作製方法に特に制限はなく、代表的な方法は以下のものが挙げられる。   There are no particular limitations on the method for producing the composite fine particles having a core-shell structure, and typical methods include the following.

(1)公知の方法で作製した金属微粒子の表面に、酸化、硫化などにより、金属化合物のシェルを形成する方法であり、例えば、金属微粒子を水などの分散媒に分散させて、硫化ナトリウムや硫化アンモニウムなどの硫化物を添加する方法がある。この方法により粒子の表面が硫化されてコア・シェル複合粒子が形成される。
この場合、用いる金属微粒子は、気相法、液相法などの公知の方法で作製することができる。金属微粒子の作製方法については、例えば「超微粒子の技術と応用における最新動向II(住ベテクノリサーチ(株)2002年発行)」に記載されている。
(1) A method of forming a metal compound shell on the surface of metal fine particles produced by a known method by oxidation, sulfurization, etc. For example, metal fine particles are dispersed in a dispersion medium such as water, and sodium sulfide or There is a method of adding a sulfide such as ammonium sulfide. By this method, the surface of the particles is sulfided to form core-shell composite particles.
In this case, the metal fine particles to be used can be produced by a known method such as a gas phase method or a liquid phase method. The method for producing metal fine particles is described in, for example, “Latest Trend II in Technology and Application of Ultrafine Particles II (issued by Sumibe Techno Research Co., Ltd. 2002)”.

(2)金属微粒子を作製する過程で連続的に表面に金属化合物のシェルを形成する方法であり、例えば、金属塩溶液に還元剤を添加して、金属イオンの一部を還元して金属微粒子を作製し、次いで硫化物を添加して、作製した金属微粒子の周囲に金属硫化物を形成する方法がある。 (2) A method of continuously forming a metal compound shell on the surface in the process of producing metal fine particles. For example, a reducing agent is added to a metal salt solution to reduce a part of metal ions to form metal fine particles. And then adding a sulfide to form a metal sulfide around the produced metal fine particles.

(棒状金属微粒子の作製)
金属微粒子は市販のものを用いることができる他、金属イオンの化学的還元法、無電解メッキ法、金属の蒸発法等により調製することが可能である。
特に棒状の銀微粒子は球形銀微粒子を種粒子としてその後、銀塩を更に添加し、CTAB(セチルトリメチルアンモニウムブロマイド)等の界面活性剤の存在下でアスコルビン酸など比較的還元力の弱い還元剤を用いることにより銀棒やワイヤーが得られることがAdvanced Materials 2002,14,80−82に記載されている。また、同様の記載がMaterials Chemistry and Physics 2004,84,197−204、Advanced Functional Materials 2004,14,183−189になされている。電気分解を用いた方法として、Materials Letters 2001,49,91−95やマイクロ波を照射することにより銀棒を生成する方法がJournal of Materials Research 2004,19,469−473に記載されている。逆ミセルと超音波の併用した例として、Journal of Physical Chemistry B 2003,107,3679−3683が挙げられる。
金に関しても、同様にJournal of Physical Chemistry B 1999,103、3073−3077及びLangmuir1999,15,701−709、Journal of American Chemical Society 2002,124,14316−14317に記載されている。
棒状の粒子の形成方法は前記記載の方法を改良(添加量調整、pH制御)しても調製できる。
(Preparation of rod-shaped fine metal particles)
As the metal fine particles, commercially available ones can be used, and they can be prepared by a chemical reduction method of metal ions, an electroless plating method, a metal evaporation method, or the like.
In particular, for rod-shaped silver fine particles, spherical silver fine particles are used as seed particles, and then a silver salt is further added. In the presence of a surfactant such as CTAB (cetyltrimethylammonium bromide), a reducing agent such as ascorbic acid having a relatively low reducing power is added. It is described in Advanced Materials 2002, 14, 80-82 that a silver bar and a wire can be obtained by using. Similar descriptions are made in Materials Chemistry and Physics 2004, 84, 197-204, Advanced Functional Materials 2004, 14, 183-189. As a method using electrolysis, Materials Letters 2001, 49, 91-95 and a method of generating a silver bar by irradiating microwaves are described in Journal of Materials Research 2004, 19, 469-473. Journal of Physical Chemistry B 2003, 107, 3679-3683 is an example in which reverse micelles and ultrasonic waves are used in combination.
As for gold, it is also described in Journal of Physical Chemistry B 1999, 103, 3073-3077 and Langmuir 1999, 15, 701-709, Journal of American Chemical Society 2002, 124, 14316-143.
The method for forming the rod-like particles can be prepared by improving the above-described method (adjustment of addition amount, pH control).

本発明における金属微粒子は、無彩色に近づけるために、色々な種類の棒状粒子を組み合わせることにより得ることもできる。
粒子を球形や立方体から棒状へ変化させることにより、より高い透過濃度を得ることができ、これにより遮光層の薄膜化を行うことが可能となる。
The metal fine particles in the present invention can also be obtained by combining various types of rod-like particles in order to approximate an achromatic color.
By changing the particles from a spherical shape or a cubic shape to a rod shape, a higher transmission density can be obtained, which makes it possible to reduce the thickness of the light shielding layer.

(粒度分布)
本発明における棒状金属微粒子の粒度分布は、粒子の分布を正規分布近似し、その数平均粒子径の粒度分布幅D90/D10が、1.2以上20未満であることが好ましい。ここで、粒子径は長軸長さLを粒子直径としたものであり、D90は平均粒径に近い粒子の90%が見出される粒子直径であり、D10は平均粒径に近い粒子の10%が見出される粒子直径である。粒度分布幅は色調の観点からさらに好ましくは2以上15以下である。さらに好ましくは、4以上10以下である。分布幅が1.2未満だと色調が単色に近くなる場合があり、20以上となると、粗大粒子による散乱によって濁りが生じる場合がある。
(Particle size distribution)
The particle size distribution of the rod-shaped metal fine particles in the present invention is preferably such that the particle distribution approximates a normal distribution, and the particle size distribution width D90 / D10 of the number average particle diameter is 1.2 or more and less than 20. Here, the particle diameter is the major axis length L as the particle diameter, D90 is the particle diameter at which 90% of the particles close to the average particle diameter are found, and D10 is 10% of the particles close to the average particle diameter. Is the particle diameter at which is found. The particle size distribution width is more preferably 2 or more and 15 or less from the viewpoint of color tone. More preferably, it is 4 or more and 10 or less. If the distribution width is less than 1.2, the color tone may be close to a single color, and if it is 20 or more, turbidity may occur due to scattering by coarse particles.

尚、前記粒度分布幅D90/D10の測定は、具体的には、塗布膜中の金属微粒子を、上述の三軸径を測定する方法にてランダムに100個測定し、前記長軸長さLを粒子直径とし、粒径分布を正規分布近似し、平均粒子径に近い粒子の数で90%の範囲となる粒子直径をD90とし、平均粒子径から数で10%の範囲となる粒子直径をD10とし、D90/D10を算出することができる。   In addition, the measurement of the particle size distribution width D90 / D10 is specifically performed by measuring 100 metal fine particles in the coating film at random by the above-described method of measuring the triaxial diameter, and the long axis length L Is the particle diameter, the particle size distribution is a normal distribution approximation, the particle diameter that is in the range of 90% by the number of particles close to the average particle diameter is D90, and the particle diameter that is in the range of 10% from the average particle diameter is As D10, D90 / D10 can be calculated.

(棒状金属微粒子の分散)
本発明における棒状金属微粒子は、黒色組成物中において分散されていることが望ましい。分散時における棒状金属微粒子の存在状態は特に限定されないが、棒状金属微粒子が安定な分散状態で存在していることが好ましく、例えば、コロイド状態であることがより好ましい。コロイド状態の場合には、例えば、棒状金属微粒子が実質的に棒状の微粒子状態で分散されていることが好ましい。
ここで、分散剤として、チオール基含有化合物、アミノ酸又はその誘導体、ペプチド化合物、多糖類及び多糖類由来の天然高分子、合成高分子及びこれらに由来するゲルなどを用いることができる。
ここで用いるチオール基含有化合物の種類は特に限定されず、1個又は2個以上のチオール基を有する化合物であればいかなるものでもよい。チオール基含有化合物としては、例えば、アルキルチオール類(例えば、メチルメルカプタン、エチルメルカプタンなど)、アリールチオール類(例えば、チオフェノール、チオナフトール、ベンジルメルカプタンなど)、アミノ酸又はその誘導体(例えば、システイン、グルタチオンなど)、ペプチド化合物(例えば、システイン残基を含むジペプチド化合物、トリペプチド化合物、テトラペプチド化合物、5以上のアミノ酸残基を含むオリゴペプチド化合物など)、又は蛋白質(例えば、メタロチオネインやシステイン残基が表面に配置された球状蛋白質など)などを挙げることができるが、これらに限定されることはない。
(Dispersion of rod-shaped fine metal particles)
The rod-shaped metal fine particles in the present invention are desirably dispersed in the black composition. The state of presence of the rod-shaped metal fine particles during dispersion is not particularly limited, but the rod-shaped metal fine particles are preferably present in a stable dispersed state, for example, more preferably in a colloidal state. In the case of a colloidal state, for example, it is preferable that rod-like metal fine particles are dispersed in a substantially rod-like fine particle state.
Here, as the dispersant, a thiol group-containing compound, an amino acid or a derivative thereof, a peptide compound, a polysaccharide, a natural polymer derived from a polysaccharide, a synthetic polymer, a gel derived therefrom, or the like can be used.
The kind of the thiol group-containing compound used here is not particularly limited and may be any compound as long as it has one or more thiol groups. Examples of the thiol group-containing compound include alkyl thiols (eg, methyl mercaptan, ethyl mercaptan, etc.), aryl thiols (eg, thiophenol, thionaphthol, benzyl mercaptan, etc.), amino acids or derivatives thereof (eg, cysteine, glutathione). Etc.), peptide compounds (eg, dipeptide compounds containing cysteine residues, tripeptide compounds, tetrapeptide compounds, oligopeptide compounds containing 5 or more amino acid residues), or proteins (eg, metallothionein or cysteine residues) And the like, but are not limited thereto.

分散剤に用いられる高分子類としては、保護コロイド性のあるポリマーでゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプルピルセルロース、ポリアルキレンアミン、ポリアクリル酸の部分アルキルエステル、ポリビニルピロリドン(PVP)及びポリビニルピロリドン共重合体などがある。分散剤として用いることができるポリマーについては例えば「顔料の事典」(伊藤征司郎編、(株)朝倉書院発行、2000年)に記載されている。   Polymers used in the dispersant include protective colloidal polymers such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropyl cellulose, polyalkyleneamine, polyacrylic acid partial alkyl esters, polyvinylpyrrolidone (PVP), and polyvinylpyrrolidone. There are copolymers. The polymer that can be used as the dispersant is described in, for example, “Encyclopedia of Pigments” (edited by Seijiro Ito, published by Asakura Shoin Co., Ltd., 2000).

また、分散液には、親水性高分子、界面活性剤、防腐剤、又は安定化剤などを適宜配合してもよい。親水性高分子としては、水に溶解でき、希薄状態において実質的に溶液状態を維持できるものであればいかなるものを用いてもよい。例えば、ゼラチン、コラーゲン、カゼイン、フィブロネクチン、ラミニン、エラスチンなどのタンパク質及びタンパク質由来の物質;セルロース、デンプン、アガロース、カラギーナン、デキストラン、デキストリン、キチン、キトサン、ペクチン、マンナンなどの多糖類及び多糖類由来の物質などの天然高分子;ポバール(ポリビニルアルコール)、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルアミンなどの合成高分子;又はこれらに由来するゲルなどを用いることができる。ゼラチンを用いる場合には、ゼラチンの種類は特に限定されず、例えば、牛骨アルカリ処理ゼラチン、豚皮膚アルカリ処理ゼラチン、牛骨酸処理ゼラチン、牛骨フタル化処理ゼラチン、豚皮膚酸処理ゼラチンなどを用いることができる。   In addition, a hydrophilic polymer, a surfactant, a preservative, a stabilizer, or the like may be appropriately added to the dispersion. As the hydrophilic polymer, any polymer may be used as long as it can be dissolved in water and can substantially maintain a solution state in a diluted state. For example, proteins and protein-derived substances such as gelatin, collagen, casein, fibronectin, laminin, and elastin; derived from polysaccharides and polysaccharides such as cellulose, starch, agarose, carrageenan, dextran, dextrin, chitin, chitosan, pectin, mannan Natural polymers such as substances; synthetic polymers such as poval (polyvinyl alcohol), polyacrylamide, polyvinyl pyrrolidone polyacrylate, polyethylene glycol, polystyrene sulfonic acid, polyallylamine; or gels derived therefrom can be used. When gelatin is used, the type of gelatin is not particularly limited, and examples thereof include beef bone alkali-treated gelatin, pig skin alkali-treated gelatin, beef bone acid-treated gelatin, beef bone phthalated gelatin, and pig skin acid-treated gelatin. Can be used.

前記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、ベタイン系界面活性剤のいずれも使用でき、アニオン系及びノニオン系界面活性剤が特に好ましい。界面活性剤のHLB値は塗布液の溶媒が水系か有機溶剤系かにより一概に言えないが、溶媒が水系の場合は8〜18程度のものが好ましく、有機溶剤系の場合は3〜6程度のものが好ましい。   As the surfactant, any of anionic, cationic, nonionic, and betaine surfactants can be used, and anionic and nonionic surfactants are particularly preferable. The HLB value of the surfactant cannot be generally specified depending on whether the solvent of the coating solution is aqueous or organic solvent, but is preferably about 8 to 18 when the solvent is aqueous, and about 3 to 6 when the solvent is organic. Are preferred.

尚、前記HLB値については、例えば「界面活性剤ハンドブック」(吉田時行、進藤信一、山中樹好編、工学図書(株)発行昭和62年)に記載されている。前記界面活性剤の具体例としては、プロピレングリコールモノステアリン酸エステル、プロピレングリコールモノラウリン酸エステル、ジエチレングリコールモノステアリン酸エステル、ソルビタンモノラウリル酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリル酸エステルなどがある。界面活性剤の例についても前述の「界面活性剤ハンドブック」に記載されている。   The HLB value is described in, for example, “Surfactant Handbook” (Tokiyuki Yoshida, Shinichi Shindo, Yoshiyoshi Yamanaka, published in Engineering Book Co., Ltd. 1987). Specific examples of the surfactant include propylene glycol monostearate, propylene glycol monolaurate, diethylene glycol monostearate, sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, and the like. Examples of the surfactant are also described in the aforementioned “Surfactant Handbook”.

<樹脂またはその前駆体>
本発明の黒色組成物に含有する樹脂としては、側鎖にカルボン酸基を有するポリマー、例えば、特開昭59−44615号公報、特公昭54−34327号公報、特公昭58−12577号公報、特公昭54−25957号公報、特開昭59−53836号公報、及び特開昭59−71048号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体などを挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができる。この他にも水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。特に、米国特許第4139391号明細書に記載のベンジル(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸の共重合体やベンジル(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体も挙げることができる。
<Resin or its precursor>
Examples of the resin contained in the black composition of the present invention include polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, Methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer as described in JP-B-54-25957, JP-A-59-53836, and JP-A-59-71048 And crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, and partially esterified maleic acid copolymer. Moreover, the cellulose derivative which has a carboxylic acid group in a side chain can also be mentioned. In addition, a polymer having a hydroxyl group added to a cyclic acid anhydride can also be preferably used. In particular, a copolymer of benzyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid or a multicomponent copolymer of benzyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid and other monomers described in US Pat. No. 4,139,391 is also available. Can be mentioned.

前記樹脂は、30〜400mgKOH/gの範囲の酸価と1000〜300000の範囲の重量平均分子量を有するものを選択して使用するのが好ましい。以上の他に、種々の性能、例えば、硬化膜の強度を改良するために、現像性等に悪影響を与えない範囲で、アルカリ可溶性のポリマーを添加してもよい。これらのアルカリ可溶なバインダーポリマーとしては、アルコール可溶性ナイロン或いはエポキシ樹脂を挙げることができる。
樹脂の前駆体としては硬化することで樹脂となるモノマー等が挙げられる。これらは後述する。
It is preferable to select and use the resin having an acid value in the range of 30 to 400 mgKOH / g and a weight average molecular weight in the range of 1000 to 300,000. In addition to the above, in order to improve various performances, for example, the strength of the cured film, an alkali-soluble polymer may be added within a range that does not adversely affect developability and the like. Examples of these alkali-soluble binder polymers include alcohol-soluble nylon and epoxy resin.
Examples of the resin precursor include a monomer that becomes a resin by curing. These will be described later.

<顔料>
本発明の黒色組成物には、棒状金属微粒子の他に、顔料微粒子を含有せしめることにより、色相を黒色に近づけることが可能となる。
本発明の黒色組成物に含有させる顔料として、カーボンブラック、チタンブラック、又は黒鉛が好適なものとして挙げられる。
前記カーボンブラックの例として、Pigment Black(ピグメント・ブラック) 7(カーボンブラック C.I.No.77266)が好ましい。市販品としては、三菱カーボンブラック MA100(三菱化学(株)製)、三菱カーボンブラック #5(三菱化学(株)製)が挙げられる。
<Pigment>
In addition to rod-shaped metal fine particles, the black composition of the present invention can contain pigment fine particles to make the hue close to black.
Suitable examples of the pigment to be included in the black composition of the present invention include carbon black, titanium black, and graphite.
As an example of the carbon black, Pigment Black 7 (carbon black CI No. 77266) is preferable. Commercially available products include Mitsubishi Carbon Black MA100 (Mitsubishi Chemical Corporation) and Mitsubishi Carbon Black # 5 (Mitsubishi Chemical Corporation).

前記チタンブラックの例として、TiO2、TiO、TiNやこれらの混合物が好ましい。市販品として、三菱マテリアルズ(株)製の商品名:12Sや13Mが挙げられる。また用いるチタンブラックの粒子径は40〜100nmが好ましい。 As an example of the titanium black, TiO 2 , TiO, TiN and a mixture thereof are preferable. As commercial products, trade names: 12S and 13M manufactured by Mitsubishi Materials Corporation are listed. The particle size of titanium black used is preferably 40 to 100 nm.

前記黒鉛の例として、粒子径がストークス径として3μm以下のものが好ましい。3μmを超えた黒鉛を用いると、遮光パターンの輪郭形状が不均一になり、シャープネスが悪くなるので好ましくない。また粒子径の大部分は0.1μm以下であることが望ましい。   As an example of the graphite, those having a particle diameter of 3 μm or less as the Stokes diameter are preferable. Use of graphite exceeding 3 μm is not preferable because the contour shape of the light shielding pattern becomes non-uniform and sharpness deteriorates. Further, most of the particle diameter is desirably 0.1 μm or less.

前記顔料の他に、公知の顔料を用いることもできる。顔料は一般に有機顔料と無機顔料とに大別されるが、本発明においては有機顔料が好ましい。好適に使用される顔料の例としては、アゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ジオキサジン系顔料、キナクリドン系顔料、イソインドリノン系顔料、ニトロ系顔料を挙げることができる。該有機顔料の色相は、例えば黄色顔料、オレンジ顔料、赤色顔料、バイオレット顔料、青色顔料、緑色顔料、ブラウン顔料、黒色顔料等が好ましい。以下に、黒色組成物に用いられる顔料(着色剤)を列挙するが、これらに限定されるものではない。   In addition to the pigment, a known pigment can also be used. In general, the pigment is roughly classified into an organic pigment and an inorganic pigment. In the present invention, the organic pigment is preferable. Examples of pigments that can be suitably used include azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, dioxazine pigments, quinacridone pigments, isoindolinone pigments, and nitro pigments. The hue of the organic pigment is preferably, for example, a yellow pigment, an orange pigment, a red pigment, a violet pigment, a blue pigment, a green pigment, a brown pigment, or a black pigment. The pigments (colorants) used in the black composition are listed below, but are not limited thereto.

本発明に用いる着色剤としては、具体的には、特開2005−17716号公報[0038]〜[0040]に記載の色材や、特開2005−361447号公報[0068]〜[0072]に記載の顔料や、特開2005−17521号公報[0080]〜[0088]に記載の着色剤を好適に用いることができる。   Specific examples of the colorant used in the present invention include the coloring materials described in JP 2005-17716 A [0038] to [0040] and JP 2005-361447 A [0068] to [0072]. The pigment described in JP-A-2005-17521 and the colorants described in [0080] to [0088] can be suitably used.

また、前記着色剤の他、「顔料便覧、日本顔料技術協会編、誠文堂新光社、1989」、「COLOUR INDEX、THE SOCIETY OF DYES & COLOURIST、THIRD EDITION、1987」に記載のものを参照して適宜用いることもできる。   In addition to the above-mentioned colorants, refer to those described in “Handbook of Pigments, Japan Pigment Technical Association, Seibundo Shinkosha, 1989”, “COLOUR INDEX, THE SOCIETY OF DYES & COLORIST, THIRD EDITION, 1987”. Can be used as appropriate.

顔料は、棒状金属微粒子の色相と補色関係にあるものを用いることが望ましい。また、顔料は1種でも2種以上を組み合せて用いてもよい。好ましい顔料の組合わせとしては、赤色系及び青色系の互いに補色関係にある顔料混合物と黄色系及び紫色系の互いに補色関係にある顔料混合物との組合せや、前記の混合物に更に黒色の顔料を加えた組み合わせや、青色系と紫色系と黒色系との顔料の組合せを挙げることができる。   It is desirable to use a pigment that has a complementary color relationship with the hue of the rod-like metal fine particles. Further, the pigments may be used alone or in combination of two or more. Preferred pigment combinations include a combination of a red and blue pigment mixture complementary to each other and a yellow and purple pigment mixture complementary to each other, or a black pigment added to the above mixture. And combinations of blue, violet and black pigments.

顔料は、黒色組成物中に均一に分散されていることが好ましい。顔料の平均粒径は、5nm以上5μm以下が好ましく、特に10nm以上1μm以下が好ましく、更にカラーフィルタ用としては20nm以上0.5μm以下が好ましい。   The pigment is preferably uniformly dispersed in the black composition. The average particle size of the pigment is preferably 5 nm to 5 μm, particularly preferably 10 nm to 1 μm, and more preferably 20 nm to 0.5 μm for color filters.

<遮光画像作製用黒色組成物>
前記黒色組成物を、特に遮光画像作製用黒色組成物(以下、「遮光用黒色組成物」とも言う。)として用いる場合について以下に詳述する。
本発明の遮光用黒色組成物を用いて遮光層(パターニングする前の層)を形成した場合、遮光層の膜厚1μmあたりの光学濃度が1以上となることが好ましい。例えば、カラーフィルタの作製時など、ポストベークの際、金属微粒子が融着するのを防止することを考慮すると、前記遮光用黒色組成物における棒状金属微粒子の含有量は、形成される遮光層において10〜90質量%、好ましくは10〜80質量%程度になるように調節することが好ましい。また、前記含有量は、棒状金属微粒子の平均粒径による光学濃度の変動を考慮して行うのが好ましい。
また、後述の感光性を有する遮光用黒色組成物における棒状金属微粒子の含有量も同様である。
<Black composition for shading image preparation>
The case where the black composition is used as a black composition for preparing a light-shielding image (hereinafter also referred to as “black composition for light shielding”) will be described in detail below.
When the light shielding layer (layer before patterning) is formed using the black composition for light shielding of the present invention, the optical density per 1 μm of the thickness of the light shielding layer is preferably 1 or more. For example, in consideration of preventing metal fine particles from fusing during post-baking, such as when producing a color filter, the content of rod-shaped metal fine particles in the light-shielding black composition is determined in the light-shielding layer to be formed. It is preferable to adjust so that it may become 10-90 mass%, Preferably it is about 10-80 mass%. The content is preferably determined in consideration of the variation in optical density due to the average particle diameter of the rod-like metal fine particles.
The same applies to the content of rod-shaped metal fine particles in the black composition for light shielding having a photosensitivity described later.

本発明で言う「遮光画像」は、ブラックマトリックスを包含する意味で用いる。「ブラックマトリックス」とは、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、EL表示装置、CRT表示装置などの表示装置の周辺部に設けられた黒色の縁や、赤、青、緑の画素間の格子状やストライプ状の黒色の部分、更にTFT遮光のためのドット状や線状の黒色パターン等のことであり、このブラックマトリックスの定義は、例えば、菅野泰平著、「液晶ディスプレイ製造装置用語辞典」、第2版、日刊工業新聞社、1996年、p.64に記載されている。遮光画像の例としては、有機ELディスプレイ(例えば、特開2004−103507号公報)、PDPのフロントパネル(例えば、特開2003−51261号公報)、PALCではバックライトの遮光等が挙げられる。
ブラックマトリックスは表示コントラストを向上させるため、また薄膜トランジスター(TFT)を用いたアクティブマトリックス駆動方式の液晶表示装置の場合には光の電流リークによる画質低下を防止するため、高い遮光性(光学濃度ODで3以上)が必要である。
The “light-shielded image” referred to in the present invention is used to include a black matrix. “Black matrix” means a black edge provided around the periphery of a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display device, an EL display device, a CRT display device, or a grid between red, blue and green pixels. And striped black parts, and dot-like and linear black patterns for TFT shading, etc. The definition of this black matrix is, for example, written by Taihei Kanno, “Liquid Crystal Display Equipment Dictionary”, 2nd edition, Nikkan Kogyo Shimbun, 1996, p. 64. Examples of the light-shielded image include an organic EL display (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-103507), a front panel of a PDP (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-51261), and PALC for light shielding of a backlight.
The black matrix improves display contrast, and in the case of an active matrix drive type liquid crystal display device using a thin film transistor (TFT), in order to prevent deterioration in image quality due to light current leakage, it has high light shielding properties (optical density OD). 3 or more) is required.

<感光性遮光画像作製用黒色組成物>
前記遮光画像作製用黒色組成物は感光性を有することがより好ましい。具体的には、感光性樹脂組成物を添加することで感光性を付与することができる。前記感光性樹脂組成物は、バインダーとなるポリマー、光重合開始剤、及びエチレン性不飽和二重結合を有し光の照射によって付加重合するモノマー(以下「光重合性モノマー」という場合がある。)等を含有してなる態様が好ましくあげられる。
<Black composition for photosensitive shading image preparation>
More preferably, the black composition for producing a light-shielding image has photosensitivity. Specifically, photosensitivity can be imparted by adding a photosensitive resin composition. The photosensitive resin composition has a polymer that serves as a binder, a photopolymerization initiator, and a monomer that has an ethylenically unsaturated double bond and undergoes addition polymerization upon irradiation with light (hereinafter sometimes referred to as “photopolymerizable monomer”). ) And the like are preferred.

前記感光性樹脂組成物は、アルカリ水溶液で現像可能なものと、有機溶剤で現像可能なものとがある。安全性と現像液のコストとの点からは、アルカリ水溶液現像可能なものが好ましい。そのようにするにはバインダーのポリマーをアルカリ可溶性ポリマーにすることが好ましい。
前記感光性樹脂組成物は、上述のような光や電子線などの放射線を受容する部分が硬化するネガ型でもよいし、放射線未受容部が硬化するポジ型でもよい。
The photosensitive resin composition includes those that can be developed with an alkaline aqueous solution and those that can be developed with an organic solvent. From the viewpoint of safety and the cost of the developer, those capable of developing with an aqueous alkali solution are preferred. For this purpose, the binder polymer is preferably an alkali-soluble polymer.
The photosensitive resin composition may be a negative type in which a portion that receives radiation such as light or electron beam as described above is cured, or a positive type in which a radiation non-receptive portion is cured.

前記ポジ型感光性樹脂組成物にはノボラック系の樹脂を用いたものが挙げられる。例えば、特開平7−43899号公報記載のアルカリ可溶性ノボラック樹脂系を使用することができる。また、特開平6−148888号公報記載の、ポジ型感光性樹脂層、即ち、該公報記載のアルカリ可溶性樹脂と感光剤として1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルと該公報記載の熱硬化剤の混合物を含む感光性樹脂層を用いることができる。更に、特開平5−262850号公報記載の組成物も活用可能である。   Examples of the positive photosensitive resin composition include those using a novolac resin. For example, an alkali-soluble novolak resin system described in JP-A-7-43899 can be used. Further, a positive photosensitive resin layer described in JP-A-6-148888, that is, an alkali-soluble resin described in the publication and a 1,2-naphthoquinonediazide sulfonic acid ester as a photosensitive agent and a thermosetting agent described in the publication. A photosensitive resin layer containing a mixture can be used. Furthermore, the composition described in JP-A-5-262850 can also be used.

ネガ型感光性樹脂組成物としては、ネガ型ジアゾ樹脂とバインダーからなる感光性樹脂、光重合性組成物、アジド化合物とバインダーとからなる感光性樹脂組成物、桂皮酸型感光性樹脂組成物等が挙げられる。その中でも特に好ましいのは光重合開始剤、光重合性モノマー及びバインダーを基本構成要素として含む光重合性組成物である。該光重合性組成物には、特開平11−133600号公報記載の「重合性化合物B」「重合開始剤C」「界面活性剤」「接着助剤」や、その他の組成物が利用できる。
例えば、ネガ型感光性樹脂組成物でアルカリ水溶液現像可能な感光性樹脂組成物としては、主成分としてカルボン酸基含有バインダー(アルカリ可溶性バインダー)と、光重合開始剤と、光重合性モノマーと、を含んでなる感光性樹脂組成物が挙げられる。尚、前記アルカリ可溶性バインダーとしては、前述の<樹脂またはその前駆体>において挙げた樹脂を好適なものとして使用できる。
Examples of the negative photosensitive resin composition include a photosensitive resin composed of a negative diazo resin and a binder, a photopolymerizable composition, a photosensitive resin composition composed of an azide compound and a binder, and a cinnamic acid type photosensitive resin composition. Is mentioned. Among them, particularly preferred is a photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiator, a photopolymerizable monomer and a binder as basic constituent elements. As the photopolymerizable composition, “polymerizable compound B”, “polymerization initiator C”, “surfactant”, “adhesion aid” described in JP-A No. 11-133600, and other compositions can be used.
For example, as a photosensitive resin composition that can be developed in an aqueous alkali solution with a negative photosensitive resin composition, a carboxylic acid group-containing binder (alkali-soluble binder) as a main component, a photopolymerization initiator, a photopolymerizable monomer, The photosensitive resin composition which contains this is mentioned. As the alkali-soluble binder, the resins mentioned in the above <Resin or its precursor> can be preferably used.

前記アルカリ可溶性バインダーのポリマーは、感光性の遮光画像作製用黒色組成物の全固形分に対して通常、10〜95質量%含有され、更に20〜90質量%が好ましい。10〜95質量%の範囲では、感光性樹脂層の粘着性が高すぎることもなく、形成される層の強度及び光感度が劣ることもない。   The alkali-soluble binder polymer is usually contained in an amount of 10 to 95% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, based on the total solid content of the photosensitive black composition for producing a light-shielding image. In the range of 10 to 95% by mass, the adhesiveness of the photosensitive resin layer is not too high, and the strength and photosensitivity of the formed layer are not inferior.

前記光重合開始剤としては、米国特許第2367660号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第2448828号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第2722512号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第3046127号及び同第2951758号の各明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第3549367号明細書に記載のトリアリールイミダゾール二量体とp−アミノケトンの組合せ、特公昭51−48516号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−s−トリアジン化合物、米国特許第4239850号明細書に記載されているトリハロメチル−s−トリアジン化合物、米国特許第4212976号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等が挙げられる。特に好ましくはトリハロメチル−s−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾール、トリアリールイミダゾール二量体である。
また、この他、特開平11−133600号公報に記載の「重合開始剤C」も好適なものとして挙げることができる。
これらの光重合開始剤又は光重合開始剤系は、単独でも、二種類以上を混合して用いてもよく、特に二種類以上を用いることが好ましい。また、感光性樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤の含有量は、0.5〜20質量%が一般的であり、1〜15質量%が好ましい。
Examples of the photopolymerization initiator include vicinal polyketaldonyl compounds disclosed in US Pat. No. 2,367,660, acyloin ether compounds described in US Pat. No. 2,448,828, and US Pat. No. 2,722,512. Aromatic acyloin compounds substituted with α-hydrocarbons described in the specification, polynuclear quinone compounds described in US Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758, tria described in US Pat. No. 3,549,367 A combination of a reel imidazole dimer and a p-aminoketone, a benzothiazole compound and a trihalomethyl-s-triazine compound described in JP-B-51-48516, and a trihalomethyl-s described in US Pat. No. 4,239,850 -Triazine compounds, U.S. Pat. No. 4,221,976 Trihalomethyl oxadiazole compounds, and the like that are described in. Particularly preferred are trihalomethyl-s-triazine, trihalomethyloxadiazole, and triarylimidazole dimer.
In addition, “polymerization initiator C” described in JP-A-11-133600 can also be mentioned as a preferable example.
These photopolymerization initiators or photopolymerization initiator systems may be used singly or in combination of two or more, and it is particularly preferable to use two or more. Moreover, 0.5-20 mass% is common and, as for content of the photoinitiator with respect to the total solid of the photosensitive resin composition, 1-15 mass% is preferable.

黄ばみなどの着色がなく、かつ露光感度を高くすることができる、表示特性の良い例としては、ジアゾール系光重合開始剤と、トリアジン系光重合開始剤の組み合わせが挙げられ、中でも、2−トリクロロメチル5−(p−スチリルスチリル)−1,3,4−オキサジアゾールと、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[4’−(N,N−ビスエトキンカルボニルメチル)−3’−ブロモフェニル]−s−トリアジンの組み合わせが最も良い。
これらの光重合開始剤の比率は、ジアゾール系/トリアジン系の質量比率で、好ましくは95/5から20/80、より好ましくは90/10から30/70、最も好ましくは80/20から60/40である。これらの光重合開始剤は、特開平1−152449号公報、特開平1−254918号公報、特開平2−153353号公報に記載されている。
更に、好適な例としてはベンゾフェノン系も挙げられる。
Examples of good display characteristics that are free from yellowing and can improve exposure sensitivity include a combination of a diazole photopolymerization initiator and a triazine photopolymerization initiator. Methyl 5- (p-styrylstyryl) -1,3,4-oxadiazole and 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [4 '-(N, N-bisethoxycarbonylmethyl) -3 The combination of '-bromophenyl] -s-triazine is the best.
The ratio of these photopolymerization initiators is a diazole / triazine mass ratio, preferably 95/5 to 20/80, more preferably 90/10 to 30/70, most preferably 80/20 to 60 /. 40. These photopolymerization initiators are described in JP-A-1-152449, JP-A-1-254918, and JP-A-2-153353.
Furthermore, a benzophenone series is also mentioned as a suitable example.

感光性の遮光画像作製用黒色組成物の固形分全体に占める顔料の割合が15から25質量%付近の場合、前記光重合開始剤に、クマリン系化合物を混合することによっても、黄ばみなどの着色がなく、かつ高感度化することができる。クマリン系化合物としては、7−[2−[4−(3−ヒドロキシメチルビペリジノ)−6−ジエチルアミノ]トリアジニルアミノ]−3−フェニルクマリンが最も良い。これらの光重合開始剤とクマリン系化合物の比率は、光重合開始剤/クマリン系化合物の質量比率で、好ましくは20/80から80/20、より好ましくは30/70から70/30、最も好ましくは40/60から60/40である。
ただし、本発明に使用できる光重合性組成物はこれらに限定されるものではなく、公知のものの中から適宜選択することできる。
When the ratio of the pigment to the total solid content of the photosensitive black composition for producing a light-shielding image is about 15 to 25% by mass, the photopolymerization initiator can be mixed with a coumarin-based compound to color yellowing or the like. And high sensitivity can be achieved. As the coumarin compound, 7- [2- [4- (3-hydroxymethylbiperidino) -6-diethylamino] triazinylamino] -3-phenylcoumarin is the best. The ratio of these photopolymerization initiator and coumarin compound is the mass ratio of photopolymerization initiator / coumarin compound, preferably 20/80 to 80/20, more preferably 30/70 to 70/30, most preferably. Is 40/60 to 60/40.
However, the photopolymerizable composition that can be used in the present invention is not limited to these, and can be appropriately selected from known ones.

前記光重合開始剤は、感光性の遮光画像作製用黒色組成物の全固形分に対して、0.5〜20質量%が一般的であり、1〜15質量%が好ましい。前記含有量が前記範囲内であると、光感度や画像強度の低下を防止でき、十分に性能を向上させることができる。   The photopolymerization initiator is generally 0.5 to 20% by mass, preferably 1 to 15% by mass, based on the total solid content of the photosensitive black composition for producing a light-shielding image. When the content is within the above range, a decrease in photosensitivity and image intensity can be prevented, and the performance can be sufficiently improved.

前記光重合性モノマーとしては、沸点が常圧で100℃以上の化合物を挙げることができる。例えば、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート及びフェノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官能(メタ)アクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)シアヌレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン若しくはグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシドやプロピレンオキシドを付加反応させた後で(メタ)アクリレート化したもの等の多官能(メタ)アクリレートを挙げることができる。   Examples of the photopolymerizable monomer include compounds having a boiling point of 100 ° C. or higher at normal pressure. For example, monofunctional (meth) acrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, tri Methylolethane triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate , Dipentaerythritol penta (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, Ethylene oxide and propylene oxide to polyfunctional alcohols such as dimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, tri (acryloyloxyethyl) cyanurate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane or glycerin And polyfunctional (meth) acrylates such as those obtained by addition reaction of (meth) acrylate.

更に、特公昭48−41708号、同50−6034号、特開昭51−37193号の各公報に開示されているウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、同52−30490号の各公報に開示されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートを挙げることができる。これらの中で、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートが好ましい。前記光重合性モノマーは、単独でも2種類以上を混合して用いてもよい。前記光重合性モノマーの感光性の遮光画像作製用黒色組成物の全固形分に対する含有量は、5〜50質量%が一般的であり、10〜40質量%が好ましい。前記含有量が前記範囲内にあると光感度や画像の強度も低下せず、感光性遮光層の粘着性が過剰になることもない。   Further, urethane acrylates disclosed in JP-B-48-41708, JP-A-50-6034 and JP-A-51-37193, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates, which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid, are disclosed in each publication of No. 52-30490. Among these, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and dipentaerythritol penta (meth) acrylate are preferable. The photopolymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more. The content of the photopolymerizable monomer with respect to the total solid content of the photosensitive black composition for preparing a light-shielding image is generally 5 to 50% by mass, and preferably 10 to 40% by mass. When the content is within the above range, the light sensitivity and the image strength are not lowered, and the adhesiveness of the photosensitive light-shielding layer is not excessive.

前記感光性樹脂組成物としては、前記成分の他に更に熱重合防止剤を添加することが好ましい。前記熱重合防止剤の例としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、p−t−ブチルカテコール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、β−ナフトール、ピロガロール等の芳香族ヒドロキシ化合物、ベンゾキノン、p−トルキノン等のキノン類、ナフチルアミン、ピリジン、p−トルイジン、フェノチアジン等のアミン類、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩又はアンモニウム塩、クロラニール、ニトロベンゼン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。   As the photosensitive resin composition, it is preferable to add a thermal polymerization inhibitor in addition to the above components. Examples of the thermal polymerization inhibitor include aromatic hydroxy such as hydroquinone, p-methoxyphenol, pt-butylcatechol, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, β-naphthol, pyrogallol and the like. Compounds, quinones such as benzoquinone and p-toluquinone, amines such as naphthylamine, pyridine, p-toluidine and phenothiazine, aluminum salt or ammonium salt of N-nitrosophenylhydroxylamine, chloranil, nitrobenzene, 4,4′-thiobis ( 3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole and the like.

前記感光性樹脂組成物として、更に必要に応じて公知の添加剤、例えば、可塑剤、界面活性剤、密着促進剤、分散剤、垂れ防止剤、レベリング剤、消泡剤、難燃化剤、光沢剤、溶剤等を添加することができる。   As the photosensitive resin composition, further known additives as necessary, for example, plasticizers, surfactants, adhesion promoters, dispersants, anti-sagging agents, leveling agents, antifoaming agents, flame retardants, Brighteners, solvents and the like can be added.

前記密着促進剤としては、例えばアルキルフェノール/ホルムアルデヒドノボラック樹脂、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリビニルブチラール、ポリイソブチレン、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、ブチルゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、アクリル樹脂系粘着剤、芳香族系、脂肪族系又は脂環族系の石油樹脂、シランカップリング剤等が挙げられる。   Examples of the adhesion promoter include alkylphenol / formaldehyde novolak resin, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl isobutyl ether, polyvinyl butyral, polyisobutylene, styrene-butadiene copolymer rubber, butyl rubber, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, chlorinated rubber, Acrylic resin adhesives, aromatic, aliphatic or alicyclic petroleum resins, silane coupling agents and the like can be mentioned.

また、本発明における棒状金属微粒子を銀コロイドのように水分散物として用いる場合には、前記感光性樹脂組成物として水系のもの用いることが必要である。このような感光性樹脂組成物としては特開平8−271727号公報の段落[0015]乃至[0023]に記載のものの他、市販のものとしては例えば、東洋合成工業(株)製の「SPP−M20」等が挙げられる。   Further, when the rod-shaped metal fine particles in the present invention are used as an aqueous dispersion like silver colloid, it is necessary to use an aqueous one as the photosensitive resin composition. Examples of such a photosensitive resin composition include those described in paragraphs [0015] to [0023] of JP-A-8-271727, and commercially available products such as “SPP-” manufactured by Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. M20 "and the like.

本発明の遮光画像作製用黒色組成物(感光性のものを含む)を用いてブラックマトリックスを形成することで、薄膜でかつ光学濃度が高いブラックマトリックスを作製することができる。   By forming the black matrix using the black composition for preparing a light-shielding image (including a photosensitive material) of the present invention, a black matrix having a thin film and a high optical density can be prepared.

≪遮光画像作製用感光性転写材料≫
本発明においては、前記の感光性を有する遮光画像作製用黒色組成物を用いて、遮光画像作製用感光性転写材料を作製し、これを用いてブラックマトリックス等の遮光画像を作製することができる。
前記感光性転写材料は、支持体上に少なくとも前記の感光性を有する遮光画像作製用黒色組成物を用いて形成した感光性遮光層を設けたものであり、必要に応じて熱可塑性樹脂層、中間層、又は保護層等を設けることができる。
前記感光性遮光層の膜厚は0.1〜4μmの範囲が好ましく、特に0.1〜2.0μmの範囲が好ましく更に0.2〜1.0μmが好ましい。
≪Photosensitive transfer material for shading image preparation≫
In the present invention, a light-sensitive image-forming photosensitive transfer material can be prepared using the photosensitive black composition for preparing a light-shielded image, and a light-shielded image such as a black matrix can be produced using the photosensitive transfer material. .
The photosensitive transfer material is provided with a photosensitive light-shielding layer formed using a black composition for producing a light-shielding image having at least the above-described photosensitivity on a support, and a thermoplastic resin layer as necessary. An intermediate layer, a protective layer, or the like can be provided.
The thickness of the photosensitive light-shielding layer is preferably in the range of 0.1 to 4 μm, particularly preferably in the range of 0.1 to 2.0 μm, and more preferably 0.2 to 1.0 μm.

<支持体>
前記感光性転写材料における支持体としては、ポリエステル、ポリスチレン等の公知の支持体を用いることができる。中でも2軸延伸したポリエチレンテレフタレートはコスト、耐熱性、寸法安定性の観点から好ましい。前記支持体の厚みは15〜200μm程度、より好ましくは30〜150μm程度が好ましい。前記支持体の厚みが前記範囲内にあると、ラミネーション工程時に熱によりトタン板状のしわが発生するのを効果的に抑制することができ、コスト上も有利である。
また前記支持体には必要に応じて特開平11−149008号公報に記載されている導電性層を設けてもよい。
<Support>
As the support in the photosensitive transfer material, a known support such as polyester or polystyrene can be used. Among these, biaxially stretched polyethylene terephthalate is preferable from the viewpoints of cost, heat resistance, and dimensional stability. The thickness of the support is preferably about 15 to 200 μm, more preferably about 30 to 150 μm. When the thickness of the support is within the above range, it is possible to effectively suppress the occurrence of a wrinkle of a tin plate due to heat during the lamination process, which is advantageous in terms of cost.
Moreover, you may provide the electroconductive layer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 11-149008 in the said support body as needed.

<熱可塑性樹脂層>
また、支持体と感光性遮光層、又は支持体と中間層の間に、アルカリ可溶性の熱可塑性樹脂層を設けることが好ましい。
前記熱可塑性樹脂層は、下地表面の凹凸(既に形成されている画像などによる凹凸等も含む)を吸収することができるようにクッション材としての役割を担うものであるため、当該凹凸に応じて変形しうる性質を有していることが好ましい。
<Thermoplastic resin layer>
Moreover, it is preferable to provide an alkali-soluble thermoplastic resin layer between the support and the photosensitive light-shielding layer or between the support and the intermediate layer.
The thermoplastic resin layer plays a role as a cushioning material so as to be able to absorb unevenness on the base surface (including unevenness due to an image already formed, etc.). It preferably has a property that can be deformed.

アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層に含まれる樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体とのケン化物、スチレンと(メタ)アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ビニルトルエンと(メタ)アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、及び(メタ)アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との(メタ)アクリル酸エステル共重合体等のケン化物、等より選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。更に「プラスチック性能便覧」(日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、1968年10月25日発行)による有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することもできる。また、これらの熱可塑性樹脂のうち、軟化点が80℃以下のものが好ましい。尚、本願明細書において、「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸及びメタクリル酸を総称し、その誘導体の場合も同様である。   Examples of the resin contained in the alkali-soluble thermoplastic resin layer include saponified products of ethylene and acrylate copolymers, saponified products of styrene and (meth) acrylate copolymers, vinyltoluene and (meth). Saponified product such as saponified product with acrylic ester copolymer, poly (meth) acrylic acid ester, and (meth) acrylic acid ester copolymer of butyl (meth) acrylate and vinyl acetate, etc. It is preferable that there is at least one. In addition, use organic polymers soluble in alkaline aqueous solutions from the "Plastic Performance Handbook" (edited by the Japan Plastics Industry Federation, edited by the All Japan Plastics Molding Industry Association, published by the Industrial Research Council, published on October 25, 1968). You can also. Of these thermoplastic resins, those having a softening point of 80 ° C. or less are preferable. In the present specification, “(meth) acrylic acid” is a generic term for acrylic acid and methacrylic acid, and the same applies to derivatives thereof.

前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層に含まれる樹脂の中でも、重量平均分子量3千〜50万(Tg=0〜170℃)の範囲で選択して使用することが好ましく、更には重量平均分子量4千〜20万(Tg=30〜140℃)の範囲がより好ましい。これらの樹脂の具体例としては、特公昭54−34327号、特公昭55−38961号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭61−134756号、特公昭59−44615号、特開昭54−92723号、特開昭54−99418号、特開昭54−137085号、特開昭57−20732号、特開昭58−93046号、特開昭59−97135号、特開昭60−159743号、特開昭60−247638号、特開昭60−208748号、特開昭60−214354号、特開昭60−230135号、特開昭60−258539号、特開昭61−169829号、特開昭61−213213号、特開昭63−147159号、特開昭63−213837号、特開昭63−266448号、特開昭64−55551号、特開昭64−55550号、特開平2−191955号、特開平2−199403号、特開平2−199404号、特開平2−208602号、特開平5−241340号の各公報に記載されているアルカリ水溶液に可溶な樹脂を挙げることができる。   Among the resins contained in the alkali-soluble thermoplastic resin layer, it is preferable to select and use a resin having a weight average molecular weight of 3,000 to 500,000 (Tg = 0 to 170 ° C.), and further a weight average molecular weight of 4 The range of 1,000 to 200,000 (Tg = 30 to 140 ° C.) is more preferable. Specific examples of these resins include JP-B-54-34327, JP-B-55-38961, JP-B-58-12777, JP-B-54-25957, JP-A-61-134756, JP-B-59-44615. JP, 54-92723, JP 54-99418, JP 54-137085, JP 57-20732, JP 58-93046, JP 59-97135, JP 60-159743, JP 60-247638, JP 60-208748, JP 60-214354, JP 60-230135, JP 60-258539, JP JP 61-1669829, JP 61-213213, JP 63-147159, JP 63-213837, JP 63-266448, JP 64- No. 5551, JP-A 64-55550, JP-A-2-191955, JP-A-2-199403, JP-A-2-199404, JP-A-2-208602, JP-A-5-241340 Examples thereof include resins that are soluble in an alkaline aqueous solution.

また、これらの中でも特に好ましいものとしては、特開昭63−147159号明細書に記載されたメタクリル酸/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリレート/メチルメタクリレート共重合体、特公昭55−38961号、特開平5−241340号の各公報に記載のスチレン/(メタ)アクリル酸共重合体が挙げられる。   Of these, methacrylic acid / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methyl methacrylate copolymer described in JP-A-63-147159, JP-B-55-38961, Examples thereof include styrene / (meth) acrylic acid copolymers described in each publication of No. 5-241340.

また、前記熱可塑性樹脂層には、熱可塑性樹脂層と支持体との接着力を調節するために、各種可塑剤、各種ポリマー、過冷却物質、密着改良剤、界面活性剤、又は離型剤等を加えることが可能である。好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エポキシ樹脂とポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートとの付加反応生成物、有機ジイソシアナートとポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートとの付加反応生成物、有機ジイソシアナートとポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートとの付加反応生成物、ビスフェノールAとポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートとの縮合反応生成物等を挙げることができる。前記熱可塑性樹脂層中の可塑剤の量は、該熱可塑性樹脂に対して、200質量%以下が一般的で、好ましくは20〜100質量%である。   The thermoplastic resin layer includes various plasticizers, various polymers, supercooling substances, adhesion improvers, surfactants, or release agents in order to adjust the adhesive force between the thermoplastic resin layer and the support. Etc. can be added. Specific examples of preferred plasticizers include polypropylene glycol, polyethylene glycol, dioctyl phthalate, diheptyl phthalate, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, biphenyl diphenyl phosphate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, Polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, addition reaction product of epoxy resin and polyethylene glycol mono (meth) acrylate, organic diisocyanate and polyethylene glycol mono ( Addition reaction product with (meth) acrylate, organic diisocyanate and polypropylene glycol mono (meth) acrylate Addition reaction products of rate, may be mentioned condensation products and the like of bisphenol A and polyethylene glycol mono (meth) acrylate. The amount of the plasticizer in the thermoplastic resin layer is generally 200% by mass or less, preferably 20 to 100% by mass with respect to the thermoplastic resin.

また、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層の厚みは6μm以上が好ましい。熱可塑性樹脂の厚みが6μm以上であれば、下地表面の凹凸を完全に吸収することができる。また、上限については、現像性、製造適性から約100μm以下が一般的であり、好ましくは約50μm以下である。   Further, the thickness of the alkali-soluble thermoplastic resin layer is preferably 6 μm or more. If the thickness of the thermoplastic resin is 6 μm or more, irregularities on the base surface can be completely absorbed. Further, the upper limit is generally about 100 μm or less, preferably about 50 μm or less, from the viewpoint of developability and production suitability.

本発明において、熱可塑性樹脂層を形成する際に用いる塗布液の溶媒としてはこの層を構成する樹脂を溶解するものであれば特に制限なく使用できる。前記溶媒としては、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、n−プロパノール、i−プロパノール等が挙げられる。   In the present invention, the solvent of the coating solution used when forming the thermoplastic resin layer can be used without particular limitation as long as it dissolves the resin constituting this layer. Examples of the solvent include methyl ethyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether acetate, n-propanol, i-propanol and the like.

(中間層)
本発明の感光性転写材料は、仮支持体と感光性遮光層との間に中間層を設けてもよい。
中間層を構成する樹脂としてはアルカリ可溶であれば特に制限はない。該樹脂の例としては、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリルアミド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル系樹脂、ポリアミド樹脂、及びこれらの共重合体を挙げることができる。またポリエステルのように通常はアルカリ可溶性でない樹脂にカルボキシル基やスルホン酸基を持つモノマーを共重合した樹脂も用いることができる。
これらの中で好ましいものはポリビニルアルコールである。ポリビニルアルコールとしては鹸化度が80%以上のものが好ましく、83〜98%のものがより好ましい。
(Middle layer)
In the photosensitive transfer material of the present invention, an intermediate layer may be provided between the temporary support and the photosensitive light-shielding layer.
The resin constituting the intermediate layer is not particularly limited as long as it is alkali-soluble. Examples of the resin include polyvinyl alcohol resins, polyvinyl pyrrolidone resins, cellulose resins, acrylamide resins, polyethylene oxide resins, gelatin, vinyl ether resins, polyamide resins, and copolymers thereof. . A resin obtained by copolymerizing a monomer having a carboxyl group or a sulfonic acid group with a resin that is not usually alkali-soluble, such as polyester, can also be used.
Of these, polyvinyl alcohol is preferred. The polyvinyl alcohol preferably has a saponification degree of 80% or more, more preferably 83 to 98%.

中間層を構成する樹脂は2種類以上を混合して使用することが好ましく、特にポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとを混合して用いることが特に好ましい。両者の質量比はポリビニルピロリドン/ポリビニルアルコール=1/99〜75/25の範囲が好ましく、更には10/90〜50/50の範囲がより好ましい。前記質量比が前記の範囲内にあると中間層の面状が良好であり、その上に塗設した感光性遮光層との密着性がよく、更に、酸素遮断性が低下して感度が低下するのを防止することができる。
尚、前記中間層には必要に応じて界面活性剤などの添加剤を添加することができる。
It is preferable to use a mixture of two or more resins constituting the intermediate layer, and it is particularly preferable to use a mixture of polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone. The mass ratio between the two is preferably polyvinyl pyrrolidone / polyvinyl alcohol = 1/99 to 75/25, more preferably 10/90 to 50/50. When the mass ratio is within the above range, the surface shape of the intermediate layer is good, the adhesiveness with the photosensitive light-shielding layer coated thereon is good, and further, the oxygen barrier property is lowered and the sensitivity is lowered. Can be prevented.
In addition, an additive such as a surfactant can be added to the intermediate layer as necessary.

前記中間層の厚みは0.1〜5μm、更に0.5〜3μmの範囲が好ましい。中間層の厚みが前記範囲内にあると、酸素遮断性を低下させることなく、また、現像時の中間層除去時間が増大するのを防止することができる。
中間層の塗布溶媒としては前記の樹脂が溶解すれば、特にその他の制限はないが、中でも水が好ましく、また水に前述の水混和性有機溶剤を混合した混合溶媒も好ましい。好ましい塗布溶媒の具体例としては、例えば、水、水/メタノール=90/10、水/メタノール=70/30、水/メタノール=55/45、水/エタノール=70/30、水/1−プロパノール=70/30、水/アセトン=90/10、水/メチルエチルケトン=95/5(ただし比は質量比を表す)等が挙げられる。
The thickness of the intermediate layer is preferably 0.1 to 5 μm, more preferably 0.5 to 3 μm. When the thickness of the intermediate layer is within the above range, it is possible to prevent an increase in the intermediate layer removal time during development without decreasing the oxygen barrier property.
The coating solvent for the intermediate layer is not particularly limited as long as the resin is dissolved, but water is particularly preferable, and a mixed solvent obtained by mixing the water-miscible organic solvent with water is also preferable. Specific examples of preferable coating solvents include, for example, water, water / methanol = 90/10, water / methanol = 70/30, water / methanol = 55/45, water / ethanol = 70/30, water / 1-propanol. = 70/30, water / acetone = 90/10, water / methyl ethyl ketone = 95/5 (where the ratio represents a mass ratio) and the like.

<感光性転写材料の作製>
本発明の感光性転写材料を作製するには、支持体に、本発明の感光性を有する遮光画像作製用黒色組成物の溶液を、例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて塗布・乾燥させることにより形成することができる。アルカリ可溶性熱可塑性樹脂の層を設ける場合にも同様にして形成することができる。
<Production of photosensitive transfer material>
In order to produce the photosensitive transfer material of the present invention, the support is prepared by applying, for example, a spinner, a wheeler, a roller coater, a curtain coater, a knife coater, It can form by apply | coating and drying using coating machines, such as a wire bar coater and an extruder. In the case of providing an alkali-soluble thermoplastic resin layer, it can be formed in the same manner.

本発明の感光性転写材料は、上述のごとき本発明の遮光画像作製用黒色組成物を用いて感光性遮光層を設けているため、薄膜でかつ光学濃度が高い遮光層を作製することができる。   Since the photosensitive transfer material of the present invention is provided with a photosensitive light-shielding layer using the black composition for light-shielding image preparation of the present invention as described above, a light-shielding layer having a thin film and a high optical density can be produced. .

≪遮光画像の作製方法≫
本発明において、遮光画像は、前記黒色組成物又は感光性転写材料を用いて形成した遮光層をパターニングすることにより作製され、該遮光層の膜厚は0.2〜2.0μm程度、更には0.9μm以下であることが好ましい。本発明における遮光層は棒状金属微粒子を分散させたものであるため、前記のごとき薄膜でも十分な光学濃度(3.5以上)を発揮することができる。
≪Method for producing shading image≫
In the present invention, the light-shielding image is produced by patterning a light-shielding layer formed using the black composition or the photosensitive transfer material, and the film thickness of the light-shielding layer is about 0.2 to 2.0 μm. It is preferably 0.9 μm or less. Since the light shielding layer in the present invention is a dispersion of rod-shaped metal fine particles, a sufficient optical density (3.5 or more) can be exhibited even with a thin film as described above.

また、本発明の遮光画像作製用黒色組成物を用いて遮光画像を作製する(パターニングする)方法は特に限定はない。以下にブラックマトリックスのパターン形成方法の一例を挙げる。   Moreover, the method for producing (patterning) a light-shielded image using the black composition for producing a light-shielded image of the present invention is not particularly limited. An example of a black matrix pattern forming method is given below.

第1の方法は、まず棒状金属微粒子並びに樹脂またはその前駆体の少なくとも1種とを含有し、感光性を有する本発明の遮光画像作製用黒色組成物を基板に塗布し、棒状金属微粒子を含有した感光性遮光層を形成する。その後、露光現像によりパターン以外の部分の遮光層を除却することによりパターン形成を行い遮光画像を得る方法である。また、上述の中間層と同組成の層を前記感光性遮光層上に形成して保護層とすることもできる。この場合、塗布液の塗布は、前記<感光性転写材料の作製>で記述した塗布機を用いて塗布することができるが、中でもスピンコート法によって行うのが好ましい。   In the first method, first, rod-shaped metal fine particles and resin or at least one of its precursors are contained, and the black composition for producing a light-shielding image of the present invention having photosensitivity is applied to a substrate, and rod-shaped metal fine particles are contained. A photosensitive light-shielding layer is formed. Thereafter, a light shielding image is obtained by forming a pattern by removing the light shielding layer in portions other than the pattern by exposure and development. Further, a protective layer can be formed by forming a layer having the same composition as the above-described intermediate layer on the photosensitive light-shielding layer. In this case, the coating solution can be applied by using the coating machine described in <Preparation of photosensitive transfer material>, but it is preferable to perform the coating by a spin coating method.

第2の方法は、まず、棒状金属微粒子並びに樹脂またはその前駆体の少なくとも1種とを含有し、非感光性の本発明の遮光画像作製用黒色組成物を基板に塗布して棒状金属微粒子を含有した遮光層を形成する。その後、該遮光層上に感光性レジスト液を塗布してレジスト層を形成する。次いで露光によりレジスト層を露光現像してレジスト層にパターンを形成した後、このパターンに応じて遮光層の非パターン部を溶解し、遮光層にパターンを形成する。最後にレジスト層を除却して、遮光画像を作製する方法である。   In the second method, first, rod-shaped metal particles containing rod-shaped metal fine particles and a resin or a precursor thereof are coated on a substrate with the non-photosensitive black composition for producing a light-shielding image of the present invention. The contained light shielding layer is formed. Thereafter, a photosensitive resist solution is applied on the light shielding layer to form a resist layer. Next, the resist layer is exposed and developed by exposure to form a pattern in the resist layer, and then the non-patterned portion of the light shielding layer is dissolved according to this pattern to form a pattern in the light shielding layer. Finally, the resist layer is removed to produce a light-shielded image.

第3の方法は、予め基板上のパターン以外の部分に塗布層を形成しておき、この上に棒状金属微粒子並びに樹脂またはその前駆体の少なくとも1種とを含有し、非感光性の本発明の遮光画像作製用黒色組成物を塗布して微粒子含有層を含有した遮光層を形成する。次いで、始めに形成した塗布層を上の遮光層とともに除却し、遮光画像が作製される。   In the third method, a coating layer is formed in advance on a portion other than the pattern on the substrate, and rod-like metal fine particles and at least one of a resin or a precursor thereof are contained on the coating layer, and the present invention is non-photosensitive. The light-shielding layer containing the fine particle-containing layer is formed by applying the black composition for preparing a light-shielding image. Next, the coating layer formed first is removed together with the upper light-shielding layer to produce a light-shielded image.

前記感光性転写材料を用いる遮光画像の作製方法としては、光透過性基板の上に、前記感光性転写材料を、感光性転写材料の感光性遮光層が接触するように配置して積層する。次に、感光性転写材料と光透過性基板との積層体から支持体を剥離し、その後、前記層を露光した後現像して遮光画像を形成する方法である。
この遮光画像の製造方法は、煩瑣な工程を行うことを必要とせず、低コストである。
As a method for producing a light-shielded image using the photosensitive transfer material, the photosensitive transfer material is arranged and laminated on a light-transmitting substrate so that the photosensitive light-shielding layer of the photosensitive transfer material is in contact therewith. Next, the support is peeled off from the laminate of the photosensitive transfer material and the light transmissive substrate, and then the layer is exposed and developed to form a light-shielded image.
This method for producing a light-shielded image does not require a cumbersome process and is low in cost.

次に、前記露光及び現像工程について述べる。
(露光及び現像)
前記基板上に形成された遮光層の上方に所定のマスクを配置し、その後該マスク上方から露光し、次いで現像液による現像を行い、パターニング画像を得、引き続き必要に応じて、水洗処理を行う、という工程により、本発明の遮光画像を得ることができる。露光は上述のようなマスクを配置する方法以外に、マスクを介さずに直接に画像データに基づいて露光光を相対走査することでパターン画像を得ても良い。
ここで、前記露光の光源としては、感光性樹脂層を硬化しうる波長域の光(例えば、365nm、405nmなど)を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、LD、超高圧水銀灯、YAG−SHG固体レーザー、KrFレーザー、固体レーザー等が挙げられる。露光量としては、通常5〜200mJ/cm2程度であり、好ましくは10〜100mJ/cm2程度である。
この際に使用する露光機は、特に限定されるわけではないが、前記マスクを介して露光するプロキシミティ露光機の他、散乱光線露光機、平行光線露光機、プステッパー、及びレーザー露光などを用いることができる。
Next, the exposure and development process will be described.
(Exposure and development)
A predetermined mask is disposed above the light-shielding layer formed on the substrate, then exposed from above the mask, then developed with a developer to obtain a patterning image, and subsequently subjected to a water washing treatment as necessary. The light-shielded image of the present invention can be obtained by the process of. In addition to the method of arranging the mask as described above, the pattern image may be obtained by performing relative scanning of the exposure light directly based on the image data without using the mask.
Here, the light source for the exposure can be appropriately selected and used as long as it can irradiate light in a wavelength region capable of curing the photosensitive resin layer (for example, 365 nm, 405 nm, etc.). Specific examples include an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an LD, an ultrahigh pressure mercury lamp, a YAG-SHG solid laser, a KrF laser, and a solid laser. As an exposure amount, it is about 5-200 mJ / cm < 2 > normally, Preferably it is about 10-100 mJ / cm < 2 >.
The exposure machine used at this time is not particularly limited, but in addition to the proximity exposure machine that exposes through the mask, a scattered light exposure machine, a parallel light exposure machine, a stepper, a laser exposure, etc. Can be used.

また、前記現像液としては、特に制約はなく、特開平5−72724号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができ、中でもアルカリ性物質の希薄水溶液が好ましく用いられる。詳しくは、現像液は感光性樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましい。尚、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。
また、前記現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧して、該感光性遮光層の表面を均一に湿らせることが好ましい。
The developer is not particularly limited, and known developers such as those described in JP-A-5-72724 can be used. Among them, a dilute aqueous solution of an alkaline substance is preferably used. Specifically, the developer preferably has a developing behavior in which the photosensitive resin layer is dissolved. Further, a small amount of an organic solvent miscible with water may be added.
Further, before the development, it is preferable to spray pure water with a shower nozzle or the like to uniformly wet the surface of the photosensitive light-shielding layer.

前記遮光画像の塗布による形成方法及び感光性転写材料を用いる形成方法における、前記アルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム)、アルカリ金属炭酸塩類(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム)、アルカリ金属重炭酸塩類(例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム)、アルカリ金属ケイ酸塩類(例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム)、アルカリ金属メタケイ酸塩類(例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム)、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類(例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド)、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の濃度は、0.01〜30質量%が好ましく、pHは8〜14が好ましい。   Examples of the alkaline substance in the formation method by applying the light-shielding image and the formation method using a photosensitive transfer material include alkali metal hydroxides (for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide), alkali metal carbonates (for example, Sodium carbonate, potassium carbonate), alkali metal bicarbonates (eg, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate), alkali metal silicates (eg, sodium silicate, potassium silicate), alkali metal metasilicates (eg, metasilicate) Acid sodium, potassium metasilicate), triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine, morpholine, tetraalkylammonium hydroxides (for example, tetramethylammonium hydroxide), trisodium phosphate, and the like. The concentration of the alkaline substance is preferably 0.01 to 30% by mass, and the pH is preferably 8 to 14.

前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は0.1〜30質量%が好ましい。更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては0.01〜10質量%が好ましい。   Examples of the “water-miscible organic solvent” include, for example, methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether. Benzyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ε-caprolactam, N-methylpyrrolidone and the like are preferable. . The concentration of the organic solvent miscible with water is preferably 0.1 to 30% by mass. Furthermore, a known surfactant can be added, and the concentration of the surfactant is preferably 0.01 to 10% by mass.

前記現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。遮光層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温付近から40℃が好ましい。現像時間は、遮光層の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常10秒〜2分程度である。短すぎると非露光部の現像が不充分となると同時に紫外線の吸光度も不充分となることがあり、長すぎると露光部もエッチングされることがある。いずれの場合にも、遮光画像形状を好適なものとすることが困難となる。この現像工程にて、遮光画像が形成される。   The developer can be used as a bath solution or a spray solution. When removing the uncured portion of the light shielding layer, methods such as rubbing with a rotating brush or wet sponge in the developer can be combined. The liquid temperature of the developer is usually preferably from about room temperature to 40 ° C. The development time depends on the composition of the light-shielding layer, the alkalinity and temperature of the developing solution, and the type and concentration when an organic solvent is added, but is usually about 10 seconds to 2 minutes. If it is too short, the development of the non-exposed area may be insufficient, and the absorbance of ultraviolet rays may be insufficient, and if it is too long, the exposed area may be etched. In either case, it is difficult to make the light-shielded image shape suitable. In this development step, a light-shielded image is formed.

≪遮光画像付き基板≫
本発明の遮光画像付き基板は、光透過性基板の上に遮光画像作製用黒色組成物から形成された遮光層を前記のようにしてパターニングすることにより作製される。
この遮光画像付き基板(好ましくは、ブラックマトリックス基板)における遮光画像の膜厚は0.2〜2.0μmが好ましく、特に0.2〜0.9μmが好ましい。前記ブラックマトリックス基板における遮光層は棒状金属微粒子を分散させたものであるため、前記のごとき薄膜でも十分な光学濃度を有する。
≪Substrate with shading image≫
The substrate with a light-shielding image of the present invention is produced by patterning a light-shielding layer formed from a black composition for producing a light-shielding image on a light-transmitting substrate as described above.
The film thickness of the light-shielded image on this light-shielded image-attached substrate (preferably a black matrix substrate) is preferably 0.2 to 2.0 μm, particularly preferably 0.2 to 0.9 μm. Since the light-shielding layer in the black matrix substrate is made by dispersing rod-shaped metal fine particles, a thin film such as that described above has a sufficient optical density.

本発明の遮光画像付き基板は、テレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用途に特に制限なく適用できる。また、下記カラーフィルタの作製においても好適に用いることができる。   The board | substrate with a light-shielding image of this invention can be applied without a restriction | limiting in particular to uses, such as portable terminals, such as a television, a personal computer, a liquid crystal projector, a game machine, a mobile telephone, a digital camera, and a car navigation. Moreover, it can be used suitably also in preparation of the following color filter.

≪カラーフィルタ≫
本発明のカラーフィルタは、光透過性基板の上に、着色層からなり、互いに異なる色を呈する2以上の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素は互いに遮光画像(以下「ブラックマトリックス」とも言う。)により離画されている構成を有し、前記ブラックマトリックスは、本発明の前記遮光画像作製用黒色組成物又は感光性転写材料を用いて作製される。前記画素群は2つでも、3つでも4つ以上でもよい。例えば3つの場合は赤(R)、緑(G)及び青(B)の3つの色相が好適に用いられる。赤、緑、青の3種の画素群を配置する場合は、モザイク型、トライアングル型等の配置が好ましく、4種以上の画素群を配置する場合ではどのような配置であってもよい。
≪Color filter≫
The color filter of the present invention comprises two or more pixel groups that are formed of a colored layer and have different colors on a light-transmitting substrate, and each of the pixels constituting the pixel group is mutually shielded (hereinafter referred to as “black”). The black matrix is prepared using the black composition for light-shielding image preparation or the photosensitive transfer material of the present invention. The number of pixel groups may be two, three, or four or more. For example, in the case of three, three hues of red (R), green (G), and blue (B) are preferably used. When three types of pixel groups of red, green, and blue are arranged, a mosaic type, a triangle type, and the like are preferable, and any arrangement may be used when four or more types of pixel groups are arranged.

前記光透過性基板としては、表面に酸化珪素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス板、ノンアルカリガラス板、石英ガラス板等の公知のガラス板或いはプラスチックフィルム等が用いられる。
カラーフィルタを作製するには、光透過性の基板に常法により2以上の画素群を形成した後、前記のようにしてブラックマトリックスを形成してもよいし、或いは、最初にブラックマトリックスを形成し、その後2以上の画素群を形成してもよい。
本発明のカラーフィルタは上述のごとき薄膜で高濃度であるブラックマトリックスを備えているため、表示コントラストが高くまた平坦性に優れている。
As the light transmissive substrate, a known glass plate such as a soda glass plate having a silicon oxide film on its surface, a low expansion glass plate, a non-alkali glass plate, a quartz glass plate, or a plastic film is used.
To produce a color filter, after forming two or more pixel groups on a light-transmitting substrate by a conventional method, a black matrix may be formed as described above, or a black matrix is first formed. Thereafter, two or more pixel groups may be formed.
Since the color filter of the present invention is provided with a black matrix having a high density and a thin film as described above, it has high display contrast and excellent flatness.

≪表示素子≫
本発明の遮光画像作製用黒色組成物は、表示素子に好適に用いることができる。表示素子としてはプラズマディスプレイ表示装置、EL表示装置、CRT表示装置、液晶表示素子等が挙げられ、中でも液晶表示素子に用いた場合に本発明の遮光画像作製用黒色組成物の効果が顕著に発揮される。表示素子の定義や各表示装置の説明は、例えば「電子ディスプレイデバイス(佐々木 昭夫著、隅工業調査会 1990毎発行)」、「ディスプレイデバイス(伊吹 順幸著、産業図書側 平成元年発行)」などに記載されている。
≪Display element≫
The black composition for light-shielding image preparation of this invention can be used suitably for a display element. Examples of the display element include a plasma display display device, an EL display device, a CRT display device, a liquid crystal display device, and the like. Particularly, when used for a liquid crystal display device, the effect of the black composition for producing a light-shielding image of the present invention is remarkably exhibited. Is done. For definitions of display elements and explanations of each display device, refer to, for example, “Electronic Display Device (Akio Sasaki, published by Sumi Kogyo Kenkyukai 1990)”, “Display Device (written by Junyuki Ibuki, published in 1989 by Sangyo Tosho)” It is described in.

本発明の表示装置は、前記カラーフィルタ以外に電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ.視野角補償フィルム、反射防止フィルム、光拡散フィルム、防眩フィルムなどさまざまな部材から一般的に構成される。本発明における遮光画像はこれらの公知の部材で構成される液晶表示素子に適用することができる。これらの部材については例えば「’94液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場(島 健太郎 (株)シーエムシー 1994年発行)」、「2003液晶関連市場の現状と将来展望(下巻)(表良吉 (株)富士キメラ総研 2003等発行)」に記載されており、LCDの種類としては、STN、TN、VA、IPS、OCS、及びR−OCB等が挙げられる。   The display device of the present invention includes an electrode substrate, a polarizing film, a retardation film, a backlight, a spacer, in addition to the color filter. Generally composed of various members such as a viewing angle compensation film, an antireflection film, a light diffusion film, and an antiglare film. The light-shielded image in the present invention can be applied to a liquid crystal display element composed of these known members. For example, “'94 Liquid Crystal Display Peripheral Materials and Chemicals Market (Kentaro Shima, CMC 1994)” and “2003 Liquid Crystal Related Markets Current Status and Future Prospects (Volume 2)” (Omoyoshi) The type of LCD includes STN, TN, VA, IPS, OCS, R-OCB, and the like.

液晶表示素子の一つとしては、少なくとも1方が光透過性の1対の基板の間に、カラーフィルタ、液晶層及び液晶駆動手段(単純マトリックス駆動方式及びアクティブマトリックス駆動方式を含む)を少なくとも備えたものが挙げられる。
前記カラーフィルタとしては、前記のごとき複数の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素が、互いに本発明による遮光画像により離画されているカラーフィルタが好適に用いることができる。前記カラーフィルタは平坦性が高いため、このカラーフィルタを備える液晶表示素子は、カラーフィルタと基板との間にセルギャップムラが発生せず、色ムラ等の表示不良の発生が改善される。
As one of the liquid crystal display elements, at least one is provided with a color filter, a liquid crystal layer, and liquid crystal driving means (including a simple matrix driving method and an active matrix driving method) between a pair of light-transmitting substrates. Can be mentioned.
As the color filter, a color filter having a plurality of pixel groups as described above, and each pixel constituting the pixel group being separated from each other by the light-shielded image according to the present invention can be preferably used. Since the color filter has high flatness, the liquid crystal display element including the color filter does not cause cell gap unevenness between the color filter and the substrate, and the occurrence of display defects such as color unevenness is improved.

また、前記液晶表示素子の別の態様としては、少なくとも1方が光透過性の1対の基板の間に、カラーフィルタ、液晶層及び液晶駆動手段を少なくとも備え、前記液晶駆動手段がアクティブ素子(例えばTFT)を有し、かつ各アクティブ素子の間に本発明の遮光画像作製用黒色組成物又は感光性転写材料を用いて作製されるブラックマトリックスが形成されているものである。
液晶表示素子については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術(内田 龍男編集、側工業調査会 1994年発行)」に記載されている。本発明の表示装置(液晶表示素子)には特に制限はなく、例えば前記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示素子に適用できる。本発明はこれらの中でも、特にカラーTFT方式の液晶表示素子に対して有効である。
カラーTFT方式の液晶表示素子については、例えば「カラーTFT液晶ディスプレイ(共立出版(株)1996年発行)」に記載されている。更に本発明はもちろんIPSなどの横電界駆動方式、MVAなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示素子にも適用できる。これらの方式については例えば「EL、PDP、LCDディスプレイ−技術と市場の最新動向−(東レリサーチセンター調査研究部門 2001年発行)」の43ページに記載されている。
In another aspect of the liquid crystal display element, at least one of them is provided with a color filter, a liquid crystal layer, and liquid crystal driving means between a pair of light-transmitting substrates, and the liquid crystal driving means is an active element ( For example, a black matrix produced using the black composition for producing a light-shielding image or the photosensitive transfer material of the present invention is formed between each active element.
The liquid crystal display element is described in, for example, “Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Side Industry Research Committee, 1994)”. The display device (liquid crystal display element) of the present invention is not particularly limited, and can be applied to various types of liquid crystal display elements described in, for example, the “next generation liquid crystal display technology”. Among these, the present invention is particularly effective for color TFT type liquid crystal display elements.
The color TFT liquid crystal display element is described in, for example, “Color TFT liquid crystal display (issued in 1996 by Kyoritsu Publishing Co., Ltd.)”. Furthermore, the present invention can be applied to a liquid crystal display element with a wide viewing angle such as a lateral electric field driving method such as IPS and a pixel division method such as MVA. These methods are described, for example, on page 43 of "EL, PDP, LCD display-latest technology and market trends-(issued in 2001 by Toray Research Center Research Division)".

前記液晶表示素子に用いることのできる液晶としては、ネマチック液晶、コレステリック液晶、スメクチック液晶、強誘電液晶等が挙げられる。   Examples of the liquid crystal that can be used for the liquid crystal display element include nematic liquid crystal, cholesteric liquid crystal, smectic liquid crystal, and ferroelectric liquid crystal.

以下に実施例を示し本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。尚、下記において特に限定のないかぎり「部」は「質量部」を、「分子量」は「質量平均分子量」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples. In the following, unless otherwise specified, “part” represents “part by mass” and “molecular weight” represents “mass average molecular weight”.

[実施例1]
《感光材料の作製》
<棒状銀微粒子分散液の調製>
棒状銀微粒子(長軸長さL:400nm、幅b:30nm、厚さt:25nm、b/t=1.2)73.5gと、分散剤(商品名:ソルスパース20000、アビシア(株)製)1.05gと、メチルエチルケトン16.4gと、を混合した。これを、超音波分散機(商品名:Ultrasonic generator model US−6000 ccvp、nissei社製)を用いて分散し、棒状銀微粒子分散液を得た。
[Example 1]
<< Production of photosensitive material >>
<Preparation of rod-shaped silver fine particle dispersion>
73.5 g of rod-shaped silver fine particles (major axis length L: 400 nm, width b: 30 nm, thickness t: 25 nm, b / t = 1.2) and a dispersant (trade name: Solsperse 20000, manufactured by Avicia Co., Ltd.) ) 1.05 g and methyl ethyl ketone 16.4 g were mixed. This was dispersed using an ultrasonic disperser (trade name: Ultrasonic generator model US-6000 ccvp, manufactured by nissei) to obtain a rod-shaped silver fine particle dispersion.

尚、本実施例における各種形状の棒状銀微粒子は、Materials Chemistry and Physics 2004,84,P197−204に記載されている微粒子の調製方法により、銀塩還元時のpH、反応温度を変化させることにより、各種形状の棒状銀微粒子の分散液として調製し、得られた分散液に遠心分離処理(10000rpm、20分)を行い、上澄み液を捨て、適宜、濃縮を行って棒状銀微粒子を得た。また、棒状金属微粒子の長軸長さL及びb/t比の調節は、種粒子と金属塩の比を調節することにより行った。
また、棒状金属微粒子の長軸長さL、幅b及び厚みt、粒度分布D90/D10の測定は、前述の方法により行った。
In addition, the rod-shaped silver fine particles of various shapes in this example are obtained by changing the pH and reaction temperature during silver salt reduction by the fine particle preparation method described in Materials Chemistry and Physics 2004, 84, P197-204. The dispersion was prepared as a dispersion of rod-shaped silver fine particles having various shapes, and the obtained dispersion was centrifuged (10000 rpm, 20 minutes), and the supernatant was discarded and concentrated appropriately to obtain rod-shaped silver fine particles. Further, the major axis length L and b / t ratio of the rod-shaped metal fine particles were adjusted by adjusting the ratio of the seed particles to the metal salt.
The major axis length L, width b and thickness t, and particle size distribution D90 / D10 of the rod-shaped metal fine particles were measured by the method described above.

<感光性遮光層用塗布液の調製>
下記組成を混合して、感光性遮光層用塗布液を調製した。
〔組成〕
・棒状銀微粒子分散液 40.00部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 28.6部
・メチルエチルケトン 37.6部
・フッ素系界面活性剤 0.2部
(商品名:F176PF、大日本インキ化学工業(株)製)
・ヒドロキノンモノメチルエーテル 0.001部
・ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体
(モル比=73/27、分子量30000)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(KAYARAD DPHA、日本化薬社製)
ここで、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの添加量は、塗布液におけるベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体の量を1としたときの質量比率で0.9となる量とし、且つ、前記棒状銀微粒子の体積分率が0.13になるような量とした。
・ビス[4−[N−[4−(4、6−ビストリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)フェニル]カルバモイル]フェニル]セバケート 0.1部
<Preparation of coating solution for photosensitive light shielding layer>
The following composition was mixed and the coating liquid for photosensitive light shielding layers was prepared.
〔composition〕
・ Bar-shaped silver fine particle dispersion 40.00 parts ・ Propylene glycol monomethyl ether acetate 28.6 parts ・ Methyl ethyl ketone 37.6 parts ・ Fluorosurfactant 0.2 parts (trade name: F176PF, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) Made)
Hydroquinone monomethyl ether 0.001 part benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (molar ratio = 73/27, molecular weight 30000)
・ Dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Here, the addition amount of dipentaerythritol hexaacrylate is set to an amount that is 0.9 in terms of mass ratio when the amount of benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer in the coating solution is 1, and The volume ratio was set to 0.13.
-Bis [4- [N- [4- (4,6-bistrichloromethyl-s-triazin-2-yl) phenyl] carbamoyl] phenyl] sebacate 0.1 part

<保護層用塗布液の調製>
下記組成を混合して、保護層用塗布液を調製した。
・ポリビニルアルコール 3.0部
(商品名:PVA205、(株)クラレ製)
・ポリビニルピロリドン 1.3部
(商品名:PVP−K30、アイエスピー・ジャパン社製)
・蒸留水 50.7部
・メチルアルコール 45.0部
<Preparation of coating solution for protective layer>
The following compositions were mixed to prepare a protective layer coating solution.
・ 3.0 parts of polyvinyl alcohol (trade name: PVA205, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
-Polyvinylpyrrolidone 1.3 parts (Brand name: PVP-K30, manufactured by IS Japan Co., Ltd.)
・ Distilled water 50.7 parts ・ Methyl alcohol 45.0 parts

<感光材料の作製>
ガラス基板上に、スピンコーターを用いて乾燥膜厚が1.00μmになるように前記感光性遮光層用塗布液を塗布して100℃で5分間乾燥し感光性遮光層を形成した。次いで、この上にスピンコーターを用いて前記保護層用塗布液を乾燥膜厚が1.5μmになるように塗布して、100℃で5分間乾燥し保護層を形成して、本発明の感光材料を作製した。
<Production of photosensitive material>
The photosensitive light-shielding layer coating solution was applied onto a glass substrate using a spin coater so that the dry film thickness was 1.00 μm, and dried at 100 ° C. for 5 minutes to form a photosensitive light-shielding layer. Next, the coating solution for the protective layer is applied on this using a spin coater so that the dry film thickness is 1.5 μm, and dried at 100 ° C. for 5 minutes to form a protective layer. The material was made.

《ブラックマトリックスの作製》
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機(日立電子エンジニアリング(株)製)で、基板とマスク(画像パターンを有す石英露光マスク)を垂直に立てた状態で、露光マスク面と保護層を塗布面の間の距離を200μmに設定し、露光量70mJ/cm2でパターン露光した。次いで、現像処理液TCD(富士写真フイルム(株)製、アルカリ現像液)を用いて現像処理(33℃・20秒)を行った。画面サイズ10インチで、画素数が480×640であり、また、ブラックマトリックス幅が24μmで、画素部の開口が86μm×304μmであるブラックマトリックスを得た。
<Production of black matrix>
With a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd.) with an ultra-high pressure mercury lamp, with the substrate and mask (quartz exposure mask with image pattern) standing vertically, the exposure mask surface and protective layer are The distance between the coated surfaces was set to 200 μm, and pattern exposure was performed with an exposure amount of 70 mJ / cm 2 . Next, development processing (33 ° C., 20 seconds) was performed using a development processing solution TCD (produced by Fuji Photo Film Co., Ltd., alkaline developer). A black matrix having a screen size of 10 inches, a number of pixels of 480 × 640, a black matrix width of 24 μm, and an opening of the pixel portion of 86 μm × 304 μm was obtained.

《評価》
得られたブラックマトリックスについて下記の評価を行った。結果を下記表1に示す。
−光学濃度の測定−
膜の光学濃度は以下の方法で測定した。
まず、ブラックマトリックス作製前のガラス基板上に塗設された感光性遮光層に前記超高圧水銀灯を用いて塗布面側から500mJ/cm2の露光を行った。次いでこの光学濃度(O.D.)をマクベス濃度計(商品名:TD−904、マクベス社製)を用いて測定し、更に240℃120分ベークを行った後に光学濃度(O.D.)を測定した。別途、ガラス基板の光学濃度(OD0)を同様の方法で測定し、前記O.D.からOD0を差し引いて、ベーク前及び後における膜の光学濃度とした。
<Evaluation>
The obtained black matrix was evaluated as follows. The results are shown in Table 1 below.
-Optical density measurement-
The optical density of the film was measured by the following method.
First, the photosensitive light-shielding layer coated on the glass substrate before producing the black matrix was exposed to 500 mJ / cm 2 from the coated surface side using the ultrahigh pressure mercury lamp. Next, the optical density (OD) was measured using a Macbeth densitometer (trade name: TD-904, manufactured by Macbeth), and further baked at 240 ° C. for 120 minutes, and then the optical density (OD). Was measured. Separately, the optical density (OD 0 ) of the glass substrate was measured by the same method. D. OD 0 was subtracted from this to obtain the optical density of the film before and after baking.

−ブラックマトリックスの品位−
また、前記ベーク前後におけるブラックマトリックスの品位(色味)を目視にて確認し、評価した。
-Black matrix quality-
Further, the quality (color) of the black matrix before and after the baking was visually confirmed and evaluated.

−耐熱性評価−
前記ベーク前後における光学濃度の変化によって、下記基準により耐熱性を評価した。
・○ OD変化0.5未満
・× OD変化0.5以上1.0未満
・×× OD変化1.0以上
-Heat resistance evaluation-
The heat resistance was evaluated according to the following criteria based on the change in optical density before and after baking.
・ ○ OD change less than 0.5 ・ × OD change 0.5 or more and less than 1.0 ・ XX OD change 1.0 or more

(液晶表示装置の作成)
前記で得られたブラックマトリックスを形成した基板を用いて、特開平11−242243号公報の第一実施例[0079]〜[0082]に記載の方法を用いて、液晶表示装置を作製したところ、誤作動なく表示することを確認した。
(Creation of liquid crystal display device)
A liquid crystal display device was produced by using the substrate formed with the black matrix obtained above and using the method described in the first embodiment [0079] to [0082] of JP-A-11-242243. It was confirmed that it displayed without malfunction.

[実施例2及び3]
実施例1の棒状銀微粒子分散液の調製の際、それぞれ、表1に記載の棒状銀微粒子を使用した以外は実施例1と同様にブラックマトリックスを作製し、同様の評価を行った。結果を下記表1に示す。
[Examples 2 and 3]
When preparing the rod-like silver fine particle dispersion liquid of Example 1, a black matrix was prepared in the same manner as in Example 1 except that the rod-like silver fine particles shown in Table 1 were used, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 1 below.

[実施例4]
《感光性転写材料の作製》
2軸延伸した75μm厚みのポリエチレンテレフタレートフィルム支持体表面に、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター(エフ・エー・エス・ジャパン社製、商品名:MH−1600)を用いて、下記のように調製した熱可塑性樹脂層用塗布液を厚みが15μmになるように塗布して100℃で5分間乾燥し、熱可塑性樹脂層を形成した。次いで、この上に実施例1における保護層用塗布液と同組成の中間層用塗布液を乾燥膜厚が1.5μmになるように塗布して、100℃で5分間乾燥し、中間層を形成した。更にこの上に、実施例1の棒状銀微粒子分散液において用いた棒状銀微粒子を、表1に記載の棒状銀微粒子に替えて調製した感光性遮光層用塗布液を、乾燥膜厚1.0μmになるよう塗布して100℃で5分間乾燥し、感光性遮光層を形成し、感光性転写材料を作製した。
[Example 4]
<< Production of photosensitive transfer material >>
Using a glass substrate coater (manufactured by FS Japan Co., Ltd., trade name: MH-1600) having a slit-like nozzle on the biaxially stretched 75 μm-thick polyethylene terephthalate film support surface, The thermoplastic resin layer coating solution prepared in (1) was applied to a thickness of 15 μm and dried at 100 ° C. for 5 minutes to form a thermoplastic resin layer. Next, an intermediate layer coating solution having the same composition as that of the protective layer coating solution in Example 1 was applied thereon so that the dry film thickness was 1.5 μm, and dried at 100 ° C. for 5 minutes. Formed. Further thereon, a coating solution for photosensitive light-shielding layer prepared by replacing the rod-like silver fine particles used in the rod-like silver fine particle dispersion of Example 1 with the rod-like silver fine particles shown in Table 1, was obtained with a dry film thickness of 1.0 μm. And dried at 100 ° C. for 5 minutes to form a photosensitive light-shielding layer, and a photosensitive transfer material was produced.

<熱可塑性樹脂層用塗布液の調製>
下記組成を混合して熱可塑性樹脂層用塗布液を調製した。
・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸(55/11.7/4.5/28.8)の共重合体
(分子量80000) 58部
・スチレン/アクリル酸=63/37の共重合体(分子量7000)
136部
・2,2−ビス[4−(メタクリロキシポリエトキシ)フェニル]プロパン
(新中村化学工業(株)製、多官能アクリレート) 90部
・フッ素系界面活性剤 1部
(商品名:F780F、大日本インキ化学工業(株)製)
・メチルエチルケトン 541部
・1−メトキシ−2−プロパノール 63部
・メチルアルコール 111部
<Preparation of coating solution for thermoplastic resin layer>
The following composition was mixed to prepare a coating solution for a thermoplastic resin layer.
Copolymer of methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid (55 / 11.7 / 4.5 / 28.8) (molecular weight 80000) 58 parts Copolymer of styrene / acrylic acid = 63/37 Polymer (molecular weight 7000)
136 parts · 2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., polyfunctional acrylate) 90 parts · Fluorosurfactant 1 part (trade name: F780F, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Methyl ethyl ketone 541 parts ・ 1-methoxy-2-propanol 63 parts ・ Methyl alcohol 111 parts

《感光材料の作製》
ガラス基板と前記より得られた感光性転写材料とを、感光性遮光層がガラス基板に接触するように重ね合わせ、ラミネーター((株)日立インダストリイズ社製(LamicII型))を用いて両者を貼り合わせた。ラミネーション条件は、ゴムローラー温度130℃、線圧100N/cm、搬送速度2.2m/分であった。その後、感光性転写材料から支持体(ポリエチレンテレフタレートフィルム)を剥離し、感光材料を作製した。
<< Production of photosensitive material >>
The glass substrate and the photosensitive transfer material obtained above are overlapped so that the photosensitive light-shielding layer is in contact with the glass substrate, and both are used using a laminator (manufactured by Hitachi Industries, Ltd. (Lamic II type)). Were pasted together. The lamination conditions were a rubber roller temperature of 130 ° C., a linear pressure of 100 N / cm, and a conveyance speed of 2.2 m / min. Thereafter, the support (polyethylene terephthalate film) was peeled from the photosensitive transfer material to produce a photosensitive material.

《ブラックマトリックスの作製》
実施例1と同様の露光機、同様の露光条件にて露光を行った。次いで以下の3工程の現像処理を行い、ブラックマトリックスを得た。
〔現像処理〕
第1工程:現像処理液(商品名:T−PD1、富士写真フイルム(株)製、アルカリ現像液)を用い、温度30℃・40秒の条件で現像処理を行った。
第2工程:現像処理液(商品名:T−CD1、富士写真フイルム(株)製、アルカリ現像液)を用い、温度33℃・20秒の条件で現像処理を行った。
第3工程:現像処理液(商品名:T−SD1、富士写真フイルム(株)製、アルカリ現像液)を用い、温度33℃・20秒の条件で現像処理を行った。
<Production of black matrix>
The exposure was performed using the same exposure machine and the same exposure conditions as in Example 1. Next, development processing in the following three steps was performed to obtain a black matrix.
[Development processing]
First step: Development processing was performed using a development processing solution (trade name: T-PD1, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., alkaline developer) at a temperature of 30 ° C. for 40 seconds.
Second step: Development processing was performed using a developing solution (trade name: T-CD1, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., alkaline developer) at a temperature of 33 ° C. for 20 seconds.
Third step: Development processing was performed using a developing solution (trade name: T-SD1, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., alkaline developer) at a temperature of 33 ° C. for 20 seconds.

《評価》
実施例1と同様の評価を行った。結果を下記表1に示す。
<Evaluation>
Evaluation similar to Example 1 was performed. The results are shown in Table 1 below.

[実施例5、6]
実施例4の棒状銀微粒子分散液において、それぞれ、表1に記載の棒状銀微粒子を使用した以外は実施例4と同様にブラックマトリックスを作製し、同様の評価を行った。結果を下記表1に示す。
[Examples 5 and 6]
A black matrix was prepared in the same manner as in Example 4 except that the rod-shaped silver fine particles shown in Table 1 were used in the rod-shaped silver fine particle dispersion of Example 4, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 1 below.

[実施例7]
実施例1と同様に棒状銀微粒子を作製し、その銀微粒子200部のアセトン分散物(長軸長さL:150nm、幅b:40nm、厚みt:30nm、濃度2.5質量%)にポリマーP−1(ビニルピロリドン/酢酸ビニル=60/40(質量比)共重合体、分子量5000)を0.95部添加して、30分間攪拌した。
次いで攪拌しながら、濃度7.2質量%の硫化ナトリウム水溶液を金属の硫化率が10%になるように添加した。
[Example 7]
In the same manner as in Example 1, rod-shaped silver fine particles were prepared, and 200 parts of the silver fine particles were dispersed in an acetone dispersion (major axis length L: 150 nm, width b: 40 nm, thickness t: 30 nm, concentration 2.5% by mass). 0.95 part of P-1 (vinyl pyrrolidone / vinyl acetate = 60/40 (mass ratio) copolymer, molecular weight 5000) was added and stirred for 30 minutes.
Next, with stirring, an aqueous sodium sulfide solution having a concentration of 7.2% by mass was added so that the sulfidation rate of the metal was 10%.

尚、ここで言う「硫化率」とは金属微粒子のうち硫化されている割合で、硫化率0%は全く硫化されていない状態、100%は粒子全体が完全に硫化物になっている状態を表す。硫化ナトリウム水溶液添加時の液温は23℃であった。
硫化ナトリウム水溶液添加後、そのまま30分間攪拌を続けた。
以上の工程で硫化銀のシェルを持つ銀/硫化銀コアシェル微粒子を作製した。
The “sulfidation rate” referred to here is the proportion of metal fine particles that are sulfided, 0% sulfide is not sulfided at all, and 100% is a state in which the entire particle is completely sulfided. To express. The liquid temperature when the aqueous sodium sulfide solution was added was 23 ° C.
After addition of the aqueous sodium sulfide solution, stirring was continued for 30 minutes.
Silver / silver sulfide core-shell fine particles having a silver sulfide shell were produced by the above process.

粒子中のシェルの質量比は、0.11であった。この質量比は、粒子中の銀と硫黄のモル数から計算により求めた。両者のモル数は、ポリエチレンテレフタレート支持体の上に、粒子分散液をスピンコート塗布した試料を蛍光X線分析装置Type3370E(理学(株)製)を用いた蛍光X線分析で求めた。硫黄と銀のモル数をそれぞれms、mAとすると、シェルのAg2Sのモル数はms、コアのAgのモル数はmA−2msになる。
従って、シェルとコアの質量比は、
(ms/247.8):(mA−2ms/107.9)
になる。
The mass ratio of shells in the particles was 0.11. This mass ratio was calculated from the number of moles of silver and sulfur in the particles. The number of moles of both was determined by fluorescent X-ray analysis using a fluorescent X-ray analyzer Type 3370E (manufactured by Rigaku Corporation) on a sample obtained by spin-coating a particle dispersion on a polyethylene terephthalate support. Sulfur and silver moles each m s, When m A, the number of moles of Ag 2 S shells m s, the number of moles of the core of Ag becomes m A -2m s.
Therefore, the mass ratio of shell to core is
(M s /247.8):(m A -2 m s /107.9)
become.

前記で作製した銀/硫化銀コアシェル微粒子を用いて、実施例1と同様の方法により表1に記載の形状をもつ金属微粒子を調製し、該金属微粒子を用いて実施例4と同様にブラックマトリックスを作製し、同様の評価を行った。結果を下記表1に示す。   Using the silver / silver sulfide core-shell fine particles prepared above, metal fine particles having the shape shown in Table 1 were prepared by the same method as in Example 1, and using the metal fine particles, a black matrix was obtained as in Example 4. The same evaluation was performed. The results are shown in Table 1 below.

[実施例8]
実施例1において、感光性遮光層用塗布液の調製の際に、棒状銀微粒子分散液に代えて、棒状金微粒子及びカーボンブラック(商品名:CFP−FF−949K、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用い、棒状金微粒子分散物の添加量に対しカーボンブラックの添加量を、棒状金微粒子:カーボンブラック=95:5(質量比)とした以外は、実施例1と同様にブラックマトリックスを作製し、同様の評価を行った。結果を下記表1に示す。
[Example 8]
In Example 1, when preparing the coating solution for the photosensitive light-shielding layer, instead of the rod-shaped silver fine particle dispersion, rod-shaped gold fine particles and carbon black (trade name: CFP-FF-949K, Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.) ) And a black matrix as in Example 1 except that the addition amount of carbon black was changed to the addition amount of rod-shaped gold fine particles: carbon black = 95: 5 (mass ratio) with respect to the addition amount of the rod-shaped gold fine particle dispersion. The same evaluation was performed. The results are shown in Table 1 below.

[実施例9]
<AgSn合金微粒子分散液の調製>
純水1000mlに、過塩素酸銀(I)61.2g、酢酸スズ(II)35.8g、ピロリン酸ナトリウム45g、ポリエチレングリコール(分子量3,000)5g、及びAGRIMER AL−10LC(アイエスピー・ジャパン(株)製;ビニルピロリドン/酢酸ビニルコポリマー)5gを溶解し、溶液1を得た。
別途、純水500mlにヒドロキシアセトン36.1gを溶解して、溶液2を得た。
[Example 9]
<Preparation of AgSn alloy fine particle dispersion>
In 1000 ml of pure water, 61.2 g of silver perchlorate (I), 35.8 g of tin acetate (II), 45 g of sodium pyrophosphate, 5 g of polyethylene glycol (molecular weight 3,000), and AGRIMER AL-10LC (IS Japan) A solution 1 was obtained by dissolving 5 g of a vinyl pyrrolidone / vinyl acetate copolymer (manufactured by Co., Ltd.).
Separately, 36.1 g of hydroxyacetone was dissolved in 500 ml of pure water to obtain a solution 2.

前記より得た溶液1を25℃に保ちつつ激しく攪拌しながら、これに前記の溶液2を7分間かけて添加し、緩やかに6時間攪拌を継続した。すると、混合液が黒色に変化し、銀錫(AgSn)合金微粒子を得た。次いで、この液を遠心分離してAgSn合金微粒子を沈殿させた。遠心分離は、150mlの液量に小分けして、卓上遠心分離機H−103n((株)コクサン製)により回転数2,000r.p.m.で30分間行なった。そして、上澄みを捨て全液量を150mlにした。これに、アセトン150mlを加え、5分間攪拌した後、さらに300mlのアセトンを加えて5分間攪拌した。また更に、アセトン900mlを加え、30分間攪拌した。得られた液を限外濾過モジュール(ザルトリウス(株)製)とザルトコンミニ(分画分子量10,000)とを用いて、液量が100mlになるまで濃縮した。濾過速度は、3.0l/h(濾過面積0.1m2)とした。 While the solution 1 obtained above was vigorously stirred while maintaining at 25 ° C., the solution 2 was added thereto over 7 minutes, and the stirring was continued gently for 6 hours. Then, the liquid mixture turned black, and silver tin (AgSn) alloy fine particles were obtained. Subsequently, this liquid was centrifuged to precipitate AgSn alloy fine particles. Centrifugation is subdivided into a volume of 150 ml, and a rotational speed of 2,000 r.m. using a desktop centrifuge H-103n (manufactured by Kokusan Co., Ltd.). p. m. For 30 minutes. The supernatant was discarded and the total liquid volume was made 150 ml. To this, 150 ml of acetone was added and stirred for 5 minutes, and then 300 ml of acetone was further added and stirred for 5 minutes. Furthermore, 900 ml of acetone was added and stirred for 30 minutes. The obtained liquid was concentrated using an ultrafiltration module (manufactured by Sartorius Co., Ltd.) and Zaltoconmini (fractionated molecular weight 10,000) until the liquid volume became 100 ml. The filtration rate was 3.0 l / h (filtration area 0.1 m 2 ).

実施例4において用いた棒状銀微粒子分散液の代わりに、前記で作製したAgSn合金微粒子分散液を用いて、実施例4と同様にブラックマトリックスを作製し、同様の評価を行った。結果を下記表1に示す。   A black matrix was produced in the same manner as in Example 4 using the AgSn alloy fine particle dispersion prepared above instead of the rod-shaped silver fine particle dispersion used in Example 4, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 1 below.

[実施例10]
実施例9において用いたAgSn合金粒子分散液を、表1に記載の形状のものに変更した以外は、実施例9と同様にブラックマトリックスを作製し、同様の評価を行った。結果を下記表1に示す。
[Example 10]
A black matrix was prepared in the same manner as in Example 9 except that the AgSn alloy particle dispersion used in Example 9 was changed to the shape shown in Table 1, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 1 below.

[実施例11]
実施例1において用いた棒状銀粒子分散液を、表1に記載の形状のものに変更した以外は、実施例1と同様にブラックマトリックスを作製し、同様の評価を行った。結果を下記表1に示す。
[Example 11]
A black matrix was produced in the same manner as in Example 1 except that the rod-shaped silver particle dispersion used in Example 1 was changed to the shape shown in Table 1, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 1 below.

[比較例1、2]
実施例1において用いた棒状銀微粒子分散液を、表1に記載の形状のものに変更した以外は実施例1と同様にブラックマトリックスを作製し、同様の評価を行った。結果を下記表1に示す。
[Comparative Examples 1 and 2]
A black matrix was prepared in the same manner as in Example 1 except that the rod-shaped silver fine particle dispersion used in Example 1 was changed to the shape shown in Table 1, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 1 below.

Figure 0004667969
Figure 0004667969

表1から、実施例のブラックマトリックスは、いずれもベークによるOD低下は小さく、またベーク後においてもいずれもODが3.5以上と高く、また色味も黒色を維持しており、ブラックマトリクスとしての品位が高かった。
これに対し、比較例1のブラックマトリクスはベーク後ODが3.1であったが、ベークによって色味が茶色から黄茶へと変化(色味が薄くなった)し、ブラックマトリックスとしての品位は好ましくなかった。更に、比較例2のブラックマトリクスは、ベークによってODが大きく低下し、ベーク後ODが2.5であり、また比較例1と同様にベークによって色味が茶色から黄茶へと変化(色味が薄くなった)し、ブラックマトリックスとして満足のいく性能を発揮できなかった。
From Table 1, all of the black matrices of the examples have a small OD decrease due to baking, and after baking, all have a high OD of 3.5 or more, and the color remains black. The quality of was high.
On the other hand, the black matrix of Comparative Example 1 had an OD after baking of 3.1, but the color changed from brown to yellow brown by baking (the color became lighter), and the quality as a black matrix Was not preferred. Furthermore, the OD of the black matrix of Comparative Example 2 was greatly reduced by baking and the OD after baking was 2.5, and the color changed from brown to yellow brown by baking as in Comparative Example 1 (color). However, it was not possible to demonstrate satisfactory performance as a black matrix.

Claims (14)

黒色の棒状金属微粒子と、樹脂又はその前駆体の少なくとも1種と、モノマー及び開始剤と、を含むことを特徴とする黒色組成物。前記金属微粒子は、金属、金属化合物、金属化合物と金属との複合微粒子のいずれかから形成され、銀元素又は金元素を含む。 A black composition comprising black rod-shaped fine metal particles, at least one of a resin or a precursor thereof, a monomer and an initiator. The metal particles include metals, metal compounds, are formed from one of the composite fine particles of the metal compound and a metal, the elemental silver or Kanemoto element. 前記金属微粒子が、銀微粒子、金微粒子、銀微粒子のコアに硫化銀のシェルを持つ微粒子又は銀錫合金微粒子であることを特徴とする請求項1に記載の黒色組成物。   2. The black composition according to claim 1, wherein the metal fine particles are silver fine particles, gold fine particles, fine particles having a silver sulfide shell in the core of silver fine particles, or silver tin alloy fine particles. 前記棒状金属微粒子の長軸長さ(L)と、幅(b)及び厚み(t)が以下の条件(1)〜(3)を満足することを特徴とする請求項1又は2に記載の黒色組成物。
(1)長軸長さ(L)が10nm以上1000nm以下である。
(2)長軸長さ(L)>幅(b)≧厚さ(t)
(3)幅(b)と厚み(t)との比(b/t)が2.0以下である。
The major axis length (L), the width (b), and the thickness (t) of the rod-shaped metal fine particles satisfy the following conditions (1) to (3). Black composition.
(1) The major axis length (L) is 10 nm or more and 1000 nm or less.
(2) Long axis length (L)> Width (b) ≧ Thickness (t)
(3) The ratio (b / t) of the width (b) to the thickness (t) is 2.0 or less.
前記棒状金属微粒子の粒度分布が、粒子の分布を正規分布近似して得られた数平均粒子径の粒度分布幅(D90/D10)で1.2以上20未満であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の黒色組成物。   The particle size distribution of the rod-shaped metal fine particles is 1.2 or more and less than 20 in the particle size distribution width (D90 / D10) of the number average particle diameter obtained by approximating the particle distribution to a normal distribution. The black composition of any one of 1-3. 更に顔料を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の黒色組成物。   Furthermore, a pigment is included, The black composition as described in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 前記顔料が、カーボンブラック、チタンブラック、黒鉛から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項5に記載の黒色組成物。   The black composition according to claim 5, wherein the pigment is at least one selected from carbon black, titanium black, and graphite. 遮光画像の作製に用いられることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の黒色組成物。   The black composition according to claim 1, wherein the black composition is used for production of a light-shielded image. 支持体上に少なくとも感光性遮光層を設けた感光性転写材料であって、前記感光性遮光層が請求項7に記載の黒色組成物によって形成されていることを特徴とする感光性転写材料。   A photosensitive transfer material comprising at least a photosensitive light-shielding layer on a support, wherein the photosensitive light-shielding layer is formed of the black composition according to claim 7. 請求項7に記載の黒色組成物を用いて作製される遮光画像を有することを特徴とする遮光画像付き基板。   A substrate with a light-shielding image, comprising a light-shielding image produced using the black composition according to claim 7. 請求項8に記載の感光性転写材料を用いて作製される遮光画像を有することを特徴とする遮光画像付き基板。   A substrate with a light-shielding image, comprising a light-shielding image produced using the photosensitive transfer material according to claim 8. 光透過性基板の上に、着色層からなり、互いに異なる色を呈する2以上の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素は互いに遮光画像により離画されているカラーフィルタにおいて、前記遮光画像が請求項7に記載の黒色組成物、或いは請求項8に記載の感光性転写材料を用いて作製されていることを特徴とするカラーフィルタ。   In the color filter which has two or more pixel groups which consist of a colored layer on a light-transmitting substrate and which exhibit mutually different colors, and each pixel which constitutes the pixel group is separated from each other by a light-shielding image, A color filter, wherein a light-shielded image is produced using the black composition according to claim 7 or the photosensitive transfer material according to claim 8. 少なくとも一方が光透過性の1対の基板の間に、カラーフィルタ、液晶層及び液晶駆動手段を少なくとも備えた液晶表示素子において、前記カラーフィルタが、請求項11に記載のカラーフィルタであることを特徴とする液晶表示素子。   12. A liquid crystal display device comprising at least a color filter, a liquid crystal layer, and a liquid crystal driving means between a pair of substrates that are at least one of light transmissive, wherein the color filter is the color filter according to claim 11. A characteristic liquid crystal display element. 光透過性基板の上に、請求項7に記載の黒色組成物を用いて遮光層を形成する工程と、前記遮光層を露光し現像する工程と、を有することを特徴とする遮光画像の製造方法。   A process for producing a light-shielding image, comprising: forming a light-shielding layer on the light-transmitting substrate using the black composition according to claim 7; and exposing and developing the light-shielding layer. Method. 支持体上に少なくとも感光性遮光層を設けた請求項8に記載の感光性転写材料を用い、光透過性基板の上に、前記感光性遮光層が接するように前記感光性転写材料を積層する工程と、前記感光性転写材料と光透過性基板との積層体から前記支持体を剥離する工程と、前記感光性遮光層を露光し現像する工程と、を有することを特徴とする遮光画像の製造方法。   The photosensitive transfer material according to claim 8, wherein at least a photosensitive light-shielding layer is provided on a support, and the photosensitive transfer material is laminated on a light-transmitting substrate so that the photosensitive light-shielding layer is in contact therewith. A light-shielded image comprising: a step; a step of peeling the support from a laminate of the photosensitive transfer material and the light-transmitting substrate; and a step of exposing and developing the photosensitive light-shielding layer. Production method.
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