KR20080024206A - 아릴-헤테로시클릭 화합물을 함유하는 나노입자형 조절방출 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 정신분열증 및 유사 정신 장애의 치료 및 예방에 유용한 지프라시돈을 함유하는 조성물을 제공한다. 일 양태에 따르면, 조성물은 지프라시돈을 함유하는 나노입자형 입자 및 1종 이상의 표면 안정제를 포함한다. 상기 나노입자형 입자는 유효 평균 입자 크기가 약 2000nm 미만이다. 다른 양태에 따르면, 조성물은 환자에게 투여 시 지프라시돈을 이정점식, 다정점식 또는 연속식으로 전달하는 변성 방출 조성물을 포함한다. 또한, 본 발명은 이러한 조성물을 함유하는 투약 형태, 및 정신분열증 및 유사 정신 장애의 치료 및 예방 방법에도 관한 것이다.
정신분열증, 정신 장애, 지프라시돈, 나노입자형 입자, 표면 안정제

Description

아릴-헤테로시클릭 화합물을 함유하는 나노입자형 조절 방출 조성물{NANOPARTICULATE AND CONTROLLED RELEASE COMPOSITIONS COMPRISING ARYL-HETEROCYCLIC COMPOUNDS}
본 발명은 정신분열증 및 유사 정신질환의 예방 및 치료에 유용한 조성물에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명은 아릴-헤테로시클릭 약학적 화합물, 예컨대 지프라시돈(ziprasidone)을 함유하는 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 일 양태에서, 조성물은 나노입자 형태이고, 추가로 1종 이상의 표면 안정제도 포함한다. 다른 양태에서, 본 발명은 아릴-헤테로시클릭 약학적 화합물, 예컨대 지프라시돈의 조절 전달을 위한 신규 투약 형태 및 정신분열증과 유사 정신 질환을 예방 및 치료하는 방법에 관한 것이다.
화학적으로 5-[2-[4-(1,2-벤즈이소티아졸-3-일)-1-피페라지닐]에틸]-6-클로로-1,3-디하이드로-2H-인돌-2-온으로 알려진 지프라시돈은 지질 및 다른 혈액 지방의 증가 없이 정신분열증, 환각, 망상, 적의 및 다른 양극성 장애와 같은 정신의학 상태를 치료하는 정신병치료제로서 사용되는 벤조티아졸릴피페라진 유도체이다. 지프라시돈의 실험식은 C21H21ClN4OS이며 분자량은 412.94(유리 염기)이다.
지프라시돈의 화학 구조는 다음과 같다:
Figure 112008003946633-PCT00001
지프라시돈은 미국 화이자 인크. 사에서 등록상표명 Geodon® 으로 제공하는 투약 형태의 일부로서 투여될 수 있다. 지프라시돈은 지프라시돈의 염산염 형태, 5-(2-(4-(1,2-벤즈이소티아졸-3-일)피페라지닐)에틸)-6-클로로-1,3-디하이드로-2H-인돌-2-온 일염산염 일수화물 형태로 Geodon® 캡슐에 존재한다. 이 염은 융점이 300℃이고, 실험식 C21H21ClN4OS·HCl·H2O와 분자량 467.42를 갖는 백색 내지 연분홍색 분말이다. Geodon® 캡슐은 20mg, 40mg, 60mg 및 80mg 캡슐의 경구 투약 형태로 공급된다. Geodon® 캡슐에 함유된 불활성 성분에는 락토스, 호화 전분(pre-gelatinized starch) 및 마그네슘 스테아레이트가 있다. 환자에게 투여되는 일반적인 투약 형태로는 식후 1일 2회 20mg씩 투여되는 성인의 정신분열증을 치료하기 위한 경구 투약 형태(캡슐)가 있다. 그 이상의 투약량으로는 1일 2회 80mg씩 투여되는 투약량이 있을 수 있다.
지프라시돈은 주사용으로서 상표명 Geodon® 으로 시판되는 지프라시돈 메실 레이트 형태의 근육내 주사제로도 이용할 수 있다. 주사용 Geodon®은 동결건조된 형태의 지프라시돈 메실레이트 삼수화물 (5-(2-(4-(1,2-벤즈이소티아졸-3-일)피페라지닐)에틸)-6-클로로-1,3-디하이드로-2H-인돌-2-온, 메탄설포네이트, 삼수화물(실험식: C21H21ClN4OS·CH3SO3H·3H2O; 분자량: 563.09)을 함유한다. 주사용 Geodon®은 단일 용량 바이엘을 통해 20mg 지프라시돈/ml를 함유하는 지프라시돈 메실레이트로서 이용가능하다. 지프라시돈은 정신분열증 치료용으로 미국식약청(FDA)의 승인을 받았고, 지프라시돈의 근육내 주사 형태는 정신분열증 환자의 예민한 흥분에 효과를 인정받고 있다.
지프라시돈의 제거 반감기는 약 7시간이다. 안정 상태의 혈장 농도는 1일 내지 3일 이내에 도달한다. 지프라시돈의 생체이용율은 식후 투여될 때 약 60%이다. 고용량의 Geodon®(360mg/일)까지 조정 투약된 20명의 환자 중에서 1명의 환자만이 인식력의 유의적인 향상을 보여주는 것으로 보고되었다.
지프라시돈 화합물은 미국 특허 4,831,031; 6,110,918; 6,245,765; 6,150,366; 6,232,304; 6,399,777 및 6,245,766에 기술되어 있다. 미국 특허 공개번호 2004/0138237 및 2004/0146562는 활성 지프라시돈 화합물이 사이클로덱스트린과 함께 용해되어 현탁액을 형성한 지프라시돈의 주사성 데포 포뮬레이션(depot formulation)을 개시한다.
지프라시돈은 정신분열증 및 유사 정신 장애를 앓고 있는 환자의 치료요법적 치료에 매우 효과적이다. 하지만, 지프라시돈을 1일 2회 투여해야만 하고 또한 식후 지프라시돈을 투여해야 한다면, 엄격한 환자 순응도가 정신분열증 및 유사 정신 장애의 치료에 있어서 지프라시돈의 효능에 중대한 요인이 된다. 더욱이, 이와 같은 빈번한 투여는 종종 보건종사자의 주의를 필요로 하여, 지프라시돈을 수반하는 치료와 관련된 비용을 높이게 된다. 따라서, 당해 기술분야에서는 정신분열증 및 유사 정신병의 치료에 사용 시에 관련된 상기 문제점 및 기타 문제점을 극복하는 지프라시돈 조성물을 필요로 하고 있다.
또한, 지프라시돈은 물에 사실상 불용성이다. 이러한 불량한 수용해성은 불량한 생체이용율을 초래한다.
발명의 개요
본 발명은 (A) 지프라시돈 및 (B) 1종 이상의 표면 안정제를 함유하는 나노입자형 조성물에 관한 것이다. 표면 안정제는 나노입자형 입자의 표면에 흡착되어 있거나 회합되어 있을 수 있다. 나노입자형 입자는 유효 평균 입자 크기가 약 2,000nm 미만이다. 나노입자형 조성물은 경우에 따라 정신분열증 및 유사 정신 장애의 예방 및 치료에 유용한 1종 이상의 추가 활성 성분 및/또는 1종 이상의 약학적 허용성 부형제를 함유할 수 있다. 이러한 양태에 있어서, 급식 상태 또는 절식 상태의 검체에 대한 상기 나노입자형 조성물의 투여는 생물학적 등가성일 수 있고 유사한 약물동력학을 나타낼 수 있다.
또한, 본 발명은 활성 성분 함유 입자의 제1 집단을 함유하는 제1 부재와 활성 성분 함유 입자의 제2 집단을 함유하는 적어도 하나의 제2 부재를 보유하는 변성 방출 조성물로서, 각 부재가 다른 방출속도 및/또는 방출기간을 나타내고 상기 부재들 중 적어도 하나가 지프라시돈을 함유하는 변성 방출 조성물에 관한 것이다. 적어도 제2 부재의 입자는 변성 방출(MR) 형태로 제공되는데, 예컨대 변성 방출 코팅으로 코팅되거나 또는 변성 방출 매트릭스 물질을 포함하거나 이 물질에 포함되어 있다. 환자에게 경구 투여 시, 조성물은 이정점식(biomodal) 또는 다정점식(multimodal)으로 하나 이상의 활성 성분을 방출한다. 이러한 변성 방출 조성물은 지프라시돈의 나노입자형 형태와 적어도 하나의 표면 안정제를 함유할 수 있고, 경우에 따라 정신분열증 및 유사 정신 장애의 예방 및 치료에 유용한 1종 이상의 추가 활성 성분 및/또는 1종 이상의 약학적 허용성 부형제를 함유할 수 있다.
변성 방출 조성물의 제1 부재는 이 제1 부재에 함유된 활성 성분의 거의 전부가 투약 형태를 투여하자마자 빠르게 방출되거나, 빠르지만 시간 지연 후 방출되거나(지연 방출), 또는 경시적으로 천천히 방출되는 프로필을 비롯한 다양한 방출 프로필을 나타낼 수 있다. 일 양태에서, 투약 형태의 제1 부재에 함유된 활성 성분은 환자에게 투여 시 빠르게 방출된다. 본 명세서에 사용된 바와 같이, "빠르게 방출되는"은 투약 형태의 부재 중에 있는 활성 성분의 약 80% 이상이 투여 후 약 1시간 이내에 방출되는 방출 프로필을 포함하고, "지연 방출"은 투약 형태의 부재 중에 있는 활성 성분이 시간 지연 후 방출(빠르게 또는 천천히)되는 방출 프로필을 포함하며, "조절 방출" 및 "연속 방출"은 투약 형태의 한 부재에 함유된 활성 성분의 약 80% 이상이 천천히 방출되는 방출 프로필을 포함한다.
또한, 변성 방출 조성물의 제2 부재도 즉시 방출 프로필, 지연 방출 프로필 또는 조절 방출 프로필을 비롯한 다양한 방출 프로필을 나타낼 수 있다. 일 양태에서, 제2 부재는 이 부재의 활성 성분이 시간 지연 후 방출되는 지연 방출 프로필을 나타낸다. 다른 양태에서, 제2 부재는 이 부재의 활성 성분이 투여 후 약 12시간 내지 약 24시간 동안에 방출되는 조절 방출 프로필을 나타낸다.
각 부재가 다른 방출 프로필을 나타내는 2 부재 양태에서, 조성물로부터 방출되는 활성 성분의 방출 프로필은 이정점식이다. 제1 부재가 즉시 방출 프로필을 나타내고 제2 부재가 지연 방출 프로필을 나타내는 양태에서, 제1 부재 유래의 활성 성분의 방출과 제2 부재 유래의 활성 성분의 방출 사이에는 지체 시간(lag time)이 있다. 지체 시간의 기간은 변성 방출 코팅의 함량 및/또는 조성을 변경시키거나 원하는 방출 프로필을 달성하기 위해 이용한 변성 방출 매트릭스 물질의 함량 및/또는 조성을 변경시킴으로써 변동시킬 수 있다. 즉, 지체 시간의 기간은 원하는 혈장 프로필을 모방하도록 설계할 수 있다.
제1 부재가 즉시 방출 프로필을 나타내고 제2 부재가 조절 방출 프로필을 나타내는 양태에서, 제1 부재와 제2 부재 중의 활성 성분은 다른 시간 기간 동안에 걸쳐 방출된다. 이러한 양태에서, 즉시 방출 부재는 투여에서부터 치료적 유효 혈장 농도 수준까지의 시간을 최소화하여 작용 개시를 촉진하는 작용을 하고, 하나 이상의 후속 부재는 혈장 농도 수준의 변동을 최소화하고(하거나) 투약 간격을 통해 치료적 유효 혈장 농도를 유지하게 하는 작용을 한다. 이러한 일 양태에서, 제1 부재의 활성 성분은 빠르게 방출되고 제2 부재의 활성 성분은 투여 후 약 12시간 기간 이내에 방출된다. 이러한 다른 양태에 따르면, 제1 부재 중의 활성 성분은 빠르게 방출되고 제2 부재 중의 활성 성분은 투여 후 약 24시간 기간 이내에 방출된다. 이러한 또 다른 양태에 따르면, 제1 부재 중의 활성 성분은 빠르게 방출되고 제2 부재 중의 활성 성분은 투여 후 약 12시간의 기간 동안에 걸쳐 방출된다. 이러한 또 다른 양태에 따르면, 제1 부재 중의 활성 성분은 빠르게 방출되고 제2 부재 중의 활성 성분은 투여 후 약 24시간의 기간 동안에 걸쳐 방출된다. 이러한 또 다른 양태에 따르면, 제1 부재 중의 활성 성분은 빠르게 방출되고 제2 부재 중의 활성 성분은 투여 후 적어도 약 12시간의 기간 동안에 걸쳐 방출된다. 이러한 또 다른 양태에 따르면, 제1 부재 중의 활성 성분은 빠르게 방출되고 제2 부재 중의 활성 성분은 투여 후 약 24시간 이상의 기간 동안에 걸쳐 방출된다.
즉시 방출 부재와 적어도 하나의 변성 방출 부재를 함유하는 본 발명의 투약 형태의 투여에 의해 제공되는 혈장 프로필은 순차 제공되는 2 이상의 IR 투약 형태를 투여할 때 나타나는 혈장 프로필 또는 별도의 IR 및 MR 투약 형태를 투여할 때 나타나는 혈장 프로필과 실질적으로 유사할 수 있다. 본 발명의 변성 방출 조성물은 일반적으로 하루에 2회 투여되는 지프라시돈을 투여하는데 특히 유용하다. 본 발명의 일 양태에서, 조성물은 지프라시돈을 이정점식으로 전달한다. 이러한 조성물은 투여 시, 통상의 치료 섭생에 따른 2회의 IR 용량의 지프라시돈을 순차 투여함으로써 수득되는 혈장 프로필과 실질적으로 유사한 혈장 프로필을 나타낸다.
본 발명의 다른 관점에 따르면, 조성물은 순차 제공되는 2회 이상의 IR 투약 형태의 투여와 관련된 혈장 농도 수준의 변동을 최소화하거나 없애는 혈장 프로필을 나타내도록 설계할 수 있다. 이러한 양태에서, 조성물은 투여에서부터 치료적 유효 혈장 농도 수준까지의 시간을 최소화하여 작용 개시를 촉진하는 즉시 방출 부재와 투약 간격을 통해 치료적 유효 혈장 농도 수준을 유지하기 위한 적어도 하나의 변성 방출 부재를 구비할 수 있다. 지프라시돈은 추가로 적어도 하나의 표면 안정제를 함유하는 나노입자형 입자에 함유되어 있을 수 있다.
본 명세서에 개시된 것과 유사한 변성 방출 조성물은 미국 특허 6,228,398 및 6,730,325(Devane et al.)에 개시되고 권리주장되고 있다.
또한, 본 발명은 본 발명의 조성물로 제조된 투약 형태에 관한 것이다. 일 양태에서, 이러한 투약 형태는 본 발명의 변성 방출 조성물을 함유하는 고체 경구 투약 형태이다. 이러한 경구 투약 형태는 예를 들어 침식성(erodable) 포뮬레이션, 확산 조절 포뮬레이션 또는 삼투 조절 포뮬레이션을 활용할 수 있다. 이러한 양태에서, 투약 형태에 함유된 총 용량은 박동식 또는 연속식으로 방출될 수 있다. 이러한 일 양태에서, 총 용량의 일부는 효과의 빠른 개시를 허용하기 위해 즉시 방출되고, 총 용량 중 나머지는 지체 시간(lag time) 후 또는 약 24시간 이하의 시간 기간 동안에 걸쳐 방출된다.
다른 양태에 따르면, 투약 형태는 지프라시돈을 함유하는 나노입자형 조성물을 포함한 주사성 데포 포뮬레이션(injectable depot formulation)이다. 데포 포뮬레이션은 서서히 용해하여 환자의 혈행 내로 약물을 방출한다. 이 포뮬레이션의 일회 주사는 최고 3개월 동안 지프라시돈의 치료적 유효 혈장 농도를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명은 지프라시돈을 함유하는 나노입자형 조성물의 제조방법에 관한 것이다. 이 방법은 지프라시돈을 함유하는 안정화된 나노입자형 조성물을 제공하기에 충분한 조건 하에 충분한 시간 기간 동안, 지프라시돈을 함유하는 나노입자형 입자와 적어도 하나의 표면 안정제를 접촉시키는 단계를 포함한다.
또한, 본 발명은 정신분열증 및 이와 유사한 정신 장애의 예방 및 치료를 비롯한, 이에 국한되지 않는 치료 방법에 관한 것이다. 이 방법은 지프라시돈을 함유하는 조성물, 예컨대 나노입자형 조성물의 치료적 유효량을 검체에게 투여하는 단계를 포함한다.
본 발명이 조성물 및 투약 형태는 필요한 투약 빈도를 감소시켜, 환자의 편의를 증가시키고 환자의 순응도를 향상시키며, 이로써 정신분열증 및 이와 유사한 정신 장애의 예방 및 치료를 비롯한, 이에 국한되지 않는 지프라시돈을 필요로 하는 모든 치료의 치료 결과를 향상시키는데 유용하다. 이러한 시도는 매일 복수 회 투여되는 종래 지프라시돈 투약 형태를 대체할 수 있다.
이상과 같은 전반적인 설명과 이하의 상세한 설명은 모두 예시적인 설명으로서, 권리 주장되는 본 발명을 더 상세히 설명하기 위한 것이다. 다른 목적, 장점 및 신규 특징은 이하 발명의 상세한 설명으로부터 당업자라면 쉽게 파악할 수 있을 것이다.
발명의 상세한 설명
본 발명은 이하에 제시되고 본 명세서 전반에 제시된 바와 같은 여러 정의를 사용하여 설명된다.
본 명세서에 사용된, "약"이란 표현은 당업자라면 이해할 용어로서, 이것이 사용된 정황마다 어느 정도 달라질 수 있다. 이 용어가 사용된 문맥에서 당업자에게 분명하지 않은 용어의 사용이 있다면 "약"은 특정 용어의 + 또는 - 10% 이하를 의미할 것이다.
본 명세서에 사용된 "지프라시돈"은 지프라시돈, 이의 약학적 허용성 염, 산, 에스테르, 대사산물, 복합체 또는 다른 유도체 및 이들의 각각의 입체이성질체, 예컨대 이러한 입체이성질체의 2 이상의 혼합물, 라세미체 등을 포함한다.
본 명세서에 사용된 "지프라시돈의 치료적 유효량"이란 표현은 관련 치료를 필요로 하는 검체의 유의적 수에 투여된 지프라시돈이 특이적인 약리학적 반응을 제공하는 투약량을 의미한다. 특별한 경우에 특정 검체에게 투여되는 지프라시돈의 치료적 유효량은 이 투약량이 당업자에게는 치료적 유효량인 것으로 생각될지라도, 본 명세서에 기술된 상태를 치료하는데 항상 효과적인 것은 아니라는 것을 유념해야 한다.
본 명세서에 사용된 "입자형"이란 용어는 크기, 모양 또는 형태에 관계없이 분리된 입자, 펠릿, 비드 또는 과립의 존재를 특징으로 하는 물체의 상태를 의미한다.
본 명세서에 사용된 "다입자"란 용어는 크기, 모양 또는 형태에 관계없이 복수의 분리 또는 응집된 입자, 펠릿, 비드, 과립 또는 이의 혼합물을 의미한다. 본 명세서에서는 다입자를 함유하는 조성물을 "다입자형 조성물"로 표현한다.
본 명세서에 사용된, "나노입자"란 용어는 입자의 유효 평균 입자 크기가 직경이 약 2000nm(2미크론) 미만인 다입자를 의미한다. 본 명세서에서는 나노입자를 함유하는 조성물을 "나노입자형 조성물"로 표현한다.
다입자(예, 나노입자)를 설명하는데 사용된 "유효 평균 입자 크기"란 용어는 그 입자의 50% 이상이 특정 크기인 것을 의미한다. 따라서, "직경이 약 2000nm 미만인 유효 평균 입자 크기"는 함유된 입자의 50% 이상이 직경이 약 2000nm 미만인 것을 의미한다.
"D50"은 다입자 중의 50%의 입자가 속하는 입자 크기를 의미한다. 이와 마찬가지로, "D90"은 다입자 중의 90%의 입자가 속하는 입자 크기를 의미한다.
안정한 입자와 관련하여 본 명세서에 사용된 "안정한"이란 용어는 다음과 같은 파라미터 중 하나 이상을 의미하는 것이며, 이에 국한되는 것은 아니다: (1) 입자가 입자간 인력으로 인하여 눈에 띄게 응결 또는 응집하지 않거나 또는 입자 크기가 시간이 경과함에 따라 다른 방식으로 유의적으로 증가하지 않는 것; (2) 입자의 물리적 구조가 시간이 경과함에 따라 무정형 상에서 결정 상으로의 변환 등과 같이 변경되지 않는 것; (3) 입자가 화학적으로 안정한 것; 및/또는 (4) 활성 성분이 본 발명의 나노입자의 제조 시에 그 입자의 융점 이상의 가열 단계로 처리되지 않는 것.
본 명세서에 사용된, "난수용성(poorly water soluble) 약물"은 수용해도가 약 30mg/ml 미만, 약 20mg/ml 미만, 약 10mg/ml 미만 또는 약 1mg/ml 미만인 약물을 의미한다.
본 명세서에 사용된 "변성 방출"이란 용어는 즉시 방출이 아닌 방출을 포함하며, 조절 방출, 연속 방출, 지속 방출 및 지연 방출을 포함한다.
본 명세서에 사용된 "시간 지연(time delay)"이란 용어는 본 발명의 조성물을 포함하는 투약 형태의 투여와 이의 특정 부재로부터 활성 성분의 방출 사이에 경과되는 시간의 기간을 의미한다.
본 명세서에 사용된 "지체 시간(lag time)"이란 용어는 조성물의 한 부재로부터의 활성 성분의 방출과 조성물의 다른 부재로부터의 활성 성분의 방출 사이에 경과되는 시간을 의미한다.
본 명세서에 사용된 "침식성"이란 용어는 체내에서 물질의 작용에 의해 마모, 축소 또는 저하될 수 있는 포뮬레이션을 의미한다.
본 명세서에 사용된 "확산 조절"이란 용어는 자발적 이동의 결과로서, 예컨대 고농도 부위에서 저농도 부위로의 이동 결과로서 분산될 수 있는 포뮬레이션을 의미한다.
본 명세서에 사용된 "삼투 조절"이란 용어는 반투과성 막을 통해 이 막 양면의 포뮬레이션의 농도를 동일하게 하는 경향이 있는 고농도 용액으로의 이동 결과로서 분산될 수 있는 포뮬레이션을 의미한다.
I. 지프라시돈을 함유하는 나노입자형 조성물
본 발명은 (A) 지프라시돈, 이의 염 또는 유도체; 및 (B) 1종 이상의 표면 안정제를 함유하는 입자를 포함하는 나노입자형 조성물을 제공한다. 나노입자형 조성물은 미국 특허 5,145,684에서 최초로 개시되었다. 나노입자형 활성제 조성물은 또한 예컨대 미국 특허 5,298,262; 5,302,401; 5,318,767; 5,326,552; 5,328,404; 5,336,507; 5,340,564; 5,346,702; 5,349,957; 5,352,459; 5,399,363; 5,494,683; 5,401,492; 5,429,824; 5,447,710; 5,451,393; 5,466,440; 5,470,583; 5,472,683; 5,500,204; 5,518,738; 5,521,218; 5,525,328; 5,543,133; 5,552,160; 5,565,188; 5,569,448; 5,571,536; 5,573,749; 5,573,750; 5,573,783; 5,580,579; 5,585,108; 5,587,143; 5,591,456; 5,593,657; 5,622,938; 5,628,981; 5,643,552; 5,718,388; 5,718,919; 5,747,001; 5,834,025; 6,045,829; 6,068,858; 6,153,225; 6,165,506; 6,221,400; 6,264,922; 6,267,989; 6,270,806; 6,316,029; 6,375,986; 6,428,814; 6,431,478; 6,432,381; 6,582,285; 6,592,903; 6,656,504; 6,742,734; 6,745,962; 6,811,767; 6,908,626; 6,969,529; 6,976,647; 및 6,991,191; 및 미국 특허 공개번호 20020012675; 20050276974; 20050238725; 20050233001; 20050147664; 20050063913; 20050042177; 20050031691; 20050019412; 20050004049; 20040258758; 20040258757; 20040229038; 20040208833; 20040195413; 20040156895; 20040156872; 20040141925; 20040115134; 20040105889; 20040105778; 20040101566; 20040057905; 20040033267; 20040033202; 20040018242; 20040015134; 20030232796; 20030215502; 20030185869; 20030181411; 20030137067; 20030108616; 20030095928; 20030087308; 20030023203; 20020179758; 및 20010053664에도 기술되어 있다. 무정형의 작은 입자 조성물은 예컨대 미국 특허 4,783,484; 4,826,689; 4,997,454; 5,741,522; 5,776,496에 기술되어 있다.
전술한 바와 같이, 본 발명의 나노입자형 조성물에 존재하는 입자의 유효 평균 입자 크기는 직경이 약 2000nm(즉, 2미크론) 미만이다. 본 발명의 양태에 따르면, 유효 평균 입자 크기는 광산란법, 검경법 또는 다른 적당한 방법으로 측정했을 때, 예컨대, 약 1900nm 미만의 직경, 약 1800nm 미만, 약 1700nm 미만, 약 1600nm 미만, 약 1500nm 미만, 약 1400nm 미만, 약 1300nm 미만, 약 1200nm 미만, 약 1100nm 미만, 약 1000nm 미만, 약 900nm 미만, 약 800nm 미만, 약 700nm 미만, 약 600nm 미만, 약 500nm 미만, 약 400nm 미만, 약 300nm 미만, 약 250nm 미만, 약 200nm 미만, 약 150nm 미만, 약 100nm 미만, 약 75nm 미만 또는 약 50nm 미만이다.
나노입자형 입자는 결정형 상, 무정형 상, 반결정형 상, 반무정형 상, 또는 이의 혼합물로 존재할 수 있다.
본 발명의 나노입자형 조성물은 더욱 작은 고체 투약 형태 크기를 제공할 뿐만 아니라 증가된 생체이용율을 나타내며, 지프라시돈을 함유하는 종래 통상적인 비나노입자형 조성물에 비해 더 적은 용량의 지프라시돈을 필요로 한다. 본 발명의 일 양태에 따르면, 본 발명의 나노입자형 조성물은 종래 투약 형태로 투여된 지프라시돈보다 약 50% 초과의 생체이용율을 나타낸다. 다른 양태에 따르면, 본 발명의 나노입자형 조성물은 종래 투약 형태로 투여된 지프라시돈보다 약 40% 초과, 약 30% 초과, 약 20% 초과 또는 약 10% 초과의 생체이용율을 나타낸다.
또한, 나노입자형 조성물은 포유동물 검체에게 최초 투약한 후 측정했을 때 바람직한 약동학적 프로필을 나타낼 수 있다. 조성물의 바람직한 약동학적 프로필에는 (1) 투여 후 포유동물 검체의 혈장에서 분석했을 때, 비나노입자형 조성물로서 동일한 투약량으로 투여한 동일한 지프라시돈의 Cmax보다 바람직하게는 더 큰 지프라시돈의 Cmax; 및/또는 (2) 투여 후 포유동물 검체의 혈장에서 분석했을 때, 비나노입자형 조성물로서 동일한 투약량으로 투여한 동일한 지프라시돈의 AUC보다 바람직하게는 더 큰 지프라시돈의 AUC; 및/또는 (3) 투여 후 포유동물 검체의 혈장에서 분석했을 때, 비나노입자형 조성물로서 동일한 투약량으로 투여한 동일한 지프라시돈의 Tmax보다 바람직하게는 더 적은 지프라시돈의 Tmax가 포함되지만, 이에 국한되는 것은 아니다.
본 발명의 일 양태에서, 본 발명의 나노입자형 조성물은 여기에 함유된 지프라시돈의 Tmax가 예컨대 동일한 투약량으로 비나노입자형 조성물로서 투여된 동일한 지프라시돈이 나타내는 Tmax의 약 90% 이하의 Tmax를 나타낸다. 본 발명의 다른 양태에 따르면, 본 발명의 나노입자형 조성물은 여기에 함유된 지프라시돈이, 비나노입자형 조성물로서 동일한 투약량으로 투여된 동일한 지프라시돈이 나타내는 Tmax의 약 80% 이하, 약 70% 이하, 약 60% 이하, 약 50% 이하, 약 30% 이하, 약 25% 이하, 약 20% 이하, 약 15% 이하, 약 10% 이하 또는 약 5% 이하의 Tmax를 나타낼 수 있다. 본 발명의 일 양태에서, 포유동물 검체의 혈장에서 분석했을 때 지프라시돈의 Tmax 는 투여 후 약 6시간 내지 약 8시간 미만이다. 본 발명의 다른 양태에서, 지프라시돈의 Tmax는 투여 후 약 6시간 미만, 약 5시간 미만, 약 4시간 미만, 약 3시간 미만, 약 2시간 미만, 약 1시간 미만, 또는 약 30분 미만이다.
본 발명의 일 양태에서, 본 발명의 나노입자형 조성물은 여기에 함유된 지프라시돈의 Cmax가 예컨대 비나노입자형 조성물로서 동일한 투약량으로 투여된 동일한 지프라시돈의 Cmax의 약 50% 이상인 것이다. 본 발명의 다른 양태에 따르면, 본 발명의 나노입자형 조성물은 여기에 함유된 지프라시돈의 Cmax가 예컨대 비나노입자형 조성물로서 동일한 투약량으로 투여된 동일한 지프라시돈의 Cmax의 약 100% 이상, 약 200% 이상, 약 300% 이상, 약 400% 이상, 약 500% 이상, 약 600% 이상, 약 700% 이상, 약 800% 이상, 약 900% 이상, 약 1000% 이상, 약 1100% 이상, 약 1200% 이상, 약 1300% 이상, 약 1400% 이상, 약 1500% 이상, 약 1600% 이상, 약 1700% 이상, 약 1800% 이상 또는 약 1900% 이상 더 큰 Cmax를 나타낼 수 있다.
본 발명의 일 양태에서, 본 발명의 나노입자형 조성물은 여기에 함유된 지프라시돈의 AUC가 예컨대 비나노입자형 조성물로서 동일한 투약량으로 투여된 동일한 지프라시돈이 나타내는 AUC보다 약 25% 이상인 것이다. 본 발명의 다른 양태에서, 본 발명의 나노입자형 조성물은 여기에 함유된 지프라시돈의 AUC가 예컨대 비나노입자형 조성물로서 동일한 투약량으로 투여된 동일한 지프라시돈이 나타내는 AUC보다 약 50% 이상, 약 75% 이상, 약 100% 이상, 약 125% 이상, 약 150% 이상, 약 175% 이상, 약 200% 이상, 약 225% 이상, 약 250% 이상, 약 275% 이상, 약 300% 이상, 약 350% 이상, 약 400% 이상, 약 450% 이상, 약 500% 이상, 약 550% 이상, 약 600% 이상, 약 650% 이상, 약 700% 이상, 약 750% 이상, 약 800% 이상, 약 850% 이상, 약 900% 이상, 약 950% 이상, 약 1000% 이상, 약 1050% 이상, 약 1100% 이상, 약 1150% 이상 또는 약 1200% 이상 큰 AUC를 나타낼 수 있다.
본 발명은 지프라시돈의 투여 후 약동학적 프로필이 이 조성물을 복용하는 검체의 급식 상태 또는 절식 상태에 따라 실질적으로 영향을 받지 않는 나노입자형 조성물을 제공한다. 이것은 나노입자형 조성물을 급식 상태 대 절식 상태 하에 투여했을 때 지프라시돈 흡수 함량 또는 지프라시돈 흡수 속도에 실질적인 차이가 없음을 의미한다. 종래 지프라시돈 포뮬레이션, 즉 Geodon®에서는 지프라시돈의 흡수가 식사와 함께 투여될 때 증가한다. 이와 같이 종래 지프라시돈 포뮬레이션에서 관찰되는 흡수의 차이는 바람직하지 않다. 본 발명의 조성물은 상기 문제점을 해소한다.
식사의 효과를 실질적으로 없애주는 투약 형태의 장점에는, 검체가 식사와 함께 또는 식사 없이 용량을 복용해야 할 필요가 없어짐으로 인한, 검체 편의 증가, 이에 따른 검체 순응도 증가가 포함된다. 이것은 검체 순응도 불량 시, 지프라시돈이 처방되는 의학적 상태의 증가가 관찰될 수 있는 바, 중요한 것이다.
본 발명은 또한 절식 상태의 검체에 대한 조성물의 투여가 급식 상태의 검체에 대한 조성물의 투여와 생물학적 등가성인 지프라시돈을 함유하는 나노입자형 조성물을 포함한다.
급식 상태 대 절식 상태에서 투여했을 때, 본 발명의 조성물의 흡수 차이는 바람직하게는 약 100% 미만, 약 95% 미만, 약 90% 미만, 약 85% 미만, 약 80% 미만, 약 75% 미만, 약 70% 미만, 약 65% 미만, 약 60% 미만, 약 55% 미만, 약 50% 미만, 약 45% 미만, 약 40% 미만, 약 35% 미만, 약 30% 미만, 약 25% 미만, 약 20% 미만, 약 15% 미만, 약 10% 미만, 약 5% 미만 또는 약 3% 미만이다.
본 발명의 일 양태에서, 본 발명은 절식 상태의 검체에 대한 조성물의 투여가 급식 상태의 검체에 대한 조성물의 투여와, 특히 미국 식약청과 이에 대응하는 유럽 규제청(EMEA)에서 제시하는 Cmax 및 AUC 가이드라인에 의해 정의되는 바와 같이, 생물학적 등가성인 지프라시돈을 함유하는 조성물을 포함한다. 미국 FDA 가이드라인 하에서, 두 산물 또는 방법은 AUC 및 Cmax의 90% 신뢰 구간(CI)이 0.80 내지 1.25 사이이면 생물학적 등가성이다(Tmax 측정값은 규제 목적의 생물학적 등가성에는 관련이 없다). 유럽 EMEA 가이드라인에 의거하여 두 화합물 또는 투여 조건 사이의 생물학적 등가성을 나타내기 위해 AUC의 90% CI는 0.80 내지 1.25 사이이고 Cmax의 90% CI는 0.70 내지 1.43 사이여야 한다.
본 발명의 나노입자형 조성물은 예상하지 못한 급격한 용해 프로필을 나타내는 것으로 추정된다. 지프라시돈의 급속 용해는 일반적으로 용해가 더 빠를수록 작용 개시가 빨라지고 생체이용율이 더 커지기 때문에 바람직하다. 지프라시돈의 용해 프로필과 생체이용율을 향상시키기 위해, 약물의 용해가 100%에 가까운 수준에 도달할 수 있도록 약물의 용해를 증가시키는 것이 유용할 것이다.
본 발명의 조성물은 약 5분 이내에 지프라시돈의 약 20% 이상이 용해되는 용해 프로필을 가진 것이 바람직하다. 본 발명의 다른 양태에 따르면, 지프라시돈의 약 30% 이상 또는 약 40% 이상이 약 5분 이내에 용해된다. 본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 지프라시돈의 약 40% 이상, 약 50% 이상, 약 60% 이상, 약 70% 이상 또는 약 80% 이상이 약 10분 이내에 용해되는 것이 바람직하다. 마지막으로, 본 발명의 다른 양태에 따르면, 조성물의 약 70% 이상, 약 80% 이상, 약 90% 이상 또는 약 100% 이상이 약 20분 이내에 용해되는 것이 바람직하다.
용해는 구별할 수 있는 매질에서 측정하는 것이 바람직하다. 이러한 용해 매질은 위액에서의 용해 프로필이 매우 다른, 두 산물의 2가지 매우 다른 용해 곡선을 제공할 것이며, 즉 용해 매질은 조성물의 생체내 용해를 예측할 수 있게 해준다. 용해 매질의 예는 계면활성제 소듐 라우릴 설페이트를 0.025M로 함유하는 수성 매질이다. 용해된 함량의 측정은 분광법으로 수행할 수 있다. 회전 블레이드법(유럽 약전)을 사용하여 용해를 측정할 수도 있다.
본 발명에 따른 나노입자형 조성물의 또 다른 특징은 입자가 재분산하여 입자의 유효 평균 입자 크기가 직경이 약 2000nm 미만이 된다는 것이다. 이것은, 입자가 직경이 약 2000nm 미만인 유효 평균 입자 크기를 갖도록 재분산하지 않는다면, 조성물이 여기에 함유된 지프라시돈을 나노입자형으로 조제함으로써 제공되는 이점을 상실할 수 있기 때문에, 중요한 의미가 있다. 이것은 나노입자형 조성물이 지프라시돈을 함유하는 입자의 작은 크기로 인해 유익을 얻기 때문이다. 따라서, 입자가 투여 시 작은 입자 크기로 재분산하지 않는다면, 나노입자계의 매우 높은 표면 자유 에너지와 전체 자유 에너지를 감소시키기 위한 열역학적 구동력으로 인해 "덩어리" 또는 집적된 입자가 형성된다. 이와 같이 집적된 입자가 형성되면, 그 투약 형태의 생체이용율은 나노입자형 조성물의 액체 분산액 형태에서 관찰되는 것보다 상당히 저하될 수 있다.
본 발명의 다른 양태에 따르면, 본 발명의 재분산된 입자(물, 생체관련 매질 또는 임의의 다른 적당한 액체 매질에 재분산된 것)는 광산란법, 검경법 또는 다른 적당한 방법으로 측정했을 때, 유효 평균 입자 크기가 약 1900nm 미만, 약 1800nm 미만, 약 1700nm 미만, 약 1600nm 미만, 약 1500nm 미만, 약 1400nm 미만, 약 1300nm 미만, 약 1200nm 미만, 약 1100nm 미만, 약 1000nm 미만, 약 900nm 미만, 약 800nm 미만, 약 700nm 미만, 약 600nm 미만, 약 500nm 미만, 약 400nm 미만, 약 300nm 미만, 약 250nm 미만, 약 200nm 미만, 약 150nm 미만, 약 100nm 미만, 약 75nm 미만 또는 약 50nm 미만의 직경인 것이다. 유효 평균 입자크기를 측정하는데 적합한 상기 방법은 당업자에게 공지되어 있다.
재분산성은 당업계에 공지된 임의의 적당한 수단을 이용하여 검사할 수 있다[예컨대, 미국 특허 6,375,986, "Solid Dose Nanoparticulate Compositions Comprising a Synergistic Combination of a Polymeric Surface Stabilizer and Dioctyl Sodium Sulfosuccinate"의 실시예 부문 참조].
본 발명의 나노입자형 조성물은 생체관련 수성 매질에서 재분산된 입자의 유효 평균 입자 크기가 약 2000nm 미만일 정도로 복원/재분산되어 입증되듯이, 사람이나 동물과 같은 포유동물에게 투여 시 입자의 급격한 재분산을 나타낸다. 이러한 생체관련 수성 매질은 매질의 생체관련성의 기본을 구성하는 바람직한 이온 강도와 pH를 나타내는 임의의 수성 매질일 수 있다. 바람직한 pH 및 이온 강도는 인체에서 발견되는 생리학적 상태를 나타내는 것이다. 이러한 생체관련성 수성 매질은 예컨대 바람직한 pH와 이온 강도를 나타내는 수성 전해질 용액 또는 임의의 염, 산 또는 염기의 수용액, 또는 이의 혼합물일 수 있다.
생체관련 pH는 당업계에 공지되어 있다. 예를 들어, 위장에서 pH는 2보다 약간 작은(하지만, 보통 1보다 큰) pH에서부터 최고 4 또는 5의 pH 범위이다. 소장의 pH는 4 내지 6 범위이고, 결장의 pH는 6 내지 8 범위이다. 생체관련 이온 강도 역시 당업계에 공지되어 있다. 절식 상태의 위액은 이온 강도가 약 0.1M인 반면, 절식 상태의 장액은 이온 강도가 약 0.14이다[예컨대, Lindahl et al., "Characterization of Fluids from the Stomach and Proximal Jejunum in Men and Women" Pharm.Res., 14(4): 497-502(1997) 참조]. 검사 용액의 pH와 이온 강도는 구체적인 화합물 함량보다 더 중요한 것으로 생각된다. 따라서, 적당한 pH와 이온 강도 값은 강산, 강염기, 염, 단독 또는 복수의 공액 산-염기쌍(즉, 약산 및 이 산의 대응 염), 일양성자성 및 다양성자성 전해질 등의 다양한 조합을 통해 수득될 수 있는 것으로 생각된다.
대표적인 전해질 용액은 약 0.001 내지 약 0.1N 농도 범위의 HCl 용액, 및 약 0.001 내지 약 0.1M 농도 범위의 NaCl 용액, 및 이의 혼합물일 수 있으나, 이에 국한되는 것은 아니다. 예를 들어, 전해질 용액은 약 0.1N HCl 이하, 약 0.01N HCl 이하, 약 0.001N HCl 이하, 약 0.1M NaCl 이하, 약 0.01M NaCl 이하, 약 0.001M NaCl 이하 및 이의 혼합물일 수 있으나, 이에 국한되는 것은 아니다. 이러한 전해질 용액 중에서, 0.01N HCl 및/또는 0.1M NaCl이 근위 위장관의 pH 및 이온 강도 상태로 인하여 절식한 사람의 생리학적 조건의 가장 대표적인 것이다.
0.001N HCl, 0.01N HCl 및 0.1N HCl의 전해질 농도는 각각 pH 3, pH 2 및 pH 1에 해당한다. 즉, 0.01N HCl 용액은 위장에서 발견되는 전형적인 산성 상태를 모방한 것이다. 0.1M NaCl 용액은 위장액을 비롯하여 체내 전반에서 관찰되는 이온 강도 상태의 적당한 근사치를 제공하며, 사람 GI관 내의 급식 상태를 모방하는 것으로 0.1M보다 높은 농도가 이용되기도 한다.
바람직한 pH와 이온 강도를 나타내는 염, 산, 염기의 용액 또는 이의 혼합물의 예에는 인산/인산염 + 염화물의 나트륨, 칼륨 및 칼슘 염, 아세트산/아세트산 염 + 염화물의 나트륨, 칼륨 및 칼슘 염, 탄산/중탄산 염 + 염화물의 나트륨, 칼륨 및 칼슘 염, 및 구연산/구연산 염 + 염화물의 나트륨, 칼륨 및 칼슘 염이 포함되지만, 이에 국한되는 것은 아니다.
앞에서 언급한 바와 같이, 본 발명의 조성물은 추가로 1종 이상의 표면 안정제도 포함한다. 표면 안정제는 지프라시돈 함유 입자의 표면에 흡착하거나 또는 표면에 회합될 수 있다. 바람직하게는, 표면 안정제는 입자의 표면에 부착하거나 또는 회합하지만, 입자 또는 다른 표면 안정제 분자와 화학적으로 반응하지 않는 것이 바람직하다. 표면 안정제의 각각 흡착된 분자는 본질적으로 분자간 가교를 일으키지 않는다.
본 발명의 조성물에 존재하는 지프라시돈과 표면 안정제의 상대적 양은 다양하게 변화할 수 있다. 각 구성 부재들의 최적량은 무엇보다도, 선택된 특정 약물, 친수성 친유성 평형가(hydrophilic lipophilic balance, HLB), 융점, 및 안정제 수용액의 표면 장력 등에 따라 달라질 수 있다. 지프라시돈의 농도는 다른 부형제를 포함하지 않는 지프라시돈과 표면 안정제(들)의 전체 혼합 중량(total combined weight)을 기준으로, 약 99.5 중량％ 내지 약 0.001 중량％, 약 95 중량％ 내지 약 0.1 중량％, 또는 약 90 중량％ 내지 약 0.5 중량％로 다양할 수 있다. 표면 안정제(들)의 농도는 다른 부형제를 포함하지 않는 지프라시돈, 이의 염 또는 유도체 및 표면 안정제(들)의 전체 혼합 건조 중량(total combined dry weight)을 기준으로, 약 0.5 중량％ 내지 약 99.999 중량％, 약 5.0 중량％ 내지 약 99.9 중량％, 또는 약 10 중량％ 내지 약 99.5 중량％로 다양할 수 있다.
지프라시돈의 표면 안정제(들)의 선택은 자명하지 않으며, 바람직한 포뮬레이션을 실현하기 위해 상당한 실험을 거쳐야 한다. 따라서, 본 발명은 지프라시돈을 함유하는 나노입자형 조성물이 제조될 수 있는 놀라운 발견에 관한 것이다.
1종보다 많은 표면 안정제의 조합이 본 발명에 사용될 수 있다. 본 발명에 이용될 수 있는 유용한 표면 안정제에는 공지된 유기 및 무기 약학적 부형제가 있으나, 이에 국한되는 것은 아니다. 이러한 부형제에는 각종 폴리머, 저분자량 올리고머, 천연 산물 및 계면활성제가 있다. 표면 안정제에는 비이온성, 음이온성, 양이온성, 이온성 및 양쪽이온성 계면활성제가 포함된다.
표면 안정제의 대표적인 예에는 하이드록시프로필 메틸셀룰로스(현재 하이프로멜로스(hypromellose)로 알려져 있다), 하이드록시프로필셀룰로스, 폴리비닐피롤리돈, 소듐 라우릴 설페이트, 디옥틸설포석시네이트, 젤라틴, 카세인, 레시틴(포스파티드), 덱스트란, 아카시아검, 콜레스테롤, 트라가칸트, 스테아르산, 벤즈알코늄 클로라이드, 칼슘 스테아레이트, 글리세롤 모노스테아레이트, 세토스테아릴 알콜, 세토마크로골 이멀싱파잉 왁스(cetomacrogol emulsifying wax), 소르비탄 에스테르, 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르(예를 들면, 세토마크로골 1000과 같은 마크로골 에테르), 폴리옥시에틸렌 피마자유(castor oil) 유도체, 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르(예를 들면, 트윈 20(Tween 20®)(ICI Speciality Chemicals) 및 트윈 80(Tween 80®)(ICI Speciality Chemicals)과 같은 상업적으로 입수가능한 트윈(Tween®)); 폴리에틸렌 글리콜(예를 들면, 카르보왁스 3550(Carbowax 3550®)(Union Carbide) 및 카르보왁스 934(Carbowax 934®)(Union Carbide)), 폴리옥시에틸렌 스테아레이트, 콜로이드형 실리콘 다이옥사이드, 포스페이트, 카르복시메틸셀룰로스 칼슘, 카르복시메틸셀룰로스 소듐, 메틸셀룰로스, 하이드록시에틸셀룰로스, 하이프로멜로스 프탈레이트, 비결정형 셀룰로스, 마그네슘 알루미늄 실리케이트, 트리에탄올아민, 폴리비닐알코올 (PVA), 에틸렌 옥사이드와 포름알데히드를 포함하는 4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페놀 폴리머(또한 타일록사폴(tyloxapol), 슈페리온(superione), 및 트리톤(triton)으로 알려짐), 폴록사머(예를 들면, 에틸렌 옥사이드와 프로필렌 옥사이드의 블록 코폴리머인 플루로닉 F68(Pluronic F68®) 및 플루로닉 F108(Pluronic F108®)); 폴록사민(예를 들면, 에틸렌디아민에 프로필렌 옥사이드와 에틸렌 옥사이드의 연속적인 첨가로부터 유래되는 4 작용기성(tetrafunctional) 블록 코폴리머이며, 폴록사민 908(Poloxamine 908®)로 알려져 있는 테트로닉 908(Tetronic 908®)(BASF Wyandotte Corporation, Parsippany, NJ.)); 테트로닉 1508(Tetronic 1508®)(T-1508)(BASF Wyandotte Corporation), 알킬 아릴 폴리에테르 술포네이트인 트리톤스 X-200(Tritons X-200®)(Rohm and Haas); 수크로스 스테아레이트와 수크로스 디스테아레이트의 혼합물인 크로데스타스 F-110(Crodestas F-110®)(Croda Inc.); 올린-1OG(Olin-1OG®) 또는 술팩턴트 10-G(Surfactant 10-G®)(Olin Chemicals, Stamford, CT)로 알려져 있는 p-이소노닐페녹시폴리-(글리시돌); 크로데스타스 SL-40(Crodestas SL-40®)(Croda, Inc.); 및 C18H37CH2(CON(CH3)-CH2(CHOH)4(CH20H)2인 SA9OHCO(Eastman Kodak Co.); 데카노일-N-메틸글루카미드; n-데실 β-D-글루코피라노사이드; n-데실 β-D-말토피라노사이드; n-도데실 β-D-글루코피라노사이드; n-도데실 β-D-말토사이드; 헵타노일-N-메틸글루카미드; n-헵틸-β-D-글루코피라노사이드; n-헵틸 β-D-티오글루코사이드; n-헥실 β-D-글루코피라노사이드; 노나노일-N-메틸글루카미드; n-노일 β-D-글루코피라노사이드; 옥타노일-N-메틸글루카미드; n-옥틸-β-D-글루코피라노사이드; 옥틸 β-D-티오글루코피라노사이드; PEG-인지질, PEG-콜레스테롤, PEG-콜레스테롤 유도체, PEG-비타민 A, PEG-비타민 E, 리소자임, 비닐피롤리돈과 비닐 아세테이트의 랜덤 코폴리머(random copolymer) 등을 포함한다.
유용한 양이온성 표면 안정제의 예로는 폴리머, 바이오폴리머, 폴리사카라이드, 셀룰로스 화합물(cellulosic), 알기네이트, 인지질, 및 양쪽 이온성 안정제(zwitterionic stabilizer), 폴리-n-메틸피리디늄, 안쓰리울 피리디늄 클로라이드(anthryul pyridinium chloride), 양이온성 인지질, 키토산, 폴리라이신, 폴리비닐이미다졸, 폴리브렌(polybrene), 폴리메틸메타크릴레이트 트리메틸암모늄 브로마이드(PMMTMABr), 헥실데실트리메틸암모늄 브로마이드(HDMAB) 및 폴리비닐피롤리돈-2-디메틸아미노에틸 메타크릴레이트 디메틸 술페이트와 같은 비폴리머성 화합물을 포함하지만, 이들에 제한되는 것은 아니다.
다른 유용한 양이온성 안정제는 양이온성 리피드, 술포늄, 포스포늄, 및 스테아릴트리메틸암모늄클로라이드, 벤질-디(2-클로로에틸)에틸암모늄 브로마이드, 코코넛 트리메틸 암모늄 클로라이드 또는 브로마이드, 코코넛 메틸 디하이드록시에틸 암모늄 클로라이드 또는 브로마이드, 데실 트리에틸 암모늄 클로라이드, 데실 디메틸 하이드록시에틸 암모늄 클로라이드 또는 브로마이드, C12-15 디메틸 하이드록시에틸 암모늄 클로라이드 또는 브로마이드, 코코넛 디메틸 하이드록시에틸 암모늄 클로라이드 또는 브로마이드, 미리스틸 트리메틸 암모늄 메틸 술페이트, 라우릴 디메틸 벤질 암모늄 클로라이드 또는 브로마이드, 라우릴 디메틸 (에테녹시)4 암모늄 클로라이드 또는 브로마이드, N-알킬 (C12-18)디메틸벤질 암모늄 클로라이드, N-알킬 (C14-18)디메틸-벤질 암모늄 클로라이드, N-테트라데실디메틸벤질 암모늄 클로라이드 모노하이드레이트, 디메틸 디데실 암모늄 클로라이드, N-알킬 및 (C12-14) 디메틸 1-나프틸메틸 암모늄 클로라이드, 트리메틸암모늄 할라이드, 알킬-트리메틸암모늄 염 및 디알킬-디메틸암모늄 염, 라우릴 트리메틸 암모늄 클로라이드, 에톡시화된 알킬아미도알킬디알킬암모늄 염 및/또는 에톡시화된 트리알킬 암모늄 염, 디알킬벤젠 디알킬암모늄 클로라이드, N-디데실디메틸 암모늄 클로라이드, N-테트라데실디메틸벤질 암모늄 클로라이드 모노하이드레이트, N-알킬(C12-14) 디메틸 1-나프틸메틸 암모늄 클로라이드 및 도데실디메틸벤질 암모늄 클로라이드, 디알킬 벤젠알킬 암모늄 클로라이드, 라우릴 트리메틸 암모늄 클로라이드, 알킬벤질 메틸 암모늄 클로라이드, 알킬 벤질 디메틸 암모늄 브로마이드, C12, C15, C17 트리메틸 암모늄 브로마이드, 도데실벤질 트리에틸 암모늄 클로라이드, 폴리-디알릴디메틸암모늄 클로라이드(DADMAC), 디메틸 암모늄 클로라이드, 알킬디메틸암모늄 할로게나이드, 트리세틸 메틸 암모늄 클로라이드, 데실트리메틸암모늄 브로마이드, 도데실트리에틸암모늄 브로마이드, 테트라데실트리메틸암모늄 브로마이드, 메틸 트리옥틸암모늄 클로라이드(알리쿼트 336(ALIQUAT 336™)), 폴리쿼트 10(POLYQUAT 10™), 테트라부틸암모늄 브로마이드, 벤질트리메틸암모늄 브로마이드, 콜린 에스테르(지방산의 콜린 에스테르와 같은 콜린 에스테르), 벤즈알코늄 클로라이드, 스테아르알코늄 클로라이드 화합물(스테아릴트리모늄(stearyltrimonium) 클로라이드 및 디-스테아릴디모늄 클로라이드와 같은 스테아르알코늄 클로라이드 화합물), 세틸 피리디늄 브로마이드 또는 클로라이드, 4차화된(quaternized) 폴리옥시에틸알킬아민의 할라이드 염, 미라폴(MIRAPOL™) 및 알카쿼트(ALKAQUAT™)(Alkaril Chemical Company), 알킬 피리디늄 염과 같은 4차 암모늄 화합물; 알킬아민, 디알킬아민, 알카놀아민, 폴리에틸렌폴리아민, N,N-디알킬아미노알킬 아크릴레이트, 및 비닐 피리딘과 같은 아민, 라우릴 아민 아세테이트, 스테아릴 아민 아세테이트, 알킬피리디늄 염 및 알킬이미다졸리윰 염과 같은 아민 염, 및 아민 옥사이드; 이미드 아졸리늄 염; 양자화된 4차 아크릴아미드; 폴리[디알릴 디메틸암모늄 클로라이드] 및 폴리-[N-메틸 비닐 피리디늄 클로라이드]와 같은 메틸화된 4차 폴리머; 및 양이온성 구아(cationic guar)를 포함하지만, 이들에 제한되는 것은 아니다.
그와 같은 대표적인 양이온성 표면 안정제와 다른 유용한 양이온성 표면 안정제는 J. Cross and E. Singer, Cationic Surfactants: Analytical and Biological Evaluation(Marcel Dekker, 1994); P. and D. Rubingh(저자), Cationic Surfactants: Physical Chemistry(Marcel Dekker, 1991); 및 J. Richmond, Cationic Surfactants: Organic Chemistry,(Marcel Dekker, 1990)에 개시되어 있다.
비폴리머성 표면 안정제는 벤즈알코늄 클로라이드, 카르보늄 화합물, 포스포늄 화합물, 옥소늄 화합물, 할로늄 화합물, 양이온성 유기금속 화합물, 4차 포스포러스 화합물, 피리디늄 화합물, 아닐리늄 화합물, 암모늄 화합물, 하이드록시암모늄 화합물, 1차 암모늄 화합물, 2차 암모늄 화합물, 3차 암모늄 화합물, 및 식 NR1R2R3R4 (+)의 4차 암모늄 화합물과 같은 임의의 비폴리머성 화합물이다. 식 NR1R2R3R4 (+)의 화합물의 경우:
(i) R1-R4 중 어떤 것도 CH3이 아니고;
(ii) R1-R4 중 한 개는 CH3이고;
(iii) R1-R4 중 세 개는 CH3이고;
(iv) R1-R4 모두는 CH3이고;
(v) R1-R4 중 두 개는 CH3이고, R1-R4 중 한 개는 C6H5CH2이고, R1-R4 중 한 개는 7개 이하의 탄소 원자를 갖는 알킬 체인이고;
(vi) R1-R4 중 두 개는 CH3이고, R1-R4 중 한 개는 C6H5CH2이고, R1-R4 중 한 개는 19개 이상의 탄소 원자를 갖는 알킬 체인이고;
(vii) R1-R4 중 두 개는 CH3이고, R1-R4 중 한 개는 n＞1인 C6H5(CH2)n 기이며;
(viii) R1-R4 중 두 개는 CH3이고, R1-R4 중 한 개는 C6H5CH2이고, R1-R4 중 한 개는 하나 이상의 헤테로원자를 포함하고;
(ix) R1-R4 중 두 개는 CH3이고, R1-R4 중 한 개는 C6H5CH2이고, R1-R4 중 한 개는 하나 이상의 할로겐을 포함하고;
(x) R1-R4 중 두 개는 CH3이고, R1-R4 중 한 개는 C6H5CH2이고, R1-R4 중 한 개는 하나 이상의 환형 단편(cyclic fragment)을 포함하고;
(xi) R1-R4 중 두 개는 CH3이고 R1-R4 중 한 개는 페닐 고리이고; 또는
(xii) R1-R4 중 두 개는 CH3이고 R1-R4 중 두 개는 순수 지방족 단편이다.
그와 같은 화합물은 베헨알코늄(behenalkonium) 클로라이드, 벤제토늄(benzethonium) 클로라이드, 세틸피리디늄 클로라이드, 베헨트리모늄(behentrimonium) 클로라이드, 라우르알코늄(lauralkonium) 클로라이드, 세트알코늄(cetalkonium) 클로라이드, 세트리모늄(cetrimonium) 브로마이드, 세트리모늄 클로라이드, 세틸아민(cethylamine) 하이드로플루오라이드, 클로르알릴메테나민(chlorallylmethenamine) 클로라이드(Quaternium-15), 디스테아릴디모늄(distearyldimonium) 클로라이드(Quaternium-5), 도데실 디메틸 에틸벤질 암모늄 클로라이드(Quaternium-14), 쿼테르니윰-22(Quaternium-22), 쿼테르니윰-26(Quaternium-26), 쿼테르니윰-18(Quaternium-18) 헥토라이트(hectorite), 디메틸아미노에틸클로라이드 하이드로클로라이드, 시스테인 하이드로클로라이드, 디에탄올암모늄 POE (10) 올레틸(oletyl) 에테르 포스페이트, 디에탄올암모늄 POE (3)올레일 에테르 포스페이트, 수지성(tallow) 알코늄 클로라이드, 디메틸 디옥타데실암모늄벤토나이트(dioctadecylammoniumbentonite), 스테아르알코늄(stearalkonium) 클로라이드, 도미펜(domiphen) 브로마이드,데나토늄(denatonium) 벤조에이트, 미리스트알코늄(myristalkonium) 클로라이드, 라우르트리모늄(laurtrimonium) 클로라이드, 에틸렌디아민 디하이드로클로라이드, 구아니딘 하이드로클로라이드, 피리독신HCl, 이포페타민(iofetamine) 하이드로클로라이드, 메글루민(meglumine)하이드로클로라이드, 메틸벤제토늄(methylbenzethonium) 클로라이드, 미르트리모늄(myrtrimonium)브로마이드, 올레일트리모늄(oleyltrimonium) 클로라이드, 폴리쿼테르니윰-1(polyquaternium-1), 프로카인하이드로클로라이드 (procaine hydrochloride), 코코베타인(cocobetaine), 스테아르알코늄 벤토나이트, 스테아르알코늄헥토나이트(stearalkoniumhectonite), 스테아릴 트리하이드록시에틸 프로필렌디아민 디하이드로플루오라이드, 수지성 트리모늄(tallow trimonium) 클로라이드, 및 헥사데실트리메틸 암모늄 브로마이드를 포함하지만, 이들에 제한되는 것은 아니다.
표면 안정제는 상업적으로 입수 가능하고 및/또는 당해 분야에서 알려진 방법에 의해 제조될 수 있다. 이와 같은 표면 안정제 대부분은 약학적 부형제로 알려져 있고, 미국 약제학 협회(American PharmaceuticalAssociation)와 영국의 약제학회(Pharmaceutical Society)에 의해 공동으로 간행된 Handbook of Pharmaceutical Excipients(The Pharmaceutical Press, 2000)에서 상세하게 기술되어 있고, 이것은 참조 문헌으로서 본원 명세서에 통합되어 있다.
본 발명의 조성물은 지프라시돈외에도, 정신분열증 또는 이와 유사한 정신 장애 및 관련 증상을 치료하는데 유용한 1종 이상의 화합물을 포함할 수 있다. 조성물은 또한 이러한 화합물과 함께 투여될 수 있다. 이러한 다른 활성 화합물들은 정신분열증 및 유사 정신 장애와 함께 일반적으로 나타나는 두통, 열, 동통 및 기타 유사 증상과 같은 신체 증상의 치료에 유용한 것을 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 활성 화합물은 지프라시돈의 치료 효과를 방해하지 않도록, 당업자가 결정하는 바와 같은 방식으로 존재해야 한다.
본 발명의 조성물은 또한 하나 이상의 결합제, 충진제, 희석제, 윤활제, 유화제 및 현탁제, 감미제, 향미제, 방부제, 완충액, 습윤제, 붕해제, 발포제, 방향제 및 다른 부형제를 포함할 수 있다. 그와 같은 부형제는 당해 분야에 알려져 있다. 또한, 파라벤, 클로로부탄올, 페놀, 소르브산 등과 같은 각종 항균 및 항진균제를 첨가하여 미생물 증식 억제를 도모할 수 있다. 주사용 포뮬레이션에 사용되는 경우, 조성물은 추가로 등장제, 예컨대 당, 염화나트륨 등과 주사용 약제 형태의 흡수 지연에 유용한 제제, 예컨대 알루미늄 모노스테아레이트 및 젤라틴을 포함할 수도 있다.
충진제의 예로는 락토오즈 모노하이드레이트, 무수 락토오즈(lactose anhydrous), 및 다양한 전분이 있고; 결합제의 예로는 다양한 셀룰로스 및 가교된 폴리비닐피롤리돈, 아비셀 PH101(Avicel®PH101) 및 아비셀 PH102(Avicel®PH102) 미세결정형 셀룰로스와 같은 미세결정형 셀룰로스 및 규화된(silicified) 미세결정형 셀룰로스(ProSolv SMCC™)가 있다.
압착될 분말의 유동성에 작용하는 제제를 포함하는 적절한 윤활제로는 에로실 200(Aerosil® 200)과 같은 콜로이드형 실리콘 디옥사이드(colloidal silicon dioxide), 탈크, 스테아르산, 마그네슘 스테아레이트, 칼슘 스테아레이트 및 실리카 겔이 있다.
감미제의 예로는 수크로스, 자일리톨, 소듐 사카린, 시클라메이트, 아스파탐 및 아술페임(acsulfame)과 같은 임의의 천연 또는 인공 감미료가 있다. 향미제의 예로는 마그나스위트(Magnasweet®, MAFCO의 상표명), 풍선껌 향미료, 및 과일 향미료, 및 그 등가물이 있다.
방부제의 예로는 포타슘 소르베이트, 메틸파라벤, 프로필파라벤, 벤조산 및 그의 염, 부틸파라벤과 같은 파라하이드록시벤조산의 다른 에스테르, 에틸 알코올 또는 벤질 알코올과 같은 알코올, 페놀과 같은 페놀성 화합물, 또는 벤즈알코늄 클로라이드와 같은 4차 화합물이 있다.
적절한 희석제로는 미세결정형 셀룰로스, 락토오즈, 2가 염기성(dibasic) 칼슘 포스페이트, 사카라이드, 및/또는 이들의 임의의 혼합물과 같은 약학적으로 허용가능한 비활성 충진제(filler)를 포함한다. 희석제의 예로는 아비셀 PH101(Avicel®PH101) 및 아비셀 PH102(Avicel®PH102)와 같은 미세결정형 셀룰로스; 락토오즈 모노하이드레이트, 무수 락토오즈, 및 파르마토즈 DCL21(Pharmatose®DCL21)과 같은 락토오즈; 엠콤프레스(Emcompress®)와 같은 2가 염기성 칼슘 포스페이트; 만니톨; 스타치; 소르비톨; 수크로스; 및 글루코스를 포함한다.
적절한 붕해제는 약간 가교된 폴리비닐피롤리돈, 콘 스타치, 포테이토 스타치, 메이즈 스타치(maize starch), 및 변성 스타치, 크로스카르멜로스 소듐, 크로스포비돈, 소듐 스타치 글리콜레이트 및 이들의 혼합물을 포함한다.
발포제의 예로는 유기산 및 카보네이트 또는 바이카보네이트와 같은 발포성 커플(effervescent couple)이 있다. 적절한 유기산은 예를 들면, 시트르산, 타르타르산, 말산, 푸마르산, 아디프산, 숙신산 및 알긴산, 및 이의 무수물 및 산 염(acid salt)을 포함한다. 적절한 카보네이트 및 바이카보네이트는 예를 들면, 소듐 카보네이트, 소듐 바이카보네이트, 포타슘 카보네이트, 포타슘 바이카보네이트, 마그네슘 카보네이트, 소듐 글리신 카보네이트, L-라이신 카보네이트, 및 아르기닌 카보네이트를 포함한다. 택일적으로는 발포성 커플 중 소듐 바이카보네이트 성분만 존재해도 좋다.
본 발명의 조성물은 추가로 담체, 보조약 또는 매개제(이하, 총칭해서 "담체"라 부른다)를 포함할 수 있다.
나노입자형 조성물은 예를 들어, 밀링, 균질화, 침전, 동결 또는 주형 에멀젼 기술로 제조할 수 있다. 나노입자형 조성물을 제조하는 방법의 예는 '684 특허에 기술되어 있다. 또한, 나노입자형 조성물을 제조하는 방법은 미국 특허 제5,518,187호; 제5,718,388호; 제5,862,999호; 제5,665,331호; 제5,662,883호; 제5,560,932호; 제5,543,133호; 제5,534,270호; 제5,510,118호; 및 제5,470,583호에 개시되어 있다.
하나의 방법으로서, 지프라시돈을 함유하는 입자는 지프라시돈이 난용성인 액체 분산 매질에 분산시킨다. 그 다음, 입자 크기를 원하는 유효 평균 입자 크기로 감소시키기 위해 연마 매질의 존재 하에 기계적 수단을 사용한다. 분산 매질은, 예컨대 물, 홍화유, 에탄올, t-부탄올, 글리세린, 폴리에틸렌 글리콜(PEG), 헥산 또는 글리콜일 수 있다. 바람직한 분산 매질은 물이다. 입자는 1종 이상의 표면 안정제의 존재 하에 크기가 감소될 수 있다. 또는, 지프라시돈을 함유하는 입자는 크기 감소 후 1종 이상의 표면 안정제와 접촉될 수도 있다. 크기 감소 과정 동안에 희석제와 같은 다른 화합물을 조성물에 첨가할 수도 있다. 분산액은 연속식 또는 회분식으로 제조할 수 있다. 당업자라면, 밀링 후, 모든 입자가 바람직한 크기로 감소되는 것은 아닌 경우가 있을 수 있음을 이해할 것이다. 이러한 경우에는, 바람직한 크기의 입자를 분리하여 본 발명의 실시에 사용할 수 있다.
원하는 나노입자형 조성물을 제조하는 또 다른 방법은 미세침전법(microprecipitation)이다. 이 방법은 임의의 미량의 독성 용매 또는 용해된 중금속 불순물이 없는 1종 이상의 콜로이드 안정성 증강 표면 활성제와 표면 안정제(들)의 존재 하에 난용성 지프라시돈의 안정한 분산액을 제조하는 방법이다. 이 방법은, 예컨대 (1) 지프라시돈을 적당한 용매에 용해하는 단계; (2) 단계 (1)의 포뮬레이션을 1종 이상의 표면 안정제 함유 용액에 첨가하는 단계; 및 (3) 단계 (2)의 포뮬레이션을 적당한 비용매(non-solvent)를 이용하여 침전시키는 단계를 포함한다. 이 방법 다음에는 형성된 임의의 염이 존재하는 경우, 투석 또는 정용여과로 염을 제거하고 분산액을 통상적인 방법으로 농축하는 단계를 수행할 수 있다.
나노입자형 조성물은 균질화법으로 제조할 수도 있다. 균질화법의 예는 "나노입자를 함유하는 치료 조성물의 제조방법"에 관한 미국 특허 5,510,118에 기술되어 있다. 이 방법은 지프라시돈 함유 입자를 액체 분산 매질에 분산시키는 단계, 그 다음 분산액을 균질화 처리하여 입자 크기를 원하는 유효 평균 입자 크기로 감소시키는 단계를 포함한다. 입자는 1종 이상의 표면 안정제의 존재 하에 크기가 감소될 수 있다. 또는, 입자는 마찰 전이나 후에 1종 이상의 표면 안정제와 접촉시킬 수도 있다. 크기 감소 과정 전, 과정 동안 또는 과정 후에 조성물에 희석제와 같은 다른 화합물을 첨가할 수 있다. 분산액은 연속식 또는 회분식으로 제조할 수 있다.
원하는 나노입자형 조성물을 제조하는 또 다른 방법은 액체 중으로의 분무 동결(SFL)에 의한 방법이다. 이 기술은 지프라시돈과 표면 안정제(들)의 유기 용액 또는 유기 수용액을 극저온 액체, 예컨대 액체 질소에 주입하는 것을 포함한다. 약물 함유 용액의 소적은 결정화 및 입자 성장을 최소화하기에 충분한 속도로 동결하여, 나노구조의 입자를 조제한다. 용매계와 공정 조건의 선택에 따라, 입자는 다양한 입자 형태를 가질 수 있다. 분리 단계에서, 질소와 용매는 입자의 집적 또는 성숙이 일어나지 않는 조건 하에서 분리한다.
SFL의 보완 기술로서, 초고속 동결(URF)을 사용하여 표면적이 크게 증가된 등가의 나노구조형 입자를 제조할 수 있다. URF는 지프라시돈과 표면 안정제(들)의 수혼화성 무수 유기 용액 또는 유기 수용액을 제조하는 단계 및 이를 극저온 기재 위에 적용하는 단계를 포함한다. 그 다음, 용매는 동결건조 또는 상압 동결건조와 같은 방법으로 제거하고, 결과적으로 나노구조형 입자를 수득한다.
원하는 나노입자형 조성물의 또 다른 제조방법은 주형 에멀젼에 의한 방법이다. 주형 에멀젼은 제어된 입자 크기 분포와 고속 용해 성능을 보유하는 나노구조형 입자를 생산한다. 이 방법은 수중유 에멀젼을 제조하는 단계, 및 그 다음 이 에멀젼을 지프라시돈과 표면 안정제(들)를 함유하는 비수성 용액으로 팽윤시키는 단계를 포함한다. 입자 크기 분포는, 에멀젼에 약물을 적재하기 전의 에멀젼 소적 크기와 직접적인 관계가 있다. 이러한 입자 크기는 본 제조방법에서 조절되고 최적화될 수 있다. 더욱이, 용매와 안정제의 선택 사용을 통해 오스왈드 성숙 부재 또는 억제 하에 에멀젼 안정성이 달성된다. 이후, 용매와 물은 제거하고, 안정화된 나노구조형 입자는 회수한다. 다양한 입자 형태는 적당한 공정 조건의 제어로 수득할 수 있다.
본 발명은 지프라시돈을 함유하는 나노입자형 조성물의 유효량을 투여하는 것을 포함하는 방법을 제공한다.
본 발명의 조성물은 비경구(예, 정맥내, 근육내 또는 피하), 경구(예, 고체, 액체 또는 에어로졸 형태, 질내), 비측, 직장, 귀, 안내, 국부(예, 분말, 연고 또는 점적제), 협측, 수조내, 복강내 또는 국소 등의 투여용으로 조제할 수 있다.
나노입자형 조성물은 고체 또는 액체 투약 포뮬레이션으로, 예컨대 액체 분산액, 젤, 에어로졸, 연고, 크림, 조절 방출 포뮬레이션, 고속 용융 포뮬레이션, 동결건조 포뮬레이션, 정제, 캡슐, 지연 방출 포뮬레이션, 연속 방출 포뮬레이션, 박동성 방출 포뮬레이션, 즉시 방출과 조절 방출의 복합 포뮬레이션 등으로 이용될 수 있다.
비경구 주사에 적합한 조성물은 생리적 허용성 멸균 수용액 또는 비수용액, 분산액, 현탁액 또는 에멀젼, 및 멸균 주사용 용액이나 분산액으로 복원되는 멸균 분말을 함유할 수 있다. 적당한 수성 및 비수성 담체, 희석제, 용매 또는 매개제의 예에는 물, 에탄올, 폴리올(프로필렌글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 글리세롤 등), 이의 적당한 혼합물, 식물유(예컨대, 올리브유) 및 주사성 유기 에스테르, 예컨대 에틸 올레이트 등이 있다. 적당한 유동성은 예컨대 레시틴과 같은 코팅의 사용에 의해, 분산액의 경우에는 필요한 입자 크기의 유지에 의해, 그리고 계면활성제의 사용에 의해 유지할 수 있다.
경구 투여용 고체 투약 형태에는 정제, 캡슐, 향낭(sachet), 로젠지, 분말, 환제 또는 과립이 있으나, 이에 국한되지 않으며, 고체 투약 형태는 예컨대 고속 용융 투약 형태, 조절 방출 투약 형태, 동결건조 투약 형태, 지연 방출 투약 형태, 연속 방출 투약 형태, 박동식 방출 투약 형태, 즉시 방출과 조절 방출의 혼합 투약 형태, 또는 이의 조합일 수 있다. 고체 용량 정제 포뮬레이션이 바람직하다. 이러한 고체 투약 형태에서, 활성제는 다음 중 하나 이상과 혼합된다: (a) 1종 이상의 불활성 부형제(또는 담체), 예컨대 소듐 시트레이트 또는 디칼슘 포스페이트; (b) 충전제 또는 증량제, 예컨대 전분, 락토스, 수크로스, 글루코스, 만니톨 및 규산; (c) 결합제, 예컨대 카르복시메틸셀룰로스, 알기네이트, 젤라틴, 폴리비닐피롤리돈, 수크로스 및 아카시아; (d) 보습제, 예컨대 글리세롤; (e) 붕해제, 예컨대 아가-아가, 칼슘 카보네이트, 감자 또는 타피오카 전분, 알긴산, 특정 복합 규산염, 및 탄산나트륨; (f) 용해 지연제, 예컨대 파라핀; (g) 흡수 가속제, 예컨대 4차 암모늄 화합물; (h) 습윤제, 예컨대 세틸 알콜 및 글리세롤 모노스테아레이트; (i) 흡착제, 예컨대 카올린 및 벤토나이트; 및 (j) 윤활제, 예컨대 탈크, 칼슘스테아레이트, 마그네슘스테아레이트, 고체 폴리에틸렌 글리콜, 소듐 라우릴 설페이트 또는 이의 혼합물. 캡슐, 정제 및 환제의 경우에, 투약 형태는 완충제를 추가로 함유할 수 있다.
경구 투여를 위한 액체 투약 형태는 약학적 허용성 에멀젼, 용액, 현탁액, 시럽 및 엘릭시르를 함유한다. 지프라시돈 외에, 액체 투약 형태는 당업계에서 일반적으로 사용되는 불활성 희석제, 예컨대 물 또는 다른 용매, 용해제 및 유화제를 함유할 수 있다. 유화제의 예에는 에틸 알콜, 이소프로필 알콜, 에틸 카보네이트, 에틸 아세테이트, 벤질 알콜, 벤질 벤조에이트, 프로필렌글리콜, 1,3-부틸렌글리콜, 디메틸포름아미드, 오일, 예컨대 면실유, 땅콩유, 옥수수 배아유, 올리브유, 피마자유 및 참깨유, 글리세롤, 테트라하이드로푸르푸릴 알콜, 폴리에틸렌글리콜, 소르비탄의 지방산 에스테르 또는 이 물질들의 혼합물 등이 있다.
당업자라면, 지프라시돈의 치료적 유효량은 실험적으로 결정할 수 있음을 잘 알고 있을 것이다. 본 발명의 나노입자 조성물에 함유된 지프라시돈의 실제 투약 수준은 특정 조성물과 투여 방법에 따라서 바람직한 치료 반응을 수득하기에 효과적인 약물의 양을 제공하기 위해 변동될 수 있다. 따라서, 선택된 투약 수준은 원하는 치료 효과, 투여 경로, 투여된 지프라시돈의 효능, 원하는 치료 기간 및 기타 요인에 따라 달라진다.
투약 단위 조성물은 1일 용량을 조제하는데 사용될 수 있는 만큼의 지프라시돈의 함량 또는 이의 분할 용량을 함유할 수 있다. 하지만, 임의의 특정 환자에 특이적인 용량 수준은 다양한 요인, 즉 성취되어야 하는 세포 또는 생리적 반응의 종류 및 정도; 이용된 특정 약물 또는 조성물의 활성; 이용된 특정 약물 또는 조성물; 환자의 연령, 체중, 일반적인 건강, 성별 및 식이; 지프라시돈의 투여 시간, 투여 경로 및 배출 속도; 치료 기간; 지프라시돈과 함께 또는 동시에 사용된 활성 화합물; 및 기타 의약 분야에 공지된 요인들에 따라 달라질 것이다.
II. 지프라시돈 함유 조절 방출 조성물
질병 상태의 예방 및 치료에서 약학적 화합물의 효과는 화합물이 투약 형태로부터 환자에게 전달되는 속도와 기간 등을 비롯한 다양한 요인에 따라 달라진다. 소정 투약 형태가 환자 중에서 보여주는 전달 속도와 기간의 조합은 이의 생체내 방출 프로필이라 할 수 있고, 투여되는 약학적 화합물에 따라 혈장 프로필이라 불리는 혈액 혈장에 존재하는 약학적 화합물의 농도 및 기간과 관련이 있을 것이다. 약학적 화합물은 이의 약동학적 성질, 예컨대 생체이용율, 및 흡수 및 제거 속도가 다양한 바, 방출 프로필 및 그 결과 수득되는 혈장 프로필은 효과적인 치료법을 설계하는데 고려해야 하는 중요한 요소가 된다.
투약 형태의 방출 프로필은 여러 방출 속도와 방출 기간을 나타낼 수 있고, 연속식이거나 박동식일 수 있다. 연속식 방출 프로필은 1종 이상의 약학적 화합물의 일정량이 투약 기간을 통해 일정 속도 또는 가변 속도로 연속 방출되는 방출 프로필을 포함한다. 박동식 방출 프로필은 1종 이상의 약학적 화합물의 2회 이상의 분리된 양이 다른 속도로 및/또는 다른 시간 틀 동안에 방출되는 방출 프로필을 포함한다. 임의의 소정의 약학적 화합물 또는 이러한 화합물의 조합에서, 소정 투약 형태의 방출 프로필은 환자 내에서 그와 관련된 혈장 프로필을 발생시킨다. 투약 형태의 2 이상의 성분이 다른 방출 프로필을 보유할 때, 투약 형태의 방출 프로필은 전체적으로 각 방출 프로필의 조합이며, 일반적으로 "다정점식"이라 말할 수 있다. 각 성분이 다른 방출 프로필을 나타내는 2 성분 투약 형태의 방출 프로필은 "이정점식"이라 말할 수 있고, 각 성분이 다른 방출 프로필을 나타내는 3 성분 투약 형태의 방출 프로필은 "삼정점식"이라 말할 수 있다.
방출 프로필에 적용할 수 있는 변수와 유사하게, 환자의 관련된 혈장 프로필은 작용 기간 동안에 약학적 화합물의 일정한 또는 가변적인 혈액 혈장 농도 수준을 나타낼 수 있고 연속식이거나 박동식일 수 있다. 연속식 혈장 프로필에는 모든 속도와 기간 동안 단일 혈장 농도 최대치를 나타내는 혈장 프로필이 포함된다. 박동식 혈장 프로필에는 약학적 화합물의 2 이상의 높은 혈액 혈장 농도 수준이 하나의 낮은 혈액 혈장 농도 수준에 의해 분리된 혈장 프로필을 포함하고, 일반적으로 "다정점식"이라 말할 수 있다. 2개의 최고치를 나타내는 박동식 혈장 프로필은 "이정점식"이라 말할 수 있고, 3개의 최고치를 나타내는 혈장 프로필은 "삼정점식"이라 말할 수 있다. 적어도 부분적으로, 투약 형태에 포함된 약학적 화합물의 약동학 및 투약 형태의 각 성분의 방출 프로필에 따라, 다정점식 방출 프로필은 환자에게 투여 시 연속식 또는 박동식 혈장 프로필을 나타낼 수 있다.
일 양태에서, 본 발명은 지프라시돈, 또는 이 지프라시돈을 함유하는 나노입자를 박동식으로 전달하는 다입자형 변성 방출 조성물(multiparticulate modified release composition)을 제공한다. 나노입자는 앞에서 기술한 형태이며, 추가로 1종 이상의 표면 안정제를 함유한다.
또 다른 양태에서, 본 발명은 지프라시돈, 또는 지프라시돈을 함유하는 나노입자를 연속식으로 전달하는 다입자형 변성 방출 조성물을 제공한다. 여기서 나노입자는 앞에서 기술한 형태이며, 추가로 1종 이상의 표면 안정제를 함유한다.
또 다른 양태에서, 본 발명은 지프라시돈, 또는 지프라시돈을 함유하는 나노입자의 제1 분량이 투여 즉시 방출되고 지프라시돈, 또는 지프라시돈을 함유하는 나노입자의 1회 이상의 후속 분량이 초기 시간 지연 후 방출되는 다입자형 변성 방출 조성물을 제공한다.
또 다른 양태에서, 본 발명은 본 발명의 다입자형 변성 방출 조성물을 포함하는 1일 1회 또는 1일 2회 투여용 고체 경구 투약 형태를 제공한다.
또 다른 양태에서, 본 발명은 본 발명의 조성물을 투여하는 것을 포함하는, 정신분열증 및 유사 정신 장애의 예방 및/또는 치료 방법을 제공한다.
일 양태에서, 본 발명은 다입자를 형성하는 입자가 전술한 형태의 나노입자형 입자인 다입자형 변성 방출 조성물을 제공한다. 여기서, 나노입자형 입자는 필요한 경우 변성 방출 코팅 및/또는 변성 방출 매트릭스 물질을 포함할 수 있다.
본 발명의 제1 관점에 따르면, 활성 성분 함유 입자를 포함하는 제1 부재, 및 활성 성분 함유 입자를 포함하는 적어도 하나의 후속 부재를 보유하며, 각 후속 부재가 제1 부재와 다른 방출 속도 및/또는 기간을 보유하고, 상기 부재들 중 적어도 하나가 지프라시돈 함유 입자를 포함하는 약학 조성물이 제공된다. 본 발명의 일 양태에 따르면, 다입자를 형성하는 지프라시돈 함유 입자는 자체적으로 지프라시돈과 추가로 1종 이상의 표면 안정제를 함유하는 전술한 형태의 나노입자형 입자를 함유할 수 있다. 본 발명의 다른 양태에 따르면, 지프라시돈과 추가로 1종 이상의 표면 안정제를 함유하는 전술한 형태의 나노입자형 입자 자체가 다입자의 약물 함유 입자이다. 이러한 약물 함유 입자는 변성 방출 코팅으로 코팅될 수 있다. 대안적으로 또는 부가적으로, 약물 함유 입자는 변성 방출 매트릭스 물질을 포함할 수 있다. 경구 전달 후, 조성물은 지프라시돈, 또는 지프라시돈을 함유하는 나노입자를 박동식으로 전달한다. 일 양태에서, 제1 부재는 지프라시돈, 또는 지프라시돈을 함유하는 나노입자의 즉시 방출을 제공하고, 1 이상의 후속 부재는 지프라시돈, 또는 지프라시돈 함유 나노입자의 변성 방출을 제공한다. 이러한 양태에서, 즉시 방출 부재는 투여에서부터 치료적 유효 혈장 농도 수준까지의 시간을 최소화하여 작용 개시를 가속시키는 작용을 하고, 1 이상의 후속 부재는 투약 기간 동안 치료적 유효 혈장 농도를 유지하고(하거나) 혈장 농도 수준의 변동을 최소화하는 작용을 한다.
변성 방출 코팅 및/또는 변성 방출 매트릭스 물질은 활성 성분 함유 입자의 제1 집단 유래의 활성 성분의 방출과 활성 성분 함유 입자의 후속 집단 유래의 활성 성분의 방출 사이에 지체 시간(lag time)을 유발한다. 하나보다 많은 집단의 활성 성분 함유 입자가 변성 방출을 제공하는 경우, 변성 방출 코팅 및/또는 변성 방출 매트릭스 물질은 다른 활성 성분 함유 입자 집단 유래의 활성 성분의 방출 사이에 지체 시간을 유발한다. 이러한 지체 시간의 기간은 변성 방출 코팅의 조성 및/또는 함량의 개조 및/또는 사용된 변성 방출 매트릭스 물질의 조성 및/또는 함량의 개조를 통해 변경시킬 수 있다. 따라서, 지체 시간의 기간은 원하는 혈장 프로필과 유사하게 설계할 수 있다.
변성 방출 조성물이 투여 시 나타내는 혈장 프로필은 연속 제공된 2회 이상의 IR 투약 형태의 투여 시 나타나는 혈장 프로필과 실질적으로 유사하기 때문에, 본 발명의 변성 방출 조성물은 지프라시돈의 투여에 특히 유용하다.
본 발명의 다른 관점에 따르면, 조성물은 연속 제공된 2회 이상의 IR 투약 형태의 투여와 관련된 혈장 농도 수준의 변동을 최소화하거나 없애주는 혈장 프로필을 생산하도록 설계될 수 있다. 이러한 양태에서, 조성물은 투여에서부터 치료적 유효 혈장 농도 수준까지의 시간을 최소화하여 작용 개시를 가속시키는 즉시 방출 부재와 투여 기간 동안 치료적 유효 혈장 농도 수준을 유지하는 적어도 하나의 변성 방출 부재를 구비할 수 있다.
각 부재의 활성 성분은 동일하거나 상이할 수 있다. 예를 들어, 조성물은 활성 성분으로서 지프라시돈 또는 지프라시돈 함유 나노입자만을 함유하는 부재를 포함할 수 있다. 대안적으로, 조성물은 지프라시돈 또는 지프라시돈 함유 나노입자를 함유하는 제1 부재와, 지프라시돈과 공동투여하기에 적당한 지프라시돈 또는 지프라시돈 함유 나노입자 외에 다른 활성 성분을 포함하는 하나 이상의 후속 부재를 포함하거나, 또는 지프라시돈 또는 지프라시돈 함유 나노입자외에 다른 활성 성분을 함유하는 제1 부재와 지프라시돈 또는 지프라시돈 함유 나노입자를 함유하는 하나 이상의 후속 부재를 포함할 수 있다. 실제, 2종 이상의 활성 성분은 이 활성 성분들이 서로 상용성인 경우 동일한 부재 내에 포함될 수 있다. 조성물의 한 부재에 존재하는 활성 성분은 예컨대 조성물의 다른 부재에 존재하는 증강제 화합물 또는 증감제 화합물을 수반하여, 상기 성분의 생체이용율 또는 치료 효과를 변성시킬 수 있다.
본 명세서에 사용된 "증강제"란 용어는 사람과 같은 동물의 GIT를 통한 순 수송(net transport)를 촉진하여 활성 성분의 흡수 및/또는 생체이용율을 증강시킬 수 있는 화합물을 의미한다. 증강제에는 중쇄 지방산, 이의 염, 에스테르, 에테르 및 유도체, 예컨대 글리세라이드 및 트리글리세라이드; 지방산, 지방산알콜, 알킬페놀 또는 소르비탄 또는 글리세롤 지방산에스테르와 에틸렌 옥사이드를 반응시켜 제조할 수 있는 것과 같은 비이온성 계면활성제; 사이토크롬 P450 억제제, P-당단백질 억제제 등; 및 이러한 제제들의 2종 이상의 혼합물이 있으나, 이에 국한되는 것은 아니다.
하나 이상의 약물 함유 부재가 존재하는 양태에서, 각 부재에 함유된 지프라시돈의 비율은 바람직한 용량 섭생에 따라 동일하거나 다를 수 있다. 제1 부재와 후속 부재들에 존재하는 지프라시돈은 치료적 유효 혈장 농도 수준을 생산하기에 충분한 임의의 함량일 수 있다. 지프라시돈은 이용가능한 경우, 하나의 실질적으로 광학적 순수한 입체이성질체 형태로, 또는 2종 이상의 입체이성질체의 혼합물, 라세미체 또는 기타 형태로 존재할 수 있다. 일 양태에서, 지프라시돈은 조성물에 약 0.1 내지 약 500mg의 함량으로 존재한다. 다른 양태에 따르면, 지프라시돈은 약 1 내지 약 100mg의 함량으로 조성물에 존재한다. 또 다른 양태에 따르면, 지프라시돈은 제1 부재에 약 0.5 내지 약 60mg의 함량으로 존재한다. 또 다른 양태에 따르면, 지프라시돈은 제1 부재에 약 2.5 내지 약 30mg의 함량으로 존재한다. 후속 부재에 존재하는 경우에도, 지프라시돈은 제1 부재에서와 유사한 범위 내의 함량으로 존재한다.
각 부재로부터 지프라시돈을 전달하는 시간 방출 특징은 각 부재의 조성물을 변성시켜, 예컨대 존재할 수 있는 임의의 부형제 또는 코팅을 변성시켜 변경시킬 수 있다. 특히, 지프라시돈의 방출은 입자에 코팅이 존재하는 경우, 입자 상의 변성 방출 코팅의 조성 및/또는 함량을 변화시켜 조절할 수 있다. 변성 방출 부재가 하나보다 많이 존재한다면, 각 부재의 변성 방출 코팅은 동일하거나 다를 수 있다. 이와 마찬가지로, 변성 방출이 변성 방출 매트릭스 물질의 혼입에 의해 용이해진다면, 활성 성분의 방출은 이용된 변성 방출 매트릭스 물질의 선택 및 함량에 의해 조절할 수 있다. 변성 방출 코팅은 각 부재마다 각 특정 부재에 바람직한 지연 시간을 산출하기에 충분한 임의의 함량으로 존재할 수 있다. 변성 방출 코팅은 각 부재에 부재 사이에 바람직한 시간 지체를 산출하기에 충분한 임의의 함량으로 예비설정될 수 있다.
각 부재로부터 지프라시돈을 방출시키는 지체 시간 또는 시간 지연은 또한 각 부재의 조성, 예컨대 존재할 수 있는 임의의 부형제 및 코팅의 변성을 통해 변경시킬 수 있다. 예를 들어, 제1 부재는 지프라시돈이 투여 즉시 방출되는 즉시 방출 부재일 수 있다. 대안적으로, 제1 부재는 예컨대 지프라시돈이 시간 지연 후 즉시 전량이 실질적으로 방출되는 시간 지연형 즉시 방출 부재일 수 있다. 제2 부재 및 후속 부재는 예컨대 방금 전술한 시간 지연형 즉시 방출 부재이거나 또는 지프라시돈이 장기간에 걸쳐 조절된 방식으로 방출되는 시간 지연형 지속 방출 또는 연속 방출 부재일 수 있다.
당업자라면 잘 알고 있듯이, 혈장 농도 곡선의 정확한 특성은 방금 전술한 모든 요인의 조합에 의해 영향을 받을 것이다. 특히, 지프라시돈을 함유하는 각 부재마다 지프라시돈의 전달( 및 이에 따른 작용 개시) 사이의 지체 시간은 각 부재의 조성 및 코팅(존재하는 경우)의 변경을 통해 조절될 수 있다. 즉, 각 부재의 조성(예컨대 활성 성분(들)의 함량 및 특성) 및 지체 시간의 변경을 통해 수많은 방출 및 혈장 프로필을 수득할 수 있다. 각 부재로부터의 지프라시돈의 방출 사이의 지체 시간의 기간 및 각 부재로부터 지프라시돈의 방출 특성(즉, 즉시 방출, 지속 방출 등)에 따라, 혈장 프로필은 혈장 프로필의 피크가 잘 분리되고 명확한 피크이거나(예컨대 지체 시간이 긴 경우) 또는 피크가 어느 정도 중첩될 수도 있는(예컨대 지체 시간이 짧은 경우) 연속식(즉, 단일 최대치를 가진)이거나 박동식일 수 있다.
본 발명의 조성물을 포함하는 단독 투약 단위의 투여로부터 생성되는 혈장 프로필은, 2회 이상의 투약 단위를 투여할 필요 없이, 활성 성분의 2회 이상의 펄스를 제공하는 것이 바람직할 때 유리하다.
지프라시돈의 방출을 원하는 방식으로 변성시키는 임의의 코팅 물질이 사용될 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 실시에 사용하기에 적합한 코팅 물질에는 폴리머 코팅 물질, 예컨대 셀룰로스 아세테이트 프탈레이트, 셀룰로스 아세테이트 트리말레테이트, 하이드록시 프로필 메틸셀룰로스 프탈레이트, 폴리비닐 아세테이트 프탈레이트, 암모니오 메타크릴레이트 코폴리머, 예컨대 상표명 Eudragit® RS 및 RL로 시판되는 것, 폴리아크릴산 및 폴리 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 코폴리머, 예컨대 상표명 Eudragit®S 및 L로 시판되는 것, 폴리비닐 아세탈디에틸아미노 아세테이트, 하이드록시프로필 메틸셀룰로스 아세테이트 숙시네이트, 셀락; 하이드로겔 및 겔 형성 물질, 예컨대 카르복시비닐 폴리머, 알긴산나트륨, 소듐 카르멜로스, 칼슘 카르멜로스, 소듐 카르복시메틸 전분, 폴리비닐 알콜, 하이드록시에틸 셀룰로스, 메틸 셀룰로스, 젤라틴, 전분 및 물의 흡수 및 폴리머 매트릭스의 팽창이 용이하도록 가교 정도가 낮은 셀룰로스계 가교 폴리머, 하이드록시프로필 셀룰로스, 하이드록시프로필 메틸셀룰로스, 폴리비닐피롤리돈, 가교 전분, 미세결정형 셀룰로스, 키틴, 아미노아크릴-메타크릴레이트 코폴리머(Eudragit® RS-PM, Rohm & Haas), 풀룰란, 콜라겐, 카세인, 아가, 아라비아검, 소듐 카르복시메틸 셀룰로스, (팽창성 친수성 폴리머) 폴리(하이드록시알킬 메타크릴레이트(분자량 약 5k 내지 5,000k), 폴리비닐피롤리돈(분자량 약 10k 내지 360k), 음이온 및 양이온성 하이드로겔, 적은 아세테이트 잔기를 보유한 폴리비닐 알콜, 아가와 카르복시메틸 셀룰로스의 팽창성 혼합물, 말레산 무수물과 스티렌, 에틸렌, 프로필렌 또는 이소부틸렌의 코폴리머, 펙틴(분자량 약 30k 내지 300k), 아가, 아카시아, 카라야, 트라가칸트, 알긴 및 구아와 같은 다당류, 폴리아크릴아미드, Polyox® 폴리에틸렌 옥사이드(분자량 약 100k 내지 5,000k), AquaKeep® 아크릴레이트 폴리머, 폴리글루칸의 디에스테르, 가교된 폴리비닐 알콜 및 폴리 N-비닐-2-피롤리돈, 소듐 스타치 글루콜레이트(예, Explotab®; Edward Mandell C.Ltd.); 친수성 폴리머, 예컨대 다당류, 메틸 셀룰로스, 소듐 또는 칼슘 카르복시메틸 셀룰로스, 하이드록시프로필 메틸 셀룰로스, 하이드록시프로필 셀룰로스, 하이드록시에틸 셀룰로스, 니트로셀룰로스, 카르복시메틸 셀룰로스, 셀룰로스 에테르, 폴리에틸렌 옥사이드(예, Polyox®, Union Carbide), 메틸 에틸 셀룰로스, 에틸하이드록시 에틸셀룰로스, 셀룰로스 아세테이트, 셀룰로스 부티레이트, 셀룰로스 프로피오네이트, 젤라틴, 콜라겐, 전분, 말토덱스트린, 풀룰란, 폴리비닐 피롤리돈, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 아세테이트, 글리세롤 지방산 에스테르, 폴리아크릴아미드, 폴리아크릴산, 메타크릴산의 코폴리머 또는 메타크릴산(예, Eudragit®, Rohm and Haas), 다른 아크릴산 유도체, 소르비탄 에스테르, 천연 검, 레시틴, 펙틴, 알기네이트, 암모니아 알기네이트, 소듐, 칼슘, 포타슘 알기네이트, 프로필렌 글리콜 알기네이트, 아가 및 검, 예컨대 아라비아, 카라야, 로커스트빈, 트라가칸트, 카라긴, 구아, 잔탄, 스클레로글루칸(scleroglucan) 및 이의 혼합물 및 블렌드가 있으나, 이에 국한되는 것은 아니다. 당업자라면 잘 알고 있듯이, 가소제, 윤활제, 용매 등의 부형제가 코팅에 첨가될 수 있다. 적당한 가소제에는 예컨대 아세틸화된 모노글리세라이드; 부틸 프탈릴 부틸 글리콜레이트; 디부틸 타르트레이트; 디에틸 프탈레이트; 디메틸 프탈레이트; 에틸 프탈릴 에틸 글리콜레이트; 글리세린; 프로필렌 글리콜; 트리아세틴; 시트레이트; 트리프로피오인; 디아세틴; 디부틸 프탈레이트; 아세틸 모노글리세라이드; 폴리에틸렌 글리콜; 피마자유; 트리에틸 시트레이트; 다가 알콜, 글리세롤, 아세테이트 에스테르, 글리세롤 트리아세테이트, 아세틸 트리에틸 시트레이트, 디벤질 프탈레이트, 디헥실 프탈레이트, 부틸 옥틸 프탈레이트, 디이소노닐 프탈레이트, 부틸 옥틸 프탈레이트, 디옥틸 아젤레이트, 에폭시화된 탈레이트, 트리이소옥틸 트리멜리테이트, 디에틸헥실 프탈레이트, 디-n-옥틸 프탈레이트, 디-i-옥틸 프탈레이트, 디-i-데실 프탈레이트, 디-n-운데실 프탈레이트, 디-n-트리데실 프탈레이트, 트리-2-에틸헥실 트리멜리테이트, 디-2-에틸헥실 아디페이트, 디-2-에틸헥실 세바케이트, 디-2-에틸헥실 아젤레이트, 디부틸 세바케이트가 있다.
변성 방출 부재가 변성 방출 매트릭스 물질을 함유할 때, 임의의 적당한 변성 방출 매트릭스 물질 또는 변성 방출 매트릭스 물질의 적당한 조합을 사용할 수 있다. 이러한 물질은 당업자에게 공지되어 있다. 본 명세서에 사용된 "변성 방출 매트릭스 물질"이란 용어에는 여기에 분산된 지프라시돈, 또는 이의 염이나 유도체의 방출을 시험관내 및 생체내에서 변경시킬 수 있는 친수성 폴리머, 소수성 폴리머 및 이의 혼합물이 포함된다. 본 발명의 실시에 적합한 변성 방출 매트릭스 물질에는 미세결정형 셀룰로스, 소듐 카르복시메틸셀룰로스, 하이드록시알킬셀룰로스, 예컨대 하이드록시프로필메틸셀룰로스 및 하이드록시프로필셀룰로스, 폴리에틸렌 옥사이드, 알킬셀룰로스, 예컨대 메틸셀룰로스 및 에틸셀룰로스, 폴리에틸렌 글리콜, 폴리비닐피롤리돈, 셀룰로스 아세테이트, 셀룰로스 아세테이트 부티레이트, 셀룰로스 아세테이트 프탈레이트, 셀룰로스 아세테이트 트리멜리테이트, 폴리비닐아세테이트 프탈레이트, 폴리알킬메타크릴레이트, 폴리비닐아세테이트 및 이의 혼합물이 포함되나, 이에 국한되는 것은 아니다.
본 발명에 따른 변성 방출 조성물은 박동식으로 활성 성분의 방출을 촉진하는 임의의 적당한 투약 형태에 첨가될 수 있다. 일 양태에서, 투약 형태는 즉시 방출 부재와 변성 방출 부재를 구성하는 활성 성분 함유 입자의 다른 집단의 블렌드를 포함할 수 있고, 이 블렌드는 적당한 캡슐, 예컨대 경질 또는 연질 젤라틴 캡슐에 충진된다. 대안적으로, 활성 성분 함유 입자의 다른 각 집단은 미니정제로 압착(경우에 따라, 부가 부형제와 함께)될 수 있고, 이는 다시 적당한 비율로 캡슐에 충진될 수 있다. 또 다른 적당한 투약 형태는 다층 정제이다. 이 경우에, 변성 방출 조성물의 제1 부재는 1층으로 압착되고, 그 다음 제2 부재가 다층 정제의 제2 층으로서 첨가될 수 있다. 본 발명의 조성물을 구성하는 입자의 집단은 또한 기포성 투약 형태 또는 고속 용융 투약 형태와 같은 고속 용해성 투약 형태에 포함될 수 있다.
일 양태에서, 조성물은 지프라시돈을 함유하는 2 이상의 부재, 즉 제1 부재와 1 이상의 후속 부재를 함유한다. 이러한 양태에서, 조성물의 제1 부재는 제1 부재에 함유된 거의 모든 지프라시돈이 투약 형태의 투여 즉시 빠르게 방출되거나, 빠르지만 시간 지연(지연 방출) 후 방출되거나, 또는 경시적으로 서서히 방출되는 프로필을 비롯한 다양한 방출 프로필을 나타낼 수 있다. 이러한 일 양태에서, 제1 부재에 함유된 지프라시돈은 환자에게 투여 시 빠르게 방출된다. 본 명세서에 사용된 "빠르게 방출되는"이란, 투여 후 약 1시간 내에 부재의 적어도 약 80%의 활성 성분이 방출되는 방출 프로필을 포함하고, "지연 방출"이란 용어는 부재의 활성 성분이 시간 지연 후 방출되는(빠르게 또는 서서히) 방출 프로필을 포함하고, "조절 방출" 및 "연속 방출"이란 용어는 부재에 함유된 활성 성분의 적어도 약 80%가 서서히 방출되는 방출 프로필을 포함한다.
이러한 양태의 제2 부재는 또한 즉시 방출 프로필, 지연 방출 프로필 또는 조절 방출 프로필을 비롯한 다양한 방출 프로필을 나타낼 수 있다. 이러한 일 양태에서, 제2 부재는 지프라시돈이 시간 지연 후 방출되는 지연 방출 프로필을 나타낸다.
지프라시돈 또는 지프라시돈 함유 나노입자를 포함하는 즉시 방출 부재와 지프라시돈 또는 지프라시돈 함유 나노입자를 포함하는 적어도 하나의 변성 방출 부재를 포함하는 본 발명의 투약 형태의 투여 시 생성되는 혈장 프로필은 연속 제공된 2회 이상의 IR 투약 형태의 투여 시 생성되는 혈장 프로필과 실질적으로 유사할 수 있고, 또는 분리된 IR 투약 형태와 변성 방출 투약 형태의 투여 시 생성되는 혈장 프로필과 실질적으로 유사할 수 있다. 따라서, 본 발명의 투약 형태는 약동학적 매개변수의 유지가 바람직하지만 문제가 되는 지프라시돈의 투여에 특히 유용할 수 있다.
일 양태에서, 조성물 및 이 조성물을 함유하는 고체 경구 투약 형태는 적어도 하나의 후속 부재로부터 지프라시돈이 방출되기 전에 제1 부재에 함유된 거의 모든 지프라시돈이 방출되도록 지프라시돈을 방출한다. 제1 부재가 IR 부재를 함유할 때, 예컨대 적어도 하나의 후속 부재로부터 지프라시돈의 방출은 IR 부재 내의 거의 모든 지프라시돈이 방출되었을 때까지 지연되는 것이 바람직하다. 적어도 하나의 후속 부재로부터 지프라시돈의 방출은 변성 방출 코팅 및/또는 변성 방출 매트릭스 물질을 이용하여 전술한 바와 같이 지연될 수 있다.
환자계로부터 지프라시돈의 제1 용량의 유실을 용이하게 하는 투약 섭생을 제공하여 환자 내성을 최소화하는 것이 필요할 때, 후속 부재로부터의 지프라시돈의 방출은 제1 부재에 함유된 거의 모든 지프라시돈이 방출되었을 때까지 지연되고, 제1 부재로부터 방출된 지프라시돈의 적어도 일부가 환자계로부터 제거되었을 때까지 더욱 지연되는 것이 바람직하다. 일 양태에 따르면, 조성물의 후속 부재로부터 지프라시돈의 방출은 조성물의 투여 후 적어도 약 2시간의 기간 동안 완전하지는 않지만 실질적으로 지연된다. 다른 양태에 따르면, 조성물의 후속 부재 유래의 지프라시돈의 방출은 조성물의 투여 후 적어도 약 4시간의 기간 동안 완전하지는 않지만 실질적으로 지연된다.
이하에 기술되는 바와 같이, 본 발명은 지프라시돈을 박동식 또는 연속식으로 전달할 수 있는 다양한 종류의 변성 방출 시스템을 포함한다. 이러한 시스템에는 폴리머 매트릭스에 지프라시돈, 또는 지프라시돈 함유 나노입자를 보유하는 필름(모놀리식 장치); 지프라시돈, 또는 지프라시돈 함유 나노입자를 폴리머에 담고 있는 시스템(저장기 장치); 저장기 및 매트릭스 장치 형태의 폴리머 콜로이드성 입자 또는 마이크로캡슐화물(마이크로입자, 마이크로구 또는 나노입자); 친수성 및/또는 용출성 첨가제, 예컨대 제2 폴리머, 계면활성제 또는 가소제 등을 함유하여 다공성 장치, 또는 지프라시돈 방출이 삼투 조절될 수 있는 장치(저장기 및 매트릭스 장치 모두)를 제공하는 폴리머에 지프라시돈 또는 지프라시돈 함유 나노입자가 함유되어 있는 시스템; 장용 코팅(적당한 pH에서 이온화 및 용해한다); (공유) 부착된 분지형 지프라시돈 분자를 보유하는 (용해성) 폴리머; 방출 속도가 동역학적으로 조절되는 장치, 예컨대 삼투 펌프 등을 포함하나, 이에 국한되는 것은 아니다.
본 발명의 전달 기구는 지프라시돈의 방출 속도를 조절할 수 있다. 일부 기구는 일정한 속도로 지프라시돈을 방출하지만, 다른 기구는 시간의 함수로서 농도 구배 변화 또는 다공성을 유도하는 첨가제 용출 등과 같은 요인에 따라 달라질 수 있다.
지속 방출 코팅에 사용되는 폴리머는 반드시 생체적합성, 이상적으로는 생체분해성이어야 한다. Aquacoat®(FMC Corporation, Food & Pharmaceutical Products Division, Philadelphia, USA)(서브미크론 크기의 수성계 가성 라텍스 분산액으로 기계적 구형화된 에틸셀룰로스)와 같은 자연 발생의 폴리머, 및 Eudragit® (Rohm Pharma, Weiterstadt.) 계통의 폴리(아크릴레이트, 메타크릴레이트) 코폴리머와 같은 합성 폴리머의 예는 모두 당업계에 공지되어 있다.
저장기 장치
변성 방출을 위한 전형적인 시도는 약물 전체(예컨대 코어로서)를 폴리머 필름 또는 코팅 내에 캡슐화 또는 함유시키는 것이다(즉, 마이크로캡슐 또는 분무/팬 코팅된 코어).
확산 과정에 영향을 미칠 수 있는 다양한 요인은 저장기 장치에 쉽게 적용될 수 있고(예, 첨가제, 폴리머 작용기 {및 이에 따른 침투 용액 pH} 다공성, 필름 주조 조건 등의 효과), 이에 따라 폴리머의 선택은 저장기 장치의 개발에 중요한 사항이어야 한다. 지프라시돈의 수송이 용액-확산 기작에 의해 이루어지는 저장기 장치(및 모놀리식 장치)의 방출 특징에 대한 모델링은 관련 경계 조건에 대한 픽(Fick)의 제2 법칙(불안정 상태 조건; 농도 의존적 흐름)에 대한 해답을 필요로 한다. 이 장치가 용해된 활성제를 함유할 때, 방출 속도는 장치 내 활성제의 농도(활성)(즉, 방출 구동력)가 감소하는 바(즉, 1차 방출), 시간이 경과함에 따라 지수적으로 감소한다. 하지만, 활성제가 포화 현탁액에 있으면, 방출 구동력은 장치가 더 이상 포화 상태가 아닐 때까지 일정하게 유지된다. 대안적으로, 방출 속도 동역학은 탈착 조절될 수 있고, 시간의 제곱근의 함수일 수 있다.
코팅된 정제의 수송 성질은, 이후 정제로부터 투과물을 배출되게 하는 내부 삼투압을 증강시킬 수 있는 정제 코어(투과물)의 밀봉성으로 인해 자유 폴리머 필름에 비해 증강될 수 있다.
폴리(에틸렌 글리콜)(PEG) 함유 실리콘 탄성중합체에 코팅된 염 함유 정제에 미치는 탈이온수의 효과, 및 자유 필름에 미치는 물의 효과도 연구했다. 정제로부터 염의 방출은 코팅의 수화에 의해 형성된 수 충전 소공들을 통한 확산 및 삼투 펌핑의 혼합 작용인 것으로 관찰되었다. 겨우 10% PEG를 함유하는 필름을 통한 KCl 수송은 유사한 자유 필름에서 관찰되는 상당한 팽창에도 불구하고 미미한 정도였는데, 이것은 이후 트랜스포어 확산에 의해 일어나는 KCl의 방출에는 다공성이 반드시 필요하다는 것을 시사한다. 원반(disk)형의 코팅된 염 정제는 탈이온수 중에서 팽창하여 내부 정수압의 증강의 결과로서 편타원체로 형태가 변화하는 것으로 관찰되었고, 이러한 형태 변화는 발생된 힘을 측정하는 수단을 제공한다. 예측할 수 있듯이, 삼투력은 PEG 함량의 수준이 증가할수록 감소했다. 낮은 PEG 수준은 수화된 폴리머를 통해 물이 흡수되게 했고; 이에 반해 더 높은 수준의 PEG 함량(20 내지 40%)이 용해되어 있는 코팅 유래의 다공성은 그 압력이 KCl 흐름에 의해 경감되게 했다.
2종의 다른 염(예, KCl 및 NaCl)의 방출에 대한 모니터링(각각)에 의해, 정제로부터 염의 방출에 기여하는 삼투 펌핑과 트랜스포어 확산의 상대적 크기를 계산할 수 있게 한 방법과 방정식이 개발되었다. 낮은 PEG 수준에서, 삼투 흐름은 오로지 적은 소공 수 밀도의 발생으로 인한 트랜스포어 확산보다 삼투 흐름이 훨씬 더 크게 증가했다: 20% 적재 시, 두 기구가 방출에 기여하는 수준은 대략 동일했다. 하지만, 정수압의 증강은 삼투 유입물 및 삼투 펌핑을 감소시켰다. 더 높은 PEG 적재 시, 수화된 필름은 다공도가 커져 염의 유출에 대한 저항이 떨어졌다. 따라서, 삼투 펌핑이 증가(적은 적재량에 비해)할지라도, 트랜스포어 확산이 지배적인 방출 기작이었다. 삼투 방출 기작은 수용성 코어를 함유하는 마이크로캡슐에서도 보고되어 있다.
모놀리식 장치(매트릭스 장치)
모놀리식(매트릭스) 장치는 약물의 방출을 조절하는데 사용될 수 있다. 그 이유는 저장기 장치에 비해 제조하기가 비교적 쉽고, 저장기 장치의 막 파열로 초래될 수 있는 우연한 고 투약량의 위험이 없기 때문일 것이다. 이러한 장치에서, 활성제는 폴리머 매트릭스 내에 분산액으로서 존재하고, 보통 폴리머/약물 혼합물의 압착 또는 용해 또는 용융에 의해 제조된다. 모놀리식 장치의 투약량 방출성은 폴리머 매트릭스 내에 약물의 용해도에 따라 달라질 수 있고, 또는 다공성 매트릭스인 경우에는 약물이 폴리머에 분산되어 있는지 또는 폴리머에 용해되어 있는지의 여부에 따라, 입자의 소공 망구조 내에서의 침지 용액 중의 용해도 및 망구조의 왜곡성(필름의 투과성을 능가하는 정도)에 따라 달라질 수 있다. 약물의 적재량이 적은 경우(0 내지 5W/V%), 약물은 용액-확산 기구(소공의 부재 하에)에 의해 방출될 것이다. 많은 적재량(5 내지 10W/V%)에서는 방출 기구는 약물이 소실됨에 따라 장치의 표면 부근에 형성되는 공동의 존재로 인해 복잡해질 것이며; 이러한 공동은 주위의 유체로 채워져 약물의 방출 속도를 증가시킨다.
투과성을 증강시키기 위한 수단으로서, 매트릭스 장치( 및 저장기 장치)에 가소제(예, 폴리(에틸렌 글리콜)), 또는 계면활성제, 또는 보조약(즉, 효과를 증가시키는 성분)을 첨가하는 것(비록 이와 반대로 가소제가 일시적일 수 있고 단순히 필름 형성을 돕는 작용을 하고 폴리머 도료 코팅에 일반적으로 더 필요한 성질인 투과성을 감소시킬지라도)이 일반적이다. 특히, PEG의 용출은 다공도를 증가시켜 PEG 적재량의 함수로서 필름(에틸 셀룰로스)의 투과성을 증가시키는 작용을 하지만, 필름은 전해질의 수송을 허용하지 않는 차단성을 유지했다. 따라서, 이들의 투과성 증강은 PEG 용출에 의한 효과적인 두께 감소의 결과 때문인 것으로 추론되었다. 이것은 50W/W% PEG 적재량에서 필름 두께 역수와 시간의 함수로서 단위 면적당 투과물 누적량의 플롯으로부터 증명되었다: 플롯은 균일한 막에서 (픽의) 용액-확산형 수송 기구에 의해 예상되듯이, 투과율과 필름 두께 역수 사이에 직선 관계를 보여준다. 시간 축에 대한 그래프의 직선 영역의 외삽은 시간 축에 양의 절편을 제공했고, 그 크기는 필름 두께가 감소함에 따라 0쪽으로 감소했다. 이와 같이 변화하는 지체 시간은 실험 초기 단계 중에 두 확산 흐름(지프라시돈의 흐름과 PEG의 흐름)의 발생, 및 필름에 투과물의 농도가 증가되는 동안의 더 일반적인 지체 시간 때문인 것으로 생각되었다. 투과물로서 사용된 카페인은 음의 지체 시간을 나타냈다. 이에 대한 설명은 준비되지 않았지만, 카페인이 이 시스템에서 낮은 분배 계수를 나타내기 때문인 것으로 생각되며, 이는 유사한 음의 지체 시간을 나타내는 폴리에틸렌 필름을 통한 아닐린 침투의 특징이기도 하다.
매트릭스(소수성) 장치에 첨가된 계면활성제의 효과에 대해서도 연구했다. 계면활성제는 다음과 같은 3가지 가능한 기작에 의해 약물 방출 속도를 증가시킬 수 있는 것으로 생각되었다: (i) 가용화 증가, (ii) 용해 매질에 대한 "습윤성" 개선, 및 (iii) 계면활성제 용출의 결과로서 소공 형성. 연구된 시스템(소르비톨에 의해 가소화된 Eudragit® RL 100 및 RS 100, 약물로서 플루비프로펜, 계면활성제의 일 종류)에서는 Eudragit® RL보다 Eudragit® RS가 나타내는 효과가 더 크기는 하지만 정제의 습윤성 개선이 지프라시돈 방출을 부분적으로만 향상시킨 반면(이는 방출이 용해보다는 확산 조절성임을 암시한다), 방출에 가장 큰 영향을 미치는 것은 매트릭스 안으로 용해 매질을 접근시키는 매트릭스의 붕괴 형성으로 인해 더욱 용해성인 계면활성제라는 결론을 얻었다. 이것은 폴리머 라텍스가 계면활성제 무첨가 시에 반해 계면활성제 첨가 시 제조될 수 있는 용이성으로 인해 약학적 코팅에 적합할지도 모르는 라텍스 필름의 연구와 분명한 관련이 있다. 두 폴리머 사이에 차이가 관찰되었고, Eudragit® RS만이 음이온/양이온 계면활성제와 약물 사이에 상호작용을 나타냈다. 이것은 폴리머에 존재하는 4차 암모늄 이온의 수준이 다르기 때문이었다.
폴리머/약물을 함유하지 않는 폴리머에 코팅된 약물 매트릭스로 이루어진 복합 장치도 존재한다. 이러한 장치는 수성 Eudragit® 라텍스로 제조했고, 코어로부터 외피를 통해 약물이 확산되어 연속식 방출을 제공하는 것으로 관찰되었다. 이와 마찬가지로, 약물을 함유하는 폴리머 코어도 제조했지만, 이 코어는 위액에 의해 침식되는 외피로 코팅했다. 이 약물의 방출 속도는 비교적 직선성(외피를 통한 속도 제한 확산 과정의 함수)이며 외피 두께에 반비례하는 것으로 관찰된 반면, 코어만으로부터의 방출은 시간이 경과함에 따라 감소하는 것으로 관찰되었다.
마이크로구
중공의 마이크로구의 제조 방법은 개시된 바 있다. 중공 마이크로구는 약물과 폴리머를 함유하는 에탄올/디클로로메탄 용액을 제조하여 수득했다. 물에 투입 시, 코아세르베이션식 과정에 의해 폴리머/약물/용매 입자가 분산된 에멀젼이 형성되었고, 이로부터 에탄올(상기 폴리머에 양호한 용매)은 소적의 표면에 침전성 폴리머를 빠르게 확산시켜, 디클로로메탄에 용해된 약물을 밀봉한 경질 외피를 가진 입자를 제공했다. 그 후, 입자 내에서는 디클로로메탄의 기상이 발생했고, 외피를 통해 확산한 후, 수성상의 표면에 기포를 발생시키는 것으로 관찰되었다. 그 다음, 중공 구에 건조 기간 동안 제거될 수 있는 물을 감압 하에 충전시켰다. 물에서는 어떠한 약물도 관찰되지 않았다. 고도의 다공성 매트릭스형 마이크로구도 개시되어 있다. 매트릭스형 마이크로구는 에탄올에 약물과 폴리머를 용해시켜 제조했다. 물에 첨가하자마자, 에탄올은 에멀젼 소적으로부터 확산되어 높은 다공성 입자를 형성시켰다. 마이크로구의 제안된 용도에는 위에 사용되는 부유형 약물 전달 장치가 있다.
분지형 장치(pendant device)
진통제 및 항우울제 등과 같은 약물 계통을, 수성 에멀젼 중합법으로 제조한 폴리(아크릴레이트) 에스테르 라텍스 입자에 에스테르 결합을 통해 부착시키는 수단은 개발되어 있다. 이러한 라텍스는 폴리머 말단 기를 강산 형태로 변환시키기 위해 이온 교환 수지를 통해 통과시킬 때 에스테르 결합의 가수분해에 의한 약물의 방출을 자가 촉진(self-catalyse)할 수 있다.
약물은 폴리머에 부착된 바 있고, 또한 분지형 약물을 부착시킨 모노머도 합성된 바 있다. 또한, 약물을 불안정한 화학적 결합에 의해 생체적합성 폴리머에 결합시킨 투약 형태도 제조했다. 예컨대 치환된 무수물로부터 제조된 폴리안하이드라이드(약물과 산 염화물을 반응시켜 제조한 화합물 자체: 메타크릴로일 클로라이드 및 메톡시 벤조산의 나트륨염)는 위액에서 가수분해 시 약물을 방출하는 제2 폴리머(Eudragit® RL)와 매트릭스를 형성하는데 사용되었다. 또한, 약학적 아민의 담체로서 사용하기에 적합한 폴리머 쉬프 염기의 사용에 대해서도 기술되어 있다.
장용 필름
장용 코팅은 pH 민감성 폴리머로 이루어진다. 통상, 이러한 폴리머는 카르복시화되어 있고, 낮은 pH에서는 물과 거의 상호작용하지 않지만, 높은 pH에서는 이온화하여 폴리머의 팽창 또는 용해를 일으킨다. 따라서, 코팅은 위의 산성 환경에서는 본래 상태를 유지하지만(이 환경으로부터 약물을 보호하거나 또는 약물로부터 위를 보호하여), 더 알칼리성인 장의 환경에서는 용해되도록 설계될 수 있다.
삼투 조절 장치
삼투 펌프는 저장기 장치와 유사하지만, 반투과성 막을 통해 주위 매질로부터 물을 흡수하는 작용을 하는 삼투제(예, 염 형태의 활성제)를 함유한다. 이러한 장치는 기술된 바 있고, '기본적인 삼투 펌프'라 불린다. 이 장치에서는 압력이 발생하여 활성제를 오리피스(삼투압 감소 효과 및 장치의 치수를 변화시키는 효과가 있는 정수압 헤드의 증강을 방지하면서 용질 확산을 최소화하도록 설계된 크기를 가진 것)를 통해 장치로부터 밀어낸다. 장치의 내부 부피는 일정하게 유지되지만, 장치에 과량의 고체 또는 포화 용액이 존재하고, 용매 유입 부피와 동일한 부피를 전달하여 방출 속도는 일정하게 유지된다.
전기 자극식 방출 장치
모놀리식 장치는 다전해질 겔을 이용하여 제조된 바 있고, 이는 예컨대 외부 전기 자극이 적용되었을 때 팽창하여 pH의 변화를 일으킨다. 방출은 적용된 전류에 의해 변조되어 일정한 방출 프로필 또는 박동식 방출 프로필을 제공할 수 있다.
하이드로겔
하이드로겔은 약물 매트릭스로서의 용도외에도 많은 생물의학 용도에 사용되고 있다(예, 소프트 콘택트렌즈, 및 각종 소프트 임플란트 등).
III. 지프라시돈 함유 변성 방출 조성물의 사용 방법
본 발명의 또 다른 관점에 따르면, 본 발명에 따른 조성물의 치료적 유효량을 고체 경구 투약 형태로 투여하는 단계를 포함하는, 정신분열증 또는 유사 정신 장애를 앓고 있는 환자의 치료 방법이 제공된다. 본 발명에 따른 방법의 장점은 종래 복수 IR 투약 섭생에서 필요로 하는 투여 빈도의 감소와 동시에, 박동식 혈장 프로필 유래의 장점을 유지시키거나 또는 혈장 농도 수준의 변동을 없애거나 최소화하는 점을 포함한다. 이와 같은 용량투여 빈도의 감소는 환자의 순응도 측면에서 유리하며, 본 발명의 방법에 의해 가능해진 투약 빈도의 감소는 보건 종사자들이 지프라시돈 투여에 소비하는 시간의 양을 줄여 보건비 감소에 기여할 것이다.
이하 실시예에서, 모든 백분율은 다른 언급이 없는 한 중량/중량을 기준으로 한다. 실시예 전반에 사용된 "정제수"란 용어는 정수 시스템을 통해 정제한 물을 의미한다. 이러한 실시예들은 단지 예증을 위한 것뿐이며, 이하 청구의 범위에 의해 정의되는 본 발명의 취지와 범주를 제한하는 것으로 해석되어서는 아니 된다.
실시예 1 내지 4는 예시적인 지프라시돈 정제 포뮬레이션을 제공한다. 이 실시예들은 어떠한 관점에서든지 청구의 범위를 제한하기 위해 의도된 것이 아니며, 본 발명의 방법에 이용될 수 있는 지프라시돈의 예시적인 정제 포뮬레이션을 제공하기 위한 것뿐이다. 이러한 예시적인 정제는 추가로 코팅제를 포함할 수 있다.
실시예 1
나노입자형 지프라시돈 정제 포뮬레이션 #1
성분 g/kg
지프라시돈 약 50 내지 약 500
하이프로멜로스, USP 약 10 내지 약 70
도큐세이트 소듐, USP 약 1 내지 약 10
수크로스, NF 약 100 내지 약 500
소듐 라우릴 설페이트, NF 약 1 내지 약 40
락토스 일수화물, NF 약 50 내지 약 400
규화된 미세결정형 셀룰로스 약 50 내지 약 300
크로스포비돈, NF 약 20 내지 약 300
마그네슘 스테아레이트, NF 약 0.5 내지 약 5
실시예 2
나노입자형 지프라시돈 정제 포뮬레이션 #2
성분 g/kg
지프라시돈 약 100 내지 약 300
하이프로멜로스, USP 약 30 내지 약 50
도큐세이트 소듐, USP 약 0.5 내지 약 10
수크로스, NF 약 100 내지 약 300
소듐 라우릴 설페이트, NF 약 1 내지 약 30
락토스 일수화물, NF 약 100 내지 약 300
규화된 미세결정형 셀룰로스 약 50 내지 약 200
크로스포비돈, NF 약 50 내지 약 200
마그네슘 스테아레이트, NF 약 0.5 내지 약 5
실시예 3
나노입자형 지프라시돈 정제 포뮬레이션 #3
성분 g/kg
지프라시돈 약 200 내지 약 225
하이프로멜로스, USP 약 42 내지 약 46
도큐세이트 소듐, USP 약 2 내지 약 6
수크로스, NF 약 200 내지 약 225
소듐 라우릴 설페이트, NF 약 12 내지 약 18
락토스 일수화물, NF 약 200 내지 약 205
규화된 미세결정형 셀룰로스 약 130 내지 약 135
크로스포비돈, NF 약 112 내지 약 118
마그네슘 스테아레이트, NF 약 0.5 내지 약 3
실시예 4
나노입자형 지프라시돈 정제 포뮬레이션 #4
성분 g/kg
지프라시돈 약 119 내지 약 224
하이프로멜로스, USP 약 42 내지 약 46
도큐세이트 소듐, USP 약 2 내지 약 6
수크로스, NF 약 119 내지 약 224
소듐 라우릴 설페이트, NF 약 12 내지 약 18
락토스 일수화물, NF 약 119 내지 약 224
규화된 미세결정형 셀룰로스 약 129 내지 약 134
크로스포비돈, NF 약 112 내지 약 118
마그네슘 스테아레이트, NF 약 0.5 내지 약 3
실시예 5
지프라시돈을 함유하는 다입자형 변성 방출 조성물
지프라시돈을 함유하는 변성 방출 부재와 즉시 방출 부재를 함유하는 본 발명에 따른 다입자형 변성 방출 조성물은 다음과 같이 제조했다.
(a) 즉시 방출(IR) 부재
지프라시돈 용액은 표 1에 제시된 임의의 포뮬레이션에 따라 제조했다. 그 다음, 즉시 방출 부재의 IR 입자를 제조하기 위해, Glatt GPCG3(Glatt, Protech Ltd., Leicester, UK) 유체 베드 코팅 장치 등을 이용하여 메틸페니데이트 용액을 최고의 시드(seed) 위에 약 16.9% 고형물 중량 증가 수준이 되도록 코팅했다.
즉시 방출 부재 용액
함량 (w/w)%
성분 (i) (ii)
지프라시돈 13.0 13.0
폴리에틸렌 글리콜 6000 0.5 0.5
폴리비닐피롤리돈 3.5
정제수 83.5 86.5
(b) 변성 방출 부재
지프라시돈 함유 지연 방출 입자는 상기 실시예 5(a)에 따라 제조한 즉시 방출 입자를 표 2에 상세히 나타낸 변성 방출 코팅 용액으로 코팅하여 제조했다. 즉시 방출 입자는 유체 베드 장치 등을 이용하여 약 30% 중량 증가 이하의 다양한 수준으로 코팅했다.
Figure 112008003946633-PCT00002
(c) 즉시 및 지연 방출 입자의 캡슐화
상기 실시예 5(a) 및 (b)에 따라 제조한 즉시 및 지연 방출 입자는 Bosch GKF 4000S 캡슐화 장치 등을 이용하여 총 20mg 투약 강도가 되도록 크기 2의 경질 젤라틴 캡슐에 캡슐화했다. 총 투약 강도 20mg의 지프라시돈은 즉시 방출 부재 유래의 10mg 및 변성 방출 부재 유래의 10mg으로 구성되었다.
실시예 6
지프라시돈을 함유하는 다입자형 변성 방출 조성물
변성 방출 매트릭스 물질을 보유한 변성 방출 부재와 즉시 방출 부재를 보유하는 본 발명에 따른 다입자형 변성 방출 지프라시돈 조성물은 이하 표 3(a) 및 3(b)에 제시된 포뮬레이션에 따라 제조했다.
[표 3(a)]
100mg의 IR 부재는 100mg의 변성 방출(MR) 부재로 캡슐화하여 20mg 투약 강도 산물을 제공함
IR 부재 (w/w)%
지프라시돈 10
미세결정형 셀룰로스 40
락토스 45
포비돈 5
MR 부재
지프라시돈 10
미세결정형 셀룰로스 40
Eudragit® RS 45
포비돈 5
[표 3(b)]
50mg의 IR 부재는 50mg의 변성 방출(MR) 부재로 캡슐화하여 20mg 투약 강도의 산물을 제공함
IR 부재 (w/w)%
지프라시돈 20
미세결정형 셀룰로스 50
락토스 28
포비돈 2
MR 부재
지프라시돈 20
미세결정형 셀룰로스 50
Eudragit® S 28
포비돈 2
실시예 7
본 실시예의 목적은 나노입자형 지프라시돈 조성물을 제조할 수 있는 방법을 설명하는 것이다.
하이드록시프로필 셀룰로스(HPC-SL) 및 디옥틸설포숙시네이트(DOSS)와 같은 1종 이상의 표면 안정제와 조합된 5%(w/w) 지프라시돈의 수성 분산액은 500 미크론 PolyMill® 마찰 매체(Dow Chemical Co.)(89% 매체 적재량)와 함께 NanoMill® 0.01(NanoMill Systems, King of Prussia, PA; 예컨대, 미국 특허 6,431,478 참조)의 10ml 챔버 내에서 밀링했다. 예시적 공정에서, 혼합물은 2500rpm의 밀 속도하에 60분 동안 밀링했다.
밀링 후, 밀링된 지프라시돈 입자의 입자 크기는 Horiba LA-910 입자 크기 분석기를 이용하여 탈이온 증류수에서 측정했다. 성공적인 조성물에서, 초기 평균값 및/또는 D50 밀링된 지프라시돈 입자 크기는 2000nm 미만인 것으로 추정되었다.
당업자라면, 본 발명의 방법과 조성물에 대하여 본 발명의 취지 또는 범주를 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변성과 변경이 이루어질 수 있음을 잘 알고 있을 것이다. 따라서, 이러한 변성과 변경이 첨부되는 청구의 범위 및 이의 등가물에 속하는 것이라면, 본 발명은 이러한 본 발명의 변성과 변경을 포함하는 것으로 간주되어야 한다.

Claims (91)

  1. (A) 유효 평균 입자 크기가 직경이 약 2000nm 미만인 지프라시돈을 함유하는 입자; 및 (B) 1종 이상의 표면 안정제를 포함하는 안정한 나노입자형 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 입자가 결정상, 무정형상, 반결정상, 반무정형상 또는 이의 혼합물인 것인 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 입자의 유효 평균 입자 크기가 직경이 약 1900nm 미만, 약 1800nm 미만, 약 1700nm 미만, 약 1600nm 미만, 약 1500nm 미만, 약 1400nm 미만, 약 1300nm 미만, 약 1200nm 미만, 약 1100nm 미만, 약 1000nm 미만, 약 900nm 미만, 약 800nm 미만, 약 700nm 미만, 약 600nm 미만, 약 500nm 미만, 약 400nm 미만, 약 300nm 미만, 약 250nm 미만, 약 200nm 미만, 약 100nm 미만, 약 75nm 미만 및 약 50nm 미만으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 조성물이
    (A) 주사, 경구, 질, 비측, 직장, 귀, 눈, 국부, 협측, 수조내, 복강내 또는 국소 투여로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 투여용으로 조제되거나;
    (B) 정제, 캡슐, 향낭, 용액, 분산액, 겔, 에어로졸, 연고, 크림 및 이의 혼합 제형으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 투약 형태로 조제되거나;
    (C) 조절 방출 포뮬레이션, 고속 용융 포뮬레이션, 동결건조 포뮬레이션, 지연 방출 포뮬레이션, 연속 방출 포뮬레이션, 박동성 방출 포뮬레이션, 및 즉시 방출과 조절 방출의 복합 포뮬레이션으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 투약 형태로 조제되거나; 또는
    (D) 상기 (A), (B) 또는 (C)의 임의의 조합으로 조제되는 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 추가로 1종 이상의 약학적 허용성 부형제, 담체 또는 이의 조합을 포함하는 것인, 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    (A) 지프라시돈이 다른 부형제를 제외한 조성물 중의 표면 안정제와 지프라시돈의 혼합 총 건조 중량을 기준으로 약 99.5중량% 내지 약 0.001중량%, 약 95중량% 내지 약 0.1중량%, 및 약 90중량% 내지 약 0.5중량%로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 함량으로 조성물에 존재하거나;
    (B) 표면 안정제 또는 표면 안정제들이 다른 부형제를 제외한 조성물 중의 표면 안정제와 지프라시돈의 혼합 총 건조 중량을 기준으로 약 0.5중량% 내지 약 99.999중량%, 약 5.0중량% 내지 약 99.9중량%, 또는 약 10중량% 내지 약 99.5중량%의 총 함량으로 존재하거나; 또는
    (C) 상기 (A)와 (B)의 조합인 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 표면 안정제가 비이온성 표면 안정제, 음이온성 표면 안정제, 양이온성 표면 안정제, 양쪽이온성 표면 안정제 및 이온성 표면 안정제로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 표면 안정제가 세틸 피리디늄 클로라이드, 젤라틴, 카세인, 포스파티드, 덱스트란, 글리세롤, 아카시아검, 콜레스테롤, 트라가칸트, 스테아르산, 벤즈알코늄 클로라이드, 칼슘 스테아레이트, 글리세롤 모노스테아레이트, 세토스테아릴 알콜, 세토마크로골 이멀싱파잉 왁스(cetomacrogol emulsifying wax), 소르비탄 에스테르, 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르, 폴리옥시에틸렌 피마자유(castor oil) 유도체, 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리에틸렌 글리콜, 도데실 트리메틸 암모늄 브로마이드, 폴리옥시에틸렌 스테아레이트, 콜로이드형 실리콘 다이옥사이드, 포스페이트, 소듐 도데실설페이트, 카르복시메틸셀룰로스 칼슘, 하이드록시프로필 셀룰로스, 하이프로멜로스, 카르복시메틸셀룰로스 소듐, 메틸셀룰로스, 하이드록시에틸셀룰로스, 하이프로멜로스 프탈레이트, 비결정형 셀룰로스, 마그네슘 알루미늄 실리케이트, 트리에탄올아민, 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 에틸렌 옥사이드와 포름알데히드를 포함하는 4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페놀 폴리머, 폴록사머; 폴록사민, 하전성 인지질, 디옥틸설포숙시네이트, 소듐 설포숙신산의 디알킬에스테르, 소듐 라우릴 설페이트, 알킬 아릴 폴리에테르 술포네이트, 수크로스 스테아레이트와 수크로스 디스테아레이트의 혼합물, p-이소노닐페녹시폴 리-(글리시돌), 데카노일-N-메틸글루카미드; n-데실 β-D-글루코피라노사이드; n-데실 β-D-말토피라노사이드; n-도데실 β-D-글루코피라노사이드; n-도데실 β-D-말토사이드; 헵타노일-N-메틸글루카미드; n-헵틸-β-D-글루코피라노사이드; n-헵틸 β-D-티오글루코사이드; n-헥실 β-D-글루코피라노사이드; 노나노일-N-메틸글루카미드; n-노일 β-D-글루코피라노사이드; 옥타노일-N-메틸글루카미드; n-옥틸-β-D-글루코피라노사이드; 옥틸 β-D-티오글루코피라노사이드; 리소자임, PEG-인지질, PEG-콜레스테롤, PEG-콜레스테롤 유도체, PEG-비타민 A, PEG-비타민 E, 리소자임, 비닐피롤리돈과 비닐 아세테이트의 랜덤 코폴리머(random copolymer), 양이온성 폴리머, 양이온성 바이오폴리머, 양이온성 폴리사카라이드, 양이온성 셀룰로스 화합물(cellulosic), 양이온성 알기네이트, 양이온성 비폴리머 화합물, 양이온성 인지질, 양이온성 지질, 폴리메틸메타크릴레이트 트리메틸암모늄 브로마이드, 설포늄 화합물, 폴리비닐피롤리돈-2-디메틸아미노에틸 메타크릴레이트 디메틸 술페이트, 헥사데실트리메틸 암모늄 브로마이드, 포스포늄 화합물, 4차 암모늄 화합물, 벤질-디(2-클로로에틸)에틸암모늄 브로마이드, 코코넛 트리메틸 암모늄 클로라이드, 코코넛 트리메틸 암모늄 브로마이드, 코코넛 메틸 디하이드록시에틸 암모늄 클로라이드, 코코넛 메틸 디하이드록시에틸 암모늄 브로마이드, 데실 트리에틸 암모늄 클로라이드, 데실 디메틸 하이드록시에틸 암모늄 클로라이드, 데실 디메틸 하이드록시에틸 암모늄 클로라이드 브로마이드, C12-15 디메틸 하이드록시에틸 암모늄 클로라이드, C12-15 디메틸 하이드록시에틸 암모늄 클로라이드 브로마이드, 코코넛 디메틸 하 이드록시에틸 암모늄 클로라이드, 코코넛 디메틸 하이드록시에틸 암모늄 브로마이드, 미리스틸 트리메틸 암모늄 메틸 설페이트, 라우릴 디메틸 벤질 암모늄 클로라이드, 라우릴 디메틸 벤질 암모늄 브로마이드, 라우릴 디메틸(에테녹시)4 암모늄 클로라이드, 라우릴 디메틸(에테녹시)4 암모늄 브로마이드, N-알킬 (C12-18)디메틸벤질 암모늄 클로라이드, N-알킬 (C14-18)디메틸-벤질 암모늄 클로라이드, N-테트라데실디메틸벤질 암모늄 클로라이드 모노하이드레이트, 디메틸 디데실 암모늄 클로라이드, N-알킬 및 (C12-14) 디메틸 1-나프틸메틸 암모늄 클로라이드, 트리메틸암모늄 할라이드, 알킬-트리메틸암모늄 염, 디알킬-디메틸암모늄 염, 라우릴 트리메틸 암모늄 클로라이드, 에톡시화된 알킬아미도알킬디알킬암모늄 염, 에톡시화된 트리알킬 암모늄 염, 디알킬벤젠 디알킬암모늄 클로라이드, N-디데실디메틸 암모늄 클로라이드, N-테트라데실디메틸벤질 암모늄 클로라이드 모노하이드레이트, N-알킬(C12-14) 디메틸 1-나프틸메틸 암모늄 클로라이드, 도데실디메틸벤질 암모늄 클로라이드, 디알킬 벤젠알킬 암모늄 클로라이드, 라우릴 트리메틸 암모늄 클로라이드, 알킬벤질 메틸 암모늄 클로라이드, 알킬 벤질 디메틸 암모늄 브로마이드, C12 트리메틸 암모늄 브로마이드, C15 트리메틸 암모늄 브로마이드, C17 트리메틸 암모늄 브로마이드, 도데실벤질 트리에틸 암모늄 클로라이드, 폴리-디알릴디메틸암모늄 클로라이드(DADMAC), 디메틸 암모늄 클로라이드, 알킬디메틸암모늄 할로게나이드, 트리세틸 메틸 암모늄 클로라이드, 데실트리메틸암모늄 브로마이드, 도데실트리에틸암모늄 브로마이드, 테트라데실트리메틸암모늄 브로마이드, 메틸 트리옥틸암모늄 클로라이드, 폴리쿼트 10(POLYQUAT 10™), 테트라부틸암모늄 브로마이드, 벤질트리메틸암모늄 브로마이드, 콜린 에스테르, 벤즈알코늄 클로라이드, 스테아르알코늄 클로라이드 화합물, 세틸 피리디늄 브로마이드, 세틸 피리디늄 클로라이드, 4차화된(quaternized) 폴리옥시에틸알킬아민의 할라이드 염, 미라폴(MIRAPOL™) 및 알카쿼트(ALKAQUAT™), 알킬 피리디늄 염; 아민, 아민 염, 아민 옥사이드, 이미드 아졸리늄 염, 양성자화된 4차 아크릴아미드, 메틸화된 4차 폴리머 및 양이온성 구아(cationic guar)로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 조성물이 급식 상태 하에 투여되었을 때, 절식 상태에 비해 유의적으로 다른 흡수 수준을 나타내지 않는 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 절식 상태의 검체에 대한 조성물의 투여가 급식 상태의 검체에 대한 조성물의 투여와 생물학적 등가성인 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 조성물의 약동학적 프로필이 이 조성물을 복용한 검체의 급식 또는 절식 상태에 따라 유의적인 영향을 받지 않는 조성물.
  12. 제1항에 있어서, 조성물을 포유동물에게 투여할 때, 조성물이 지프라시돈의 비나노입자 투약 형태보다 낮은 투약량에서 치료 결과를 나타내는 것인, 조성물.
  13. 제1항에 있어서,
    (a) 투여 후 포유동물 검체의 혈장에서 분석했을 때, 동일한 투약량으로 투여한 동일한 지프라시돈의 비나노입자형 포뮬레이션의 Cmax보다 큰 지프라시돈의 Cmax;
    (b) 투여 후 포유동물 검체의 혈장에서 분석했을 때, 동일한 투약량으로 투여한 동일한 지프라시돈의 비나노입자형 포뮬레이션의 AUC보다 큰 지프라시돈의 AUC;
    (c) 투여 후 포유동물 검체의 혈장에서 분석했을 때, 동일한 투약량으로 투여한 동일한 지프라시돈의 비나노입자형 포뮬레이션의 Tmax보다 적은 지프라시돈의 Tmax; 또는
    (d) 상기 (a), (b) 및 (c)의 임의의 조합을 나타내는, 조성물.
  14. 제1항에 있어서, 추가로 정신분열증 및 유사 정신 장애의 예방 및 치료에 유용한 1종 이상의 활성 화합물을 포함하는 조성물.
  15. 제14항에 있어서, 1종 이상의 활성 화합물이 두통, 동통, 열 및 이의 복합 증상으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 증상의 치료에 유용한 화합물로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 것인 조성물.
  16. 제1항에 있어서, 입자가 지프라시돈을 함유하는 저장기를 담고 있고, 이 저장기가 상기 입자 내로 물의 흡수를 허용하여 그 입자로부터 지프라시돈을 배출시키는 압력을 발생시키는 반투과성 막에 의해 둘러싸여 있는 조성물.
  17. 제1항에 있어서, 저장기가 삼투제를 추가로 포함하는 조성물.
  18. 유효 평균 입자 크기가 직경이 약 2000nm 미만인 지프라시돈을 포함하는 나노입자형 조성물을 제공하기에 충분한 시간과 조건 하에서 지프라시돈을 함유하는 입자와 1종 이상의 표면 안정제를 접촉시키는 것을 포함하는, 제1항에 기재된 조성물의 제조방법.
  19. 제18항에 있어서, 접촉시키는 것이 연마, 습윤 연마, 균질화, 침전, 주형 에멀젼 또는 초임계 유체 입자 생성 기술을 포함하는 것인 제조방법.
  20. 제18항에 있어서, 나노입자형 입자의 유효 평균 입자 크기가 직경이 약 1900nm 미만, 약 1800nm 미만, 약 1700nm 미만, 약 1600nm 미만, 약 1500nm 미만, 약 1400nm 미만, 약 1300nm 미만, 약 1200nm 미만, 약 1100nm 미만, 약 1000nm 미만, 약 900nm 미만, 약 800nm 미만, 약 700nm 미만, 약 600nm 미만, 약 500nm 미만, 약 400nm 미만, 약 300nm 미만, 약 250nm 미만, 약 200nm 미만, 약 100nm 미 만, 약 75nm 미만 및 약 50nm 미만으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 제조방법.
  21. 제1항에 기재된 조성물을 투여하는 것을 포함하는 정신분열증 또는 유사 정신 장애의 예방 및/또는 치료 방법.
  22. 제21항에 있어서, 입자의 유효 평균 입자 크기가 직경이 약 1900nm 미만, 약 1800nm 미만, 약 1700nm 미만, 약 1600nm 미만, 약 1500nm 미만, 약 1400nm 미만, 약 1300nm 미만, 약 1200nm 미만, 약 1100nm 미만, 약 1000nm 미만, 약 900nm 미만, 약 800nm 미만, 약 700nm 미만, 약 600nm 미만, 약 500nm 미만, 약 400nm 미만, 약 300nm 미만, 약 250nm 미만, 약 200nm 미만, 약 100nm 미만, 약 75nm 미만 및 약 50nm 미만으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 것인 방법.
  23. 활성 성분 함유 입자의 제1 부재 및 활성 성분 함유 입자의 적어도 하나의 후속 부재를 포함하는 약학 조성물로서, 상기 부재 중 적어도 하나는 지프라시돈을 함유하고 상기 부재 중 적어도 하나는 검체에게 조성물의 경구 전달 후, 조성물이 활성 성분을 이정점식 또는 다정점식으로 전달하도록 변성 방출 코팅, 변성 방출 매트릭스 물질 또는 이 둘 모두를 추가로 포함하는 약학 조성물.
  24. 제23항에 있어서, 각 부재가 지프라시돈 함유 입자를 포함하는 조성물.
  25. 제23항에 있어서, 지프라시돈 함유 입자의 제1 부재 및 지프라시돈 함유 입자의 하나의 후속 부재를 포함하는 조성물.
  26. 제25항에 있어서, 제1 부재가 즉시 방출 부재를 포함하고, 제2 부재가 변성 방출 부재를 포함하는, 조성물.
  27. 제23항에 있어서, 활성 성분 함유 입자가 침식성인 조성물.
  28. 제23항에 있어서, 적어도 하나의 부재가 추가로 변성 방출 코팅을 함유하는 조성물.
  29. 제23항에 있어서, 적어도 하나의 부재가 추가로 변성 방출 매트릭스 물질을 함유하는 조성물.
  30. 제29항에 있어서, 변성 방출 매트릭스 물질이 친수성 폴리머, 소수성 폴리머, 천연 폴리머, 합성 폴리머 및 이의 혼합물로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 것인, 조성물.
  31. 제30항에 있어서, 지프라시돈이 침식에 의해 주위 환경으로 방출되는 조성 물.
  32. 제31항에 있어서, 추가로 증강제를 포함하는 조성물.
  33. 제30항에 있어서, 약 0.1mg 내지 약 1g의 지프라시돈을 함유하는 조성물.
  34. 활성 성분 함유 입자의 제1 부재 및 활성 성분 함유 입자의 적어도 하나의 후속 부재를 포함하는 약학 조성물로서, 상기 부재 중 적어도 하나는 지프라시돈을 함유하고 상기 부재 중 적어도 하나는 검체에게 조성물의 경구 전달 후, 조성물이 활성 성분을 연속식으로 전달하도록 변성 방출 코팅, 변성 방출 매트릭스 물질 또는 이 둘 모두를 추가로 포함하는 약학 조성물.
  35. 제34항에 있어서, 각 부재가 지프라시돈 함유 입자를 포함하는 조성물.
  36. 제34항에 있어서, 지프라시돈 함유 입자의 제1 부재 및 지프라시돈 함유 입자의 하나의 후속 부재를 포함하는 조성물.
  37. 제36항에 있어서, 제1 부재가 즉시 방출 부재를 포함하고, 제2 부재가 변성 방출 부재를 포함하는, 조성물.
  38. 제34항에 있어서, 활성 성분 함유 입자가 침식성인 조성물.
  39. 제34항에 있어서, 적어도 하나의 부재가 추가로 변성 방출 코팅을 함유하는 조성물.
  40. 제34항에 있어서, 적어도 하나의 부재가 추가로 변성 방출 매트릭스 물질을 함유하는 조성물.
  41. 제40항에 있어서, 변성 방출 매트릭스 물질이 친수성 폴리머, 소수성 폴리머, 천연 폴리머, 합성 폴리머 및 이의 혼합물로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 것인, 조성물.
  42. 제41항에 있어서, 지프라시돈이 침식에 의해 주위 환경으로 방출되는 조성물.
  43. 제42항에 있어서, 추가로 증강제를 포함하는 조성물.
  44. 제41항에 있어서, 약 0.1mg 내지 약 1g의 지프라시돈을 함유하는 조성물.
  45. 제23항에 기재된 조성물을 함유하는 투약 형태.
  46. 제45항에 있어서, 경질 젤라틴 또는 연질 젤라틴 캡슐에 함유된 활성 성분 함유 입자의 블렌드를 포함하는 투약 형태.
  47. 제46항에 있어서, 활성 성분 함유 입자가 미니정제 형태이고 캡슐이 미니정제의 혼합물을 함유하는 투약 형태.
  48. 제47항에 있어서, 정제 형태인 투약 형태.
  49. 제48항에 있어서, 지프라시돈 함유 입자가 고속 용해성 투약 형태로 제공되는, 투약 형태.
  50. 제48항에 있어서, 정제가 고속 용융 정제인 투약 형태.
  51. 제34항에 기재된 조성물을 함유하는 투약 형태.
  52. 제51항에 있어서, 경질 젤라틴 또는 연질 젤라틴 캡슐에 함유된 활성 성분 함유 입자의 블렌드를 포함하는 투약 형태.
  53. 제52항에 있어서, 활성 성분 함유 입자가 미니정제 형태이고 캡슐이 미니정제의 혼합물을 함유하는 투약 형태.
  54. 제53항에 있어서, 정제 형태인 투약 형태.
  55. 제54항에 있어서, 지프라시돈 함유 입자가 고속 용해성 투약 형태로 제공되는, 투약 형태.
  56. 제54항에 있어서, 정제가 고속 용융 정제인 투약 형태.
  57. 제23항에 기재된 조성물의 치료적 유효량을 투여하는 단계를 포함하는, 정신분열증 또는 유사 정신 장애의 예방 및/또는 치료 방법.
  58. 제34항에 기재된 조성물의 치료적 유효량을 투여하는 단계를 포함하는, 정신분열증 또는 유사 정신 장애의 예방 및/또는 치료 방법.
  59. 제28항에 있어서, 변성 방출 코팅이 조성물을 환자에게 투여한 후 6 내지 12시간의 시간 지연 후 환자 중에 활성 성분의 펄스를 방출시키는 pH 의존적 폴리머 코팅을 포함하는, 조성물.
  60. 제59항에 있어서, 폴리머 코팅이 메타크릴레이트 코폴리머를 포함하는, 조성물.
  61. 제59항에 있어서, 폴리머 코팅이 적어도 약 6 시간의 시간 지연 후 활성 성분의 펄스를 제공하기에 충분한 비율로 메타크릴레이트와 암모니오 메타크릴레이트 코폴리머의 혼합물을 포함하는 조성물.
  62. 제61항에 있어서, 메타크릴레이트와 암모니오 메타크릴레이트 코폴리머의 비율이 약 1:1인 조성물.
  63. 제39에 있어서, 변성 방출 코팅이 조성물을 환자에게 투여한 후 약 6 내지 약 12시간의 시간 지연 후 환자 중에 활성 성분의 펄스를 방출시키는 pH 의존적 폴리머 코팅을 포함하는, 조성물.
  64. 제63항에 있어서, 폴리머 코팅이 메타크릴레이트 코폴리머를 포함하는, 조성물.
  65. 제64항에 있어서, 폴리머 코팅이 적어도 약 6 시간의 시간 지연 후 활성 성분의 펄스를 제공하기에 충분한 비율로 메타크릴레이트와 암모니오 메타크릴레이트 코폴리머의 혼합물을 포함하는 조성물.
  66. 제65항에 있어서, 메타크릴레이트와 암모니오 메타크릴레이트 코폴리머의 비율이 약 1:1인 조성물.
  67. (A) 지프라시돈; 및 (B) 검체에게 조성물의 경구 전달 후, 조성물이 지프라시돈을 박동식 또는 연속식으로 전달하도록 변성 방출 코팅, 또는 대안적으로 또는 부가적으로 변성 방출 매트릭스 물질을 포함하는 나노입자형 입자의 집단을 포함하는, 조절 방출 조성물.
  68. 제67항에 있어서, 조성물이 급식 상태 하에 투여되었을 때, 절식 상태에 비해 유의적으로 다른 흡수 수준을 나타내지 않는 조절 방출 조성물.
  69. 제67항에 있어서, 조성물의 약동학적 프로필이 이 조성물을 복용한 검체의 급식 또는 절식 상태에 따라 유의적인 영향을 받지 않는 조절 방출 조성물.
  70. 제67항에 있어서, 절식 상태의 검체에 대한 조성물의 투여가 급식 상태의 검체에 대한 조성물의 투여와 생물학적 등가성인 조절 방출 조성물.
  71. 제67항에 있어서, 집단이 변성 방출 입자를 포함하는 조절 방출 조성물.
  72. 제67항에 있어서, 집단이 침식성 포뮬레이션인 조절 방출 조성물.
  73. 제67항에 있어서, 입자가 각각 삼투 장치 형태인, 조절 방출 조성물.
  74. 제71항에 있어서, 변성 방출 입자가 변성 방출 코팅을 포함하는, 조절 방출 조성물.
  75. 제71항에 있어서, 변성 방출 입자가 변성 방출 매트릭스 물질을 포함하는, 조절 방출 조성물.
  76. 제71항에 있어서, 변성 방출 입자가 침식하여 주위 환경으로 지프라시돈을 방출하는 포뮬레이션에 배합되어 있는, 조절 방출 조성물.
  77. 제71항에 있어서, 추가로 증강제를 포함하는 조절 방출 조성물.
  78. 제71항에 있어서, 함유된 활성 성분의 함량이 약 0.1mg 내지 약 1g 사이인 조절 방출 조성물.
  79. 제67항에 기재된 조성물을 함유하는 투약 형태.
  80. 제79항에 있어서, 경질 젤라틴 또는 연질 젤라틴 캡슐에 함유된 활성 성분 함유 입자의 블렌드를 포함하는 투약 형태.
  81. 제80항에 있어서, 활성 성분 함유 입자가 미니정제 형태이고 캡슐이 미니정제의 혼합물을 함유하는 투약 형태.
  82. 제81항에 있어서, 정제 형태인 투약 형태.
  83. 제82항에 있어서, 지프라시돈 함유 입자가 고속 용해성 투약 형태로 제공되는 투약 형태.
  84. 제82항에 있어서, 정제가 고속 용융 정제인 투약 형태.
  85. 제67항에 기재된 조성물의 치료적 유효량을 투여하는 것을 포함하는, 정신분열증 또는 유사 정신 장애의 예방 및/또는 치료 방법.
  86. 제71항에 있어서, 변성 방출 입자가 6 내지 12시간의 시간 지연 후 활성 성분의 펄스를 방출하는데 효과적인 pH 의존적 폴리머 코팅을 포함하는, 조절 방출 조성물.
  87. 제86항에 있어서, 폴리머 코팅이 메타크릴레이트 코폴리머를 포함하는, 조절 방출 조성물.
  88. 제86항에 있어서, 폴리머 코팅이 시간 지연 후 활성 성분의 방출 펄스를 제공하기에 충분한 비율로 메타크릴레이트와 암모니오 메타크릴레이트 코폴리머의 혼합물을 포함하는 조절 방출 조성물.
  89. 제88항에 있어서, 메타크릴레이트와 암모니오 메타크릴레이트 코폴리머의 비율이 약 1:1인 조절 방출 조성물.
  90. 제67항에 있어서, 입자가 삼투 장치 형태가 각각 존재하는 조절 방출 조성물.
  91. 제1항에 있어서, 데포(depot) 투약 형태로 조제된 조성물.
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