KR20080017127A - Correction for equiment used method and high voltage generation correction for equiment used the plate electrode - Google Patents

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KR20080017127A
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Abstract

An apparatus for correcting a high voltage generating device by using a plate electrode and a method for using the same are provided easily to measure a high voltage with a sensor detecting an electric field. An apparatus for correcting a high voltage generating device by using a plate electrode includes an upper metal plate electrode(40) formed with predetermined area and thickness. A lower metal plate electrode(30) is installed for the lower metal plate electrode to be in parallel to the metal plate electrode. The upper metal plate electrode and the lower metal plate electrode are fixed by a movable supporting plate. An electric field measuring sensor(10) is installed at an upper end of the lower metal plate electrode. An outer power source(20) is connected to the upper metal plate electrode and the lower metal plate electrode. The outer power source applies power source to the upper metal plate electrode and the lower metal plate electrode. A digital oscilloscope(60) is connected to the electric field sensor to measure an output voltage between the upper metal plate electrode and the lower metal plate electrode.

Description

평행판 전극을 이용한 고전압 발생원 교정용 장치와 이를 이용한 방법{Correction for equiment used method and high voltage generation correction for equiment used the plate electrode}Apparatus for calibrating high voltage source using parallel plate electrode and method using same {Correction for equiment used method and high voltage generation correction for equiment used the plate electrode}

도 1은 본 발명에 따른 구성도, 1 is a block diagram according to the present invention,

도 2는 본 발명에 따른 평형판 전극 및 전기장 측정센서가 나타난 구성도,2 is a block diagram showing a flat plate electrode and an electric field measuring sensor according to the present invention,

도 3은 본 발명의 장치를 이용한 측정 방법을 표시한 블럭도,3 is a block diagram showing a measuring method using the apparatus of the present invention;

도 4는 본 발명에 따른 평행판 전극간격을 고정시키고 전압에 따른 센서출력을 나타낸 도표,Figure 4 is a table showing the sensor output according to the voltage between the fixed electrode electrode parallel plate in accordance with the present invention,

도 5는 본 발명에 따른 인가전압을 일정하게 유지하고 평행판 전극간의 거리에 따른 센서출력을 나타낸 도표,5 is a diagram showing a sensor output according to the distance between the parallel plate electrodes while maintaining a constant applied voltage according to the present invention;

도 6은 본 발명에 따른 센서의 출력에 따른 고전압의 크기를 나타낸 도표.6 is a table showing the magnitude of the high voltage according to the output of the sensor according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

10 : 전기장 측정센서 20 : 외부전원장치10: electric field measuring sensor 20: external power supply

30 : 하부 금속판 전극 40 : 상부 금속판 전극30: lower metal plate electrode 40: upper metal plate electrode

50 : 전극받침대 51 : 전극고정판50: electrode support 51: electrode fixing plate

60 : 디지털 오실로 스코프60: digital oscilloscope

본 발명은 평행판 전극을 이용한 고전압 발생원 교정용 장치에 관한 것으로서 상세하게는 고전압 발생원의 교정용 장치에 있어서, 일정 넓이와 두께를 가지고 형성된 상부금속판 전극과; 상기 상부금속판과 동일하도록 형성되어 상부금속판 전극과 평행되도록 설치되는 하부 금속판 전극과; 상기 상부,하부 금속판 전극을 고정시키는 이동 받침대와; 상기 하부 금속판 상단에 설치되는 전기장 측정센서와; 상기 상부,하부 금속판에 연결되어 전원을 인가하는 외부전원장치와; 상기 전기장 측정센서에 연결되어 상부,하부 금속판 전극 간의 출력전압을 측정하는 디지털 오실로 스코프;를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 평행판 전극을 이용한 고전압 발생원 교정용 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a device for calibrating a high voltage source using a parallel plate electrode, and more particularly, to a device for calibrating a high voltage source, comprising: an upper metal plate electrode formed to have a predetermined width and thickness; A lower metal plate electrode formed to be the same as the upper metal plate and installed to be parallel to the upper metal plate electrode; A moving pedestal for fixing the upper and lower metal plate electrodes; An electric field measuring sensor installed at an upper end of the lower metal plate; An external power supply device connected to the upper and lower metal plates to apply power; And a digital oscilloscope connected to the electric field measuring sensor for measuring output voltages between upper and lower metal plate electrodes. The present invention relates to a device for calibrating a high voltage generator using a parallel plate electrode.

기존에 사용되는 1 kV 이상의 고전압 발생원을 교정하는 방법은 다음과 같다.The method of calibrating a high voltage source of 1 kV or more conventionally used is as follows.

먼저, 표준용 고전압 발생원을 이용하여 고전압 분압기(divider)의 ratio(비율)를 측정하여 1:10, 1:100, 1:1,000 등의 정확한 값을 기록한다.First, the ratio of the high voltage divider is measured using a standard high voltage generator, and accurate values such as 1:10, 1: 100, 1: 1,000 are recorded.

그 다음, 교정용 고전압 발생원을 고전압 분압기의 특정 비(1:10, 1:100, 1:1,000)에 입력하고, 분압기에 의해 감쇄된 출력을 교정된 전압미터(meter)를 이용하여 측정한다.Then, the high voltage generator for calibration is input at a specific ratio (1:10, 1: 100, 1: 1,000) of the high voltage divider, and the output attenuated by the voltage divider is measured using a calibrated voltage meter.

마지막으로, 미터 측정값에 분압기의 비율값을 곱하면 정확한 교정용 고전압 발생원의 출력을 알 수 있다. 예를 들면 미터 측정값이 2.1 volt 이고 분압기의 비 율이 1:1,000)이라면 교정용 고전압 발생원의 출력은 2.1 × 1,000=2,100 volt가 되는 것이다.Finally, multiplying the meter reading by the ratio of the potentiometer gives the correct output of the high voltage source for calibration. For example, if the meter reading is 2.1 volts and the potentiometer ratio is 1: 1,000), the output of the calibration high voltage source will be 2.1 × 1,000 = 2,100 volts.

이러한 기존의 교정 순서는 교정된 고전압 분압기가 반드시 필요하며, 고전압 분압기를 교정하기 위해서는 고가의 설비가 있어야만 한다. 그런데 이를 중소기업 등에서 구하기는 고가의 비용때문에 많은 부담이 되어 구비하기 힘들다. This conventional calibration procedure requires a calibrated high voltage voltage divider and expensive equipment to calibrate the high voltage voltage divider. However, obtaining them from small and medium-sized companies is difficult because they are expensive and difficult to prepare.

본 발명은 상기의 문제점을 해결하고자 안출된 것으로서, 평면상 사각형의 형상이며 각 모서리에 수직으로 결합된 기둥과, 상기 기둥에 결합되며, 일측면과 타측면에는 다수층이며, 평행하도록 전극 받침대가 결합되어지고, 상기 전극받침대에 상부와 하부 금속판 전극이 평행하도록 설치되어지며, 상기 하부 금속판 전극의 상측에 전기장을 감지하는 센서가 부착되어진 것을 특징으로 하는 평행판 전극을 이용한 고전압 발생원 교정용 장치을 제공하는데 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, the shape of a quadrangular in planar and vertically coupled to each corner, and coupled to the pillar, one side and the other side is a plurality of layers, the electrode support is parallel to It is coupled, the upper and lower metal plate electrodes are installed in parallel to the electrode support, and a sensor for detecting an electric field is attached to the upper side of the lower metal plate electrode is provided with a device for calibrating a high voltage source using a parallel plate electrode. The purpose is to.

본 발명은 상기의 목적을 달성하기 위하여 아래와 같은 특징을 갖는다.The present invention has the following features to achieve the above object.

고전압 발생원의 교정용 장치에 있어서, 일정크기와 두께 및 넓이를 가지고 형성된 상부금속판 전극과; 상기 상부금속판과 동일하도록 형성되어 상부금속판 전극과 평행되도록설치되는 하부 금속판 전극과; 상기 상부,하부 금속판 전극을 고정시키는 이동 받침대와; 상기 하부 금속판 상단에 설치되는 전기장 측정센서와; 상기 상부,하부 금속판에 연결되어 전원을 인가하는 외부전원장치와; 상기 전기장 측정센서에 연결되어 상부,하부 금속판 전극 간의 출력전압을 측정하는 디지털 오실 로 스코프;를 포함하여 구성되어진다.An apparatus for calibrating a high voltage source, comprising: an upper metal plate electrode having a predetermined size, thickness, and width; A lower metal plate electrode formed to be the same as the upper metal plate and installed to be parallel to the upper metal plate electrode; A moving pedestal for fixing the upper and lower metal plate electrodes; An electric field measuring sensor installed at an upper end of the lower metal plate; An external power supply device connected to the upper and lower metal plates to apply power; And a digital oscilloscope connected to the electric field measuring sensor for measuring the output voltage between the upper and lower metal plate electrodes.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 구성도이고, 도 2는 본 발명에 따른 평형판 전극 및 전기장 측정센서가 나타난 구성도이며, 도 3은 본 발명의 장치를 이용한 측정 방법을 표시한 블럭도이고, 도 4는 본 발명에 따른 평행판 전극간격을 고정시키고 전압에 따른 센서출력을 나타낸 도표이며, 도 5는 본 발명에 따른 인가전압을 일정하게 유지하고 평행판 전극간의 거리에 따른 센서출력을 나타낸 도표이고, 도 6은 본 발명에 따른 센서의 출력에 따른 고전압의 크기를 나타낸 도표이다.1 is a block diagram according to the present invention, Figure 2 is a block diagram showing a flat plate electrode and an electric field measuring sensor according to the present invention, Figure 3 is a block diagram showing a measuring method using the apparatus of the present invention, 4 is a diagram showing the sensor output according to the voltage fixed to the parallel plate electrode spacing according to the present invention, Figure 5 is a diagram showing the sensor output according to the distance between the parallel plate electrode while maintaining the applied voltage according to the invention 6 is a diagram showing the magnitude of the high voltage according to the output of the sensor according to the present invention.

도면을 참조하여 본 발명을 설명하면, 먼저 사각형의 형상으로 이동 받침대의 최상층과 최하층을 구성하고, 상기 최상층과 최하층의 각 모서리에 기둥이 결합되어 최상층과 최하층을 연결하여 사각기둥형태로 구성되며, 일측면과 타측면에의 기둥 내측으로 봉형태의 전극받침대(50)가 평행으로 다수층 형성되어지고, 상기 전극받침대(50)의 후측에는 금속판 전극(30,40)이 일정위치에 고정되도록 하는 전극고정판이 결합되며, 상기 기둥의 하단에는 바퀴가 부착되어 쉽게 이동시킬 수 있도록 형성되어 있다.When describing the present invention with reference to the drawings, first constitute the top and bottom layers of the movable pedestal in the shape of a square, the pillars are coupled to each corner of the top and bottom layers to connect the top and bottom layers are configured in a square pillar shape, A rod-shaped electrode support 50 is formed in parallel in a plurality of layers inside one side and the other side of the pillar, and the metal plate electrodes 30 and 40 are fixed at a predetermined position on the rear side of the electrode support 50. Electrode fixing plate is coupled, the bottom of the column is attached to the wheel is formed to be easily moved.

상기 이동 받침대의 전극받침대(50)에 금속재질이며, 일정 넓이와 두께를 가지고 형성된 상부,하부 금속판 전극(30,40)을 고정시키고, 상기 하부 금속판 전극(30)의 상측에 전기장을 측정하는 전기장 측정센서(10)가 부착되어지며, 상기 전기장 측정센서(10)는 측정장치(60)에 연결되어 상기 상부,하부 금속판 전극(30,40) 간의 전기장을 측정한다.An electric field for fixing the upper and lower metal plate electrodes 30 and 40 formed of a metal material and having a predetermined width and thickness to the electrode support 50 of the movable pedestal, and measuring an electric field on the lower metal plate electrode 30. The measuring sensor 10 is attached, and the electric field measuring sensor 10 is connected to the measuring device 60 to measure the electric field between the upper and lower metal plate electrodes 30 and 40.

그리고, 상기 상부,하부 금속판 전극(30,40)의 일측에 전원전극이 형성되어 외부전원장치(20)에서 가해지는 외부전원을 금속판 전극(30,40)에 도통시킨다.A power electrode is formed at one side of the upper and lower metal plate electrodes 30 and 40 to conduct external power applied from the external power supply device 20 to the metal plate electrodes 30 and 40.

상기의 평행판 전극을 이용한 고전압 발생원 교정용 장치를 이용하여 전원을 교정하는 방법은 다음과 같다.The method of calibrating the power source using the apparatus for calibrating a high voltage source using the parallel plate electrode is as follows.

먼저, 상부,하부 금속판 전극(30,40)에 외부전원장치(20)를 연결하여 전원을 가하면 전기장이 발생하며, 상기 전기장은 하부 금속판 전극(30) 상측에 부착된 전기장 측정센서(10)에 의해 측정되어 디지털 오실로 스코프(60)로 측정값이 전송되어진다.First, when the external power supply device 20 is connected to the upper and lower metal plate electrodes 30 and 40 to apply power, the electric field is generated, and the electric field is applied to the electric field measuring sensor 10 attached to the upper side of the lower metal plate electrode 30. The measurement is transmitted to the digital oscilloscope 60.

이때 전기장 측정센서(10)의 출력은 E로 표시를 하는데 이에 관한식은 다음과 같다.At this time, the output of the electric field measuring sensor 10 is represented by E. The equation is as follows.

Figure 112006059080046-PAT00001
Figure 112006059080046-PAT00001

여기서 V는 금속판 전극(30,40)에 인가되는 전압이고, d는 금속판 전극(30,40)의 간격이다. Where V is the voltage applied to the metal plate electrodes 30 and 40, and d is the interval between the metal plate electrodes 30 and 40.

상기의 식에서 E값을 알기 위해서는 상기 식의 관계함수인 f만 알고 있다면 금속판 전극(30,40)의 간격을 일정하게 유지한 상태에서 미터전압 E를 측정하면 인가전압을 직접 측정하지 않더라도 바로 계산 하여 알수 있게 된다.In order to know the value of E in the above equation, if only the relation function f of the above equation is known, if the meter voltage E is measured while the interval between the metal plate electrodes 30 and 40 is kept constant, the calculated voltage is calculated immediately even if the applied voltage is not measured directly. You will know.

상기 장치를 이용한 측정 방법을 자세히 설명하면 다음과 같다.The measurement method using the device will be described in detail as follows.

먼저 금속판 전극(30,40)의 간격을 일정하게 유지시킨뒤 0.1~1 kV(교정용 고전압 발생원의 출력 이하의 전압)에서 단계적으로 표준용 전압 발생원의 출력을 금속판 전극(30,40)에 인가 시킨다. 이때 표준용 전압 발생원의 출력을 단계적으로 변화 시키며 미터 전압을 측정하면 상기 식의 근사함수 f를 계산 할수 있다.First, the interval between the metal plate electrodes 30 and 40 is kept constant, and then the output of the standard voltage source is applied to the metal plate electrodes 30 and 40 step by step at 0.1 to 1 kV (voltage below the output of the calibration high voltage source). Let it be. At this time, if the output of the standard voltage generator is changed in stages and the meter voltage is measured, the approximate function f of the above equation can be calculated.

다음으로, 동일한 시스템에서 표준용 전압 발생원 대신에 교정용 고전압 발생원의 출력을 평행판 전극에 인가하고 미터 출력을 측정한다. 이때 인가전압은 1~10 kV로 교정용 고전압 범위이다.Next, in the same system, instead of the standard voltage generator, the output of the calibration high voltage generator is applied to the parallel plate electrode and the meter output is measured. In this case, the applied voltage is 1 ~ 10 kV, which is the high voltage range for calibration.

마지막으로, 측정된 미터전압과 알고 있는 관계함수 f를 상기 식에 대입하여 계산하면 발생원의 전압을 알 수 있다.Finally, the measured source voltage and the known relation function f can be calculated by substituting the above equation for the source voltage.

이와 같은 교정순서에서 시스템의 관계함수 f를 알고있다면 두번째 단계와 세번째 단계의 과정만으로도 간단히 교정 과정을 마칠 수 있다.If you know the relation function f of the system in this calibration sequence, the calibration process can be completed simply by the second and third steps.

즉, 평행판 전극을 이용한 고전압 발생원 교정용 장치를 이용한 방법에 있어서, 금속판 전극을 이동 받침대에 형성된 전극받침대에 일정 간격을 두고 적재하는 금속판 전극 설치 단계와;(S10) 상기 금속판 전극에 표준전압을 인가하는 표준전압 인가단계와;(S20) 상기 표준전압을 단계적으로 측정하여 근사함수를 구하는 근사함수 토출단계;(S30) 상기 표준전압을 측정한뒤 교정전압을 단계적으로 인가하는 교정전압 인가단계와;(S40) 상기 교정전압을 측정장치로 측정하는 미터전압 측정 단계와;(S50) 상기 측정된 미터전압과 관계함수를 식에 대입하여 계산하는 전압계산 단계;(S60)로 이루어진다.That is, in a method using a device for calibrating a high voltage source using a parallel plate electrode, a metal plate electrode mounting step of loading a metal plate electrode at a predetermined interval on an electrode support formed on a moving pedestal; (S10) applying a standard voltage to the metal plate electrode; A step of applying a standard voltage; and (S20) an approximate function discharge step of obtaining an approximation function by measuring the standard voltage step by step; (S30) a step of applying a calibration voltage after applying the calibration voltage after measuring the standard voltage; (S40) a meter voltage measuring step of measuring the calibration voltage with a measuring device; (S50) a voltage calculation step of substituting the measured function of the meter voltage and a related function into an equation; (S60).

본 발명을 좀더 상세히 설명하면 다음과 같다.The present invention will be described in more detail as follows.

전기장 측정은 그림 1과 같이 아래와 위로 평행하게 배열된 평행판 전극과, 전극에 고전압을 인가하기 위한 교류 고전압 발생원, 전기장 측정을 위한 원형 센서, 센서로부터의 출력 전압값을 측정할 수 있는 디지털 오실로 스코프로 구성된다. Electric field measurements are parallel plate electrodes arranged in parallel up and down as shown in Figure 1, AC high voltage sources for applying high voltages to the electrodes, circular sensors for electric field measurements, and digital oscilloscopes for measuring output voltage values from the sensors. It consists of.

도 1에서의 평행판 전극은 1 m(가로) × 1 m(세로) × 0.03 m(두께) 합판의 양면에 Cu foil을 부착하여 제작한다. 또한 평행판 전극간의 거리는 0.1 m ∼ 1 m 간격에서 대략 0.1 m 간격으로 단계적으로 바꿀 수 있다. 전기장 측정용 센서는 직경 110 mm, 두께 3 mm의 원형 에폭시기판으로 만들었으며, 센서 출력전압은 디지털 오실로스코프(TDS1012)로 실효값을 측정함으로써 전기장의 세기를 측정한다. The parallel plate electrode in FIG. 1 is produced by attaching Cu foil to both sides of 1 m (width) x 1 m (length) x 0.03 m (thickness) plywood. In addition, the distance between the parallel plate electrodes can be gradually changed from 0.1 m to 1 m at intervals of approximately 0.1 m. The sensor for electric field measurement is made of a circular epoxy substrate with a diameter of 110 mm and a thickness of 3 mm. The sensor output voltage is measured by measuring the effective value with a digital oscilloscope (TDS1012).

평행판 전극에 가한 전압과 전기장 측정센서의 출력(E)과의 관계는 아래와 같이 쓸 수 있다. The relationship between the voltage applied to the parallel plate electrode and the output ( E ) of the electric field measuring sensor can be written as follows.

Figure 112006059080046-PAT00002
식 1
Figure 112006059080046-PAT00002
Equation 1

여기서 V는 평행판 전극에 인가된 전압이고, d는 평행판 전극 간의 간격이다. 함수 f는 전압과 극판 간격에 의존하는 함수이다. 실제로 평행판 전극이 무한대로 큰것이 아니기 때문에 센서의 출력이 E=(V/d) 가 아니고, 식 1과 같이 전압과 극판 간격에 따라 함수 f 가 달라진다. 또한 고전압을 가하고 전기장을 측정할 때 전기장 측정용 센서기판과 측정기기를 연결하는 측정도선의 길이와 도선의 위치변화에 따른 임피던스의 변화로 전기장의 왜곡이 생긴다. 이로 인해 측정 전압의 큰 차이를 가져온다. 따라서 동일한 평행판 전극 간격과 인가전압에도 측정도선의 변 화에 따라 센서측정전압이 다르게 나타나므로 측정의 재현성을 위해서 동일한 조건으로 실험을 해야 한다. Where V is the voltage applied to the parallel plate electrodes and d is the spacing between the parallel plate electrodes. The function f is a function that depends on the voltage and the plate spacing. In fact, since the parallel plate electrode is not infinitely large, the output of the sensor is not E = (V / d) , and the function f varies according to the voltage and the electrode plate gap as shown in Equation 1. In addition, when measuring the electric field under high voltage, the electric field is distorted due to the change of impedance due to the change in the length of the measuring wire and the position of the wire connecting the sensor substrate for measuring the electric field and the measuring device. This results in a large difference in measured voltage. Therefore, the sensor measurement voltage is different according to the change of measurement lead even in the same parallel plate electrode spacing and applied voltage. Therefore, experiments should be conducted under the same conditions for reproducibility of measurement.

식 1의 전기장에 대한 전압과 극판간격의 상관관계함수 f 를 얻기 위해 첫째로 극판간격을 고정시키고 전압을 증가하면서 전기장을 측정하고, 둘째로 전압을 고정시키고 극판간격을 변화시키면서 전기장을 측정한다. 첫 번째 실험은 먼저 아래 위로 배열된 평행판 전극간 거리(d)를 고정시키고 표준 전압 발생원(FLUKE 5720A)으로 0.1 kV ∼ 1 kV 의 범위에서 전압을 단계적으로 증가시키면서 센서츨력 전기장을 측정한다. 이러한 실험은 극판간격 d = 91.1 cm ~ 985.4 cm 의 범위의 총 10개의 극판간격에서 전압을 증가시켜 가면서 센서출력을 측정하였고 측정결과를 도 4에 나타내었다. In order to obtain the correlation function f between the voltage and the pole plate spacing for the electric field of Equation 1, first, the electric field is measured by fixing the pole plate gap and increasing the voltage. The first experiment first measures the sensor output electric field by fixing the distance between the parallel plate electrodes ( d ) arranged up and down and increasing the voltage in the range of 0.1 kV to 1 kV with a standard voltage generator (FLUKE 5720A). In this experiment, the sensor output was measured while increasing the voltage at a total of 10 pole plate intervals in the range of pole plate interval d = 91.1 cm ~ 985.4 cm, and the measurement results are shown in FIG. 4.

도 4의 측정결과는 모든 극판간격에서 센서출력전기장(E)과 인가전압(V)은 비례함을 알 수 있고(E ∝ V), 극판의 간격이 좁을수록 인가전압에 대한 센서출력전압의 증가율이 커짐을 알 수 있다. 이러한 방법을 이용하여 전압을 증가시키면서 센서출력 전기장을 측정하여 전기장에 대한 전압의 관계함수를 얻을 수 있다. 4 shows that the sensor output electric field ( E ) and the applied voltage ( V ) are proportional at all pole plate intervals ( E E V) , and the narrower the gap between the pole plates, the increase rate of the sensor output voltage with respect to the applied voltage It can be seen that this increases. Using this method, we can measure the sensor output electric field while increasing the voltage to obtain the relation function of the voltage for the electric field.

두 번째로는 인가전압(V)을 일정하게 유지한 채 평행판 전극 간격(d)을 단계적으로 바꾸면서 실험을 하였다. 인가전압은 V = 100 V, 250 V, 500 V, 750 V, 1000 V에서 측정 하였고, 결과는 도 5에 나타내었다.Secondly, the experiment was performed while changing the parallel plate electrode spacing d step by step while keeping the applied voltage V constant. The applied voltage was measured at V = 100 V, 250 V, 500 V, 750 V, 1000 V, and the results are shown in FIG.

도 5의 곡선은 아래의 식으로 피팅을 하였다. The curve of Figure 5 was fitted in the following equation.

Figure 112006059080046-PAT00003
(n < 1) 식 2
Figure 112006059080046-PAT00003
( n < 1) (2)

센서출력전기장(E)이 거리(d)에 일차함수로 반비례하지 않고 식 2와 같이 지수함수적으로 감소하였다. 식 2의 지수 n은 일정한 값을 가지지 않고 극판 인가전압 V가 커질수록 1에 근접하였다. 또한 지수 n은 동일한 극판 인가전압에서도 평행판 전극간 거리가 달라짐에 따라 변하기에 센서출력전압만으로 극판인가전압을 정확히 알 수가 없다. 이 결과는 평행판 전극의 크기가 무한대가 아니고 1 m × 1 m 로 제한됨에 따라 나타난 것으로 생각되며, 이러한 평행판 전극간 거리에 따른 센서출력전기장의 관계함수는 근사함수가 복잡하여 센서출력전압으로 극판 인가전압을 정확히 계산하기는 어렵다.The sensor output electric field ( E ) decreased exponentially as in Eq. 2 without being inversely proportional to the linear function of the distance ( d ). The exponent n of Equation 2 does not have a constant value and approaches 1 as the applied voltage V of the plate increases. In addition, since the index n is changed as the distance between the parallel plate electrodes varies even at the same pole plate applied voltage, the pole plate applied voltage cannot be accurately known only by the sensor output voltage. This result appears to be due to the fact that the size of the parallel plate electrodes is not infinite and is limited to 1 m × 1 m.The relation function of the sensor output electric field according to the distance between the parallel plate electrodes is an approximation function, which is complex It is difficult to calculate the applied voltage accurately.

결과적으로 위의 두 측정 결과로부터 알 수 있는 것은, 평행판 전극구조에서 극판간격을 일정하게 유지한 상태에서 측정한 센서 출력전기장과 극판 인가전압은 직선적인 함수로 표현할 수 있으며, 이로부터 센서출력전압만을 측정하면 미지의 극판 인가전압도 식(1)을 이용하여 간단하면서도 정확하게 알 수 있다는 것이다. 따라서 이 방법을 이용하여 고전압 발생원의 측정범위를 확장하고자 한다.As a result, it can be seen from the above two measurement results that the sensor output electric field and the pole plate applied voltage measured with the pole plate constant at the parallel plate electrode structure can be expressed as a linear function. If only the measurement is made, the unknown electrode applied voltage can also be known simply and accurately using Equation (1). Therefore, this method is intended to extend the measurement range of high voltage sources.

앞서 논의한 결과를 바탕으로 고전압 발생원의 측정범위를 확장하기 위하여 전기장 측정센서를 이용한 고전압 발생원 측정시스템은 도 1과 동일하고 평행판 전극간 거리(d)는 885.8 mm로 일정하게 유지하였다. 고전압 발생원의 측정범위 확장은 아래와 같이 두 단계로 나누어진다. Based on the results discussed above, in order to extend the measurement range of the high voltage source, the high voltage source measuring system using the electric field measuring sensor is the same as that of FIG. 1, and the distance d between the parallel plate electrodes was kept constant at 885.8 mm. The extension of the measurement range for high voltage sources is divided into two phases:

첫 번째는 출력값을 정확히 알고 있는 고전압 발생원을 이용하여 1 kV ~ 30 kV 까지의 고전압을 평행판 전극에 인가하여 디지털 오실로스코프(60)로 전기장 측정센서의 출력전기장(E)을 측정한다. 그 측정결과를 도 6에 나타내었다. First, the high voltage of 1 kV ~ 30 kV is applied to the parallel plate electrode by using the high voltage source that knows the output value accurately, and the output electric field ( E ) of the electric field measuring sensor is measured by the digital oscilloscope 60. The measurement results are shown in FIG. 6.

도 6의 30 kV 까지의 실험결과를 피팅한 결과 전기장 측정센서의 출력전기장(E)과 전압(V)의 관계는 선형적이었다. 관계함수 f는 아래와 같이 주어진다. As a result of fitting the experimental results up to 30 kV of FIG. 6, the relationship between the output electric field E and the voltage V of the electric field measuring sensor was linear. The relation function f is given by

Figure 112006059080046-PAT00004
식 3
Figure 112006059080046-PAT00004
Expression 3

식 3에서 y는 고전압 발생원의 전압(V), x는 센서의 출력전기장(E)에 해당한다. In Equation 3, y is the voltage ( V ) of the high voltage source, x is the output electric field (E) of the sensor.

두 번째 단계는 첫 번째 단계의 전압범위 1 kV ~ 30 kV에서 구한 관계함수 f 를 이용하여 미지의 고전압 발생원 40 kV ~ 60 kV 까지의 전압을 전기장의 측정으로 교정하는 것이다. 이는 미지의 고전압 발생원의 40 kV ~ 60 kV의 고전압을 평행판 전극에 인가하며 센서출력전기장을 측정한다. 앞서 구한 식 3의 관계함수 fx 변수에 전기장 센서의 출력전기장을 입력하고, 이때 계산된 y변수 값이 전기장 측정센서로 측정된 고전압이다. 40 kV ~ 60 kV에서 전기장의 측정으로 계산된 고전압의 출력전압을 표 1에 나타내었다. The second step is to calibrate the voltage from an unknown high voltage source 40 kV to 60 kV by measuring the electric field, using the relation function f obtained in the first step of the voltage range 1 kV to 30 kV. It applies a high voltage of 40 kV to 60 kV from an unknown high voltage source to the parallel plate electrode and measures the sensor output electric field. The output electric field of the electric field sensor is input to the x variable of the relation function f of Equation 3, and the calculated y-variable value is the high voltage measured by the electric field measuring sensor. Table 1 shows the output voltage of the high voltage calculated by the measurement of the electric field from 40 kV to 60 kV.

미지의 고전압 발생원의 정격전압(kV)Rated voltage of unknown high voltage source (kV) 센서출력 전기장(V)Sensor output electric field (V) 관계함수로 얻은 고전압 발생원 출력전압(kV) High voltage source output voltage (kV) obtained by the relevant function 40 50 55 6040 50 55 60 32.23 38.83 43.67 47.7232.23 38.83 43.67 47.72 40.33 48.59 54.64 59.7040.33 48.59 54.64 59.70

표1Table 1

전기장 측정센서를 이용한 고전압 측정기술의 불확도의 평가는 불확도 요인을 찾아 요인별 표준불확도(u1, u2, ...,)와 자유도를 구하고 이로부터 상대 합성 표준불확도와 유효 자유도를 구한다. 유효 자유도와 신뢰수준에 따른 포함인자를 찾아 상대 합성 표준불확도에 곱하면 상대 확장 불확도(U)가 된다. 여기서포함 인 자는 2 이므로 상대 확장 불확도(U)는 아래와 같이 표현된다.To evaluate the uncertainty of high voltage measurement technology using electric field measurement sensors, the uncertainty factor is used to find the standard uncertainty ( u 1, u 2, ...,) and the degree of freedom for each factor. Relative expansion uncertainty ( U ) is obtained by multiplying the relative composite standard uncertainty by the inclusion factor according to the effective degrees of freedom and confidence level. Since the inclusion factor is 2, the relative expansion uncertainty ( U ) is expressed as

Figure 112006059080046-PAT00005
식 4
Figure 112006059080046-PAT00005
Equation 4

전기장 측정센서를 이용한 고전압 측정시 불확도 요인을 정리하여 각각 표 2의 첫 째 열에 나타내었다. 고전압 값(40 kV, 50 kV, 55 kV, 60 kV)에 대해 평가된 각 불확도의 크기를 나타내었고, 상대 합성 표준불확도와 상대 확장 불확도를 각각 표 2의 마지막 두 열에 나타내었다. 고전압 측정값에 대한 상대 확장 불확도는 약 3.15 % 이내이다. Uncertainty factors for high voltage measurements using electric field sensors are summarized in the first column of Table 2, respectively. The magnitudes of each uncertainty evaluated for high voltage values (40 kV, 50 kV, 55 kV, 60 kV) are shown, and the relative composite standard uncertainty and relative expansion uncertainty are shown in the last two columns of Table 2, respectively. The relative expansion uncertainty for high voltage measurements is within about 3.15%.

단위 %unit %

불확도 요인      Uncertainty factor 40 kV40 kV 50 kV50 kV 55 kV55 kV 60 kV60 kV 반복측정, u1 교류 전압원의 정확도, u2 전기장의 왜곡효과 , u3 전극판의 기하학적 크기, u4 fitting 오차, u5Repeated measurement, u 1 ac voltage source accuracy, u 2 electric field distortion effect, u 3 electrode plate geometry, u 4 fitting error, u 5 0.52 0.50 0.40 0.20 0.960.52 0.50 0.40 0.20 0.96 0.79 0.50 0.40 0.20 0.960.79 0.50 0.40 0.20 0.96 0.69 0.50 0.40 0.20 0.960.69 0.50 0.40 0.20 0.96 1.05 0.50 0.40 0.20 0.961.05 0.50 0.40 0.20 0.96 상대 합성 표준불확도  Relative Composite Standard Uncertainty 1.281.28 1.411.41 1.361.36 1.571.57 상대 확장 불확도, U (k=2)Relative Expansion Uncertainty, U (k = 2) 2.562.56 2.832.83 2.722.72 3.153.15

표2Table 2

한편 전기장 측정센서를 이용한 고전압 측정기술의 유효성을 검증하기 위해 고전압 발생원을 고전압 분압기로 직접 측정한 결과와 표 3에서 서로 비교 하였다. 표 3의 마지막 열에 두 방법에서의 얻은 고전압 값에 대한 상대차이를 나타내었다. 상대차이는 아래와 같이 정의된다. On the other hand, in order to verify the effectiveness of the high voltage measurement technique using the electric field measuring sensor, the results of directly measuring the high voltage source with the high voltage voltage divider are compared with each other in Table 3. The last column of Table 3 shows the relative differences for the high voltage values obtained in both methods. Relative differences are defined as

Figure 112006059080046-PAT00006
식 5
Figure 112006059080046-PAT00006
Equation 5

여기서 V D 는 고전압 분압기로 측정한 고전압 값이고, V E 는 전기장 측정센서로 측정한 고전압 값이다. 상대차이는 정격전압 40 kV, 50 kV, 55 kV, 60 kV 에서 각각 -0.37 %, -0.37 %, -0.08 %, -0.18 % 이였다. 이는 두 방법에 대한 불확도가 약 3 % 임을 감안하면 상당히 양호한 일치도이다.Where V D is the high voltage value measured by the high voltage divider and V E is the high voltage value measured by the electric field measuring sensor. The relative differences were -0.37%, -0.37%, -0.08% and -0.18% at rated voltages of 40 kV, 50 kV, 55 kV and 60 kV, respectively. This is a fairly good agreement given that the uncertainties for the two methods are about 3%.

정격전압(kV)Rated voltage (kV) 전기장 측정센서로 측정한 고전압 출력전압(kV)High voltage output voltage (kV) measured by electric field measuring sensor 고전압 분압기로 측정한 고전압 출력전압(kV) High voltage output voltage (kV) measured with high voltage divider 상대차이(%)Relative Difference (%) 40 50 55 6040 50 55 60 40.33 48.59 54.64 59.7040.33 48.59 54.64 59.70 40.18 48.41 54.59 59.5940.18 48.41 54.59 59.59 -0.37 -0.37 -0.08 -0.18-0.37 -0.37 -0.08 -0.18

표3Table 3

상기에서 기술된 바와같이 본 발명은, 평면상 사각형의 형상이며 각 모서리에 수직으로 결합된 기둥과, 상기 기둥에 결합되며, 일측면과 타측면에는 다수층이며, 평행하도록 전극 받침대가 결합되어지고, 상기 전극받침대에 상부와 하부 금속판 전극이 평행하도록 설치되어지며, 상기 하부 금속판 전극의 상측에 전기장을 감지하는 센서가 부착되어 간편하게 고전압을 측정할 수 있다.As described above, the present invention is a planar quadrangular shape, the pillars are vertically coupled to each corner, and are coupled to the pillars, the one side and the other side is a plurality of layers, the electrode support is coupled to parallel The upper and lower metal plate electrodes are installed in parallel with the electrode support, and a sensor for detecting an electric field is attached to the upper side of the lower metal plate electrode to easily measure a high voltage.

Claims (6)

고전압 발생원의 교정용 장치에 있어서,In the device for calibration of high voltage source, 일정 넓이와 두께를 가지고 형성된 상부금속판 전극(30,40)과;Upper metal plate electrodes 30 and 40 having a predetermined width and thickness; 상기 상부 금속판 전극(40)과 동일하도록 형성되어 상부 금속판 전극(40)과 평행되도록 설치되는 하부 금속판 전극(30)과;A lower metal plate electrode 30 formed to be the same as the upper metal plate electrode 40 and installed to be parallel to the upper metal plate electrode 40; 상기 상부,하부 금속판 전극(30,40)을 고정시키는 이동 받침대와;A moving pedestal for fixing the upper and lower metal plate electrodes 30 and 40; 상기 하부 금속판 전극 상단(30)에 설치되는 전기장 측정센서(10)와;An electric field measuring sensor 10 installed on the upper metal plate electrode 30; 상기 상부,하부 금속판 전극(30,40)에 연결되어 전원을 인가하는 외부전원장치(20)와;An external power supply device 20 connected to the upper and lower metal plate electrodes 30 and 40 to apply power; 상기 전기장 측정센서(10)에 연결되어 상부,하부 금속판 전극(30,40) 간의 출력전압을 측정하는 디지털 오실로 스코프(60);를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 평행판 전극을 이용한 고전압 발생원 교정용 장치.A digital oscilloscope 60 connected to the electric field measuring sensor 10 and measuring output voltages between upper and lower metal plate electrodes 30 and 40; and calibrating a high voltage source using a parallel plate electrode. Device. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 이동 받침대는 평면상 사각형의 형상으로 구성되어 각 모서리에 수직으로 기둥이 결합되어지고, 상기 이동 받침대의 일측과 타측에 다수층의 전극받침대(50)가 평행으로 기둥에 결합되며, 상기 기둥의 하측에는 바퀴가 결합되어진 것을 특징으로 하는 평행판 전극을 이용한 고전압 발생원 교정용 장치.The movable pedestal is formed in the shape of a square in the plane is coupled to the vertical column at each corner, the electrode support 50 of a plurality of layers on one side and the other side of the movable pedestal is coupled to the column in parallel, A device for calibrating a high voltage source using a parallel plate electrode, characterized in that the wheel is coupled to the lower side. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 이동 받침대는 절연재질로 형성되며, 상기 전극받침대(50)는 봉 형상으로 형성되어 기둥에 결합되는 것을 특징으로 하는 평행판 전극을 이용한 고전압 발생원 교정용 장치.The movable pedestal is formed of an insulating material, the electrode support 50 is formed in a rod-like device for calibrating a high voltage source using a parallel plate electrode, characterized in that coupled to the pillar. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전극 받침대의 후측에는 금속판 전극이 일정 위치에 고정되도록 전극 고정판이 형성되는 것을 특징으로 하는 평행판 전극을 이용한 고전압 발생원 교정용 장치.An apparatus for calibrating a high voltage source using a parallel plate electrode, wherein an electrode fixing plate is formed on a rear side of the electrode support such that a metal plate electrode is fixed at a predetermined position. 평행판 전극을 이용한 고전압 발생원 교정용 장치를 이용한 방법에 있어서,In the method using a device for calibrating a high voltage source using a parallel plate electrode, 금속판 전극을 이동 받침대에 형성된 전극받침대에 일정 간격을 두고 적재하는 금속판 전극 설치 단계와;(S10)A metal plate electrode installation step of loading the metal plate electrodes at a predetermined interval on the electrode support formed on the movable support; (S10) 상기 금속판 전극에 표준전압을 인가하는 표준전압 인가단계와;(S20)A standard voltage applying step of applying a standard voltage to the metal plate electrode; (S20) 상기 표준전압을 단계적으로 측정하여 근사함수를 구하는 근사함수 토출단계;(S30)An approximate function ejecting step of obtaining an approximate function by measuring the standard voltage step by step; (S30) 상기 표준전압을 측정한뒤 교정전압을 단계적으로 인가하는 교정전압 인가단계와;(S40)A calibration voltage applying step of applying a calibration voltage step by step after measuring the standard voltage; (S40) 상기 교정전압을 측정장치로 측정하는 미터전압 측정 단계와;(S50)A meter voltage measuring step of measuring the calibration voltage with a measuring device; 상기 측정된 미터전압과 관계함수를 식에 대입하여 계산하는 전압계산 단 계;(S60)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 평행판 전극을 이용한 고전압 발생원 교정용 장치를 이용한 교정방법.And a voltage calculation step of calculating the measured voltage and the related function by using an equation; 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 표준전압은 0.1~10 kV 이고, 인가전압은 10~100 kV인 것을 특징으로 하는 평행판 전극을 이용한 고전압 발생원 교정용 장치를 이용한 교정방법.The standard voltage is 0.1 ~ 10 kV, the applied voltage is a calibration method using a high voltage source calibration device using a parallel plate electrode, characterized in that 10 ~ 100 kV.
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