KR20080012538A - Apparatus for measuring sheet resistance - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 액정표시장치의 제조 과정을 나타낸 순서도이다.1 is a flowchart illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 면저항 측정 장치를 나타내는 사시도이다.2 is a perspective view showing a sheet resistance measuring apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 3은 도 2의 면저항 측정 장치의 헤드를 나타내는 저면도이다.3 is a bottom view illustrating a head of the sheet resistance measuring apparatus of FIG. 2.
도 4는 도 3의 프로브와 모기판의 위치 관계를 나타내는 평면도이다.4 is a plan view illustrating a positional relationship between a probe and a mother substrate of FIG. 3.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)(Explanation of symbols for the main parts of the drawing)
100: 면저항 측정 장치 110: 스테이지100: sheet resistance measuring device 110: stage
120: 모기판 122: 셀120: mother substrate 122: cell
124: 셀 간격부 130: 정렬핀124: cell gap 130: alignment pin
140: 구동부 142: 가이드 레일140: drive unit 142: guide rail
150: 헤드 160: 프로브150: head 160: probe
본 발명은 면저항 측정 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 액정 패널 상에 형성된 도전막의 면저항을 측정하는 면저항 측정 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a sheet resistance measuring apparatus, and more particularly to a sheet resistance measuring apparatus for measuring sheet resistance of a conductive film formed on a liquid crystal panel.
일반적으로 사용되고 있는 표시장치들 중의 하나인 음극선관(CRT; Cathode Ray Tube)은 텔레비전을 비롯해서 계측기기, 정보 단말기기 등의 모니터에 주로 이용되고 있으나, 음극선관의 자체 무게와 크기로 인하여 전자 제품의 소형화, 경량화의 요구에 적극 대응할 수 없었다.Cathode ray tube (CRT), which is one of the display devices that are generally used, is mainly used for monitors such as televisions, measuring devices, information terminal devices, etc., but due to its own weight and size, It could not actively respond to the demand for miniaturization and weight reduction.
이러한 음극선관을 대체하기 위해서 소형, 경량화 및 저소비전력 등과 같은 장점을 가지고 있으며, 액정패널의 내부에 주입된 액정의 전기, 광학적 성질을 이용하여 정보를 표시하는 액정표시장치가 활발하게 개발되어 왔고, 최근에는 평판 표시장치로서의 역할을 수행하고 있다. 일반적으로 액정표시장치는 저소비전력 및 경량, 적은 부피를 갖는 디스플레이 장치로, 액정표시장치는 이와 같은 특유의 장점으로 인하여 산업 전반 예를 들어, 컴퓨터 산업, 전자 산업, 정보통신 산업 등에 폭넓게 응용되고 있는 실정으로, 이와 같은 장점을 갖는 액정표시장치는 휴대용 컴퓨터의 디스플레이 장치 및 데스크 톱 컴퓨터의 모니터, 고화질 영상 기기의 모니터 등의 폭넓은 분야에 다양하게 적용되고 있다.In order to replace the cathode ray tube, it has advantages such as small size, light weight, low power consumption, and the like, and a liquid crystal display device that displays information by using the electrical and optical properties of the liquid crystal injected into the liquid crystal panel has been actively developed. Recently, it plays a role as a flat panel display device. In general, a liquid crystal display device is a display device having low power consumption, light weight, and small volume. The liquid crystal display device has been widely applied to a wide range of industries, for example, the computer industry, the electronics industry, and the information and communication industry due to such unique advantages. As a matter of fact, the liquid crystal display device having such advantages has been applied to various fields such as a display device of a portable computer, a monitor of a desktop computer, a monitor of a high-definition video device, and the like.
이러한 액정 표시 장치는 2매의 대형 모기판(mother substrate)에 박막 트랜지스터 어레이(array) 및 공통 전극을 각각 셀(cell) 단위로 형성한 후 이들 모기판을 접합하고 셀 단위로 절단하여 형성된다. 즉 액정 표시 장치는 박막 트랜지스터 어레이가 형성된 박막 트랜지스터 기판, 공통 전극이 형성된 공통 전극 기판과, 이들 사이에 개재된 액정층을 포함한다.Such a liquid crystal display is formed by forming a thin film transistor array and a common electrode in cell units on two large mother substrates, and then bonding the mother substrates and cutting them in cell units. That is, the liquid crystal display includes a thin film transistor substrate on which a thin film transistor array is formed, a common electrode substrate on which a common electrode is formed, and a liquid crystal layer interposed therebetween.
모기판에 박막 트랜지스터 어레이 또는 공통 전극을 형성하는 과정에서 모기 판에 도전막을 형성하고 패터닝하는 공정을 수행한다. 여기서 모기판에 도전막을 형성한 후 도전막의 면저항(sheet resistance)을 측정하여 도전막의 전기적 특성을 체크한다.In the process of forming a thin film transistor array or a common electrode on the mother substrate, a process of forming and patterning a conductive film on the mother substrate is performed. Here, after the conductive film is formed on the mother substrate, the sheet resistance of the conductive film is measured to check the electrical properties of the conductive film.
통상 일렬로 배열된 4개의 프로브를 셀과 셀 사이에 위치하는 셀 간격부에 접촉시켜 면저항을 측정하게 되는데, 제조 단가를 줄이기 위하여 하나의 모기판 내에 다수의 셀을 배치함으로써 셀 간격이 줄어들고, 따라서 면저항의 측정 위치에 대한 공간적인 마진(margin)이 줄어들게 된다. 또한 종래의 면저항 측정 장치의 경우, 4개의 프로브가 형성된 헤드(head)가 모기판 위에서 상하 운동만을 하고 또한 액정 표시 장치의 종류에 따라 모기판 내의 셀 배치(cell layout)가 달라지므로, 하나의 면저항 측정 장치를 가지고 다양한 셀 배치에 일률적으로 적용할 수 없는 문제가 있다.In general, the sheet resistance is measured by contacting four probes arranged in a line with the cell gap located between the cells, and the cell gap is reduced by arranging a plurality of cells in one mother substrate to reduce the manufacturing cost. The spatial margin for the measurement position of the sheet resistance is reduced. In addition, in the conventional sheet resistance measuring apparatus, a head having four probes only moves up and down on the mother substrate, and the cell layout in the mother substrate varies according to the type of liquid crystal display device. There is a problem that cannot be uniformly applied to various cell arrangements with a measuring device.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 면저항 측정 위치에 대한 공간적인 마진을 확보하고 다양한 셀 배치에 일률적으로 적용할 수 있는 면저항 측정 장치를 제공하고자 하는 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is to provide a sheet resistance measuring apparatus that can secure a spatial margin for the sheet resistance measurement position and can be applied uniformly to various cell arrangements.
본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. Technical problems of the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 면저항 측정 장치는, 액정 표시 장치용 모기판이 놓여지는 스테이지와, 상기 스테이지 상부에 배치되고, 면저항 측정을 위하여 일렬로 배열된 다수의 프로브가 설치된 헤드로서, 상기 프로브의 배열 방향을 전환하도록 회전 가능한 헤드를 포함한다.According to an aspect of the present invention, a sheet resistance measuring apparatus includes a stage on which a mother substrate for a liquid crystal display device is placed, and a plurality of probes disposed on the stage and arranged in a line for measuring sheet resistance. An installed head, the head includes a rotatable head for changing the arrangement direction of the probe.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the present embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and the general knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the present invention is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.
본 발명의 액정 표시 장치는 화상 데이터를 액정의 광학적 성질을 이용하여 디스플레이하는 액정 패널과 이를 구동하기 위한 구동회로가 형성된 인쇄회로기판을 포함하는 액정 패널 어셈블리와, 화면표시를 위한 광을 공급하는 백라이트 어셈블리와, 액정 패널 어셈블리와 백라이트 어셈블리를 고정, 수용하는 수납 용기로 구성된다. 여기서, 액정 패널은 박막 트랜지스터 어레이(TFT array)가 형성되는 박막 트랜지스터 기판과, 공통 전극이 형성된 공통 전극 기판과, 박막 트랜지스터 기판과 공통 전극 기판 사이에 개재되는 액정층을 포함한다.A liquid crystal display device according to the present invention includes a liquid crystal panel assembly including a liquid crystal panel for displaying image data using optical properties of liquid crystal, a printed circuit board having a driving circuit for driving the liquid crystal panel, and a backlight for supplying light for screen display. Assembly, and a storage container for fixing and receiving the liquid crystal panel assembly and the backlight assembly. Here, the liquid crystal panel includes a thin film transistor substrate on which a thin film transistor array is formed, a common electrode substrate on which a common electrode is formed, and a liquid crystal layer interposed between the thin film transistor substrate and the common electrode substrate.
이하 도 1을 참조하여 본 발명의 액정표시장치를 제조하는 과정을 설명한다. 도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 액정표시장치의 제조 과정을 나타낸 순서도이다. Hereinafter, a process of manufacturing the liquid crystal display of the present invention will be described with reference to FIG. 1. 1 is a flowchart illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 1에 도시된 바와 같이 액정표시장치 제조 과정은, 박막 트랜지스터 모기판 제조 공정(S10), 공통 전극 모기판 제조 공정(S20), 액정셀 공정(S30) 및 모듈 공정(S40)을 포함한다. As shown in FIG. 1, the manufacturing process of the liquid crystal display includes a thin film transistor mother substrate manufacturing process (S10), a common electrode mother substrate manufacturing process (S20), a liquid crystal cell process (S30), and a module process (S40).
여기서, 박막 트랜지스터 모기판 제조 공정(S10)은 대형 유리기판(이하 모기판)에 박막 트랜지스터 어레이(TFT array)가 셀 단위로 형성되는 박막 트랜지스터 모기판을 제조하는 공정이고, 공통 전극 모기판 제조 공정(S20)은 또 다른 모기판에 공통 전극이 셀 단위로 형성된 공통 전극 모기판을 제조하는 공정이다.Here, the thin film transistor mother substrate manufacturing process (S10) is a process of manufacturing a thin film transistor mother substrate in which a thin film transistor array (TFT array) is formed on a large glass substrate (hereinafter referred to as a mother substrate) in units of cells, and a common electrode mother substrate manufacturing process S20 is a process of manufacturing a common electrode mother substrate in which a common electrode is formed in a cell unit on another mother substrate.
박막 트랜지스터 모기판 제조 공정(S10)에서는 기판 상에 도전막을 증착하고 패터닝하여 게이트선, 데이터선 또는 화소 전극을 형성하는 공정이 있다. In the thin film transistor mother substrate manufacturing process S10, a conductive film is deposited and patterned on a substrate to form a gate line, a data line, or a pixel electrode.
여기서 게이트선은 알루미늄(Al)과 알루미늄 합금 등 알루미늄 계열의 금속, 은(Ag)과 은 합금 등 은 계열의 금속, 구리(Cu)와 구리 합금 등 구리 계열의 금속, 몰리브덴(Mo)과 몰리브덴 합금 등 몰리브덴 계열의 금속, 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta) 따위로 이루어질 수 있다. 또한, 게이트선은 물리적 성질이 다른 두 개의 도전막(도시하지 않음)을 포함하는 다중막 구조를 가질 수 있다. 이 중 한 도전막은 게이트선의 신호 지연이나 전압 강하를 줄일 수 있도록 낮은 비저항(resistivity)의 금속, 예를 들면 알루미늄 계열 금속, 은 계열 금속, 구리 계열 금속 등으로 이루어진다. 이와는 달리, 다른 도전막은 다른 물질, 특히 ITO(indium tin oxide) 및 IZO(indium zinc oxide)와의 접촉 특성이 우수한 물질, 이를테면 몰 리브덴 계열 금속, 크롬, 티타늄, 탄탈륨 등으로 이루어진다. 이러한 조합의 좋은 예로는 크롬 하부막과 알루미늄 상부막 및 알루미늄 하부막과 몰리브덴 상부막을 들 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 게이트선은 다양한 여러 가지 금속과 도전체로 만들어질 수 있다.The gate line is made of aluminum-based metal such as aluminum (Al) and aluminum alloy, silver-based metal such as silver (Ag) and silver alloy, copper-based metal such as copper (Cu) and copper alloy, molybdenum (Mo) and molybdenum alloy Molybdenum-based metals, such as chromium (Cr), titanium (Ti), tantalum (Ta) and the like. In addition, the gate line may have a multi-layer structure including two conductive layers (not shown) having different physical properties. One of the conductive films is made of a low resistivity metal such as an aluminum-based metal, a silver-based metal, or a copper-based metal so as to reduce the signal delay or voltage drop of the gate line. In contrast, the other conductive film is made of a material having excellent contact properties with other materials, particularly indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO), such as molybdenum-based metals, chromium, titanium, tantalum, and the like. A good example of such a combination is a chromium bottom film and an aluminum top film and an aluminum bottom film and a molybdenum top film. However, the present invention is not limited thereto, and the gate line may be made of various various metals and conductors.
데이터선은 크롬, 몰리브덴 계열의 금속, 탄탈륨 및 티타늄 등 내화성 금속으로 이루어지는 것이 바람직하며, 내화성 금속 따위의 하부막(미도시)과 그 위에 위치한 저저항 물질 상부막(미도시)으로 이루어진 다층막 구조를 가질 수 있다. 다층막 구조의 예로는 앞서 설명한 크롬 하부막과 알루미늄 상부막 또는 알루미늄 하부막과 몰리브덴 상부막의 이중막 외에도 몰리브덴막-알루미늄막-몰리브덴막의 삼중막을 들 수 있다.The data line is preferably made of a refractory metal such as chromium, molybdenum-based metal, tantalum and titanium, and has a multi-layered structure consisting of a lower film (not shown) such as a refractory metal and an upper film (not shown) disposed thereon. Can have Examples of the multilayer film structure include a triple film of molybdenum film, aluminum film, and molybdenum film in addition to the above-described double film of chromium lower film and aluminum upper film or aluminum lower film and molybdenum upper film.
화소 전극은 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide) 등의 투명 도전체 또는 알루미늄 따위의 반사성 도전체로 이루어진다.The pixel electrode is made of a transparent conductor such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) or a reflective conductor such as aluminum.
또한 공통 전극 모기판 제조 공정(S20)에서는 기판 상에 도전막을 증착하고 패터닝하여 공통 전극을 형성하는 공정이 있다.In addition, in the common electrode mother substrate manufacturing process S20, there is a process of forming a common electrode by depositing and patterning a conductive film on a substrate.
여기서 공통 전극은 ITO 또는 IZO 등의 투명 도전체로 이루어진다.The common electrode is made of a transparent conductor such as ITO or IZO.
박막 트랜지스터 모기판 제조 공정(S10)과 공통 전극 모기판 제조 공정(S20)에 의해 준비된 박막 트랜지스터 모기판과 공통 전극 모기판은 액정셀 공정(S30)을 거치게 되는데, 액정셀 공정(S30)은 상기 모기판에 배향막과 실라인(seal line)을 형성하여 다수의 셀을 구획하고 셀 내에 액정을 적하한 다음 2매의 모기판을 접합한 후 다양한 커팅 도구를 이용하여 셀 별로 절단하여 액정 패널을 형성하는 공정 이다.The thin film transistor mother substrate and the common electrode mother substrate prepared by the thin film transistor mother substrate manufacturing process (S10) and the common electrode mother substrate manufacturing process (S20) are subjected to the liquid crystal cell process (S30), and the liquid crystal cell process (S30) is described above. An alignment layer and a seal line are formed on the mother substrate to partition a plurality of cells, drop the liquid crystal into the cells, bond two mother substrates, and cut each cell using various cutting tools to form a liquid crystal panel. Is fair.
그 후, 액정 패널에 전기적 신호를 공급하기 위한 구동회로를 부착하는 모듈 공정(S40)을 수행한다. 모듈 공정(S40)은 액정 패널에 구동 IC를 실장하고, PCB(printed circuit board)를 부착하여, 백 라이트 유닛(back light unit)과 함께 몰드 프레임(mold frame)과 샤시 등으로 조립하는 공정이다.Thereafter, a module process (S40) of attaching a driving circuit for supplying an electrical signal to the liquid crystal panel is performed. The module process (S40) is a process of mounting a driving IC on a liquid crystal panel, attaching a printed circuit board (PCB), and assembling a mold frame, a chassis, etc. together with a back light unit.
이와 같은 액정 표시 장치의 제조 과정 중 박막 트랜지스터 모기판 제조 공정(S10) 및 공통 전극 모기판 제조 공정(S20)에는 모기판 상에 도전막을 형성하고 패터닝하는 과정을 수행한다. 모기판에 도전막을 형성한 후 패터닝하기 전에 도전막의 전기적 특성을 체크하기 위하여 도전막의 면저항(sheet resistance)을 측정한다.In the process of manufacturing the liquid crystal display, a process of forming and patterning a conductive film on the mother substrate is performed in the thin film transistor mother substrate manufacturing process S10 and the common electrode mother substrate manufacturing process S20. After forming the conductive film on the mother substrate and before patterning, the sheet resistance of the conductive film is measured to check the electrical properties of the conductive film.
이하 도 2 내지 도 4를 참조하여 면저항을 측정하는 과정에 대하여 자세히 설명한다. 여기서 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 면저항 측정 장치를 나타내는 사시도이고, 도 3은 도 2의 면저항 측정 장치의 헤드를 나타내는 저면도이고, 도 4는 도 3의 프로브와 모기판의 위치 관계를 나타내는 평면도이다.Hereinafter, a process of measuring sheet resistance will be described in detail with reference to FIGS. 2 to 4. 2 is a perspective view illustrating a sheet resistance measuring apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention, FIG. 3 is a bottom view illustrating a head of the sheet resistance measuring apparatus of FIG. 2, and FIG. 4 is a positional relationship between the probe of FIG. 3 and the mother substrate. It is a top view which shows.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 면저항 측정 장치(100)는 유리 등으로 이루어진 모기판(120)을 지지하는 스테이지(stage)(110)와, 스테이지(110) 상부에 위치하여 면저항을 측정하는 4개의 프로브(probe)(160)가 형성된 헤드(head)(150)와, 헤드(150)를 움직이는 구동부(140)를 포함한다.2 and 3, the sheet
여기서 스테이지(110)의 상면에는 도전막이 형성된 모기판(120)이 안착되고, 스테이지(110)는 X축 방향으로 이동이 가능하다. 스테이지(110)에는 모기판(120)의 가장자리를 따라 정렬핀(130)이 형성되어 있다. 정렬핀(130)은 모기판(120)의 적어도 일측과 접촉함으로써 모기판(120)의 위치를 정하는 기준이 된다. 여기서 정렬핀(130)은 내모마성이 큰 물질을 사용하여 형성할 수 있다. 정렬핀(130)의 형상은 원기둥형, 다각기둥형 등과 같이 다양하게 변형이 가능하다.Here, the
정렬핀(130)을 통하여 위치가 정해진 모기판(120)의 상부에서 헤드(150)의 프로브(160)가 내려와서 모기판(120)에 형성된 도전막과 접촉하여 도전막의 면저항을 측정하게 된다. 헤드(150)에는 4개의 프로브(160)가 설치되어 일렬로 배치되어 있으며, 각 프로브(160) 간의 거리는 약 1 - 1.2 mm이다. 바깥쪽 2개의 프로브(160) 사이에 전류(I)가 흐르며, 안쪽 2개의 프로브(160) 사이의 전압(V)을 측정하여 면저항을 구하게 된다.The
구동부(140)는 프로브(160)가 설치된 헤드(150)와 연결되어 헤드(150)를 Z축 방향으로 이동시킨다. 따라서 구동부(140)의 Z축 방향의 움직임에 의해 프로브(160)는 모기판(120)과 접촉하게 된다. 또한 구동부(140)는 가이드 레일(142)을 따라 Y축 방향으로 이동할 수 있다. 앞서 언급한 바와 같이 스테이지(110)는 X축 방향으로 이동 가능하고, 구동부(140)는 Y축 및 Z축 방향으로 이동 가능하기 때문에, 프로브(160)는 모기판(120) 상의 임의의 위치에서 면저항을 측정할 수 있다. 본 실시예에서는 스테이지(110) 및 구동부(140)가 각각 특정 방향으로 움직이는 것으로 설명하고 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 프로브(160)가 모기판(120) 상의 임의의 위치에서 면저항을 측정할 수 있는 범위 내에서 스테이지(110) 및 구동부(140)는 임의의 방향으로 움직일 수 있다.The driving
도 2 및 도 3을 참조하면, 모기판(120)에는 다수의 셀(122)이 배치되어 있고, 각 셀(122)은 나중에 분리되어 액정 표시 장치를 구성하는 박막 트랜지스터 기판 또는 공통 전극 기판이 된다. 헤드(150)에 설치된 4개의 프로브(160)는 일렬로 배치되어 있기 때문에, 다양한 셀(122)의 배치에 일괄적으로 적용하기 어렵다. 따라서 본 발명의 일 실시예에 따른 면저항 측정 장치(100)의 헤드(150)는 회전이 가능하다. 즉 헤드(150)에 설치된 4개의 프로브(160)가 배열된 방향을 전환할 수 있다. 프로브(160)의 배열 방향을 임의로 전환할 수 있으므로 하나의 면저항 측정 장치(100)를 셀(122)의 배치가 서로 다른 다양한 모기판(120)에 적용할 수 있다. 여기서, 구동부(140)는 헤드(150)를 회전시키기 위하여 모터 방식 또는 공압 방식 등을 사용할 수 있다.2 and 3, a plurality of
도 3 및 도 4를 참조하면, 제조 단가를 줄이기 위해 셀(122)과 셀(122) 사이의 셀 간격부(124)가 줄어드는 추세이다. 셀(122)에 데미지(damage)를 주지 않으면서 도전막의 면저항을 측정하기 위하여 프로브(160)는 셀 간격부(124)와 접촉하는 것이 바람직하다. 앞서 언급한 바와 같이 각 프로브(160)는 1 - 1.2 mm 이격되어 있으므로, 4개의 프로브(160)가 도전막에 접촉하기 위해서는 프로브(160)의 배열 방향으로는 약 4 - 5 mm의 공간이 필요하지만, 프로브(160)의 배열 방향에 수직하는 방향으로는 이보다 작은 공간이 필요하다.3 and 4, the
따라서 도 4에 도시된 바와 같이, 직사각형의 셀(122)이 매트릭스 형태로 배열되어 있고, 예를 들어 X축 방향의 셀 간격부(124)의 길이보다 Y축 방향의 셀 간격부(124)의 길이가 더 긴 경우, 프로브(160)를 X축 방향으로 배열함으로써 면저항 측정 위치에 대한 공간적인 마진을 확보할 수 있다. 만약 도 4와 반대로 X축 방향의 셀 간격부(124)의 길이보다 Y축 방향의 셀 간격부(124)의 길이가 더 짧은 경우, 프로브(160)를 Y축 방향으로 배열하는 것이 바람직하다. 이와 같이 헤드(150)가 회전 가능하기 때문에, 셀 간격부(124)가 줄어들더라도 상대적으로 공간적인 마진이 큰 방향으로 프로브(160)를 회전하여 배치할 수 있다. Therefore, as shown in FIG. 4, the
또한 프로브(160)는 전 방향으로 회전할 수 있으나, 바람직하게는 셀(122)이 직사각형일 경우 셀 간격부(124)는 X축 또는 Y축 방향으로 형성되어 있으므로, 도 3에 도시된 바와 같이, 실질적으로 90도만큼 회전할 수 있다.In addition, the
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains may implement the present invention in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. I can understand that. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 면저항 측정 장치에 의하면, 면저항 측정 위치에 대한 공간적인 마진을 확보할 수 있으며, 다양한 셀 배치에 일률적으로 적용할 수 있다. As described above, according to the sheet resistance measuring apparatus according to the present invention, a spatial margin with respect to the sheet resistance measuring position can be ensured and can be uniformly applied to various cell arrangements.
Claims (10)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060073488A KR20080012538A (en) | 2006-08-03 | 2006-08-03 | Apparatus for measuring sheet resistance |
Applications Claiming Priority (1)
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KR1020060073488A KR20080012538A (en) | 2006-08-03 | 2006-08-03 | Apparatus for measuring sheet resistance |
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KR20080012538A true KR20080012538A (en) | 2008-02-12 |
Family
ID=39340638
Family Applications (1)
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KR1020060073488A KR20080012538A (en) | 2006-08-03 | 2006-08-03 | Apparatus for measuring sheet resistance |
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KR (1) | KR20080012538A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8604814B2 (en) | 2010-12-03 | 2013-12-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Tester and test apparatus including the same |
-
2006
- 2006-08-03 KR KR1020060073488A patent/KR20080012538A/en not_active Application Discontinuation
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