KR20080011623A - Light emitting device and fabrication method of the same - Google Patents

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Abstract

A light emitting device and a fabrication method thereof are provided to improve the light emitting efficiency and the reliability of the device by having a second electrode made of silver or an alloy of silver with low specific resistance and high physical properties. A light emitting device includes a substrate(100), a first electrode(110), a light emitting layer(140), an electron injection layer(160), and a second electrode(170). The first electrode is located on the substrate. The light emitting layer is located on the first electrode. The electron injection layer is located on the light emitting layer. The second electrode is located on the electron injection layer. The electron injection layer is composed of a first layer made of a halogen metal compound and a second layer made of metal.

Description

전계발광소자 및 그 제조방법{Light emitting device and fabrication method of the same}Electroluminescent device and method of manufacturing the same {Light emitting device and fabrication method of the same}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전계발광소자의 구조를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing the structure of an electroluminescent device according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 전계발광소자의 J-V 특성을 도시한 그래프이다.2 is a graph showing the J-V characteristics of the electroluminescent device according to an embodiment of the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100: 기판 110: 제 1 전극100 substrate 110 first electrode

120: 정공주입층 130: 정공수송층120: hole injection layer 130: hole transport layer

140: 발광층 150: 전자수송층140: light emitting layer 150: electron transport layer

160: 전자주입층 170: 제 2 전극160: electron injection layer 170: second electrode

본 발명은 전계발광소자 및 그 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to an electroluminescent device and a method of manufacturing the same.

평판표시장치(FPD: Flat Panel Display)는 멀티미디어의 발달과 함께 그 중요성이 증대되고 있다. 이에 부응하여 액정표시장치(Liquid Crystal Display : LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: PDP), 전계방출표시장치(Field Emission Display: FED), 전계발광표시장치(Light Emitting Device) 등과 같은 여러 가지의 평면형 디스플레이가 실용화되고 있다.Flat panel displays (FPDs) are becoming more important with the development of multimedia. In response, various liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs), field emission displays (FEDs), light emitting devices (Light Emitting Devices), etc. Flat panel displays have been put into practical use.

그 중, 전계발광표시장치는 응답속도가 1ms 이하로서 고속의 응답속도를 가지며, 소비 전력이 낮고, 자체 발광이므로 시야각에 문제가 없어서, 차세대 평판 표시 장치로 주목받고 있다.Among them, the electroluminescent display has a high response time with a response speed of 1 ms or less, low power consumption, and no self-emission, so that there is no problem in viewing angle.

특히, 유기전계발광소자는 애노드, 애노드 상에 위치하는 유기발광층 및 유기발광층 상에 위치하는 캐소드를 포함하며, 애노드와 캐소드에 전압을 인가하면, 애노드로부터 유기발광층 내로 정공이 주입되고, 캐소드로부터 유기발광층 내로 전자가 주입된다. 유기발광층 내로 주입된 정공과 전자는 재결합하여 엑시톤(exciton)을 생성하고, 이러한 엑시톤이 여기 상태에서 기저 상태로 전이하면서 빛을 방출하게 된다.In particular, the organic light emitting device includes an anode, an organic light emitting layer positioned on the anode, and a cathode located on the organic light emitting layer, and when voltage is applied to the anode and the cathode, holes are injected from the anode into the organic light emitting layer, and the organic material from the cathode Electrons are injected into the light emitting layer. The holes and electrons injected into the organic light emitting layer recombine to produce excitons, which emit light as the excitons transition from the excited state to the ground state.

여기서, 캐소드로는 일함수가 낮은 알루미늄(Al)을 주로 사용하고 있는데, 알루미늄(Al)은 비저항이 높고, 전자 이동(electro migration)이 잘 일어나는 물질로 전류의 이동방향에 따라 알루미늄 원자가 쉽게 이동하는 문제가 있다. 따라서, 알루미늄으로 이루어진 캐소드는 전계발광소자의 구동시 열이 가해지면 질량 이동에 의한 힐락(hillock)이 형성되어 배선 결함이 발생할 우려가 높다. 또한, 알루미늄은 다른 금속에 비하여 수분 및 산소 투과도가 높고 산화력이 강하므로, 캐소드 표면 또는 캐소드와 다른 층의 계면에 알루미늄 산화막이 쉽게 형성된다. 이는 캐소드의 저항을 증가시켜 전계발광소자의 구동 전압을 상승시키는 문제점이 있다.Here, as a cathode, aluminum (Al) having a low work function is mainly used, and aluminum (Al) is a material having high specific resistance and having good electron migration, which easily moves aluminum atoms according to the direction of current movement. there is a problem. Therefore, the cathode made of aluminum has a high possibility of causing a wiring defect due to the formation of a hillock due to mass movement when heat is applied when the electroluminescent device is driven. In addition, since aluminum has higher moisture and oxygen permeability and stronger oxidizing power than other metals, aluminum oxide films are easily formed on the surface of the cathode or at the interface between the cathode and other layers. This increases the driving voltage of the electroluminescent device by increasing the resistance of the cathode.

따라서, 본 발명은 소자의 신뢰성 및 발광 효율을 향상시킬 수 있는 전계발광소자 및 그 제조방법을 제공하는 것에 그 목적이 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an electroluminescent device and a method of manufacturing the same, which can improve the reliability and luminous efficiency of the device.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 기판, 기판 상에 위치하는 제 1 전극, 제 1 전극 상에 위치하는 발광층, 발광층 상에 위치하며 할로겐 금속 화합물 및 금속을 포함하는 전자주입층 및 전자주입층 상에 위치하는 제 2 전극을 포함하는 전계발광소자를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention, a substrate, a first electrode located on the substrate, a light emitting layer located on the first electrode, an electron injection layer and an electron injection layer containing a halogen metal compound and a metal located on the light emitting layer Provided is an electroluminescent device comprising a second electrode located on a layer.

전자주입층은 할로겐 금속 화합물로 이루어진 제 1 층과 상기 제 1 층 상에 위치하며 금속으로 이루어진 제 2 층을 포함할 수 있다. The electron injection layer may include a first layer made of a halogen metal compound and a second layer made of metal located on the first layer.

제 1 층의 두께는 0.3 내지 10 nm 일 수 있다.The thickness of the first layer can be 0.3 to 10 nm.

전자주입층은 할로겐 금속 화합물과 금속이 공증착된 것일 수 있다.The electron injection layer may be a co-deposited metal and a halogen metal compound.

할로겐 금속 화합물은 리튬 플로라이드(LiF), 소듐 플로라이드(NaF), 세슘 플로라이드(CsF), 마그네슘 플로라이드(MgF2) 또는 칼슘 플로라이드(CaF2) 등일 수 있다.The halogen metal compound may be lithium fluoride (LiF), sodium fluoride (NaF), cesium fluoride (CsF), magnesium fluoride (MgF 2 ), calcium fluoride (CaF 2 ), or the like.

금속은 일함수가 낮으며 할로겐 원소와 반응성이 높은 금속일 수 있다.The metal may be a metal having a low work function and high reactivity with a halogen element.

금속은 알루미늄 또는 마그네슘일 수 있다.The metal may be aluminum or magnesium.

제 2 전극은 은 또는 은 합금으로 이루어질 수 있다.The second electrode may be made of silver or silver alloy.

또한, 본 발명은, 기판을 제공하는 단계, 기판 상에 제 1 전극을 형성하는 단계, 제 1 전극 상에 발광층을 형성하는 단계, 발광층 상에 할로겐 금속 화합물과 금속을 포함하는 전자주입층을 형성하는 단계 및 전자주입층 상에 제 2 전극을 형성하는 단계를 포함하는 전계발광소자의 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a substrate, forming a first electrode on the substrate, forming a light emitting layer on the first electrode, forming an electron injection layer containing a halogen metal compound and a metal on the light emitting layer And it provides a method of manufacturing an electroluminescent device comprising the step of forming a second electrode on the electron injection layer.

전자주입층을 형성하는 단계는, 발광층 상에 할로겐 금속 화합물을 포함하는 제 1 층을 형성하는 단계; 및 제 1 층 상에 금속으로 이루어진 제 2 층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.The forming of the electron injection layer may include forming a first layer including a halogen metal compound on the emission layer; And forming a second layer of metal on the first layer.

전자주입층을 형성하는 단계는, 할로겐 금속 화합물과 금속을 공증착하여 수행할 수 있다.The forming of the electron injection layer may be performed by co-depositing a halogen metal compound and a metal.

제 2 전극은 은 또는 은 합금으로 형성할 수 있다.The second electrode can be formed of silver or silver alloy.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예를 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, it will be described embodiments of the present invention;

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전계발광소자의 구조를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing the structure of an electroluminescent device according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 기판(100) 상에 제 1 전극(110), 정공주입층(120), 정공수송층(130), 발광층(140), 전자수송층(150), 전자주입층(160) 및 제 2 전극(170)을 포함하는 전계발광소자가 위치한다.Referring to FIG. 1, the first electrode 110, the hole injection layer 120, the hole transport layer 130, the emission layer 140, the electron transport layer 150, the electron injection layer 160, and the substrate 100 may be disposed on the substrate 100. The electroluminescent device including the second electrode 170 is positioned.

자세히 설명하면, 유리, 플라스틱 또는 금속으로 이루어진 기판(100) 상에 제 1 전극(110)이 위치한다. 여기서, 제 1 전극(110)은 정공을 제공하기 위한 애노드일 수 있으며, ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ICO(Indium Cerium Oxide) 또는 ZnO(Zinc Oxide) 등과 같은 투명도전막으로 형성될 수 있다.In detail, the first electrode 110 is positioned on the substrate 100 made of glass, plastic, or metal. The first electrode 110 may be an anode for providing holes, and may be a transparent conductive film such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium cerium oxide (ICO), or zinc oxide (ZnO). Can be formed.

제 1 전극(110) 상에 정공주입층(120)이 위치한다. 정공주입층(120)은 제 1 전극(110)으로부터 정공주입의 효율이 높은 물질, 즉 이온화 포텐셜이 작으며, 제 1 전극(110)과 안정한 계면을 유지할 수 있는 물질로 형성될 수 있다. The hole injection layer 120 is positioned on the first electrode 110. The hole injection layer 120 may be formed of a material having a high hole injection efficiency from the first electrode 110, that is, a small ionization potential and a material capable of maintaining a stable interface with the first electrode 110.

정공주입층(120)으로 사용할 수 있는 물질의 대표적인 예로는 포피린계 구리 착화합물인 구리 프탈로시아닌 (CuPc)이 있으며, 스타버스트형(Starburst type)의 방향족 아릴 아민계 화합물들이 사용될 수도 있다.Representative examples of the material that can be used as the hole injection layer 120 is copper phthalocyanine (CuPc), a porphyrin-based copper complex, and starburst type aromatic aryl amine compounds may be used.

정공주입층(120) 상에 정공수송층(130)이 위치한다. 정공수송층(130)은 정공주입층(120)으로부터 정공을 전달받아 발광층(140)으로 수송하는 역할을 하며, 높은 정공 이동도와 정공에 대한 안정성을 가지며 전자를 막아주는 역할을 한다. 정공수송층(130)은 소자에 대한 내열성이 요구되므로 유리 전이 온도(Tg)가 80℃ 이상의 값을 갖는 재료가 바람직하다.The hole transport layer 130 is positioned on the hole injection layer 120. The hole transport layer 130 receives holes from the hole injection layer 120 and transports the holes to the light emitting layer 140. The hole transport layer 130 has high hole mobility and stability to holes and blocks electrons. Since the hole transport layer 130 requires heat resistance to the device, a material having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or higher is preferable.

정공수송층(130)으로 사용될 수 있는 물질로는 스피로-아릴아민계화합물, 페릴렌-아릴아민계화합물, 아자시클로헵타트리엔화합물, 비스(디페닐비닐페닐)안트라센, 실리콘게르마늄옥사이드화합물, 실리콘계아릴아민화합물 등이 있다.Materials that can be used for the hole transport layer 130 include spiro-arylamine compounds, perylene-arylamine compounds, azacycloheptatriene compounds, bis (diphenylvinylphenyl) anthracene, silicon germanium oxide compounds, and silicon-based aryls Amine compounds and the like.

정공수송층(130) 상에 발광층(140)이 위치한다. 발광층(140)은 애노드와 캐소드로부터 각각 주입된 정공과 전자가 재결합하여 발광을 수행하는 층으로 양자효율이 높은 물질로 이루어져 있다. The emission layer 140 is positioned on the hole transport layer 130. The light emitting layer 140 is a layer for emitting light by recombining holes and electrons injected from the anode and the cathode, respectively, and made of a material having high quantum efficiency.

정공과 전자가 결합하여 발광을 하는 발광층용 유기 단분자는 기능적인 측면에서 크게 호스트(host) 물질과 게스트(guest) 물질로 나누어진다. 일반적으로 호스트 또는 게스트 물질 단독으로도 사용될 수 있으나, 단독으로 사용시 효율 및 휘도가 낮고 셀프 패킹(self-packing)으로 인한 엑시머(excimer) 특성이 함께 나타나므로, 호스트에 게스트를 도핑(dopping)하여 사용할 수 있다.The organic monomolecule for the light emitting layer in which holes and electrons combine to emit light is largely divided into a host material and a guest material in terms of function. Generally, the host or the guest material may be used alone, but when used alone, the efficiency and brightness are low, and the excimer characteristic due to self-packing is exhibited. Thus, the host may be used by doping the guest. Can be.

녹색 발광층으로는 8-히드록시퀴놀린 알루미늄염(Alq3)이 독보적으로 사용되고 있으며, 청색 발광층으로는 방향족 탄화수소, 스피로(spiro)형 물질, 알루미늄을 포함한 유기금속 화합물, 이미다졸기를 가진 이형고리 화합물, 퓨즈드(fused)된 방향족 화합물 등이 사용될 수 있다.As the green light emitting layer, 8-hydroxyquinoline aluminum salt (Alq 3 ) is used exclusively, and as the blue light emitting layer, aromatic hydrocarbons, spiro-type materials, organometallic compounds including aluminum, and heterocyclic compounds having imidazole groups Fused aromatic compounds and the like may be used.

적색 발광층의 경우 밴드갭 (band gap)이 작은 적색 발광의 특성상 다량의 녹색 발광 물질에 적색 발광 물질을 소량 도핑하여 사용하고 있으며, 상기 적색 발광층은 호스트 물질로서 카바졸계의 유기물질을 사용할 수 있으며, 도펀트로는 PIQIr(acac), PQIr(acac), PQIr ({tris(1-phenylquinoline) iridium}), DCJTB, DCDDC, AAAP, DPP 및 BSN 등을 사용할 수 있다.In the case of the red light emitting layer, a small amount of red light emitting material is doped into a large amount of green light emitting material due to the characteristic of red light emission with a small band gap, and the red light emitting layer may use a carbazole-based organic material as a host material. As the dopant, PIQIr (acac), PQIr (acac), PQIr ({tris (1-phenylquinoline) iridium}), DCJTB, DCDDC, AAAP, DPP and BSN can be used.

발광층(140) 상에 전자 수송층(150)이 위치한다. 전자수송층(150)은 주입된 전자를 효율적으로 발광층에 수송할 수 있도록 전자친화력과 전자이동속도가 크고 전자에 대한 안정성이 우수한 물질로 이루어질 수 있다. 테트라 페닐 부타디엔 등의 방향족 화합물, 히드록시 퀴놀린의 알루미늄 등의 금속착제, 시클로 펜타디엔 유도체 비스 스티릴 벤젠 유도체 등이 사용될 수 있으며, 유기 단분자 물질 중에서 는 안정성이 우수하고 전자 친화도가 큰 8-히드록시퀴놀린 알루미늄염(Alq3)이 주로 사용된다.The electron transport layer 150 is positioned on the emission layer 140. The electron transport layer 150 may be made of a material having a high electron affinity, a high electron transfer speed, and excellent stability to electrons so as to efficiently transport the injected electrons to the light emitting layer. Aromatic compounds such as tetraphenyl butadiene, metal complexes such as aluminum of hydroxy quinoline, cyclopentadiene derivatives and bis styryl benzene derivatives may be used. Among organic monomolecular substances, 8- Hydroxyquinoline aluminum salt (Alq 3 ) is mainly used.

전자수송층(150) 상에 전자주입층(160)이 위치한다. 전자주입층(160)은 할로겐 금속 화합물과 금속을 포함할 수 있다. 할로겐 금속 화합물의 예로는 리튬 플로라이드(LiF), 소듐 플로라이드(NaF), 세슘 플로라이드(CsF), 마그네슘 플로라이드(MgF2) 또는 칼슘 플로라이드(CaF2) 등을 사용할 수 있으며, 금속으로는 일함수가 낮으며 할로겐 원소와의 반응성이 높은 것을 사용할 수 있다. 예를 들면, 알루미늄(Al) 또는 마그네슘(Mg)을 들 수 있다.The electron injection layer 160 is positioned on the electron transport layer 150. The electron injection layer 160 may include a halogen metal compound and a metal. Examples of the halogen metal compound may include lithium fluoride (LiF), sodium fluoride (NaF), cesium fluoride (CsF), magnesium fluoride (MgF 2 ) or calcium fluoride (CaF 2 ). Has a low work function and high reactivity with the halogen element. For example, aluminum (Al) or magnesium (Mg) is mentioned.

여기서, 금속은 할로겐 금속 화합물과 반응하여 캐소드와의 주입 장벽을 낮추기 위한 것이다. 예를 들면, 리튬 플로라이드(LiF)와 알루미늄(Al)으로 이루어진 전자주입층의 경우, 알루미늄(Al)은 플로린과 반응성이 높으므로, 리튬을 떼어내고 플로린(F)과 반응한다. 따라서, 전자주입층(160)에는 일함수가 낮은 리튬(Li)이 단독으로 존재하게 되고, 이로써 전자 주입의 에너지 장벽이 낮아지게 되어 전자주입 특성을 향상시키는 역할을 한다. 따라서, 후속하는 제 2 전극의 형성시 할로겐 금속 화합물과 반응성이 낮은 금속을 사용하더라도 전자주입 특성이 뛰어나므로, 제 2 전극 형성시 물질의 선택의 폭이 넓어질 수 있다는 장점이 있다.Here, the metal is for reacting with the halogen metal compound to lower the injection barrier with the cathode. For example, in the electron injection layer made of lithium fluoride (LiF) and aluminum (Al), since aluminum (Al) is highly reactive with florin, lithium is removed and reacted with florin (F). Therefore, lithium (Li) having a low work function is present alone in the electron injection layer 160, thereby lowering an energy barrier of electron injection, thereby improving electron injection characteristics. Therefore, even when a metal having a low reactivity with the halogen metal compound is used in the formation of the subsequent second electrode, the electron injection characteristics are excellent, and thus there is an advantage in that the selection of materials can be widened when the second electrode is formed.

전자주입층(160)은 할로겐 금속 화합물로 이루어진 제 1 층과, 제 1 층 상에 위치하며 금속으로 이루어진 제 2 층을 포함할 수 있다. 여기서, 할로겐 금속 화합물로 이루어진 제 1 층의 두께는 0.3 내지 10nm 일 수 있다. 제 1 층의 두께가 0.3nm 이상이면 제 1 층의 두께를 균일하게 형성할 수 있으며, 10nm 이하이면 할로겐 금속 화합물의 절연 특성으로 인한 전기적 장애를 방지할 수 있다.The electron injection layer 160 may include a first layer made of a halogen metal compound and a second layer made of a metal on the first layer. Here, the thickness of the first layer made of a halogen metal compound may be 0.3 to 10 nm. When the thickness of the first layer is 0.3 nm or more, the thickness of the first layer may be uniformly formed, and when the thickness of the first layer is 10 nm or less, electrical failure due to the insulating properties of the halogen metal compound may be prevented.

또한, 이와는 달리, 전자주입층(160)은 할로겐 금속 화합물과 금속을 공증착하여 하나의 층으로 형성할 수도 있다. Alternatively, the electron injection layer 160 may be formed as one layer by co-depositing a halogen metal compound and a metal.

상기와 같은 전자주입층(160)은 이-빔 증착(e-beam deposition), 열 증착(thermal evaporation) 또는 스퍼터링(sputtering)에 의하여 형성될 수 있다. The electron injection layer 160 may be formed by e-beam deposition, thermal evaporation, or sputtering.

전자주입층(160) 상에 제 2 전극(170)이 위치한다. 제 2 전극(170)은 은(Ag) 또는 은 합금(Ag alloy)으로 이루어질 수 있다. 은(Ag) 또는 은 합금(Ag alloy)은 일함수가 낮으며 반사율이 뛰어나, 전계발광소자의 발광 효율을 높일 수 있는 장점이 있다. 또한, 은(Ag) 또는 은 합금(Ag alloy)은 알루미늄에 비하여 비저항이 낮으며, 분자량이 높아 물성이 견고하다. 따라서, 전계발광소자의 구동에 필요한 전압을 낮출 수 있는 장점이 있다.The second electrode 170 is positioned on the electron injection layer 160. The second electrode 170 may be made of silver (Ag) or silver alloy. Silver (Ag) or silver alloy (Ag alloy) has a low work function and excellent reflectance, there is an advantage to increase the luminous efficiency of the electroluminescent device. In addition, silver (Ag) or silver alloy (Ag alloy) has a lower specific resistance than aluminum and has high molecular weight and high physical properties. Therefore, there is an advantage that can lower the voltage required for driving the electroluminescent device.

본 발명의 일 실시예에서는 제 1 전극을 애노드로 형성하였지만, 제 1 전극은 캐소드로 형성할 수도 있으며, 이와 같은 경우, 정공수송층 등의 유기층들의 적층순서는 역으로 될 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시예에서 설명한 정공주입층, 정공수송층 및 전자수송층은 선택적으로 형성할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the first electrode is formed as an anode, but the first electrode may be formed as a cathode. In this case, the stacking order of organic layers such as a hole transport layer may be reversed. In addition, the hole injection layer, the hole transport layer and the electron transport layer described in an embodiment of the present invention may be selectively formed.

(실험예)Experimental Example

기판 상에 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide)를 사용하여 제 1 전극을 형성하고, 제 1 전극 상에 유기발광층을 형성하였다. 그런 다음, 유기발광층 상에 8- 히드록시퀴놀린 알루미늄염(Alq3)를 사용하여 전자수송층을 형성한 후, 리튬 플로라이드(LiF) 및 알루미늄(Al)을 순차적으로 적층하여 전자주입층을 형성하였다. 여기서, 리튬 플로라이드(LiF) 및 알루미늄(Al)은 각각 5Å의 두께로 형성하였다. 그 후, 전자주입층 상에 은(Ag)으로 제 2 전극을 형성하여 전계발광소자를 제조하였다.A first electrode was formed on the substrate using indium tin oxide, and an organic light emitting layer was formed on the first electrode. Then, an electron transport layer was formed using 8-hydroxyquinoline aluminum salt (Alq 3 ) on the organic light emitting layer, and then lithium fluoride (LiF) and aluminum (Al) were sequentially stacked to form an electron injection layer. . Here, lithium fluoride (LiF) and aluminum (Al) were each formed to a thickness of 5 kPa. Thereafter, a second electrode was formed of silver (Ag) on the electron injection layer to manufacture an electroluminescent device.

(비교예 1) (Comparative Example 1)

유기발광층 상에 8-히드록시퀴놀린 알루미늄염(Alq3)으로 이루어진 전자수송층 및 리튬 플로라이드(LiF)로 이루어진 전자주입층을 순차적으로 형성한 다음, 은(Ag)을 사용하여 제 2 전극을 형성한 것을 제외하고는 실험예와 동일하게 전계발광소자를 제조하였다. 여기서, 전자주입층은 5Å의 두께로 형성하였다.On the organic light emitting layer, an electron transport layer made of 8-hydroxyquinoline aluminum salt (Alq 3 ) and an electron injection layer made of lithium fluoride (LiF) were sequentially formed, and then a second electrode was formed using silver (Ag). Except one, an electroluminescent device was manufactured in the same manner as in Experimental Example. Herein, the electron injection layer was formed to a thickness of 5 GPa.

(비교예 2) (Comparative Example 2)

유기발광층 상에 8-히드록시퀴놀린 알루미늄염(Alq3)를 사용하여 전자수송층을 형성한 후, 은(Ag)을 사용하여 제 2 전극을 형성한 것을 제외하고는 실험예와 동일하게 전계발광소자를 제조하였다.An electroluminescent device was formed in the same manner as in Experimental Example except that an electron transport layer was formed on the organic light emitting layer using 8-hydroxyquinoline aluminum salt (Alq 3 ), and then a second electrode was formed using silver (Ag). Was prepared.

도 2는 본 발명의 실험예 및 비교예 1,2에 따른 전계발광소자들의 J-V 특성을 도시한 그래프이다.2 is a graph illustrating J-V characteristics of the electroluminescent devices according to Experimental Examples and Comparative Examples 1 and 2 of the present invention.

도 2를 참조하면, 실험예에 따른 전계발광소자(A)는 비교예 1 및 2에 따른 전계발광소자(B,C)보다 낮은 구동 전압을 갖는 것을 알 수 있다. Referring to FIG. 2, it can be seen that the electroluminescent device A according to the experimental example has a lower driving voltage than the electroluminescent devices B and C according to Comparative Examples 1 and 2.

비교예 1의 경우, 할로겐 금속 화합물인 리튬 플로라이드(LiF)로 전자주입층을 형성하였으나, 은(Ag)과 할로겐 원소(F)의 반응성이 약하여 전자 주입 효과가 저하되므로, 전자주입층을 형성하지 않은 비교예 2과 비슷한 높은 구동 전압을 가짐을 알 수 있다.In Comparative Example 1, the electron injection layer was formed of lithium fluoride (LiF), which is a halogen metal compound. However, since the reactivity between silver (Ag) and the halogen element (F) is weak, the electron injection effect is reduced, thereby forming the electron injection layer. It can be seen that it has a high driving voltage similar to Comparative Example 2 not.

그러나, 본 발명의 실험예와 같이 할로겐 금속 화합물인 리튬 플로라이드(LiF)과 알루미늄(Al)으로 전자주입층을 형성하였을 경우, 전자 주입시 에너지 장벽이 낮아져 전자 주입 효과가 향상된다. 따라서 전계발광소자의 구동 전압이 낮아진 것을 알 수 있다.However, when the electron injection layer is formed of lithium fluoride (LiF) and aluminum (Al), which are halogen metal compounds as in the experimental example of the present invention, the energy barrier is lowered during electron injection, thereby improving the electron injection effect. Therefore, it can be seen that the driving voltage of the electroluminescent element is lowered.

상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 전계발광소자는 할로겐 금속 화합물 및 금속을 포함하는 전자주입층을 포함함으로써, 전자 주입의 에너지 장벽을 낮추어 전계발광소자의 구동 전압을 낮출 수 있다. 따라서, 전계발광소자의 발광 효율을 높일 수 있다. As described above, the electroluminescent device according to an embodiment of the present invention includes an electron injection layer including a halogen metal compound and a metal, thereby lowering an energy barrier of electron injection, thereby lowering a driving voltage of the electroluminescent device. Therefore, the luminous efficiency of the electroluminescent element can be improved.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 전계발광소자는 비저항이 낮고 물성이 뛰어난 은 또는 은 합금으로 이루어진 제 2 전극을 포함함으로써, 발광 효율을 높임과 동시에 소자의 신뢰성을 확보할 수 있다.In addition, the electroluminescent device according to an embodiment of the present invention includes a second electrode made of silver or a silver alloy having a low specific resistance and excellent physical properties, thereby increasing luminous efficiency and ensuring device reliability.

본 발명을 특정의 바람직한 실시예에 관련하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명이 그에 한정되는 것이 아니고, 이하의 특허청구범위에 의해 마련되는 본 발명의 정신이나 분야를 이탈하지 않는 한도 내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변화될 수 있다는 것을 당 업계에서 통상의 지식을 가진 자는 용이하게 알 수 있을 것이다.While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments, the invention is not so limited, and the invention is not limited to the scope and spirit of the invention as defined by the following claims. It will be readily apparent to one of ordinary skill in the art that various modifications and variations can be made.

본 발명은 소자의 신뢰성이 확보되며, 발광 효율이 높은 전계발광소자를 제공할 수 있는 장점이 있다.The present invention has the advantage of ensuring the reliability of the device, it is possible to provide an electroluminescent device with high luminous efficiency.

Claims (19)

기판;Board; 상기 기판 상에 위치하는 제 1 전극;A first electrode on the substrate; 상기 제 1 전극 상에 위치하는 발광층;A light emitting layer on the first electrode; 상기 발광층 상에 위치하며, 할로겐 금속 화합물 및 금속을 포함하는 전자주입층; 및An electron injection layer disposed on the emission layer and including a halogen metal compound and a metal; And 상기 전자주입층 상에 위치하는 제 2 전극을 포함하는 전계발광소자.Electroluminescent device comprising a second electrode located on the electron injection layer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전자주입층은 할로겐 금속 화합물로 이루어진 제 1 층과 상기 제 1 층 상에 위치하며 금속으로 이루어진 제 2 층을 포함하는 전계발광소자.The electron injection layer is an electroluminescent device comprising a first layer made of a halogen metal compound and a second layer made of metal located on the first layer. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제 1 층의 두께는 0.3 내지 10 nm 이하인 전계발광소자.The first layer has a thickness of 0.3 to 10 nm or less. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전자주입층은 할로겐 금속 화합물과 금속이 공증착된 전계발광소자.The electron injection layer is an electroluminescent device in which a metal halide and a metal co-deposited. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 할로겐 금속 화합물은 리튬 플로라이드(LiF), 소듐 플로라이드(NaF), 세슘 플로라이드(CsF), 마그네슘 플로라이드(MgF2) 및 칼슘 플로라이드(CaF2)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 전계발광소자.The halogen metal compound is any one selected from the group consisting of lithium fluoride (LiF), sodium fluoride (NaF), cesium fluoride (CsF), magnesium fluoride (MgF 2 ) and calcium fluoride (CaF 2 ) Light emitting element. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 금속은 일함수가 낮으며 할로겐 원소와 반응성이 높은 금속인 전계발광소자.The metal is an electroluminescent device having a low work function and a metal having high reactivity with a halogen element. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 금속은 알루미늄 또는 마그네슘인 전계발광소자.The metal is an electroluminescent device is aluminum or magnesium. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 2 전극은 은 또는 은 합금으로 이루어진 전계발광소자.The second electrode is an electroluminescent device made of silver or silver alloy. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 발광층과 전자주입층 사이에 전자수송층이 개재된 전계발광소자.An electroluminescent device having an electron transport layer interposed between the light emitting layer and the electron injection layer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 전극과 발광층 사이에 정공주입층 또는 정공수송층 중 어느 하나 이상이 개재된 전계발광소자.And at least one of a hole injection layer and a hole transport layer interposed between the first electrode and the light emitting layer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 애노드는 투명도전막으로 이루어진 전계발광소자.The anode is an electroluminescent device consisting of a transparent conductive film. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 발광층은 유기물을 포함하는 전계발광소자.The light emitting layer is an electroluminescent device comprising an organic material. 기판을 제공하는 단계;Providing a substrate; 상기 기판 상에 제 1 전극을 형성하는 단계;Forming a first electrode on the substrate; 상기 제 1 전극 상에 발광층을 형성하는 단계;Forming a light emitting layer on the first electrode; 상기 발광층 상에 할로겐 금속 화합물과 금속을 포함하는 전자주입층을 형성하는 단계; 및Forming an electron injection layer including a halogen metal compound and a metal on the light emitting layer; And 상기 전자주입층 상에 제 2 전극을 형성하는 단계를 포함하는 전계발광소자의 제조방법.Forming a second electrode on the electron injection layer manufacturing method of an electroluminescent device. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 전자주입층을 형성하는 단계는,Forming the electron injection layer, 상기 발광층 상에 할로겐 금속 화합물을 포함하는 제 1 층을 형성하는 단계; 및 상기 제 1 층 상에 금속으로 이루어진 제 2 층을 형성하는 단계를 포함하는 전 계발광소자의 제조방법.Forming a first layer including a halogen metal compound on the light emitting layer; And forming a second layer made of a metal on the first layer. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 전자주입층을 형성하는 단계는Forming the electron injection layer 상기 할로겐 금속 화합물과 금속을 공증착하여 수행하는 전계발광소자의 제조방법.A method of manufacturing an electroluminescent device which is carried out by co-depositing the halogen metal compound and a metal. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 할로겐 금속 화합물은 리튬 플로라이드(LiF), 소듐 플로라이드(NaF), 세슘 플로라이드(CsF), 마그네슘 플로라이드(MgF2) 및 칼슘 플로라이드(CaF2)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 전계발광소자의 제조방법.The halogen metal compound is any one selected from the group consisting of lithium fluoride (LiF), sodium fluoride (NaF), cesium fluoride (CsF), magnesium fluoride (MgF 2 ) and calcium fluoride (CaF 2 ) Method of manufacturing a light emitting device. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 금속은 일함수가 낮으며 할로겐 원소와 반응성이 높은 금속인 전계발광소자의 제조방법.The metal has a low work function and is a metal having high reactivity with a halogen element. 제 17 항에 있어서,The method of claim 17, 상기 금속은 알루미늄 또는 마그네슘인 전계발광소자의 제조방법.The metal is aluminum or magnesium manufacturing method of the electroluminescent device. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 제 2 전극은 은 또는 은 합금으로 형성하는 전계발광소자의 제조방법.The second electrode is a method of manufacturing an electroluminescent device formed of silver or silver alloy.
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