KR20080004907A - Anti-glare film including complex particles and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
도1은 종래의 방현필름의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a conventional anti-glare film.
도2는 종래의 또 다른 방현필름의 개략적인 단면도이다.Figure 2 is a schematic cross-sectional view of another conventional anti-glare film.
도3은 나노입자군에 따른 가상입자 집합체를 형성한 방현필름의 단면도이다.Figure 3 is a cross-sectional view of the anti-glare film formed a virtual particle assembly according to the nanoparticle group.
도4는 본 발명의 일실시예에 따른 방현필름의 단면도이다.Figure 4 is a cross-sectional view of the anti-glare film according to an embodiment of the present invention.
도5는 본 발명에 따른 방현필름의 수지층에 분산되는 마이크로 셀 및 가상 나노입자 집합체의 형성 과정도이다. 5 is a view illustrating a process of forming a microcell and a virtual nanoparticle aggregate dispersed in a resin layer of an antiglare film according to the present invention.
도6은 본 발명의 일 실시예에 따른 방현필름의 제조 공정의 흐름도이다.Figure 6 is a flow chart of the manufacturing process of the anti-glare film according to an embodiment of the present invention.
≪도면의 주요부분에 대한 부호의 설명≫`` Explanation of symbols for main parts of drawings ''
100, 200 : 방현필름 102, 202 : 투명기재100, 200:
103 : 미립자 105 : 큰 미립자103: fine particles 105: large particles
104, 204 : 수지층 203 : 나노입자 104, 204: resin layer 203: nanoparticles
205 : 가상 나노입자 집합체 210 : 계면활성제 205
215 : 마이크로셀 303 : 제 1 마이크로 입자 215: microcell 303: first microparticle
305 : 제 2 마이크로 입자305: second micro particles
본 발명은 복합입자를 포함하는 방현 필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 CRT 또는 LCD 디스플레이의 전면에 배치되어 이들 디스플레이 외부로 진입하는 광을 확산시켜 눈부심을 방지하거나 최소화하는 방현필름 및 그 제조방법에 관한 발명이다.The present invention relates to an antiglare film comprising composite particles, and more particularly, to an antiglare film and a method for manufacturing the antiglare film, which are disposed on the front of a CRT or LCD display to diffuse light entering the outside of the display to prevent or minimize glare. Invention.
일반적으로 CRT 디스플레이는 내부에 형광체가 발광하여 디스플레이의 전면으로 출사하고, 액정 디스플레이에서는 액정 화상을 조명하기 위하여 백라이팅으로 배면에서 발광하여 디스플레이 전면으로 향해 광을 출사하도록 되어 있다.In general, a CRT display emits light to the front of the display by emitting phosphors inside the liquid crystal display, and emits light toward the front of the display by emitting light from the back with backlighting to illuminate the liquid crystal image.
디스플레이를 실내에서 사용하는 경우, 형광등의 조명광이 디스플레이 표면으로 입사하여 그 광이 반사하면서 화면이 눈부시게 되고, 형광등이 비치거나 하기 때문에 문자인식이 어렵게 된다.When the display is used indoors, the illumination light of the fluorescent light is incident on the surface of the display and the screen is dazzling while the light is reflected, and the character recognition is difficult because the fluorescent light shines.
이를 방지하기 위해서, 도1에 도시된 바와 같이, 투명기재(102) 상에, 큰 미립자(105)가 분산된 수지도료를 도포하여 요철을 가진 층을 형성하고, 상기와 같은 방법으로 제조된 방현필름(100)을 디스플레이 전면에 배치함으로써, 화면의 눈부심을 완화하고 디스플레이로부터 선명한 화질을 구현하는 기술은 종래로부터 많이 행하여져 왔다. In order to prevent this, as shown in Fig. 1, on the
또한, 보다 선명하고 깨끗한 디스플레이를 얻기 위해 저굴절과 고굴절물질이 적층의 형태로 코팅된 반사방지필름을 방현필름 상부에 추가로 설치하는 경우도 있고 상기의 방현필름 표면위에 저굴절 물질을 코팅하여 반사율을 낮추는 기술도 사 용되고 있다. Also, In order to obtain a clearer and clearer display, an antireflection film coated with a low refractive index and a high refractive index material in the form of a lamination may be additionally installed on the upper surface of the antiglare film. Technology is also being used.
그러나, 반사방지필름을 추가로 설치하는 경우는 디스플레이 투과율을 저하시켜 화질을 손실시키고 제조원가 상승과 같은 문제점을 발생시킨다.However, when the anti-reflection film is additionally installed, the display transmittance is lowered, resulting in a loss of image quality and a problem such as an increase in manufacturing cost.
한편, 방현필름표면에 저굴절물질을 추가로 코팅하는 기술 또한 공정수율을 떨어뜨리고 제조원가 상승과 같은 문제점이 여전히 남아있게 된다.On the other hand, a technique of additionally coating a low refractive index material on the surface of the anti-glare film also remains a problem such as lowering the process yield and manufacturing cost increases.
방현성은 외부와 접하는 표면의 거칠기(Roughness)에 비례한다. Anti-glare is proportional to the roughness of the surface in contact with the outside.
즉, 표면의 요철이 크고, 많을수록 외부광의 산란효과가 증대되므로 방현성을 향상 시킬 수 있다.That is, the greater the surface irregularities, the greater the scattering effect of external light, so that the anti-glare property can be improved.
표면의 요철을 크게 만들어 주기 위해서는 수지도료에 함유된 입자의 크기를 키우거나 입자의 함량을 높여주어야 가능하다.In order to make the surface irregularities large, it is possible to increase the size of the particles contained in the resin or to increase the content of the particles.
그러나, 입자의 크기가 커지거나 입자의 함량이 높아질 경우 방현성은 향상되지만, 헤이즈(haze)가 상승하므로 디스플레이 내부에서 출사되는 이미지의 선명도를 저하시키는 문제점이 야기될 수 있다.However, when the size of the particles is increased or the content of the particles is increased, the anti-glare property is improved, but the haze increases, which may cause a problem of lowering the sharpness of the image emitted from the inside of the display.
또한, 수지도료 내의 입자들이 커지고 함량이 높아짐에 따라 도포액내의 입자들이 쉽게 침전되므로 수지도료의 균일성 불량과 같은 문제점이 발생될 수 있다.In addition, as the particles in the coating material become larger and the content thereof increases, the particles in the coating liquid are easily precipitated, which may cause problems such as poor uniformity of the coating material.
따라서, 위에서 언급한 방현성 저하 및 헤이즈 상승의 문제점을 해결하기 위해, 도2에 도시된 바와 같이, 2종 이상 크기의 미립자(103, 105)를 혼합하여 사용하는 경우도 있다.Therefore, in order to solve the problems of anti-glare reduction and haze rise mentioned above, as shown in FIG. 2, two or more kinds of
그러나, 2종 이상 크기의 미립자를 혼합하여 사용하는 경우, 사용자가 만족할 만한 수준까지 헤이즈(haze)와 방현성을 구현할 수는 있지만, 반사방지기능을 보다 향상시키기 위해서는, 방현필름의 표면 위에 반사방지층을 추가로 요구한다. However, when two or more kinds of fine particles are mixed, haze and anti-glare can be realized to a level satisfactory to the user. However, in order to further improve the anti-reflection function, an anti-reflection layer on the surface of the anti-glare film Additionally requires.
이는 별도의 코팅 공정을 거쳐야 하므로, 제조원가의 상승과 공정수율의 저하와 같은 문제점이 여전히 해소되지 못한다.Since it must go through a separate coating process, problems such as an increase in manufacturing cost and a decrease in process yield are still not solved.
이에, 본 출원인은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 특허출원2006-28561호로 출원한 바와 같이, 수지층에 형성되는 방현층으로서 나노 입자를 사용하여 가상의 마이크로 셀 내에 상기 나노입자가 군집된 비교적 큰 가상 나노입자 집합체를 형성하는 동시에 잔여 나노 입자를 분산시키도록 하여, 2종 이상의 입자의 크기를 사용하는 형태를 취하도록 함으로써, 공정 수율과 원가 상승에 영향을 주지 않으면서 방현성과 저반사성을 동시에 충족할 수 있도록 하는 방현 필름을 제안하였다.Accordingly, in order to solve the above problems, the present applicant, as filed with the patent application 2006-28561, using the nanoparticles as an antiglare layer formed on the resin layer, the nanoparticles are clustered in a virtual microcell. By forming large virtual nanoparticle aggregates and dispersing residual nanoparticles and taking the form of using two or more particle sizes, both anti-glare and low reflectivity can be achieved without affecting process yield and cost increase. An anti-glare film is proposed to satisfy.
도3은 상기 출원된 발명의 일실시예에 따른 방현필름의 단면도로서, 상기 방현필름(200)은 투명기재(202)와, 상기 투명기재(202) 상에 위치하는 수지층(204), 상기 수지층(204)에 분산된 나노입자로서의 다수의 제1입자(203), 및 상기 수지층(204)에 포함된 계면활성제에 의하여 마이크로 셀(micro cell)을 형성하고 상기 마이크로 셀 내부로 상기 다수의 제1입자(203)가 진입하여 수집됨으로써 형성되는 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly)인 다수의 제2입자(205)를 포함한다. Figure 3 is a cross-sectional view of the anti-glare film according to an embodiment of the present invention, the
상기 가상 나노입자 집합체(205)는 투명기재(202) 상부에 방현성 요철을 형성시킴으로써 방현성 필름에서 표면 요철로 기능하는 큰 입자의 역할을 하게 된다.The
또한, 수지층(204) 내에 분산된 나노입자(203)는 수지층(204)이 갖고 있는 본래의 굴절률값과 차이를 갖으면서 일부의 수지층(204)과 나노입자(203)가 나노 단위로 교대 배열됨으로써 수지층(204) 내부로 굴절률 차이를 발생시키고, 이는 광학 간섭원리에 의해서 상기 방현 필름(200)의 반사율을 저하시키게 된다. In addition, the
한편, 상기 나노입자군(205)과 수지층(204)내에 분산된 나노입자(203)로 구성되는 방현필름(200)에 상기 수지층과 굴절율이 다른 적어도 1종 이상의 입자를 추가로 포함시켜 더욱 시인성이 우수하고 반사율이 저감된 방현필름을 구현할 수 있다.On the other hand, the
본 발명은 상기와 같은 점에 착안하여 안출된 것으로, 상기 수지층의 표면 요철로써의 기능을 하는 상기 나노입자군과 나노입자 및 상기 수지층의 굴절율과는 차이를 갖는 적어도 1종 이상의 마이크로 입자를 상기 수지층에 추가로 포함시킴으로써, 방현필름의 시인성이 향상되고 반사율이 저감된 우수한 방현필름을 제공하기 위한 것이다.The present invention has been made in view of the above point, at least one or more microparticles having a difference between the nanoparticle group and the nanoparticles and the refractive index of the resin layer functioning as surface irregularities of the resin layer It is for providing the outstanding anti-glare film which the visibility of an anti-glare film improved and the reflectance reduced by further including in the said resin layer.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 방현필름은, 투명 기재, 상기 투명 기재 상에 위치하는 수지층, 상기 수지층에 분산된 나노입자로서 다수의 제1입자, 상기 수지층에 분산된 가상 나노입자 집합체인 다수의 제2입자, 및 상기 수지층과 굴절율이 상이한 적어도 1종 이상의 마이크로 입자를 포함하는 것이다.Anti-glare film according to the present invention for achieving the above object is a transparent substrate, a resin layer located on the transparent substrate, a plurality of first particles as nanoparticles dispersed in the resin layer, dispersed in the resin layer It includes a plurality of second particles that are virtual nanoparticle aggregates, and at least one or more microparticles having a different refractive index than the resin layer.
또한, 본 발명에 따른 방현필름에 있어서, 상기 제1입자는 산화규소, 이산화티탄, 산화인듐, 산화주석, 산화지르코늄, 산화아연으로 이루어지는 군 중에서 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the anti-glare film according to the present invention, the first particles are characterized in that it comprises one or more of the group consisting of silicon oxide, titanium dioxide, indium oxide, tin oxide, zirconium oxide, zinc oxide.
또한, 본 발명에 따른 방현필름에 있어서, 상기 제1입자의 크기는 약 1㎚ 내지 50㎚인 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the anti-glare film according to the present invention, the size of the first particles is characterized in that about 1nm to 50nm.
또한, 본 발명에 따른 방현필름에 있어서, 상기 제2입자의 크기는 약 50㎚ 내지 20㎛인 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the anti-glare film according to the present invention, the size of the second particles is characterized in that about 50nm to 20㎛.
또한, 본 발명에 따른 방현필름에 있어서, 상기 제2입자는 상기 수지층에 포함된 계면활성제에 의하여 마이크로 셀을 형성하고 상기 마이크로 셀 내부로 상기 다수의 제1입자가 진입하여 수집됨으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the anti-glare film according to the present invention, the second particles are formed by forming a micro cell by the surfactant contained in the resin layer and is formed by the plurality of first particles enter and collect into the micro cell. It is characterized by.
또한, 본 발명에 따른 방현필름에 있어서, 상기 마이크로 입자는 유기입자로서는 스틸렌비드, 아크릴비드, 아크릴-스틸렌비드, 멜라민비드, 폴리카보네이트비드, 폴리에틸렌비드 등이 사용되는 것이 바람직하고, 스틸렌비드 및 아크릴비드가 더욱 바람직하며, 무기입자로서는 Si02, Al-Si0 등이 사용되는 것이 바람직하고, Si02가 더욱 바람직하다.In addition, in the antiglare film according to the present invention, the micro particles are preferably used as styrene beads, acryl beads, acrylic-styrene beads, melamine beads, polycarbonate beads, polyethylene beads, and the like. Beads are more preferable, Si02, Al-Si0, etc. are preferably used as the inorganic particles, and Si02 is more preferable.
또한, 본 발명에 따른 방현필름에 있어서, 상기 마이크로 입자의 크기는 약 1㎛ 내지 10㎛이하인 것을 특징으로 하며, 입자의 굴절률은 1.4 내지 1.6 이하인 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the anti-glare film according to the present invention, the size of the microparticles is characterized in that less than about 1㎛ 10㎛, characterized in that the refractive index of the particles is 1.4 to 1.6 or less.
한편, 본 발명에 따른 방현필름의 제조방법은, 수지에 용매를 가하여 용해시킨 후 계면활성제를 투입하고 고속 혼합 교반하여 마이크로 셀을 형성하는 단계, 상기 마이크로 셀이 형성된 수지도료에 나노 입자를 투입하고 저속 교반하여 나노 입자 조성액을 제조하는 단계, 적어도 한 종류 이상의 마이크로 입자를 포함하는 마이크로 입자 조성액과 상기 나노 입자 조성액을 첨가 교반, 혼합하여 혼합 입자 조성액을 제조하는 단계, 상기 혼합 입자 조성액을 투명기재의 상부에 코팅하는 단계, 상기 혼합 입자 조성액이 코팅된 투명기재를 건조로에 통과시켜서 용매를 제거하는 단계, 및 상기 혼합입자 조성액이 코팅된 투명기재에 자외선을 조사하여 경화시키는 단계를 포함한다.On the other hand, in the production method of the anti-glare film according to the present invention, after adding a solvent to the resin to dissolve the surfactant and the high-speed mixing and stirring to form a micro cell, the nano-particles are added to the resin coating material formed with the micro cell Preparing a nanoparticle composition by stirring at low speed; adding and stirring and mixing the microparticle composition including at least one or more types of microparticles and the nanoparticle composition to prepare a mixed particle composition; Coating the upper portion, removing the solvent by passing the transparent substrate coated with the mixed particle composition solution through a drying furnace, and curing the ultraviolet light by irradiating the transparent substrate coated with the mixed particle composition solution.
또한, 본 발명에 따른 방현필름의 제조방법에 있어서, 상기 용매는 속건성 용매 및 지건성 용매를 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the method for producing an antiglare film according to the present invention, the solvent is characterized in that a mixture of a fast drying solvent and a slow drying solvent.
또한, 본 발명에 따른 방현필름의 제조방법에 있어서, 상기 조성액에 투입되는 나노입자는 실리카 계열이고, 입자의 크기는 약 1㎚ 내지 50㎚의 범위인 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the manufacturing method of the anti-glare film according to the present invention, the nanoparticles to be added to the composition is a silica-based, the particle size is characterized in that the range of about 1nm to 50nm.
이하, 본 발명에 대한 도면을 참조하여 실시예를 더욱 상세히 설명한다. Hereinafter, exemplary embodiments will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
도4는 본 발명의 일실시예에 따른 방현필름의 단면도이다.Figure 4 is a cross-sectional view of the anti-glare film according to an embodiment of the present invention.
도4를 참조하면, 본 발명에 따른 방현필름(300)은 투명기재(202), 상기 투명기재(202) 상에 위치하는 수지층(204), 상기 수지층(204)에 분산된 나노입자로서의 다수의 제1입자(203), 및 상기 수지층(204)에 포함된 계면활성제에 의하여 마이크로 셀(micro cell)을 형성하고 상기 마이크로 셀 내부로 상기 다수의 제1입자(203)가 진입하여 수집됨으로써 형성되는 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly)인 다수의 제2입자(205) 및 상기 수지층(204)과 굴절율이 상이한 적어도 1종 이상의 마이크로 입자(303, 305)를 포함한다.Referring to FIG. 4, the
상기 가상 나노입자 집합체(205)는 투명기재(202) 상부에 방현성 요철을 형성시킴으로써 방현성 필름에서 표면 요철로 기능하는 큰 입자의 역할을 하게 된다.The
또한, 수지층(204) 내에 분산된 나노입자(203)는 수지층(204)이 갖고 있는 본래의 굴절률값과 차이를 갖으면서 일부의 수지층(204)과 나노입자(203)가 나노 단위로 교대 배열됨으로써 수지층(204) 내부로 굴절률 차이를 발생시키고, 이는 광학 간섭원리에 의해서 상기 방현 필름(300)의 반사율을 저감시킬 수 있게 된다.In addition, the
또한, 상기 마이크로 입자(303, 305)의 추가 사용에 따른 내부 헤이즈 부여에 의해 시인성이 우수한 방현 필름 제작이 용이하게 된다.In addition, by providing the internal haze according to the additional use of the
상기 투명기재(202)는 디아세틸 셀룰로오스, 트리아세틸 셀룰로오스, 프로피오닐 셀룰로오스, 부티릴 셀룰로오스, 아세틸 프로피오닐 셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리아미드, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리카보네이트 등이 바람직하고, 특히 트리아세틸 셀룰로오스, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰이 더욱 바람직하지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 투명한 기재라면 어느 것이든 사용 가능하다.The
상기 투명기재(202)는 80%이상의 투과율을 가지며, 바람직하게는 85% 이상의 투과율을 갖는다.The
여기서, 상기 나노입자로서의 제1입자는 산화규소, 이산화티탄, 산화인듐, 산화주석, 산화지르코늄, 산화아연으로 이루어지는 군 중에서 1종 또는 2종 이상의 혼합 형태로 사용되는 것이 바람직하고, 실리카 계열의 나노입자인 것이 더욱 바람직하며, 상기 제1입자의 크기는 1㎚ ∼ 50㎚ 범위인 것이 바람직하다.Here, the first particles as the nanoparticles are preferably used in one or two or more mixed forms of silicon oxide, titanium dioxide, indium oxide, tin oxide, zirconium oxide, and zinc oxide, and are silica-based nanoparticles. It is more preferable that the particles, the size of the first particles is preferably in the range of 1nm to 50nm.
또한, 본 발명에 따른 방현필름에 있어서, 상기 계면활성제(210)에 의한 마 이크로 셀의 크기는 고속 혼합 교반기의 속도에 반비례하고, 제2입자의 크기는 50㎚∼20㎛ 범위인 것이 바람직하다.In addition, in the antiglare film according to the present invention, the size of the micro cell by the
도5는 본 발명에 따른 방현필름의 수지층에 분산되는 마이크로 셀 및 가상 나노입자 집합체의 형성 과정도이다. 5 is a view illustrating a process of forming a microcell and a virtual nanoparticle aggregate dispersed in a resin layer of an antiglare film according to the present invention.
상기 마이크로 셀(215)은 수지를 용매에 용해시키고, 계면 활성제를 투입한 후 고속 혼합 교반하여 내부에 빈 공간(cavity)을 포함한 형태로 제조된다.The
상기 마이크로 셀(215)의 크기는 고속 혼합 교반기의 속도에 반비례하고, 마이크로 셀(215)의 양은 계면 활성제의 농도에 의존한다.The size of the
이때, 계면활성제의 함량은 수지도료 100중량부 당 약 0.1 중량부~ 2 중량부가 바람직하며, 약 0.3중량부 ~ 1.7중량부가 더욱 바람직하다.At this time, the content of the surfactant is preferably about 0.1 parts by weight to 2 parts by weight, more preferably about 0.3 parts by weight to 1.7 parts by weight per 100 parts by weight of the resin coating material.
계면활성제가 0.1 중량부 보다 낮을 경우는 충분한 방현성을 나타낼만한 마이크로 셀을 형성하기 어렵고, 2 중량부 보다 많을 경우는 수지도료의 점도상승 및 혼합공정에서 발생되는 기포로 인하여 공정상의 문제점이 발생하게 된다. If the surfactant is less than 0.1 parts by weight, it is difficult to form microcells that exhibit sufficient anti-glare properties. If the surfactant is more than 2 parts by weight, it is difficult to cause process problems due to the increase in viscosity of the resin coating and the bubbles generated in the mixing process. do.
상기 마이크로 셀(215)이 형성된 수지도료에 나노입자(203)를 투입한 후 저속 교반하게 되면 친수성을 띠는 나노입자(203)가 마이크로 셀 내부의 빈 공간으로 진입하여 수집됨으로써 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly, 205)를 형성하게 된다.When the
여기서, 상기 수지도료의 용매는 속건성 및 지건성 용매를 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용하게 된다.Here, the solvent of the resin coating material is used by mixing one or two or more kinds of fast-drying and slow-drying solvent.
상기 용매의 선택은 메틸이소부틸케톤, 메틸에틸케톤, 톨루엔, 초산에틸, 초산엔부틸, 시클로헥사논, 메탄올, 에탄올, n-부탄올, 이소프로판올 등 자유롭게 선택할 수 있으나 용매의 비점과 같은 자료를 통해 증발성능을 고려하여 1종 이상 선택하는 것이 바람직하다.The solvent may be freely selected from methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, toluene, ethyl acetate, enbutyl acetate, cyclohexanone, methanol, ethanol, n-butanol, isopropanol, but evaporated through data such as boiling point of the solvent. It is preferable to select at least one type in consideration of performance.
도4, 도5에서, 상기 나노입자는 수지도료를 투명기재(202)에 코팅한 후 건조공정을 진행하면, 나노입자가 군집하여 뭉쳐진 가상 나노입자 집합체(205)는 상기 방현필름(300) 상부에서 방현성 요철로 형성됨으로써 방현필름에 사용하는 큰 입자의 역할을 하게 된다.4 and 5, when the nanoparticles are coated with a resin coating material on the
또한, 상기 가상나노입자 집합체(205)는 표면요철을 가진 불규칙적인 덩어리 형태를 가지므로, 매끈한 구형입자에 비해 더욱 큰 거칠기를 구현할 수 있게 된다. In addition, since the
따라서, 본 발명 실시예에 따른 방현필름은 제1입자(203)와 제2입자(205)와 같이 2종 이상의 입자크기를 사용하면서, 가상의 입자인 제2입자(205)의 표면요철로 인해 외부광 산란에 의한 방현성이 극대화된다.Therefore, the anti-glare film according to the embodiment of the present invention uses two or more kinds of particle sizes, such as the
여기서, 나노입자로서의 제1입자(203)는 굴절율이 낮은 물질을 사용할 수록 반사율을 더욱 낮출 수 있게 된다.Here, as the
또한, 제1 마이크로 입자(303)와 제2 마이크로 입자(305)는 내부 헤이즈 구현에 영향을 주게 된다.In addition, the
여기서, 상기 마이크로 입자의 크기는 약 1㎛ 내지 10㎛이하인 것을 특징으로 하며, 입자의 굴절률은 1.4 내지 1.6 이하인 것이 바람직하다.Here, the size of the microparticles is characterized in that about 1㎛ 10㎛ or less, the refractive index of the particles is preferably 1.4 to 1.6 or less.
또한, 상기 마이크로 입자는 유기입자로서는 스틸렌비드, 아크릴비드, 아크릴-스틸렌비드, 멜라민비드, 폴리카보네이트비드, 폴리에틸렌비드 등이 사용되는 것이 바람직하고, 스틸렌비드 및 아크릴비드가 더욱 바람직하며, 무기입자로서는 Si02, Al-Si0 등이 사용되는 것이 바람직하고, Si02가 더욱 바람직하다.In addition, as the organic particles, styrene beads, acryl beads, acryl-styrene beads, melamine beads, polycarbonate beads, polyethylene beads, etc. are preferably used as the organic particles, and styrene beads and acryl beads are more preferable. Si02, Al-Si0, or the like is preferably used, and Si02 is more preferable.
또한, 나노입자를 사용하여 나노입자군으로서 만들어지는 제2입자(205)가 외부 헤이즈를 구현하게 되는 데 대하여 상기 마이크로 입자(303, 305)는 상기 수지층(202)에 분산된 나노입자와는 굴절률등 광특성이 상이하여, 방현필름(300)의 반사율과 시인성에 영향을 주게 된다.In addition, the
즉, 상기 나노입자와 상기 마이크로 입자를 포함하는 복합입자에 의하여 상기 나노입자만 사용하는 경우의 방현필름에 대하여 시인성이 우수하게 되고, 상기 마이크로 입자만 사용하는 경우에 대하여 상기 나노입자와 상기 마이크로 입자를 함께 사용하는 복합입자에 의하여 반사율 특성이 우수하게 나타난다.That is, the visibility of the antiglare film in the case of using only the nanoparticles by the composite particles including the nanoparticles and the microparticles is excellent, and the nanoparticles and the microparticles in the case of using only the microparticles By using the composite particles together with the excellent reflectance characteristics.
상기 나노입자 또는 마이크로 입자만 수지층(202)에 분산되는 경우에 비하여 나노입자와 마이크로 입자가 함께 분산되는 경우에 있어서 시인성과 반사율의 상관관계는 다음 표와 같다.Compared to the case where only the nanoparticles or microparticles are dispersed in the
<나노, 나노+ 마이크로, 마이크로의 시인성과 반사율의 상관관계><Relationship between Visibility and Reflectance of Nano, Nano + Micro, and Micro>
즉, 시인성에 있어서는 마이크로+나노입자 사용이 나노입자만 사용시 보다 우수하고, 반사율에 있어서는 마이크로+나노입자 사용이 마이크로 입자만 사용하는 경우보다 우수함을 알 수 있다.In other words, it can be seen that the use of micro + nanoparticles is better than the use of only nanoparticles in visibility, and the use of micro + nanoparticles is better than that of using only microparticles in reflectance.
다음으로, 본 발명에 따른 방현필름의 제조방법에 대하여 설명한다.Next, the manufacturing method of the anti-glare film which concerns on this invention is demonstrated.
도6은 본 발명의 일 실시예에 따른 제조 방법의 흐름도를 나타낸다.6 shows a flowchart of a manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
도6에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 방현필름의 제조 과정은, 먼저 수지에 용매를 가하여 용해시킨 후 계면활성제를 투입하고 고속 혼합 교반하여 계면 활성제(210)에 의해서 마이크로 셀(215)을 형성하는 단계를 진행한다(S10).As shown in Figure 6, in the manufacturing process of the anti-glare film according to an embodiment of the present invention, first by adding a solvent to the resin to dissolve, the surfactant is added to the microcell by the
다음으로, 상기 마이크로 셀이 형성된 수지도료에 나노 입자를 투입하고 저속 교반하여 나노 입자 조성액을 제조하는 단계이다(S20).Next, the nanoparticles are added to the resin coating material in which the microcells are formed, and then the mixture is stirred at low speed to prepare a nanoparticle composition solution (S20).
이 단계에서, 마이크로 셀(215)의 빈 공간 내로 진입한 나노입자(203)가 모여서 가상 나노입자 집합체(205)를 형성하고, 나머지 잔여 나노 입자(203)는 용액 내에서 불규칙하게 분산하게 된다. In this step, the
이때, 일실시예에 따른 나노입자 조성액의 제조는 다음과 같이 할 수 있다.At this time, the preparation of the nanoparticle composition according to one embodiment may be as follows.
20중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB1290, 에스케이 싸이텍), 15중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 35중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 30중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP016, 에스케이 싸이텍) 수지를 65중량부의 시클로헥사논(Cyclohexanone, 덕산화학), 65중량부의 이소프로필알코올(IPA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 3중량부의 계면활성제(disperBYK2000, BYK chemie)를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 100 중량부와 5 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 나노입자 조 성액을 제조하였다. 상기에 언급된 중량부 표기는 사용된 모노머 및 올리고머 수지 100중량부 기준대비 각각의 사용 조성물을 중량부로 표기하였다.20 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB1290, SK Cytec), 15 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 35 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 30 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP016, SK Cytec) resin was mixed with 65 parts by weight of cyclohexanone (Dysan Chemical) and 65 parts by weight of isopropyl alcohol (IPA, large purified gold) and then dissolved. After adding 3 parts by weight of surfactant (disperBYK2000, BYK chemie) to the solution, a high-speed mixer Homogenizer (IKA) is stirred at 10,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 100 parts by weight of silica sol (20 nm, 20 wt%, thiochem) and 5 parts by weight of photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were added to the mixture, and the mixture was stirred at 800 rpm for 30 minutes to prepare a nanoparticle composition. Prepared. The above-mentioned parts by weight notation indicates each used composition in parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer and oligomer resin used.
다음에, 적어도 한 종류 이상의 마이크로 입자를 포함하는 마이크로 입자 조성액을 제조하여 상기 마이크로 입자 조성액과 상기 나노 입자 조성액을 첨가 교반, 혼합하여 혼합 입자 조성액을 제조하는 단계이다(S30).Next, a step of preparing a mixed particle composition solution by preparing a micro particle composition solution containing at least one type of micro particles, adding and stirring and mixing the micro particle composition solution and the nanoparticle composition solution (S30).
이때, 일실시예에 따른 마이크로 입자 조성액의 제조는 다음과 같이 할 수 있다.At this time, the preparation of the microparticle composition according to one embodiment may be as follows.
20중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB1290, 에스케이 싸이텍), 15중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 35중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 30중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP016, 에스케이 싸이텍)와 5 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 130중량부의 시클로헥사논(Cyclohexanone, 덕산화학)에 첨가한 후 10분간 교반 용해시켰다. 이 용액에 아크릴비드 (MX300, 소켄) 15중량부, 스틸렌비드 (SX350H, 소켄) 5중량부를 추가 투입하여 500rpm에서 30분간 교반을 실시하여 마이크로 입자 조성액을 제조하였다. 상기에 언급된 중량부 표기는 사용된 모노머 및 올리고머 수지 100중량부 기준대비 각각의 사용 조성물을 중량부로 표기하였다.20 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB1290, SK Cytec), 15 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 35 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 30 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP016, SK Cytec) and 5 parts by weight of photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were added to 130 parts by weight of cyclohexanone (Duksan Chemical), followed by stirring and dissolving for 10 minutes. 15 parts by weight of acryl beads (MX300, Soken), styrene beads 5 parts by weight of (SX350H, Soken) was further added and stirred at 500 rpm for 30 minutes to prepare a microparticle composition. The above-mentioned parts by weight notation indicates each used composition in parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer and oligomer resin used.
다음으로, 상기 혼합 입자 조성액을 투명기재(202)의 상부에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)로 코팅하는 단계이다(S40)Next, the mixed particle composition is coated with a micro-gravure roll on the upper portion of the transparent substrate 202 (S40).
상기 가상의 나노입자 집합체인 다수의 제2입자(205)는 상기 수지층(204)의 표면에 위치하도록 하는 것이 바람직하다. The plurality of
그 후, 상기 수지도료가 코팅된 투명기재(202)를 건조로를 통과시켜서 용매를 제거하는 단계를 진행한다(S50).Thereafter, the step of removing the solvent by passing the
마지막으로, 상기 용매가 제거된 수지도료가 코팅된 투명기재에 자외선을 조사하여 경화시킴으로써 방현성 수지층(204)을 포함하는 방현필름(300)을 제조하게 된다(S60). Finally, the
이하, 바람직한 실시예와 비교예를 들어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로써 이에 한정하는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to preferred examples and comparative examples. The following examples are intended to illustrate the invention but are not limited thereto.
<실시예 1><Example 1>
20중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB1290, 에스케이 싸이텍), 15중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 35중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 30중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP016, 에스케이 싸이텍) 수지를 65중량부의 시클로헥사논(Cyclohexanone, 덕산화학), 65중량부의 이소프로필알코올(IPA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 3중량부의 계면활성제 (disperBYK2000, BYK chemie)를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 100 중량부와 5 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 나노입자 조성액을 제조하였다. 상기에 언급된 중량부 표기는 사용된 모노머 및 올리고머 수지 100중량부 기준대비 각각의 사용 조성물을 중량부로 표기하였다.20 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB1290, SK Cytec), 15 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 35 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 30 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP016, SK Cytec) resin was mixed with 65 parts by weight of cyclohexanone (Dysan Chemical) and 65 parts by weight of isopropyl alcohol (IPA, large purified gold) and then dissolved. After adding 3 parts by weight of surfactant (disperBYK2000, BYK chemie) to the solution, the high-speed mixer Homogenizer (IKA) is stirred at 10,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 100 parts by weight of silica sol (20 nm, 20 wt%, thiochem) and 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a nanoparticle composition solution. It was. The above-mentioned parts by weight notation indicates each used composition in parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer and oligomer resin used.
이 용액에 상기에서 제조한 마이크로 입자 조성액 10 중량부를 첨가 교반하여 혼합입자 조성액을 제조 하였다. 제조된 혼합입자 조성액을 TAC 필름(40㎛, Fuji) 일면에 Micro-Gravure(Mesh 9)를 사용하여 코팅 시킨 후 60초간 80℃-80℃-80℃-80℃의 온도조건 변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 8㎛를 형성시켜 방현필름을 제작하였다. To this solution, 10 parts by weight of the prepared microparticle composition was added and stirred to prepare a mixed particle composition. The prepared mixed particle composition was coated on one surface of the TAC film (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure (Mesh 9), and then dried sequentially at a temperature condition of 80 ° C-80 ° C-80 ° C-80 ° C for 60 seconds. After the coating, photopolymerization of the coating material coated with 250 mJ / cm 2 ultraviolet (Igrafix Co., Ltd.) was carried out to form a coating thickness of 8 μm to prepare an anti-glare film.
<실시예 2><Example 2>
20중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB1290, 에스케이 싸이텍), 15중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 35중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 30중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP016, 에스케이 싸이텍) 수지를 65중량부의 시클로헥사논(Cyclohexanone, 덕산화학), 65중량부의 이소프로필알코올(IPA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 3중량부의 계면활성제 (disperBYK2000, BYK chemie)를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 100 중량부와 5 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 나노입자 조성액을 제조하였다. 상기에 언급된 중량부 표기는 사용된 모노머 및 올리고머 수지 100중량부 기준대비 각각의 사용 조성물을 중량부로 표기하였다.20 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB1290, SK Cytec), 15 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 35 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 30 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP016, SK Cytec) resin was mixed with 65 parts by weight of cyclohexanone (Dysan Chemical) and 65 parts by weight of isopropyl alcohol (IPA, large purified gold) and then dissolved. After adding 3 parts by weight of surfactant (disperBYK2000, BYK chemie) to the solution, the high-speed mixer Homogenizer (IKA) is stirred at 10,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 100 parts by weight of silica sol (20 nm, 20 wt%, thiochem) and 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a nanoparticle composition solution. It was. The above-mentioned parts by weight notation indicates each used composition in parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer and oligomer resin used.
이 용액에 상기에서 제조한 마이크로 입자 조성액 20 중량부를 첨가 교반하 여 혼합입자 조성액을 제조 하였다. 제조된 혼합입자 조성액을 TAC 필름(40㎛, Fuji) 일면에 Micro-Gravure(Mesh 9)를 사용하여 코팅 시킨 후 60초간 80℃-80℃-80℃-80℃의 온도조건 변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 8㎛를 형성시켜 방현필름을 제작하였다. To this solution, 20 parts by weight of the prepared microparticle composition was added and stirred to prepare a mixed particle composition. The prepared mixed particle composition was coated on one surface of the TAC film (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure (Mesh 9), and then dried sequentially at a temperature condition of 80 ° C-80 ° C-80 ° C-80 ° C for 60 seconds. After the coating, photopolymerization of the coating material coated with 250 mJ / cm 2 ultraviolet (Igrafix Co., Ltd.) was carried out to form a coating thickness of 8 μm to prepare an anti-glare film.
<실시예 3><Example 3>
20중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB1290, 에스케이 싸이텍), 15중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 35중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 30중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP016, 에스케이 싸이텍) 수지를 65중량부의 시클로헥사논(Cyclohexanone, 덕산화학), 65중량부의 이소프로필알코올(IPA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 3중량부의 계면활성제 (disperBYK2000, BYK chemie)를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 100 중량부와 5 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 나노입자 조성액을 제조하였다. 상기에 언급된 중량부 표기는 사용된 모노머 및 올리고머 수지 100중량부 기준대비 각각의 사용 조성물을 중량부로 표기하였다.20 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB1290, SK Cytec), 15 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 35 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 30 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP016, SK Cytec) resin was mixed with 65 parts by weight of cyclohexanone (Dysan Chemical) and 65 parts by weight of isopropyl alcohol (IPA, large purified gold) and then dissolved. After adding 3 parts by weight of surfactant (disperBYK2000, BYK chemie) to the solution, the high-speed mixer Homogenizer (IKA) is stirred at 10,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 100 parts by weight of silica sol (20 nm, 20 wt%, thiochem) and 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a nanoparticle composition solution. It was. The above-mentioned parts by weight notation indicates each used composition in parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer and oligomer resin used.
이 용액에 상기에서 제조한 마이크로 입자 조성액 30 중량부를 첨가 교반하여 혼합입자 조성액을 제조 하였다. 제조된 혼합입자 조성액을 TAC 필름(40㎛, Fuji) 일면에 Micro-Gravure(Mesh 9)를 사용하여 코팅 시킨 후 60초간 80℃-80℃-80℃-80℃의 온도조건 변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 8㎛를 형성시켜 방현필름을 제작하였다. 30 parts by weight of the microparticle composition solution prepared above was added to this solution and stirred to prepare a mixed particle composition solution. The prepared mixed particle composition was coated on one surface of the TAC film (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure (Mesh 9), and then dried sequentially at a temperature condition of 80 ° C-80 ° C-80 ° C-80 ° C for 60 seconds. After the coating, photopolymerization of the coating material coated with 250 mJ / cm 2 ultraviolet (Igrafix Co., Ltd.) was carried out to form a coating thickness of 8 μm to prepare an anti-glare film.
<실시예 4><Example 4>
20중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB1290, 에스케이 싸이텍), 15중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 35중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 30중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP016, 에스케이 싸이텍) 수지를 65중량부의 시클로헥사논(Cyclohexanone, 덕산화학), 65중량부의 이소프로필알코올(IPA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 3중량부의 계면활성제(disperBYK2000, BYK chemie)를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 100 중량부와 5 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 나노입자 조성액을 제조하였다. 상기에 언급된 중량부 표기는 사용된 모노머 및 올리고머 수지 100중량부 기준대비 각각의 사용 조성물을 중량부로 표기하였다.20 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB1290, SK Cytec), 15 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 35 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 30 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP016, SK Cytec) resin was mixed with 65 parts by weight of cyclohexanone (Dysan Chemical) and 65 parts by weight of isopropyl alcohol (IPA, large purified gold) and then dissolved. After adding 3 parts by weight of surfactant (disperBYK2000, BYK chemie) to the solution, a high-speed mixer Homogenizer (IKA) is stirred at 10,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 100 parts by weight of silica sol (20 nm, 20 wt%, thiochem) and 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a nanoparticle composition solution. It was. The above-mentioned parts by weight notation indicates each used composition in parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer and oligomer resin used.
이 용액에 상기에서 제조한 마이크로 입자 조성액 40 중량부를 첨가 교반하여 혼합입자 조성액을 제조 하였다. 제조된 혼합입자 조성액을 TAC 필름(40㎛, Fuji) 일면에 Micro-Gravure(Mesh 9)를 사용하여 코팅 시킨 후 60초간 80℃-80℃- 80℃-80℃의 온도조건 변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 8㎛를 형성시켜 방현필름을 제작하였다. 40 parts by weight of the microparticle composition solution prepared above was added to the solution and stirred to prepare a mixed particle composition solution. The prepared mixed particle composition was coated on one surface of the TAC film (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure (Mesh 9), and then dried sequentially at a temperature condition of 80 ° C-80 ° C-80 ° C-80 ° C for 60 seconds. After the coating, photopolymerization of the coating material coated with 250 mJ / cm 2 ultraviolet (Igrafix Co., Ltd.) was carried out to form a coating thickness of 8 μm to prepare an anti-glare film.
<실시예 5>Example 5
20중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB1290, 에스케이 싸이텍), 15중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 35중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 30중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP016, 에스케이 싸이텍) 수지를 65중량부의 시클로헥사논(Cyclohexanone, 덕산화학), 65중량부의 이소프로필알코올(IPA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 3중량부의 계면활성제 (disperBYK2000, BYK chemie)를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 100 중량부와 5 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 나노입자 조성액을 제조하였다. 상기에 언급된 중량부 표기는 사용된 모노머 및 올리고머 수지 100중량부 기준대비 각각의 사용 조성물을 중량부로 표기하였다.20 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB1290, SK Cytec), 15 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 35 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 30 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP016, SK Cytec) resin was mixed with 65 parts by weight of cyclohexanone (Dysan Chemical) and 65 parts by weight of isopropyl alcohol (IPA, large purified gold) and then dissolved. After adding 3 parts by weight of surfactant (disperBYK2000, BYK chemie) to the solution, the high-speed mixer Homogenizer (IKA) is stirred at 10,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 100 parts by weight of silica sol (20 nm, 20 wt%, thiochem) and 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a nanoparticle composition solution. It was. The above-mentioned parts by weight notation indicates each used composition in parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer and oligomer resin used.
이 용액에 상기에서 제조한 마이크로 입자 조성액 50 중량부를 첨가 교반하여 혼합입자 조성액을 제조 하였다. 제조된 혼합입자 조성액을 TAC 필름(40㎛, Fuji) 일면에 Micro-Gravure(Mesh 9)를 사용하여 코팅 시킨 후 60초간 80℃-80℃-80℃-80℃의 온도조건 변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이 그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 8㎛를 형성시켜 방현필름을 제작하였다. To this solution, 50 parts by weight of the prepared microparticle composition solution was added and stirred to prepare a mixed particle composition solution. The prepared mixed particle composition was coated on one surface of the TAC film (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure (Mesh 9), and then dried sequentially at a temperature condition of 80 ° C-80 ° C-80 ° C-80 ° C for 60 seconds. After the coating, photopolymerization of the coating material coated with 250 mJ / cm 2 of ultraviolet light (Igraphix Co., Ltd.) was performed to form a coating thickness of 8 μm to prepare an anti-glare film.
<비교예 1>Comparative Example 1
20중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB1290, 에스케이 싸이텍), 15중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 35중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 30중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP016, 에스케이 싸이텍) 수지를 65중량부의 시클로헥사논(Cyclohexanone, 덕산화학), 65중량부의 이소프로필알코올(IPA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 3중량부의 계면활성제 (disperBYK2000, BYK chemie)를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 100 중량부와 5 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 나노입자 조성액을 제조하였다. 상기에 언급된 중량부 표기는 사용된 모노머 및 올리고머 수지 100중량부 기준대비 각각의 사용 조성물을 중량부로 표기하였다.20 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB1290, SK Cytec), 15 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 35 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 30 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP016, SK Cytec) resin was mixed with 65 parts by weight of cyclohexanone (Dysan Chemical) and 65 parts by weight of isopropyl alcohol (IPA, large purified gold) and then dissolved. After adding 3 parts by weight of surfactant (disperBYK2000, BYK chemie) to the solution, the high-speed mixer Homogenizer (IKA) is stirred at 10,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 100 parts by weight of silica sol (20 nm, 20 wt%, thiochem) and 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a nanoparticle composition solution. It was. The above-mentioned parts by weight notation indicates each used composition in parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer and oligomer resin used.
제조된 혼합입자 조성액을 TAC 필름(40㎛, Fuji) 일면에 Micro-Gravure(Mesh 9)를 사용하여 코팅 시킨 후 60초간 80℃-80℃-80℃-80℃의 온도조건 변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 8㎛를 형성시켜 방현필름을 제작하였다.The prepared mixed particle composition was coated on one surface of the TAC film (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure (Mesh 9), and then dried sequentially at a temperature condition of 80 ° C-80 ° C-80 ° C-80 ° C for 60 seconds. After the coating, photopolymerization of the coating material coated with 250 mJ / cm 2 ultraviolet (Igrafix Co., Ltd.) was carried out to form a coating thickness of 8 μm to prepare an anti-glare film.
<비교예 2>Comparative Example 2
20중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB1290, 에스케이 싸이텍), 15중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 35중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 30중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP016, 에스케이 싸이텍)와 5 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 130중량부의 시클로헥사논(Cyclohexanone, 덕산화학)에 첨가한 후 10분간 교반 용해시켰다. 이 용액에 아크릴비드 (MX300, 소켄) 15중량부, 스틸렌비드 (SX350H, 소켄) 5중량부를 추가 투입하여 500rpm에서 30분간 교반을 실시하여 마이크로 입자 조성액을 제조하였다. 상기에 언급된 중량부 표기는 사용된 모노머 및 올리고머 수지 100중량부 기준대비 각각의 사용 조성물을 중량부로 표기하였다.20 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB1290, SK Cytec), 15 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 35 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 30 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP016, SK Cytec) and 5 parts by weight of photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were added to 130 parts by weight of cyclohexanone (Duksan Chemical), followed by stirring and dissolving for 10 minutes. 15 parts by weight of acryl beads (MX300, Soken) and 5 parts by weight of styrene beads (SX350H, Soken) were further added to the solution, followed by stirring at 500 rpm for 30 minutes to prepare a microparticle composition. The above-mentioned parts by weight notation indicates each used composition in parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer and oligomer resin used.
제조된 혼합입자 조성액을 TAC 필름(40㎛, Fuji) 일면에 Micro-Gravure(Mesh 9)를 사용하여 코팅 시킨 후 60초간 80℃-80℃-80℃-80℃의 온도조건 변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 8㎛를 형성시켜 방현필름을 제작하였다.The prepared mixed particle composition was coated on one surface of the TAC film (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure (Mesh 9), and then dried sequentially at a temperature condition of 80 ° C-80 ° C-80 ° C-80 ° C for 60 seconds. After the coating, photopolymerization of the coating material coated with 250 mJ / cm 2 ultraviolet (Igrafix Co., Ltd.) was carried out to form a coating thickness of 8 μm to prepare an anti-glare film.
상기 실시예와 비교예로부터 제조된 방현필름에 대한 평가는 아래와 같은 방법으로 실시한다.Evaluation of the anti-glare film prepared from the above Examples and Comparative Examples is carried out by the following method.
(1) 헤이즈(Haze), 내외부 헤이즈 & 전광선투과율(Total Transmittance) (1) Haze, internal and external haze & total transmittance
분광광도계(NDH2000,Nippon Denshoku)를 이용하여 값을 측정한다.The value is measured using a spectrophotometer (NDH2000, Nippon Denshoku).
결과 표기 : 헤이즈(%), 내외부 헤이즈(%), 전광선투과율(%) Result notation: Haze (%), internal and external haze (%), total light transmittance (%)
(2) 반사율(2) reflectance
Wetting 및 점착성이 뛰어난 검은 필름을 기포가 발생하지 않도록 붙인후 반사율 측정기기를 이용하여 5˚반사율을 측정한다. Attach black film with excellent wetting and adhesion to prevent bubbles from occurring, and measure 5˚ reflectance using a reflectance measuring instrument.
결과 표기: 반사율(%)Result notation:% reflectance
(3) 시인성(3) visibility
블랙 아크릴 판에 제조된 방현 필름을 광학용 점착제를 이용하여 붙인후 목시로 블랙정도를 상호 비교 파악한다.The antiglare film prepared on the black acrylic plate was pasted using an optical adhesive and visually grasped the black degree.
결과 표기 : 우수 ◎, 양호 ○, 보통 △, 나쁨 XResult notation: Excellent ◎, Good ○, Normal △, Poor X
<나노+ 마이크로 입자 조성액 조합 및 결과><Nano + micro particle composition liquid combination and result>
상기 표에서 보는 바와 같이 바람직한 실시예와 비교예를 통해 본 발명의 평가결과를 도출할 수 있었다. As shown in the above table, the evaluation results of the present invention could be derived through the preferred examples and the comparative examples.
나노입자와 그 입자로 형성된 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly)를 코팅층으로 갖는 방현필름에 마이크로 입자를 복합하여 분산한 경우에, 시인성과 반사성능이 우수하여 실시예1 부터 실시예5까지는 나노입지와 마이크로 입자를 사용 하여 제작한 방현필름과 나노입자 또는 마이크로 입자만 분산된 비교예와 비교했을 때 유사한 헤이즈값 조건하에서 시인성은 높고 반사율이 낮아 방현필름의 기능 뿐만 아니라 반사방지필름의 보조역할도 가능하게 해줄 수 있음을 확인할 수 있다. In the case of dispersing a composite of microparticles in an antiglare film having nanoparticles and a pseudo-assembly formed from the particles as a coating layer, the nanosites of Examples 1 to 5 are excellent in visibility and reflection performance. Visibility under similar haze value conditions was compared with the antiglare film prepared using and microparticles and the comparative example in which only nanoparticles or microparticles were dispersed. It can be seen that the high reflectance and low reflectivity can enable not only the function of the antiglare film but also the secondary role of the antireflection film.
이상에서 본 발명은 기재된 구체적인 실시예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the specific embodiments described, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications belong to the appended claims. .
본 발명에 따르면, 방현성 필름으로서 2종 이상의 크기 입자를 사용하는 것처럼 가상의 입자 자체가 갖는 요철로서 방현성을 극대화하고 작은 입자에 의한 반사율을 낮추는 효과를 발휘함과 동시에 이종 입자에 의한 굴절특성을 부여함으로써 방현필름의 시인성이 향상되고 반사율이 저감된 우수한 방현필름을 제공하게 된다.According to the present invention, as the anti-glare film uses two or more kinds of size particles, the virtual particles themselves have irregularities to maximize the anti-glare property and lower the reflectance by the small particles, and at the same time the refractive characteristics of the different particles. By providing this, the visibility of the antiglare film is improved and an excellent antiglare film with reduced reflectance is provided.
또한, 본 발명에 따르면, 방현필름의 제작에 있어서 공정 수율을 떨어뜨리지 않고 저렴한 제조 비용을 확보하면서도 반사율이 저하된 방현필름을 제공하는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, there is an effect of providing an anti-glare film having a low reflectance while securing a low manufacturing cost without lowering the process yield in the production of the anti-glare film.
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