KR20080004298A - Cleaning device for a dicing tape apparatus - Google Patents

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Abstract

A cleaning device for a dicing tape apparatus is provided to reduce the breakage degree of a wafer by preventing the wafer from being broken and reduce production cost of a semiconductor package. A cleaning device(300) for a dicing tape apparatus includes a transfer device. The transfer device includes a guide rail(160) and a timing belt(210). The guide rail is installed in the dicing tape apparatus. The timing belt is installed in the dicing tape apparatus so as to transfer the cleaning device. The cleaning device removes dust or foreign materials on a wafer since the spraying and suction of air are performed on the wafer. The cleaning device is constituted of a slider(305) and a body(310). The slider is installed in the guide rail. A suction passage and a supply passage are formed in the body in order to suck and supply the air. An intake port and an injection hole connected to a space part are formed in the suction passage and the supply passage.

Description

다이싱테이프 부착장치용 크리닝장치{Cleaning device for a dicing tape apparatus}Cleaning device for a dicing tape apparatus

도 1은 종래의 다이싱테이프 부착공정을 개략적으로 나타낸 블록도,1 is a block diagram schematically showing a conventional dicing tape attaching process;

도 2는 본 발명에 따른 다이싱테이프 부착장치를 개략적으로 나타낸 블록도,Figure 2 is a block diagram schematically showing a dicing tape applying apparatus according to the present invention,

도 3은 본 발명의 크리닝 장치를 나타낸 사시도,3 is a perspective view showing a cleaning device of the present invention,

도 4a,4b는 본 발명의 크리닝 장치를 나타낸 정단면도와 그 저면도,4A and 4B are a front sectional view and a bottom view of the cleaning apparatus of the present invention,

도 5a,5b는 본 발명에 따른 웨이퍼 본딩 스테이지에서의 크리닝장치 작동상태를 나타낸 단면도와 평면도,5A and 5B are a cross-sectional view and a plan view showing an operating state of a cleaning apparatus in a wafer bonding stage according to the present invention;

도 6a,6b는 본 발명에 따른 디테이핑 스테이지에서의 크리닝장치 작동상태를 나타낸 단면도와 평면도.6a and 6b are a cross-sectional view and a plan view showing an operating state of the cleaning apparatus in the detapping stage according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100 : 다이싱테이프 부착장치 110 : 본체100: dicing tape attachment device 110: main body

120 : 웨이퍼 본딩 스테이지 140 : 디테이핑 스테이지120: wafer bonding stage 140: detapping stage

130,150 : 척 160 : 가이드레일130,150: Chuck 160: Guide Rail

200 : 휠 210 : 타이밍벨트200: wheel 210: timing belt

300 : 크리닝장치 305 : 슬라이더300: cleaning device 305: slider

310 : 몸체 320 : 공간부310: body 320: space

330 : 급기통로 340 : 흡기통로330: air supply passage 340: intake passage

350 : 분사공 360 : 흡기구350: injection hole 360: intake vent

370 : 급기호스 380 : 흡기호스370: Air supply hose 380: Intake hose

W : 웨이퍼 F : 프레임W: Wafer F: Frame

본 발명은 웨이퍼에 다이싱 테이프를 부착시키기 위한 다이싱 테이프 부착장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼 표면의 이물질이나 먼지 등을 제거하여 다이싱 테이프 부착과정에서 웨이퍼가 깨지는 현상을 방지할 수 있는 다이싱 테이프 부착장치용 크리닝장치에 관한 것이다.The present invention relates to a dicing tape attaching apparatus for attaching a dicing tape to the wafer, and more particularly, to remove foreign substances or dust on the surface of the wafer to prevent the wafer from breaking during the dicing tape attaching process. A cleaning device for a dicing tape attachment device.

일반적으로 반도체소자는 웨이퍼(Wafer) 상에 반도체소자의 특성에 따른 패턴(Pattern)을 형성시키는 페브리케이선(Fabrication)공정과, 웨이퍼 상에 형성시킨 패턴의 전기적특성을 검사하는 이디에스(EDS : Electrical Die Sorting)공정 및 웨이퍼를 각각의 칩(Chip)으로 가공하는 어셈블리(Assembly)공정을 수행함으로써 제조된다.In general, a semiconductor device has a fabrication process for forming a pattern according to the characteristics of the semiconductor device on a wafer, and an EDS for inspecting electrical characteristics of the pattern formed on the wafer. : It is manufactured by performing the Electrical Die Sorting process and the Assembly process to process the wafer into each chip.

이와 같은 공정을 통해 생산되는 반도체소자는 점점 소형화, 고직접화, 대용량화되는 제품시장의 변화에 따라 그 두께를 줄이고 있으며, 웨이퍼의 불량률을 줄 여 반도체 패키지의 원가를 절감 및 생산성을 높이는 방향으로 연구개발이 지속되고 있다.Semiconductor devices produced through such processes are decreasing in thickness as the market size of products becoming smaller, more direct, and larger are being reduced, and research is being conducted to reduce the cost of semiconductor packages and increase productivity by reducing wafer defect rate. Development continues.

일 예로 TSOP(Thin Small Out-line Package), TQFP(Thin Quad Flat Package) 등에서는 와이어 본딩 공정에서 와이어의 루프 높이(loop height: 와이어 본딩이 되는 높이)를 낮추고, 웨이퍼의 이면(backside)을 연마(grinding)하는 이면가공공정 등을 통해 반도체 패키지의 두께를 줄이고 있다.For example, in thin small out-line packages (TSOPs) and thin quad flat packages (TQFPs), lower the loop height of wires in the wire bonding process and polish the backside of the wafer. The thickness of the semiconductor package is reduced through a backside grinding process.

그리고 이면가공정을 통과한 웨이퍼는 다이싱 테이프(Dicing Tape)를 부착하는 다이싱 테이프 부착공정과, 웨이퍼의 전면에 부착된 점착필름을 제거하는 점착필름 제거공정을 통과한 후, 다이싱(Dicing)을 위해 반도체 소자의 조립공정(Assembly Process)으로 이송된다.The wafer having passed the backside masking process passes through a dicing tape attaching process for attaching a dicing tape and an adhesive film removing process for removing the adhesive film attached to the front surface of the wafer, followed by dicing. The semiconductor device is transferred to an assembly process of a semiconductor device.

도 1은 이와 같은 종래의 다이싱 테이프 부착장치를 개략적으로 나타낸 블록도로서, 크게 자외선 조사단계, 다이싱 테이프 부착단계, 점착필름 박리단계로 이루어진다.1 is a block diagram schematically showing such a conventional dicing tape attaching apparatus, and is largely composed of an ultraviolet irradiation step, a dicing tape attaching step, and an adhesive film peeling step.

먼저, 자외선조사단계는 웨이퍼(W)에 부착된 통상의 점착필름을 쉽게 제거하기 위하여 자외선을 조사하는 공정으로, 도 1에서 도시한 바와 같이 웨이퍼(W)는 로봇아암(20)과 얼라이너(30)를 통해 이면가공장치(10)로부터 자외선조사장치(40) 내로 이송된 이후, 자외선조사장치(40)에 의해 자외선을 조사받게 된다. 따라서 웨이퍼(W)에 부착된 점착필름은 박리가 용이하도록 경화된다.First, the ultraviolet irradiation step is a process of irradiating ultraviolet rays in order to easily remove the conventional adhesive film attached to the wafer (W), as shown in Figure 1 the wafer (W) is a robot arm 20 and the aligner ( After being transferred into the ultraviolet irradiation device 40 from the back surface processing apparatus 10 through 30, the ultraviolet ray is irradiated by the ultraviolet irradiation device 40. Therefore, the adhesive film attached to the wafer W is cured to facilitate peeling.

다이싱 테이프 부착단계는 웨이퍼(W)에 다이싱 테이프를 부착하는 공정으로, 도 1에서 도시한 바와 같이 로봇아암(21)을 통해 스테이지(50)에 프레임(F)과 함께 웨이퍼(W)를 놓은 이후, 웨이퍼(W)와 프레임(F)을 테이핑장치(60)로 이송시켜 웨이퍼(W)와 프레임(F)의 상면에 다이싱 테이프를 부착하게 된다.The dicing tape attaching step is a process of attaching the dicing tape to the wafer W. As illustrated in FIG. 1, the dicing tape attaches the wafer W together with the frame F to the stage 50 through the robot arm 21. After placing, the wafer W and the frame F are transferred to the taping apparatus 60 to attach the dicing tape to the upper surfaces of the wafer W and the frame F.

여기서 다이싱 테이프의 부착은 통상적으로 다이싱 테이프를 웨이퍼(W)의 상면에 위치시킨 후, 웨이퍼(W)의 상면에 로울러를 이송시키므로 다이싱 테이프를 웨이퍼(W)의 상면에 부착시키게 된다. 그리고 다이싱 테이프가 부착된 웨이퍼(W)는 터닝장치(70)를 통해 디테이핑장치(80)로 이송된다.In this case, the dicing tape is generally attached to the upper surface of the wafer W after the dicing tape is positioned on the upper surface of the wafer W, and then the roller is transferred to the upper surface of the wafer W. The wafer W having the dicing tape attached thereto is transferred to the detapping apparatus 80 through the turning apparatus 70.

한편, 이러한 다이싱 테이프의 부착과 관련된 보다 세부적인 일반 기술은 대한민국 공개특허공보 제2004-0007344호에 기재되어 있다.On the other hand, a more general general technology related to the attachment of such a dicing tape is described in Republic of Korea Patent Publication No. 2004-0007344.

점착필름 박리단계는 웨이퍼(W)에 부착된 점착필름을 박리 제거하는 공정으로, 도 1에서 도시한 바와 같이 디테이핑장치(80)로 이송된 웨이퍼(W)의 점착필름 위로 접착성의 로울러를 가압 이송시키므로 웨이퍼(W)에 부착된 점착필름을 박리 제거하게 된다.The adhesive film peeling step is a process of peeling and removing the adhesive film attached to the wafer W. As shown in FIG. 1, the adhesive roller is pressed onto the adhesive film of the wafer W transferred to the detapping apparatus 80. Since the transfer, the adhesive film attached to the wafer (W) is peeled off.

그리고 점착필름이 제거된 웨이퍼(W)는 이후 언로드부(90)를 거쳐 다이싱장치와 조립장치 측으로 운반되므로 반도체 패키지로 생산된다.And the wafer (W) from which the adhesive film is removed is then transported to the dicing apparatus and the assembly apparatus via the unloading unit 90, thereby producing a semiconductor package.

그러나 이와 같은 종래의 다이싱 테이프 부착장치는 다이싱 테이프의 부착단계에서 스테이지(50)상의 먼지나 이물질을 직접적으로 제거하지 못하므로 다이싱 테이프 부착단계나 점착필름 박리단계에서 웨이퍼(W)가 깨지는 현상이 발생되었다.However, such a conventional dicing tape attaching device does not directly remove dust or foreign matter on the stage 50 in the attaching step of the dicing tape, so that the wafer W is broken in the dicing tape attaching step or the adhesive film peeling step. The phenomenon occurred.

즉, 웨이퍼(W)는 다이싱 테이프 부착단계나 점착필름 박리단계에서 로울러에 의해 가압되는데 이 과정에서 먼지나 이물질은 로울러의 가압력을 집중시키는 역할을 하게 되어 웨이퍼(W)를 깨뜨리는 현상(Broken)을 일으키게 된다.That is, the wafer W is pressed by the roller in the dicing tape attaching step or the adhesive film peeling step. In this process, dust or foreign matter plays a role of concentrating the pressing force of the roller, thus breaking the wafer W. Will cause.

특히, 150㎛이하로 경박화된 웨이퍼(W)는 얇아진 두께 만큼 그 강도도 매우 취약하므로 먼지나 이물질에 더욱 민감할 수밖에 없다. 따라서 종래의 다이싱 테이프 부착장치는 다이싱 테이프의 부착과정이나 점착필름 박리과정에서 웨이퍼(W)가 깨지는 현상이 빈번하게 발생될 수밖에 없고, 이로 인하여 웨이퍼(W) 파손율의 증가 및 반도체 패키지의 생산성을 크게 떨어뜨리는 심각한 문제점이 발생되었다.In particular, the wafer W thinned to 150 μm or less has a very weak strength due to its thinned thickness, so it is inevitably more sensitive to dust and foreign matter. Therefore, in the conventional dicing tape applying apparatus, the wafer W breaks frequently during the attaching of the dicing tape or the peeling of the adhesive film, and thus, the breakage rate of the wafer W and the semiconductor package may be increased. A serious problem has arisen that greatly reduces productivity.

본 발명은 전술한 바와 같은 종래의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 다이싱 테이프의 부착과정이나 점착필름의 박리과정에서 먼지나 이물질로 인해 웨이퍼가 깨지는 현상을 방지할 수 있는 다이싱 테이프 부착장치용 크리닝장치를 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, an object of the present invention is to prevent the wafer cracking due to dust or foreign matter during the adhesion process of the dicing tape or the peeling process of the adhesive film. The present invention provides a cleaning device for a dicing tape attachment device.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다이싱 테이프 부착장치용 크리닝장치는 웨이퍼에 다이싱 테이프를 부착할 수 있도록 스테이지가 설치된 다이싱 테이프 부착장치에 있어서, 상기 다이싱 테이프 부착장치에는 이송장치를 통해 스테이지 위를 이송하므로 스테이지의 척 표면에 잔존한 먼지나 이물질을 흡입 제거하는 크리닝장치를 설치한 것을 특징으로 한다.The cleaning device for a dicing tape attachment device of the present invention for achieving the above object is a dicing tape attachment device provided with a stage to attach the dicing tape to the wafer, the dicing tape attachment device is a transfer device Since the transfer through the stage through the chuck surface of the stage is characterized in that the cleaning device is installed to suction and remove the remaining dust or foreign matter.

이하, 본 발명의 다이싱 테이프 부착장치용 크리닝장치에 대한 상세한 구성을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the detailed configuration of the cleaning device for a dicing tape applying apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 다이싱테이프 부착장치를 개략적으로 나타낸 블록도이고, 도 3은 본 발명의 크리닝 장치를 나타낸 사시도로서, 도시한 바와 같이 본 발명은 크리닝장치(300)와, 크리닝장치(300)를 다이싱 테이프 부착장치(100)에 설치하기 위한 이송장치로 이루어진다.Figure 2 is a block diagram schematically showing a dicing tape applying apparatus according to the present invention, Figure 3 is a perspective view showing a cleaning device of the present invention, as shown in the present invention, the cleaning device 300 and the cleaning device ( 300 is made of a transfer device for installing the dicing tape attachment device 100.

먼저, 이송장치는 상기한 크리닝장치(300)를 다이싱 테이프 부착장치(100) 내에서 이송시키기 위한 것으로, 그 일예로 웨이퍼 본딩 스테이지(120)와 디테이핑 스테이지(140)의 후방에 가이드레일(160)을 설치하고, 가이드레일(160)의 양측에는 통상의 모터 등에 의해 구동되는 휠(200)을 설치하며, 양측 휠(200)에는 타이밍벨트(210)를 설치한다.First, the conveying apparatus is for conveying the cleaning apparatus 300 in the dicing tape attaching apparatus 100. For example, the conveying apparatus may include a guide rail at the rear of the wafer bonding stage 120 and the detapping stage 140. 160 is installed, and both sides of the guide rail 160 are provided with wheels 200 driven by a common motor and the like, and both wheels 200 are provided with a timing belt 210.

크리닝장치(300)는 웨이퍼 본딩 스테이지(120)와 디테이핑 스테이지(140) 상의 먼지나 이물질 등을 흡입 제거하는 것으로, 크게 슬라이더(305)와 몸체(310)로 구성된다. 우선 슬라이더(305)는 상기한 가이드레일(160)에 이송 가능하게 설치하되 상기한 타이밍벨트(210)의 일부분과 결합되게 설치하고, 몸체(310)는 슬라이드(305)에 고정 설치한다.The cleaning apparatus 300 suctions and removes dust or foreign matter on the wafer bonding stage 120 and the detapping stage 140. The cleaning apparatus 300 includes a slider 305 and a body 310. First, the slider 305 is installed to be transportable to the guide rail 160, but is installed to be coupled to a portion of the timing belt 210, the body 310 is fixed to the slide 305.

이러한 몸체(310)는 도 4a,4b,5b에서 도시한 바와 같이 내부에 흡기통로(340)와 급기통로(330)를 형성하여 흡기호스(380)와 급기호스(370)를 통해 에어의 흡입 및 공급이 이루어질 수 있도록 하고, 흡기통로(340)와 급기통로(330)에는 흡기구(360)와 분사공(350)을 각각 형성하여 웨이퍼 본딩 스테이지(120)와 디테이핑 스테이지(140) 상의 먼지나 이물질을 용이하게 흡입할 수 있도록 한다. 그리고 흡기구(360)와 분사공(350)이 형성된 몸체(310)의 저면에는 공간부(320)를 형성한다.The body 310 is formed in the intake passage 340 and the air supply passage 330 therein as shown in Figures 4a, 4b, 5b to suck the air through the intake hose 380 and the supply hose 370 and The supply is made, and the intake passage 340 and the supply passage 330 are formed with the inlet port 360 and the injection hole 350, respectively, so that dust or foreign matter on the wafer bonding stage 120 and the detapping stage 140 are formed. Make it easy to inhale. In addition, a space 320 is formed on a bottom surface of the body 310 in which the inlet port 360 and the injection hole 350 are formed.

여기서, 분사공(350)은 먼지나 이물질이 웨이퍼(W)에서 쉽게 떨어져 흩날릴 수 있도록 웨이퍼 본딩 스테이지(120)와 디테이핑 스테이지(140) 표면에 대하여 경사진 형태로 형성하고, 흡기구(360)는 상기한 공간부(320) 내의 먼지나 이물질을 신속하게 흡입할 수 있도록 공간부(320)의 상부에 위치되게 형성하는 것이 바람직하다.Here, the injection hole 350 is formed in an inclined shape with respect to the surface of the wafer bonding stage 120 and the detapping stage 140 so that dust or foreign matter can easily be scattered away from the wafer (W), the inlet 360 Is preferably formed to be located above the space portion 320 so that the dust or foreign matter in the space 320 can be quickly sucked.

이와 같이 구성된 본 발명의 작용 및 효과를 다이싱 테이프 부착과정과 함께 상세하게 설명하면 다음과 같다.The operation and effects of the present invention configured as described above will be described in detail with the dicing tape attaching process as follows.

먼저, 도 3은 본 발명에 따른 다이싱 테이프 부착장치(100)를 각 공정별로 블록화하여 3차원적으로 나타낸 블록도로서, 도시한 바와 같이 이면가공장치를 통해 이면이 가공된 웨이퍼(W)는 전송로봇에 의해 자외선 조사장치로 이송되어 자외선을 조사받게 되고, 이를 통해 웨이퍼(W)에 부착된 점착필름을 경화시키게 된다.First, Figure 3 is a block diagram showing the dicing tape attachment device 100 according to the present invention in three dimensions by blocking the process, as shown, the wafer W is processed through the back surface factory value It is transferred to the ultraviolet irradiation device by the transmission robot to be irradiated with ultraviolet rays, thereby curing the adhesive film attached to the wafer (W).

그리고 자외선이 조사된 웨이퍼(W)는 전송로봇에 의해 웨이퍼 본딩 스테이지(120)로 이송되는데, 이때 웨이퍼 본딩 스테이지(120)는 웨이퍼(W)가 놓여지기 이전에 가이드레일(160)을 따라 이송되는 크리닝장치(300)를 통해 먼지나 이물질 등이 제거된다.The wafer W irradiated with ultraviolet rays is transferred to the wafer bonding stage 120 by a transfer robot, wherein the wafer bonding stage 120 is transferred along the guide rail 160 before the wafer W is placed. Dust or foreign matter is removed through the cleaning device 300.

도 5a, 5b는 이와 같은 크리닝장치(300)를 통한 웨이퍼 본딩 스테이지(120)의 크리닝 과정을 상세하게 나타낸 단면도로서, 도시된 바와 같이 크리닝장치(300)는 몸체(310)에 형성된 분사공(350)을 통해 척(130) 표면에 에어를 분사하게 된다.5A and 5B are cross-sectional views illustrating a cleaning process of the wafer bonding stage 120 through the cleaning apparatus 300 in detail. As illustrated, the cleaning apparatus 300 may include injection holes 350 formed in the body 310. Air is injected to the surface of the chuck 130 through the).

따라서 척(130) 표면의 먼지나 이물질은 분사되는 공기로 인하여 몸체(310)에 형성된 공간부(320) 내에서 부유되고, 부유된 먼지나 이물질은 공간부(320)의 상부에 형성된 흡기구(360)를 통해 흡입되어 흡기호스(380)를 통해 배출된다.Therefore, the dust or foreign matter on the surface of the chuck 130 is suspended in the space 320 formed in the body 310 due to the injected air, the suspended dust or foreign matter is formed in the upper portion of the space 320 Inhaled through) and is discharged through the intake hose 380.

그러므로 본 발명은 웨이퍼 본딩 스테이지(120)의 척(130) 표면에 먼지나 이물질이 잔류하지 않도록 하므로 테이핑 및 컷팅장치를 통한 테이핑과정에서 로울러 가압에 따른 웨이퍼(W)의 깨짐 현상이 발생되지 않는다.Therefore, the present invention prevents dust or foreign matter from remaining on the surface of the chuck 130 of the wafer bonding stage 120, so that the cracking phenomenon of the wafer W due to roller pressurization does not occur during taping through the taping and cutting device.

도 6a,6b는 크리닝장치(300)를 통한 디테이핑 스테이지(140)의 크리닝과정을 나타낸 평면도와 단면도로서, 도시된 바와 같이 크리닝장치(300)는 몸체(310)에 형성된 분사공(350)을 통해 디테이핑 스테이지(140)의 척(150) 표면에 에어를 분사하게 된다.6A and 6B are plan views and cross-sectional views illustrating a cleaning process of the detapping stage 140 through the cleaning apparatus 300. As shown in FIG. 6, the cleaning apparatus 300 may include the injection holes 350 formed in the body 310. Referring to FIGS. Air is sprayed to the surface of the chuck 150 of the detapping stage 140 through.

따라서 척(150) 표면의 먼지나 이물질은 분사되는 공기로 인하여 몸체(310)에 형성된 공간부(320) 내에서 부유되고, 부유된 먼지나 이물질은 공간부(320)의 상부에 형성된 흡기구(360)를 통해 흡입되어 흡기호스(380)를 통해 배출된다.Therefore, the dust or foreign matter on the surface of the chuck 150 is suspended in the space 320 formed in the body 310 due to the injected air, the suspended dust or foreign matter is formed in the upper portion of the space 320 Inhaled through) and is discharged through the intake hose 380.

그러므로 본 발명은 디테이핑 스테이지(140)의 척(150) 표면에 먼지나 이물질이 잔류하지 않도록 하므로 디테이핑장치를 통한 점착테이프의 제거과정에서 로울러의 가압에 따른 웨이퍼(W)의 깨짐현상이 발생되지 않는다.Therefore, since the present invention prevents dust or foreign matter from remaining on the surface of the chuck 150 of the detapping stage 140, the cracking phenomenon of the wafer W may occur due to the pressurization of the roller during the removal of the adhesive tape through the detapping apparatus. It doesn't work.

이와 같이 본 발명의 다이싱 테이프 부착장치(100)용 크리닝장치(300)는 다이싱 테이프의 부착작업과 디테이핑 작업 이전에 웨이퍼 본딩 스테이지(120)와 디테이핑 스테이지(140)의 척(130)(150) 표면을 깔끔하게 에어 청소하므로 먼지나 이물질의 잔류로 인한 웨이퍼(W)의 깨짐 현상을 방지하게 된다.As described above, the cleaning apparatus 300 for the dicing tape attaching apparatus 100 of the present invention includes the chuck 130 of the wafer bonding stage 120 and the detapping stage 140 before the dicing tape attaching and detapping operations. Since the surface is cleanly air-cleaned, the wafer W may be prevented from being broken due to dust or foreign matter.

특히, 본 발명은 단순히 척(130)(150)의 표면을 진공 흡입하여 먼지나 이물질을 제거하는 것 이외에, 분사공(350)을 통해 에어를 분사하여 척(130)(150) 표면의 먼지나 이물질을 적극적으로 부유시켜 제거하므로 척(130)(150) 표면의 먼지나 이물질의 잔존 가능성을 획기적으로 줄이게 된다.In particular, the present invention, in addition to simply removing the surface of the chuck 130, 150 by vacuum suction to remove dust or foreign matter, by injecting air through the injection hole 350 to remove the dust on the surface of the chuck 130, 150 By actively floating and removing foreign matter, the possibility of remaining of dust or foreign matter on the surface of the chuck 130 and 150 is drastically reduced.

따라서 본 발명은 먼지나 이물질로 인한 웨이퍼(W)의 파손율을 현저히 줄이므로 웨이퍼(W) 손실에 따른 원가를 크게 줄이고, 생산성을 높일 뿐만 아니라, 최근 경박화되고 있는 웨이퍼(W)의 경우 가일층 먼지나 이물질에 따른 피해를 줄이는데 매우 적합하게 적용될 수 있다.Therefore, the present invention significantly reduces the breakage rate of the wafer W due to dust or foreign matter, thereby greatly reducing the cost of wafer W loss and increasing productivity, and in the case of the wafer W that has recently been thinned. It can be applied very well to reduce the damage caused by dust and foreign substances.

한편, 이와 같은 본 발명의 실시 예는 바람직한 일예를 설명한 것에 불과한 것으로, 본 발명의 적용범위는 이와 같은 것에 한정되는 것은 아니며, 동일사상의 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다.On the other hand, this embodiment of the present invention is only to describe a preferred example, the scope of the present invention is not limited to such, and can be changed as appropriate within the scope of the same idea.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 스테이지에 설치되는 척 표면의 먼지나 이물질을 부유시켜 흡입 제거하므로 다이싱 테이프 부착과정나 점착필름 제거과 정에서 척 표면의 먼지나 이물질로 인한 웨이퍼의 깨짐현상을 발생시키지 않는 매우 뛰어난 효과가 있다.As described above, the present invention floats and removes dust or foreign matter on the surface of the chuck installed on the stage, so that the wafer is not cracked due to the dust or foreign matter on the chuck surface during the process of attaching the dicing tape or removing the adhesive film. Does not have a very outstanding effect.

더욱이 본 발명은 먼지나 이물질로 인한 웨이퍼의 깨짐 현상을 방지하므로 웨이퍼의 파손율을 줄이고, 이로 인하여 반도체 패키지 생산의 원가는 줄이면서 생산성은 크게 향상시키는 매우 유용한 효과도 있다.In addition, the present invention prevents wafer breakage due to dust or foreign matter, thereby reducing the breakage rate of the wafer, thereby reducing the cost of semiconductor package production and greatly improving productivity.

Claims (7)

웨이퍼에 다이싱 테이프를 부착할 수 있도록 스테이지가 설치된 다이싱 테이프 부착장치에 있어서,In the dicing tape applying apparatus provided with a stage for attaching a dicing tape to a wafer, 상기 다이싱 테이프 부착장치에는 이송장치를 통해 스테이지 위를 이송하므로 스테이지의 척 표면에 잔존한 먼지나 이물질을 흡입 제거하는 크리닝장치를 설치한 것을 특징으로 하는 다이싱 테이프 부착장치용 크리닝장치.The dicing tape attaching device is cleaning device for dicing tape attaching device, characterized in that the cleaning device for transporting on the stage through the transfer device to the suction chuck surface of the stage to remove the remaining dust or foreign matter. 제 1 항에 있어서, 상기 이송장치는 다이싱 테이프 부착장치에 설치한 가이드레일과;The apparatus of claim 1, wherein the transfer device comprises: a guide rail installed on a dicing tape attachment device; 상기 크리닝장치를 이송시키기 위하여 다이싱 테이프 부착장치에 설치한 타이밍벨트Timing belt installed on the dicing tape attachment device to transfer the cleaning device 를 포함하여 구성한 것을 특징으로 하는 다이싱 테이프 부착장치용 크리닝장치.Cleaning device for dicing tape attachment device comprising a. 제 1 항에 있어서, 상기 크리닝장치는 웨이퍼 상에서 에어의 분사와 흡입이 함께 이루어지므로 웨이퍼 상의 먼지나 이물질을 흡입 제거하는 것을 특징으로 하는 다이싱 테이프 부착장치용 크리닝장치.The cleaning apparatus for a dicing tape attachment apparatus according to claim 1, wherein the cleaning apparatus performs suction and suction of air on the wafer so as to suction and remove dust or foreign matter on the wafer. 제 1 항에 있어서, 상기 크리닝장치(300)는 The method of claim 1, wherein the cleaning device 300 가이드레일(160)에 설치한 슬라이더와;A slider installed on the guide rail 160; 상기 슬라이더에 고정 설치하되 저면에 공간부를 형성하고, 흡기호스와 급기호스를 통해 에어의 흡입 및 공급이 가능하도록 내부에 흡기통로와 급기통로를 형성하고, 흡기통로와 급기통로에는 상기 공간부와 연결되는 흡기구와 분사공을 형성한 몸체It is fixed to the slider, but forms a space portion on the bottom, the intake passage and the air supply passage to the inside to enable the intake and supply of air through the intake hose and the supply hose, connected to the space portion in the intake passage and the supply passage Body formed with inlet and injection hole 로 이루어지는 것을 특징으로 하는 다이싱 테이프 부착장치용 크리닝장치.Cleaning device for dicing tape attachment device, characterized in that consisting of. 제 4 항에 있어서 상기 분사공은 먼지나 이물질이 척 표면으로부터 쉽게 부유될 수 있도록 경사지게 형성하고;The method of claim 4, wherein the injection hole is formed to be inclined so that dust or foreign matter can be easily suspended from the surface of the chuck; 상기 흡기구는 공간부의 먼지나 이물질을 신속하게 흡입할 수 있도록 공간부의 상부에 형성한 것을 특징으로 하는 다이싱 테이프 부착장치용 크리닝장치.And the intake port is formed on an upper portion of the space portion so as to quickly suck dust or foreign matter from the space portion. 제 1 항에 있어서, 상기 스테이지는 다이싱 테이프 부착장치에 설치되는 웨이퍼 본딩 스테이지인 것을 특징으로 하는 다이싱 테이프 부착장치용 크리닝장치.The cleaning apparatus for a dicing tape applying apparatus according to claim 1, wherein the stage is a wafer bonding stage installed in the dicing tape applying apparatus. 제 1 항에 있어서, 상기 스테이지는 다이싱 테이프 부착장치에 설치되는 디테이핑 스테이지인 것을 특징으로 하는 다이싱 테이프 부착장치용 크리닝장치.The cleaning device for dicing tape attachment device according to claim 1, wherein the stage is a detapping stage installed in the dicing tape attachment device.
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