KR20080001978A - Circuit and method for controlling isolation of cell mat in semiconductor memory apparatus - Google Patents

Circuit and method for controlling isolation of cell mat in semiconductor memory apparatus Download PDF

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Abstract

A circuit and a method for controlling isolation of a cell mat in a semiconductor memory apparatus are provided to prevent an operation error by performing isolation control operation by reducing current consumption and then considering redundancy operation, by generating an isolation signal with a constant level. An end control unit(110) generates an end signal after a last word line of a cell mat is enabled during a refresh mode. A latch control unit(120) generates a latch control signal in correspondence to the end signal and a redundancy signal. An isolation signal generation unit(130) generates an isolation signal in correspondence to the latch control signal and a mat selection signal.

Description

반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로 및 방법{Circuit and Method for Controlling Isolation of Cell Mat in Semiconductor Memory Apparatus}Circuit and Method for Controlling Isolation of Cell Mat in Semiconductor Memory Apparatus

도 1은 종래의 기술에 따른 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로의 배치도,1 is a layout view of a cell mat insulation control circuit of a semiconductor memory device according to the related art;

도 2는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로의 구성을 나타낸 블록도,2 is a block diagram showing a configuration of a cell mat insulation control circuit of a semiconductor memory device according to the present invention;

도 3은 도 2에 도시한 종료 제어 수단의 상세 구성도,3 is a detailed block diagram of the termination control means shown in FIG. 2;

도 4는 도 2에 도시한 래치 제어 수단의 상세 구성도,4 is a detailed configuration diagram of the latch control means shown in FIG. 2;

도 5는 도 2에 도시한 절연 신호 생성 수단의 상세 구성도이다.FIG. 5 is a detailed configuration diagram of the insulation signal generation means shown in FIG. 2.

<도면의 주요 부분에 대한 부호 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

1 : 셀 매트 2 : 센스 앰프1: cell mat 2: sense amplifier

5, 10 : 셀 매트 절연 제어 회로 110 : 종료 제어 수단5, 10: cell mat insulation control circuit 110: termination control means

120 : 래치 제어 수단 130 : 절연 신호 생성 수단120: latch control means 130: insulation signal generating means

본 발명은 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로 및 방법에 관한 것 으로, 보다 상세하게는 전류 소모를 감소시키는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a cell mat insulation control circuit and method of a semiconductor memory device, and more particularly to a cell mat insulation control circuit and method of a semiconductor memory device to reduce the current consumption.

일반적으로 DRAM(Dynamic Random Access Memory)은 하나의 트랜지스터와 하나의 캐패시터로 이루어지는 복수 개의 메모리 셀을 구비하며, 소정 개수의 메모리 셀의 단위를 셀 매트라고 부른다. 셀 매트에는 메모리 셀을 활성화시키기 위한 워드라인이 복수 개 연결되며, 메모리 셀에 대한 데이터의 입출력 동작을 수행하기 위한 복수 개의 센스 앰프가 비트라인을 통해 연결된다. 종래의 기술에서, 셀 매트는 한 개의 센스 앰프와 비트라인을 공유하고 다른 한 개의 센스 앰프와 부 비트라인을 공유하여 면적을 감소시키는 구조로 구성된다. 이에 따라 한 개의 셀 매트가 활성화되면 두 개의 센스 앰프가 동작하게 되며, 이 때 인접 셀 매트에 영향을 미치지 않도록 하기 위해 선택적으로 센스 앰프와 셀 매트 사이를 선택적으로 절연시키는 센스 앰프 절연 제어 회로가 활용된다.In general, a dynamic random access memory (DRAM) includes a plurality of memory cells including one transistor and one capacitor, and a unit of a predetermined number of memory cells is called a cell mat. A plurality of word lines for activating the memory cells are connected to the cell mat, and a plurality of sense amplifiers for performing input / output operations of data to the memory cells are connected through the bit lines. In the prior art, the cell mat is configured to share a bit line with one sense amplifier and a sub bit line with another sense amplifier to reduce the area. Accordingly, when one cell mat is activated, two sense amplifiers are operated, and a sense amplifier isolation control circuit that selectively isolates between the sense amplifier and the cell mat is used to prevent the neighboring cell mat from being affected. do.

이하, 종래의 기술에 따른 센스 앰프 절연 제어 회로를 도 1을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a sense amplifier isolation control circuit according to the related art will be described with reference to FIG. 1.

도 1은 종래의 기술에 따른 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로의 배치도로서, 셀 매트에 연결되는 비트라인의 수가 4개인 것으로 나타내고 워드라인은 생략한 것이다. 또한 비트라인과 절연 라인 사이에 구비되는 트랜지스터를 생략하여 절연 라인이 하이 레벨(High Level)의 전위를 갖게 되면 비트라인 사이가 절연되는 것으로 도면을 간소화하였다.FIG. 1 is a layout view of a cell mat isolation control circuit of a semiconductor memory device according to the related art, in which the number of bit lines connected to the cell mat is four and the word lines are omitted. In addition, since the transistor provided between the bit line and the insulating line is omitted, when the insulating line has a high level potential, the bit line is insulated to simplify the drawing.

도시한 바와 같이, 셀 매트(1)와 센스 앰프(2) 사이에는 절연 라인(ISL)이 구비되고, 각각의 절연 라인(ISL)은 셀 매트 절연 제어 회로(5)에 의해 제어된다. 이 때 인에이블 된 매트 선택 신호(cms)가 동시에 두 개의 셀 매트 절연 제어 회로(5)에 입력되면 각각의 셀 매트 절연 제어 회로(5)로부터 절연 신호(iso)가 인에이블 되어 하나의 셀 매트(1)를 중심으로 두 개의 센스 앰프(2) 외부의 비트라인 쌍(BL, /BL)이 절연된다. 이 때 상기 매트 선택 신호(cms)가 인에이블 되어 입력된 두 개의 셀 매트 절연 제어 회로(5) 외의 셀 매트 절연 제어 회로(5)에서는 상기 절연 신호(iso)가 디스에이블 되며 이에 따라 해당 절연 라인(ISL)은 해당 비트라인(BL) 또는 부 비트라인(/BL)을 절연시키지 않는다.As shown, an insulation line ISL is provided between the cell mat 1 and the sense amplifier 2, and each insulation line ISL is controlled by the cell mat insulation control circuit 5. At this time, if the enabled mat select signal (cms) is input to two cell mat insulation control circuits 5 at the same time, the isolation signal (iso) is enabled from each cell mat insulation control circuit 5 to enable one cell mat. The bit line pairs BL and / BL outside the two sense amplifiers 2 are insulated around (1). In this case, in the cell mat insulation control circuit 5 other than the two cell mat insulation control circuits 5 inputted with the mat selection signal cms enabled, the insulation signal iso is disabled, and thus the insulation line is disabled. ISL does not insulate the corresponding bit line BL or the sub bit line / BL.

반도체 메모리 장치의 프리차지 동작시에는 모든 절연 라인들이 절연 동작을 수행하지 않는다. 반면에 액티브 동작시에는 어드레스에 의해 선택된 셀 매트가 활성화되고, 그에 따라 셀 매트 절연 제어 회로가 해당 절연 라인들이 비트라인 쌍을 절연시켜 인접 셀 매트가 센스 앰프에 영향을 미치지 못하게 한다. 이 경우 어드레스에 의해 선택된 워드라인이 활성화되어 그에 따른 데이터 입출력이 수행된다. 상기 매트 선택 신호(cms)는 해당 매트 내의 워드라인이 활성화되면 인에이블 되며, 그에 따라 상기 절연 신호(iso)가 인에이블 되어 절연 동작을 수행한다.In the precharge operation of the semiconductor memory device, all the insulation lines do not perform the insulation operation. In the active operation, on the other hand, the cell mat selected by the address is activated, so that the cell mat isolation control circuitry prevents the adjacent cell mat from affecting the sense amplifier by insulating the corresponding isolation lines from the pair of bit lines. In this case, the word line selected by the address is activated, and data input / output is performed accordingly. The mat selection signal cms is enabled when the word line in the mat is activated. Accordingly, the insulation signal iso is enabled to perform the insulation operation.

반도체 메모리 장치의 리프레쉬 동작시에는 액티브 동작과 달리 하나의 셀 매트가 선택되고 복수 개의 워드라인이 순차적으로 활성화된다. 이후 하나의 셀 매트에 대한 리프레쉬 동작이 종료되면, 다음 셀 매트에 대한 리프레쉬 동작이 수행되어 복수 개의 워드라인이 순차적으로 활성화되는 동작이 수행된다. 이 때 상기 매트 선택 신호(cms)는 워드라인이 활성화될 때마다 인에이블 되는 신호이므로, 하나의 셀 매트에 구비된 워드라인의 수만큼 여러 번 인에이블 되며, 그에 따라 상기 절연 신호(iso) 또한 워드라인의 수만큼 여러 번 인에이블 된다. 즉, 상기 셀 매트가 512개의 워드라인을 갖는다면, 상기 절연 신호(iso)는 512번 인에이블 되어야 한다. 상기 절연 신호(iso)가 하이 인에이블 신호일 때, 하나의 셀 매트에 대한 리프레쉬 동작이 수행되면 하나의 셀 매트(1)와 두 개의 센스 앰프(2)만을 공유시키고 인접 셀 매트를 절연시키는 두 개의 절연 라인(ISL)에는 라이징 에지와 폴링 에지를 512번 갖는 반복적인 펄스 파형의 전위가 인가된다. 이에 따라 1024번의 피크 전류(Peak Current)에 의한 전류 소모가 발생하게 된다.In the refresh operation of the semiconductor memory device, unlike the active operation, one cell mat is selected and a plurality of word lines are sequentially activated. Subsequently, when the refresh operation for one cell mat is finished, the refresh operation for the next cell mat is performed to sequentially activate the plurality of word lines. In this case, since the mat selection signal cms is enabled every time the word line is activated, the mat selection signal cms is enabled as many times as the number of word lines included in one cell mat. Accordingly, the isolation signal iso is also used. It is enabled as many times as there are word lines. That is, if the cell mat has 512 word lines, the isolation signal iso must be enabled 512 times. When the isolation signal is a high enable signal, when a refresh operation is performed on one cell mat, only two cell mats 1 and two sense amplifiers 2 are shared and two adjacent cell mats are insulated. The potential of the repetitive pulse waveform having the rising edge and the falling edge 512 times is applied to the insulation line ISL. Accordingly, current consumption by peak current of 1024 times occurs.

리프레쉬 동작시 하나의 셀 매트에 대한 리프레쉬 동작이 종료되면 다음 셀 매트에 대한 리프레쉬 동작이 수행되므로, 상술한 피크 전류에 의한 전류 소모는 반복적으로 발생하게 된다. 하나의 메모리 뱅크 내에는 복수 개의 셀 매트가 구비되므로, 상술한 전류 소모는 반도체 메모리 장치 전체를 고려하면 무시할 수 없는 반도체 메모리 장치의 성능 저하 요인이 된다. 반도체 메모리 장치의 전류 소모가 가장 중요한 기술적 해결 과제로 대두되는 현재의 상황을 고려하면, 상술한 전류 소모는 필수적으로 해결해야만 하는 요인이 된다. 그러나 종래의 기술에는 리프레쉬 동작시 절연 라인에 반복적으로 발생하는 피크 전류에 의한 전류 소모를 감소시키기 위한 수단 및 방법이 존재하지 않았다.When the refresh operation for one cell mat is terminated during the refresh operation, the refresh operation for the next cell mat is performed, and thus the current consumption caused by the peak current is repeatedly generated. Since a plurality of cell mats are provided in one memory bank, the current consumption described above becomes a deterioration factor of the semiconductor memory device that cannot be ignored considering the entire semiconductor memory device. In view of the current situation in which current consumption of a semiconductor memory device is the most important technical problem, the above-described current consumption becomes an essential factor to be solved. However, in the prior art, there is no means and a method for reducing the current consumption by the peak current repeatedly generated in the insulating line during the refresh operation.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 리프레쉬 동 작시 셀 매트와 센스 앰프 사이를 선택적으로 절연시키기 위한 절연 신호를 일정한 레벨을 갖는 신호로서 생성하여 전류 소모를 감소시키고, 그에 따라 리던던시 동작을 고려하여 절연 제어 동작을 수행함으로써 오동작을 방지하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로 및 방법을 제공하는 데에 그 기술적 과제가 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and generates an isolation signal as a signal having a constant level to selectively insulate between the cell mat and the sense amplifier during a refresh operation, thereby reducing current consumption, and thus redundancy operation. In view of the above, there is a technical problem to provide a cell mat insulation control circuit and a method of a semiconductor memory device which prevent a malfunction by performing an insulation control operation.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로는, 리프레쉬 모드시 셀 매트의 마지막 워드라인이 활성화된 후 종료 신호를 생성하는 종료 제어 수단; 상기 종료 신호와 리던던시 신호에 대응하여 래치 제어 신호를 생성하는 래치 제어 수단; 및 상기 래치 제어 신호와 매트 선택 신호에 대응하여 절연 신호를 생성하는 절연 신호 생성 수단;을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a cell mat insulation control circuit of an exemplary embodiment of the present invention, comprising: end control means for generating a termination signal after a last word line of a cell mat is activated in a refresh mode; Latch control means for generating a latch control signal in response to the end signal and the redundancy signal; And an isolation signal generating means for generating an isolation signal in response to the latch control signal and the mat selection signal.

또한 본 발명의 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로는, 리프레쉬 모드시 셀 매트의 마지막 워드라인이 활성화되면 종료 신호를 생성하는 종료 제어 수단; 및 매트 선택 신호에 대응한 절연 신호 생성 동작시 래치 회로를 이용하여 상기 절연 신호를 소정 레벨의 레벨 신호로서 출력하며, 상기 종료 신호의 인에이블시 또는 리던던시 신호 입력시 상기 절연 신호를 디스에이블 시키는 절연 신호 생성 수단;을 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the cell mat isolation control circuit of the semiconductor memory device of the present invention, termination control means for generating a termination signal when the last word line of the cell mat in the refresh mode; And outputting the insulation signal as a level signal of a predetermined level by using a latch circuit in an insulation signal generation operation corresponding to a mat selection signal, and disabling the insulation signal when the termination signal is enabled or when a redundancy signal is input. Signal generating means; characterized in that it comprises a.

그리고 본 발명의 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 방법은, a) 리프레쉬 모드시 셀 매트의 마지막 워드라인이 활성화된 후 종료 신호를 생성하는 단계; b) 상기 종료 신호와 리던던시 신호에 대응하여 래치 제어 신호를 생성하는 단계; 및 c) 상기 래치 제어 신호와 매트 선택 신호에 대응하여 절연 신호를 생성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The cell mat isolation method of the semiconductor memory device may include: a) generating a termination signal after the last word line of the cell mat is activated in the refresh mode; b) generating a latch control signal in response to the end signal and the redundancy signal; And c) generating an isolation signal corresponding to the latch control signal and the mat selection signal.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로의 구성을 나타낸 블록도이다.2 is a block diagram showing a configuration of a cell mat insulation control circuit of a semiconductor memory device according to the present invention.

도시한 것과 같이, 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로(10)는 최종 워드라인 선택 신호(lws)와 리프레쉬 신호(rfsh)를 입력 받아 종료 신호(fnsh)를 생성하는 종료 제어 수단(110), 상기 종료 신호(fnsh)와 제 1 및 제 2 리던던시 신호(rdcy<1:2>)에 대응하여 래치 제어 신호(lcnt)를 생성하는 래치 제어 수단(120) 및 상기 래치 제어 신호(lcnt)와 매트 선택 신호(cms)에 대응하여 절연 신호(iso)를 생성하는 절연 신호 생성 수단(130)으로 구성된다.As shown, the cell mat isolation control circuit 10 of the semiconductor memory device according to the present invention receives an end word line selection signal lws and a refresh signal rfsh to generate an end signal fnsh. (110), the latch control means 120 for generating a latch control signal (lcnt) corresponding to the end signal (fnsh) and the first and second redundancy signals (rdcy <1: 2>) and the latch control signal ( and an isolation signal generating means 130 for generating an isolation signal iso in response to lcnt and the mat selection signal cms.

상기 최종 워드라인 선택 신호(lws)는 셀 매트당 구비되는 복수 개의 워드라인 중 마지막 워드라인이 활성화되면 인에이블 되는 신호이다. 상기 최종 워드라인 선택 신호(lws)는 외부 어드레스가 디코딩됨으로써 생성된다. 상기 종료 제어 수단(110)은 리프레쉬 모드시 상기 최종 워드라인 선택 신호(lws)가 인에이블 되면 상기 종료 신호(fnsh)를 인에이블 시켜 출력한다.The last word line selection signal lws is a signal that is enabled when the last word line of a plurality of word lines provided per cell mat is activated. The final word line selection signal lws is generated by decoding an external address. The termination control means 110 enables and outputs the termination signal fnsh when the final word line selection signal lws is enabled in the refresh mode.

이후 상기 래치 제어 수단(120)은 상기 종료 신호(fnsh)와 상기 제 1 및 제 2 리던던시 신호(rdcy<1:2>)가 모두 디스에이블 되면 상기 래치 제어 신호(lcnt)를 디스에이블 시켜 출력한다. 그러나 상기 종료 신호(fnsh)와 상기 제 1 및 제 2 리던던시 신호(rdcy<1:2>) 중 어느 하나의 신호가 인에이블 되면 상기 래치 제어 신호(lcnt)를 인에이블 시켜 출력한다.Thereafter, the latch control means 120 disables and outputs the latch control signal lcnt when both the termination signal fnsh and the first and second redundancy signals rdcy <1: 2> are disabled. . However, when one of the termination signal fnsh and one of the first and second redundancy signals rdcy <1: 2> is enabled, the latch control signal lcnt is enabled and output.

이 때 상기 제 1 리던던시 신호(rdcy<1>)는 상기 셀 매트 절연 제어 회로(10)와 매칭되는 셀 매트에서 임의의 워드라인에 대한 리페어시 앞 단의 셀 매트의 임의의 워드라인에 리던던시 동작을 수행한다는 정보를 담는 신호이다. 또한 상기 제 2 리던던시 신호(rdcy<2>)는 뒤 단의 셀 매트의 임의의 워드라인에 리던던시 동작을 수행한다는 정보를 담는 신호이다. 상기 제 1 및 제 2 리던던시 신호(rdcy<1:2>)는 일반적인 퓨즈 회로의 구성으로부터 생성되는 신호이며, 일반적으로 리던던시 동작에 사용되는 신호를 본 발명에서 이용한 것이다.At this time, the first redundancy signal (rdcy <1>) is a redundancy operation to any word line of the cell mat of the preceding stage during the repair for any word line in the cell mat matching the cell mat isolation control circuit 10. This signal contains information that it performs In addition, the second redundancy signal rdcy <2> is a signal containing information that a redundancy operation is performed on an arbitrary word line of a cell mat of a later stage. The first and second redundancy signals rdcy <1: 2> are signals generated from a configuration of a general fuse circuit, and generally use signals used for redundancy operation in the present invention.

상기 절연 신호 생성 수단(130)은 상기 래치 제어 신호(lcnt)와 상기 매트 선택 신호(cms)의 입력에 대응하여 상기 절연 신호(iso)를 생성한다. 상기 매트 선택 신호(cms)가 인에이블 되면 상기 절연 신호(iso) 또한 인에이블 되어 해당 절연 라인을 절연시킨다. 이 때 상기 절연 신호 생성 수단(130) 내부에는 래치 회로가 구비되며, 이에 따라 상기 절연 신호(iso)는 소정 레벨의 레벨 신호가 된다. 그러나 해당 셀 매트에 대한 리프레쉬 동작이 종료되면 상기 래치 회로의 구성에 의해 지속적으로 인에이블 되는 상기 절연 신호(iso)는 디스에이블 되어야 한다. 이 때 상기 래치 제어 신호(lcnt)가 인에이블 되며 이에 따라 상기 절연 신호(iso)가 디스에이블 된다.The isolation signal generating means 130 generates the isolation signal iso in response to the latch control signal lnt and the mat selection signal cms. When the mat select signal cms is enabled, the insulation signal iso is also enabled to insulate the corresponding insulation line. At this time, a latch circuit is provided in the insulation signal generating means 130, and thus the insulation signal iso becomes a level signal of a predetermined level. However, when the refresh operation for the cell mat is completed, the isolation signal iso that is continuously enabled by the configuration of the latch circuit must be disabled. At this time, the latch control signal lcnt is enabled and thus the isolation signal iso is disabled.

또한 상기 셀 매트 절연 제어 회로(10)와 매칭되는 셀 매트의 임의의 워드라 인에 대한 리페어 동작시 리던던시 셀이 인접 셀 매트에 구비되면, 상기 절연 신호(iso)가 디스에이블 되어야 한다. 인접 셀 매트로의 리던던시 동작시 절연 라인의 절연 동작이 해제되어야만 사이에 존재하는 센스 앰프를 인접 셀 매트가 사용할 수 있기 때문이다. 인접 셀 매트로의 리던던시 동작에 대한 정보는 상기 래치 제어 신호(lcnt)에 의해 상기 절연 신호 생성 수단(130)에 전달된다.In addition, when a redundancy cell is provided in an adjacent cell mat during a repair operation on any word line of the cell mat matching the cell mat insulation control circuit 10, the isolation signal iso should be disabled. This is because adjacent cell mats can use sense amplifiers that exist between them when redundancy of the isolation lines is released during redundancy to adjacent cell mats. Information about the redundancy operation to the adjacent cell mat is transmitted to the isolation signal generating means 130 by the latch control signal lcnt.

이상에서 언급한 상기 최종 워드라인 선택 신호(lws), 상기 리프레쉬 신호(rfsh) 및 상기 절연 신호(iso)는 하이 인에이블(High Enable) 신호이고, 상기 종료 신호(fnsh), 상기 제 1 및 제 2 리던던시 신호(rdcy<1:2>), 상기 매트 선택 신호(cms) 및 상기 래치 제어 신호(lcnt)는 로우 인에이블(Low Enable) 신호이다.The last word line selection signal lws, the refresh signal rfsh, and the isolation signal as mentioned above are high enable signals, the end signal fynsh, the first and the first signals. The two redundancy signals rdcy <1: 2>, the mat select signal cms, and the latch control signal lcnt are low enable signals.

도 3은 도 2에 도시한 종료 제어 수단의 상세 구성도이다.FIG. 3 is a detailed configuration diagram of the termination control means shown in FIG. 2.

상기 종료 제어 수단(110)은 상기 최종 워드라인 선택 신호(lws)와 상기 리프레쉬 신호(rfsh)를 조합하는 신호 조합부(112), 상기 신호 조합부(112)의 출력 신호를 소정 시간 지연시키는 지연부(114), 상기 지연부(114)의 출력 신호를 비반전 구동하는 제 1 구동부(116)로 구성된다.The termination control means 110 is a signal combination unit 112 for combining the final word line selection signal lws and the refresh signal rfsh, and a delay for delaying an output signal of the signal combination unit 112 by a predetermined time. The unit 114 includes a first driver 116 for non-inverting driving the output signal of the delay unit 114.

여기에서 상기 신호 조합부(112)는 상기 최종 워드라인 선택 신호(lws)를 입력 받는 제 1 인버터(IV1), 상기 최종 워드라인 선택 신호(lws)와 상기 리프레쉬 신호(rfsh)를 입력 받는 제 1 낸드게이트(ND1), 상기 제 1 인버터(IV1)의 출력 신호와 상기 제 1 낸드게이트(ND1)의 출력 신호를 입력 받는 제 1 노어게이트(NR1), 상기 리프레쉬 신호(rfsh)를 입력 받는 제 2 인버터(IV2) 및 상기 제 1 노어게이트(NR1)의 출력 신호와 상기 제 2 인버터(IV2)의 출력 신호를 입력 받는 제 2 노어 게이트(NR2)를 포함한다.Here, the signal combination unit 112 receives a first inverter IV1 receiving the final word line selection signal lws, a first receiving the final word line selection signal lws and the refresh signal rfsh. A second NOR gate NR1 receiving the NAND gate ND1, an output signal of the first inverter IV1, an output signal of the first NAND gate ND1, and a second receiving the refresh signal rfsh. A second NOR gate NR2 receives an output signal of the inverter IV2 and the first NOR gate NR1 and an output signal of the second inverter IV2.

그리고 상기 지연부(114)는 상기 신호 조합부(112)의 출력 신호를 소정 시간 지연시키는 지연기(DLY)를 포함한다. 이 때 상기 지연기(DLY)가 구비되는 것은 마지막 워드라인이 선택되어 상기 최종 워드라인 선택 신호(lws)가 인에이블 되는 시점이 상기 절연 신호 생성 수단(130)에 입력되는 상기 매트 선택 신호(cms)가 디스에이블 되는 시점보다 빠르기 때문에 이 두 시점을 일치시키기 위함이다.The delay unit 114 includes a delay unit DLY for delaying the output signal of the signal combination unit 112 by a predetermined time. The delay selector DLY may include the mat selection signal cms input to the insulation signal generating unit 130 when a last word line is selected and the last word line selection signal lws is enabled. ) Is earlier than the time when it is disabled.

상기 제 1 구동부(116)는 상기 지연부(114)의 출력 신호를 비반전 구동하는 제 3 및 제 4 인버터(IV3, IV4)를 포함한다.The first driver 116 includes third and fourth inverters IV3 and IV4 for non-inverting driving the output signal of the delay unit 114.

반도체 메모리 장치가 리프레쉬 모드에 진입하기 이전에는 상기 종료 신호(fnsh)는 로우 레벨로 인에이블 된다. 이 경우 상기 최종 워드라인 선택 신호(lws)와 관계 없이 상기 절연 신호 생성 수단(130)에 입력되는 상기 매트 선택 신호(cms)의 인에이블 여부에 따라 상기 절연 신호(iso)의 인에이블 여부가 결정된다. 그러나 상기 반도체 메모리 장치가 리프레쉬 모드에 진입하면 상기 종료 신호(fnsh)는 상기 최종 워드라인 선택 신호(lws)의 영향을 받는다. 이 경우 상기 최종 워드라인 선택 신호(lws)가 인에이블 되기 이전에는 상기 종료 신호(fnsh)가 디스에이블 된다. 그러나 상기 최종 워드라인 선택 신호(lws)가 인에이블 되면 상기 종료 신호(fnsh)가 인에이블 되며, 상기 절연 신호 생성 수단(130)에 입력되는 상기 매트 선택 신호(cms)가 디스에이블 되면 상기 절연 신호(iso)가 디스에이블 되어 출력된다.Before the semiconductor memory device enters the refresh mode, the end signal ffnsh is enabled at a low level. In this case, whether to enable the insulation signal iso is determined depending on whether the mat selection signal cms input to the insulation signal generating unit 130 is enabled regardless of the final word line selection signal lws. do. However, when the semiconductor memory device enters a refresh mode, the end signal ffnsh is affected by the final word line selection signal lws. In this case, the end signal fnsh is disabled before the last word line selection signal lws is enabled. However, when the final word line selection signal lws is enabled, the end signal fnsh is enabled, and when the mat selection signal cms input to the isolation signal generating unit 130 is disabled, the isolation signal is disabled. (iso) is disabled and output.

도 4는 도 2에 도시한 래치 제어 수단의 상세 구성도이다.FIG. 4 is a detailed configuration diagram of the latch control means shown in FIG. 2.

상기 래치 제어 수단(120)은 상기 종료 신호(fnsh)와 상기 제 1 및 제 2 리던던시 신호(rdcy<1:2>)를 입력 받아 상기 래치 제어 신호(lcnt)를 출력하는 제 2 낸드게이트(ND2)를 포함한다.The latch control unit 120 receives the end signal f nsh and the first and second redundancy signals rdcy <1: 2> and outputs the second NAND gate ND2 to output the latch control signal lcnt. ).

이와 같은 구성에 의해 상기 종료 신호(fnsh)와 상기 제 1 및 제 2 리던던시 신호(rdcy<1:2>)가 모두 디스에이블 되면 상기 래치 제어 신호(lcnt)는 인에이블 되고, 상기 종료 신호(fnsh)와 상기 제 1 및 제 2 리던던시 신호(rdcy<1:2>) 중 어느 하나라도 인에이블 되면 상기 래치 제어 신호(lcnt)는 디스에이블 된다. 즉, 해당 셀 매트에 대한 리프레쉬 동작이 종료되면 상기 종료 신호(fnsh)가 인에이블 되고, 그에 따라 상기 래치 제어 신호(lcnt)가 디스에이블 되어 상기 절연 신호 생성 수단(130)에서 출력되는 상기 절연 신호(iso)가 디스에이블 된다. 또한 해당 셀 매트의 임의의 워드라인에 대한 리페어시 인접 매트로의 리던던시 동작이 수행되면 상기 래치 제어 신호(lcnt)가 디스에이블 되고, 그에 따라 상기 절연 신호(iso)가 디스에이블 된다. 이 경우 셀 매트와 연결된 두 개의 센스 앰프와 인접 셀 매트는 절연 상태가 해제된다. 그러나 상기 셀 매트의 리프레쉬 동작시 리페어 동작이 실시되지 않으면 상기 절연 신호(iso)가 인에이블 되어 상기 두 개의 센스 앰프와 인접 셀 매트는 절연된다.In this configuration, when both the termination signal fnsh and the first and second redundancy signals rdcy <1: 2> are disabled, the latch control signal lnt is enabled, and the termination signal fnsh is enabled. ) And the latch control signal lcnt is disabled when any one of the first and second redundancy signals rdcy <1: 2> is enabled. That is, when the refresh operation on the corresponding cell mat ends, the end signal fnsh is enabled, and accordingly, the latch control signal lnt is disabled and the insulation signal output from the insulation signal generation unit 130 is output. (iso) is disabled. In addition, when a redundancy operation to an adjacent mat is performed when a word line of the corresponding cell mat is repaired, the latch control signal lcnt is disabled, and thus the isolation signal iso is disabled. In this case, the two sense amplifiers connected to the cell mat and the adjacent cell mat are isolated. However, when the repair operation is not performed during the refresh of the cell mat, the isolation signal iso is enabled to insulate the two sense amplifiers and the adjacent cell mat.

도 5는 도 2에 도시한 절연 신호 생성 수단의 상세 구성도이다.FIG. 5 is a detailed configuration diagram of the insulation signal generation means shown in FIG. 2.

상기 절연 신호 생성 수단(130)은 상기 매트 선택 신호(cms)를 비반전 구동하는 제 2 구동부(131), 상기 래치 제어 신호(lcnt)의 입력에 대응하여 상기 제 2 구동부(131)의 동작을 제어하는 제어부(132), 상기 제 2 구동부(131)의 출력 신호 를 래치시키는 래치부(133), 상기 제 2 구동부(131)의 출력 신호를 반전 및 비반전 구동하여 제 1 및 제 2 비교 신호(cmp1, cmp2)를 생성하는 신호 생성부(134), 상기 제 1 비교 신호(cmp1)와 상기 제 2 비교 신호(cmp2)를 비교하는 비교부(135) 및 상기 비교부(135)의 출력 신호를 비반전 구동하여 상기 절연 신호(iso)를 생성하는 제 3 구동부(136)로 구성된다.The insulation signal generating unit 130 performs an operation of the second driver 131 in response to an input of the latch control signal lcnt and the second driver 131 for non-inverting driving the mat selection signal cms. The control unit 132 for controlling, the latch unit 133 for latching the output signal of the second driver 131, and the first and second comparison signals by inverting and non-inverting driving the output signals of the second driver 131. a signal generator 134 for generating cmp1 and cmp2, an output signal of the comparator 135 and the comparator 135 for comparing the first comparison signal cmp1 and the second comparison signal cmp2. Is configured as a third driver 136 which generates the insulation signal iso by non-inverting driving.

여기에서 상기 제 2 구동부(131)는 상기 매트 선택 신호(cms)를 입력 받는 제 5 인버터(IV5), 게이트 단에 상기 제 5 인버터(IV5)의 출력 신호가 입력되고 소스 단에 상기 제어부(132)의 출력 신호가 인가되며 드레인 단이 제 1 노드(N1)에 연결되는 제 1 트랜지스터(TR1) 및 게이트 단에 상기 제 5 인버터(IV5)의 출력 신호가 입력되고 드레인 단이 상기 제 1 노드(N1)에 연결되며 소스 단이 접지되는 제 2 트랜지스터(TR2)를 포함한다.Herein, the second driver 131 receives a fifth inverter IV5 that receives the mat selection signal cms, an output signal of the fifth inverter IV5 is input to a gate terminal, and the controller 132 is connected to a source terminal. Output signal of the fifth inverter IV5 is input to the first transistor TR1 and the gate terminal of which the drain terminal is connected to the first node N1, and the drain terminal of the first node is connected to the first node N1. And a second transistor TR2 connected to N1) and having a source terminal grounded.

그리고 상기 제어부(132)는 게이트 단에 상기 래치 제어 신호(lcnt)가 입력되고 소스 단에 외부 공급전원(VDD)이 인가되며 드레인 단이 상기 제 2 구동부(131)에 연결되는 제 3 트랜지스터(TR3)를 포함한다.The control unit 132 receives the latch control signal lcnt at a gate terminal, an external supply power VDD at a source terminal, and a third transistor TR3 having a drain terminal connected to the second driver 131. ).

또한 상기 래치부(133)는 상기 제 1 노드(N1)에 인가된 신호를 래치시키는 제 6 및 제 7 인버터(IV6, IV7)를 포함한다.In addition, the latch unit 133 includes sixth and seventh inverters IV6 and IV7 for latching a signal applied to the first node N1.

그리고 상기 신호 생성부(134)는 상기 제 1 노드(N1)에 인가된 신호를 반전시켜 상기 제 1 비교 신호(cmp1)를 출력하는 제 8 인버터(IV8) 및 상기 제 1 비교 신호(cmp1)를 반전시켜 상기 제 2 비교 신호(cmp2)를 출력하는 제 9 인버터(IV9)를 포함한다.The signal generator 134 inverts the signal applied to the first node N1 to output an eighth inverter IV8 and the first comparison signal cmp1 that output the first comparison signal cmp1. And a ninth inverter IV9 inverting and outputting the second comparison signal cmp2.

또한 상기 비교부(135)는 상기 제 1 비교 신호(cmp1)의 전위가 상기 제 2 비교 신호(cmp2)의 전위보다 높으면 하이 레벨의 신호를 출력하고, 상기 제 2 비교 신호(cmp2)의 전위가 상기 제 1 비교 신호(cmp1)의 전위보다 높으면 로우 레벨의 신호를 출력하는 제 4 ~ 제 7 트랜지스터(TR4 ~ TR7)를 포함한다.In addition, the comparison unit 135 outputs a high level signal when the potential of the first comparison signal cmp1 is higher than that of the second comparison signal cmp2, and the potential of the second comparison signal cmp2 is increased. The fourth to seventh transistors TR4 to TR7 outputting a low level signal when the voltage is higher than the potential of the first comparison signal cmp1.

마지막으로 상기 제 3 구동부(136)는 상기 비교부(135)의 출력 신호를 비반전 구동하는 제 10 및 제 11 인버터(IV11, IV12)를 포함한다.Finally, the third driver 136 includes tenth and eleventh inverters IV11 and IV12 for non-inverting driving the output signal of the comparator 135.

반도체 메모리 장치의 액티브 모드시, 상기 셀 매트 절연 제어 회로(10)와 매칭되는 셀 매트의 어느 메모리 셀에 대한 데이터의 입출력 동작이 수행되면 상기 매트 선택 신호(cms)가 인에이블 된다. 상기 매트 선택 신호(cms)가 인에이블 되면 상기 제 2 구동부(131)의 상기 제 1 트랜지스터(TR1)는 턴 오프(Turn Off) 되고 상기 제 2 트랜지스터(TR2)는 턴 온(Turn On) 되어 상기 제 1 노드(N1)의 전위는 로우 레벨이 된다. 이후 상기 제 1 노드(N1)의 전위는 상기 래치부(133)에 의해 저장되며, 상기 제 1 비교 신호(cmp1)는 하이 레벨 상태가 유지되고 상기 제 2 비교 신호(cmp2)는 로우 레벨 상태가 유지된다. 이에 따라 상기 절연 신호(iso)는 하이 레벨로 인에이블 된다. 이후 상기 매트 선택 신호(cms)가 디스에이블 되면 상기 제 2 구동부(131)의 상기 제 1 트랜지스터(TR1)는 턴 온 되고 상기 제 2 트랜지스터(TR2)는 턴 오프 된다. 이 때 상기 종료 제어 수단(110)에 입력되는 상기 리프레쉬 신호(rfsh)가 디스에이블 되므로 상기 종료 신호(fnsh)가 인에이블 되고 상기 제어부(132)의 상기 제 3 트랜지스터(TR3)가 턴 온 된다. 이에 따라 상기 래치부(133)에는 하이 레벨의 신호가 저장되고 상기 절연 신호(iso)는 디스에이블 된 다.In the active mode of the semiconductor memory device, the mat selection signal cms is enabled when data input / output operations are performed on a memory cell of a cell mat matching the cell mat insulation control circuit 10. When the mat selection signal cms is enabled, the first transistor TR1 of the second driver 131 is turned off and the second transistor TR2 is turned on. The potential of the first node N1 is at a low level. Thereafter, the potential of the first node N1 is stored by the latch unit 133, the first comparison signal cmp1 is maintained at a high level, and the second comparison signal cmp2 is at a low level. maintain. Accordingly, the isolation signal iso is enabled at a high level. Thereafter, when the mat selection signal cms is disabled, the first transistor TR1 of the second driver 131 is turned on and the second transistor TR2 is turned off. In this case, since the refresh signal rfsh input to the termination control means 110 is disabled, the termination signal fnsh is enabled and the third transistor TR3 of the controller 132 is turned on. Accordingly, a high level signal is stored in the latch unit 133 and the isolation signal iso is disabled.

반도체 메모리 장치의 리프레쉬 모드시, 상기 셀 매트에 리프레쉬 동작이 수행되면 상기 매트 선택 신호(cms)가 반복적으로 인에이블 된다. 이 경우 상기 매트 선택 신호(cms)의 디스에이블 구간에서도 상기 절연 신호(iso)의 전위 레벨은 인에이블 상태를 유지함으로써 피크 전류 발생에 의한 전류 소모가 감소된다. 이는 상기 제어부(132)에 입력되는 상기 종료 신호(fnsh)가 디스에이블 상태를 유지하고, 상기 래치부(133)가 상기 제 1 노드(N1)에 기 인가된 신호의 전위를 유지시키기 때문이다. 그러나 상기 셀 매트의 리프레쉬 동작중 인접 셀 매트로의 리던던시 동작이 수행되거나 상기 셀 매트의 리프레쉬 동작이 완료되면, 상기 절연 신호(iso)가 디스에이블 되어야 한다. 상술한 두 가지 경우에 상기 매트 선택 신호(cms)는 디스에이블 구간을 갖게 되고, 상기 종료 신호(fnsh)는 인에이블 되므로 상기 래치부(133)에 저장된 신호의 값은 바뀌게 되고, 이에 따라 상기 절연 신호(iso)는 디스에이블 된다.In the refresh mode of the semiconductor memory device, when the refresh operation is performed on the cell mat, the mat selection signal cms is repeatedly enabled. In this case, even in the disable period of the mat selection signal cms, the potential level of the isolation signal iso is maintained to reduce the current consumption due to peak current generation. This is because the termination signal fnsh input to the controller 132 maintains a disabled state, and the latch unit 133 maintains a potential of a signal previously applied to the first node N1. However, when the redundancy operation to the adjacent cell mat is performed during the refresh operation of the cell mat or the refresh operation of the cell mat is completed, the isolation signal (iso) should be disabled. In the above two cases, the mat selection signal cms has a disable period, and the termination signal fnsh is enabled, so that the value of the signal stored in the latch unit 133 is changed. The signal iso is disabled.

즉, 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로는 절연 신호 생성시 래치 회로를 사용함으로써 매트 선택 신호의 디스에이블 구간에도 지속적으로 절연 신호의 인에이블 상태를 유지시킴으로써 피크 전류에 의한 전류 소모를 감소시킨다. 또한 인접 셀 매트로의 리던던시 동작시 인접 셀 매트와 센스 앰프를 공유함으로써 발생할 수 있는 부작용을 방지하기 위한 회로 구성을 추가하여 안정적인 동작을 수행할 수 있도록 한다. 반도체 메모리 장치 내에 셀 매트는 복수 개 구비되므로, 본 발명으로 인해 리프레쉬 동작시 감소되는 전류 소모의 양은 크 며, 이에 따라 반도체 메모리 장치의 활용에 있어 그 성능이 향상되는 것이다.That is, the cell mat isolation control circuit of the semiconductor memory device according to the present invention uses a latch circuit to generate an isolation signal, thereby continually maintaining the enable state of the isolation signal even during the disable period of the mat selection signal, thereby consuming current due to peak current. Decreases. In addition, when the redundancy operation to the adjacent cell mat is added, a circuit configuration is added to prevent side effects caused by sharing a sense amplifier with the adjacent cell mat to enable stable operation. Since a plurality of cell mats are provided in the semiconductor memory device, according to the present invention, the amount of current consumption reduced during the refresh operation is large, and thus the performance of the semiconductor memory device is improved.

이와 같이, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.As such, those skilled in the art will appreciate that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. Therefore, the above-described embodiments are to be understood as illustrative in all respects and not as restrictive. The scope of the present invention is shown by the following claims rather than the detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention. do.

이상에서 설명한 본 발명의 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로 및 방법은, 리프레쉬 동작시 셀 매트와 센스 앰프 사이를 선택적으로 절연시키기 위한 절연 신호를 일정한 레벨을 갖는 신호로서 생성하여 전류 소모를 감소시키고, 그에 따라 리던던시 동작을 고려하여 절연 제어 동작을 수행함으로써 오동작을 방지하는 효과가 있다.The cell mat isolation control circuit and method of the semiconductor memory device of the present invention described above generate an isolation signal as a signal having a constant level to selectively insulate between the cell mat and the sense amplifier during a refresh operation to reduce current consumption. Therefore, there is an effect of preventing a malfunction by performing the insulation control operation in consideration of the redundancy operation.

Claims (23)

리프레쉬 모드시 셀 매트의 마지막 워드라인이 활성화된 후 종료 신호를 생성하는 종료 제어 수단;Termination control means for generating an termination signal after the last wordline of the cell mat is activated in the refresh mode; 상기 종료 신호와 리던던시 신호에 대응하여 래치 제어 신호를 생성하는 래치 제어 수단; 및Latch control means for generating a latch control signal in response to the end signal and the redundancy signal; And 상기 래치 제어 신호와 매트 선택 신호에 대응하여 절연 신호를 생성하는 절연 신호 생성 수단;Isolation signal generation means for generating an isolation signal in response to the latch control signal and the mat selection signal; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.Cell mat insulation control circuit of a semiconductor memory device comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 종료 제어 수단은 리프레쉬 신호의 인에이블시 최종 워드라인 선택 신호가 인에이블 되면 상기 종료 신호를 인에이블 시켜 출력하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.And the termination control means enables and outputs the termination signal when the final word line selection signal is enabled when the refresh signal is enabled, and outputs the termination signal. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 리던던시 신호는 인접 셀 매트로의 리던던시 동작이 수행될 때 발생하는 신호인 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.And the redundancy signal is a signal generated when a redundancy operation to an adjacent cell mat is performed. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 절연 신호 생성 수단은 상기 래치 제어 신호의 디스에이블시 매트 선택 신호의 디스에이블 구간에도 상기 절연 신호의 인에이블 상태를 유지시키고, 상기 래치 제어 신호가 인에이블 되면 상기 절연 신호를 디스에이블 시키는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.The isolation signal generating means maintains the enable state of the insulation signal even during the disable period of the mat select signal when the latch control signal is disabled, and disables the insulation signal when the latch control signal is enabled. A cell mat insulation control circuit of a semiconductor memory device. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 종료 제어 수단은,The termination control means, 상기 최종 워드라인 선택 신호와 상기 리프레쉬 신호를 조합하는 신호 조합부; 및A signal combination unit combining the last word line selection signal and the refresh signal; And 상기 신호 조합부의 출력 신호를 소정 시간 지연시키는 지연부;A delay unit for delaying an output signal of the signal combination unit by a predetermined time; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.Cell mat insulation control circuit of a semiconductor memory device comprising a. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 신호 조합부는,The signal combination unit, 상기 최종 워드라인 선택 신호를 입력 받는 제 1 인버터;A first inverter receiving the last word line selection signal; 상기 최종 워드라인 선택 신호와 상기 리프레쉬 신호를 입력 받는 낸드게이트;A NAND gate receiving the last word line selection signal and the refresh signal; 상기 제 1 인버터의 출력 신호와 상기 낸드게이트의 출력 신호를 입력 받는 제 1 노어게이트;A first NOR gate receiving an output signal of the first inverter and an output signal of the NAND gate; 상기 리프레쉬 신호를 입력 받는 제 2 인버터; 및A second inverter receiving the refresh signal; And 상기 제 1 노어게이트의 출력 신호와 상기 제 2 인버터의 출력 신호를 입력 받는 제 2 노어게이트;A second NOR gate receiving an output signal of the first NOR gate and an output signal of the second inverter; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.Cell mat insulation control circuit of a semiconductor memory device comprising a. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 래치 제어 수단은, 상기 종료 신호와 상기 리던던시 신호를 입력 받아 상기 래치 제어 신호를 출력하는 낸드게이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.And the latch control means comprises a NAND gate receiving the end signal and the redundancy signal and outputting the latch control signal. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 절연 신호 생성 수단은,The insulation signal generating means, 상기 매트 선택 신호를 비반전 구동하는 구동부;A driver for non-inverting driving the mat selection signal; 상기 래치 제어 신호의 입력에 대응하여 상기 구동부의 동작을 제어하는 제어부;A control unit controlling an operation of the driving unit in response to an input of the latch control signal; 상기 구동부의 출력 신호를 래치시키는 래치부;A latch unit for latching an output signal of the driving unit; 상기 구동부의 출력 신호를 반전 및 비반전 구동하여 제 1 및 제 2 비교 신호를 생성하는 신호 생성부; 및A signal generator configured to generate first and second comparison signals by inverting and non-inverting the output signal of the driver; And 상기 제 1 비교 신호와 상기 제 2 비교 신호를 비교하는 비교부;A comparison unit comparing the first comparison signal and the second comparison signal; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.Cell mat insulation control circuit of a semiconductor memory device comprising a. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 제어부는 게이트 단에 상기 래치 제어 신호가 입력되고 소스 단에 외부 공급전원이 인가되며, 드레인 단이 출력단으로서 상기 구동부의 전원 전압을 공급하는 트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.The control unit may include a transistor for inputting the latch control signal to a gate terminal, an external supply power to a source terminal, and a drain terminal to supply a power voltage to the driving unit as an output terminal. Insulation control circuit. 리프레쉬 모드시 셀 매트의 마지막 워드라인이 활성화되면 종료 신호를 생성하는 종료 제어 수단; 및Termination control means for generating an termination signal when the last wordline of the cell mat is activated in the refresh mode; And 매트 선택 신호에 대응한 절연 신호 생성 동작시 래치 회로를 이용하여 상기 절연 신호를 소정 레벨의 레벨 신호로서 출력하며, 상기 종료 신호의 인에이블시 또는 리던던시 신호 입력시 상기 절연 신호를 디스에이블 시키는 절연 신호 생성 수단;Insulation signal outputting the insulation signal as a level signal of a predetermined level using a latch circuit during an operation of generating an insulation signal corresponding to a mat selection signal, and an insulation signal for disabling the insulation signal when the termination signal is enabled or when a redundancy signal is input. Generating means; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.Cell mat insulation control circuit of a semiconductor memory device comprising a. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 종료 제어 수단은 리프레쉬 신호의 인에이블시 최종 워드라인 선택 신호가 인에이블 되면 상기 종료 신호를 인에이블 시켜 출력하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.And the termination control means enables and outputs the termination signal when the final word line selection signal is enabled when the refresh signal is enabled, and outputs the termination signal. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 리던던시 신호는 인접 셀 매트로의 리던던시 동작이 수행될 때 발생하는 신호인 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.And the redundancy signal is a signal generated when a redundancy operation to an adjacent cell mat is performed. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 절연 신호 생성 수단은 상기 종료 신호와 상기 리던던시 신호가 디스에이블 됨에 따라 래치 제어 신호의 디스에이블 되면 상기 매트 선택 신호의 디스에이블 구간에도 상기 절연 신호의 인에이블 상태를 유지시키고, 상기 종료 신호 및 상기 리던던시 신호 중 어느 하나의 신호가 인에이블 되어 상기 래치 제어 신호가 인에이블 되면 상기 절연 신호를 디스에이블 시키는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.The isolation signal generating means maintains the enable state of the insulation signal even in the disable period of the mat selection signal when the latch control signal is disabled as the end signal and the redundancy signal are disabled. And disabling the isolation signal when any one of redundancy signals is enabled and the latch control signal is enabled. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 종료 제어 수단은,The termination control means, 상기 최종 워드라인 선택 신호와 상기 리프레쉬 신호를 조합하는 신호 조합부; 및A signal combination unit combining the last word line selection signal and the refresh signal; And 상기 신호 조합부의 출력 신호를 소정 시간 지연시키는 지연부;A delay unit for delaying an output signal of the signal combination unit by a predetermined time; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.Cell mat insulation control circuit of a semiconductor memory device comprising a. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 신호 조합부는,The signal combination unit, 상기 최종 워드라인 선택 신호를 입력 받는 제 1 인버터;A first inverter receiving the last word line selection signal; 상기 최종 워드라인 선택 신호와 상기 리프레쉬 신호를 입력 받는 낸드게이트;A NAND gate receiving the last word line selection signal and the refresh signal; 상기 제 1 인버터의 출력 신호와 상기 낸드게이트의 출력 신호를 입력 받는 제 1 노어게이트;A first NOR gate receiving an output signal of the first inverter and an output signal of the NAND gate; 상기 리프레쉬 신호를 입력 받는 제 2 인버터; 및A second inverter receiving the refresh signal; And 상기 제 1 노어게이트의 출력 신호와 상기 제 2 인버터의 출력 신호를 입력 받는 제 2 노어게이트;A second NOR gate receiving an output signal of the first NOR gate and an output signal of the second inverter; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.Cell mat insulation control circuit of a semiconductor memory device comprising a. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 절연 신호 생성 수단은,The insulation signal generating means, 상기 매트 선택 신호를 비반전 구동하는 구동부;A driver for non-inverting driving the mat selection signal; 상기 래치 제어 신호의 입력에 대응하여 상기 구동부의 동작을 제어하는 제어부;A control unit controlling an operation of the driving unit in response to an input of the latch control signal; 상기 구동부의 출력 신호를 래치시키는 래치부;A latch unit for latching an output signal of the driving unit; 상기 구동부의 출력 신호를 반전 및 비반전 구동하여 제 1 및 제 2 비교 신호를 생성하는 신호 생성부; 및A signal generator configured to generate first and second comparison signals by inverting and non-inverting the output signal of the driver; And 상기 제 1 비교 신호와 상기 제 2 비교 신호를 비교하는 비교부;A comparison unit comparing the first comparison signal and the second comparison signal; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.Cell mat insulation control circuit of a semiconductor memory device comprising a. 제 16 항에 있어서,The method of claim 16, 상기 제어부는 게이트 단에 상기 래치 제어 신호가 입력되고 소스 단에 외부 공급전원이 인가되며, 드레인 단이 출력단으로서 상기 구동부의 전원 전압을 공급하는 트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 회로.The control unit may include a transistor for inputting the latch control signal to a gate terminal, an external supply power to a source terminal, and a drain terminal to supply a power voltage to the driving unit as an output terminal. Insulation control circuit. a) 리프레쉬 모드시 셀 매트의 마지막 워드라인이 활성화된 후 종료 신호를 생성하는 단계;a) generating a termination signal after the last wordline of the cell mat is activated in the refresh mode; b) 상기 종료 신호와 리던던시 신호에 대응하여 래치 제어 신호를 생성하는 단계; 및b) generating a latch control signal in response to the end signal and the redundancy signal; And c) 상기 래치 제어 신호와 매트 선택 신호에 대응하여 절연 신호를 생성하는 단계;c) generating an isolation signal corresponding to the latch control signal and the mat selection signal; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 방법.Cell mat insulation control method of a semiconductor memory device comprising a. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 a) 단계는 리프레쉬 신호의 인에이블시 최종 워드라인 선택 신호가 인에이블 되면 상기 종료 신호를 인에이블 시켜 출력하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 방법.And in the step a), when the final word line selection signal is enabled when the refresh signal is enabled, outputting by enabling the end signal. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 리던던시 신호는 인접 셀 매트로의 리던던시 동작이 수행될 때 발생하는 신호인 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 방법.And the redundancy signal is a signal generated when a redundancy operation is performed to an adjacent cell mat. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 c) 단계는 상기 래치 제어 신호의 디스에이블시 매트 선택 신호의 디스에이블 구간에도 상기 절연 신호의 인에이블 상태를 유지시키고, 상기 래치 제어 신호가 인에이블 되면 상기 절연 신호를 디스에이블 시키는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 방법.In the step c), when the latch control signal is disabled, the insulation signal is maintained in the disable period of the mat selection signal, and when the latch control signal is enabled, the insulation signal is disabled. Cell mat isolation control method of a semiconductor memory device. 제 19 항에 있어서,The method of claim 19, 상기 a) 단계는,Step a) is a-1) 상기 최종 워드라인 선택 신호와 상기 리프레쉬 신호를 조합하는 단계; 및a-1) combining the last word line selection signal and the refresh signal; And a-2) 상기 a-1) 단계의 출력 신호를 소정 시간 지연시키는 단계;a-2) delaying the output signal of step a-1) by a predetermined time; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 방법.Cell mat insulation control method of a semiconductor memory device comprising a. 제 21 항에 있어서,The method of claim 21, 상기 c) 단계는,C), c-1) 상기 매트 선택 신호를 비반전 구동하는 단계;c-1) non-inverting driving the mat selection signal; c-2) 상기 래치 제어 신호의 입력에 대응하여 상기 c-1) 단계의 동작을 제어하는 단계;c-2) controlling the operation of step c-1) in response to the input of the latch control signal; c-3) 상기 c-1) 단계의 출력 신호를 래치시키는 래치부;c-3) a latch unit for latching the output signal of step c-1); c-4) 상기 c-1) 단계의 출력 신호를 반전 및 비반전 구동하여 제 1 및 제 2 비교 신호를 생성하는 단계; 및c-4) generating first and second comparison signals by inverting and non-inverting the output signal of step c-1); And c-5) 상기 제 1 비교 신호와 상기 제 2 비교 신호를 비교하는 단계;c-5) comparing the first comparison signal with the second comparison signal; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 셀 매트 절연 제어 방법.Cell mat insulation control method of a semiconductor memory device comprising a.
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