KR20070120608A - 내부 전반사 제어된 전기 영동적 반사형 이미지 디스플레이장치에서의 휘도 향상 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (47)
- 반사형 디스플레이 장치에 있어서,(a) 외부 관찰면(17)을 가지는 투명 시트(12)의 내부 표면으로부터 내부로 돌출하며, 각각의 헤미-비드(60)는 비-굴절 영역(82)을 둘러싸는 굴절 영역(80)을 가지는 다수의 투명 헤미-비드들(60);(b) 상기 투명 시트(12)로부터 내부로 이격되어 상기 투명 시트(12) 및 제 2 시트(24) 사이에 저장부를 포함하는 제 2 시트(24);(c) 상기 저장부 내의 전기 영동 매체(20);(d) 상기 매체 내에 부유된 다수의 광 흡수성 입자들(26); 및(e) 상기 헤미-비드들(60)의 상기 비-굴절 영역들(82)을 통해 상기 제 2 시트(24)로부터 선택가능하게 광을 굴절하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 1항에 있어서,패턴(100 또는 102) 내에서 상기 제 2 시트(24)의 외부 측에 형성된 전극(48)을 더 포함하는 상기 광을 선택적으로 굴절하기 위한 수단은;(i) 전기 전도성 영역(104 또는 106); 및(b) 다수의 제 1 굴절 영역들(108 또는 110)을 포함하며,상기 제 2 시트(24)의 상기 다수의 제 1 굴절 영역들(108 또는 110)의 각각 의 하나는 상기 헤미-비드들(60)의 상기 비-굴절 영역들(82)의 상응하는 하나에 해당하고 정렬되는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 2항에 있어서,상기 제 2 시트(24)의 상기 다수의 제 1 굴절 영역들(108 또는 110)의 각각의 하나는 상기 헤미-비드들(60)의 상기 비-굴절 영역들(82)의 상응하는 하나의 크기 및 형상과 실질적으로 유사한 크기 및 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 3항에 있어서,상기 전기적 전도성 영역(104 또는 106)은 상기 헤미-비드들(60)의 상기 굴절 영역들(80)의 전체 크기 및 형상과 실질적으로 유사한 전체 크기 및 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 4항에 있어서,상기 헤미-비드들(60)의 각각의 하나는 다른 하나 또는 그 이상의 헤미-비드들(60)과 인접하며,상기 디스플레이 장치는 각각의 인접한 하나 또는 그 이상의 상기 헤미-비드들(60) 사이에 비-굴절 갭(84)을 더 포함하고;상기 패턴(100 또는 102)은 상기 제 2 시트(24)의 외부 측 상에 다수의 제 2 굴절 영역들(112)을 더 포함하고; 그리고상기 다수의 제 2 굴절 영역들(112)의 각각의 하나는 갭들(84)의 상응하는 하나에 해당하고 정렬되는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 5항에 있어서,상기 다수의 제 2 굴절 영역들(112)의 각각의 하나는 상기 갭들(84)의 상응하는 하나의 크기 및 형상과 실질적으로 유사한 크기 및 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 4항에 있어서,상기 헤미-비드들(60)의 상기 비-굴절 영역들(82)의 각각의 하나는 제 1 직경을 가지는 원형 형상이며; 그리고상기 패턴(100 또는 102)의 상기 다수의 제 1 굴절 영역들(108 또는 110)의 각각의 하나는 상기 제 1 직경과 실질적으로 동일한 제 2 직경을 가지는 원형 형상인 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 7항에 있어서,상기 헤미-비드들(60)의 상기 굴절 영역들(80)의 각각의 하나는 환형 형상인 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 1항에 있어서,광을 선택적으로 굴절하기 위한 수단은 매체(20) 내에 부유된 다수의 굴절 입자들(118)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 9항에 있어서,상기 굴절 입자들(118)은 흡수성 입자들(26)의 평균 직경보다 실질적으로 큰 평균 직경을 가지는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 10항에 있어서,상기 굴절 입자들(118)은 흡수성 입자들(26)의 평균 직경보다 약 10배 큰 평균 직경을 가지는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 10항에 있어서,상기 굴절 입자들(118)은 정전기적으로 중성인 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 10항에 있어서,상기 굴절 입자들(118)은 흡수성 입자들(26)의 정전기적 전하에 반대하는 정전기적 전하를 가지는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 10항에 있어서,상기 굴절 입자들(118)은 흰색 미립자들인 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 10항에 있어서,상기 굴절 입자들(118)은 티타늄 이산화물 입자들인 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 1항에 있어서,광을 선택적으로 굴절하기 위한 수단은 상기 헤미-비드들(60)과 상기 제 2 시트(24) 사이에 굴절 삼투막(140)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 16항에 있어서,상기 막(140)은 흡수성 입자들(26)의 평균 직경보다 실질적으로 더 큰 평균 직경을 가지는 흡수공들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 17항에 있어서,상기 흡수공들은 흡수성 입자들(26)의 평균 직경보다 약 10배 큰 평균 직경 을 직경을 가지는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 17항에 있어서,상기 막(140)은 표면적을 가지며, 상기 흡수공들은 상기 표면적의 충분히 큰 부분을 포함하여 상기 막(140)을 통하여 상기 흡수성 입자들(26)의 실질적으로 방해받지 않는 통로를 허용하는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 16항에 있어서,상기 막(140)은 확산적인 굴절 외부 표면(142)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 16항에 있어서,상기 막(140)은 반사적인 굴절 외부 표면(142)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 헤미-비드들(60)의 각각의 하나는 다른 하나 또는 그 이상의 헤미-비드들(60)과 인접하며, 광을 선택적으로 굴절하기 위한 수단은 각각 인접한 하나 또는 그 이상의 헤미-비드들(60) 사이에 굴절 구조(162)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 22항에 있어서,상기 굴절 구조들(162)의 각각의 하나는 상기 투명 시트(16)의 내부 표면으로부터 내부로 돌출하는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 23항에 있어서,상기 굴절 구조들(162)의 각각의 하나는 대체로 반구형 형상인 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 제 23항에 있어서,상기 굴절 구조들(162)의 각각의 하나는 충분히 높은 굴곡을 가져서 상기 굴절 구조들(162) 상에 입사하는 광의 많은 부분의 내부 전반사를 야기하는 것을 특징으로 하는 반사형 디스플레이 장치.
- 외부 관찰 표면(17)을 가지는 투명 시트(16)의 내부 표면으로부터 내부로 돌출하는 다수의 투명 헤미-비드들(60), 비-굴절 영역(82)을 둘러싸는 굴절 영역을 가지는 각각의 헤미-비드(60), 상기 투명 시트(16)로부터 내부로 이격되어 상기 투명 시트(16)와 제 2 시트(24) 사이에 저장부를 포함하는 상기 제 2 시트(24), 상기 저장부 내의 전기 영동 매체(20), 및 상기 매체(20) 내에 부유된 다수의 광 흡수 입자들(26)을 포함하는 반사형 디스플레이 장치의 굴절률을 증가시키기 위한 방법 에 있어서, 상기 그 방법은 헤미-비드들(60)의 비-굴절 영역들을 통하여 광을 선택적으로 굴절시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 26항에 있어서,상기 헤미-비드들(60)의 비-굴절 영역들을 통해 광을 선택적으로 굴절시키는 단계는:(ⅰ) 비-굴절 영역(100 또는 102);(ⅱ) 다수의 굴절 영역들(108 또는 106);을 포함하는 패턴(100 또는 102) 내에서 상기 제 2 세트(24)의 외부 측에 전극을 형성하는 단계;상기 헤미-비드들(60)의 비-굴절 영역들(82) 중 해당하는 하나와 더불어 다수의 제 1 굴절 영역들(108 또는 110)의 각각의 하나를 정렬하는 단계; 및상기 매체(20)를 가로질러 전압을 인가하여 상기 흡수성 입자들(26)이 상기 헤미-비드들(60)의 내부 표면들을 실질적으로 덮는 제 1 위치 및 상기 흡수성 입자들(26)이 상기 다수의 제 1 굴절 영역들(108 또는 110)을 덮지 않고 상기 전극(48)의 비-굴절 영역(104 또는 106)을 실질적으로 덮는 제 2 위치 사이에서 상기 흡수성 입자들(26)을 선택적으로, 전기 영동적으로 이동시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 27항에 있어서,상기 제 2 시트(24)로부터 소정의 거리 만큼 상기 투명 시트(12)를 이격시키는 단계를 더 포함하며, 상기 전극(48)의 상기 다수의 굴절 영역들(108 또는 110) 중 하나에 의해 굴절된 입사광이 상기 입사광의 입사 방향에 실질적으로 반대하는 방향으로 굴절되도록 상기 거리는 선택되는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 27항에 있어서,상기 헤미-비드들(60)의 상기 비-굴절 영역들(82) 중 하나의 모양과 형상에 실질적으로 유사한 크기 및 형상으로 상기 다수의 제 1 굴절 영역들(108 또는 110) 중 각각의 하나를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 27항에 있어서,상기 헤미-비드들(60)의 굴절 영역들(80)의 전체 크기 및 형상에 실질적으로 유사한 전체 크기 및 형상으로 상기 비-굴절 영역(104 또는 106)을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 30항에 있어서,상기 헤미-비드들(60)의 각각의 하나는 하나 또는 그 이상의 상기 헤미-비드들(60)에 인접하고,비-굴절 갭(84)은 각각 인접한 하나 또는 그 이상의 상기 헤미-비드들(60) 사이에 존재하며,상기 패턴은 다수의 제 2 굴절 영역들(112)을 더 포함하되, 상기 다수의 제 2 굴절 영역들(112)의 각각의 하나는 상기 갭들(84)의 하나의 크기 및 형상에 실질적으로 유사한 크기 및 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 30항에 있어서,상기 헤미-비드들(60)의 비-굴절 영역들(82)의 각각의 하나는 제 1 직경을 가지는 원형 형상을 가지며, 상기 방법은 상기 제 1 직경과 실질적으로 동일한 제 2 직경을 가지는 원형 형상으로 상기 다수의 제 1 굴절 영역들(108 또는 110)의 각각의 하나를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 26항에 있어서,상기 헤미-비드들(60)의 상기 비-굴절 영역들(82)을 통하여 광을 선택적으로 굴절시키는 단계는:상기 매체(20) 내에 다수의 굴절 입자들(118)을 부유시키는 단계;상기 매체(20)를 가로질러 전압을 인가하여 상기 흡수성 입자들(26)이 상기 헤미-비드들(60)의 내부 표면들을 실질적으로 덮는 제 1 위치 및 상기 굴절 입자들(118)이 상기 헤미-비드들(60)과 상기 흡수성 입자들(26) 사이에 존재하는 제 2 위치 사이에서 상기 굴절 입자들(118)을 통하여 상기 흡수성 입자들(26)을 선택적으로, 전기 영동적으로 이동시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 33항에 있어서,상기 굴절 입자들(118)은 흡수성 입자들(26)의 평균 직경보다 실질적으로 더 큰 평균 직경을 가지는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 34항에 있어서,상기 굴절 입자들(118)은 흡수성 입자들(26)의 평균 직경보다 약 10배 큰 평균 직경을 가지는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 33항에 있어서,상기 굴절 입자들(118)을 전기 영동적으로 중성적으로 차지(charge)하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 33항에 있어서,상기 흡수성 입자들(26)의 정전기적 전하에 반대하는 정전기적 전하를 가지는 굴절 입자들(118)을 차지하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 26항에 있어서,상기 헤미-비드들(60)의 비-굴절 영역들(82)을 통해 광을 선택적으로 굴절시키는 단계는:상기 헤미-비드들(60)과 상기 제 2 시트(24) 사이의 매체(20)에 굴절 삼투막(140)을 제공하는 단계;상기 매체(20)를 가로질러 전압을 인가하여 상기 흡수성 입자들(26)이 상기 헤미-비드들(60)의 내부 표면들을 실질적으로 덮는 제 1 위치 및 상기 막(140)이 상기 헤미-비드들(60)과 상기 흡수성 입자들(26) 사이에 존재하는 제 2 위치 사이에서 상기 막(140)을 통하여 상기 흡수성 입자들(26)을 선택적으로, 전기 영동적으로 이동시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 38항에 있어서,상기 막(140)은 흡수성 입자들(26)의 평균 직경보다 실질적으로 더 큰 평균 직경을 가지는 흡수공들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 39항에 있어서,상기 흡수공들은 흡수성 입자들(26)의 평균 직경보다 약 10배 큰 평균 직경을 직경을 가지는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 38항에 있어서,상기 막(140)은 표면적을 가지며, 상기 흡수공은 상기 표면적의 충분히 큰 부분을 포함하여 상기 막(140)을 통하여 상기 흡수성 입자들(26)의 실질적으로 방해받지 않는 통로를 허용하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 26항에 있어서,상기 헤미-비드들(60)의 각각의 하나는 다른 하나 또는 그 이상의 헤미-비드들(60)에 인접하되,상기 헤미-비드들의 비-굴절 영역들(82)을 통하여 광을 선택적으로 굴절시키는 단계는:각각의 인접한 하나 또는 그 이상의 헤미-비드들(60) 사이에 굴절 구조(162)를 제공하는 단계; 및상기 매체(20)를 가로질러 전압을 인가하여 상기 흡수성 입자들(26)이 상기 헤미-비드들(60)의 내부 표면들과 상기 굴절 구조들(162)을 실질적으로 덮는 제 1 위치 및 상기 흡수성 입자들(26)이 상기 헤미-비드들(60) 또는 상기 굴절 구조들(162)을 덮지 않는 제 2 위치 사이에서 상기 흡수성 입자들(26)을 선택적으로, 전기 영동적으로 이동시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 42항에 있어서,굴절 구조들(162)을 형성하여 상기 투명 시트(12)의 내부 표면으로부터 내부로 돌출시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 43항에 있어서,대체로 반구형 형상으로 상기 굴절 구조물들(162)을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 43항에 있어서,충분히 높은 굴곡을 가지는 상기 굴절 구조들(162)을 형성하여 상기 굴절 구조들(162) 상에 입사하는 광의 많은 부분의 내부 전반사를 발생시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 43항에 있어서,상기 투명 시트(12)를 부드럽게 하고; 그리고상기 투명 시트(12)에 밀접하게 이격된 구형의 비드들을 부분적으로 삽입함으로써;상기 헤미-비드들(60) 및 상기 굴절 구조들(162)을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
- 제 43항에 있어서,원형으로 구멍난 망(circular apertured mesh)을 제공하며;투명 시트(12)를 부드럽게 하며;상기 투명 시트(12)에 압력을 인가하며; 그리고상기 투명 시트(12) 내부로 상기 망을 가압함으로써;상기 헤미-비드들(60) 및 상기 굴절 구조들(162)을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 굴절률 증가 방법.
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