KR20070106837A - Nozzle assembly for developing a photoresist layer - Google Patents

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윤광섭
서전석
이중현
이시형
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Abstract

A nozzle assembly for developing a photoresist layer is provided to form a photoresist pattern having high resolution on a substrate by uniformly mixing developers each supplied from storage units. A first storage unit(110) stores a first developer, and a second storage unit(120) stores a second developer different from the first developer. A developer mixing unit(130) receives the first and second developers from the first and second storage units, and generates an eddy flow to mix uniformly the first and second developers, when the first and second developers are mixed. A nozzle unit(140) is connected to the developer mixing unit to spray the mixed developer.

Description

감광막 현상을 위한 노즐 조립체{NOZZLE ASSEMBLY FOR DEVELOPING A PHOTORESIST LAYER}NOZZLE ASSEMBLY FOR DEVELOPING A PHOTORESIST LAYER

도 1은 종래의 감광막 현상을 위한 노즐 조립체를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view for explaining a nozzle assembly for a conventional photosensitive film development.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 감광막 현상을 위한 노즐 조립체를 설명하기 위한 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a nozzle assembly for the photosensitive film development according to an embodiment of the present invention.

도 3은 도 2에 도시된 현상액 혼합부를 설명하기 위한 단면도이다.FIG. 3 is a cross-sectional view for describing a developer mixture shown in FIG. 2.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100 : 노즐 조립체 110 : 제1 수용부100 nozzle assembly 110 first receiving portion

120 : 제2 수용부 130 : 현상액 혼합부120: second receiving portion 130: developer mixing portion

131 : 와류 발생 라인들 133 : 와류 연결 라인들131: vortex generating lines 133: vortex connecting lines

140 : 노즐부 151, 152 : 제1 및 제2 연결 라인들140: nozzle unit 151, 152: first and second connection lines

본 발명은 감광막을 현상하기 위한 노즐 조립체에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 혼합 현상액을 감광막이 형성된 기판 상에 분사하여 상기 감광막 을 현상하는 노즐 조립체에 관한 것이다.The present invention relates to a nozzle assembly for developing a photosensitive film. More specifically, the present invention relates to a nozzle assembly for developing the photosensitive film by spraying a mixed developer on a substrate on which the photosensitive film is formed.

컴퓨터와 같은 정보 매체의 급속한 보급에 따라 반도체 장치도 비약적으로 발전하고 있다. 상기 반도체 장치는 고속으로 동작하는 동시에 대용량의 저장 능력을 가질 것이 요구된다. 이러한 요구에 부응하여, 상기 반도체 장치는 집적도, 신뢰도 및 응답 속도 등을 향상시키는 방향으로 제조 기술이 발전되고 있다. 이에 따라, 상기 반도체 장치의 집적도 향상을 위한 주요한 기술로서 포토리소그래피(photolithography) 기술과 같은 미세 가공 기술이 요구되고 있다.BACKGROUND With the rapid spread of information media such as computers, semiconductor devices are also rapidly developing. The semiconductor device is required to operate at high speed and have a large storage capacity. In response to these demands, manufacturing techniques have been developed in the direction of improving the degree of integration, reliability, response speed and the like of the semiconductor device. Accordingly, as a main technology for improving the integration degree of the semiconductor device, a fine processing technology such as photolithography technology is required.

상기 포토리소그래피 기술은 감광 유기 물질을 사용하여 감광막을 형성한 후, 상기 감광막의 소정 부위를 현상하여 패턴으로 형성하는 기술이다. The photolithography technique is a technique of forming a photoresist film using a photosensitive organic material, and then developing a predetermined portion of the photoresist film to form a pattern.

상기 포토리소그래피 기술 중에서 상기 감광막의 소정 부위를 현상하는 기술에 대하여 개략적으로 살펴보면 다음과 같다.A technique of developing a predetermined portion of the photosensitive film among the photolithography techniques will be described below.

도 1은 종래의 감광막 현상을 위한 노즐 조립체를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view for explaining a nozzle assembly for a conventional photosensitive film development.

도 1을 참조하면, 종래의 감광막 현상을 위한 노즐 조립체(10)는 제1 유입구(11), 제2 유입구(12), 제1 용기(13), 제2 용기(14), 제1 연결 라인(16), 제2 연결 라인(17), 노즐 라인(18) 및 노즐(19)을 포함한다.Referring to FIG. 1, the nozzle assembly 10 for the conventional photoresist film development includes a first inlet 11, a second inlet 12, a first container 13, a second container 14, and a first connection line. 16, second connection line 17, nozzle line 18, and nozzle 19.

제1 유입구(11)는 몸체(15)의 상부에 위치한다. 제1 유입구(11)는 제1 현상액을 공급하는 제1 현상액 공급 유닛(미도시)과 연결되어 제1 현상액을 노즐 조립체(10) 내부로 유입시킨다. 한편, 제2 유입구(12)는 제1 유입구(11)에 인접하여 몸체(15)의 상부에 위치할 수 있다. 제2 유입구(12)는 제1 현상액과 다른 제2 현상액 을 공급하는 제2 현상액 공급 유닛(미도시)과 연결되어 제2 현상액을 노즐 조립체(10) 내부로 유입시킨다.The first inlet 11 is located above the body 15. The first inlet 11 is connected to a first developer supply unit (not shown) for supplying a first developer and introduces the first developer into the nozzle assembly 10. Meanwhile, the second inlet 12 may be positioned above the body 15 adjacent to the first inlet 11. The second inlet 12 is connected to a second developer supply unit (not shown) for supplying a second developer different from the first developer, thereby introducing the second developer into the nozzle assembly 10.

제1 용기(13)는 몸체(15)에 둘러싸여서 노즐 조립체(10) 내부에 배치된다. 제1 용기(13)는 제1 유입구(11)를 통하여 유입된 제1 현상액을 일시적으로 수용한다. 한편 제2 용기(14)는 제1 용기(13)에 인접하여 위치한다. 제2 용기(14)는 제2 유입구(12)를 통하여 유입된 제2 현상액을 수용한다.The first container 13 is disposed inside the nozzle assembly 10 surrounded by the body 15. The first container 13 temporarily receives the first developing solution introduced through the first inlet 11. Meanwhile, the second container 14 is located adjacent to the first container 13. The second container 14 accommodates the second developer introduced through the second inlet 12.

제1 연결 라인(16)은 제1 용기(13)의 하부에 위치한다. 제1 연결 라인(16)은 제1 용기(13)와 상기 노즐 라인(18)을 연결시킨다. 제1 연결 라인(16)은 제1 용기(13)에 수용된 제1 현상액을 노즐 라인(18)으로 유도한다. 한편, 제2 연결 라인(17)은 제2 용기(14)의 하부에 위치한다. 제2 연결 라인(17)은 제2 용기(14)와 상기 노즐 라인(18)을 연결시킨다. 제2 연결 라인(17)은 제2 용기(14)에 수용된 제2 현상액을 노즐 라인(18)으로 유도한다.The first connecting line 16 is located below the first container 13. The first connection line 16 connects the first vessel 13 and the nozzle line 18. The first connecting line 16 guides the first developer solution contained in the first container 13 to the nozzle line 18. On the other hand, the second connecting line 17 is located below the second container 14. The second connection line 17 connects the second vessel 14 with the nozzle line 18. The second connecting line 17 guides the second developer solution contained in the second container 14 to the nozzle line 18.

노즐 라인(18)은 제1 및 제2 용기들(11, 12)에 수용된 제1 및 제2 현상액들을 상기 노즐(19)에 제공한다. 노즐 라인(18)에서 제1 및 제2 현상액들이 서로 혼합되어 혼합 현상액을 형성한다.The nozzle line 18 provides the nozzle 19 with first and second developer solutions contained in the first and second containers 11, 12. In the nozzle line 18, the first and second developing solutions are mixed with each other to form a mixed developing solution.

노즐(19)은 상기 노즐 라인(18)을 통하여 흐르는 상기 혼합 현상액을 반도체 기판 상에 분사한다.The nozzle 19 sprays the mixed developer flowing through the nozzle line 18 onto the semiconductor substrate.

하지만, 종래의 노즐 조립체(10)에 따르면, 노즐 라인(18)을 통하여 배출되는 혼합 현상액이 고르게 혼합되지 않을 수 있다. 특히, 노즐 라인(18)의 폭이 감소할수록, 제1 및 제2 연결 라인들(16, 17)을 통하여 노즐 라인(18)으로 유입된 제 1 및 제2 현상액들이 층류(laminar flow)로 유동한다. 따라서, 제1 및 제2 현상액들이 균일한 비율로 고르게 혼합되지 않는 문제점이 더욱 심각할 수 있다.However, according to the conventional nozzle assembly 10, the mixed developer discharged through the nozzle line 18 may not be evenly mixed. In particular, as the width of the nozzle line 18 decreases, the first and second developer flowing into the nozzle line 18 through the first and second connecting lines 16, 17 flow in a laminar flow. do. Therefore, the problem that the first and second developing solutions are not evenly mixed in a uniform ratio may be more serious.

본 발명의 목적은 균일한 비율로 혼합 현상액을 혼합할 수 있는 노즐 조립체를 제공하는데 있다.It is an object of the present invention to provide a nozzle assembly capable of mixing a mixed developer in a uniform ratio.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 감광막을 현상하기 위한 노즐 조립체는, 제1 현상액을 수용하는 제1 수용부, 상기 제1 현상액과 다른 제2 현상액을 수용하는 제2 수용부, 상기 제1 및 제2 수용부들들로부터 상기 제1 및 제2 현상액들을 각각 제공 받아, 상기 제1 및 제2 현상액들을 혼합시킬 때 와류를 발생시켜 상기 제1 및 제2 현상액들을 균일하게 혼합시키는 현상액 혼합부, 및 상기 현상액 혼합부와 연결되어, 상기 현상액 혼합부에 의해 혼합된 현상액 혼합액을 분사하는 노즐부를 포함한다.The nozzle assembly for developing the photosensitive film of the present invention for achieving the above object is a first receiving portion for receiving a first developer, a second receiving portion for receiving a second developer different from the first developer, the first and A developer mixture unit receiving the first and second developer solutions from the second accommodating units, respectively, to generate a vortex when the first and second developer solutions are mixed to uniformly mix the first and second developer solutions, and And a nozzle unit connected to the developer mixing unit to spray the developer mixture mixed by the developer mixing unit.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 현상액 혼합부는 사행(serpentine) 구조의 형상을 갖는다.In one embodiment of the present invention, the developer mixture portion has a shape of a serpentine structure.

본 발명의 일 실시예에 따른 감광막을 현상하기 위한 노즐 조립체는 상기 제1 및 제2 수용부들을 상기 현상액 혼합부에 각각 연결시키는 제1 및 제2 연결부들을 더 포함한다.The nozzle assembly for developing the photosensitive film according to an embodiment of the present invention further includes first and second connecting portions connecting the first and second receiving portions to the developer mixture, respectively.

본 발명에 따르면, 제1 및 제2 수용부들 및 노즐 사이에 개재된 현상액 혼합부에 의하여 제1 및 제2 현상액을 포함하는 혼합 현상액이 일정한 비율로 고르게 혼합될 수 있다. 따라서, 일정한 비율을 갖는 혼합 현상액이 감광막을 갖는 기판에 고르게 분사됨에 따라, 상대적으로 높은 해상도를 갖는 감광막 패턴이 기판 상에 형성될 수 있다.According to the present invention, the mixed developer including the first and second developer may be evenly mixed at a constant ratio by the developer mixture interposed between the first and second receivers and the nozzle. Therefore, as the mixed developer having a constant ratio is evenly sprayed onto the substrate having the photosensitive film, a photosensitive film pattern having a relatively high resolution can be formed on the substrate.

이하, 본 발명에 따른 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다. 그러나, 본 발명은 하기의 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구현될 수도 있다. 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 보다 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상과 특징이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공된다. 도면들에 있어서, 각 수용부 또는 혼합부 등은 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 과장되게 도시되었으며, 또한 각 장치는 본 명세서에서 설명되지 아니한 다양한 부가 장치들을 구비할 수 있다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments and may be implemented in other forms. The embodiments introduced herein are provided to make the disclosure more complete and to fully convey the spirit and features of the invention to those skilled in the art. In the drawings, each receiving portion or mixing portion and the like are exaggerated for clarity of the invention, and each device may have a variety of additional devices not described herein.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예들을 첨부하는 도면들을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 감광막 현상을 위한 노즐 조립체를 설명하기 위한 단면도이다. 도 3은 도 2에 도시된 현상액 혼합부를 설명하기 위한 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a nozzle assembly for the photosensitive film development according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view for describing a developer mixture shown in FIG. 2.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 감광막을 현상하기 위한 노즐 조립체(100)는 제1 수용부(110), 제2 수용부(120), 현상액 혼합부(130) 및 노즐부(140)를 포함한다.2 and 3, the nozzle assembly 100 for developing the photosensitive film according to the embodiment of the present invention may include a first accommodating part 110, a second accommodating part 120, and a developing solution mixing part 130. And a nozzle unit 140.

제1 수용부(110)는 바디(105)의 내부에 형성된다. 바람직하게, 제1 수용 부(110)는 바디(105)의 상부에 형성될 수 있다. 제1 수용부(110)는 알카리성 용액과 같은 제1 현상액을 수용한다. 제1 현상액은 광에 노출된 부분과 노출되지 않은 부분을 갖는 감광막에 분사되어, 용해도 차이를 갖는 감광막의 일부를 제거한다. 예를 들면, 감광막 중 광에 노출된 광노출부는 광에 노줄되지 않은 부분에 비하여 상대적으로 높은 용해도를 가진다. 따라서, 제1 현상액이 감광막에 제공될 경우, 높은 용해도를 갖는 광노출부가 제거된다.The first accommodating part 110 is formed inside the body 105. Preferably, the first accommodating part 110 may be formed on the upper portion of the body 105. The first accommodating part 110 accommodates a first developing solution such as an alkaline solution. The first developer is sprayed onto the photosensitive film having a portion exposed to light and an unexposed portion to remove a portion of the photosensitive film having a difference in solubility. For example, the light exposure portion exposed to light in the photoresist film has a relatively high solubility compared to the portion not exposed to light. Therefore, when the first developer is provided to the photosensitive film, the light exposure portion having high solubility is removed.

제2 수용부(120)는 바디(105)의 내부에 형성된다. 제2 수용부는 제1 현상액과 다른 제2 현상액을 수용한다. 제2 현상액은 제1 현상액으로 상기 감광막을 현상하고 잔류하는 제1 현상액 및 상기 제1 현상액에 의하여 제거된 감광막을 기판으로부터 완전히 제거한다. 제2 현상액은, 예를 들면, 계면 활성제 또는 탈이온수를 포함한다. The second accommodating part 120 is formed inside the body 105. The second accommodating portion accommodates a second developer different from the first developer. The second developer develops the photosensitive film with the first developer and completely removes the remaining first developer and the photosensitive film removed by the first developer from the substrate. The second developer contains, for example, a surfactant or deionized water.

현상액 혼합부(130)는 제1 및 제2 수용부들(110, 120)에 각각 연결된다. 현상액 혼합부(130)는 제1 및 제2 수용부들(110, 120)로부터 유출된 제1 및 제2 현상액들을 포함하는 혼합 현상액에 와류를 발생시킨다. 혼합 현상액에 와류가 발생함에 따라, 혼합 현상액에 포함된 제1 및 제2 현상액들이 균일한 비율로 고르게 혼합될 수 있다.The developer mixture 130 is connected to the first and second receivers 110 and 120, respectively. The developing solution mixing unit 130 generates vortices in the mixed developing solution including the first and second developing solutions flowing out from the first and second receiving parts 110 and 120. As vortices occur in the mixed developer, the first and second developers included in the mixed developer may be evenly mixed in a uniform ratio.

본 발명의 일 실시예에 따른 현상액 혼합부(130)는 사행 구조(serpentine structure)의 형상을 가질 수 있다. 즉, 현상액 혼합부(130)는 상호 평행한 복수 개의 와류 발생 라인들(131) 및 상기 와류 발생 라인들(131)의 인접하는 단부들을 상호 연결시키는 와류 연결 라인들(133)을 포함한다. 따라서, 현상액 혼합부(130) 는 사행 구조의 형상을 갖게 된다. The developer mixture 130 according to the embodiment of the present invention may have a shape of a serpentine structure. That is, the developer mixture 130 includes a plurality of vortex generating lines 131 parallel to each other and vortex connecting lines 133 interconnecting adjacent ends of the vortex generating lines 131. Therefore, the developer mixture 130 has a shape of meandering structure.

현상액 혼합부는 변곡점(135)을 갖는 사행 구조를 가짐에 따라, 변곡점(135) 주위에서 제1 및 제2 현상액들의 각각의 유속이 달라지게 된다. 따라서, 변곡점(135) 주위에서 제1 및 제2 현상액들이 상호 일정한 비율로 고르게 혼합되게 된다.As the developer mixture part has a meandering structure having an inflection point 135, respective flow rates of the first and second developer solutions are changed around the inflection point 135. Thus, around the inflection point 135, the first and second developing solutions are evenly mixed with each other at a constant ratio.

도 3에서 현상액 혼합부(130)는 사행 구조의 형상을 갖는 것으로 도시되었지만, 와류 발생(130)부는 변곡점을 갖는 조건으로 다른 형상을 가질 수 있다. 즉, 사행 구조와 다른 형상을 갖는 현상액 혼합부(130)가 변곡점(135)을 가짐으로써, 변곡점(135) 주위에서의 제1 및 제2 현상액들의 유속이 변경되어 혼합 현상액에 와류가 발생하게 된다. 따라서, 제1 및 제2 현상액들이 일정한 비율로 고르게 혼합되게 된다.In FIG. 3, the developer mixture 130 is shown to have a meandering structure, but the vortex generator 130 may have another shape under conditions having an inflection point. That is, since the developer mixing unit 130 having a shape different from the meandering structure has an inflection point 135, the flow rates of the first and second developing solutions around the inflection point 135 are changed to cause vortex in the mixed developer. . Therefore, the first and second developing solutions are mixed evenly at a constant ratio.

노즐부(140)는 상기 현상액 혼합부(130)의 하부에 배치된다. 노즐부(140)는 상기 현상액 혼합부(130)와 연결된다. 노즐부(140)는 상기 현상액 혼합부(130)에 의하여 균일한 비율을 갖는 혼합 현상액을 기판을 향하여 배출한다. 노즐부(140)는 복수개의 노즐을 가질 수 있다. The nozzle unit 140 is disposed below the developer mixture mixing unit 130. The nozzle unit 140 is connected to the developer mixture mixing unit 130. The nozzle unit 140 discharges the mixed developer having a uniform ratio toward the substrate by the developer mixture mixing unit 130. The nozzle unit 140 may have a plurality of nozzles.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 노즐부(140)는 반도체 기판을 향하여 한 방향으로만 분사할 수 있다. 이와 다르게, 노즐부(140)는 기판의 중심 부위로부터 가장 자리 부위를 향한 각도를 조절할 수 있도록 회전 가능할 수 있다. 이 경우 기판의 전체 영역에 상기 혼합 현상액이 고르게 공급되어, 기판 전체에 걸쳐 감광막을 현상할 수 있고 기판의 침전물 등에 따른 오염을 방지할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the nozzle unit 140 may spray in one direction toward the semiconductor substrate. Alternatively, the nozzle unit 140 may be rotatable to adjust an angle from the center portion of the substrate toward the edge portion. In this case, the mixed developer is evenly supplied to the entire region of the substrate, so that the photosensitive film can be developed over the entire substrate, and contamination due to deposits or the like of the substrate can be prevented.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 조립체(100)는 현상액 혼합부(130) 및 제1 및 제2 수용부들(110, 120)에 각각 연결시키는 제1 연결 라인(151) 및 제2 연결 라인(153)을 더 포함할 수 있다.On the other hand, the nozzle assembly 100 according to an embodiment of the present invention, the first connection line 151 and the second connection connecting to the developer mixture 130 and the first and second receiving portions 110, 120, respectively It may further comprise a line 153.

본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 조립체(100)는 제1 현상액 및 제2 현상액을 각각 유입시키는 제1 유입구(101) 및 제2 유입구(102)를 더 포함할 수 있다. 제1 유입구(101)는 바디(105)의 상부에 위치한다. 제1 유입구(101)는 제1 현상액을 공급하는 제1 현상액 공급 유닛(미도시)과 연결되어 제1 현상액을 제1 수용부(110)로 유입시킨다. 한편, 제2 유입구(102)는 제1 유입구(101)에 인접하여 위치할 수 있다. 제2 유입구(102)는 제1 현상액과 다른 제2 현상액을 공급하는 제2 현상액 공급 유닛(미도시)과 연결되어 제2 현상액을 제2 수용부(120)로 유입시킨다.The nozzle assembly 100 according to an embodiment of the present invention may further include a first inlet 101 and a second inlet 102 for introducing the first developer and the second developer, respectively. The first inlet 101 is located above the body 105. The first inlet 101 is connected to a first developer supply unit (not shown) for supplying a first developer, and introduces the first developer into the first accommodating part 110. On the other hand, the second inlet 102 may be located adjacent to the first inlet 101. The second inlet 102 is connected to a second developer supply unit (not shown) for supplying a second developer different from the first developer, thereby introducing the second developer into the second accommodating part 120.

이하, 본 발명에 따른 노즐 조립체를 이용하여 현상액들이 혼합되어 분사되는 과정을 설명하기로 한다.Hereinafter, a process in which the developer is mixed and sprayed using the nozzle assembly according to the present invention will be described.

먼저, 제1 현상액이 제1 유입구(101)를 통하여 제1 수용부(110)에 유입된다. 한편, 제2 현상액이 제2 유입구(102)를 통하여 제2 수용부(120)에 유입된다. 제1 및 제2 수용부들에 각각 수용된 제1 및 제2 현상액들은 제1 및 제2 연결부들(151, 152)을 통하여 현상액 혼합부(130)에서 서로 혼합된다. 현상액 혼합부(130)는 예를 들면 사행 구조의 형상을 가짐으로써, 제1 및 제 2 현상액들을 갖는 현상액 혼합액이 유동하는 동안 현상액 혼합부(130)에서 와류가 발생하게 된다. 따라서, 현상액 혼합액이 일정한 비율을 갖도록 균일하게 혼합된다. 이후, 균일하게 혼합된 현상액 혼합액이 노즐부(140)를 통하여 배출되어, 감광막을 갖는 기판 상에 분사된다.First, the first developer is introduced into the first accommodating part 110 through the first inlet 101. Meanwhile, the second developer is introduced into the second accommodating part 120 through the second inlet 102. The first and second developer solutions accommodated in the first and second receptacles, respectively, are mixed with each other in the developer mixing unit 130 through the first and second connection parts 151 and 152. The developer mixture 130 has a meandering structure, for example, so that vortices are generated in the developer mixture 130 while the developer mixture having the first and second developers flows. Therefore, the developer mixture is mixed uniformly to have a constant ratio. Thereafter, the developer mixture mixed uniformly is discharged through the nozzle unit 140 and sprayed onto the substrate having the photosensitive film.

본 발명에 의하면, 제1 및 제2 수용부들 및 노즐부 사이에 현상액 혼합부가 개재되어, 제1 및 제2 현상액을 포함하는 혼합 현상액에 와류를 발생시켜 상기 혼합 현상액이 일정한 비율로 혼합시킨다. 따라서, 일정한 비율을 갖는 혼합 현상액이 상기 노즐부를 통하여 감광막을 갖는 기판에 고르게 분사됨에 따라, 상대적으로 높은 해상도를 갖는 감광막 패턴이 기판 상에 형성될 수 있다.According to the present invention, a developing solution mixing portion is interposed between the first and second receiving portions and the nozzle portion to generate a vortex in the mixed developing solution including the first and second developing solutions so that the mixed developing solution is mixed at a constant ratio. Therefore, as the mixed developer having a constant ratio is evenly sprayed on the substrate having the photosensitive film through the nozzle portion, a photosensitive film pattern having a relatively high resolution can be formed on the substrate.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below I can understand that you can.

Claims (3)

제1 현상액을 수용하는 제1 수용부;A first accommodating part accommodating a first developer; 상기 제1 현상액과 다른 제2 현상액을 수용하는 제2 수용부;A second accommodating part accommodating the second developer different from the first developer; 상기 제1 및 제2 수용부들들로부터 상기 제1 및 제2 현상액들을 각각 제공 받아, 상기 제1 및 제2 현상액들을 혼합시킬 때 와류를 발생시켜 상기 제1 및 제2 현상액들을 균일하게 혼합시키는 현상액 혼합부; 및A developer that receives the first and second developers from the first and second receivers, respectively, and generates a vortex when mixing the first and second developers to uniformly mix the first and second developers. Mixing section; And 상기 현상액 혼합부와 연결되어, 상기 현상액 혼합부에 의해 혼합된 현상액 혼합액을 분사하는 노즐부를 포함하는 감광막을 현상하기 위한 노즐 조립체.A nozzle assembly for developing a photosensitive film connected to the developer mixing unit, comprising a nozzle unit for injecting a developer mixture mixed by the developer mixture. 제1 항에 있어서, 상기 현상액 혼합부는 사행(serpentine) 구조의 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 감광막을 현상하기 위한 노즐 조립체.The nozzle assembly of claim 1, wherein the developer mixture has a shape of a serpentine structure. 제1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 수용부들을 상기 현상액 혼합부에 각각 연결시키는 제1 및 제2 연결부들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 감광막을 현상하기 위한 노즐 조립체.The nozzle assembly of claim 1, further comprising first and second connecting portions connecting the first and second receiving portions to the developer mixture, respectively.
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