KR20070098465A - 노즐 제조방법 및 노즐 - Google Patents
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Abstract
복수의 토출구를 갖는 원 노즐을 베이스부재(51)에 대하여 상대적으로 이동하고, 원 노즐의 베이스부재(51)에 대한 상대이동과 병행하여, 원 노즐로부터 베이스부재(51) 상으로 페이스트를 토출하면서, 베이스부재(51) 상의 토출 직후의 페이스트를 자외선을 조사하여 경화시킴으로써, 베이스부재(51) 상에 복수의 격벽(53)이 배열 형성된다. 그리고, 복수의 격벽(53) 머리부(531)에 접하면서 복수의 격벽(53)을 덮는 덮개부재(54)가 베이스부재(51)에 대하여 고정됨으로써, 복수의 토출구(52)를 갖는 노즐(5)을 용이하게 제조할 수 있다.
평면표시장치, 패널, 리브, 스페이서, 패턴, 노즐, 토출구, 글라스프릿
Description
도 1은 패턴 형성장치의 구성을 나타낸 도이다.
도 2는 노즐의 선단 근방을 나타낸 도이다.
도 3은 노즐의 토출구 근방을 나타낸 도이다.
도 4는 노즐을 제조하는 공정의 흐름을 나타낸 도이다.
도 5는 베이스부재상에 형성되는 격벽을 나타낸 도이다.
도 6은 베이스부재상에 형성되는 격벽을 나타낸 단면도다.
도 7은 베이스부재상에 배열 형성되는 격벽을 나타낸 도이다.
도 8은 노즐을 나타낸 도이다.
도9은 노즐의 다른 예를 나타낸 도이다.
도10은 노즐의 또 다른 예를 나타낸 도이다.
일본 특허공개2004-121978호 공보
일본 특허공개 평11-192700호 공보 (이하, 문헌 1이라 함)
일본 특허공개2001-225477호 공보 (이하, 문헌 2이라 함)
본 발명은, 복수의 토출구를 갖는 노즐 및 그 노즐을 제조하는 노즐 제조방법에 관한 것이다.
플라즈마 표시장치 등의 평면표시장치에 사용되는 패널에 리브를 형성하는 방법으로써, 최근, 미세한 복수의 토출구를 갖는 노즐로부터 페이스트 상태의 패턴 형성재료를 토출하여 글라스 기판상에 리브 패턴을 형성하는 방법이 제안되어 있다. 이러한 방법에서 사용되는 노즐은, 통상, 얇은 디스크 형상의 숫돌이나 와이어 쏘(Wire Saw)를 사용한 기계가공(절삭가공)으로 피가공부재에 다수의 미세한 홈(溝)을 형성하고, 피가공부재의 홈이 형성된 면에 덮개부재를 접합함으로써 제조된다.
또한, 특허공개2004-121978호 공보에서는, 글라스프릿(Glass Frit)을 포함하는 페이스트가 하나의 주면 위에 도포된 복수의 수지 시트를 적층하여, 적층방향에 나란한 측면으로 지지부재를 고정한 후, 이 측면에 평행한 면으로 절단하여 제 1 분할부재를 얻고, 계속해서, 제 1 분할부재의 절단면에 다른 지지부재를 고정한 후, 제 1 분할부재를 절단면에 수직한 측면에 따라 절단함으로써 제 2 분할부재를 얻으며, 이어서, 제 2 분할부재를 소성(燒成)하여 수지 시트를 제거하면서 글라스프릿을 융착시킴으로써, 노즐을 제조하는 방법이 공개되어 있다.
그리고, 특허공개 평11-192700호 공보(문헌 1)에서는, 토출구를 갖는 기판의 표면에 가소성의 격벽형성용 재료를 층상으로 부여하여, 성형틀을 압착하여 상기 재료를 소성변형시킴으로써 격벽을 형성하며, 변형 후의 재료를 기판과 함께 가열하여 소성함으로써, 잉크젯 프린터용 헤드의 잉크실을 형성하는 방법이 공개되어 있다. 또한, 특허공개2001-225477호 공보(문헌 2)에서는, 기재(基材)로서의 압전 액츄에이터상의 잉크실에 대응하는 각 위치에 마스크부를 형성하고, 기재상에 있어서 마스크부 사이에 액상의 수지재료를 충전함과 동시에 반경화(半硬化)시켜, 마스크부를 제거한 후, 토출구를 갖는 부재를 포개고, 이어서 수지재료를 소성함으로써, 잉크젯 프린터용 헤드의 잉크실을 형성하는 방법이 공개되어 있다.
그런데, 최근, 평면표시장치의 고해상도화에 따라 패널 상에 미세한 리브를 미소(微小)한 피치로 배열 형성하는 것이 요구돼 가고 있다. 이 경우, 기계가공으로 노즐을 제조하려고 해도, 서로 인접하는 토출구를 가르는 미세한 폭의 격벽을 미소한 피치로 배열 형성하는 가공은 용이하지 않고, 토출구의 갯수가 증대함에 따라서 노즐 제조에 관련된 수율이 낮아져서, 노즐의 제조비용이 상승해버린다.
반도체제조 프로세스에서 사용되는 포토리소그라피(Photolithography) 기술이나, 리액티브 이온 에칭(Reactive Ion Etching, RIE) 등의 건식 식각(Dry Etching) 또는 습식 식각(Wet Etching)을 응용하거나, 문헌 2의 방법을 응용하여 미세한 격벽를 갖는 노즐을 제조하는 것도 생각할 수 있지만, 제조 공정이 번잡하고, 노즐의 제조비용이 증대하게 된다. 또한, 문헌 1의 방법을 응용하여, 글라스 분말이나 세라믹 분말을 포함하는 페이스트를 성형틀을 사용해서 성형함으로써 노즐의 토출구의 격벽을 형성하는 것도 생각할 수 있지만, 성형틀을 제거할 때 격벽이 손상되는 경우가 있고, 더욱이, 토출구의 폭에 대한 높이의 비율인 종횡비(aspect ratio)가 높아지도록(예를 들면, 종횡비 10 이상이 되도록), 미소한 피치로 격벽을 배열 형성하는 것은 지극히 곤란하다.
본 발명은 복수의 토출구를 갖는 노즐을 제조하는 노즐 제조방법에 관한 것으로, 복수의 토출구를 갖는 노즐을 용이하게 제조하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 관련된 노즐 제조방법은, a) 적어도 하나의 토출구를 갖는 원(元) 노즐을 소정의 방향으로 베이스부재에 대해 상대적으로 이동하고, 원 노즐의 베이스부재에 대한 상대이동과 병행해서, 원 노즐로부터 베이스부재상에 격벽형성용의 페이스트를 토출하면서, 베이스부재상의 토출 직후의 페이스트를 경화시킴으로써, 베이스부재상에 있어서 각각이 소정의 방향으로 뻗은 복수의 격벽을 소정의 방향에 수직한 방향으로 배열 형성하는 공정과, b) 베이스부재상의 복수의 격벽 머리부(頂部)에 접하면서 복수의 격벽을 덮는 덮개부재를 베이스부재에 대하여 고정하는 공정을 구비한다. 본 발명에 의하면, 복수의 토출구를 갖는 노즐을 용이하게 제조할 수 있다.
바람직하게는, 페이스트가, 글라스의 분체(粉體)를 포함한다. 또한, 보다 바람직하게는, 글라스의 분말이 저연화점(低軟化点) 글라스프릿이고, 노즐 제조방법이, a)공정과 b)공정 사이에, 베이스부재상의 복수의 격벽을 소성하는 공정을 더 구비한다. 이로써, 복수의 토출구로 가르는 복수의 격벽의 표면이 매끈매끈하고 내구성를 갖는 노즐을 제조할 수 있다.
본 발명의 한 특징으로서, 원 노즐이 복수의 토출구를 가지며, 본 발명의 다른 특징으로서, a) 공정이, a1) 원 노즐을 소정의 방향으로 베이스부재에 대하여 상대적으로 이동하는 공정과, a2) 상기 a1)공정과 병행하여, 원 노즐로부터 베이스부재상에 페이스트를 토출하면서, 베이스부재상의 토출 직후의 페이스트를 경화시키는 공정과, a3) 원 노즐을 소정의 방향에 수직한 방향으로 베이스부재에 대하여 상대적으로 이동한 후, 상기 a1)공정 및 상기 a2)공정을 되풀이함으로써, 베이스부재상에 있어서, 복수의 격벽을 배열 형성하는 공정을 구비한다. 이로써, 복수의 격벽을 베이스부재상에 용이하게 배열 형성할 수 있다.
본 발명의 한 바람직한 실시 형태에서는, 상기 b)공정에 있어서, 베이스부재와, 베이스부재와 동일하게 복수의 격벽이 형성된 또다른 하나의 베이스부재가 소정의 방향에 수직한 방향으로 배열된 후, 덮개부재가 베이스부재 및 또다른 하나의 베이스부재에 대하여 고정된다. 이로써, 다수의 토출구를 갖는 노즐을 용이하게 제조할 수 있다.
본 발명의 다른 바람직한 실시 형태에서는, 덮개부재가, 베이스부재의 복수 의 격벽과 같은 수의 격벽를 갖는 또다른 하나의 베이스부재로서, 상기 b)공정에 있어서, 또다른 하나의 베이스부재의 복수의 격벽 머리부가, 베이스부재상의 복수의 격벽 머리부에 각각 접하면서, 또다른 하나의 베이스부재가 베이스부재에 대하여 고정된다. 이로써, 종횡비가 높은 토출구를 갖는 노즐을 용이하게 제조할 수 있다.
본 발명은, 복수의 토출구를 갖는 노즐에도 관계된다.
상술의 목적 및 다른 목적, 특징, 형상 및 이점은, 첨부한 도면을 참조하여 이하에 기술한 이 발명의 상세한 설명에 의해 밝혀진다.
도 1은 패턴 형성장치(1)의 구성을 나타낸 도이다. 패턴 형성장치(1)는, 플라즈마 표시장치나 전계방출 표시장치(Field Emission Display) 등의 평면표시장치용의 글라스 기판(이하,「기판」이라 한다)(9) 상에 리브(평면표시장치의 종류에 따라서는, 스페이서(Spacer)라고도 불린다)의 패턴을 형성하는 장치이며, 리브가 형성된 기판(9)은 다른 공정을 통해서 평면표시장치의 조립 부품인 패널이 된다.
패턴 형성장치(1)에서는, 기대(基臺)(11) 위에 스테이지 이동기구(2)가 설치되어서, 스테이지 이동기구(2)에 의해 기판(9)을 지지하는 스테이지(20)가 도 1 중에 나타낸 X방향으로 이동가능하게 된다. 기대(11)에는 스테이지(20)를 넘어서 프레임(12)이 고정되고, 프레임(12)에는 헤드 이동기구(3)를 개재하여 헤드부(4)가 장착된다.
스테이지 이동기구(2)는, 모터(21)에 볼나사(22)가 접속되고, 그리고, 스테이지(20)에 고정된 너트(23)가 볼나사(22)에 장착된 구조로 되어 있다. 볼나사(22)의 윗쪽에는 가이드 레일(24)이 고정되어, 모터(21)가 회전하면, 너트(23)와 함께 스테이지(20)가 가이드 레일(24)에 따라 X방향으로 매끄럽게 이동한다 (즉, 헤드부(4)가 기판(9)에 대하여 상대적으로 주주사(主走査)한다).
헤드 이동기구(3)는 프레임(12)에 지지된 모터(31)와, 모터(31)의 회전축에 접속된 볼나사(32) 및 볼나사(32)에 장착된 너트(33)를 가지며, 모터(31)가 회전함으로써 너트(33)가 도 1 중의 Y방향으로 이동한다. 너트(33)에는 헤드부(4)의 베이스(40)가 장착되고, 이로써, 헤드부(4)가 Y방향으로 이동(부주사(副走査))이 가능하게 된다. 베이스(40)은 프레임(12)에 고정된 가이드 레일(34)에 접속되어, 가이드 레일(34)에 의해 매끄럽게 안내된다.
헤드부(4)는, 기판(9) 상에 페이스트 상태의 패턴 형성재료를 토출하는 토출부(42) 및 기판(9)을 향하여 자외선을 출사(出射)하는 경화부(43)를 가지며, 토출부(42) 및 경화부(43)는 베이스(40)에 고정되는 승강기구(41)의 하부에 장착된다. 패턴 형성재료는, 광개시제(光開始劑)나, 접합제인 수지, 그리고, 글라스의 분체인 저연화점 글라스프릿을 포함한다. 토출부(42)의 밑면에는, Y방향으로 배열된 복수의 토출구를 갖는 노즐(5)이 착탈가능하게 장착된다. 경화부(43)는 토출부(42)의 (-X)측에 있어서 기판(9)을 향하여 빛을 출사하여, 각 토출구에 대응하는 빛의 조사지점을 기판(9) 상에 형성한다.
토출부(42)에는 체크밸브(421)를 갖는 공급관(422)이 장착되고, 공급관(422) 은 분기되고 있어, 한 쪽은 펌프(423)에 접속되고, 다른 쪽은 제어밸브(424)를 거쳐 패턴 형성재료를 저장하는 탱크(425)에 접속된다. 경화부(43)는 광파이버(431)을 통해 자외선을 발생하는 광원 유닛(432)에 접속된다.
스테이지 이동기구(2)의 모터(21), 펌프(423), 제어밸브(424), 광원 유닛(432), 그리고, 헤드 이동기구(3)의 모터(31) 및 헤드부(4)의 승강기구(41)는 제어부(6)에 접속되어, 이러한 구성들이 제어부(6)에 의해 제어됨으로써, 패턴 형성장치(1)에 의한 기판(9)상으로의 리브 형성이 행해진다.
도 2는 노즐(5)의 선단 근방을 확대하여 나타낸 도이다. 도 2에 나타난 바와 같이, 노즐(5)에 있어서 각 토출구(52)로 연속하는 유로(521)(도 2에서는, 하나의 토출구(52) 및 하나의 유로(521)에만 부호를 붙힌다)는, ZX평면에 평행하면서 X 방향에 대해서는 경사진 방향으로 뻗어 있고, 토출구(52)의 개구면(開口面)도, 그 법선이 ZX평면에 평행하면서 X방향에 대하여 경사져 있다. 또한, 노즐(5)의 도 2 상의 (-Z)측 부위(후술하는 도 3 중의 덮개부재(54))에는, 기판(9)의 주면(主面)에 평행한 대향면(541)이 형성된다. 패턴 형성장치(1)에서는, 필요에 따라 승강기구(41)가 노즐(5)을 Z방향으로 이동함으로써, 리브 형성시에 있어서의 노즐(5)의 대향면(541)과 기판(9)의 주면 사이의 거리가 거의 일정하게 유지된다.
도 3은 노즐(5)의 복수의 토출구(52) 근방을 나타낸 도이며, 각 토출구(52) 개구면의 법선에 따라 노즐(5)의 선단을 바라본 양상을 나타내고 있다. 한편, 도 3에서는, 격벽(53) 및 접착제(55)를 각각 평행사선으로 나타내고 있다 (후술의 도 8 내지 도 10에 있어서도 동일).
도 3에 나타낸 바와 같이, 각 토출구(52)(의 개구면)에 있어서, 도 3 중의 Y방향(즉, 도 3에서 횡방향이며, 이하에서, 간단히「횡방향」이라고도 한다)에 수직한 도 3 중의 종방향 (즉, 도 2의 유로(521)가 뻗은 방향 및 Y방향의 쌍방에 수직한 방향으로써, 이하에서, 간단히 「종방향」이라고도 한다)의 길이는, 횡방향의 폭보다 충분히 길게 된다. 복수의 토출구(52)는 횡방향으로 소정의 미소한 피치(이하,「토출구 피치」라고 한다)로 배열되어, 서로 인접하는 두 개의 토출구(52)사이는 격벽(53)에 의해 갈라진다. 바꾸어 말하면, 노즐(5)에서는, 종방향의 길이가 횡방향의 폭보다도 충분히 긴 복수의 격벽(53)이 토출구 피치로 횡방향으로 배열되고 있고, 종방향으로는 복수의 격벽(53)은, 대략 판형상인 덮개부재(54) 및 베이스부재(51)에 의해 끼워져 고정된다 (단, 도 2에 나타낸 바와 같이, 노즐(5)이 헤드부(4)에 장착된 상태에서는, 덮개부재(54)는 베이스부재(51)보다 기판(9)측으로 위치한다). 격벽(53)은 저연화점 글라스의 소성체에 의해 형성되어, 그 표면은 매끈매끈한 상태로 된다. 실제로는, 양단의 토출구(52) 각각의 바깥측에도 격벽(53a)이 마련되어 있어, 격벽(53a)과 덮개부재(54)로부터 돌출한 측벽부(542)와의 사이에는 접착제(55)가 충전된다.
본 실시 형태에서는, 노즐(5) 격벽(53)의 횡방향의 폭은 90μm(마이크로미터)이고, 종방향의 길이는 2400μm로 되어 있어, 토출구 피치 200μm로 100개의 격벽(53)이 형성되어 있다. 이 경우, 토출구(52)의 종방향 길이는 2400μm, 횡방향 폭은 110μm (200~90 범위로 요구된다)로 되고, 99개의 토출구(52)가 토출구 피치200μm로 나열된다. 또한, 노즐(5)에서는, 덮개부재(54)는 스텐인레스강으로 형성 되고, 베이스부재(51)는 글라스로 형성되지만, 이러한 부재는, 스텐인레스강이나 글라스이외에, 산화 알미늄 등의 세라믹이나 다른 종류의 금속 등, 다른 재료로 형성되어도 된다.
다음으로, 패턴 형성장치(1)가 리브를 형성하는 동작에 대하여 설명한다. 패턴 형성장치(1)에 기판(9)이 반입되면, 스테이지 이동기구(2) 및 헤드 이동기구(3)에 의해 노즐(5)이 기판(9)에 대하여 소정의 초기 위치에 배치됨과 동시에, 경화부(43)로부터 자외선의 출사가 개시되어, 토출부(42)로부터 기판(9)을 향해 패턴 형성재료의 토출이 행해진다. 토출부(42)로부터의 패턴 형성재료의 토출은, 도 1에 나타낸 체크밸브(421), 펌프(423) 및 제어밸브(424)에 의해 행해진다. 우선, 제어부(6)의 제어에 의해 제어밸브(424)가 개방된 상태로 펌프(423)가 흡인 동작을 행한다. 이 때, 체크밸브(421)에 의해 패턴 형성재료의 역류가 저지되기 때문에, 탱크(425)로부터 펌프(423)로 패턴 형성재료가 빨려들어간다. 이어서, 제어밸브(424)가 닫히고, 펌프(423)가 압출동작을 행한다. 이로써, 토출부(42)로부터 연속적으로 패턴 형성재료가 토출된다.
패턴 형성재료의 토출이 행해질 때에는, 제어부(6)가 스테이지 이동기구(2)의 모터(21)를 구동 제어하고, 토출부(42)의 아래 쪽에서 기판(9)의 표면이 (-X)방향으로 이동하도록, 스테이지(20)를 연속적으로 이동시킨다 (즉, 헤드부(4)를 기판(9)에 대하여 (+X)방향으로 상대적으로 주주사되도록 한다). 이로써, 도 2에 나타낸 바와 같이, 노즐(5)의 토출구(52)로부터 토출된 패턴 형성재료(91)가 기판(9) 상에 순차로 부착되면서, 노즐(5)의 상대적인 진행방향의 후방에 배치되어 있는 경 화부(43)로부터의 자외선이 기판(9)상의 패턴 형성재료(91)에 조사되어, 리브가 형성된다. 전술한 바와 같이, 패턴 형성재료에는 자외선에 의해 경화(가교 반응)가 시작되는 광개시제가 첨가되어 있어, 패턴 형성재료(91)의 경화가 경화부(43)에 의해 순차로 행해진다. 이 때, 노즐(5)에서는, 패턴 형성재료가 유동하는 유로(521) 및 토출구(52)가 표면이 매끈매끈한 격벽(53)으로 둘러싸여지기 때문에, 패턴 형성재료의 유동저항이 작아져서, 패턴 형성재료의 토출량을 높은 정밀도로 제어하여, 단면형상이 토출구(52)의 형상에 근사한 리브를 형성할 수 있다.
패턴 형성재료의 토출이 계속되어져서, 기판(9)상의 패턴형성 종점이 노즐(5)의 바로 아래에 달하면, 패턴 형성재료의 토출이 정지된다. 그 후, 종점 근방의 패턴 형성재료를 경화하기 위하여 기판(9)이 약간의 거리만 이동하고, 그 뒤 정지한다. 이렇게 하여, 기판(9) 상에 리브 패턴(배열 형성되는 복수의 리브를 나타낸 패턴)이 형성되면, 패턴 형성장치(1)에서의 처리가 종료한다.
이상의 공정에서 형성된 리브는 다른 공정에 있어서 소성되어, 패턴 형성재료 중의 수지분이 제거됨과 동시에, 저연화점 글라스프릿이 융착한다. 그리고, 적절히, 다른 필요한 공정을 거쳐 평면표시장치의 조립 부품인 패널이 완성된다.
이상과 같이, 패턴 형성장치(1)에서는, 복수의 토출구(52)를 갖는 노즐(5)로부터 패턴 형성재료를 토출하면서, 기판(9)의 주면에 따라 복수의 토출구(52)의 배열 방향에 거의 수직한 방향으로 노즐을 상대적으로 이동함으로써, 기판(9) 상에 토출구 피치로 늘어선 복수의 리브를 적절하게 형성할 수 있다.
다음으로, 상술한 노즐(5)의 제조방법의 일 예에 대하여 설명한다. 도 4는 노즐(5)을 제조하는 공정의 흐름을 나타낸 도이다. 노즐(5)의 제조에 있어서는, 상기의 패턴 형성장치(1)에 있어서의 노즐(5)이 다른 노즐(후술하는 바와 같이, 노즐(5)을 제조할 때로 사용되는 노즐이기 때문에, 이하, 「원 노즐」이라 한다)로 치환된 장치(이하, 「격벽형성장치」라고 한다)가 사용된다. 격벽형성장치로는, 광개시제나, 접합제인 수지, 그리고, 글라스의 분체인 저연화점 글라스프릿을 포함한 격벽형성용 페이스트(본 실시 형태에서는, 상기 패턴 형성재료와 동등의 재료이다)가 원 노즐로부터 토출된다. 격벽형성장치에서의 그 외의 구성은, 도 1의 패턴 형성장치(1)와 같으므로, 이하의 설명에서는 동일한 부호를 붙였다.
여기에서, 격벽형성장치에 있어서의 원 노즐은, 토출구의 갯수를 제외하고, 도3에 나타낸 노즐(5)과 근사한 구조로 되어 있다. 구체적으로는, 원 노즐의 토출구의 종방향 길이는 3500μm, 횡방향의 폭은 100μm로 되어 있어, 토출구 피치 200μm로 20개의 토출구가 형성되어 있다. 또한, 본 실시 형태에서의 원 노즐은, 예를 들면 지르코니아로 된 피가공부재를 절삭가공함으로써 제조되지만, 원 노즐은 다른 방법에 의해 제조되어도 좋다.
노즐(5)을 제조할 때는, 우선, 글라스 기판인 베이스부재가 준비되어, 스테이지(20)위로 배치된다. 스테이지 이동기구(2) 및 헤드 이동기구(3)에 의해 헤드부(4)의 원 노즐이 베이스부재에 대하여 소정의 초기 위치에 배치된 후, 베이스부재가 스테이지(20)와 함께 (-X)방향으로 이동을 시작하여, 원 노즐의 베이스부재에 대한 상대이동(주주사)이 개시된다 (스텝 S11). 원 노즐이 베이스부재상의 격벽형성의 시발점 위에 도달하면, 복수의 토출구 각각으로부터 페이스트의 토출이 개시 됨과 동시에 (스텝 S12), 베이스부재상에 토출된 직후의 자외선경화성을 갖는 페이스트로의 빛(자외선)의 조사가 경화부(43)에 의해 개시된다 (스텝 S13).
도 5는, 베이스부재(51) 상에 형성되는 격벽(53)을 나타낸 도이다. 도 5에 나타낸 바와 같이, 격벽형성장치에서는, 베이스부재(51)의 표면에 따라 원 노즐(44)이 (+X)방향으로 베이스부재(51)에 대하여 상대적으로 이동하는(주주사한다) 동작과 병행하여, 원 노즐(44)의 복수의 토출구(441)(도 5에서는, 하나의 토출구(441)에만 부호를 붙였다. 격벽(53)에 있어서 동일)로부터 페이스트를 토출하면서, 경화부(43)로부터의 빛에 의해 베이스부재(51) 상에 토출된 직후의 페이스트(격벽(53)이 되는 페이스트)를 경화시킴으로써, 각각이 연속패턴인 격벽(53)이 베이스부재(51)의 (-X)측에서부터 (+X)방향을 향하여 순차로 형성된다. 이 때, 도 6에 나타낸 바와 같이, 격벽(53)의 Y방향의 폭(W)는 120μm, Z방향의 높이(H)는 3200μm가 되고, 격벽(53)의 피치(P)는 원 노즐(44)에서의 토출구 피치와 마찬가지로, 200μm로 된다. 실제로는, 도 6 상의 각 격벽(53)에 있어서의 머리부(531)(즉, 베이스부재(51)와는 반대측의 단부)의 각은 약간 곡성(曲性)을 띤다.
원 노즐(44)의 토출구(441)가 베이스부재(51) 상에서 격벽형성의 종점 위에 도달하면, 페이스트의 토출이 정지된다. 종점 근방의 페이스트를 경화시키기 위하여 베이스부재(51)는 좀더 이동을 속행하여, 그 후에, 스테이지(20)의 이동이 정지된다 (스텝 S14). 계속해서, 헤드 이동기구(3)에 의해 헤드부(4)가 주주사 방향에 수직한 Y방향으로 소정의 거리(정확하게는, 원 노즐(44)의 토출구(441)의 갯수에 토출구 피치를 곱한 거리)만 부주사하고(스텝 S15, S16), 이어서, 헤드부(4)가 베 이스부재(51)의 (-X)측으로 상대적으로 이동한다. 또한, 헤드부(4)을 베이스부재(51)의 (-X)측에 배치할 때에, 승강기구(41)가 원 노즐(44)을 Z방향으로 이동함으로써, 원 노즐(44)과 베이스부재(51) 상에 직전에 형성된 격벽(53)과의 간섭을 방지하면서, 헤드부(4)의 이동과 스테이지(20)의 이동이 동시에 행해져도 된다.
그 후, 원 노즐(44)의 주주사가 개시되어(스텝 S11), 원 노즐(44)로부터 페이스트의 토출 및 경화부(43)에 의한 베이스부재(51) 상의 토출 직후 페이스트의 경화가 되풀이된다(스텝 S12, S13). 이 때, 도 7에 나타낸 바와 같이, 베이스부재(51) 상에 형성되는 복수의 격벽(53)(즉, 원 노즐(44)의 1회째 주주사 및 2회째 주주사로 형성되는 모든 격벽(53))의 Y방향 피치는 일정하게 된다. 그리고, 도 7에서는, 원 노즐(44)의 토출구(441)의 갯수가 실제보다 적게 도시되어 있어, 원 노즐(44)의 한번의 주주사에 의해 형성되는 격벽(53)의 갯수도 마찬가지로 실제보다도 적게 되어 있다.
그리고, 베이스부재(51)의 (+X)측에 원 노즐(44)이 도달하면, 원 노즐(44)의 주주사가 정지되고 (스텝 S14), 스텝 S16, S11∼S14가 되풀이된다 (스텝 S15). 원 노즐(44)의 부주사 후의 주주사(스텝 S16, S11∼S14)가 소정의 회수만 되풀이되면 (스텝 S15), 빛의 출사가 정지되어 격벽형성장치에 의한 격벽(53)의 형성이 종료한다.
이처럼, 격벽형성장치에서는, 원 노즐(44)의 베이스부재(51)에 대한 주주사 그리고, 원 노즐(44)의 주주사와 병행한 원 노즐(44)로부터의 페이스트 토출 및 경화부(43)에 의한 베이스부재(51) 상의 페이스트 경화가, 원 노즐(44)을 Y방향으로 간헐적으로 이동하면서 소정회수만 되풀이됨으로써, 베이스부재(51) 상에 각각이 주주사 방향(X방향)으로 뻗은 다수의 격벽(53)(스트라이프 형상의 패턴)을, 주주사 방향에 수직한 방향(Y방향)으로 용이하게 배열 형성할 수 있다. 여기에서는, 20개의 토출구(441)를 갖는 원 노즐(44)의 주주사가 5회 되풀이되는 것에 의해, 베이스부재(51) 상에 100개의 격벽(53)이 형성되는 것으로 한다.
격벽(53)의 형성이 종료하면, 베이스부재(51)가 격벽형성장치로부터 반출되고, 다른 장치에서, 베이스부재(51)가 복수의 격벽(53)에 수직한 방향으로 절단되어 (이하, 절단 후의 부위도 마찬가지로「베이스부재(51)」라 한다), 격벽(53)이 뻗은 방향으로 소망의 길이의 베이스부재(51)가 얻어진다 (스텝 S17).
이 때, 상술한 격벽형성장치에 의한 격벽형성에 있어서, 원 노즐(44)로부터 페이스트의 토출 개시 직후에 형성되는 격벽(53)의 부위(즉, 베이스부재(51) 상에서 격벽형성의 시발점 근방의 격벽(53) 부위로서, 도 5 상에서 격벽(53)의 좌측 단부)는, 통상, 형상이 안정되어 있지 않아, 이러한 부위는, 스텝 S17에서의 베이스부재(51)의 절단에 의해 제거된다.
절단 후의 베이스부재(51)는, 전용의 치구에 세트된 뒤에, 베이스부재(51) 상의 격벽(53) 머리부(531)(도 6 참조)가 연마되어서 복수의 격벽(53) 높이가 일정하게 된다 (스텝 S18). 또한, 필요에 따라, 베이스부재(51)의 절단면도 연마된다. 그리고, 베이스부재(51)의 격벽(53)은 자외선 조사로 경화하기 때문에, 격벽(53)의 손상을 방지하면서 연마를 행할 수 있다.
그 후, 베이스부재(51) 상의 격벽(53)이 베이스부재(51)과 함께 약 550도 (℃)로 소성되어, 페이스트 중의 유기물(수지성분)이 제거됨과 동시에 저연화점 글라스프릿이 융착하고, 전체가 글라스로 형성되는 구조물이 얻어진다 (스텝 S19). 이 때, 각 격벽(53)은, 예를 들면 75%의 크기로 수축하고, 격벽(53)의 폭(W) 및 높이(H)는 (도 6 참조) 각각 90μm 및 2400μm로 된다. 소성 후의 격벽(53) 표면은 글라스프릿의 융착으로 매끈매끈해져 있다. 그리고, 소성 후의 격벽(53) 머리부(531)는 각(角)이 약간 곡성을 띠고 있으므로, 격벽(53) 소성 후에 전술한 연마 처리가 행해져서, 단면이 거의 직사각형인 격벽(53)이 형성되어도 무방하다.
격벽(53)이 소성되면, 거의 판형상인 덮개부재(54)가 베이스부재(51)에 대하여 고정되고 (스텝 S20), 도 8에 나타낸 바와 같이, 복수의 격벽(53) 머리부(531)가 덮개부재(54)에 접하면서 덮개부재(54)에 의해 덮혀진다. 이로써, 베이스부재(51) 상에서 서로 인접하는 두 개의 격벽(53)에 의해 끼인 공간의, 베이스부재(51) 반대측은 덮개부재(54)로 폐쇄되어, 격벽(53)에 따라 뻗는 유로(521) 및 유로(521)의 한쪽 개구인 토출구(52)가 형성된다 (도 2 참조). 실제로는, 베이스부재(51) 상에서 격벽(53)이 뻗는 방향에 수직한 배열 방향으로 100개의 격벽(53)이 배열되고 있어, 99개의 토출구(52)가 배열 형성된다.
또한, 격벽(53)의 배열 방향에 관하여, 덮개부재(54)의 양 단부 각각에는, 베이스부재(51)측으로 돌출한 측벽부(542)가 마련되어지고 있어, 가장 바깥측의 격벽(53a)과 측벽부(542)와의 사이에는 접착제(55)가 충전된다. 덮개부재(54)는, 측벽부(542)의 선단과 베이스부재(51)와의 사이에 접착제를 투여하거나, 덮개부재(54)과 베이스부재(51)를 파지하는 고정용의 부재를 별도 마련하는 등으로 해서, 베이스부재(51)에 대하여 고정된다. 그리고, 덮개부재(54)에는, 도 2에 나타낸 대향면(541)이 이미 형성되어 있다.
이렇게 하여, 복수의 격벽(53) 머리부에 접하면서 복수의 격벽(53)을 덮는 덮개부재(54)를 베이스부재(51)에 대하여 고정함으로써, 도 3에 나타낸 바와 같이(단, 도 3의 노즐(5)의 상하 방향은, 도 8의 노즐(5)과는 반대로 되어 있다), 종방향의 길이가 2400μm, 횡방향의 폭이 110μm로 되는 99개의 토출구(52)를 토출구 피치 200μm로 배열하여 갖는 노즐(5)이 완성된다.
여기에서, 미세한 토출구가 미소한 피치로 배열되는 노즐을 기계가공으로 제조할 경우, 서로 인접하는 토출구를 가르는 미세한 폭의 격벽을 미소한 피치로 배열 형성할 필요가 있지만, 이러한 가공은 용이하지 않고, 토출구의 갯수가 증대함에 따라서 노즐 제조과 관련된 수율이 낮아져, 노즐의 제조비용이 상승해 버린다. 이에 대해, 도 4의 노즐 제조방법에서는, 복수의 토출구(441)를 갖는 하나의 원 노즐(44)만을 소정의 방법으로 사전에 제작하여 격벽형성장치에 설치하고, 원 노즐(44)의 베이스부재(51)에 대한 상대이동과 병행하여, 원 노즐(44)로부터 베이스부재(51) 상에 페이스트를 토출하면서, 베이스부재(51) 상의 토출 직후의 페이스트를 경화시킴으로써, 베이스부재(51) 상에 복수의 격벽(53)이 배열 형성된다. 그리고, 복수의 격벽(53) 머리부(531)에 접하면서 복수의 격벽(53)을 덮는 덮개부재(54)가 베이스부재(51)에 대하여 고정됨으로써, 복수의 토출구(52)를 갖는 노즐(5)을 용이하고 저렴한 비용으로 제조할 수 있다.
또한, 격벽형성장치에서는, 원 노즐(44)의 베이스부재(51)에 대한 주주사, 그리고, 원 노즐(44)의 주주사와 병행하는 원 노즐(44)로부터의 페이스트 토출 및 토출 직후의 페이스트의 경화가, 원 노즐(44)을 Y방향으로 간헐적으로 이동하면서 복수의 회수로 되풀이됨으로써, 제조 대상의 노즐(5)과 비교하여 적은 갯수의 토출구(441)를 갖는 원 노즐(44)을 사용하여 다수의 격벽(53)을 베이스부재(51) 상에 용이하게 배열 형성할 수 있다.
도 4의 노즐 제조방법에서는, 페이스트가 저연화점 글라스프릿을 포함하고, 덮개부재(54)가 베이스부재(51)에 대해 고정되기 전에, 복수의 격벽(53)을 소성하여 저연화점 글라스프릿을 용융시킴으로써, 노즐(5)에 있어서 복수의 토출구(52)로 가르는 복수의 격벽(53)을 표면이 매끄럽고 (적어도, 절삭가공으로 형성되는 원 노즐(44)에 있어서의 격벽보다도 표면이 매끄럽게 된다) 견고한 글라스로 형성하여, 내구성를 갖는 노즐(5)을 제조할 수 있다.
노즐(5)을 사용한 패턴 형성장치(1)에서는, 표면이 매끈매끈한 격벽(53)으로 둘러싸인 유로(521) 및 토출구(52)를 갖는 노즐(5)로부터 패턴 형성재료를 토출함으로써, 기판(9) 상에 복수의 리브를 높은 정밀도로 형성할 수 있고, 더욱이, 내구성를 갖는 노즐(5)을 사용함으로써, 노즐(5)의 교환 빈도를 감소시켜서 기판(9)상에 있어서의 리브의 형성과 관계된 시간 및 비용을 삭감할 수 있다.
또한, 복수의 격벽(53)이 형성된 복수의 베이스부재(51)를 이용하여 보다 다수의 토출구(52)가 형성된 노즐이 형성되어도 된다. 예를 들면, 도 4의 스텝 S17에 있어서, 복수의 격벽(53)이 형성된 베이스부재(51)를 복수의 부분으로 절단하여, 각 베이스부재(51)(절단후의 각 부분)에 있어서 복수의 격벽(53) 머리부(531)와, 베이스부재(51)의 절단면 및 절단면에 수직한 하나의 측면을 연마한 후에 (스텝 S18), 복수의 베이스부재(51)가 소성된다 (스텝 S19). 그리고, 도 9에 나타낸 바와 같이, 단면이 대략 U자 형상이고 저부(561)가 평평한 지지부재(56) (예를 들면, 스텐인레스강으로 형성된다)가 준비되어, 복수의 베이스부재(51)(도9에서는, 2개의 베이스부재(51)를 간략화하여 도시하고 있다)가, 연마가 완료된 측면(511)을 서로 맞닿게 하면서 격벽(53)의 배열 방향 (즉, 도 9 상의 화살표(A1)로 나타낸 방향)으로 늘어선 상태로 접착제(55a)를 통해 지지부재(56)의 저부(561) 위에 고정된다. 이 때, 각 베이스부재(51)의 측면(511)과, 측면(511)에 가장 근접한 격벽(53b) 중앙과의 사이에서 배열 방향의 거리가, 격벽(53) 피치의 반으로 됨으로써, 복수의 베이스부재(51) 전체에서 복수의 격벽(53)이 일정한 피치로 배열 방향으로 늘어 놓을 수 있다.
도 9의 지지부재(56)에는, 배열 방향으로 늘어선 상태에 있는 복수의 베이스부재(51)에 있어서, 가장 바깥측의 각 격벽(53a)에 따라 저부(561)로부터 돌출한 측벽부(562)가 마련되어 있어, 측벽부(562)와 격벽(53a) 사이에도 접착제(55)가 충전된다. 그리고, 판 형상의 덮개부재(54a)가, 저부(561)위로 늘어선 복수의 베이스부재(51)의 각 격벽(53) 머리부(531)에 접하면서, 복수의 격벽(53)을 덮도록 해서 지지부재(56)에 장착되어, 복수의 베이스부재(51)에 대하여 고정된다 (스텝 S20). 이처럼, 복수의 격벽(53)이 형성된 복수의 베이스부재(51)가 배열 방향으로 늘어선 뒤, 덮개부재(54a)가 복수의 베이스부재(51)에 대하여 고정됨으로써, 다수의 토출구(52)를 갖는 노즐(5a)를 용이하게 제조할 수 있다.
또한, 도 8에 나타낸 노즐(5)에 있어서, 덮개부재(54)가, 동일한 복수의 격벽(53)이 형성된 다른 베이스부재(51)로 되어, 토출구(52)의 종횡비가 더 높은 노즐이 제조되어도 된다. 예를 들면, 도 4의 노즐 제조방법에 있어서, 스텝 S17에서 격벽(53)이 형성된 베이스부재(51)를 절단하여, 같은 수의 격벽(53)를 갖는 두 개의 베이스부재(51)를 얻고, 각 베이스부재(51)에 있어서 복수의 격벽(53) 머리부를 연마한 후에 (스텝 S18), 복수의 베이스부재(51)가 소성된다 (스텝 S19). 그리고, 각 베이스부재(51)가, 도 9의 노즐(5a)과 같이 저부(561) 및 측벽부(562)를 갖는 지지부재(56)에 접착제(55a)를 통해 고정되어 (여기서는, 하나의 베이스부재(51)가 지지부재(56)에 고정된다), 도 10에 나타낸 바와 같이, 한쪽 베이스부재(51)(도10 상의 상측 베이스부재(51))의 복수의 격벽(53) 머리부(531)가, 다른 쪽 베이스부재(51)(도10 상의 하측 베이스부재(51)) 상의 복수의 격벽(53) 머리부(531)에 각각 접하면서, 양쪽 베이스부재(51)가 지지부재(56)를 개재하여 서로 고정된다. 이렇게, 같은 수의 격벽(53)를 갖는 두 개의 베이스부재(51)의 한쪽을, 덮개부재로서 다른 쪽 베이스부재(51)에 대하여 고정함으로써, 종횡비가 높은 토출구(52)를 갖는 노즐(5b)을 용이하게 제조할 수 있다. 또한, 도 8의 노즐(5) 제조시에 제작된 격벽(53)의 높이가 2400μm가 되는 베이스부재(51)를 사용하여 노즐(5b)을 제조할 경우에는, 토출구(52)의 높이는 4800μm가 된다.
이상, 본 발명의 실시 형태에 대하여 설명해 왔지만, 본 발명은 상기 실시 형태에 한정되지 않고, 여러가지 변형이 가능하다.
상기 실시 형태에서는, 복수의 토출구(441)를 갖는 원 노즐(44)을 사용함으 로써, 원 노즐(44)의 한 번의 주주사로 복수의 격벽(53)을 베이스부재(51) 상에 용이하게 배열 형성할 수 있지만, 격벽형성장치로는, 하나의 토출구만을 갖는 원 노즐(44)이 마련되어서, 원 노즐(44)을 Y방향으로 간헐적으로 이동하면서 원 노즐(44)의 베이스부재(51)에 대한 주주사를 되풀이하는 것에 의해, 베이스부재(51) 상에 복수의 격벽(53)이 배열 형성되어도 된다. 다시 말해, 적어도 하나의 토출구를 갖는 원 노즐을 토출구로부터 페이스트를 토출하면서 베이스부재(51)의 주면에 따라 베이스부재(51)에 대하여 상대적으로 이동함으로써, 베이스부재(51) 상에 복수의 격벽(53)을 배열 형성하는 것이 가능해지고, 복수의 토출구(52)를 갖는 노즐(5)을 제조할 수 있다.
격벽형성장치에서는, 스테이지(20)위의 베이스부재(51)가 원 노즐(44)에 대하여 X방향으로 이동하지만, 원 노즐(44)을 스테이지(20)에 대하여 X방향으로 이동하는 기구가 마련되어도 된다. 또한, 원 노즐(44)의 Y방향으로의 이동은, 스테이지(20)을 Y방향으로 이동하는 기구에 의해 실현되어도 된다. 다시 말해, 격벽형성장치에 있어서 원 노즐(44)의 베이스부재(51)에 대한 X방향 및 Y방향으로의 상대적인 이동은, 어떠한 기구에서 실현되어도 된다.
상기 실시 형태에서의 원 노즐(44)의 토출구(441)의 형상은 하나의 예에 지나지 않고, 제조되는 노즐 격벽의 형상이나 피치, 원 노즐(44)로부터 토출된 페이스트가 경화할 때까지의 변형량(페이스트의 점도 등에 의존하는 변형량), 도 4의 스텝 S18에 있어서의 격벽의 연마량 혹은 격벽(53)의 소성 시의 변형량 (통상, 70 ∼80%로 수축한다) 등에 응하여, 적당히 변경되어서 된다.
원 노즐(44)로부터 토출되는 페이스트는, 격벽의 표면이 매끄러우면서 내구성를 갖는 노즐을 제조한다고 하는 관점에서는, 저연화점 글라스프릿을 포함하는 것이 바람직하지만, 베이스부재(51)의 재료 등에 따라서는, 소성 시에 저연화점 글라스프릿보다 고온에서 가열할 필요가 있는 고연화점 글라스프릿이나 금속의 미립자를 포함하는 것도 좋고, 또한, 제조되는 노즐로부터 토출되는 재료의 종류에 따라서는, 예를 들면, 자외선경화성를 갖는 수지 그 자체라도 좋다. 또한, 종횡비가 높은 격벽을 형성하기 위해서는, 원 노즐(44)로부터 토출되는 페이스트는 토출 직후에 경화할 필요가 있지만, 페이스트의 경화는 광개시제가 페이스트에 첨가되어서 빛의 조사에 의해 실현되는 이외에, 열에 의해 경화하는 수지 등이 페이스트에 첨가되어, 토출 직후의 페이스트가 적절히 가열됨으로써 실현되어도 된다.
노즐 5, 5a, 5b에서는, 복수의 미세한 토출구(52)가 미소한 피치로 배열되기 때문에, 패턴 형성장치(1)에 있어서의 리브 형성에 특히 적합하지만, 리브 형성이외에 다른 용도에 사용하는 것도 가능하다.
이 발명을 상세하게 묘사하여 설명했지만, 기술의 설명은 예시적이며 한정적인 것은 아니다. 따라서, 이 발명의 범위를 일탈하지 않는 한, 다수의 변형이나 형태가 가능할 것이 이해된다.
본 발명에 의하면, 복수의 토출구를 갖는 노즐을 용이하게 제조할 수 있다.
또한, 복수의 토출구를 가르는 복수의 격벽의 표면이 매끈매끈하면서 내구성 을 갖는 노즐을 제조할 수 있으며, 복수의 격벽을 베이스부재상에 용이하게 배열형성할 수 있다.
그리고, 다수의 토출구를 갖는 노즐을 용이하게 제조할 수 있으며, 어스팩트비가 높은 토출구를 갖는 노즐을 용이하게 제조할 수 있다.
Claims (9)
- 복수의 토출구를 갖는 노즐을 제조하는 노즐 제조방법으로써,a) 적어도 하나의 토출구를 갖는 원 노즐을 소정의 방향으로 베이스부재에 대해 상대적으로 이동하고, 상기 원 노즐의 상기 베이스부재에 대한 상대이동과 병행하여, 상기 원 노즐로부터 상기 베이스부재상에 격벽형성용의 페이스트를 토출하면서, 상기 베이스부재상의 토출 직후의 페이스트를 경화시킴으로써, 상기 베이스부재상에 있어서 각각이 상기 소정의 방향으로 뻗은 복수의 격벽을 상기 소정의 방향에 수직한 방향으로 배열 형성하는 공정과,b ) 상기 베이스부재상의 상기 복수의 격벽 머리부에 접하면서 상기 복수의 격벽을 덮는 덮개부재를 상기 베이스부재에 대해 고정하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 노즐 제조방법.
- 제 1항에 있어서,상기 원 노즐의 상기 적어도 하나의 토출구가, 복수의 토출구인 것을 특징으로 하는 노즐 제조방법.
- 제 1항에 있어서,상기 a)공정은,a1) 상기 원 노즐을 상기 소정의 방향으로 상기 베이스부재에 대하여 상대적으로 이동하는 공정과,a2) 상기 a1)공정과 병행하여, 상기 원 노즐로부터 상기 베이스부재상에 상기 페이스트를 토출하면서, 상기 베이스부재상의 토출 직후의 페이스트를 경화시키는 공정과,a3) 상기 원 노즐을 상기 소정의 방향에 수직한 방향으로 상기 베이스부재에 대하여 상대적으로 이동한 후, 상기 a1)공정 및 상기 a2)공정을 되풀이함으로써, 상기 베이스부재 위에 상기 복수의 격벽을 배열 형성하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 노즐 제조방법.
- 제 1항에 있어서,상기 b)공정에 있어서, 상기 베이스부재와, 상기 베이스부재와 동일하게 복수의 격벽이 형성된 또다른 하나의 베이스부재가 상기 소정의 방향에 수직한 방향으로 늘어놓인 뒤, 상기 덮개부재가 상기 베이스부재 및 상기 또다른 하나의 베이스부재에 대하여 고정되는 것을 특징으로 하는 노즐 제조방법.
- 제 1항의 노즐 제조방법에 있어서,상기 덮개부재가, 상기 베이스부재의 상기 복수의 격벽과 같은 수의 격벽를 갖는 또다른 하나의 베이스부재이고,상기 b)공정에 있어서, 상기 또다른 하나의 베이스부재의 복수의 격벽 머리부가, 상기 베이스부재상의 상기 복수의 격벽의 상기 머리부에 각각 접하면서, 상기 또하나의 베이스부재가 상기 베이스부재에 대하여 고정되는 것을 특징으로 하는 노즐 제조방법.
- 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항 기재의 노즐 제조방법에 있어서,상기 페이스트가, 글라스의 분체를 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐 제조방법.
- 제 6항에 있어서,상기 글라스의 분말이 저연화점 글라스프릿이며,상기 a)공정과 상기 b)공정과의 사이에, 상기 베이스부재상에 상기 복수의 격벽을 소성하는 공정을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 노즐 제조방법.
- 복수의 토출구를 갖는 노즐로서,베이스부재와,적어도 하나의 토출구를 갖는 원 노즐을 소정의 방향으로 베이스부재에 대하여 상대적으로 이동하고, 상기 원 노즐의 상기 베이스부재에 대한 상대이동과 병행하여, 상기 원 노즐로부터 상기 베이스부재상에 격벽형성용의 페이스트를 토출하면서, 상기 베이스부재상의 토출 직후의 페이스트를 경화시킴으로써, 상기 베이스부재상에 있어서 각각이 상기 소정의 방향으로 뻗음과 동시에 상기 소정의 방향에 수직한 방향으로 배열 형성된 복수의 격벽과,상기 베이스부재상의 상기 복수의 격벽 머리부에 접하면서 상기 복수의 격벽을 덮으면서, 상기 베이스부재에 대하여 고정되는 덮개부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 노즐.
- 제 8항에 있어서,상기 페이스트가, 글라스의 분체를 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐.
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