KR20070092169A - 각종 피부 관리 및 치료용 자급 제어형 펄스 광 이미터 및그 방법 - Google Patents

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파울 펄
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Abstract

피부 관리, 진피 적용분야, 및 국소 치료에 유용한 자급 제어형 펄스 광 이미터는, 광원을 물리적으로 변경하지 않고 전자적 조작을 통해 광대역 광 스펙트럼을 선택적으로 최적화하여, 시간 방전을 통한 광 에너지의 변화에 무관하게 스펙트럼을 유지하도록 구성된다. 이미터는 치료 대상의 피부의 소정 영역을 조광하기 위한 제어된 펄스 광을 제공하는 플래시 램프 또는 방전 램프 등의 광원; 및 피부 관리 적용 분야 및 치료와 출력 에너지의 강도를 선택하도록 구성되는 디스플레이를 포함한다.
피부 관리, 적외선 치료, 플래시, 국소 치료, 혈관 치료

Description

각종 피부 관리 및 치료용 자급 제어형 펄스 광 이미터 및 그 방법{SELF-CONTAINED CONTROLLED PULSED LIGHT EMITTER FOR DIVERSE SKIN CARE AND TREATMENT AND A METHOD THEREOF}
도 1은 플랑크 법칙에 따라서 주어진 출력 에너지에서 다양한 흑체 온도에 대한 플래시 펄스의 스펙트럼 에너지를 나타내는 도면.
도 2는 본 발명의 장치의 바람직한 실시예를 나타낸 간략화된 전원 회로 이론의 개략도.
도 3은 본 발명의 이미터에서 방출되는 2개의 상이한 광대역 스펙트럼 광의 스펙트럼을 나타낸 도면.
본 발명은 일반적으로 각종 피부 관리 및 치료용 자급 제어형 펄스 광 이미터에 관한 것이다. 더 구체적으로, 본 발명은 상이한 광대역 스펙트럼을 필요로 하는 상이한 적용 예에 대하여 물리적으로 광원을 변경하지 않고 상기 이미터를 활용하기 위하여, 전자적 조작을 통해 광대역 광 스펙트럼을 선택적으로 최적화할 수 있는 능력에 관한 것이다.
플래시 램프는 매우 짧은 주기 동안 매우 강하고, 비간접성의(incoherent), 풀-스펙트럼의 백색광을 생성하기 위하여 설계된 글로 방전 램프이다.
이 램프는 주로 제논(xenon)인 가스 혼합물로 충진되어 때로는 용해된 석영으로 이루어지는 밀봉된 튜브, 및 전류를 가스 혼합물에 전달하는 전극들을 구비한다. 또한, 가스 혼합물을 활성화하기 위하여 고전압 전원이 필요하다; 이 고전압은 램프가 작동될 때 매우 높은 전류의 매우 빠른 전달이 이루어지도록 주로 커패시터에 저장된다.
전극들은 튜브의 각 단부쪽으로 돌출되어, 비교적 고전압으로 충전된 커패시터에 접속된다. 이는 주로 튜브 길이와 특정의 가스 혼합물에 따라서, 100 내지 2000 볼트 사이이다.
플래시는 가스 혼합물을 먼저 이온화한 후, 이온화된 가스를 통해 매우 큰 펄스의 전류를 보냄으로써 시작된다. 수천 암페어 정도까지 측정되는 펄스가 튜브를 통해 횡단하도록 가스의 전기 저항을 감소시키기 위해 이온화가 필요하다. 초기 이온화 펄스, 또는 트리거 펄스는 내부 전극들 중 하나에 또는 글래스 튜브 주위에 둘러싸인 금속 밴드 또는 배선에 인가될 수 있다. 트리거 펄스가 인가되는 때에, 가스가 이온화되어, 튜브를 통해 커패시터가 즉시 방전한다. 이 전류 펄스가 튜브를 통해 횡단하는 때에, 가스 원자들 주위의 전자들을 여기시켜, 이들을 더 높은 에너지 준위에 점핑시킨다. 원자들의 전자들은 더 낮은 궤도로 즉시 떨어져, 광자를 계속 생성하고, 이는 바람직하게는 자외선에서부터 적외선까지 이르는 파장 범위의 고 에너지 전자기파의 방출 또는 "플래시"를 가져온다.
플래시 램프에서 방사되는 섬광(flash)은 매우 강해서, 튜브의 단거리 내의 발화성 물질을 점화시킬 수 있다. 탄소 나노튜브는 플래시 튜브로부터의 광(光)에 노출되는 경우 이러한 자발 점화에 특히 취약하다. 모발 제거, 문신 제거, 표피 재생, 및 상처나 사마귀의 괴멸 등의 미적 또는 의학적 절차에서의 사용을 위해 마찬가지의 효과가 이용될 수 있다. 보통 플래시 램프의 방전 주기는 마이크로초(microsecond) 내지 수 밀리초(millisecond)의 범위이며, 수백 헤르츠의 반복률을 가질 수 있다. 이러한 에너지의 방전은 치료로서 작업자 또는 임상 치료사에 의해 적합한 장치를 통해 환자의 피부에 적용된다.
미국 특허출원 제2005133740호에서는 가변 파장 자외선 램프를 개시하고 있으며, 복수의 파장 분포의 광 중 하나 이상을 선택적으로 생성하는 장치를 제공한다. 램프는 1차 파장 분포를 갖는 1차 광원, 1차 광원에 의한 조명에 반응하여 1차 광 파장 분포와 상이한 파장 분포를 갖는 2차 광을 생성하는 적어도 하나의 파장 변환재를 구비한다. 파장 변환재는 1차 광원 외부의 기판에 배치되며, 선택된 파장 변환재들이 1차 광 파장 분포와 상이한 파장 분포를 갖는 광을 장치로부터 방출하도록, 하나 이상의 선택된 파장 변환재들 중 적어도 일부분을 장치로부터 선택된 선호하는 광 방출 방향으로 1차 광원 앞에 위치시키기 위한 파장 변환재 선택 메카니즘에 배치된다.
일본 특허 제9099107호에서는 전자기 의료 치료를 위한 방법 및 장치를 개시하고 있다. 피부 의료 치료 장치는 외부 글래스 튜브를 갖는 광원이 하우징 내의 타원 반사기의 초점에 배치되도록 구성되며, 바람직하게는 가스 충진된 선형 플래 시 램프가 광원으로 사용된다. 반사기는 피부의 치료 영역이 또 다른 초점에 있도록 위치되며, 스펙트럼, 광 강도를 제어하기 위한 한 쌍의 광학 필터(18), 및 조리개가 반사기의 광원에 대향하는 측의 개구부에 배치된다. 피부 상에서 반사된 광은 검출 장치에 의해 감시되며, 감시 결과에 따라서, 사용자 인터페이스에 접속된 마이크로프로세서에 의해 최적의 의료 치료 조건이 판정된다.
일본 특허 제2226651호에서는 플래시 램프 방전 장치가 개시되어 있다. 플래시 방전 장치의 플래시 방전 튜브는 2 종류 이상의 상이한 이온화 포텐셜을 갖는 혼합 가스를 밀봉할 수 있는 밀폐된 글래스 밀봉체(envelope)를 갖는다. 루트로부터 트리거 신호가 인가되는 때에, 스위칭이 시작되고, 주 커패시터의 에너지가 부분적으로 부스터의 코일에 더해져, 밀봉체 내의 한 종류의 가스를 이온화하기에 충분한 크기의 코일의 전압이 전극을 통해 가스에 인가된다. 가스가 이온화되면, 그 전기 저항은 감소하며, 주 커패시터의 에너지가 방전 튜브로부터 특정 스펙트럼 분포를 갖는 플래시 광의 형태로서 발생한다.
따라서, 각종 피부 관리 및 치료를 위한 비용효율적으로 제어되는 펄스 광 이미터 및 그 방법은 오랫동안 느꼈던 필요에 부합하는 것이다. 왜냐하면, 종래 기술의 참조문헌들 중 어느 것도, 상이한 광대역 스펙트럼을 필요로 하는 상이한 적용예들에 이미터를 활용하기 위하여, 물리적으로 램프를 변경하지 않고 전자적 조작을 통해 광대역 광 스펙트럼을 선택적으로 최적화하는 이미터를 개시하고 있지 않기 때문이다. 또한, 어느 문헌에서도 시간 방전을 통한 광 에너지의 증가와 무관하게 이러한 스펙트럼을 유지하도록 구성되는 이미터를 인용하고 있지 않았다.
따라서, 본 발명의 목적은 광원을 물리적으로 변경하지 않고 전자적 조작을 통해 광대역 광 스펙트럼을 선택적으로 최적화도록 구성되어, 시간 방전을 통한 광 에너지의 변경에 무관하게 상기 스펙트럼을 유지하는, 피부 관리, 진피(dermal) 적용분야, 및 국소 치료용 자급 제어형 펄스 광 이미터로서, 치료 대상의 피부의 소정 영역을 조광하기 위한 제어된 펄스 광을 제공하는 플래시 램프 또는 방전 램프(62) 등의 광원; 및 (a) 진피 적용분야 및 국소 치료를 선택하고, (b) 출력 에너지의 강도를 선택하도록 구성되는 디스플레이를 구비한 자급 제어형 펄스 광 이미터을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 광원을 물리적으로 변경하지 않고 제어형 펄스 광 이미터를 수단으로 다양한 피부 관리 및 치료를 위해 전자적 조작을 통해 광대역 광 스펙트럼을 선택적으로 최적화하는 방법으로서, 시간 방전을 통한 광 에너지의 변경에 무관하게 스펙트럼을 유지하는 단계를 포함하는 최적화 방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 각종 개조 및 대체의 형태가 가능하지만, 도면들의 예를 통해서 그 특정 실시예들을 도시하였으며, 본 명세서에서 상세하게 설명하였다. 그러나, 이는 본 발명을 개시된 특정 형태에 한하고자 한 것이 아니라, 이와 반대로, 본 발명은 첨부된 청구범위에 정의된 바와 같이 본 발명의 개념과 범주 내에 속하는 모든 개조 예, 균등물, 및 대체 예들을 포괄하고자 의도된 것이다.
본 발명을 이해하고, 실제로 어떻게 실현될 수 있는지를 파악하기 위하여, 첨부 도면을 참조하여 이에 한하지 않는 예를 통해 몇몇 실시예들을 이하에 설명한다.
이하의 설명은 본 발명의 모든 장들에 있어서 당업자가 본 발명을 이용할 수 있도록 제공되며, 본 발명을 실시하는 발명자가 구상한 최적의 실시예를 기재한 것이다. 그러나, 본 발명의 포괄적인 원리는 특정적으로 다양한 피부 관리 및 치료용 자급 제어형 펄스 광 이미터 및 그 방법을 제공하도록 정의되었으므로, 다양한 개조예들이 당업자에게 자명할 것이다.
이하, "약(about)"이라는 용어는 정의된 측정치의 ±20%의 허용오차를 칭한다.
이하, "다양한 피부 관리, 적용분야(application), 및 치료"이라는 용어는, 이에 한하지 않지만, 피부 재생, 활성 여드름 치료, 혈관 및 색소 장애를 포함하는 모발 제거 등의 미용 또는 피부 치료, 또는 피부의 의학적 장애의 치료를 칭한다.
이하, "광 방출(light emission)"이라는 용어는 임의의 파장의 전자기 방사를 칭하며, 바람직하게는, 광 방출은 약 500 nm 내지 약 800 nm의 범위, 또는 약 600 nm 내지 약 1000 nm의 범위에 있으며, 적외선 광은 약 800 nm 내지 약 1,800 nm의 범위에 있다.
이하, "자급(self-contained)"라는 용어는 다수의 광대역 방출을 허용하는 단일의 핸드피스(handpiece)를 칭한다.
고전적인 자유 방전 회로에 있어서, 램프를 횡단하는 전류는 자유로우며, 플 래시 펄스를 따라서 변화한다. 광 스펙트럼 또한 플래시 펄스 기간에 변화하며, 더욱이, 전류는 매우 높다. 출력광은 약 8,000K 내지 12,000K 의 흑체 온도의 큰 UV 방출로서 매우 파랗고, 플래시 주기는 매우 짧으며, 일반적으로 1 내지 수 ms 이다.
본 발명에 있어서, 이미터는 소망하는 광 스펙트럼에서 일정하고 제어된 광대역의 광학적 빛을 전달하도록 구성된다. 얻어진 펄스광은 이러한 주어진 광 스펙트럼에 대하여 소망하는 출력 에너지를 선택함으로써 치료의 효율성을 증대시킨다. 본 시스템은 일정한 전류 방전과 전체 펄스에 걸쳐서 안정된 스펙트럼 출력을 제공한다.
본 시스템은 간단한 스위치 조작을 통해서 적어도 3중의 광대역 방출을 허용하는 단일의 핸드피스이다. 예를 들어, 가시광에 있어서, 스펙트럼 방출은 약 500 내지 약 800 nm의 범위, 또는 약 600 내지 약 1,000 nm의 범위에 있으며, 적외선 광에 있어서 약 800 내지 약 1,800 nm의 범위에 있다.
본 시스템은 진피에의 가열 효과를 제한하도록 효율적인 피부 냉각을 사용한다.
본 발명에서 기술하는 시스템의 적용분야는 다양하다. 예를 들어, 적외선 방출로서는, 피부 타이트닝(tightening), 콜라겐 자극, 또는 안면 성형, 주름, 임신선, 여드름 자국, 등의 광범위한 피부 장애들이 수행될 수 있다. 가시광 방출로서는, 모발 제거, 색소, 및 혈관 장애가 치료될 수 있다.
이러한 단일 시스템은 적어도 3개의 상이한 프로그램을 포함할 수 있다. 예 컨대, 옵션 I은 장범위 파장 및 중간범위 펄스폭을 선택하며; 옵션 II는 장범위 파장 및 단범위 펄스폭을 선택하며; 옵션 III은 중간범위 파장 및 장범위 펄스폭을 선택한다.
플래시 램프용 제어장치는 주파수, 비율(rate), 및 소망하는 적용 시간에 무관하게 램프에 의해 방사되어야 하는 파장 범위와 에너지량을 작업자가 쉽게 결정할 수 있도록 램프 동작을 제어하는 회로를 포함한다.
본 장치는 적절히 간략화한다면 보통 플래시 또는 방전 램프, 코일, 및 전술한 플래시 램프가 겪는 전압(tension)을 결정하며, 전원에 접속되는 충전 콘덴서를 포함한다. 본 회로는 또한 램프가 트리거되는 때에 방전 전류가 통하는 전력 다이오드를 포함한다.
본 회로는 램프의 충전 회로를 자극하고 통제하는 흐름 및 비율(rate) 제어의 메커니즘을 포함한다. 연속적이고 매우 고속의 전류 증가 및 감소 과정을 교번함으로써 수개의 변조된 전류 피크를 갖는 단일의 펄스가 제공된다. 이로 인해, 램프를 통해 순환하는 전류가 감지가능하게 일정하게 되는 동안, 램프의 플라즈마의 온도가 유지되어, 광 스펙트럼이 일정하게 되는 것으로 알 수 있다. 프로그램 유닛은 예를 들어 5 ms 내지 240 ms 사이에서 필요로 하는 시간 동안 이 과정을 수행하여, 소망하는 에너지를 측정한다. 이러한 전류 제어는 좁은 최대 최소 임계치 사이에서 수행되어, 램프 출력을 통제함으로써 광 스펙트럼 주파수를 최적화한다. 필요 에너지량은 펄스의 주기를 조절함으로써 얻어진다.
도 1을 참조하면, 플랑크 법칙에 따라서 주어진 출력 에너지에 있어서 다양 한 흑체 온도에 대한 플래시 펄스의 스펙트럼 에너지를 나타낸다.
예를 들어, 약 500 내지 약 900 nm의 주어진 스펙트럼 대역에 대한 출력 에너지는, 곡선 아래의 500 nm의 파장에서부터 900 nm의 파장까지의 영역이다. 약 12,000K의 흑체 온도에 있어서, 약 200 nm에서 약 500 nm까지에서 대용량의 에너지가 소모되며, 약 500 nm에서 약 900nm까지의 범위의 출력 에너지는 낮다. 반면, 약 3,500K의 온도에서, 출력 에너지는 주로 적외선 근처에 있다. 5,700K 온도는 500 내지 900 nm 대역의 최대 출력 에너지를 제공한다. 다른 스펙트럼 대역에 대하여 동일한 최적화가 용이하게 성취될 수 있다.
흑체 온도(T)가 최적화되어, 스테판 법칙(Pd = σ*T4)에 따라서 플래시 램프 내의 필요한 전력밀도(Pd)가 계산된다.
전력밀도는 램프 내의 전력(P)을 램프의 내부 활성 표면, 예컨대, 램프의 내부 주변 길이와 호의 길이를 곱한 값으로 나눈 것이다. 따라서, 램프의 물리적 파라미터들로부터 P가 계산될 수 있다. 램프 내의 전력(P)은 P = K0 * I(3/2)와 같다. K0는 램프의 임피던스로서 램프의 기하학적 형태, 가스, 및 충진 압력에 의존한다. K0 는 주어진 램프에서 일정하며, I는 램프를 횡단하는 전류이다. 방전 전류를 제어하는 능력은 광의 출력 스펙트럼을 최적화하는 능력을 제공한다. 방전 전류의 제어는 주어진 스펙트럼 대역에서 램프의 스펙트럼을 최적화한다. 램프는 일정한 전력(watt)에서 동작하고 있다. 플래시 펄스 주기에 의해 출력 에너지가 조절된다.
예를 들어, 모발 제거 모드에 있어서, 약 8 J/cm2 내지 약 34 J/cm2 사이에 서 출력 에너지가 조절될 수 있으며, 피부 재건 모드에서, 약 12 J/cm2 내지 약 40 J/cm2 의 사이에서 에너지가 변화할 수 있으며, 혈관 치료 모드에서, 약 20 J/cm2 내지 약 61 J/cm2 의 사이에서 에너지가 변화할 수 있다.
광원은 상용으로 활용가능한 일렉트로닉 골드마인사(Electronic Goldmine, AZ, USA)의 수정 제논 플래시 램프 모델 G5109 등의 임의의 적합한 플래시 램프 또는 가스 방전 아크 램프일 수 있다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예의 간략화된 회로를 나타낸다. 이 전자 회로는 전원에 접속된 충전 콘덴서(C), 코일(L), 플래시 램프, 및 전력 다이오드(D)를 포함한다. 본 회로는 아날로그 신호를 디지털 신호로 변환한다. 본 회로는 자기장 밀도의 변화에 따라서 출력 전압이 변화하는 전자 장치인 홀 효과 센서를 구비한다. 이 센서는 전류를 감지한다. 본 회로는 또한 출력 또는 입력 데이터를 임시로 저장하기 위해 사용되는 메모리인 버퍼, 마이크로프로세서, 및 프로그램가능한 논리 성분 또는 프로그램가능한 상호연결을 갖는 반도체 장치인 FPGA(field-programmable gate array)를 구비한다. 초기 상태에서, Q가 턴온된다. 램프를 횡단하는 전압은 주 커패시터를 횡단하는 전압과 동일하다. 그 후, 플래시 램프가 외부 트리거 회로를 통해 트리거된다. L, 플래시 램프, 및 Q를 횡단하여 전류가 흐른다. 전류가 프로그램가능한 최대 전류 임계치(Ith high)에 도달하는 경우, Q가 턴오프된다. L, 플래시 램프, 및 D를 횡단하여 전류가 흐른다. 전류는 프로그 램가능한 최소 전류 임계치(Ith low)에 도달할 때까지 감소한다. 그 후, Q "스위치"가 다시 턴온된다. 이 루프는 필요한 플래시 주기 동안 반복된다. 바람직하게는, 다색성(polychromatic) 펄스의 주기는 약 5 밀리초와 약 2,500 밀리초 사이이다.
본 기술은 필요로 하는 적용예에 따라서 소망하는 방전 시간에서 소망하는 전류량을 전달하는 능력을 갖는다. 단일의 핸드피스 시스템상에서 모든 적용예들이 성취된다.
본 기술은 플래시 주기를 따라서 매우 일정한 출력 스펙트럼; 주어진 스펙트럼 범위에 대하여 출력 에너지를 최적화하는 능력; 열 효과를 더욱 잘 처리하는 더 긴 펄스들을 허용한다. 포커스된 광대역 스펙트럼 광은 핸드피스를 통해 피부의 표면에 적용된다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 이미터에 의해 방출되는 2개의 상이한 광대역 스펙트럼에 대한 광의 스펙트럼을 나타낸다. 옵션 1은 5,700K의 흑체 온도에서 짧은 펄스 방출을 나타내며, 옵션 3은 3,000K의 흑체 온도에서 긴 펄스 방출을 나타낸다.
또한, 본 방법은 핸드피스 시스템에 배치된 칩 메모리를 수단으로 주요 유닛을 변경하지 않고 프로그램가능한 소프트웨어를 업그레이드하는 것을 포함한다. 이 칩 메모리는 상이한 전류, 시간, 및 에너지 변화의 변수를 포함한다.
본 기술은 필요로 하는 적용예에 따라서 소망하는 방전 시간에서 소망하는 전류량을 전달하는 능력을 갖는다. 단일의 핸드피스 시스템상에서 모든 적용예들이 성취된다.
본 기술은 플래시 주기를 따라서 매우 일정한 출력 스펙트럼; 주어진 스펙트럼 범위에 대하여 출력 에너지를 최적화하는 능력; 열 효과를 더욱 잘 처리하는 더 긴 펄스들을 허용한다. 포커스된 광대역 스펙트럼 광은 핸드피스를 통해 피부의 표면에 적용된다.

Claims (16)

  1. 광원을 물리적으로 변경하지 않고 전자적 조작을 통해 광대역 광 스펙트럼을 선택적으로 최적화도록 구성되어, 시간 방전을 통한 광 에너지의 변경에 무관하게 상기 스펙트럼을 유지하는, 피부 관리, 진피(dermal) 적용분야, 및 국소 치료용 자급 제어형 펄스 광 이미터로서,
    치료 대상의 피부의 소정 영역을 조광하기 위한 제어된 펄스 광을 제공하는 플래시 램프 또는 방전 램프(62) 등의 광원; 및
    상기 피부 관리, 진피 적용분야, 및 국소 치료를 선택하고, 출력 에너지의 강도를 선택하도록 구성되는 디스플레이
    를 포함하는 펄스 광 이미터.
  2. 제1항에 있어서,
    작업자가 주파수, 비율(rate), 및 소망하는 적용 시간에 의존하지 않고, 상기 광원에 의해 방출되어야 하는 에너지의 량 및 파장의 범위를 용이하게 결정할 수 있도록 광원 동작을 제어하는 회로를 갖는 제어부를 더 포함하는 펄스 광 이미터.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 회로는,
    상기 광원이 겪는 전압(tension)을 결정하도록 구성되는 전원에 접속된 하나의 충전 콘덴서 및 적어도 하나의 코일; 및
    상기 광원이 트리거되는 때에 상기 방전 전류가 통과하는 적어도 하나의 전력 다이오드 및 하나의 전력 스위치
    를 더 포함하는 펄스 광 이미터.
  4. 제1항에 있어서,
    주요 유닛을 변경하지 않고 업그레이드 되도록 구성되는 칩 메모리를 더 포함하는 펄스 광 이미터.
  5. 제1항에 있어서,
    피부의 과열을 막기 위하여 효과적인 피부 냉각기를 더 구비하는 펄스 광 이미터.
  6. 제어형 펄스 광 이미터를 수단으로 광원을 물리적으로 변경하지 않고 다양한 피부 관리 및 치료를 위해 전자적 조작을 통해 광대역 광 스펙트럼을 선택적으로 최적화하는 방법으로서,
    시간 방전을 통한 광 에너지의 변경에 무관하게 상기 스펙트럼을 유지하는 단계를 포함하는 최적화 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    치료되는 피부에 최선의 열 효과를 유도하도록 파장, 에너지, 노출 시간, 및 비율(rate) 등의 광학적 파라미터들을 선택하는 단계를 포함하는 최적화 방법.
  8. 제6항에 있어서,
    출력 스펙트럼을 최적화하기 위하여 제조 전에 계산된 데이터베이스를 정의하는 단계를 포함하며, 상기 데이터베이스를 정의하는 단계는
    a. 치료에 따라서 광대역 스펙트럼을 선택하는 단계;
    b. 주어진 스펙트럼 대역에 대하여, 출력 에너지를 최대화하는 플라즈마의 온도를 결정하는 단계;
    c. 최적화된 온도에 대하여 상기 광원 내에의 필요한 전력 밀도를 계산하는 단계; 및
    d. 필요한 방전 전류를 계산하는 단계
    를 포함하여, 상기 방전 전류의 제어가 상기 광의 출력 스펙트럼을 최적화하는 능력을 제공하는 최적화 방법.
  9. 제6항에 있어서,
    전류 변화가 전력 변화를 가져오고, 이 전력 변화가 온도 변화 및 상기 광 스펙트럼의 천이를 가져오도록, 활용 단계에서 상기 광원을 횡단하는 필요한 방전 전류를 설정하는 단계를 포함하는 최적화 방법.
  10. 제6항에 있어서,
    방전 과정으로 연속적이고 매우 고속의 변화 과정을 교번함으로써 수개의 변조된 전류 피크를 갖는 단일 펄스를 제공하는 단계를 포함하는 최적화 방법.
  11. 제6항에 있어서,
    상기 광원이 비교적 일정한 전력에서 동작하는 경우, 플래시 펄스 주기에 의해 출력 에너지를 조절하는 단계를 포함하는 최적화 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 출력 에너지는 약 6 내지 65 J/cm2 의 범위 내에 있는 최적화 방법.
  13. 제6항에 있어서,
    핸드피스 시스템에 배치된 칩 메모리를 수단으로 주요 유닛을 변경하지 않고 프로그램가능한 소프트웨어를 업그레이드하는 단계를 더 포함하는 최적화 방법.
  14. 제6항에 있어서,
    약 500 nm 내지 약 800 nm의 최적화된 광대역 스펙트럼의 제어된 방사에 의해 혈관 치료에 사용되는 최적화 방법.
  15. 제6항에 있어서,
    약 600 nm 내지 약 1,000 nm의 최적화된 광대역 스펙트럼의 방사에 의해 모발 제거에 사용되는 최적화 방법.
  16. 제6항에 있어서,
    약 800 nm 내지 약 1,800 nm의 최적화된 광대역 스펙트럼의 방사에 의해 피부 재건 또는 피부 타이트닝에 사용되는 최적화 방법.
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