KR20070090081A - 중합체 안정식 액정 분자를 갖는 전광 소자 제조 방법 - Google Patents

중합체 안정식 액정 분자를 갖는 전광 소자 제조 방법 Download PDF

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량-차이 치엔
김상화
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켄트 스테이트 유니버시티
엑시베우 아베
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Abstract

제조 방법에서, 키랄 또는 콜레스테릭 액정, 광반응성 단량체, 및 광개시제를 액정 셀 내에 위치시킨다. 액정 셀 내의 주 면이 액정 셀 내 불균일 자외선 강도 프로파일을 갖도록 선택되는 자외선으로 투광된다. 상기 투광이 주 면 부근의 광반응성 단량체의 적어도 일부의 중합을 일으켜 불균일 자외선 강도 프로파일에 해당하는 밀도를 갖는 중합체 망을 생성한다. 몇몇의 구체예에서는 상기 투광이 제1 및 제2 자외선 강도 프로파일로의 투광을 포함하여 면 및 부피 중합체 망 구성요소를 생성한다.
전광 소자, 액정, 중합체 안정

Description

중합체 안정식 액정 분자를 갖는 전광 소자 제조 방법{METHOD OF FABRICATING ELECTRO-OPTICAL DEVICES WITH POLYMER-STABILIZED LIQUID CRYSTAL MOLECULES}
본 발명은 다양한 구성요소 및 구성요소의 배열, 그리고 다양한 과정 동작 및 과정 동작 배열을 취할 수 있다. 도면들은 단지 바람직한 구체예를 예시하기 위한 목적이며, 본 발명을 제한하는 것으로 해석되어서는 아니된다.
도 1은 안정화 단일면 중합체 망을 채용한 전광 소자의 단면도를 도시한다.
도 2는 안정화 양면 중합체 망을 채용한 전광 소자의 단면도를 도시한다.
도 3은 안정화 부피 중합체 망을 채용한 전광 소자의 단면도를 도시한다.
도 4는 부피-안정식 전광 소자의 구형파 전압 입력에 응답하는 전환 거동을 도시한다.
도 5는 부피-안정식 전광 소자의 삼각파 전압 입력에 응답하는 전환 거동을 도시한다.
도 6은 양면-안정식 전광 소자의 구형파 전압 입력에 응답하는 전환 거동을 도시한다.
도 7은 양면-안정식 전광 소자의 삼각파 전압 입력에 응답하는 전환 거동을 도시한다.
도 8은 면 및 부피 구성요소 모두를 포함하는 안정화 중합체 망을 채용한 전광 소자의 단면도를 도시한다.
본 출원은 2004년 1월 28일에 출원된 제10/766,273호의 일부 연속 출원이다. 2004년 1월 28일에 출원된 제10/766,273호 출원은 참조에 의해 본 명세서에서 전체적으로 포함된다.
본 발명은 액정 기술에 관한 것이다. 특히 광도파로, 광선 스캐너, 컴퓨터 생성 홀로그램, 적응 광학, 평판 액정 디스플레이 등과 같은 응용 분야를 위한 액정 변조기에 관한 것이다. 그러나, 본 발명은 액정을 채용하는 다른 전광 소자와 관련된 적용에도 또한 적합할 것이다.
액정 물질은 전기적 또는 자기적으로 정렬, 경사, 회전, 또는 기타 조작될 수 있는 이방성 분자를 포함한다. 예컨대, 네마틱(nematic) 액정상에서, 이방성 분자의 장축은 대체로 정렬되지만, 병진 정돈(translational ordering)은 실질적으로 없다. 스멕틱(smectic) 액정상에서, 이방성 분자의 장축은 대체로 정렬되고, 추가로 다소의 병진 정돈도 존재한다.
키랄 또는 콜레스테릭(cholesteric) 액정상에서는, 중시적(mesoscopic) 나선형 정돈 또한 존재한다. 분자의 장축 정렬은 연속된 분자층들 사이에서 상대적으로 회전하여, 상기 층에 대체로 횡방향인 나선 방향을 따라 나선형 회전을 생성한다. 나선형 피치는, 연속된 층들의 상대적 회전이 이방성 분자의 완전한 360° 나선형 회전에 해당하는 나선 방향을 따른 평균 거리로 정의된다. 대략 0.2-0.5 마이크론의 짧은 나선형 피치의 경우, 나선형 특성은 나선 방향을 따른 광축을 갖는 단축 복굴절로서 광학적으로 나타난다.
한 전형적인 전광 소자에서, 액정 물질은 하나 이상이 광 전도성인, 유리면과 같은 서로 이격된 구속면 사이에 위치한다. 광전도 인가의 경우, 이격된 구속면 모두가 광 전도성이다. 이방성 액정 분자의 측면 정돈을 유도하기 위해서는, 하나 또는 전부의 구속면은 바람직하게는 이방성 면이다. 예컨대, 폴리마이드(polymide)와 같은 얇은 중합체 코팅을 예시적 유리 기재상에 도포하고 소정 방향으로 문지름으로써 액정 분자의 실질적인 측면 정돈 유도에 적절한 이방성 면을 제공할 수 있다.
단피치의 키랄 또는 콜레스테릭 액정 소자의 경우, 나선 방향은 구속면에 수직 정렬될 수도(그래지안(Gradjean) 조직), 구속면에 평행 정렬될 수도(지문(fingerprint) 조직) 있다. 전형적으로, 지문 조직은 무작위 분포된 나선 축을 갖고 있고, 구속면 평면상에 장거리 정돈은 존재하지 않는다. 그러나, 전광 소자에서, 문지른 또는 기타 이방성 면은 바람직하게는 균일 배치의 나선 조직을 유도하며 여기에서 나선 축은 소정의 나선 정렬 방향을 따라 구속면에 평행하게 위치한다.
균일 배치의 나선 조직은 광학적으로 단축 복굴절로서, 나선 정렬 방향을 따른 광축을 갖는다. 균일 배치의 나선 조직으로 배열된 어떤 액정 물질들에서, 구속 면에 수직 방향의 상대적으로 작은 전기장의 인가는 광축의 변전(flexoelectric) 평면 내 이탈(deviation)을 유도한다. 높은 전기장에서는, 유전 커플링(dielectric coupling)이 존재하며 나선은 풀리기 시작한다. 충분히 높은 전기장에서, 나선은 실질적으로 완전히 풀려서 수직배향(homeotropic) 조직을 생성한다.
전광 소자 인가의 경우, 평면 또는 수직배향 면 조건은 균일 배치의 나선 조직에서 풀린 나선 구조를 지탱하기 때문에 구속면에 의한 정렬의 열화(degradation)를 생성할 수 있고, 나선의 풀림은 일반적으로 완전히 가역적이지 않다는 등의 문제점이 발생한다. 그 결과, 전광 소자는 인가한 전기장이 제거된 후에 균일 배치의 나선 조직으로 충분히 돌아가지 않는다.
이러한 문제들을 해결하기 위해, 균일 배치의 나선 조직의 중합체 안정화를 이용해 왔다. P. Rudquist, L. Komitov, 및 S.T. Lagerwall의 Liquid Crystals volume 24, page 329 (1988)에 설명된 한 배치에서, 콜레스테릭 액정에 용해된 10 중량%의 광반응성 단량체를 광중합하여 안정화(stabilizing) 중합체 망(network)을생성하였고, 이는 균일 배치의 나선 조직의 효과적인 안정화를 제공하였다. 그러나, 이 중합체 망은 상당한 잔류 복굴절을 생성하였고, 이는 풀린 상태에서 셀 콘트라스트를 감소시켰다. 이 잔류 복굴절은 콘트라스트 및 변조 효율을 상당히 감소시켰고 전광 전환 소자의 전환 시간을 열화시켰다.
본 발명은 앞서 언급한 한계점들 및 기타 한계점들을 극복하는 개선된 장치 및 방법을 고려한다.
발명의 개요
일측면에 따르면, 제조 방법을 개시한다. 키랄 또는 콜레스테릭 액정, 광반응성 단량체 및 광개시제를 액정 셀 내에 위치시킨다. 액정 셀 내에 불균일 자외선 강도 프로파일을 갖도록 선택된 자외선으로 액정 셀의 주 면을 투광한다. 상기 투광은 광개시제와 협동하여 상기 주 면 부근의 광반응성 단량체의 적어도 일부를 중합하여 상기 불균일 자외선 강도 프로파일에 해당하는 밀도를 갖는 중합체 망을 생성한다. 중합체 망은 액정을 소정의 나선형 정렬 방향으로 편향시킨다.
또다른 측면에 따르면, 전광 소자의 제조방법을 개시한다. 액정 및 광반응성 단량체를 액정 셀 내에 위치시킨다. 위치한 광반응성 단량체는 위치한 액정의 5 중량% 미만이다. 상기 액정을 균일 배치의 나선 조직으로 배열한다. 광반응성 단량체를 광중합하여 안정화 중합체 망을 형성한다.
또다른 하나의 측면에 따르면, 제조 방법을 제공한다. 키랄 또는 콜레스테릭 액정 및 광반응성 예비중합체를 액정 셀의 갭 내에 위치시킨다. 액정 셀의 갭 내에 불균일 광 강도 프로파일을 갖도록 선택된 제1 자외선으로 액정 셀의 제1 주 면을 투광한다. 상기 투광은 제1 주 면 부근의 광반응성 예비중합체 일부의 중합을 유도하여 제1 광 강도 프로파일에 해당하는 밀도를 갖는 면 중합체 망 성분을 생성한다. 액정 셀의 갭 내에 실질적으로 균일한 광 강도 프로파일을 갖도록 선택된 제2 자외선으로 액정 셀의 제2 주 면을 투광한다. 상기 투광은 광반응성 예비중합체 일부의 중합을 일으켜 액정 셀의 갭의 전역에 걸쳐 실질적으로 균일한 부피 중합체 망 성분을 생성한다. 상기 면 및 부피 중합체 망 성분은 액정을 소정의 나선 정렬 방향으로 편향시키는 중합체 망으로 정의한다.
본 발명의 많은 장점 및 이점은 다음의 바람직한 구체예의 상세한 설명을 읽는 즉시 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게 자명해질 것이다.
바람직한 구체예의 상세한 설명
도 1-3을 참조하면, 세 개의 전광 소자 예가 설명되어 있다. 도 1 및 2의 소자 예는 안정화 중합체 망이 면의 하부 지역에 실질적으로 한정되는 면-안정식(surface-stabilized) 소자로서 본 기술분야에서 공지되어 있다. 도 3의 소자 예는 안정화 중합체 망이 액정을 통해 실질적으로 균일한 부피-안정식(volume-stabilized) 소자로서 본 기술분야에서 공지되어 있다. 도 1 및 2의 중합체 망은 동일한 척도로 그려진 것이 아니며, 전형적으로는 구속면에 가까이 위치, 즉 얇은 면의 하부 지역 내에 위치한다는 점을 이해하여야 한다. 하지만, 중합체 망 분포의 연속성이 구속면에 매우 가깝게 구속된 망으로부터 도 3의 공간적으로 균일한 부피-안정식 소자에 이르기까지 존재할 수 있다는 점 또한 이해하여야 한다. 따라서, "면-안정식 하부 지역"은 중합체 망을 함유하는 지역의 어떠한 특정한 두께도 정의하지 않는다.
도 1을 참조하면, 면-안정식 전광 소자는 적어도 하나는 광 전도성인 서로 이격된 2개의 주 구속 기재(12, 14)를 갖는 액정 셀(10) 및 구속 옆면(16, 18)을 포함한다. 광전도 인가를 위해, 구속 기재(12, 14) 모두는 광 전도성이어야 한다. 한 적절한 구체예에서, 구속 기재(12, 14)는 유리판이다. 전극(20, 22)이 구속 기 재(12, 14)의 대면상에 위치한다. 한 구체예에서, 전극(20, 22)은 실질적으로 광 전도성인 금속 산화물 막이다. 서로 이격된 2 개의 주 구속 기재(12, 14) 가운데 하나 이상, 특히 도 1의 기재(14)는 문지르기, 이방성 화학적 에칭 등에 의해 생성된 이방성 면 형태구조(morphology)를 갖는 이방성 정렬면(24)을 포함한다. 한 구체예에서, 이방성 정렬면(24)은 폴리마이드와 같은 얇은 중합체 코팅을 전극(22) 및 유리 기재(14)상에 도포하고, 이 중합체 코팅을 소정의 문지름 방향으로 문질러 표면 이방성을 유도함으로써 제공된다. 서로 이격된 2 개의 주 구속 기재(12, 14)의 대면 구속면 사이에는 갭(G)이 정의된다.
갭(G) 내에는 액정(30)이 위치한다. 액정(30)은 바람직하게는 콜레스테릭 액정 물질, 스멕틱 C* 상 액정 물질 등과 같은 키랄 액정으로서, 나선형 분자 정돈을 보유한다. 더 나아가, 액정(30)은 바람직하게는 단피치의 키랄 또는 콜레스테릭 액정이다. 단피치는 바람직하게는 약 0.5 마이크론 미만, 그리고 보다 바람직하게는 약 0.2 마이크론 및 약 0.5 마이크론 사이이다. 하지만, 장피치의 키랄 또는 콜레스테릭 액정 물질도 이용할 수 있다. 액정 물질(30)은 키랄 또는 콜레스테릭 액정상에서는 바람직하게는 가시광선에 대해 복굴절을 나타내지만, 풀린 또는 수직배향 조직상으로 전기적 바이어스되어 있을 때는 바람직하게는 상당한 복굴절을 나타내지 않는다.
액정 물질(30)은 바람직하게는 균일 배치의 나선형 조직을 가지며, 여기에서 키랄 또는 콜레스테릭 액정(30)의 나선축은 소정의 나선형 정렬 방향을 따라 주 구 속 기재(12, 14)에 평행하게 위치한다. 키랄 또는 콜레스테릭 액정(30)의 피치 및 갭(G)의 크기에 따라, 상기 소정의 나선형 정렬 방향은 문지름 방향 또는 이방성 정렬면(24)에 의해 정의되는 기타 이방성 방향에 평행 또는 수직 배향될 수 있다.
안정화 중합체 망(32)을 도 1에 표시하였는데, 이는 이방성 정렬면(24)에 인접하여 위치하며 갭(G) 쪽으로 어느 정도 뻗는다. 도 1은 비정돈 안정화 중합체 망(32)을 도시하지만, 부분 또는 완전 정돈 안정화 중합체 망의 이용 또한 고려되며, 여기에서 예컨대 중합체 쇄는 구속면(12, 14)에 대체로 수직으로 정렬된다. 안정화 중합체 망(32)은 바람직하게는 액정 물질(30)의 약 5 중량%(5wt%) 미만, 그리고 보다 바람직하게는 액정 물질(30)의 약 3 중량%(3wt%) 미만이다.
하나 이상의 전극이 갭(G)을 전기적 바이어스시키기 위해 제공된다. 바람직하게는, 전극쌍(20, 22)이 기재(12, 14)의 대면하는 구속면에 대체로 횡방향으로 갭(G) 내에 전기장을 선택적으로 생성한다. 만일 전광 동작 도중, 전극이 그 표면상에 또는 그 안에 위치하는 구속면을 빛이 통과하면, 전극은 실질적으로 광 전도성이어야 한다. 예컨대, 실질적으로 투명한 산화 인듐 주석 막을 이용할 수 있고, 전극은 실질적으로 광 전도성인 금속 박막일 수 있거나, 전극은 빛이 통과할 수 있는 개구를 갖는 격자 전극일 수 있다.
한 구체예에서, 안정화 중합체 망(32)은 다음과 같이 형성한다. 먼저, 광반응성 단량체를 액정 물질(30)에 녹인다. 균일 배치의 나선형 조직을 가열, 전극(20, 22)을 이용한 전기적 바이어스 또는 이의 조합에 의해 생성한다. 자외선(46, 도 1에 점선 화살표로 표시)을 이용하여 광반응성 단량체를 광중합함으로써 안정화 중합체 망(32)을 형성한다. 광중합을 촉진하기 위해, 바람직하게는 광개시제를 액정 물질(30)에 녹인다. 광중합을 일으키는 전형적인 화학 반응에서, 단량체는 광개시제와 결합하는 광반응성 말단을 포함한다.
자외선(46)의 광자 에너지 또는 자유 공간 파장은 액정 물질(30)에서 불균일 자외선 강도 프로파일(50)을 갖도록 선택한다. 불균일 자외선 강도 프로파일(50)을 도 1에서 액정 셀(10)의 좌측에 표시하였으며, 이는 수학식 1과 같은 대체로 기하급수적으로 감쇠하는 형상을 갖는다:
Figure 112007013012840-PAT00001
여기에서 I0는 이방성 정렬면(24) 바로 내부의 자외선(46)의 최초 강도이고, "x"는 이방성 정렬면(24) 바로 내부로부터 측정한 거리이고, I(x)는 자외선 강도 프로파일이고, α는 자외선(46)의 액정 물질(30) 내 흡광 계수이다.
자외선(46)은 바람직하게는 자외형광관에 의해 생성하지만, 자외 레이저 또는 기타 자외선원도 이용할 수 있다. 흡광 계수 α는 일반적으로 파장에 좌우되기때문에, 다색 자외선원의 경우에는 파장 선택성 필터를 자외선원과 액정 셀(10) 사이에 바람직하게 삽입하여 단색 자외선(46)을 제공할 수 있다.
예시적인 도 1에서, 액정 물질(30) 내에서의 자외선(46)의 기하급수적 강도 감쇠는 자외선(46)의 불균일 자외선 강도 프로파일(50)에 대체로 상응하는 안정화 중합체 망(32)의 밀도 프로파일로 이어진다. 이는 안정화 중합체 망(32)이 이방성 정렬면(24)의 거리 dpoly 내에 일반적으로 위치하도록 한다. 도 1에 도시된 바와 같이, 어떤 중합체 쇄는 거리 dpoly 밖으로 위치 또는 뻗을 수 있다. 이방성 정렬면(24) 부근에서 최고 밀도를 갖는 안정화 중합체 망(32)의 불균일 밀도를 채택함으로써, 안정화 중합체 망(32)은 상당한 잔류 복굴절, 광산란, 또는 기타 악영향 생성 없이 균일 배치의 나선 조직을 효과적으로 안정화시킨다. 안정화 중합체 망(32)의 총 질량이 감소되어, 공급 물질의 양을 감소시킬 수 있다. 광중합 전의 액정 물질(30) 내에 용해된 단량체 농도는 바람직하게는 액정 물질(30)의 약 5 중량%(5 wt%) 미만이고, 보다 바람직하게는 액정 물질(30)의 약 3 중량%(3 wt%) 미만이다.
도 1은 면-안정식 전광 소자를 도시하며, 여기에서 이방성 정렬면(24)이 정렬면으로서 작용하며, 안정화 중합체 망(32)은 이방성 정렬면(24)의 거리 dpoly 내에 실질적으로 구속된다. 달리 말하면, 전광 소자는 안정화 중합체 망(32)을 함유하는 면 하부지역 및 액정 벌크층을 포함한다. 이 소자는 면-안정식 키랄 또는 콜레스테릭 전광 소자로 적절하게 지칭한다.
도 2 및 3을 참조하면, 다른 적절한 전광 소자가 도시되어 있다. 도 2 및 3에는 도 1의 구성요소에 해당하는 구성요소는 ' 및 " 을 붙인 유사한 도면부호를 붙였다. 따라서, 도 2의 예시적 전광 소자는 액정 셀(10')을 포함하며, 이는 갭(G')을 정의하는 대면하는 구속면을 갖는 서로 이격된 2 개의 주 구속 기재(12', 14'), 구속 옆면(16', 18'), 전극(20', 22'), 및 갭(G') 내에 위치한 액정 물 질(30')을 갖는다. 유사하게, 도 3의 예시적 전광 소자는 액정 셀(10")을 포함하며, 이는 갭(G")을 정의하는 대면하는 구속면을 갖는 서로 이격된 2개의 주 구속 기재(12", 14"), 구속 옆면(16", 18"), 전극(20", 22"), 및 갭(G") 내에 위치한 액정 물질(30")을 갖는다.
도 2의 면-안정식 전광 소자는 주 구속 기재(12', 14') 모두가 정렬면을 갖는다는 점에서 주로 도 1의 전광 소자와 상이하다. 구속 기재(14')는 문지르기 또는 기타 공정으로 형성된 이방성 정렬면(24')을 가지는 반면, 구속면(12')은 이방성 정렬면(64)을 갖는다. 광중합 동안에, 제1 자외선(46')이 자외선 강도 프로파일(50')을 가지고 주 구속 기재(14')를 통과하여 갭(G')을 투광하며(illuminate), 갭(G') 쪽으로 거리 dpoly'을 일반적으로 뻗는 제1 안정화 중합체 망 부분(32')을 생성한다. 제2 자외선(66)이 자외선 강도 프로파일(70)을 가지고 주 구속 기재(12')를 통과하여 갭(G')을 투광하며, 갭(G') 쪽으로 거리 dpoly ,2를 일반적으로 뻗는 제2 안정화 중합체 망 부분(72)을 생성한다. 따라서, 안정화 중합체 망(32', 72)은 각 정렬면(24', 64') 부근에서 보다 높은 밀도 그리고 갭(G')의 중앙 부근에서 보다 낮은 밀도를 갖는다. 자외선 강도 프로파일(50', 70) 및 대응 거리 dpoly', dpoly ,2는 서로 다를 수 있지만, 예시적 도 2에서는 간략성을 위해 실질적으로 유사한 것으로 그려졌다. 도 2에 도시된 전광 소자는 양면-안정식 키랄 또는 콜레스테릭 전광 소자로 적절하게 지칭한다.
도 1 및 2의 면-안정식 소자와 대조적으로, 도 3에 도시된 전광 소자는 부피 -안정식 소자로서, 여기에서 중합체 망은 액정층 전체를 통해 뻗으며 액정층 전체를 통해 실질적으로 균일하다.
도 3의 전광 소자는, 광중합 과정에 이용하는 자외선(46")이 액정 물질(30") 내 흡수를 실질적으로 감소시키도록 선택된 광자 에너지 또는 자유 공간 파장을 갖는다는 점에서 주로 도 1의 전광 소자와 상이하다. 그러므로, 실질적으로 공간적으로 균일한 자외선 강도 프로파일(50")이 갭(G")의 전역에 걸쳐 실질적으로 균일한 안정화 중합체 망(32")을 생성한다. 이 배열은 부피-안정식 키랄 또는 콜레스테릭 전광 소자로 적절하게 지칭한다. 도 3의 전광 소자에서, 각 주 구속 기재(12", 14")는 액정(30") 정렬을 위한 이방성 정렬면(24", 84)을 갖는다. 그러나, 구속 기재 가운데 하나만이 액정 정렬을 위한 이방성 정렬면을 포함하는 것 또한 고려한다.
전형적인 액정 물질의 경우, 도 1 및 2의 공간적으로 불균일한 중합체 망(32, 32', 72)은 바람직하게는 약 3.55 eV 보다 큰, 그리고 보다 바람직하게는 약 3.8 eV 보다 큰 광자 에너지를 갖는 자외선을 이용하여 생성한다. 더 낮은 광자 에너지의 경우, 자외선은 전형적으로 액정에 의해 덜 강하게 흡수되어, 도 3의 안정화 중합체 망(32")과 같은 실질적으로 공간적으로 균일한 중합체 망을 생성한다. 수학식 1에 기반하여, 안정화 중합체 망(32)의 범위 dpoly 또는 안정화 중합체 망 부분(32', 72)의 범위 dpoly', dpoly ,2는 자외선 투광(illumination)의 최초 강도 I0에 좌우된다.
당업자라면 액정 물질의 파장 또는 광자 에너지 특성 대 흡광 계수에 근거하여 특정 액정으로 충전된 특정 크기의 갭 내에 소정의 중합체 망 배치를 생성시키기 위하여 적절한 파장 및 최초 투광 강도를 선택할 수 있을 것이다. 단량체의 농도는 전형적으로 낮으므로(예컨대, 액정 물질의 약 5 중량% 미만), 액정 물질의 흡광 계수는 단량체가 그 안에 용해됨으로써 크게 변화하지는 않는다. 단량체 혼입이 흡광 계수를 크게 변동시키거나, 액정 내 산란이 추가적인 산란 광 손실을 발생시키는 등의 경우, 당업자는 흡광 계수 변화를 용이하게 측정하여 그에 따라 자외선 강도 또는 파장 또는 그 모두를 조정할 수 있다.
액정(30, 30', 30")은 바람직하게는 전극(20, 22, 20', 22', 20", 22")이 인가하는 상대적으로 작은 전기장에 대해 변전 응답을 나타내는 키랄 또는 콜레스테릭 액정이다. 즉, 전기적으로 바이어스되지 않은 균일 배치의 나선 조직으로 시작하여, 작은 전기장의 인가가 광축의 장 유도 이탈을 변전적으로 생성한다. 이 이탈은 상대적으로 작은 인가한 장의 경우에는 근사적으로 선형이며, 전형적으로 수학식 2로 표현된다.
Figure 112007013012840-PAT00002
여기에서 φ는 광축의 장 유도 각(angular) 이탈이고, E는 주 구속 기재(12, 14, 12', 14', 12", 14")에 수직으로 인가한 전기장의 크기(magnitude)이고, p는 키랄 또는 콜레스테릭 액정(30, 30', 30")의 피치이고, 파라미터 e는 수학식 3으로 주어진다.
Figure 112007013012840-PAT00003
여기에서 es와 eb는 각각 스플레이(splay) 및 벤드(bend) 변전 계수이고, 파라미터 K는 수학식 4로 주어진다.
Figure 112007013012840-PAT00004
여기에서 K11과 K33은 각각 스플레이 및 벤드 탄성 상수이다.
더 높은 전기장에서는, 유전 커플링에 의해 2차(quadratic) 효과가 발생한다. 이러한 더 높은 전기장에서는, 피치가 증가함에 따라 나선이 변형되기 시작한다. 인가한 전기장이 어떤 임계치를 초과하면, 나선은 실질적으로 완전히 풀려서, 액정이 양의 유전 이방성을 가질 때 수직배향 조직을 생성한다.
유리하게는, 안정화 중합체 망(32, 32', 72, 32") 때문에 액정(30, 30', 30")은 인가한 전기장이 제거된 뒤 최초의 균일 배치의 나선 조직으로 돌아간다. 어떤 바람직한 전광 소자에서 갭(G, G')은 약 5 마이크론이며, 안정화 중합체 망(32) 또는 조합된 안정화 중합체 망(32', 72)의 두께는 약 1 마이크론 이하이다. 전형적으로, 안정화 중합체 망의 두께 또는 조합된 두께는 균일 배치의 나선 조직 의 안정화를 제공하기 위해 적절하게는 전체 갭의 약 10%이다. 당업자라면 중합체 쇄가 부분적으로 또는 실질적으로 정렬 또는 기타 정돈된 등의 정돈된 안정화 중합체 망을 위해, 안정화 중합체 망의 특정 밀도 프로파일에 대한 이들 예시적 치수를 용이하게 조정할 수 있다.
전형적으로, 도 1 및 2의 예시적 소자와 같은 면-안정식 또는 양면-안정식 키랄 또는 콜레스테릭 전광 소자는 극성(polar) 모드에서의 작동에 특히 적절하며, 여기에서는 인가한 전기장과 변전 커플링이 우세하다. 도 3의 예시적 소자와 같은 부피-안정식 키랄 또는 콜레스테릭 전광 소자는 2차 모드에서의 작동에 특히 적절하며, 여기에서는 유전 커플링이 우세하다.
가시 영역에서 작동하는 전광 소자의 경우, 액정 물질은 바람직하게는 약 0.5 마이크론 미만, 그리고 보다 바람직하게는 약 0.2 및 약 0.5 마이크론 사이의 짧은 나선 피치를 갖는 키랄 또는 콜레스테릭 상을 바람직하게 나타낸다. 액정은 바람직하게는 현저한 변전 응답을 나타내며, 약 0.1-10 범위의 양의 유전 이방성을 바람직하게 갖는다. 키랄 또는 콜레스테릭 상의 액정 물질은 바람직하게는 큰 복굴절 물질로서, 약 0.1-0.5 범위의 큰 Δn을 갖는다. 선택적으로, 액정 물질은 인가한 전기장의 주파수에 따라 유전 이방성의 부호 역전을 나타낸다.
부피-안정식 키랄 또는 콜레스테릭 전광 소자의 일례로서, 각각 2 마이크론 갭을 갖는 전광 액정 셀을 EHC Co. Ltd.(일본, 도쿄)로부터 입수하였다. 액정 셀의 내부면을, 문지름 방향에 대해 180°로 조립된, 단일축으로 문지른 폴리마이드 층을 형성함으로써 역평행 정렬 처리하였다. 단피치 콜레스테릭 액정 물질 혼합물을 다음 조성으로 형성하였다.
69.75 중량% MLC6080 공융 네마틱;
25 중량% 키랄 도펀트, 3:3:1 비의 CE1, CB15, R1011을 포함;
5 중량% RM257 광반응성 단량체; 및
0.25 중량% Irgacure 651 광개시제.
이 성분들은 모두 Merck & Co., Inc.(뉴저지주 화이트하우스 스테이션)로부터 입수가능하다. 다만, Irgacure 651 광개시제는 Ciba Specialty Chemicals(스위스 바젤)로부터 입수가능하다. 액정 셀을 모세관 작용에 의해 단피치 콜레스테릭 액정 물질 혼합물로 충전하고, 콜레스테릭의 이방성 온도로 가열하였다. 실온으로의 냉각 동안, 액정 셀의 전역에 걸쳐 6.26 V, 26 Hz의 구형파 전압 바이어스를 인가하여 균일 배치의 나선 조직을 얻었다. 최적의 중합을, 365 nm의 자외선 투광을 이용하여 0.04 mW/cm2로 30분간 실온에서 수행하였다. 이 선택된 자외선 투광은 2 마이크론의 갭의 전역에 걸쳐 실질적으로 균일한 투광을 제공하여, 도 3에 도시된 광중합 과정과 유사하게 부피 중합체 망을 생성하였다.
부피 중합체 망에 의한 잔류 복굴절 시험을 위해, 이 전광 소자에 0 볼트, 10 볼트 및 25 볼트의 바이어스를 가하여 콜레스테릭 액정을 완전히 풀어서 수직배향 조직을 생성하였다. 유리하게도, 낮은 5 중량% 의 단량체로 생성한 상대적으로 느슨한 중합체 망이, 수직 편광기를 이용하여 관찰시에 중합체 망으로부터의 잔류 복굴절을 25 볼트에서 나타내지 않았다.
도 4를 참조하면, 부피-안정식 키랄 또는 콜레스테릭 전광 소자의 평면 내 변전 전환 모드에서의 전광 전환 성질을 디지털 오실로스코프를 이용하여 특성화하였다. 60 마이크로초의 턴온(turn-on) 또는 상승(rise) 시간 및 120 마이크로초의 턴오프(turn-off) 또는 감쇠 시간을 2 볼트/마이크론, 110 Hz의 구형파 전기 입력에 대해 관찰하였다.
도 5를 참조하면, 1 볼트/마이크론, 110 Hz의 삼각파를 2 마이크론의 부피-안정식 액정 셀에 인가하여 균일한(homogeneous) 평면 내 전환 특성을 측정하였다. 도 5는 삼각파 입력 및 전도된 광 강도를 시간에 대해 도시한 디지털 오실로스코프 도이다. 전도된 광 측정은 콜레스테릭 액정 물질의 온건한 정도의 양의 유전 이방성에 의한 대칭적 평면 내 전환을 시사한다. 바람직하게는, 콜레스테릭 액정은 0 부근의 유전 이방성을 가져야 한다.
양면-안정식 키랄 또는 콜레스테릭 전광 소자의 일례로서, 부피-안정식 전광 소자 제조에서와 마찬가지로 전광 액정 셀을 제조하고 단피치 콜레스테릭 액정 물질 혼합물로 충전하고, 콜레스테릭의 이방성 온도로 가열하였다. 실온으로의 냉각 동안, 9.5 V, 22 Hz의 구형파 전압 바이어스를 액정 셀의 전역에 걸쳐 인가하여 균일 배치의 나선 조직을 얻었다. 최적의 중합을, 도 2에 도시된 광중합 과정과 유사하게 주 면 모두로부터 적용된 322 nm의 자외선 투광을 이용하여 0.08 mW/cm2로 5분간 실온에서 수행되었다. 이 선택된 자외선 투광은 투광된 주 면에 인접한 중합체 망의 형성을 제공한다. 부피 중합체 망을 생성하기 위한 광 중합에서 이용한 365 nm의 자외선과 비교하여, 보다 단파장인 322 nm의 자외선의 보다 많은 흡수는 액정 셀 갭의 중앙 부근에서 실질적으로 광중합을 일으키지 않았다. 따라서, 보다 단파장인 322 nm의 자외선은 도 3에 도시된 바와 같은 부피 안정화 중합체 망 대신 도 2에 도시된 바와 같은 양면 안정화 중합체 망을 제공하였다.
면 중합체 망 부분에 의한 잔류 복굴절 시험을 위해, 이 전광 소자에 0 볼트, 10 볼트 및 25 볼트의 바이어스를 가하여 콜레스테릭 액정을 완전히 풀어서 수직배향 조직을 생성하였다. 유리하게도, 구속 면에 인접하여 위치한 중합체 망 부분이, 수직 편광기를 이용하여 관찰시에 중합체 망으로부터의 잔류 복굴절을 25 볼트에서 나타내지 않았다.
도 6을 참조하면, 양면-안정식 키랄 또는 콜레스테릭 전광 소자의 평면 내 변전 전환 모드에서의 전광 전환 성질을 디지털 오실로스코프를 이용하여 특성화하였다. 70 마이크로초의 턴온 또는 상승 시간 및 100 마이크로초의 턴오프 또는 감쇠 시간을 3.5 볼트/마이크론, 110 Hz의 구형파 전기 입력에 대해 관찰하였다.
도 7을 참조하면, 3.5 볼트/마이크론, 110 Hz의 삼각파를 인가하여 균일한 평면 내 전환 특성을 측정하였다. 도 7은 전도된 광 강도를 시간에 대해 도시한 디지털 오실로스코프 도이다. 전도된 광 측정은 콜레스테릭 액정 물질의 온건한 정도의 양의 유전 이방성에 의한 대칭적 평면 내 전환을 시사한다. 바람직하게는, 콜레스테릭 액정은 0 부근의 유전 이방성을 가져야 하며, 이 경우 극성 변전-광 응답의 선형성은 실질적으로 개선된다.
도 8을 참조하면, 면-안정식 및 부피-안정식의 조합을 채용한 전광 소 자(10''')가 도시된다. 도 8에서, 도 1의 구성요소에 해당하는 구성요소는 유사한 ''' 도면 부호를 붙였다. 따라서, 도 8의 예시적 전광 소자는 갭(G''')을 정의하는 대면 구속면이 있는 서로 이격된 2 개의 주 구속 기재(12''', 14'''), 구속 옆면(16''', 18'''), 전극(20''', 22'''), 및 갭(G''') 내에 위치하는 액정 물질(30''')을 갖는 액정 셀(10''')을 포함한다. 주 구속 기재(14''')는 문지르기 또는 다른 방법에 의해 형성된 이방성 정렬면(24''')을 갖는다.
중합은 순차적으로 또는 동시에 적용되는 2 개의 광 성분을 이용하여 수행된다. 자외선(46a)인 제1 광 성분은 주 구속기재(14''')를 통해 갭(G''')을 투광하여 갭(G''') 내에 급히 감쇠하는 자외선 강도 프로파일(50a)을 생성하는 단파장 광이다. 자외선(46a)에 의해 생성된 급히 감쇠하는 프로파일(50a)은 갭(G''') 내로 거리(dpoly''')를 일반적으로 뻗는 면-안정화 중합체 망 부분(32a)을 생성한다. 제2 자외선(46b)은 도시된 바와 같이 주 구속 기재(14''')를 통해 또는 대안적으로 주 구속 기재(12''')를 통해 갭(G''')을 투광하여 실질적으로 균일한 자외선 강도 프로파일(50b)을 생성한다. 자외선(46b)에 의해 생성된 실질적으로 균일한 프로파일(50b)은 실질적으로 균일하게 갭(G''')을 채우는 부피 안정화 중합체 망 부분(32b)을 생성한다.
전광 소자(10''') 제조에 이용된 상기 2 성분 중합 접근 방식은 유리하게, 갭(G''')의 전역에 걸쳐 중합체 망의 공간 밀도의 맞춤화를 가능케 한다. 바람직하게는 부피 망(32b)의 밀도가 낮게 유지되어 빛 산란이 감소한다. 그러나, 면 안정 화 망(32b)에의 얼마간의 부피 중합체 밀도의 첨가가 순수한 면 안정식 배치에 대하여 균일 배치의 조직 내 키랄 스멕틱 C, 콜레스테릭, 또는 기타 액정 물질의 안정화에 더 효과적으로 예측된다.
몇몇의 구체예에서 단파장 투광(46a)이 처음으로 적용되고, 장파장 투광(47b)이 이어서 적용된다. 따라서, 이 구체예에서는 면 중합체 망(32a)이 처음으로 형성되고, 부피 중합체 망(32b)이 이어서 형성된다. 다른 구체예에서는 장파장 투광(46b)이 처음으로 적용되고, 단파장 투광(47a)이 이어서 적용된다. 이 구체예에서는 부피 중합체 망(32b)이 처음으로 형성되고, 면 중합체 망(32a)이 이어서 형성된다. 또 다른 구체예에서는 투광(46a, 46b)이 동시에 적용되어 동시에 면 및 부피 중합체 망(32a, 32b)을 형성하는 복합 투광 프로파일(50''')이 생성된다.
더욱이, 투광(46a, 46b) 및 해당하는 투광 프로파일(50a, 50b) 또는 동시에 적용된 프로파일(50''')은 예일 뿐이라는 것을 이해할 것이다. 갭(G''')의 전역에 걸쳐 중합체 망 분포를 맞춤화하기 위해 추가적인 투광 성분을 순차적으로 또는 동시에 적용할 수 있다. 예를 들어, 양면 안정식은 주 구속 기재(12''', 14''')의 하나 또는 전부를 통해 적용되는 부피 중합체 망을 생성하는 장파장 광과 함께 주 구속 기재(12''', 14''') 모두를 통한 단파장 광의 적용에 의해 부피 중합체 망과 결합될 수 있다.
본 발명을 바람직한 구체예를 참조하여 설명하였다. 명백하게, 상기 상세한 설명을 읽고 이해하는 즉시 당업자에 의한 변동 및 변경이 이루어질 수 있을 것이다. 그러한 변동 및 변경이 첨부된 청구항 또는 그 균등물의 범위 내에 속하는 한, 본 발명은 모든 그러한 변동 및 변경을 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
본 발명의 전광 소자의 제조 방법은 예컨대 균일 또는 불균일 자외선 강도 프로파일을 이용하여 효율적인 중합체 망의 면 안정식 또는 부피 안정식 전광 소자를 제조할 수 있는 효과가 있다.

Claims (21)

  1. 키랄 또는 콜레스테릭 액정, 광반응성 단량체 및 광개시제를 액정 셀 내에 위치시키는 단계; 및
    상기 액정 셀 내에 불균일 자외선 강도 프로파일을 갖도록 선택된 자외선으로 상기 액정 셀의 주 면을 투광하는 단계를 포함하며,
    상기 투광은 상기 광개시제와 협동하여 상기 주 면 부근의 광반응성 단량체의 적어도 일부를 중합하여 상기 불균일 자외선 강도 프로파일에 해당하는 밀도를 갖는 중합체 망을 생성하며, 상기 중합체 망을 상기 액정을 소정의 나선형 정렬 방향으로 편향시키는 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 액정을 상기 소정의 나선형 정렬 방향으로부터 멀어지도록 변전 편향시키기 위해 상기 액정 셀에 전기장을 선택적으로 가하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 키랄 액정을 실질적으로 풀기 위해 상기 액정 셀에 전기장을 선택적으로 가하는 단계; 및
    상기 전기장을 제거하는 단계를 더 포함하며,
    상기 액정이 상기 제거에 응답하여 상기 소정의 나선형 정렬 방향으로 돌아가는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 키랄 액정을 상기 소정의 나선형 정렬 방향으로부터 멀어지도록 변전 편향시키기 위해 상기 액정 셀에 제1 전기장을 선택적으로 가하는 단계; 및
    상기 키랄 액정을 실질적으로 풀기 위해 상기 액정 셀에 상기 제1 전기장보다 큰 제2 전기장을 선택적으로 가하는 단계를 더 포함하며,
    상기 제1 또는 제2 전기장의 제거가 상기 키랄 액정이 상기 소정의 나선형 정렬 방향으로 돌아가도록 하는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 투광에 앞서, 상기 액정을 상기 소정의 나선형 정렬 방향을 갖는 균일 배치의 나선형 조직으로 변환시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 변환시키는 단계는
    적어도 주 면에 이방성 내면을 제공하는 단계; 및
    상기 액정을 균일 배치의 나선형 조직으로 정렬하기 위해 가열 및 전기적 바이어스 가운데 하나 이상을 인가하는 단계를 포함하며,
    상기 균일 배치의 나선형 조직이 상기 이방성 내면의 이방성 방향에 평행 및 수직 가운데 하나로 정렬된 소정의 나선형 정렬 방향을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 중합체 망이 상기 액정 물질의 약 3 중량% 이하인 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  8. 제1항에 있어서, 상기 키랄 또는 콜레스테릭 액정이 약 0.5 마이크론 미만의 나선 피치를 갖는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  9. 액정 및 광반응성 단량체를 액정 셀 내에 위치시키되, 상기 위치한 광반응성 단량체가 상기 위치한 액정의 5 중량% 미만인 단계;
    상기 액정을 균일 배치의 나선 조직으로 배열하는 단계; 및
    상기 광반응성 단량체를 광중합하여 안정화 중합체 망을 형성하는 단계를 포함하는 전광 소자의 제조방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 광중합 단계는
    상기 액정 셀 내에 불균일 자외선 강도 프로파일을 갖도록 선택된 자외선으로 상기 액정 셀의 주 면을 투광하는 단계를 포함하며,
    상기 중합체 망은 상기 불균일 자외선 강도 프로파일에 해당하는 밀도를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 위치시키는 단계는
    상기 자외선과 협동하여 상기 광중합을 일으키는 광개시제를 상기 액정 셀 내에 위치시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 불균일 자외선 강도 프로파일이 (i) 액정 셀의 갭의 전역에 걸쳐 실질적으로 균일한 부피 중합체 망 성분을 생성하는 균일 강도 성분 및 (ii) 주 면의 1 마이크론 이내에서 액정 셀 내에 실질적으로 흡수되어 면 중합체 망 성분을 생성하는 불균일 강도 성분 가운데 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제9항에 있어서, 상기 광중합 단계는
    상기 액정 셀의 주 면의 1 마이크론 이내에서 상기 액정 셀 내에 실질적으로 흡수되는 자외선으로 상기 액정 셀의 주 면을 투광하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제9항에 있어서, 상기 광중합 단계는
    약 3.55 eV보다 큰 광자 에너지를 갖는 자외선으로 상기 액정 셀의 주 면을 투광하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제9항에 있어서, 상기 광중합 단계는
    약 3.8 eV보다 큰 광자 에너지를 갖는 자외선으로 상기 액정 셀의 주 면을 투광하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 키랄 또는 콜레스테릭 액정 및 광반응성 예비중합체를 액정 셀의 갭 내에 위치시키는 단계;
    상기 액정 셀의 갭 내에 불균일 광 강도 프로파일을 갖도록 선택되는 제1 자외선으로 액정 셀의 제1 주 면을 투광하고, 상기 투광이 제1 주 면 부근의 광반응성 예비중합체의 일부의 중합을 일으켜 제1 광 강도 프로파일에 해당하는 밀도를 가지는 면 중합체 망을 생성하는 단계;
    상기 액정 셀의 갭 내에 실질적으로 균일 광 강도 프로파일을 갖도록 선택되는 제2 자외선으로 액정 셀의 제2 주 면을 투광하고, 상기 투광은 광반응성 예비중합의 일부의 중합을 일으켜 액정 셀의 갭의 전역에 걸쳐 실질적으로 균일한 부피 중합체 망 성분을 생성하는 단계를 포함하고,
    상기 면 및 부피 중합체 망 성분이 상기 액정을 소정의 나선 정렬 방향으로 편향시키는 중합체 망을 정의하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  17. 제16항에 있어서,
    제1 자외선의 투광 및 제 2 자외선의 투광에 앞서 상기 액정을 상기 소정의 나선 정렬 방향을 갖는 균일 배치의 나선형 조직으로 변환시키는 단계를 더 포함하 는 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제16항에 있어서,
    제1 자외선의 투광 및 제2 자외선의 투광이 동일한 면에 적용되도록 제1 및 제2 주 면이 동일한 면인 것을 특징으로 하는 방법.
  19. 제16항에 있어서,
    액정 셀 내에 제2 불균일 광 강도 프로파일을 갖도록 선택되는 제3 자외선으로 액정 셀의 제1 및 제2 주 면 중 하나를 투광하는 단계를 더 포함하고,
    상기 투광은 적어도 투광되는 주 면 부근의 광반응성 예비중합체의 일부의 중합을 일으켜 제2 불균일 광 강도 프로파일에 해당하는 액정 셀의 갭 전체에 걸쳐 불균일 밀도를 가지는 제3 중합체 망 성분을 생성하고, 상기 제3 중합체 망 성분이 또한 액정을 소정의 나선 정렬 방향으로 편향시키는 중합체 망의 정의에 기여하는 것을 특징으로 하는 방법.
  20. 제19항에 있어서, 제3 자외선의 투광이 제2 주 면에 적용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  21. 제16항에 있어서,
    제1 자외선의 투광 및 제2 자외선의 투광의 시간적인 순서가 다음으로 이루 어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법:
    제2 자외선으로 투광하기 전에 제1 자외선으로 투광,
    제1 자외선으로 투광하기 전에 제2 자외선으로 투광, 및
    제1 및 제2 자외선을 동시에 투광.
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