KR20070070403A - Liquid crystal display device and the fabrication method thereof - Google Patents

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Abstract

A liquid crystal display device and a method for manufacturing the same are provided to prevent a light leakage and improve the picture quality by hardening a sealant of a liquid crystal panel with polarized ultraviolet rays and aligning rubbed alignment layers with ultraviolet rays, and thus improving an alignment characteristic and equally aligning liquid crystal. A liquid crystal display device has a first substrate(100) and a second substrate(110). Thin film transistors are formed on the first substrate. A sealant(103) is formed at an outer ring of the first substrate and the second substrate. A first alignment layer and a second alignment layer(101) are firstly aligned on the first substrate and the second substrate, and at the same time, secondary alignment process is performed to the first alignment layer and the second alignment layer.

Description

액정 표시 장치 및 그의 제조 방법{Liquid Crystal Display device and the fabrication method thereof}Liquid crystal display device and its manufacturing method

도 1은 종래 기술에 의한 액정표시소자의 제조방법을 설명하기 위한 블록도.1 is a block diagram illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the prior art.

도 2는 종래 기술에 의한 열경화성 씨일제 경화공정을 나타낸 단면도.Figure 2 is a cross-sectional view showing a thermosetting sealant curing process according to the prior art.

도 3은 종래 기술에 의한 광경화성 씨일제 경화공정을 나타낸 사시도.Figure 3 is a perspective view showing a photocurable sealant curing process according to the prior art.

도 4는 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 보여주는 순서도.4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display according to the present invention.

도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 공정에서 일부를 개념적으로 도시한 도면.5A through 5C conceptually illustrate a part of a manufacturing process of a liquid crystal display according to the present invention;

도 6은 본 발명에 따른 횡전계 방식 액정 표시 장치를 보여주는 도면.6 is a view showing a transverse electric field type liquid crystal display device according to the present invention.

도 7은 도 6에서 도시된 횡전계 방식 액정 표시 장치에서 단차부(K)의 2차 배향 공정을 확대하여 보여주는 도면.FIG. 7 is an enlarged view illustrating a second alignment process of the stepped portion K in the transverse electric field type liquid crystal display shown in FIG. 6.

도 8은 본 발명에 따른 횡전계 방식 액정 표시 장치에서 편광 조사 장치의 위치를 배면으로 배치하여, 단차부의 2차 배향 공정을 확대하여 보여주는 도면.FIG. 8 is an enlarged view illustrating a second alignment process of a stepped portion by arranging a position of a polarization irradiating device to a rear side in a transverse electric field type liquid crystal display device according to the present invention; FIG.

<도면의 주요부분에 대한 부호 설명><Description of Signs of Major Parts of Drawings>

100 : 하부 기판 101 : 배향막 100: lower substrate 101: alignment film

103 : 씨일제 110 : 상부 기판103: sealant 110: upper substrate

130 : 편광 조사 장치130: polarized light irradiation device

본 발명은 액정표시장치(LCD ; Liquid Crystal Display device)에 관한 것으로, 특히 배향막의 특성을 향상시키고 공정을 단순화하는 액정표시장치 및 그의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device (LCD), and more particularly, to a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, which improve the characteristics of the alignment layer and simplify the process.

최근들어, 평판 디스플레이에 대한 연구가 활발한데, 그 중에서 액정표시소자는 콘트라스트(contrast) 비가 크고, 계조표시나 동화상 표시에 적합하며 전력소비가 적다는 장점 때문에, CRT(cathode ray tube)의 단점을 극복할 수 있는 대체수단으로써 점차 그 사용 영역이 확대되고 있다.Recently, research on flat panel displays has been actively conducted. Among them, the liquid crystal display device has a disadvantage of CRT (cathode ray tube) due to its high contrast ratio, suitable for gradation display or moving image display, and low power consumption. As an alternative means of overcoming, its use is gradually expanding.

이와같은 액정표시소자는 컬러필터 기판이라 불리는 상부기판과, 박막 어레이 기판이라 불리는 하부기판과, 서로 대향하는 상기 상,하부 기판 사이에 형성된 액정층으로 구성되는데, 상기 상,하부 기판의 가장자리에 접착제 역할을 하는 씨일제(sealant)를 형성하고 경화함으로써 두 기판을 완전히 접착시킨다.The liquid crystal display device is composed of an upper substrate called a color filter substrate, a lower substrate called a thin film array substrate, and a liquid crystal layer formed between the upper and lower substrates facing each other. The two substrates are fully bonded by forming and curing a sealing agent that acts.

상기 씨일제로는 열경화성 씨일제와 광경화성 씨일제 등이 있다.The sealant includes a thermosetting sealant and a photocurable sealant.

이 중, 열경화성 씨일제는 열에 의해 경화되고, 비교적 고온에서도 기계적 강도, 접착 강도가 크고 가교도가 높은 장점이 있다.Among them, the thermosetting sealant is cured by heat, and has the advantages of high mechanical strength, adhesive strength, and high degree of crosslinking even at a relatively high temperature.

반면, 광경화성 씨일제는 광 특히, UV에 의해 경화되는 것으로, 저온 경화가 가능하고 경화시간이 단축되며 또한, 대향기판에 적용시 열팽창에 대한 우려가 적어 합착 정도가 향상된다는 장점이 있다. 따라서, 광경화성 씨일제 사용이 계속 증 대되고 있으며, 특히, 대화면의 디스플레이에 많이 사용된다.On the other hand, the photocurable sealant is cured by light, in particular, UV, it is possible to cure at low temperatures, the curing time is shortened, and there is less concern about thermal expansion when applied to the opposite substrate has the advantage that the degree of adhesion is improved. Therefore, the use of photocurable sealants continues to increase, especially in large display displays.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래 기술에 의한 액정표시소자의 제조방법을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the prior art will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래 기술에 의한 액정표시소자의 제조방법을 설명하기 위한 블록도이고, 도 2는 종래 기술에 의한 열경화성 씨일제 경화공정을 나타낸 단면도이고, 도 3은 종래 기술에 의한 광경화성 씨일제 경화공정을 나타낸 사시도이다.1 is a block diagram illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the prior art, Figure 2 is a cross-sectional view showing a thermosetting sealant curing process according to the prior art, Figure 3 is a photocurable sealant curing according to the prior art It is a perspective view which shows a process.

도 1을 참고로 종래의 액정표시소자의 제조방법을 살펴보면, 먼저, 상부기판 상에 빛샘을 방지하는 블랙매트릭스와, 색상을 표현하기 위한 RGB의 컬러필터층과, 투명도전막인 공통전극을 형성하고, 하부기판 상에 수직 교차하여 화소를 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 상기 두 배선의 교차 지점에서의 박막트랜지스터와, 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소전극을 형성한다(S10).Referring to FIG. 1, a method of manufacturing a conventional liquid crystal display device is described. First, a black matrix for preventing light leakage, a color filter layer of RGB for expressing color, and a common electrode serving as a transparent conductive film are formed on an upper substrate. A gate line and a data line are defined on the lower substrate to vertically cross the pixel, a thin film transistor at an intersection point of the two lines, and a pixel electrode electrically connected to the thin film transistor (S10).

이 때, 상기 박막트랜지스터는 게이트 전극, 반도체층, 소스/드레인 전극을 적층하여 형성한다.In this case, the thin film transistor is formed by stacking a gate electrode, a semiconductor layer, and a source / drain electrode.

다음, 다양한 패턴들이 형성된 상,하부 기판 내측면에 선택적으로 배향막을 형성하고 러빙법을 이용하여 배향 처리함으로써 이후 형성될 액정분자의 초기 배향을 결정한다(S20).Next, an alignment layer is selectively formed on upper and lower substrate inner surfaces on which various patterns are formed, and an alignment process is performed using a rubbing method to determine initial alignment of liquid crystal molecules to be subsequently formed (S20).

그리고, 상기 상,하부 기판이 일정하게 이격되도록 상부기판 상에 스페이서(spacer)를 균일하게 뿌려주고, 상기 하부 기판의 가장자리에 빈틈없이 씨일제를 인쇄하여 상기 두 기판을 대향 합착한다(S30, S40).Further, the spacers are evenly sprayed on the upper substrate so that the upper and lower substrates are uniformly spaced apart, and a sealant is printed on the edges of the lower substrate so that the two substrates are opposed to each other (S30, S40). ).

이 때, 씨일제가 액티브 영역에 인쇄되지 않도록 주의하고, 향후 액정을 주 입할 수 있도록 액정주입구에는 씨일제를 형성하지 않는다.At this time, be careful not to print the sealant in the active area, and do not form the sealant in the liquid crystal inlet so that the liquid crystal can be injected in the future.

다음, 상기 씨일제를 경화하여 합착된 두 기판을 완전히 접착시킨 후, 상기 액정주입구를 통해 두 기판 사이에 액정을 주입하고, 상기 액정이 흘러나오지 않게 액정주입구를 봉지하면 액정패널이 완성된다(S50, S60).Next, after the sealant is cured, the two bonded substrates are completely adhered to each other, the liquid crystal is injected between the two substrates through the liquid crystal inlet, and the liquid crystal inlet is sealed so that the liquid crystal does not flow out (S50). , S60).

이하, 상기 씨일제 경화공정을 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.Hereinafter, the sealant curing process will be described in detail.

먼저, 상기 씨일제로 열경화성 씨일제를 사용할 경우, 도 2에서와 같이, 스페이서(34)에 의해 일정하게 이격되어 합착된 상,하부 기판(31, 32) 중 상부기판(31) 상에 열판(35)을 얹은 후, 0.5㎏/㎠ 정도의 압력으로 기판을 가압하여 원래 열경화성 씨일제(33)의 높이부터 스페이서의 높이까지 균일하게 압착시켜 원하는 셀 갭을 얻는다. 다음, 열판(35)에 온도를 가하여 씨일제를 경화시킨다.First, when the thermosetting sealant is used as the sealant, as illustrated in FIG. 2, a hot plate (on the upper substrate 31 of the upper and lower substrates 31 and 32 that are uniformly spaced apart and bonded by the spacer 34) 35), the substrate is pressurized at a pressure of about 0.5 kg / cm &lt; 2 &gt; and uniformly compressed from the height of the original thermosetting sealant 33 to the height of the spacer to obtain a desired cell gap. Next, a temperature is applied to the hot plate 35 to cure the sealant.

이 때, 가압 과정과 가온 공정을 동시에 수행하여도 된다.At this time, the pressing step and the heating step may be performed at the same time.

하지만, 상기 열경화성 씨일제는 경화시간이 오래 걸려 대면적 기판에 적용하기 어렵고, 열팽창의 우려가 있어서, 많은 장점을 가지고 있는 광경화성 씨일제로 대체되고 있다.However, the thermosetting sealant is hard to apply to a large-area substrate due to a long curing time, and there is a fear of thermal expansion, and has been replaced by a photocurable sealant having many advantages.

상기 씨일제로 광경화성 씨일제를 사용할 경우에는, 도 3에서와 같이, 대향합착된 상,하부 기판(31, 32) 상에 액티브영역이 마스킹되도록 마스크(25)를 씌우고, 상기 마스크(25) 상부에서 광원(29)으로부터 제공되는 UV를 조사한다.In the case of using the photocurable sealant as the sealant, as shown in FIG. 3, a mask 25 is covered on the opposing bonded upper and lower substrates 31 and 32 to mask the active region, and the mask 25 At the top is irradiated with UV provided from the light source 29.

즉, 액티브 영역을 제외한 부분에만 광이 조사되도록 하여 액티브영역 외곽에 형성된 광경화 씨일제(23)가 경화시킴으로써 상,하부 기판(31, 32)을 완전 접착시킨다.That is, the light is irradiated only to the portions excluding the active region so that the photocuring seal agent 23 formed outside the active region is cured to completely adhere the upper and lower substrates 31 and 32.

이 때, 액티브 영역 내에는 내광성이 약한 배향막(24)이 형성되어 있으므로, 액티브 영역 내에는 광이 조사되지 않도록 주의한다. 임의 틸트각이 정해진 배향막에 광이 재조사되면 배향 정도에 영향을 주어 배향력이 감소되기 때문이다.At this time, since the alignment film 24 having low light resistance is formed in the active region, care should be taken not to irradiate light into the active region. This is because when the light is irradiated onto the alignment film having a predetermined tilt angle, the degree of orientation is affected and the orientation force is reduced.

그런데, 이와같이 상기 대향합착된 상,하부 기판(31, 32) 상에 액티브영역이 마스킹되도록 마스크(25)를 씌우고, 상기 마스크(25) 상부에서 광원(29)으로부터 제공되는 UV를 조사하는 씨일제 경화 방법은 추가적인 마스크가 필요할 뿐만 아니라 상, 하부 기판(31, 32) 상에 마스크를 씌우고 얼라인(align)하는 공정이 필요하므로 공정이 복잡하고 불량률을 증가시키는 요인이 될 수 있다.However, the sealing agent 25 is coated on the opposing bonded upper and lower substrates 31 and 32 so that an active region is masked, and the sealing agent irradiates UV provided from the light source 29 on the mask 25. Since the hardening method requires an additional mask and a process of masking and aligning the mask on the upper and lower substrates 31 and 32, the process may be complicated and increase the defective rate.

또한, 상기 상, 하부 기판(31, 32)에서 씨일제(23)가 형성되는 부분은 일부분으로서 액티브 영역 내에는 마스크(25)에 의해 UV가 조사되지 않으므로 상기 씨일제(23)가 형성된 부분에 조사되는 UV를 제외한 대부분의 UV는 차단되어 UV사용 효율이 떨어지는 문제점이 있다.In the upper and lower substrates 31 and 32, portions where the sealant 23 is formed are partially irradiated with UVs by the mask 25 in the active region. Most of the UV except the irradiated UV is blocked and there is a problem that the UV use efficiency is lowered.

한편, 앞서 설명한 단계에서, 상,하부 기판(31, 32) 내측면에 선택적으로 배향막을 형성하고 러빙법을 이용하여 배향 처리하는 단계에 있어서, 상기 러빙법으로 종래 액정 분자의 초기 배열 방향을 결정하기 위한 배향막 형성 과정을 좀 더 상세히 설명하면 다음과 같다.Meanwhile, in the above-described step, in the step of selectively forming the alignment film on the inner surface of the upper and lower substrates 31 and 32 and performing the alignment process using the rubbing method, the initial alignment direction of the conventional liquid crystal molecules is determined by the rubbing method. Hereinafter, a process of forming an alignment film for explaining in more detail is as follows.

먼저, 배향막의 형성은 고분자 박막을 도포하고 배향막을 일정한 방향으로 배열시키는 공정으로 이루어진다.First, the alignment film is formed by applying a polymer thin film and arranging the alignment film in a predetermined direction.

상기 배향막에는 일반적으로 폴리이미드(polyimide) 계열의 유기물질이 주로 사용되고, 상기 배향막을 배열시키는 방법으로는 주로 러빙(rubbing) 방법이 이용 되고 있다.In general, a polyimide-based organic material is mainly used for the alignment layer, and a rubbing method is mainly used to arrange the alignment layer.

이와같은 러빙 방법은 먼저 기판 위에 폴리이미드 계열의 유기 물질을 도포하고, 60 ~ 80℃ 정도의 온도에서 용제를 날리고 정렬시킨 후, 80 ~ 200℃ 정도의 온도에서 경화시켜 폴리이미드 배향막을 형성한 후, 벨벳(velvet) 등을 감은 러빙포를 이용하여 상기 배향막을 일정한 방향으로 문질러 줌으로써 배향 방향을 형성시키는 방법이다.In such a rubbing method, a polyimide-based organic material is first applied onto a substrate, the solvent is blown and aligned at a temperature of about 60 to 80 ° C., and then cured at a temperature of about 80 to 200 ° C. to form a polyimide alignment layer. It is a method of forming the orientation direction by rubbing the alignment layer in a predetermined direction using a rubbing cloth wound with a velvet or the like.

이러한 러빙에 의한 방법은 배향 처리가 용이하여 대량 생산에 적합하고, 안정된 배향을 할 수 있는 장점이 있다.Such a rubbing method has an advantage in that the alignment treatment is easy, suitable for mass production, and stable orientation.

그러나, 상기 러빙 방법은 러빙 진행시 결함이 있는 러빙포가 부착된 로울러를 사용할 경우에는 러빙의 불량이 생기게 된다.However, in the rubbing method, when using a roller having a defective rubbing cloth attached to the rubbing process, a rubbing defect occurs.

즉, 상기와 같은 러빙포를 이용한 러빙 방법은 배향막과 러빙포의 직접적인 접촉을 통해 이루어지므로 먼지(particle) 발생에 의한 액정 셀(cell)의 오염, 정전기 발생에 의하여 미리 기판에 설치된 TFT 소자의 파괴, 러빙 후의 추가적인 세정 공정의 필요, 대면적 적용시의 배향의 비균일성(non-uniformity) 등과 같은 여러 가지 문제점이 발생하게 되어 액정 표시 장치의 제조시의 수율을 떨어뜨리는 문제점이 있다.That is, since the rubbing method using the rubbing cloth is performed through the direct contact between the alignment film and the rubbing cloth, the destruction of the TFT element previously installed on the substrate due to contamination of the liquid crystal cell due to particle generation and generation of static electricity. In addition, various problems such as the need for an additional cleaning process after rubbing and non-uniformity of the orientation in large-area applications may occur, which may lower the yield in manufacturing the liquid crystal display.

본 발명은 액정 표시 장치에서 러빙 처리를 한 배향막이 형성되고 씨일제가 도포되어 대향 합착된 상, 하부 기판 전면에 편광된 UV를 조사함으로써 상기 씨일제를 경화함과 동시에 상기 러빙 처리된 배향막을 광 배향시켜 양호한 배향막 특성 을 가지고 화질 품위를 향상시킬 수 있는 액정 표시 장치 및 그 제조 방법을 제공하는 데 그 목적이 있다. According to the present invention, an alignment layer subjected to a rubbing treatment is formed in a liquid crystal display, and a sealant is applied to the opposingly bonded upper and lower substrates, thereby irradiating polarized UV to harden the sealant and simultaneously light the rubbed alignment layer. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, which are capable of improving the image quality quality by having an alignment film property with good alignment.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정 표시 장치는, 제 1 기판 및 제 2 기판과; 상기 제 1 기판 상에 형성된 박막 트랜지스터와; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판의 외곽부에 형성된 씨일제와; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 상에 각각 1차 배향 처리되어 형성되며, 2차 배향처리가 동시에 이루어진 제 1, 2 배향막;을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a liquid crystal display device according to the present invention, the first substrate and the second substrate; A thin film transistor formed on the first substrate; A sealant formed on outer portions of the first substrate and the second substrate; And first and second alignment layers formed on the first substrate and the second substrate by primary alignment treatment, respectively, and the secondary alignment treatment is performed at the same time.

상기 제 1 기판은, 서로 종횡으로 교차되어 화소 영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선과; 상기 게이트 배선 및 데이터 배선의 교차 영역에 형성된 박막 트랜지스터와; 상기 화소 영역에서 소정 간격 이격되어 엇갈려 형성된 화소 전극 및 공통 전극과; 상기 화소 전극 및 공통 전극 상에 형성된 배향막;을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The first substrate includes: a gate wiring and a data wiring crossing each other longitudinally and horizontally to define a pixel region; A thin film transistor formed at an intersection of the gate wiring and the data wiring; A pixel electrode and a common electrode which are alternately spaced apart from each other in the pixel region; And an alignment layer formed on the pixel electrode and the common electrode.

상기 1차 배향처리를 러빙법으로 이루어진 것을 특징으로 한다.The primary alignment treatment is characterized by consisting of a rubbing method.

상기 2차 배향처리는 편광된 UV에 의해 이루어진 것을 특징으로 한다.The secondary alignment treatment is characterized in that made by polarized UV.

상기 씨일제는 상기 제 1, 2 배향막이 편광 UV에 의해 2차 배향처리됨과 동시에 광 경화된 것을 특징으로 한다.The sealant is characterized in that the first and second alignment layers are photo-cured at the same time as the secondary alignment treatment by polarized UV.

제 1 기판에 박막 트랜지스터를 포함한 어레이 소자를 형성하는 단계와; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 상에 제 1, 2 배향막이 형성되는 단계와; 상기 제 1, 2 배향막에 러빙처리하는 단계와; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판의 외곽부에 씨일제 를 형성하는 단계와; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판을 합착하는 단계와; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판의 전면에 편광 UV를 조사하여 상기 씨일제를 경화시키고 상기 제 1, 2 배향막을 광배향시키는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.Forming an array element including a thin film transistor on a first substrate; Forming first and second alignment layers on the first substrate and the second substrate; Rubbing the first and second alignment layers; Forming a sealant on an outer portion of the first substrate or the second substrate; Bonding the first substrate and the second substrate to each other; And irradiating polarized UV to the entire surface of the first substrate or the second substrate to cure the sealant and to photoalign the first and second alignment layers.

상기 러빙 방향과 상기 편광 방향은 서로 수직한 것을 특징으로 한다.The rubbing direction and the polarization direction are characterized in that they are perpendicular to each other.

상기 제 1 기판 상에 수평 방향으로 서로 소정 간격 이격하여 게이트 배선과 공통 배선을 형성하는 단계와; 상기 게이트 배선과 수직한 방향으로 데이터 배선을 형성하는 단계와; 상기 데이터 배선에 평행하는 복수개의 공통 전극을 형성하고, 상기 공통 전극과 엇갈려 교차하는 화소 전극을 형성하는 단계와; 상기 화소 전극을 포함하는 제 1 기판 상에 제 1 배향막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.Forming a gate line and a common line on the first substrate by being spaced apart from each other by a predetermined distance in a horizontal direction; Forming a data line in a direction perpendicular to the gate line; Forming a plurality of common electrodes parallel to the data lines, and forming a pixel electrode crossing and crossing the common electrodes; The method may further include forming a first alignment layer on the first substrate including the pixel electrode.

상기 제 2 기판 상에 칼라 필터층 및 블랙 매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 제 2 기판 상에 제 2 배향막을 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.Forming a color filter layer and a black matrix on the second substrate; Forming a second alignment layer on the second substrate; characterized in that it further comprises.

상기 제 1 기판 및 제 2 기판에 편광 UV를 동시에 조사하는 것을 특징으로 한다.The polarizing UV is irradiated to the first substrate and the second substrate at the same time.

상기 제 1 기판과 제 2 기판에 편광 UV가 적어도 한번 이상 조사되는 것을 특징으로 한다.Polarized UV is irradiated to the first substrate and the second substrate at least once.

이하, 첨부한 도면을 참조로 하여 본 발명에 따른 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 대해서 구체적으로 설명한다.Hereinafter, a liquid crystal display and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 보여주는 순서도이고, 도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 공정에서 일부를 개념적으로 도시한 도면이다.4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display according to the present invention, and FIGS. 5A to 5C are conceptual views illustrating a part of the manufacturing process of the liquid crystal display according to the present invention.

도 4에 도시된 바와 같이, TFT어레이공정과 컬러필터공정을 통해 하부기판(TFT어레이기판) 및 상부기판(컬러필터기판)에 각각 구동소자인 TFT와 컬러필터층을 형성한다(S201,S202). As shown in FIG. 4, TFTs and color filter layers, which are driving elements, are formed on the lower substrate (TFT array substrate) and the upper substrate (color filter substrate) through the TFT array process and the color filter process (S201 and S202).

여기서, 상기 하부 기판에는, 일정 간격을 갖고 일 방향으로 배열되는 복수개의 게이트 라인과, 상기 각 게이트 라인과 수직한 방향으로 일정한 간격으로 배열되는 복수개의 데이터 라인과, 상기 각 게이트 라인과 데이터 라인이 교차되어 정의된 각 화소영역에 매트릭스 형태로 형성되는 복수개의 화소 전극과 상기 게이트 라인의 신호에 의해 스위칭되어 상기 데이터 라인의 신호를 상기 각 화소 전극에 전달하는 복수개의 박막 트랜지스터가 형성된다.Here, the lower substrate may include a plurality of gate lines arranged in one direction at a predetermined interval, a plurality of data lines arranged at regular intervals in a direction perpendicular to the gate lines, and the gate lines and the data lines. A plurality of pixel electrodes formed in a matrix form in each pixel region defined by crossing and a plurality of thin film transistors that are switched by signals of the gate line and transfer the signal of the data line to each pixel electrode are formed.

그리고 상기 상부 기판에는, 상기 화소 영역을 제외한 부분의 빛을 차단하기 위한 블랙 매트릭스층과, 컬러 색상을 표현하기 위한 R, G, B 컬러 필터층과 화상을 구현하기 위한 공통 전극이 형성된다.In the upper substrate, a black matrix layer for blocking light in portions other than the pixel region, R, G, and B color filter layers for expressing color colors and a common electrode for implementing an image are formed.

한편, 본 발명에 따라 제작되는 액정 표시 장치는, 상기 공통 전극이 상부 기판에 형성되는 수직 전계 방식의 TN(twisted nematic)모드, VA(vertical alignment)모드의 액정 표시 장치도 있으며, 상기 공통 전극은 하부에 형성될 수 있으며, 예를 들어 IPS(in plane switching)모드, FFS(fringe field switching)모드 액정 표시 장치 등이 있으며, 여러가지 모드의 액정 표시 장치에 적용될 수 있다.Meanwhile, the liquid crystal display device manufactured according to the present invention may include a liquid crystal display device in a twisted nematic (TN) mode and a vertical alignment (VA) mode in which a common electric field is formed on an upper substrate. It may be formed in the lower portion, for example, there is an IPS (in plane switching) mode, a fringe field switching (FFS) mode liquid crystal display device, and can be applied to the liquid crystal display device of various modes.

또한, 상부 기판을 제조하는 공정을 컬러필터공정이라고 지칭하기는 하나, 액정 표시 장치의 종류와 그에 따른 공정에 따라 컬러필터층 또는 블랙 매트릭스 공정이 하부 기판의 TFT어레이 공정과 함께 진행될 수도 있다.In addition, although the process of manufacturing the upper substrate is referred to as a color filter process, the color filter layer or the black matrix process may be performed together with the TFT array process of the lower substrate, depending on the type of liquid crystal display and the process thereof.

상기 TFT어레이공정과 컬러필터공정은 복수의 패널영역이 형성되는 대면적의 유리기판에 일괄적으로 진행된다.The TFT array process and the color filter process are carried out collectively on a large-area glass substrate on which a plurality of panel regions are formed.

우선, TFT어레이공정에 의해 하부 기판 상에 배열되어 화소 영역을 정의하는 복수의 게이트 라인(gate line) 및 데이터 라인(data line)을 형성하고 상기 화소 영역 각각에 상기 게이트 라인과 데이터 라인에 접속되는 구동 소자인 박막 트랜지스터를 형성한다.First, a plurality of gate lines and data lines which are arranged on a lower substrate to define a pixel region by a TFT array process are formed, and are connected to the gate line and the data line in each of the pixel regions. A thin film transistor which is a driving element is formed.

또한, 상기 TFT어레이 공정을 통해 상기 박막 트랜지스터에 접속되어 박막 트랜지스터를 통해 신호가 인가됨에 따라 액정층을 구동하는 화소 전극을 형성한다.In addition, a pixel electrode is connected to the thin film transistor through the TFT array process and drives a liquid crystal layer as a signal is applied through the thin film transistor.

또한, 상부기판에는 컬러 필터 공정에 의해 컬러를 구현하는 적, 녹, 청(R, G, B)의 컬러 필터층을 형성한다.In addition, the upper substrate is formed with a color filter layer of red, green, blue (R, G, B) to implement the color by the color filter process.

이어서, 도 5a에 도시된 바와 같이, 상기 TFT가 형성된 하부기판(100)과 컬러필터층이 형성된 상부기판(110)에 각각 배향막(101)을 도포한 후(S203) 러빙법을 이용하여 1차 배향 처리를 실행한다(S204).Subsequently, as shown in FIG. 5A, after the alignment layer 101 is applied to the lower substrate 100 on which the TFT is formed and the upper substrate 110 on which the color filter layer is formed (S203), the first alignment is performed using a rubbing method. The process is executed (S204).

상, 하부 기판(100, 110) 전면에 내열성, 액정과의 친화성이 우수한 폴리이미드(polyimide) 수지를 기판 상에 인쇄하고 건조시켜 배향막(101)을 형성하고 러빙 공정을 이용하여 1차 배향 처리를 하여 액정분자의 초기배향을 결정한다. A polyimide resin having excellent heat resistance and affinity with liquid crystals on the entire upper and lower substrates 100 and 110 is printed and dried on a substrate to form an alignment layer 101, and a primary alignment treatment using a rubbing process. The initial orientation of the liquid crystal molecules is determined by

상기 1차 배향 처리는 폴리이미드(polyimide)로 이루어지는 상기 제 1 배향막(381) 상에 벨벳(velvet), 레이온, 나일론 등을 감은 러빙포(120)를 이용하여 상기 배향막(101)을 일정한 방향으로 문질러 줌으로써 배향 방향을 형성시키는 러빙 방법이다.The primary alignment treatment is performed by aligning the alignment layer 101 in a predetermined direction using a rubbing cloth 120 wound with velvet, rayon, nylon, or the like on the first alignment layer 381 made of polyimide. It is a rubbing method which forms an orientation direction by rubbing.

그리고, 도 5b에 도시된 바와 같이, 상기 하부 기판(100) 또는 상부 기판(110)의 액정 패널 외곽부 영역에는 액정이 주입될 액정 주입구가 오픈되도록 씨일제(sealant)(103)를 인쇄한다(S205).As shown in FIG. 5B, a sealant 103 is printed in an outer region of the liquid crystal panel of the lower substrate 100 or the upper substrate 110 so that the liquid crystal injection hole for injecting the liquid crystal is opened ( S205).

그리고, 상기 상, 하부 기판(100, 110)을 대향 합착한다(S206).The upper and lower substrates 100 and 110 are opposed to each other (S206).

다음, 상기 씨일제(103)가 외곽부 영역에 인쇄되어 합착된 상, 하부 기판(100, 110)의 전면에 UV를 조사한다(S207).Next, the sealant 103 is irradiated with UV on the front surface of the upper and lower substrates 100 and 110 that are printed and bonded to the outer region (S207).

이때, 상기 씨일제(103)는 상기 UV에 의해 광경화되어 상,하부 기판을 완전 접착시킨다.In this case, the sealant 103 is photocured by the UV to completely adhere the upper and lower substrates.

동시에, 도 5c에 도시된 바와 같이, 상기 UV는 상, 하부 기판(100, 110)의 액티브 영역에도 조사되어 러빙에 의해 1차 배향 처리된 배향막을 광배향법으로 2차 배향 처리시킨다.At the same time, as shown in FIG. 5C, the UV is also irradiated to the active regions of the upper and lower substrates 100 and 110 to perform secondary alignment treatment on the alignment layer subjected to the primary alignment treatment by rubbing by photo alignment.

상기 2차 배향처리에서 사용되는 UV는 편광 조사 장치(130)에 의한 편광 UV를 사용하게 되며, 상기 편광 UV는 1차 배향 처리시에 러빙이 덜된 부분을 편광된 UV로서 배향 처리할 수 있다.The UV used in the secondary alignment treatment is to use polarized UV by the polarization irradiation device 130, the polarized UV can be subjected to the orientation treatment as the polarized UV in the portion of the rubbing less during the primary alignment treatment.

이후, 두 기판을 완전히 접착시킨 후, 상기 액정주입구를 통해 두 기판 사이에 액정을 주입하고, 상기 액정이 흘러나오지 않게 액정주입구를 봉지하면 액정패 널이 완성된다(S208).Thereafter, after completely bonding the two substrates, the liquid crystal is injected between the two substrates through the liquid crystal inlet, and the liquid crystal inlet is encapsulated so that the liquid crystal does not flow out (S208).

한편, 상기와 같이 액정 주입 방식이 아니라 액정 적하 방식으로도 액정 패널이 제작될 수 있으며, 상기 하부기판의 액정패널 영역에 액정을 적하하고(S209), 상, 하부 기판을 합착하여(S210) 합착된 상, 하부 기판의 전면에 UV를 조사한다(S211).Meanwhile, a liquid crystal panel may be manufactured by using a liquid crystal dropping method instead of a liquid crystal injection method as described above. The liquid crystal is dropped into the liquid crystal panel region of the lower substrate (S209), and the upper and lower substrates are bonded to each other (S210). The UV light is irradiated onto the entire surface of the lower substrate (S211).

이때, 상기 씨일제(103)는 상기 UV에 의해 광경화되어 상,하부 기판(100, 110)을 완전 접착시킨다.In this case, the sealant 103 is photocured by the UV to completely adhere the upper and lower substrates 100 and 110.

동시에, 상기 UV는 상, 하부 기판의 액티브 영역에도 조사되어 러빙에 의해 1차 배향 처리된 배향막을 광배향법으로 2차 배향 처리시킨다.At the same time, the UV is also irradiated to the active regions of the upper and lower substrates to perform the secondary alignment treatment of the alignment film subjected to the primary alignment treatment by rubbing by the optical alignment method.

이와 같은 공정에 의해 대면적의 유리기판(하부기판 및 상부기판)에는 액정층이 형성된 복수의 액정패널이 형성되며, 이 유리기판을 가공, 절단하여 복수의 액정패널로 분리하고 각각의 액정패널을 검사함으로써 액정표시장치를 제작하게 된다.Through this process, a plurality of liquid crystal panels having a liquid crystal layer are formed on glass substrates (lower substrates and upper substrates) having a large area. The glass substrates are processed and cut and separated into a plurality of liquid crystal panels. By inspecting, a liquid crystal display device is manufactured.

이와 같이, 상, 하부 기판에 형성된 배향막은 합착된 후에 편광 조사 장치를 이용하여 액정 패널 전면에 편광 조사 장치를 이용하여 편광 UV를 조사함으로써 씨일제를 경화시킬 수 있을 뿐만 아니라, 러빙된 배향막을 상기 편광 UV를 이용하여 광배향시킴으로써 배향이 안된 배향물질의 체인(chain)구조를 끊어지도록 하여 양호한 배향 특성을 가지는 배향막을 형성할 수 있다.As such, after the alignment layers formed on the upper and lower substrates are bonded together, the sealant may be cured by irradiating polarized UV on the entire surface of the liquid crystal panel using the polarization irradiator using the polarization irradiator. By photoalignment using polarized UV, the chain structure of the alignment material that is not aligned may be broken to form an alignment layer having good alignment characteristics.

그리고, 상기 편광 조사 장치를 이용하여 액정 패널의 상부 기판으로 조사할 수도 있고, 액정 패널의 하부 기판으로 조사할 수도 있다.And it can also irradiate to the upper substrate of a liquid crystal panel using the said polarization irradiation apparatus, and can irradiate to the lower substrate of a liquid crystal panel.

특히, 상, 하부 기판중 어느 한 기판에 공통 전극과 화소 전극이 형성되는 횡전계방식 액정 표시 장치는 상기 공통 전극과 화소 전극, 게이트 배선 및 데이터 배선이 단차를 이루며 스트라이프 또는 지그재그 패턴으로 형성되기 때문에 상기 단차 부분에서 러빙에 의한 배향 처리가 특히 미흡할 수 있으므로, 본 발명에 따른 1, 2 차 배향 처리 방법은 더욱 효과적이다.In particular, in the transverse electric field type liquid crystal display device in which the common electrode and the pixel electrode are formed on one of the upper and lower substrates, the common electrode, the pixel electrode, the gate wiring, and the data wiring are formed in a stripe or zigzag pattern. Since the alignment treatment by rubbing in the stepped portion may be particularly insufficient, the primary and secondary alignment treatment methods according to the present invention are more effective.

도 6은 본 발명에 따른 횡전계 방식 액정 표시 장치를 보여주는 도면이다.6 illustrates a transverse electric field type liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 6에 도시된 바와 같이, 어레이 기판(210) 상에 신호 지연의 방지를 위해 낮은 비저항을 가지는 저저항 금속을 증착한 후 포토 리쏘그라피(photo lithography) 방법으로 패터닝하여, 게이트 배선 및 상기 게이트 배선에서 분기되는 박막 트랜지스터의 게이트 전극(214)을 형성한다.As shown in FIG. 6, a low resistivity metal having a low resistivity is deposited on the array substrate 210 and then patterned by photolithography to form a gate wiring and the gate wiring. A gate electrode 214 of the thin film transistor branched at is formed.

상기 저저항 금속으로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴-텡스텐(MoW) 등을 사용한다.As the low resistance metal, copper (Cu), aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd), molybdenum (Mo), chromium (Cr), titanium (Ti), tantalum (Ta), molybdenum-tungsten (MoW), etc. Use

상기 게이트 배선 및 게이트 전극(214)을 형성할 때, 상기 게이트 배선과 평행하는 공통 배선 및 상기 공통 배선에서 분기되는 복수개의 공통 전극(217)을 동시에 형성한다.When the gate line and the gate electrode 214 are formed, a common line parallel to the gate line and a plurality of common electrodes 217 branched from the common line are simultaneously formed.

상기 게이트 배선을 포함한 전면에 실리콘 질화물(SiNx) 또는 실리콘 산화물(SiOx) 등의 무기절연물질을 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 방법 등으로 증착하여 게이트 절연막(219)을 형성한다.An inorganic insulating material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx) is deposited on the entire surface including the gate wiring by a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method to form a gate insulating film 219.

그리고, 상기 게이트 절연막(219) 위에 비정질 실리콘 등의 물질을 증착하고 선택적으로 제거하여 상기 게이트 전극(214) 상부의 게이트 절연막(219) 위에 섬(island) 모양으로 반도체층(227)을 형성한다.Subsequently, a material such as amorphous silicon is deposited on the gate insulating layer 219 and selectively removed to form a semiconductor layer 227 in an island shape on the gate insulating layer 219 on the gate electrode 214.

이때, 상기 비정질 실리콘층(227a)에 불순물 이온을 주입한 오믹콘택층(227b)을 더 형성하여 패터닝할 수 있다.In this case, an ohmic contact layer 227b in which impurity ions are implanted into the amorphous silicon layer 227a may be further formed and patterned.

상기 게이트 절연막(219) 상부의 전면에 Cr, Al, Cu, Mo, Ti, Ta, MoW, Al 합금 등의 금속을 증착한 후 포토식각기술로 패터닝하여, 상기 게이트 배선과 수직 방향으로 교차되어 화소 영역을 정의하는 데이터 배선을 형성하고, 상기 데이터 배선과 동시에 상기 반도체층(227) 양끝에 각각 배치되는 소스 전극 및 드레인 전극(226, 228)을 형성한다.Metals such as Cr, Al, Cu, Mo, Ti, Ta, MoW, and Al alloys are deposited on the entire surface of the gate insulating layer 219 and patterned by photolithography. A data line defining a region is formed, and source and drain electrodes 226 and 228 disposed at both ends of the semiconductor layer 227 are formed at the same time as the data line.

그리고, 상기 데이터 배선을 포함한 어레이 기판(210) 전면에 실리콘 질화막 또는 유기 절연막인 BCB(벤조씨클로부틴)를 도포하여 보호막(238)을 형성하고, 상기 드레인 전극(228)에 콘택홀(도시되지 않음)을 형성한다.In addition, a silicon nitride film or BCB (benzocyclobutin), which is an organic insulating film, is coated on the entire surface of the array substrate 210 including the data line to form a protective film 238, and a contact hole (not shown) is formed in the drain electrode 228. ).

그리고, 전면에 투명 도전 물질인 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)을 이용하여 투명 도전막을 증착하고 패터닝하여 상기 드레인 전극(228)과 연결되고 상기 데이터 배선과 평행하면서 상기 공통 전극(217) 사이에 위치되어 상기 공통 전극(217)과 서로 교번되도록 복수의 화소 전극(230)을 형성한다.In addition, a transparent conductive layer is deposited and patterned on the entire surface using indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), which is a transparent conductive material, and is connected to the drain electrode 228 and parallel to the data line. The plurality of pixel electrodes 230 may be formed to be disposed between the first and second electrodes 217 to alternate with the common electrode 217.

여기서, 상기 화소 전극(230)을 금속 물질로 형성할 경우, 도면에 도시되지는 않았지만, 상기 보호막(238)을 형성하기 전에 상기 데이터 배선과 동일 물질로 상기 데이터 배선과 동시에 형성할 수도 있다.When the pixel electrode 230 is formed of a metal material, although not shown in the drawing, the pixel electrode 230 may be formed of the same material as the data line and the data line before forming the passivation layer 238.

상기 화소 전극(230)을 포함한 전면에 배향막 물질을 형성하는데, 내열성, 액정과의 친화성이 우수한 폴리이미드(polyimide) 수지를 기판 상에 인쇄하고 건조시켜 제 1 배향막(281)을 형성하고 러빙 공정을 이용하여 1차 배향 처리를 한다.An alignment layer material is formed on the entire surface including the pixel electrode 230. A polyimide resin having excellent heat resistance and affinity for liquid crystal is printed and dried on a substrate to form a first alignment layer 281 and a rubbing process. The primary alignment treatment is performed using.

상기 배향막 물질로서 폴리이미드 수지 이외에도 UV조사시에 선택적으로 절단되는 결합을 가지는 고분자를 포함하는 폴리아미산(polyamic acid), 폴리에틸렌이민(polyethyleneimine), 폴리비닐알콜(polyvinyl alcohole), 폴리아미드(polyamide), 폴리에틸렌(polyethylene), 폴리스틸렌(polystylene), 폴리페닐네프탈라미드(polyphenylenephthalamide), 폴리에스테르(polyester), 폴리우레탄(polyurethanes), 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate)등이 있다.In addition to the polyimide resin, polyamic acid, polyethyleneimine, polyvinyl alcohol, polyamide, polyamide, etc. Polyethylene, polystylene, polyphenylenephthalamide, polyester, polyurethanes, polymethylmethacrylate, and the like.

상기 1차 배향 처리는 폴리이미드(polyimide)로 이루어지는 상기 제 1 배향막(281) 상에 벨벳(velvet), 레이온, 나일론 등을 감은 러빙포(233)를 이용하여 상기 제 1 배향막(281)을 일정한 방향으로 문질러 줌으로써 배향 방향을 형성시키는 러빙 방법이다.The first alignment treatment is performed by fixing the first alignment layer 281 using a rubbing cloth 233 wound with velvet, rayon, nylon, and the like on the first alignment layer 281 made of polyimide. It is a rubbing method which forms an orientation direction by rubbing in a direction.

한편, 컬러 필터 기판(270) 상에 액정을 제어할 수 없는 부분, 즉, 게이트 배선, 데이터 배선, 박막 트랜지스터 부분에서의 빛샘을 방지하기 위하여 크롬(Cr), 크롬 산화물(CrOx) 등과 같은 반사율이 높은 금속 또는 블랙 레진(black resin)을 이용하여 블랙 매트릭스(273)를 형성한다.On the other hand, reflectance such as chromium (Cr), chromium oxide (CrOx), or the like is prevented on the color filter substrate 270 to prevent light leakage from a portion where the liquid crystal cannot be controlled, that is, the gate wiring, the data wiring, and the thin film transistor portion. High metal or black resin is used to form the black matrix 273.

이후, 상기 블랙 매트릭스(273) 사이에 전착법, 안료분산법, 도포법 등을 이용하여 색상 구현을 위한 적(R), 녹(G), 청(B)의 컬러필터층(275)을 형성하고, 도시하지는 않았으나 상기 컬러필터층(275)을 보호하기 위해 컬러필터층(275)을 포함 한 전면에 오버코트층(279)을 형성할 수도 있다.Thereafter, red (R), green (G), and blue (B) color filter layers 275 are formed between the black matrices 273 by using electrodeposition, pigment dispersion, and coating. Although not shown, an overcoat layer 279 may be formed on the entire surface including the color filter layer 275 to protect the color filter layer 275.

다음으로, 상기 오버코트층(279) 상부에 액정과의 친화성이 뛰어나고 감광 특성을 가진 폴리이미드 물질을 인쇄하여 제 2 배향막(282)을 형성하고 상기에서 설명한 제 1 배향막(281)의 배향 처리 방법과 같이 러빙 공정인 1차 배향 처리를 실시한다.Next, a second alignment layer 282 is formed by printing a polyimide material having excellent affinity with liquid crystals and photosensitive characteristics on the overcoat layer 279 and forming the second alignment layer 281 as described above. As described above, the primary alignment treatment, which is a rubbing process, is performed.

계속하여, 상기 어레이 기판(210) 또는 컬러 필터 기판(270)에 칼럼 스페이서(도시되지 않음)를 형성한 후, 상기 어레이 기판(210) 또는 컬러 필터(270) 기판의 가장자리에 씨일제(203)를 형성하여 상기 어레이 기판(210), 컬러 필터 기판(270)을 합착하여 액정 패널을 완성한다.Subsequently, after forming column spacers (not shown) on the array substrate 210 or the color filter substrate 270, the sealant 203 is formed at an edge of the array substrate 210 or the color filter 270 substrate. The liquid crystal panel is formed by bonding the array substrate 210 and the color filter substrate 270.

그리고, 편광 조사 장치를 이용하여 액정 패널의 어레이 기판(210) 상에서 전면에 편광 UV를 조사한다.And the polarizing UV is irradiated to the whole surface on the array substrate 210 of a liquid crystal panel using a polarizing irradiation apparatus.

상기 편광 UV에 의하여 상기 씨일제(203)는 광경화가 이루어지며, 상기 어레이 기판(210), 컬러 필터 기판(270)의 최상층에 형성된 제 1, 2, 배향막(281, 282)은 편광 UV에 의해서 광배향으로 2차 배향 처리된다.The sealant 203 is photocured by the polarized UV, and the first, second, and alignment layers 281 and 282 formed on the top layer of the array substrate 210 and the color filter substrate 270 are polarized by UV. Secondary alignment treatment is performed with photo-alignment.

이때, 상기 제 1, 2 배향막(281, 282)은 러빙에 의해서 배향 처리되어 있으며, 상기 2차 배향에 의해 배향이 이루어지지 않은 부분의 체인이 끊어져 양호한 특성의 배향막이 형성된다. 예를 들어, 전극부, 배선부와 같이 단차부(K)가 발생하는 부분에서는 러빙이 잘 이루어지지 않는데, 이와 같은 부분에 상기 편광 UV가 조사되면 균일하게 배향처리가 된다.At this time, the first and second alignment layers 281 and 282 are oriented by rubbing, and the chain of the unaligned portion is broken by the secondary alignment to form an alignment layer having good characteristics. For example, rubbing is not performed well in a portion where the stepped portion K occurs, such as an electrode portion and a wiring portion.

이때, 상기 편광 방향은 상기 러빙 방향과 수직한 방향으로 이루어지는 것이 바람직하다.At this time, the polarization direction is preferably made in a direction perpendicular to the rubbing direction.

특히, 1차 배향 처리를 실시한 제 1 배향막(281)에 편광 UV 조사와 같은 2차 배향 처리를 하면 전극부 주변 단차부(K)에서 배향이 균일하게 이루어진다.In particular, when the second alignment treatment such as polarized UV irradiation is applied to the first alignment film 281 subjected to the primary alignment treatment, the alignment is uniformly performed at the step portion K around the electrode portion.

도 7은 도 6에서 도시된 횡전계 방식 액정 표시 장치에서 단차부(K)의 2차 배향 공정을 확대하여 보여주는 도면이다.FIG. 7 is an enlarged view illustrating a second alignment process of the stepped portion K in the transverse electric field type liquid crystal display shown in FIG. 6.

도 7을 참조하면, 어레이 기판(210) 상에 공통 전극(217)이 형성되어 있으며, 상기 공통 전극(217) 상에 게이트 절연막(219), 보호막(238), 상기 제 1 보호막(281) 상에 화소 전극(230)이 형성되어 있다.Referring to FIG. 7, a common electrode 217 is formed on an array substrate 210, and a gate insulating film 219, a protective film 238, and a first protective film 281 are formed on the common electrode 217. The pixel electrode 230 is formed.

그리고, 상기 화소 전극(230)과 공통 전극(217)이 형성된 어레이 기판(210) 전면에는 러빙에 의해 1차 배향 처리된 제 1 배향막(281)이 형성되어 있다.A first alignment layer 281 subjected to primary alignment by rubbing is formed on the entire surface of the array substrate 210 on which the pixel electrode 230 and the common electrode 217 are formed.

상기 어레이 기판(210)과 대향하여 합착된 컬러필터 기판(270) 상에서 편광 조사 장치가 배치되어 상기 액정 패널 전면에 편광 UV를 조사하며, 상기 편광 UV는 상기 컬러필터 기판(270)을 투과하여 상기 어레이 기판(210) 상으로 조사된다. 이때, 상기 컬러필터 기판(270)의 블랙 매트릭스(273) 형성 위치는 상기 편광 UV가 투과할 수 없다.A polarization irradiation apparatus is disposed on the color filter substrate 270 bonded to the array substrate 210 to irradiate polarized UV on the entire surface of the liquid crystal panel, and the polarized UV is transmitted through the color filter substrate 270 to thereby Irradiated onto the array substrate 210. In this case, the polarization UV cannot transmit to the black matrix 273 formed position of the color filter substrate 270.

여기서, 상기 제 1 배향막(281)은 러빙포가 잘 닿지 않아 단차부(K)에서 배향이 잘 이루어지지 않으며, 이와 같은 단차부에 씨일제(203) 경화와 함께 이루어지는 편광 UV조사에 의해 2차 배향 처리가 이루어지므로 단차부(K)에서 배향 특성이 개선되는 효과가 있다.In this case, the first alignment layer 281 is difficult to align the rubbing cloth because the rubbing cloth does not touch well, and the second alignment is performed by polarized UV irradiation made with the curing agent 203 in such a stepped portion. Since the treatment is performed, there is an effect that the orientation characteristics in the stepped portion (K) is improved.

한편, 편광 조사 장치는 액정 패널의 외면으로 조사되므로, 편광 UV는 유리 기판으로 이루어진 상기 어레이 기판(210) 또는 컬러 필터 기판(270)을 투과하여 액정 패널 내부에 형성된 배향막을 광 배향 처리시키게 된다.On the other hand, since the polarization irradiation device is irradiated to the outer surface of the liquid crystal panel, the polarized UV light is transmitted through the array substrate 210 or the color filter substrate 270 made of a glass substrate to photo-align the alignment film formed inside the liquid crystal panel.

도 8은 본 발명에 따른 횡전계 방식 액정 표시 장치에서 편광 조사 장치의 위치를 배면으로 배치하여, 단차부의 2차 배향 공정을 확대하여 보여주는 도면이다.8 is a view showing an enlarged position of the second alignment process of the stepped portion by arranging the position of the polarization irradiating device to the rear side in the transverse electric field type liquid crystal display device according to the present invention.

도 8을 참조하면, 어레이 기판(210) 상에 공통 전극(217)이 형성되어 있으며, 상기 공통 전극(217) 상에 게이트 절연막(219), 보호막(238), 상기 보호막(238) 상에 화소 전극(230)이 형성되어 있다.Referring to FIG. 8, a common electrode 217 is formed on the array substrate 210, and a pixel is disposed on the gate insulating layer 219, the passivation layer 238, and the passivation layer 238 on the common electrode 217. The electrode 230 is formed.

그리고, 상기 화소 전극(230)과 공통 전극(217)이 형성된 어레이 기판(210) 전면에는 러빙에 의해 1차 배향 처리된 제 1 배향막(281)이 형성되어 있다.A first alignment layer 281 subjected to primary alignment by rubbing is formed on the entire surface of the array substrate 210 on which the pixel electrode 230 and the common electrode 217 are formed.

그리고, 상기 어레이 기판(210) 배면에서 편광 조사 장치를 이용하여 편광 UV를 조사한다.Then, polarized UV is irradiated from the rear surface of the array substrate 210 using a polarization irradiation device.

따라서, 상기 어레이 기판(210)의 유리 기판을 투과한 편광 UV는 상기 공통 전극(217)과 같이 금속으로 이루어진 부분을 제외한 나머지 부분을 통과하여 액정 패널의 내부에 형성되어 1차 배향처리된 제 1, 2 배향막(281, 282)이 2차 배향처리된다.Therefore, the polarized UV light transmitted through the glass substrate of the array substrate 210 is formed inside the liquid crystal panel through the remaining portions except for the metal portion, such as the common electrode 217, and is subjected to the first alignment process. The second alignment films 281 and 282 are subjected to secondary alignment.

상기 제 1 배향막(281)은 러빙포가 잘 닿지 않아 단차부에서 배향이 잘 이루어지지 않으며, 이와 같은 단차부(K)에 씨일제(203) 경화와 함께 이루어지는 편광 UV조사에 의해 2차 배향 처리가 이루어지므로 단차부에서 배향 특성이 개선되는 효과가 있다.The first alignment layer 281 is difficult to align the rubbing cloth at the stepped portion, so that the secondary alignment treatment is performed by polarized UV irradiation formed with the curing agent 203 at the stepped portion K. Since it is made, there is an effect that the orientation characteristics in the step portion is improved.

특히, 상기 공통 전극(217)과 같이 상부에 절연막이 형성되고, 그 위에 배향막이 도포되는 경우에는 배향막에 단차가 지는 부분(K)이 공통 전극의 단차부에서 절연막이 적층됨에 따라 소정 간격을 두고 외측으로 형성되므로 편광 UV가 배면에서 조사될 시 상기 공통 전극은 편광 UV가 차단되어도 상기 단차가 지는 배향막에는 광이 조사될 수 있다.In particular, when the insulating film is formed on the upper portion of the common electrode 217 and the alignment film is applied thereon, the portion K having a step on the alignment film is spaced at a predetermined interval as the insulating film is stacked at the stepped portion of the common electrode. When the polarized UV is irradiated from the rear side, the common electrode may be irradiated with light to the alignment layer having the step even when the polarized UV is blocked.

본 발명은 액정 패널의 전면 또는 배면에서 편광 조사 장치를 이용하여 전면에 편광 UV를 조사함으로써 씨일제를 경화시킬 뿐만 아니라, 어레이 기판과 컬러필터 기판의 제 1, 2 배향막을 동시에 2차 배향처리할 수 있다.The present invention not only cures the sealant by irradiating polarized UV to the front surface of the liquid crystal panel by using a polarization irradiation device, but also simultaneously performs secondary alignment treatment of the first and second alignment layers of the array substrate and the color filter substrate. Can be.

이와 같이 1차 배향 처리를 실시한 제 1 배향막(281)에 광 조사와 같은 2차 배향 처리를 하면 전극부 주변 단차부(K)에서 배향이 균일하게 이루어진다.As described above, when the second alignment treatment such as light irradiation is applied to the first alignment film 281 subjected to the primary alignment treatment, the alignment is uniformly performed at the step portion K around the electrode portion.

이로써 상기 배향막에서 1차 배향 처리인 러빙에 의해서 배향이 불균일하게 이루어진 전극 주변의 단차부(K)에만 광을 부분 조사함으로써 추가적인 2차 배향 처리를 함으로써 액정 주입 및 봉지 공정에서, 상기 액정 패널에 액정을 주입하면, 상기 액정이 액정 패널 내부에서 균일하게 배향되므로 단차부(K) 등에서 발생되는 빛샘을 제거할 수 있다.As a result, the liquid crystal is injected and encapsulated in the liquid crystal panel by performing an additional secondary alignment treatment by partially irradiating light only on the stepped portion K around the electrode where the alignment is uneven by rubbing, which is a primary alignment treatment, in the alignment layer. When injected into the liquid crystal, since the liquid crystal is uniformly aligned within the liquid crystal panel, light leakage generated in the stepped portion K may be removed.

한편, 본 발명은 액정 패널에 편광 조사 장치를 이용하여 배향막에 2차 배향처리와 동시에 씨일제를 광경화시킬 수 있을 뿐만 아니라, 상기 편광 조사 장치는 전면, 배면에 적어도 한번 이상 편광을 조사하여 광 경화를 진행할 수도 있다.On the other hand, the present invention can not only photo-curing the sealant at the same time as the secondary alignment treatment to the alignment film by using a polarizing irradiation device in the liquid crystal panel, the polarizing irradiation device is irradiated with polarized light at least once or more on the front and back Hardening can also be advanced.

이상 전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 액정 표시 장치 및 그 제조 방법은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가 진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.As described above, the liquid crystal display device and the manufacturing method thereof according to the present invention are not limited thereto, and it is apparent that modifications and improvements can be made by those skilled in the art within the technical idea of the present invention. Do.

본 발명은 편광 조사 장치를 이용하여 편광 UV로 액정 패널의 씨일제를 경화시키고 액정 패널 내부의 러빙처리된 배향막을 UV 배향시킴으로써 배향 특성을 개선하고 액정의 배향이 균일하게 하여 빛샘등을 방지하고 화질을 개선시키는 효과가 있다.The present invention improves the alignment characteristics by curing the sealant of the liquid crystal panel with polarized UV and UV-aligning the rubbed alignment film inside the liquid crystal panel by using a polarization irradiator, and uniformly aligns the liquid crystal to prevent light leakage and the image quality. Has the effect of improving.

또한, 본 발명은 씨일제 경화와 동시에 광배향 공정을 진행할 수 있어 공정 스텝을 줄일 수 있고 제조 수율을 향상시키는 효과가 있다.In addition, the present invention can proceed with the photo-alignment process simultaneously with the curing of the sealant can reduce the process step and has the effect of improving the production yield.

Claims (12)

제 1 기판 및 제 2 기판과;A first substrate and a second substrate; 상기 제 1 기판 상에 형성된 박막 트랜지스터와;A thin film transistor formed on the first substrate; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판의 외곽부에 형성된 씨일제와;A sealant formed on outer portions of the first substrate and the second substrate; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 상에 각각 1차 배향 처리되어 형성되며, 2차 배향처리가 동시에 이루어진 제 1, 2 배향막;을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And first and second alignment layers formed on the first substrate and the second substrate by primary alignment treatment, respectively, and the secondary alignment treatment is performed at the same time. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 기판은, The first substrate, 서로 종횡으로 교차되어 화소 영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선과;A gate wiring and a data wiring crossing each other longitudinally and horizontally to define a pixel region; 상기 게이트 배선 및 데이터 배선의 교차 영역에 형성된 박막 트랜지스터와;A thin film transistor formed at an intersection of the gate wiring and the data wiring; 상기 화소 영역에서 소정 간격 이격되어 엇갈려 형성된 화소 전극 및 공통 전극과;A pixel electrode and a common electrode which are alternately spaced apart from each other in the pixel region; 상기 화소 전극 및 공통 전극 상에 형성된 배향막;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And an alignment layer formed on the pixel electrode and the common electrode. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 배향막은 폴리이미드(polyimide), 폴리아미산(polyamic acid), 폴리에틸렌이민(polyethyleneimine), 폴리비닐알콜(polyvinyl alcohole), 폴리아미드(polyamide), 폴리에틸렌(polyethylene), 폴리스틸렌(polystylene), 폴리페닐네프탈라미드(polyphenylenephthalamide), 폴리에스테르(polyester), 폴리우레탄(polyurethanes), 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate) 중에서 선택되어진 물질인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.The alignment layer is made of polyimide, polyamic acid, polyethyleneimine, polyvinyl alcohol, polyamide, polyethylene, polystylene, polyphenylnephthala A liquid crystal display device, characterized in that the material selected from the group (polyphenylenephthalamide), polyester (polyester), polyurethane (polyurethanes), polymethylmethacrylate (polymethylmethacrylate). 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 1차 배향처리는 러빙법으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And the primary alignment treatment is a rubbing method. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 2차 배향처리는 편광 UV에 의해 이루어진 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And the secondary alignment treatment is performed by polarized UV. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 씨일제는 상기 제 1, 2 배향막이 편광 UV에 의해 2차 배향처리됨과 동시에 광 경화된 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.The sealant is a liquid crystal display device, characterized in that the first and second alignment layers are photo-cured at the same time as the secondary alignment treatment by polarized UV. 제 1 기판에 박막 트랜지스터를 포함한 어레이 소자를 형성하는 단계와;Forming an array element including a thin film transistor on a first substrate; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 상에 제 1, 2 배향막이 형성되는 단계와;Forming first and second alignment layers on the first substrate and the second substrate; 상기 제 1, 2 배향막에 러빙처리하는 단계와;Rubbing the first and second alignment layers; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판의 외곽부에 씨일제를 형성하는 단계와;Forming a sealant on an outer portion of the first substrate or the second substrate; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판을 합착하는 단계와;Bonding the first substrate and the second substrate to each other; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판의 전면에 편광 UV를 조사하여 상기 씨일제를 경화시키고 상기 제 1, 2 배향막을 광배향시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And irradiating polarized UV on the entire surface of the first substrate or the second substrate to cure the sealant and photoalign the first alignment layer and the second alignment layer. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 러빙 방향과 상기 편광 방향은 서로 수직한 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And the rubbing direction and the polarization direction are perpendicular to each other. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제 1 기판 상에 수평 방향으로 서로 소정 간격 이격하여 게이트 배선과 공통 배선을 형성하는 단계와;Forming a gate line and a common line on the first substrate by being spaced apart from each other by a predetermined distance in a horizontal direction; 상기 게이트 배선과 수직한 방향으로 데이터 배선을 형성하는 단계와;Forming a data line in a direction perpendicular to the gate line; 상기 데이터 배선에 평행하는 복수개의 공통 전극을 형성하고, 상기 공통 전극과 엇갈려 교차하는 화소 전극을 형성하는 단계와;Forming a plurality of common electrodes parallel to the data lines, and forming a pixel electrode crossing and crossing the common electrodes; 상기 화소 전극을 포함하는 제 1 기판 상에 제 1 배향막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And forming a first alignment layer on the first substrate including the pixel electrode. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제 2 기판 상에 칼라 필터층 및 블랙 매트릭스를 형성하는 단계와; Forming a color filter layer and a black matrix on the second substrate; 상기 제 2 기판 상에 제 2 배향막을 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And forming a second alignment layer on the second substrate. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제 1 기판 및 제 2 기판에 편광 UV를 동시에 조사하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And irradiating polarized UV light on the first substrate and the second substrate at the same time. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제 1 기판과 제 2 기판에 편광 UV가 적어도 한번 이상 조사되는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.Polarizing UV is irradiated to the first substrate and the second substrate at least once or more.
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