KR20070066650A - 표시장치의 제조장치와 표시장치의 제조방법 - Google Patents
표시장치의 제조장치와 표시장치의 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 표시장치의 제조장치 및 표시장치의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 표시장치의 제조장치는 진공챔버와; 상기 진공챔버 내에 위치하며 처리대상 기판이 안착되는 안착부가 형성되어 있는 기판 지지부와; 상기 안착부에 배치되어 있는 네오디움(Nd) 자석부재와; 상기 기판 지지부를 향해 유기물 증기를 공급하는 증기 공급부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해 제조과정에서 처리대상 기판의 휨 현상을 효과적으로 감소시킬 수 있는 표시장치의 제조장치가 제공된다.
Description
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 제조장치의 단면도이고,
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 제조장치에서 밀착유닛의 사시도이고,
도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ을 따른 단면도이고,
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 제조장치에서 쉐도우 마스크의 사시도이고,
도 5는 본 발명에 따라 제조되는 표시장치의 화소에 대한 등가회로도이고,
도 6은 본 발명에 따라 제조되는 표시장치의 단면도이고,
도 7a 내지 도 7f는 본 발명의 제1실시예에 따른 제조장치를 이용한 표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 도면이고,
도 8은 본 발명의 제2실시예에 따른 제조장치를 설명하기 위한 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 기판 회전지지부 11 : 베이스판
12 : 안착부 13 : 마스크 홀더
14 : 회동부 15 : 회전 구동부
20 : 밀착유닛 21 : 고정판
22 : 네오디움 자석부재 30 : 쉐도우 마스크
40 : 증기 공급부 50 : 진공챔버
101 : 처리대상 기판
본 발명은 표시장치의 제조장치 및 표시장치의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 제조과정에서 처리대상 기판의 휨 현상을 감소시킬 수 있는 제조장치와 제조방법에 관한 것이다.
평판표시장치(flat panel display)에는 액정표시장치(LCD), 플라즈마 표시장치(PDP) 등이 있으며 최근에는 저전압 구동, 경량 박형, 광시야각 그리고 고속응답 등의 장점으로 인하여 OLED(organic light emitting diode)가 각광 받고 있다. OLED는 표시장치용 기판의 각 화소 영역별로 세가지 색상을 발하는 유기물질로 이루어진 발광층의 자발광에 의해 구동되는 디스플레이 장치로서, 구동방식에 따라 수동형(passive matrix)과 능동형(active matrix)으로 나누어진다. 한편 유기층인 정공주입층(HIL) 및 발광층(EML) 등의 분자량에 따라 저분자OLED와 고분자 OLED로 나눌 수도 있다.
저분자OLED의 유기층은 표시장치용 기판에 증착이 요구되는 소스 물질에 열을 가하는 열 증발(thermal evaporation) 법에 의해 형성된다. 이 방법에서 소스 물질은 증발을 통해 기화된 후 온도가 낮은 표시장치용 기판에 닿으면서 상변화에 의한 고상의 유기층을 형성한다. 열 증발법에서 표시장치용 기판은 수평으로 고정되어 있으며, 소스 물질은 표시장치용 기판의 하부에서 유기물 증기를 공급한다.
OLED의 디스플레이 품질 향상을 위해서는 유기층이 균일한 두께, 예를 들어 ±5㎛의 증착 두께 균일도로 형성되어야 한다. 이를 위해서는 증착과정에서 표시장치용 기판이 평행한 상태를 유지하여야 한다.
이러한 휨 문제점을 해결하기 위해 자석부재와 쉐도우 마스크 사이에 표시장치용 기판을 배치하는 방법이 사용되고 있다. 그러나 이에 의하더라도 자석부재의 인력이 충분하지 않아 기판의 크기가 커질 경우 휨 현상을 제대로 감소시키지 못하는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 처리대상 기판의 휨 현상을 효과적으로 감소시킬 수 있는 표시장치의 제조장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 처리대상 기판의 휨 현상을 효과적으로 감소시킬 수 있는 표시장치의 제조방법을 제공하는 것이다.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 진공챔버와; 상기 진공챔버 내에 위치하며 처리대상 기판이 안착되는 안착부가 형성되어 있는 기판 지지부와; 상기 안착부에 배치되어 있는 네오디움(Nd) 자석부재와; 상기 기판 지지부를 향해 유기물 증기를 공급하는 증기 공급부를 포함하는 표시장치의 제조장치에 의하여 달성된다.
상기 네오디움 자석부재는 복수개로 마련되며, 동일 평면 상에 배치되어 있 는 것이 바람직하다.
상기 네오디움 자석부재는 동일한 극성이 상기 안착부 전방을 향하도록 배치되어 있는 것이 바람직하다.
상기 안착부에 위치하는 판상의 고정판을 더 포함하며, 상기 네오디움 자석부재는 상기 고정판에 고정되어 있는 것이 바람직하다.
상기 고정판은 비도전성 물질로 이루어진 것이 바람직하다.
상기 네오디움 자석부재의 전방에 위치하는 도전시트를 더 포함하는 것이 바람직하다.
상기 도전시트는 니켈로 이루어진 것이 바람직하다.
상기 처리대상 기판의 전방에 위치하는 쉐도우 마스크를 더 포함하는 것이 바람직하다.
상기 쉐도우 마스크는 도전성 물질로 이루어진 것이 바람직하다.
상기 기판 지지부를 상기 처리대상기판의 판면과 동일한 평면 내에서 회전시키는 회전구동부를 더 포함하는 것이 바람직하다.
상기 회전구동부는 상기 처리대상 기판을 상기 처리대상 기판을 통과하는 축을 중심으로 회전시키는 것이 바람직하다.
상기 축은 상기 처리대상 기판의 중심을 통과하는 것이 바람직하다.
상기 본 발명의 다른 목적은 화소전극이 형성되어 있는 처리대상 기판을 마련하는 단계와; 상기 처리대상 기판을 상기 화소전극에 대응하는 개구부가 형성되어 있는 도전성의 쉐도우 마스크와 네오디움 자석부재 사이에 배치하는 단계와; 상 기 개구부를 통해 노출된 상기 화소전극 상에 유기물 증기를 공급하는 단계를 포함하는 표시장치의 제조방법에 의하여 달성된다.
상기 유기물 증기는 상기 쉐도우 마스크와 상기 처리대상기판이 적어도 부분적으로 밀착된 상태에서 공급되는 것이 바람직하다.
상기 유기물 증기 공급 전에 상기 쉐도우 마스크와 상기 네오디움 자석부재 간의 인력이 작용하는 상태에서 상기 처리대상기판을 반전 회동시키는 단계를 더 포함하며, 상기 유기물 증기는 하부에서 상부로 공급되는 것이 바람직하다..
이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 발명에 대하여 설명한다.
여러 실시예에 있어서 동일한 구성요소에 대하여는 동일한 참조번호를 부여하였으며, 동일한 구성요소에 대하여는 제1실시예에서 대표적으로 설명하고 다른 실시예에서는 생략될 수 있다.
본 발명의 여러 실시예에 있어서 설명되는 표시장치는 OLED이며, 설명에서 층, 막 등의 부분이 다른 부분 ‘상’또는 ‘상부’에 있다고 할 때, 이는 다른 부분 바로 위에 있는 경우 뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함됨을 밝혀둔다.
본 발명의 제1실시예에 따른 제조장치(1)는 처리대상 기판(101)을 지지하고 회전시키는 기판 지지회전부(10), 기판 지지회전부(10)의 내부에 처리대상 기판(101)을 사이에 두고 위치하는 밀착 유닛(20) 및 쉐도우 마스크(30), 기판 지지회전부(10) 전방에서 처리대상 기판(101)에 유기물 증기를 공급하는 증기 공급부(40) 그리고 유기물 증기 공급이 진공 상태에서 이루어지도록 하는 진공챔버(50)를 포함 한다.
도 1에서 도시한 제조장치(1)는 처리대상 기판(101)이 장착되고 유기물 증착이 이루어지는 경우를 나타낸 것으로, 안착부(12)가 증기 공급부(40)를 향하도록 배치되어 있다.
기판 지지회전부(10)는 처리대상 기판(101)과 쉐도우 마스크(30)를 지지하고 회전시킨다.
기판 지지회전부(10)는 대략 사각형상의 베이스판(11), 베이스판(11)에 마련되어 있는 안착부(12), 안착부(12) 전방에 마련되어 쉐도우 마스크(30)를 지지하는 마스크 홀더(13), 베이스판(11)을 반전 회동시키는 회동부(14) 그리고 베이스판(11)에 연결되어 있는 회전구동부(15)를 포함한다.
여기서 안착부(12)는 처리대상기판(101)의 크기와 형상에 대응하도록 만들어져 있으며 밀착유닛(20), 처리대상기판(101) 그리고 쉐도우 마스크(30)가 순차적으로 안착된다. 또한 마스크 홀더(13)는 좌우로 움직일 수 있어, 쉐도우 마스크(30)를 장착하는 과정에서는 이격되어 있다가 쉐도우 마스크(30)를 장착한 후에는 서로 접근하여 쉐도우 마스크(30)를 지지한다.
회전구동부(15)는 베이스판(11)을 회전시키는데 이에 의해 밀착유닛(20), 처리대상기판(101) 그리고 쉐도우 마스크(30)도 같이 회전하게 된다. 회전에 있어, 회전축은 처리대상 기판(101)의 중심과 일치한다. 처리 대상 기판(101)은, 이에 한정되지는 않으나, 자신의 판면을 포함하는 평면 내에서 회전하는 것이 바람직하다.
밀착유닛(20)은 도 2와 같이 판형의 고정판(21)과 고정판(21)에 부착되어 있 는 복수의 네오디움 자석부재(22)를 포함하며 네오디움 자석부재(22)가 쉐도우 마스크(30)를 향하도록 배치되어 있다. 고정판(21)과 네오디움 자석부재(22)는 고정나사(23)에 의해 결합되어 있다. 실시예와 달리 고정판(21)과 네오디움 자석부재(22)는 접착제 등을 이용하는 결합될 수도 있다.
네오디움 자석부재(22)는 네오디움-철-보론으로 이루어져 있으며 약 4000가우스의 높은 자기장을 형성한다. 네오디움 자석부재(22)가 형성하는 4000가우스는 이에 비해 종래의 고무자석이 형성하는 약 1000가우스에 비하여 매우 높은 값이다.
네오디움 자석부재(22)는 동일한 크기를 갖는 복수개로 마련되며, 동일평면 상에 배치되어 있다. 네오디움 자석부재(22)는 쉐도우 마스크(30)와 인력을 형성하여 증착과정 중에 쉐도우 마스크(30)의 변형을 방지한다. 강한 인력을 형성하기 위해 도 3과 같이 모든 네오디움 자석부재(22)는 쉐도우 마스크(30)를 향해 동일한 극성을 가지도록 배치되어 있다.
여기서 고정판(21)은 비도전성 물질로 이루어져 있는데 이는 자기장의 분산을 방지하기 위함이다.
쉐도우 마스크(30)는 밀착유닛(20)과의 인력형성을 위해 도전성 물질로 이루어져 있다. 쉐도우 마스크(30)에는 도 4에서와 같이 복수의 개구부(31)가 마련되어 있다.
증기 공급부(40)는 처리대상 기판(101)에 유기물 증기를 공급한다. 증기 공급부(40)는 원통형으로 고상 또는 액상의 소스 물질을 수용하고 있으며, 가열부(도시하지 않음)의 가열을 통해 소스 물질로부터 유기물 증기를 형성한다. 실시예와 달리 증기 공급부(40)는 선형태로 마련되거나 복수개로 마련될 수도 있다.
먼저 도 5과 도 6을 참조하여 본 발명에 따라 제조되는 표시장치에 대하여 살펴본다.
도 5는 본 발명에 따라 제조된 표시장치에서 화소에 대한 등가회로도이다.
하나의 화소에는 복수의 신호선이 마련되어 있다. 신호선은 주사신호를 전달하는 게이트선, 데이터 신호를 전달하는 데이터선 그리고 구동 전압을 전달하는 구동 전압선을 포함한다. 데이터선과 구동 전압선은 서로 인접하여 나란히 배치되어 있으며, 게이트선은 데이터선 및 구동 전압선과 수직을 이루며 연장되어 있다.
각 화소는 유기발광소자(LD), 스위칭 박막트랜지스터(Tsw), 구동 박막트랜지스터(Tdr), 축전기(C)를 포함한다.
구동 박막트랜지스터(Tdr)는 제어 단자, 입력 단자 및 출력단자를 가지는데, 제어단자는 스위칭 박막트랜지스터(Tsw)에 연결되어 있고, 입력 단자는 구동 전압선에 연결되어 있으며, 출력 단자는 유기발광소자(LD)에 연결되어 있다.
유기발광소자(LD)는 구동 박막트랜지스터(Tdr)의 출력 단자에 연결되는 애노드(anode)와 공통전압(Vcom)에 연결되어 있는 캐소드(cathod)를 가진다. 유기 발광 소자(LD)는 구동 박막트랜지스터(Tdr)의 출력 전류에 따라 세기를 달리하여 발광함으로써 영상을 표시한다. 구동 박막트랜지스터(Tdr)의 전류는 제어 단자와 출력 단자 사이에 걸리는 전압에 따라 그 크기가 달라진다.
스위칭 박막트랜지스터(Tsw)는 또한 제어 단자, 입력 단자 및 출력 단자를 가지는데, 제어 단자는 게이트선에 연결되어 있고, 입력 단자는 데이터선에 연결되 어 있으며, 출력 단자는 구동 박막트랜지스터(Tdr)의 제어 단자에 연결되어 있다. 스위칭 박막트랜지스터(Tsw)는 게이트선에 인가되는 주사 신호에 따라 데이터선에 인가되는 데이터 신호를 구동 박막트랜지스터(Tdr)에 전달한다.
축전기(C)는 구동 박막트랜지스터(Tdr)의 제어 단자와 입력단자 사이에 연결되어 있다. 축전기(C)는 구동 박막트랜지스터(Tdr)의 제어 단자에 입력되는 데이터 신호를 충전하고 유지한다.
도 6은 본 발명에 따라 제조된 표시 장치의 단면도이다.
본 발명에 따라 제조된 표시 장치(100)는 절연기판(110) 상에 형성되어 있는 박막트랜지스터(120), 박막트랜지스터(120)에 전기적으로 연결되어 있는 화소전극(132), 화소전극(132) 상에 형성되어 있는 유기층(150)을 포함한다.
도면에서는 비정질 실리콘을 사용한 박막트랜지스터(120)를 예시하였으나 폴리실리콘을 사용하는 박막트랜지스터를 사용할 수 있음은 물론이다.
본 발명에 따라 제조된 표시 장치(100)를 자세히 살펴보면 다음과 같다.
유리, 석영, 세라믹 또는 플라스틱 등의 절연성 재질을 포함하여 만들어진 절연기판(110) 상에 게이트 전극(121)이 형성되어 있다.
절연기판(110)과 게이트 전극(121) 위에는 실리콘 질화물(SiNx) 등으로 이루어진 게이트 절연막(122)이 형성되어 있다. 게이트 전극(121)이 위치한 게이트 절연막(122) 상에는 비정질 실리콘으로 이루어진 반도체층(123)과 n형 불순물이 고농도 도핑된 n+ 수소화 비정질 실리콘으로 이루어진 저항성 접촉층(124)이 순차적으로 형성되어 있다. 여기서, 저항성 접촉층(124)은 게이트 전극(121)을 중심으로 양 쪽으로 분리되어 있다.
저항 접촉층(124) 및 게이트 절연막(122) 위에는 소스 전극(125)과 드레인 전극(126)이 형성되어 있다. 소스 전극(125)과 드레인 전극(126)은 게이트 전극(121)을 중심으로 분리되어 있다.
소스 전극(125)과 드레인 전극(126) 및 이들이 가리지 않는 반도체층(123)의 상부에는 보호막(131)이 형성되어 있다. 보호막(131)은 실리콘 질화물(SiNx) 또는/그리고 유기막으로 이루어질 수 있다. 보호막(131)에는 드레인 전극(126)을 드러내는 접촉구(127)가 형성되어 있다.
보호막(131)의 상부에는 화소전극(132)이 형성되어 있다. 화소전극(132)은 음극(anode)이라고도 불리며 유기 발광층(152)에 정공을 공급한다. 화소전극(132)은 ITO(indium tin oxide) 또는 IZO(indium zinc oxide)등의 투명한 도전물질로 이루어져 있으며 스퍼터링 방법에 의하여 형성된다. 화소전극(132)은 평면에서 보아 대략 사각형으로 패터닝되어 있을 수 있다.
각 화소전극(132) 간에는 격벽(141)이 형성되어 있다. 격벽(141)은 화소전극(132) 간을 구분하여 화소영역을 정의하며 박막트랜지스터(120)와 접촉구(127) 상에 형성되어 있다. 격벽(141)은 박막트랜지스터(120)의 소스 전극(125) 및 드레인 전극(126)이 공통전극(161)과 단락되는 것을 방지하는 역할도 한다. 격벽(141)은 아크릴 수지, 폴리이미드 수지 등의 내열성, 내용매성이 있는 감광물질이나 SiO2, TiO2와 같은 무기재료로 이루어질 수 있으며 유기층과 무기층의 2층 구조도 가능하다.
화소전극(132) 상부에는 정공주입층(151, hole injecting layer)과 유기 발광층(152)이 위치하고 있다. 정공주입층(151)과 유기발광층(152)은 모두 저분자 물질로 이루어져 있으며 열증착방법에 의하여 형성되었다.
화소전극(132)에서 전달된 정공과 공통전극(161)에서 전달된 전자는 유기 발광층(152)에서 결합하여 여기자(exciton)가 된 후, 여기자의 비활성화 과정에서 빛을 발생시킨다.
격벽(141) 및 유기 발광층(152)의 상부에는 공통전극(161)이 위치한다. 공통전극(161)은 양극(cathode)이라고도 불리며 유기 발광층(152)에 전자를 공급한다. 공통전극(161)은 칼슘층과 알루미늄층으로 적층되어 구성될 수 있다. 이 때 유기 발광층(152)에 가까운 측에는 일함수가 낮은 칼슘층이 배치되는 것이 바람직하다.
불화 리튬은 유기 발광층(152)의 재료에 따라서는 발광효율을 증가시키기 때문에, 유기 발광층(52)과 공통전극(161) 사이에 불화리튬층을 형성할 수도 있다. 공통전극(161)을 알루미늄, 은과 같은 불투명한 재질로 만들 경우 유기 발광층(152)에서 발광된 빛은 절연기판(110) 방향으로 출사되며 이를 바텀 에미션(bottom emission) 방식이라 한다.
도시하지는 않았지만 표시장치(100)는 유기 발광층(152)과 공통전극(161) 사이에 전자수송층(electron transfer layer)과 전자주입층(electron injection layer)을 더 포함할 수 있다. 또한 공통전극(161)의 보호를 위한 보호막, 유기층(150)으로의 수분 및 공기 침투를 방지하기 위한 봉지부재를 더 포함할 수 있다. 봉지부재는 밀봉수지와 밀봉캔으로 이루어질 수 있다.
이하 도 7a 내지 도 7f를 참조하여 본 발명의 제1실시예에 따른 제조장치를 이용한 표시장치의 제조방법을 설명한다.
먼저 도 7a과 같은 처리대상 기판(101)을 제조한다. 처리대상 기판(101)을 보면 절연기판(110) 상에 박막트랜지스터(120), 화소전극(132) 및 격벽(141)이 형성되어 있다.
박막트랜지스터(120)는 채널부가 비정질 실리콘으로 이루어져 있으며 공지의 방법으로 제조될 수 있다.
박막트랜지스터(120) 형성 후 박막트랜지스터(120) 상에 보호막(131)을 형성한다. 보호막(131)이 실리콘 질화물인 경우 화학기상증착법을 사용할 수 있으며, 유기물인 경우 스핀 코팅, 슬릿 코팅 등을 사용할 수 있다. 이 후 보호막(131)을 패터닝하여 드레인 전극(126)을 드러내는 접촉구(127)를 형성한다. 접촉구(127)를 형성한 후 접촉구(127)를 통해 드레인 전극(126)과 연결되어 있는 화소전극(132)을 형성한다. 화소전극(132)은 ITO를 스퍼터링 방식으로 증착한 후 패터닝하여 형성할 수 있다.
격벽(141)은 화소전극(132) 상에 감광성 물질을 코팅한 후 노광, 현상하여 형성할 수 있다.
다음 도 7b에서 보는 바와 같이, 안착부(12)가 상부를 향한 상태에서 밀착유닛(20) 상에 처리대상기판(101)을 안착시킨다. 이 때 마스크 홀더(13)는 서로 이격되어 있다.
이 후 도7c에서 보는 바와 같이, 안착부(12)가 상부를 향한 상태에서 처리대 상기판(101) 상에 쉐도우 마스크(30)를 안착시킨 후 마스크 홀더(13)를 상호 접근시켜 쉐도우 마스크(30)를 고정한다. 이 단계에서는 마스크 홀더(13)에 의해 가장자리 부근에서 쉐도우 마스크(30)와 처리대상기판(101)이 밀착되며, 중앙부분도 처리대상기판(101)과 쉐도우 마스크(30)의 자중에 의해 서로 밀착되어 있다. 또한 밀착유닛(20)과 쉐도우 마스크(30)사이의 인력에 의해 밀착은 더욱 강해진다.
이후 도 7d와 같이 회동부(14)를 이용하여 안착부(12)가 하부를 향하도록 처리대상기판(101)을 180도 회전시킨다.
이에 따라 쉐도우 마스크(30)는 처리대상기판(101)의 하부에 위치하게 되고, 자중이 도 7c와는 반대로 작용하여 중앙영역에서 쉐도우 마스크(30)는 하부로 처지려는 힘을 받게 된다. 그러나 쉐도우 마스크(30)는 강한 인력을 형성하는 밀착 유닛(20)에 의해 중앙영역에서도 처리대상기판(101)을 향해 힘을 받게 된다. 따라서 처리대상기판(101)과 쉐도우 마스크(30)는 위치에 상관없이 비교적 균일한 간격을 가지게 된다. 한편 가장자리 영역은 마스크 홀더(13)에 의해 쉐도우 마스크(30)와 처리대상기판(101)이 밀착되어 있다.
쉐도우 마스크(30)가 밀착 유닛(20)에 의해 상부로 힘을 받기 때문에 처리대상기판(101)도 상부로 힘을 받는다. 따라서 처리대상기판(101)은 밀착 유닛(20)에 밀착되고 변형이 방지된다.
이후 도 7e 및 도 7f와 같이 유기물 증기를 공급하여 유기층을 형성한다. 이때 쉐도우 마스크(30)는 개구부(31)가 화소전극(132) 상에 위치하도록 배치된다.
유기물 공급시 처리대상 기판(101)과 쉐도우 마스크(30)는 기판 지지회전부 (10)에 의해 회전하며, 밀착 유닛(20)의 작용으로 서로 일정한 간격을 유지하고 있다.
처리대상 기판(101)과 쉐도우 마스크(30)가 회전하면서 유기물 증기가 증기 공급부(40)를 통해 공급된다. 유기물 증기는 쉐도우 마스크(30)의 개구부(31)를 통과하여 화소전극(132)과의 접촉에 의해 고체로 상변화하여 유기층을 형성한다.
유기층은 처리대상 기판(101)과 쉐도우 마스크(30)의 처짐이나 변형 발생이 없는 상태에서 형성되므로 균일한 품질로 형성된다. 유기층은 예를 들어, ±5㎛의 증착 두께 균일도로 형성될 수 있다.
이상의 실시예에서 정공주입층(151)과 같은 공통층은 쉐도우 마스크(30) 없이 전면에 증착되고, 유기 발광층(152)의 형성에만 쉐도우 마스크(30)가 사용될 수도 있다.
마지막으로 격벽(141)과 유기 발광층(152) 상에 공통전극(161)을 형성하면 표시장치(100)가 완성된다.
도 8은 본 발명의 제2실시예에 따른 제조장치를 설명하기 위한 도면이다.
제2실시예에 따르면 밀착 유닛(20)의 상부에 도전시트(25)가 배치되어 있으며, 처리대상기판(101)은 도전시트(25) 상부에 위치하게 된다.
밀착 유닛(20)의 네오디움 자석부재(22)는 품질이 균일하지 못할 수 있는데 도전시트(25)는 자기장을 균일하게 형성하도록 한다. 도전시트(25)는 니켈로 만들어질 수 있다.
이상의 실시예는 다양하게 변형 가능하다. 상기의 실시예에서는 표시장치를 OLED로 한정하여 설명하였으나 이에 한정되는 것은 열 증발법에 의해 특정물질을 증착시키는 것이 가능한 액정표시장치 등의 다른 표시장치에도 적용 가능함은 물론이다.
비록 본 발명의 몇몇 실시예들이 도시되고 설명되었지만, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 원칙이나 정신에서 벗어나지 않으면서 본 실시예를 변형할 수 있음을 알 수 있을 것이다. 발명의 범위는 첨부된 청구항과 그 균등물에 의해 정해질 것이다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 제조과정에서 절연기판의 휨 현상을 효과적으로 감소시킬 수 있는 표시장치의 제조장치 및 표시장치의 제조방법이 제공된다.
Claims (15)
- 진공챔버와;상기 진공챔버 내에 위치하며 처리대상 기판이 안착되는 안착부가 형성되어 있는 기판 지지부와;상기 안착부에 배치되어 있는 네오디움(Nd) 자석부재와;상기 기판 지지부를 향해 유기물 증기를 공급하는 증기 공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
- 제1항에 있어서,상기 네오디움 자석부재는 복수개로 마련되며, 동일 평면 상에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
- 제2항에 있어서,상기 네오디움 자석부재는 동일한 극성이 상기 안착부 전방을 향하도록 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
- 제2항에 있어서,상기 안착부에 위치하는 판상의 고정판을 더 포함하며,상기 네오디움 자석부재는 상기 고정판에 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
- 제4항에 있어서,상기 고정판은 비도전성 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
- 제1항에 있어서,상기 네오디움 자석부재의 전방에 위치하는 도전시트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
- 제6항에 있어서,상기 도전시트는 니켈로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
- 제1항에 있어서,상기 처리대상 기판의 전방에 위치하는 쉐도우 마스크를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
- 제8항에 있어서,상기 쉐도우 마스크는 도전성 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
- 제1항에 있어서,상기 기판 지지부를 상기 처리대상기판의 판면과 동일한 평면 내에서 회전시키는 회전구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
- 제10항에 있어서,상기 회전구동부는 상기 처리대상 기판을 상기 처리대상 기판을 통과하는 축을 중심으로 회전시키는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
- 제11항에 있어서,상기 축은 상기 처리대상 기판의 중심을 통과하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
- 화소전극이 형성되어 있는 처리대상 기판을 마련하는 단계와;상기 처리대상 기판을 상기 화소전극에 대응하는 개구부가 형성되어 있는 도전성의 쉐도우 마스크와 네오디움 자석부재 사이에 배치하는 단계와;상기 개구부를 통해 노출된 상기 화소전극 상에 유기물 증기를 공급하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
- 제13항에 있어서,상기 유기물 증기는 상기 쉐도우 마스크와 상기 처리대상기판이 적어도 부분적으로 밀착된 상태에서 공급되는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
- 제13항에 있어서,상기 유기물 증기 공급 전에 상기 쉐도우 마스크와 상기 네오디움 자석부재 간의 인력이 작용하는 상태에서 상기 처리대상기판을 반전 회동시키는 단계를 더 포함하며,상기 유기물 증기는 하부에서 상부로 공급되는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
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|---|---|---|---|---|
| KR101118801B1 (ko) * | 2010-04-12 | 2012-03-20 | 주식회사 위스코하이텍 | 디스플레이용 단위기판의 열변형 방지장치 |
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