KR20070059730A - Apparatus for preserving deionized water and method for supplying deionized water using the same - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명에 따른 탈이온수 저장 용기의 구성을 개략적으로 도시해 보인 블록도,1 is a block diagram schematically showing the configuration of a deionized water storage container according to the present invention;
도 2는 본 발명에 따른 탈이온수 저장 용기의 개략적 사시도,2 is a schematic perspective view of a deionized water storage container according to the present invention;
도 3은 도 2의 Ⅴ-Ⅴ선에 따른 개략적 단면도,3 is a schematic cross-sectional view taken along the line VV of FIG.
도 4는 본 발명에 따른 탈이온수의 공급 방법을 도시한 흐름도이다.4 is a flowchart illustrating a method of supplying deionized water according to the present invention.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
10 : 탈이온수 저장 용기 100 : 몸체부10: deionized water storage container 100: the body
200 : 비저항 감지부 210 : 저항 소자200: specific resistance detection unit 210: resistance element
300 : 제어부 400 : 표시부300: control unit 400: display unit
본 발명은 탈이온수의 공급 장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 공정 처리실로 공급되는 탈이온수를 저장하는 용기 및 이를 이용한 탈이온수의 공 급 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a device and a method for supplying deionized water, and more particularly, to a container for storing deionized water supplied to a process chamber and a method for supplying deionized water using the same.
통상적으로 탈이온수(DeIonized Water, DIW)는 반도체 소자 제조 공정에서 웨이퍼의 가공 후 웨이퍼의 세정을 위하여 사용된다. 구체적으로 웨이퍼의 초기 세정, 케미컬(Chemical)로 웨이퍼를 식각한 후 또는 웨이퍼를 절단한 후 등과 같이 웨이퍼에 오염을 일으킬 수 있는 유해 물질을 세정하기 위하여 탈이온수가 사용된다. 탈이온수는 순도에 따라 그 비저항 값이 변한다. 웨이퍼 세정 효과를 극대화하기 위해서 탈이온수는 최고의 순도가 보장되어야 하며, 반도체 소자 제조 공정을 위하여 사용되는 탈이온수는 최소 15 MΩ-㎝ 이상의 비저항 값을 유지하도록 되어 있다. 이론적인 탈이온수의 최대 비저항 값은 18.25 MΩ-㎝ 이다.In general, deionized water (DIW) is used for cleaning the wafer after processing the wafer in a semiconductor device manufacturing process. Specifically, deionized water is used to clean harmful substances that may cause contamination of the wafer, such as initial cleaning of the wafer, etching the wafer by chemical, or cutting the wafer. The deionized water changes its resistivity according to its purity. In order to maximize the wafer cleaning effect, deionized water must be guaranteed the highest purity, and deionized water used for the semiconductor device manufacturing process is to maintain a resistivity value of at least 15 MΩ-cm or more. The theoretical maximum resistivity value for deionized water is 18.25 MΩ-cm.
따라서, 탈이온수는 설비에 저장된 상태 또는 웨이퍼 세정 전에 비저항 측정 장치(Resistivity Meter)를 이용하여 그 순도를 확인하고 있으며, 비저항 측정 장치는 엄밀한 정밀도 및 정확도를 유지하여 탈이온수의 순도 값을 정확하게 측정하고 확인할 수 있어야 한다.Therefore, deionized water is checked for purity by using a resistivity meter before it is stored in the facility or before wafer cleaning, and the resistivity measuring device accurately measures the purity value of deionized water by maintaining exacting precision and accuracy. It should be possible to check.
그런데, 종래의 설비에서는 탈이온수의 저항 측정이 탈이온수가 설비에 공급된 이후에 이루어지기 때문에 다음과 같은 문제점이 발생하였다.However, in the conventional equipment, the following problems occur because the resistance measurement of the deionized water is made after the deionized water is supplied to the equipment.
탈이온수를 사용하는 세정 설비 등에서 탈이온수의 리크(Leak) 또는 부품의 교체 등으로 인해 탈이온수가 부족하게 되면 이를 공급해 주어야 한다. 이때 탈이온수의 저항값을 측정하지 않고 세정 설비 등에 탈이온수를 공급하게 될 경우, 공급된 탈이온수의 저항값이 설비가 요구하는 저항값에 미치지 못하게 되면, 탈이온수를 이용하는 설비가 오염되거나 성능이 저하되는 문제점이 있었다.If deionized water is insufficient due to leakage or replacement of deionized water in a cleaning facility using deionized water, it should be supplied. At this time, if deionized water is supplied to a washing facility without measuring the resistance value of deionized water, if the resistance value of the supplied deionized water does not reach the resistance value required by the facility, the facility using the deionized water is contaminated or its performance is poor. There was a problem of deterioration.
또한, 이로 인해 설비에 공급된 탈이온수를 배출시키고 다시 재공급해야 하기 때문에, 이에 따른 작업 손실이 발생하는 문제점이 있었다.In addition, because of this, the deionized water supplied to the facility has to be discharged and resupplyed again, resulting in a problem of loss of work.
따라서, 본 발명은 상술한 바와 같은 종래의 통상적인 탈이온수의 공급 장치 및 방법이 가진 문제점을 감안하여 이를 해소하기 위해 창출된 것으로서, 본 발명의 목적은, 탈이온수를 이용한 공정이 진행되는 설비로 탈이온수를 공급하기 이전에 설비에서 요구되는 탈이온수의 저항값을 확인할 수 있는 탈이온수 저장 용기 및 이를 이용한 탈이온수의 공급 방법을 제공하기 위한 것이다.Therefore, the present invention was created to solve the problems in view of the problems with the conventional conventional deionized water supply apparatus and method as described above, the object of the present invention is to provide a facility that proceeds the process using deionized water It is to provide a deionized water storage container and a method of supplying deionized water using the same to check the resistance value of the deionized water required in the facility before supplying deionized water.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 탈이온수 저장 용기는, 탈이온수를 이용한 공정이 진행되는 처리실로 공급하기 전에 탈이온수를 보관 저장하는 용기에 있어서, 탈이온수가 채워지는 몸체부와; 상기 몸체부 내의 탈이온수의 저항값을 측정하는 비저항 감지부와; 상기 비저항 감지부로부터 전송되는 검출 신호에 대응하여 소정의 제어 신호를 발생시키는 제어부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a deionized water storage container according to the present invention includes a container for storing deionized water before supplying it to a processing chamber in which a process using deionized water is in progress; A resistivity detector for measuring a resistance value of the deionized water in the body portion; And a controller configured to generate a predetermined control signal in response to the detection signal transmitted from the resistivity detection unit.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 탈이온수 저장 용기에 있어서, 상기 제어부의 제어신호를 수용하여 상기 탈이온수의 저항값을 나타내는 표시부;를 더 포함하는 것이 바람직하다.In the deionized water storage container according to the present invention having the configuration as described above, it is preferable to further include a display unit for receiving the control signal of the control unit to indicate the resistance value of the deionized water.
본 발명의 일 측면에 따르면, 상기 표시부는 디스플레이 장치를 포함하는 것이 바람직하다.According to an aspect of the invention, the display unit preferably includes a display device.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 탈이온수의 공급 방법은, 탈 이온수를 이용한 공정이 진행되는 처리실에 탈이온수를 공급하는 방법에 있어서, 탈이온수 저장 용기에 탈이온수를 채우는 충전 단계와; 상기 충전 단계에서 상기 탈이온수 저장 용기에 채워진 상기 탈이온수의 저항값을 측정하는 저항 측정 단계와; 상기 저항 측정 단계에서 측정된 탈이온수의 저항값을 기설정된 기준값과 비교하여 적합 여부를 판단하는 적합성 판단 단계와; 상기 적합성 판단 단계에서 사용 적합의 경우에 처리실에 탈이온수를 공급하는 탈이온수 공급 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a method of supplying deionized water according to the present invention includes a method of supplying deionized water to a process chamber in which a process using deionized water is performed, the method comprising: filling deionized water into a deionized water storage container; A resistance measuring step of measuring a resistance value of the deionized water filled in the deionized water storage container in the filling step; A suitability determination step of determining suitability by comparing the resistance value of the deionized water measured in the resistance measurement step with a preset reference value; And deionized water supplying step of supplying deionized water to the treatment chamber in the case of suitability for use in the suitability determination step.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 탈이온수의 공급 방법에 있어서, 상기 적합성 판단 단계에서 사용 부적합의 경우에 상기 탈이온수 저장 용기로부터 탈이온수를 배출시킨 후 재충전시키는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.In the method for supplying deionized water according to the present invention having the configuration as described above, it is preferable to further include the step of recharging the deionized water from the deionized water storage container in the case of non-use in the suitability determination step. Do.
본 발명의 일 특징에 따르면, 상기 저항 측정 단계에서 측정된 탈이온수의 저항값을 표시부에 나타내는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.According to one feature of the invention, it is preferable to further include a step of displaying the resistance value of the deionized water measured in the resistance measurement step on the display.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 탈이온수 저장 용기 및 이를 이용한 탈이온수의 공급 방법을 상세히 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a deionized water storage container according to a preferred embodiment of the present invention and a method of supplying deionized water using the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First of all, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals are used as much as possible even if displayed on different drawings. In addition, in describing the present invention, when it is determined that the detailed description of the related well-known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.
( 실시예 )(Example)
도 1은 본 발명에 따른 탈이온수 저장 용기의 구성을 개략적으로 도시해 보인 블록도이고, 도 2는 본 발명에 따른 탈이온수 저장 용기의 개략적 사시도이며, 도 3은 도 2의 Ⅴ-Ⅴ선에 따른 개략적 단면도이다.1 is a block diagram schematically showing the configuration of a deionized water storage container according to the present invention, Figure 2 is a schematic perspective view of the deionized water storage container according to the present invention, Figure 3 is a line V-V of FIG. A schematic cross section according to.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 탈이온수 저장 용기(10)는, 탈이온수를 이용한 공정이 진행되는 처리실로 탈이온수를 공급하기 이전에 탈이온수를 보관 저장하는 용기에 관한 것으로서, 몸체부(100), 비저항 감지부(200), 제어부(300) 및 표시부(400)를 포함한다.1 to 3, the deionized
탈이온수(DIW)가 채워지는 몸체부(100)의 저면에 탈이온수의 저항값을 측정하기 위한 비저항 감지부(200)가 설치된다. 비저항 감지부(200)는 저항 소자(210)에 전류를 흘려주고 피드백되는 전류량을 환산하여 비저항을 계산하는 방식으로 몸체부(100)에 채워진 탈이온수의 저항값을 측정한다. 측정된 탈이온수의 비저항의 정도는 전기적인 신호로 변환되어 제어부(300)로 전송된다. 제어부(300)는 비저항 감지부(200)로부터 전기적 신호를 전송받고, 측정된 탈이온수의 저항값을 기설정된 기준값과 비교 판단한다. 비교 판단 결과에 따라 제어부(300)는 소정의 제어 신호를 발생시켜 표시부(400)로 전송한다. 표시부(400)는 제어부(300)의 제어 신호를 수용하여, 탈이온수의 적합 여부 또는 탈이온수의 저항값을 표시부(400)에 나타내게 된다. 이를 통해 작업자가 저항값을 확인하여 불순물의 포함 정도를 판단할 수 있게 된다. 탈이온수에 불순물이 많이 포함되어 있으면 전기 전도성이 높아져 저항값은 낮게 나타나게 되고, 상대적으로 불순물이 소량 포함되어 있으면 전기 전도성 이 낮아져 저항값은 높게 나타나게 된다. 표시부(400)는 탈이온수의 저항값을 작업자가 인지할 수 있도록 시각적 방법 또는 청각적 방법을 이용할 수 있으며, 시각적 수단으로는 디스플레이 장치 등이 사용될 수 있고, 청각적 수단으로는 경보음 발생 장치 등 다양한 수단이 사용될 수 있다.A
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 따른 탈이온수 저장 용기를 이용하여, 탈이온수를 이용한 공정이 진행되는 설비에 탈이온수를 공급하는 방법을 설명하면 다음과 같다.Using the deionized water storage container according to the present invention having the above-described configuration, a method of supplying deionized water to a facility in which a process using deionized water is performed will be described below.
도 4는 본 발명에 따른 탈이온수의 공급 방법을 도시한 흐름도이다.4 is a flowchart illustrating a method of supplying deionized water according to the present invention.
도 4를 참조하면, 먼저 탈이온수 저장 용기(100)에 탈이온수가 채워지면(S100), 비저항 감지부(200)가 충전된 탈이온수의 저항값을 측정한다.(S200) 저항값의 측정은 저항 소자(210)에 전류를 흘려주고 피드백되는 전류량을 환산하여 비저항을 계산하는 방식으로 이루어진다. 제어부(300)는 비저항 감지부(200)로부터 검출 신호를 전달받아 측정된 탈이온수의 저항값과 기설정된 기준값을 비교하여, 용기(100)에 저장된 탈이온수의 적합 여부를 판단한다.(S400) 적합성 판단 단계에서 사용 적합의 판정이 내려지면 탈이온수 저장 용기(100)에 충전된 탈이온수를 설비로 공급한다.(S500) 그러나 이와는 반대로 사용 부적합 판정이 내려지면 탈이온수 저장 용기(100)에 충전된 탈이온수를 배출시킨 후 다시 용기(100)내에 탈이온수를 재충전시킨다.(S600) 탈이온수를 재충전시킨 후에는 상기와 같은 과정을 반복 실시하여, 탈이온수의 사용 적합 판정이 내려질 때까지 배출 및 재충전을 반복한 후 탈이온수를 설비에 공급한다. 그리고, 저항 측정 단계(S200)에서 측정된 탈이온 수의 저항값을 작업자가 인지할 수 있도록 표시부(400)에 나타내는 단계(S300)가, 탈이온수의 적합성 여부를 판단하는 단계(S400) 이전 또는 이후에 포함될 수 있다.Referring to FIG. 4, first, when deionized water is filled in the deionized water storage container 100 (S100), the resistance value of the deionized water filled by the
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those skilled in the art to which the present invention pertains may make various modifications and changes without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention but to describe the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the equivalent scope should be interpreted as being included in the scope of the present invention.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 탈이온수를 이용한 공정이 진행되는 처리실로 탈이온수를 공급하기 이전에 설비에서 요구되는 탈이온수의 저항값을 확인하여, 탈이온수의 저항값이 설비가 요구하는 저항값에 미치지 못하게 될 경우 발생할 수 있는 설비 오염이나 작업 손실 등의 문제점을 사전에 예방할 수 있다.As described above, according to the present invention, before the deionized water is supplied to the treatment chamber in which the process using the deionized water proceeds, the resistance value of the deionized water required by the facility is checked, and the resistance value of the deionized water is required by the facility. Problems such as equipment contamination or loss of work that can occur when the resistance is not reached can be prevented in advance.
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Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
KR101636939B1 (en) * | 2015-07-15 | 2016-07-07 | 주식회사 건국이엔아이 | Water mist spray fire extinguishing equipment using deionized water |
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2005
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KR101636939B1 (en) * | 2015-07-15 | 2016-07-07 | 주식회사 건국이엔아이 | Water mist spray fire extinguishing equipment using deionized water |
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