KR20070059270A - Display substrate and method of the manufacturing and display panel having the same - Google Patents

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KR20070059270A
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노수귀
전진
이지은
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삼성전자주식회사
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Abstract

A display substrate, a manufacturing method thereof, and a display panel having the same are provided to reduce the number of manufacturing processes by forming a projection pattern for detecting coordinates of a touch position, and a supporting member for keeping a distance between an array substrate and an opposite substrate through one process at the same time. The display substrate includes a base substrate(221), a supporting pattern(226) constantly keeping the distance from the array substrate on the base substrate by the first length, and the first/second projection pattern(225). The first/second projection pattern electrically connects with the first and second signal lines at the touch position on the base substrate by the second length. The first length is longer than the second length. A conductive film is formed on the first/second projection pattern. The first/second projection pattern is neighboring with each other at a predetermined interval.

Description

표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 구비한 표시 패널{DISPLAY SUBSTRATE AND METHOD OF THE MANUFACTURING AND DISPLAY PANEL HAVING THE SAME}DISPLAY SUBSTRATE AND METHOD OF THE MANUFACTURING AND DISPLAY PANEL HAVING THE SAME

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 표시 장치를 개략적으로 도시한 블록도이다.1 is a block diagram schematically illustrating a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 표시 패널을 개략적으로 도시한 평면도이다.FIG. 2 is a plan view schematically illustrating the display panel illustrated in FIG. 1.

도 3은 도 2에 도시된 표시 패널의 어레이 기판과 대향 기판을 분리시켜 개략적으로 도시한 사시도이다. 3 is a perspective view schematically illustrating an array substrate and an opposing substrate of the display panel illustrated in FIG. 2 separated from each other.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 표시 패널의 일부를 개략적으로 도시한 평면도이다.4 is a plan view schematically illustrating a portion of a display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5는 도 4에 도시된 I-I'을 절단하여 도시한 부분 단면도이다.5 is a partial cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 4.

도 6은 도 5에 도시된 표시 패널에 외부 압력을 가했을 경우의 모습을 개략적으로 도시한 단면도이다. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of an external pressure applied to the display panel illustrated in FIG. 5.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 위치 검출방법을 설명하기 위한 타이밍도이다.7 is a timing diagram illustrating a touch position detection method according to an embodiment of the present invention.

도 8은 도 7에 타이밍도에 따라 도 1에 도시된 터치 위치 검출부를 구현한 개략적인 도면이다. FIG. 8 is a schematic diagram of implementing the touch position detector illustrated in FIG. 1 according to the timing diagram of FIG. 7.

도 9 내지 도 16은 본 발명의 일 실시예에 의한 표시 기판의 제조 공정을 도 시한 단면도들이다.9 to 16 are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a display substrate according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 17은 노광 마스크에 형성된 마스크 패턴의 크기와 현상 공정 후 잔류막 두께의 관계를 도시한 그래프이다.17 is a graph showing the relationship between the size of the mask pattern formed on the exposure mask and the residual film thickness after the developing process.

도 18은 노광 마스크와 감광성 고분자 유기물의 이격 간격과 현상 공정 후 잔류막 두께의 관계를 도시한 그래프이다.FIG. 18 is a graph illustrating a relationship between the separation distance between the exposure mask and the photosensitive polymer organic material and the residual film thickness after the developing process.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100 : 표시 장치 200 : 표시 패널100: display device 200: display panel

210 : 어레이 기판 220 : 대향 기판210: array substrate 220: opposing substrate

221 : 베이스 기판 222 : 차광층221: base substrate 222: light shielding layer

223 : 컬러필터층 224 : 평탄화막223: color filter layer 224: planarization film

225 : 돌기 패턴 226 : 지지 패턴225 projection pattern 226 support pattern

227 : 공통 전극층 300 : 패널 구동부227: common electrode layer 300: panel driver

310 : 타이밍 제어부 320 : 전원 공급부310: timing controller 320: power supply

330 : 계조 전압 발생부 340 : 데이터 구동부330: Gray voltage generator 340: Data driver

350 : 게이트 구동부 400 : 터치 위치 검출부350: gate driver 400: touch position detector

410 : 전압 공급 제어부 420 : 데이터 샘플링부410: voltage supply control unit 420: data sampling unit

500 : 위치 결정부 500: positioning unit

ES : 센싱 전극 ER : 돌기 전극ES: sensing electrode ER: protrusion electrode

SL : 신호 배선 PE : 화소 전극SL: signal wiring PE: pixel electrode

MP : 마스크 패턴MP: mask pattern

본 발명은 표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 구비한 표시 패널에 관한 것으로서 보다 상세하게는, 제조 공정을 단순화하여 원가 절감 및 제조 편의성을 도모한 표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 구비한 표시 패널에 관한 것이다. The present invention relates to a display substrate, a method for manufacturing the same, and a display panel having the same. More particularly, the present invention relates to a display substrate, a method for manufacturing the same, and a display panel having the same. will be.

일반적으로 표시 장치는 정보 처리 장치에서 처리된 데이터를 사용자가 인식할 수 있도록 소정의 영상을 표시하는 장치로 정의할 수 있다. 이러한 표시 장치는 소형, 경량화 및 고 해상도 구현등을 위해 평판 패널형 표시 장치가 널리 사용되고 있다.In general, the display device may be defined as a device that displays a predetermined image so that a user can recognize data processed by the information processing device. Such display devices are widely used for flat panel display devices for small size, light weight, and high resolution.

현재 가장 널리 사용되고 있는 평판 패널형 표시 장치는 액정표시장치인데, 상기 액정표시장치는 전계의 세기에 따라서 광 투과도가 변경되는 액정을 이용하여 디스플레이를 수행하는 장치로 정의할 수 있다.Currently, the flat panel display device which is most widely used is a liquid crystal display device, and the liquid crystal display device may be defined as a device for performing a display using a liquid crystal whose light transmittance is changed according to the intensity of an electric field.

상기 액정표시장치는 스위칭 소자인 박막 트랜지스터(Thin Film transistor; TFT)가 형성된 어레이 기판, 상기 어레이 기판에 대향 체결되는 대향 기판, 상기 두 기판 사이에 개재되는 액정층을 구비한 액정표시패널을 포함한다.The liquid crystal display includes an array substrate on which a thin film transistor (TFT), which is a switching element, is formed, an opposite substrate fastened to the array substrate, and a liquid crystal layer interposed between the two substrates. .

일반적으로 상기 액정표시장치는 조작 인터페이스를 포함한 입력부를 구비하고, 상기 입력부를 통해 입력된 데이터를 시스템부에서 연산하며, 상기 시스템부에서 출력되는 제어 신호를 이용한 단방향 통신에 의해 소정 영상을 표시한다. Generally, the liquid crystal display includes an input unit including an operation interface, calculates data input through the input unit in the system unit, and displays a predetermined image by unidirectional communication using a control signal output from the system unit.

최근 들어, 상기 단방향 통신에서 벗어나 사용자의 지시 내용을 직접 액정표 시패널의 화면상에 표시된 아이콘 등을 이용하여 데이터를 입력하는 터치 패널을 상기 액정표시장치에 적용하고 있다. Recently, a touch panel for inputting data using an icon displayed on a screen of a liquid crystal display panel directly from the unidirectional communication has been applied to the liquid crystal display device.

상기 터치 패널은 상기 액정표시패널의 최상측에 구비되어, 상기 액정표시패널의 화면상에 표시된 상기 아이콘 등에 사용자가 손 또는 물체등을 직접 접촉함으로써 사용자가 원하는 지시 내용이 선택된다. 상기 터치 패널은 상기 손 또는 물체등이 접촉된 위치를 파악하고, 상기 접촉된 위치에서 지시하는 내용을 입력 신호로 받아들여 상기 액정표시장치를 구동한다. The touch panel is provided on an uppermost side of the liquid crystal display panel so that the user desires to select an instruction content by directly touching a hand or an object with the icon displayed on the screen of the liquid crystal display panel. The touch panel detects a position where the hand or an object is in contact and receives the contents indicated by the touched position as an input signal to drive the liquid crystal display.

상기 터치 패널은 컴퓨터등에 사용될 경우 키보드 또는 마우스와 같은 입력 장치, 휴대 전화기와 같은 모바일(mobile) 제품에 사용될 경우 키패드와 같은 별도의 입력 장치가 요구되지 않아 그 사용이 증대되고 있는 추세이다. When the touch panel is used in a computer or the like, an input device such as a keyboard or a mouse, and when used in a mobile product such as a mobile phone, a separate input device such as a keypad is not required and its use is increasing.

그러나, 상기 터치 패널이 상기 액정표시패널의 상측에 배치됨에 따라 상기 터치 패널을 구비한 제품의 두께 또는 크기가 증가하게 되는 문제점이 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 상기 터치 패널을 상기 액정표시패널과 일체형으로 구성하는 경우가 증가하고 있다. However, as the touch panel is disposed above the liquid crystal display panel, there is a problem in that the thickness or size of a product having the touch panel increases. In order to solve this problem, the touch panel is integrated with the liquid crystal display panel.

이와 같은 터치 패널 일체형 액정표시패널에는 상기 손 또는 물체가 접촉될 경우 차단되는 광이나 라이트 펜으로부터 입력되는 광을 감지하는 광 감지 센서를 액정표시패널 내부에 형성하는 방식등이 있다.In such a touch panel integrated liquid crystal display panel, there is a method of forming a light sensing sensor inside the liquid crystal display panel that detects light that is blocked when the hand or an object is touched or light input from the light pen.

그러나, 이와 같은 방식을 이용하여 액정표시패널을 형성하였을 경우, 상기 광 감지 센서에서 감지되는 광은 주변광의 세기가 커지면 광 감지 센서에서 감지되는 광의 세기도 커지고, 주변광의 세기가 약해지면 상기 광 감지 센서에서 감지되 는 광의 세기 또한 약해져 손 또는 물체가 접촉되는 위치 좌표를 판단하기 곤란한 문제점이 있다.However, when the liquid crystal display panel is formed using the above method, the light detected by the light sensing sensor increases in intensity of light detected by the light sensing sensor when the intensity of ambient light increases, and detects the light when the intensity of ambient light decreases. The intensity of light detected by the sensor is also weakened, which makes it difficult to determine the position coordinate where the hand or the object is in contact.

이와 같은 문제점을 해결하고자, 상기 대향 기판 내에 돌기 형상의 도전성 구조물을 형성하고, 상기 어레이 기판 내에 상기 도전성 구조물에 대응하는 센싱 배선을 형성하여 외부 압력에 의해 상기 도전성 구조물과 센싱 배선의 전기적 접촉 시 전기적 쇼트를 통해 상기 외부 압력이 가해지는 위치 좌표를 판별하는 터치 스크린 방식의 액정표시패널이 개발되었다. In order to solve such a problem, a protrusion-shaped conductive structure is formed in the opposing substrate, and a sensing wiring corresponding to the conductive structure is formed in the array substrate, so that electrical contact between the conductive structure and the sensing wiring is caused by external pressure. A touch screen liquid crystal display panel for determining a position coordinate to which the external pressure is applied through a short has been developed.

이러한 방식의 액정표시패널은 상기 어레이 기판과 대향 기판을 이용하여 터치 스크린 기능을 직접 구현함으로써 액정표시패널의 박형화를 도모할 수 있으며, 전압 또는 전류의 변동에 따라 터치 위치를 감지함으로써 정확한 터치 위치 검출이 용이하다. In this type of liquid crystal display panel, the touch panel function can be directly implemented using the array substrate and the opposing substrate to reduce the thickness of the liquid crystal display panel, and accurately detect the touch position by detecting the touch position according to the change of voltage or current. This is easy.

반면, 액정표시패널 내부에 도전성 구조물과 센싱 전극을 이용하여 터치 스크린 기능을 수행하는 액정표시패널의 경우, 상기 어레이 기판과 대향 기판을 소정 간격 이격시키고, 이를 지지하는 지지 부재 즉, 컬럼 스페이서(column spacer)를 더 포함하는데, 상기 도전성 구조물은 터치 스크린 기능을 수행하기 위해서 상기 컬럼 스페이서부다 낮은 높이로 형성되어야 하므로 상기 도전성 구조물과 컬럼 스페이서는 단일 공정에서 형성하기가 제조 공정이 증가하게 되는 문제점이 있다. On the other hand, in the case of a liquid crystal display panel which performs a touch screen function by using a conductive structure and a sensing electrode inside the liquid crystal display panel, a support member, that is, a column spacer, is spaced apart from the array substrate and the opposite substrate by a predetermined interval. The conductive structure has to be formed at a lower height than the column spacer portion to perform a touch screen function, so that the conductive structure and the column spacer are formed in a single process, which increases the manufacturing process. .

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 제조 공정을 단순화시킨 표시 기판을 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a display substrate with a simplified manufacturing process.

본 발명의 다른 목적은 상기 표시 기판의 제조 방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing the display substrate.

본 발명의 또 다른 목적은 상기 표시 기판을 구비한 표시 패널을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a display panel having the display substrate.

상기 목적을 달성하기 위하여 게이트 라인들과 데이터 라인들에 의해 복수의 화소부들이 정의되고, 터치 위치를 감지하기 위한 제1 및 제2 신호 라인들이 형성된 어레이 기판과 전기적으로 접촉되어 상기 터치 위치의 위치 좌표를 판단하는 터치 스크린 기능을 갖는 표시 패널의 표시 기판에 있어서, 본 발명의 일 실시예에 의한 표시 기판은 베이스 기판, 지지 패턴 및 제1 및 제2 돌기 패턴을 포함한다. 상기 지지 패턴은 상기 베이스 기판 상에 직접 제1 길이로 형성되어 상기 어레이 기판과의 이격 거리를 일정하게 유지한다. 상기 제1 및 제2 돌기 패턴은 상기 베이스 기판 상에 직접 제2 길이로 형성되어 상기 터치 위치에서 상기 제1 및 제2 신호 라인들과 각각 전기적으로 접촉한다. In order to achieve the above object, a plurality of pixel parts are defined by gate lines and data lines, and the position of the touch location is in electrical contact with an array substrate on which first and second signal lines for sensing a touch location are formed. In a display substrate of a display panel having a touch screen function for determining coordinates, the display substrate according to an exemplary embodiment of the present invention includes a base substrate, a support pattern, and first and second protrusion patterns. The support pattern is directly formed on the base substrate to a first length to maintain a constant distance from the array substrate. The first and second protrusion patterns are formed to have a second length directly on the base substrate to be in electrical contact with the first and second signal lines, respectively, at the touch position.

이 때, 상기 제1 및 제2 돌기 패턴의 상부에는 도전성막이 도포되고, 상기 표시 기판은 상기 화소부에 대응하는 위치에 형성된 컬러 필터층을 더 포함한다.In this case, a conductive film is coated on the first and second protrusion patterns, and the display substrate further includes a color filter layer formed at a position corresponding to the pixel portion.

상기 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여 게이트 라인들과 데이터 라인들에 의해 복수의 화소부들이 정의되고, 터치 위치를 감지하기 위한 제1 및 제2 신호 라인들이 형성된 어레이 기판과 전기적으로 접촉되어 상기 터치 위치의 위치 좌표를 판단하는 터치 스크린 기능을 갖는 표시 패널의 표시 기판에 있어서, 본 발명의 일 실시예에 의한 표시 기판의 제조 방법은 베이스 기판의 전면에 유기물층을 도포하는 단계, 지지 패턴을 형성하기 위한 제1 마스크 패턴과 제1 및 제2 돌기 패턴을 형성하기 위한 제2 마스크 패턴들이 혼합 형성된 노광 마스크를 상기 유기물층 상부에 이격 배치하는 단계, 상기 노광 마스크와 상기 유기물층의 이격 간격을 일정하게 유지하여 상기 유기물층을 노광하는 단계 및 상기 노광된 유기물층을 현상하여 상기 지지 패턴 및 돌기 패턴들을 형성하는 단계를 포함한다.In order to achieve the another object of the present invention, a plurality of pixel parts are defined by gate lines and data lines, and are electrically contacted with an array substrate on which first and second signal lines are formed to sense a touch position. In the display substrate of the display panel having a touch screen function to determine the position coordinates of the touch position, the manufacturing method of the display substrate according to an embodiment of the present invention is the step of applying an organic layer on the front surface of the base substrate, forming a support pattern Disposing an exposure mask formed by mixing the first mask pattern and the second mask patterns for forming the first and second protrusion patterns on the organic layer, and maintaining a constant gap between the exposure mask and the organic layer. Exposing the organic layer and developing the exposed organic layer to form the support pattern. And forming the protruding patterns.

또한, 본 발명의 일 실시예에 의한 표시 기판의 제조 방법은 상기 감광된 영역의 유기물층을 제거한 후, 컬러 필터층을 형성하는 단계, 상기 컬러 필터층, 유기물층 및 차광층의 상부에 도전층을 형성하는 단계 및 상기 도전층 중 상기 지지 부재와 대응되는 영역의 도전층을 제거하는 단계를 더 포함한다.In addition, according to an embodiment of the present invention, a method of manufacturing a display substrate may include forming a color filter layer after removing the organic material layer of the photosensitive region, and forming a conductive layer on the color filter layer, the organic material layer, and the light shielding layer. And removing a conductive layer in a region of the conductive layer corresponding to the support member.

상기 본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 의한 표시 패널은 어레이 기판 및 대향 기판을 포함한다. 상기 어레이 기판은 게이트 라인들과 데이터 라인들에 의해 복수의 화소부가 정의되고, 터치 위치를 감지하기 위한 제1 신호 라인들 및 제2 신호 라인들이 각각 상기 게이트 라인들 및 데이터 라인들과 동일한 방향으로 형성된다. 상기 대향 기판은 상기 어레이 기판과 결합하여 액정 물질을 수용한다. In order to achieve the another object of the present invention, a display panel according to an embodiment of the present invention includes an array substrate and an opposing substrate. The array substrate includes a plurality of pixel parts defined by gate lines and data lines, and the first signal lines and the second signal lines for sensing the touch position are respectively in the same direction as the gate lines and the data lines. Is formed. The opposing substrate is combined with the array substrate to receive a liquid crystal material.

상기 대향 기판은 차광층, 지지 패턴, 제1 및 제2 돌기 패턴들을 포함한다. 상기 차광층은 베이스 기판 위의 상기 게이트 및 데이터 라인들에 대응하여 형성된다. 상기 지지 패턴은 상기 차광층 위에 제1 길이로 직접 형성되고, 상기 어레이 기판과의 이격 거리를 일정하게 유지한다. 상기 제1 및 제2 돌기 패턴들은 상기 차광층 위에 제2 길이로 직접 형성된다. The opposing substrate includes a light blocking layer, a support pattern, and first and second protrusion patterns. The light blocking layer is formed to correspond to the gate and data lines on the base substrate. The support pattern is directly formed on the light blocking layer to have a first length, and maintains a predetermined distance from the array substrate. The first and second protrusion patterns are directly formed on the light blocking layer to have a second length.

이러한 표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 구비한 표시 패널에 의하면, 터치 스크린 기능을 수행하는 돌기 패턴을 어레이 기판과 대향 기판의 이격 간격을 지지하는 지지 패턴과 동시에 형성할 수 있어 제조 공정을 감소시킬 수 있다.According to such a display substrate, a method of manufacturing the same, and a display panel having the same, a projection pattern that performs a touch screen function can be simultaneously formed with a support pattern that supports a gap between the array substrate and the opposite substrate, thereby reducing the manufacturing process. have.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 표시 장치를 개략적으로 도시한 블록도이고, 도 2는 도 1에 도시된 표시 패널을 개략적으로 도시한 평면도이다.1 is a block diagram schematically illustrating a display device according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view schematically illustrating the display panel illustrated in FIG. 1.

도 1과 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 표시 장치(100)는 표시 패널(200), 패널 구동부(300), 터치 위치 검출부(400) 및 위치 결정부(500)를 포함한다. 1 and 2, the display device 100 according to an exemplary embodiment includes a display panel 200, a panel driver 300, a touch position detector 400, and a position determiner 500. do.

상기 표시 패널(200)은 어레이 기판(210) 및 대향 기판(220)으로 이루어진다. 상기 어레이 기판(210)에는 m 개의 데이터 라인들(DL1,..., DLm)과 상기 데이터 라인(DL1,..., DLm)과 절연되게 교차하는 n 개의 게이트 라인들(GL1,..., GLn)이 형성된다. 여기서, m 과 n 은 자연수이다. The display panel 200 includes an array substrate 210 and an opposing substrate 220. The array substrate 210 has n data lines DL1,..., DLm and n gate lines GL1,..., Intersecting the data lines DL1,. GLn) is formed. Where m and n are natural numbers.

각 데이터 라인들(DL1,..., DLm)과 각 게이트 라인들(GL1,..., GLn)이 교차되는 영역마다 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; 이하 TFT)가 형성된다. Thin film transistors (hereinafter referred to as TFTs) are formed in regions where each of the data lines DL1 to DLm and the gate lines GL1 to GLn cross each other.

예를 들어, 제1 제1 데이터 라인(DL1)과 제1 게이트 라인(GL1)이 교차되는 영역에는 제1 스위칭 소자(TFT1)와 제1 화소 전극(PE1)이 형성된다. 상기 제1 스위칭 소자(TFT1)의 게이트 전극은 상기 제1 게이트 라인(GL1)에 연결되고, 상기 제1 스위칭 소자(TFT1)의 소스 전극은 상기 제1 데이터 라인(DL1)에 연결되며, 상기 제 1 스위칭 소자(TFT1)의 드레인 전극은 상기 화소 전극(PE)에 연결된다. For example, the first switching element TFT1 and the first pixel electrode PE1 are formed in an area where the first first data line DL1 and the first gate line GL1 cross each other. A gate electrode of the first switching element TFT1 is connected to the first gate line GL1, a source electrode of the first switching element TFT1 is connected to the first data line DL1, and the first electrode is connected to the first data line DL1. The drain electrode of the first switching element TFT1 is connected to the pixel electrode PE.

동일한 방법으로, 제2 내지 제m 데이터 라인(DLm)과 제2 내지 제n 게이트 라인(GLn)들이 교차하는 영역마다 스위칭 소자(TFT) 및 화소 전극(PE)이 각각 형성된다. In the same manner, the switching element TFT and the pixel electrode PE are formed in each of the regions where the second to m th data lines DLm and the second to n th gate lines GLn cross each other.

또한, 상기 어레이 기판(210)에는 도시되지는 아니하였으나 터치 스크린 기능을 수행하기 위한 제1 신호 배선들 및 제2 신호 배선들이 형성된다. Although not shown, first signal wires and second signal wires are formed on the array substrate 210 to perform a touch screen function.

상기 제1 신호 배선들은 상기 게이트 라인들(GL1,..., GLn)과 동일하게 제1 방향(D1)으로 연장되고, 상기 제2 신호 배선들은 상기 데이터 라인들(DL1,..., DLm)과 동일하게 제2 방향(D2)으로 연장되며, 상기 제1 및 제2 신호 배선들은 서로 전기적으로 절연되게 교차한다. The first signal wires extend in the first direction D1 in the same manner as the gate lines GL1, ..., GLn, and the second signal wires extend the data lines DL1, ..., DLm. ) And extend in the second direction D2, and the first and second signal wires cross each other to be electrically insulated from each other.

여기서, 상기 제1 및 제2 신호 배선들은 소정 전위 레벨을 갖는 초기 구동 전압(Vid)을 제공받고, 상기 터치 위치 검출부(400)에 연결된다. Here, the first and second signal wires are supplied with an initial driving voltage Vid having a predetermined potential level, and are connected to the touch position detector 400.

이 때, 상기 제1 및 제2 신호 배선들은 각각의 화소들 중 레드(R), 그린(G) 및 블루(B) 화소들로 구성된 단위 화소마다 형성할 수 있고, 소정 개수의 단위 화소마다 형성할 수도 있다. 일례로, 상기 제1 및 제2 신호 배선들은 4개의 단위 화소마다 형성할 수 있다.In this case, the first and second signal wires may be formed for each unit pixel including red (R), green (G), and blue (B) pixels among the pixels, and may be formed for each predetermined number of unit pixels. You may. For example, the first and second signal wires may be formed for every four unit pixels.

상기 대향 기판(220)은 상기 어레이 기판(210)과 대향 체결되어 액정층(도시되지 않음)을 수용한다. 상기 대향 기판(220)에는 상기 단위 화소마다 컬러 필터층이 형성되어 소정의 색상을 발현할 수 있다.The opposing substrate 220 is coupled to the array substrate 210 so as to receive a liquid crystal layer (not shown). A color filter layer may be formed on each of the unit pixels in the opposing substrate 220 to express a predetermined color.

또한, 상기 대향 기판(220)에는 터치 스크린 기능을 수행하기 위한 돌기 전 극들이 형성된다. 상기 돌기 전극들은 외부 압력이 인가됨에 따라 상기 제1 및 제2 신호 배선들과 각각 전기적으로 접촉하는 제1 돌기 전극들 및 제2 돌기 전극들로 구성된다. In addition, protrusion electrodes are formed on the opposing substrate 220 to perform a touch screen function. The protruding electrodes include first and second protruding electrodes that are in electrical contact with the first and second signal lines, respectively, when an external pressure is applied.

이 때, 상기 제1 및 제2 돌기 전극들은 각각의 화소들 중 레드(R), 그린(G) 및 블루(B) 화소들로 구성된 단위 화소마다 형성할 수 있고, 소정 개수의 단위 화소마다 형성할 수도 있다. 일례로, 상기 제1 및 제2 돌기 전극들은 4개의 단위 화소마다 형성할 수 있다. In this case, the first and second protrusion electrodes may be formed for each unit pixel including red (R), green (G), and blue (B) pixels among the pixels, and may be formed for a predetermined number of unit pixels. You may. For example, the first and second protrusion electrodes may be formed for every four unit pixels.

상기 어레이 기판(210)과 대향 기판(220)에 각각 형성된 상기 제1 및 제2 신호 배선들과 제1 및 제2 돌기 전극들에 관하여는 도 3을 통하여 상세히 설명하기로 한다. The first and second signal wires and the first and second protrusion electrodes formed on the array substrate 210 and the opposing substrate 220 will be described in detail with reference to FIG. 3.

상기 패널 구동부(300)는 타이밍 제어부(310), 전원 공급부(320), 계조 전압 발생부(330), 데이터 구동부(340) 및 게이트 구동부(350)를 포함한다.The panel driver 300 includes a timing controller 310, a power supply 320, a gray voltage generator 330, a data driver 340, and a gate driver 350.

상기 타이밍 제어부(310)는 상기 표시 장치(100)의 전반적인 동작을 제어한다. 상기 타이밍 제어부(310)는 외부의 그래픽 컨트롤러와 같은 호스트 시스템으로부터 레드(R), 그린(G) 및 블루(B)의 원시 데이터 신호(DATA_O)와 제1 제어 신호(CNTL1)가 인가됨에 따라 상기 표시 패널(200)에 영상을 표시하기 위하여 상기 원시 데이터 신호(DATA_O)의 출력 타이밍이 제어된 제1 데이터 신호(DATA1), 제2 제어 신호(CNTL2), 제3 제어 신호(CNTL3) 및 제4 제어 신호(CNTL4)를 출력한다.The timing controller 310 controls the overall operation of the display device 100. The timing controller 310 is applied as the red, green, and blue raw data signals DATA_O and the first control signal CNTL1 are applied from a host system such as an external graphic controller. In order to display an image on the display panel 200, a first data signal DATA1, a second control signal CNTL2, a third control signal CNTL3, and a fourth controlled output timing of the raw data signal DATA_O are controlled. The control signal CNTL4 is output.

구체적으로, 상기 제1 제어 신호(CNTL1)는 메인 클록 신호(MCLK), 수평 동기 신호(HSYNC) 및 수직 동기 신호(VSYNC)를 포함한다. 상기 제2 제어 신호(CNTL2)는 상기 데이터 구동부(340)를 제어하는 수평 시작 신호(STH), 반전 신호(REV) 및 데이터 로드 신호(TP)를 포함한다. 상기 제3 제어 신호(CNTL3)는 상기 게이트 구동부(350)를 제어하는 개시 신호(STV), 클록 신호(CK) 및 출력 인에이블 신호(OE)등을 포함한다. 상기 제4 제어 신호(CNTL4)는 상기 전원 공급부(320)를 제어하는 클록 신호(CLK) 및 반전 신호(REV)등을 포함한다. In detail, the first control signal CNTL1 includes a main clock signal MCLK, a horizontal synchronization signal HSYNC, and a vertical synchronization signal VSYNC. The second control signal CNTL2 includes a horizontal start signal STH, an inversion signal REV, and a data load signal TP that control the data driver 340. The third control signal CNTL3 includes a start signal STV, a clock signal CK, an output enable signal OE, and the like that control the gate driver 350. The fourth control signal CNTL4 includes a clock signal CLK and an inverted signal REV for controlling the power supply unit 320.

또한, 상기 타이밍 제어부(310)는 상기 터치 위치 검출부(400)를 제어하는 제5 제어 신호(CNTL5)를 더 출력한다. 상기 제5 제어 신호(CNT5)는 상기 전원 공급부(320)에서 출력되는 초기 구동 전압(Vid)이 상기 제1 및 제2 신호 배선들에 제공되도록 제어하는 샘플링 신호(SS)등을 포함한다. In addition, the timing controller 310 further outputs a fifth control signal CNTL5 for controlling the touch position detector 400. The fifth control signal CNT5 includes a sampling signal SS for controlling the initial driving voltage Vid output from the power supply 320 to be provided to the first and second signal wires.

상기 전원 공급부(320)는 상기 타이밍 제어부(310)에서 인가되는 제4 제어 신호(CNTL4)에 응답하여 상기 표시 패널(200)로 제공되는 공통 전압들(Vcom, Vcst), 터치 스크린 기능을 수행하기 위해 상기 어레이 기판(210)에 제공되는 초기 구동 전압(Vid), 상기 계조 전압 발생부(330)로 제공되는 아날로그 구동 전압(AVDD) 및 상기 게이트 구동부(350)로 제공되는 게이트 온/오프 전압(Von, Voff)등을 출력한다.The power supply unit 320 performs common voltages Vcom and Vcst and a touch screen function provided to the display panel 200 in response to a fourth control signal CNTL4 applied by the timing controller 310. The initial driving voltage Vid provided to the array substrate 210, the analog driving voltage AVDD provided to the gray voltage generator 330, and the gate on / off voltage provided to the gate driver 350. Von, Voff).

상기 계조 전압 발생부(330)는 상기 전원 공급부(320)에서 제공되는 상기 아날로그 구동 전압(AVDD)을 기준 전압으로 사용하여 감마 커브가 적용된 저항비를 갖는 분배 저항을 기초로 계조 레벨수에 대응하는 복수개의 기준 계조 전압(VGMA_R)을 출력한다.The gray voltage generator 330 corresponds to the number of gray level levels based on a divider resistor having a resistance ratio to which a gamma curve is applied using the analog driving voltage AVDD provided from the power supply 320 as a reference voltage. A plurality of reference gray voltages VGMA_R are output.

상기 데이터 구동부(340)는 데이터 테이프 캐리어 패키지(tape carrier package; 이하 TCP)(341)와 데이터 구동칩(342)을 포함한다. 상기 데이터 TCP(341)는 m 개의 상기 데이터 라인(DL)을 복수의 블록으로 나누어 구동하기 위해 복수개로 형성될 수 있다. The data driver 340 includes a data tape carrier package (TCP) 341 and a data driver chip 342. The data TCP 341 may be formed in plural to drive m data lines DL into a plurality of blocks.

또한, 상기 계조 전압 발생부(330)로부터 출력되는 기준 계조 전압(VGMA_R)에 기초하여 복수개의 계조 전압(VGMA)들을 생성한다. 상기 데이터 구동부(340)는 상기 타이밍 제어부(310)에서 인가되는 제2 제어 신호(CNTL2)와 상기 계조 전압(VGMA)에 기초하여 디지털 형태의 상기 제1 데이터 신호(DATA1)를 데이터 신호들(D1,...,Dm)로 변환하며, 상기 데이터 신호들(D1,..., Dm)의 출력 타이밍을 제어하여 상기 데이터 라인들(DL1,..., DLm)에 출력한다. In addition, a plurality of gray voltages VGMA are generated based on the reference gray voltage VGMA_R output from the gray voltage generator 330. The data driver 340 receives the first data signal DATA1 in a digital form based on the second control signal CNTL2 and the gray voltage VGMA applied from the timing controller 310, and outputs the data signals D1. And Dm), and output timings of the data signals D1, ..., Dm are controlled and output to the data lines DL1, ..., DLm.

상기 게이트 구동부(350)는 게이트 TCP(351)을 포함한다. 상기 게이트 TCP(351)는 n 개의 상기 게이트 라인(GL)을 복수의 블록으로 나누어 구동하기 위해 복수개로 형성될 수 있다. The gate driver 350 includes a gate TCP 351. The gate TCP 351 may be formed in plural to drive n gate lines GL by dividing into a plurality of blocks.

상기 게이트 구동부(350)는 상기 타이밍 제어부(310)에서 인가되는 제3 제어 신호(CNTL3)와 상기 전원 공급부(320)에서 출력되는 게이트 온/오프 전압(Von. Voff)에 응답하여 게이트 신호들(G1,..., Gn)을 생성하고, 상기 게이트 라인들(GL1,..., GLn)에 순차적으로 출력한다. The gate driver 350 generates gate signals in response to the third control signal CNTL3 applied by the timing controller 310 and the gate on / off voltage Von. Voff output from the power supply 320. G1, ..., Gn) are generated and sequentially output to the gate lines GL1, ..., GLn.

상기 터치 위치 검출부(400)는 외부 압력이 상기 대향 기판(220)의 상부에 인가될 때, 상기 외부 압력이 가해진 지점의 위치 좌표를 검출한다. The touch position detector 400 detects the position coordinates of the point where the external pressure is applied when the external pressure is applied to the upper portion of the opposing substrate 220.

즉, 상기 외부 압력에 의해 상기 대향 기판(220)에 형성된 상기 제1 돌기 전극들이 상기 어레이 기판(210)에 형성된 제1 신호 배선들과 접촉될 때, 상기 제1 신호 배선들에 인가되어 있는 상기 초기 구동 전압(Vid)이 변동되는 것을 감지하여 상기 외부 압력이 가해진 지점의 y-축의 위치 좌표를 판단한다.That is, when the first protrusion electrodes formed on the counter substrate 220 are in contact with the first signal wires formed on the array substrate 210 by the external pressure, the first signal wires are applied to the first signal wires. The initial driving voltage Vid is sensed to determine a position coordinate of the y-axis of the point where the external pressure is applied.

또한, 상기 외부 압력에 의해 상기 어레이 기판(210)에 형성된 상기 제2 돌기 전극들이 상기 어레이 기판(210) 형성된 제2 신호 배선들과 접촉될 때, 상기 제2 신호 배선(SL2)들에 인가되어 있는 상기 초기 구동 전압(Vid)이 변동되는 것을 감지하여 x-축의 위치 좌표를 판단한다. In addition, when the second protrusion electrodes formed on the array substrate 210 are in contact with the second signal wires formed on the array substrate 210 by the external pressure, they are applied to the second signal wires SL2. The positional coordinate of the x-axis is determined by detecting that the initial driving voltage Vid is changed.

이를 위해, 상기 터치 위치 검출부(400)는 상기 제1 및 제2 신호 배선에 상기 제5 제어 신호(CNTL5)에 응답하여 상기 초기 구동 전압(Vid)을 제공하는 전압 공급 제어부(도시되지 않음) 및 상기 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2) 각각에서 상기 초기 구동 전압(Vid)이 변동되는 것을 감지하여 각각 제1 검출 신호(DS1) 및 제2 검출 신호(DS2)를 출력하는 데이터 샘플링부(도시되지 않음)를 포함한다. To this end, the touch position detector 400 may include a voltage supply controller (not shown) that provides the initial driving voltage Vid to the first and second signal wires in response to the fifth control signal CNTL5. A data sampling unit which detects that the initial driving voltage Vid is changed in each of the first and second signal lines SL1 and SL2 and outputs a first detection signal DS1 and a second detection signal DS2, respectively. (Not shown).

여기서, 상기 터치 위치 검출부(400)는 상기 패널 구동부(300)에 포함되는 데이터 구동부(340)에 형성할 수도 있다. The touch position detector 400 may be formed in the data driver 340 included in the panel driver 300.

상기 위치 결정부(500)는 상기 터치 위치 검출부(400)에서 출력되는 상기 제1 및 제2 검출 신호(DS1, DS2)에 의해 판단된 각각의 y-축 및 x-축의 위치 좌표를 조합하여 상기 외부 압력이 상기 표시패널(200)에 인가되는 위치를 판단한다. The position determiner 500 combines the position coordinates of the y-axis and the x-axis determined by the first and second detection signals DS1 and DS2 output from the touch position detector 400. The position at which external pressure is applied to the display panel 200 is determined.

도 3은 도 2에 도시된 표시 패널의 어레이 기판과 대향 기판을 분리시켜 개략적으로 도시한 사시도이다. 3 is a perspective view schematically illustrating an array substrate and an opposing substrate of the display panel illustrated in FIG. 2 separated from each other.

도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 표시 패널(200)은 어레이 기판(210)과 대향 기판(220)을 포함한다. Referring to FIG. 3, the display panel 200 according to an exemplary embodiment of the present invention includes an array substrate 210 and an opposing substrate 220.

상기 어레이 기판(210)에는 제1 방향(D1)으로 형성된 복수개의 데이터 라인(DL)과 제2 방향(D2)으로 형성된 복수개의 게이트 라인들(GL)이 형성된다.A plurality of data lines DL formed in a first direction D1 and a plurality of gate lines GL formed in a second direction D2 are formed in the array substrate 210.

또한, 상기 어레이 기판(210)에는 상기 터치 스크린 기능을 수행하기 위한 복수개의 제1 신호 배선(SL1)과 복수개의 제2 신호 배선(SL2)이 형성된다. 상기 제1 신호 배선(SL1)들은 상기 제1 방향(D1)으로 연장되고, 상기 제2 신호 배선(SL2)들은 상기 제2 방향(D2)으로 연장된다. In addition, a plurality of first signal lines SL1 and a plurality of second signal lines SL2 are formed on the array substrate 210 to perform the touch screen function. The first signal lines SL1 extend in the first direction D1, and the second signal lines SL2 extend in the second direction D2.

또한, 상기 어레이 기판(210)에는 상기 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2) 상부에 형성된 복수개의 센싱 전극(ES)을 더 포함한다. 상기 센싱 전극(ES)들은 각각 상기 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2)들과 컨택홀(CTH1, CTH2)을 통해 전기적으로 연결되는 제1 및 제2 센싱 전극(ES1, ES2)을 포함한다. In addition, the array substrate 210 further includes a plurality of sensing electrodes ES formed on the first and second signal lines SL1 and SL2. Each of the sensing electrodes ES includes first and second sensing electrodes ES1 and ES2 electrically connected to the first and second signal lines SL1 and SL2 through contact holes CTH1 and CTH2, respectively. do.

상기 대향 기판(220)에는 상기 터치 스크린 기능을 수행하기 위해 제1 길이를 갖는 복수개의 돌기 전극(ER)이 형성되고, 상기 어레이 기판(210)과 대향 기판(220)의 이격 간격을 유지하기 위해 제2 길이를 갖는 복수개의 지지 패턴(226)이 형성된다. 상기 돌기 전극(ER)들 및 지지 패턴(226)들은 상기 어레이 기판(210)을 구성하는 베이스 기판(도시되지 않음)에 접촉되도록 상기 베이스 기판 상에 직접 형성된다. A plurality of protrusion electrodes ER having a first length is formed on the opposing substrate 220 to perform the touch screen function, and to maintain a gap between the array substrate 210 and the opposing substrate 220. A plurality of support patterns 226 having a second length are formed. The protrusion electrodes ER and the support patterns 226 are directly formed on the base substrate so as to contact a base substrate (not shown) constituting the array substrate 210.

상기 돌기 전극(ER)은 제1 신호 배선(SL1)들과 전기적으로 접촉되는 제1 돌기 전극(ER1)들 및 제2 신호 배선(SL2)들과 전기적으로 접촉되는 제2 돌기 전극(ER2)을 포함한다. 이 때, 상기 제1 돌기 전극(ER1)들은 상기 제1 센싱 전극(ES1)과 대응하는 상기 대향 기판(220) 상에 형성되고, 상기 제2 돌기 전극(ER2)들은 상 기 제2 센싱 전극(ES2)과 대응하는 상기 대향 기판(220) 상에 형성된다. The protruding electrode ER may be connected to the first protruding electrodes ER1, which are in electrical contact with the first signal lines SL1, and the second protruding electrode ER2, which is in electrical contact with the second signal lines SL2. Include. In this case, the first protruding electrodes ER1 are formed on the opposing substrate 220 corresponding to the first sensing electrode ES1, and the second protruding electrodes ER2 are the second sensing electrodes. Is formed on the opposing substrate 220 corresponding to ES2).

이 때, 상기 돌기 전극(ER)의 제1 길이는 상기 지지 패턴(226)의 제2 길이에 비해 상대적으로 작은 길이로 형성되기 때문에 외부 압력(PO)이 인가됨에 따라 상기 제1 돌기 전극(ER1)들은 상기 제1 센싱 전극(ES1)과 전기적으로 접촉되고, 상기 제2 돌기 전극(ER2)들은 상기 제2 센싱 전극(ES2)과 전기적으로 접촉된다. In this case, since the first length of the protruding electrode ER is formed to be relatively smaller than the second length of the support pattern 226, the first protruding electrode ER1 is applied as an external pressure PO is applied. ) Are electrically in contact with the first sensing electrode ES1, and the second protrusion electrodes ER2 are in electrical contact with the second sensing electrode ES2.

이에 따라, 상기 제1 및 제2 센싱 전극(ES1, ES2)과 각각 전기적으로 접촉되어 형성된 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2)이 각각 제1 및 제2 돌기 전극(ER1, ER2)과 전기적으로 접촉된다. Accordingly, the first and second signal wires SL1 and SL2 are formed in electrical contact with the first and second sensing electrodes ES1 and ES2, respectively, and the first and second protrusion electrodes ER1 and ER2, respectively. Electrical contact.

또한, 상기 돌기 전극(ER)들에는 도 1에 도시된 전원 공급부(320)로부터 출력되는 공통 전압(Vcom)이 인가되고, 상기 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2)에는 상기 전원 공급부(320)에서 출력되는 초기 구동 전압(Vid)이 인가된다. 상기 돌기 전극(ER)들 및 상기 센싱 전극(ES)들이 외부 압력(PO)에 의해 전기적으로 접촉함에 따라 접촉되는 위치에서 상기 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2)에 인가된 상기 초기 구동 전압(Vid)의 전위가 변동하게 된다. In addition, a common voltage Vcom output from the power supply unit 320 shown in FIG. 1 is applied to the protrusion electrodes ER, and the power supply unit is applied to the first and second signal wires SL1 and SL2. The initial driving voltage Vid output from 320 is applied. The initial driving applied to the first and second signal lines SL1 and SL2 at a position where the protrusion electrodes ER and the sensing electrodes ES are in contact with each other by the external pressure PO. The potential of the voltage Vid changes.

이 때, 상기 제1 신호 배선(SL1)에서 상기 초기 구동 전압(Vid)의 전위 변동은 y-축 즉, 제1 방향(D1) 방향의 위치 좌표를 결정하는데 사용되고, 상기 제2 신호 배선(SL2)에서 상기 초기 구동 전압(Vid)의 전위 변동은 x-축 즉, 제2 방향(D2)의 위치 좌표를 결정하는데 사용된다. At this time, the potential variation of the initial driving voltage Vid in the first signal line SL1 is used to determine the position coordinate of the y-axis, that is, the direction of the first direction D1, and the second signal line SL2. The potential change of the initial driving voltage Vid at) is used to determine the position coordinate of the x-axis, that is, the second direction D2.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 표시 패널의 일부를 개략적으로 도시한 평면도이고, 도 5는 도 4에 도시된 I-I'을 절단하여 도시한 부분 단면도이며, 도 6 은 도 5에 도시된 표시 패널에 외부 압력을 가했을 경우의 모습을 개략적으로 도시한 단면도이다. 4 is a plan view schematically illustrating a portion of a display panel according to an exemplary embodiment of the present invention, FIG. 5 is a partial cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 4, and FIG. 6 is a cross-sectional view of FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically illustrating an external pressure applied to the display panel shown in FIG.

도 4와 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 액정표시패널(200)은 어레이 기판(210), 대향 기판(220) 및 상기 두 기판 사이에 개재되는 액정층(도시되지 않음)을 포함한다.4 and 5, the liquid crystal display panel 200 according to an exemplary embodiment of the present invention includes an array substrate 210, an opposing substrate 220, and a liquid crystal layer interposed between the two substrates (not shown). It includes.

상기 어레이 기판(210)은 베이스 기판(210) 상에 화상을 표시하는 기본 단위인 복수개의 화소가 매트릭스 형태로 형성된 기판이다. 상기 복수의 화소 중 제ji 화소(Pji)는 제j 게이트 라인(GLj), 제i 데이터 라인(DLi), 제ji TFT(Tji) 및 제ji 화소 전극(PEji)으로 이루어진다. The array substrate 210 is a substrate on which a plurality of pixels, which are a basic unit for displaying an image, is formed in a matrix form on the base substrate 210. The j th pixel Pji of the plurality of pixels includes a j th gate line GLj, an i th data line DLi, a j th TFT Tji, and a j th pixel electrode PEji.

상기 제j 게이트 라인(GLj)은 제1 방향(D1)으로 연장되고, 상기 제i 데이터 라인(DLi)은 상기 제1 방향(D1)과 교차하는 제2 방향(D2)으로 연장되어 상기 제j 게이트 라인(GLj)과 절연되게 교차한다.The j-th gate line GLj extends in a first direction D1, and the i-th data line DLi extends in a second direction D2 crossing the first direction D1 to extend the j-th gate line. Intersect with the gate line GLj insulated.

상기 제i 데이터 라인(DLi)과 제j 게이트 라인(GLj)은 인접하는 제i+1 데이터 라인(DLi+1)과 제j-1 게이트 라인(GLj-1)에 의해서 제ji 화소영역(PAji)을 정의한다. 상기 제ji 화소영역(PAji)에는 상기 제ji TFT(Tji) 및 제ji 화소 전극(PEji)이 형성된다.The j th pixel line PAji is formed by the i th data line DLi and the j th gate line GLj which are adjacent to the i th data line DLi + 1 and the j th gate line GLj-1. ). The j th TFT Tji and the j th pixel electrode PEji are formed in the j th pixel region PAji.

상기 제ji TFT(Tji)의 게이트 전극(G)은 상기 제j 게이트 라인(GLj)으로부터 분기되고, 소오스 전극(S)은 상기 제i 데이터 라인(DLi)으로부터 분기되며, 드레인 전극(D)은 상기 제ji 화소 전극(PEji)과 전기적으로 연결된다. 따라서, 상기 TFT(Tji)는 상기 제j 게이트 라인(GLj)으로 인가된 게이트 신호에 응답하여 상기 제i 데이터 라인(DLi)으로 인가된 데이터 신호를 상기 제ji 화소전극(PEji)으로 출력한다.The gate electrode G of the j th TFT Tji is branched from the j th gate line GLj, the source electrode S is branched from the i th data line DLi, and the drain electrode D is It is electrically connected to the ji pixel electrode PEji. Accordingly, the TFT Tji outputs the data signal applied to the i th data line DLi to the j th pixel electrode PEji in response to the gate signal applied to the j th gate line GLj.

또한, 상기 제ji 화소(Pji)는 공통 전압(Vcom)이 인가되고, 보조 용량(Cst)을 정의하는 제ji 스토리지 전압 배선(SEji)을 더 구비한다. In addition, the ji pixel Pji is applied with a common voltage Vcom, and further includes a ji storage voltage line SEji defining the storage capacitor Cst.

상기 어레이 기판(210)에는 상기 게이트 라인(GL)들과 평행하게 제1 방향(D1)으로 연장되는 제1 신호 배선(SL1)들과 상기 데이터 라인(DL)들과 평행하게 제2 방향(D2)으로 연장되는 제2 신호 배선(SL2)들이 형성된다. The array substrate 210 has first signal lines SL1 extending in a first direction D1 in parallel with the gate lines GL and a second direction D2 in parallel with the data lines DL. ) Second signal lines SL2 are formed.

상기 제1 신호 배선(SL1)들은 상기 게이트 라인(GL)과 동일한 레이 아웃 상에 형성될 수 있으며, 상기 제2 신호 배선(SL2)들은 상기 데이터 라인(DL)과 동일한 레이 아웃 상에 형성될 수 있다. 상기 제1 신호 배선(SL1)들과 상기 제2 신호 배선(SL2)들에는 초기 구동 전압(Vid)이 제공된다. The first signal lines SL1 may be formed on the same layout as the gate line GL, and the second signal lines SL2 may be formed on the same layout as the data line DL. have. An initial driving voltage Vid is provided to the first signal lines SL1 and the second signal lines SL2.

상기 어레이 기판(210)에는 상기 제1 신호 배선(SL1)들의 상부에 형성되고, 상기 대향 기판(220)에 형성된 제1 돌기 전극(ER1)과 전기적으로 접촉되는 제1 센싱 전극(ES1)이 형성된다. 또한, 상기 제2 신호 배선(SL2)의 상부에 형성되고, 상기 제2 기판(120)에 형성되는 제2 돌기 전극(ER2)과 전기적으로 접촉되는 제2 센싱 전극(ES2)이 더 형성된다. A first sensing electrode ES1 is formed on the array substrate 210 and is formed on the first signal lines SL1 and in electrical contact with the first protrusion electrode ER1 formed on the opposing substrate 220. do. In addition, a second sensing electrode ES2 is formed on the second signal line SL2 and is in electrical contact with the second protrusion electrode ER2 formed on the second substrate 120.

도 5를 참고하면, 상기 어레이 기판(210)은 베이스 기판(211), TFT 어레이층(212) 및 화소 전극(PE)을 포함한다.Referring to FIG. 5, the array substrate 210 includes a base substrate 211, a TFT array layer 212, and a pixel electrode PE.

상기 베이스 기판(211)은 유리와 같은 투명한 절연 물질로 이루어진다.The base substrate 211 is made of a transparent insulating material such as glass.

상기 TFT 어레이층(212)은 상기 베이스 기판(211) 상에 구비된다. 상기 TFT 어레이층(212)은 복수개의 TFT들, 보호막(213), 평탄화막(214) 및 제1 신호배선(SL1)을 포함한다.The TFT array layer 212 is provided on the base substrate 211. The TFT array layer 212 includes a plurality of TFTs, a passivation layer 213, a planarization layer 214, and a first signal line SL1.

상기 복수개의 TFT 각각은 게이트 전극(212a), 게이트 절연막(212b), 액티브층(212c), 오믹 콘택층(212d), 소오스 전극(212e) 및 드레인 전극(212f)으로 이루어진다. Each of the plurality of TFTs includes a gate electrode 212a, a gate insulating film 212b, an active layer 212c, an ohmic contact layer 212d, a source electrode 212e, and a drain electrode 212f.

상기 보호막(213)은 상기 TFT를 커버하는 유기 절연막으로 이루어진다.The protective film 213 is made of an organic insulating film covering the TFT.

상기 평탄화막(214)은 상기 보호막(213)의 상부에 형성되어 상기 제1 기판(211)을 평탄화시키는 유기 절연막으로 이루어진다.The planarization layer 214 is formed of an organic insulating layer formed on the passivation layer 213 to planarize the first substrate 211.

또한, 상기 보호막(213)과 평탄화막(214)에는 상기 TFT의 드레인 전극(212f)을 노출시키기 위한 콘택홀(CTH3)이 형성된다. In addition, a contact hole CTH3 for exposing the drain electrode 212f of the TFT is formed in the passivation layer 213 and the planarization layer 214.

상기 제1 신호 배선(SL1)은 상기 게이트 전극(212a)과 동일한 레이 아웃 상에 형성되기 때문에 상기 게이트 절연막(212b), 보호막(213) 및 평탄화막(214)은 상기 제1 신호 배선(SL1)의 상부를 커버한다. 따라서, 상기 제1 신호 배선(SL1)은 상기 제1 돌기 전극(ER1)과 전기적으로 절연되어 있다. Since the first signal line SL1 is formed on the same layout as the gate electrode 212a, the gate insulating layer 212b, the passivation layer 213, and the planarization layer 214 may be formed on the first signal line SL1. To cover the top. Therefore, the first signal line SL1 is electrically insulated from the first protrusion electrode ER1.

상기 화소 전극(PE)은 투명한 도전성 물질, 일례로 인듐-틴-옥사이드(ITO)로 이루어지며, 각각의 화소에 해당하는 영역의 상기 평탄화막(214) 위에 형성된다. The pixel electrode PE is formed of a transparent conductive material, for example, indium tin oxide (ITO), and is formed on the planarization layer 214 in a region corresponding to each pixel.

상기 화소 전극(PE)을 형성하는 식각 공정에서 상기 제1 신호 배선(SL1)과 제1 돌기 전극(ER1)을 전기적으로 접촉시키기 위한 제1 센싱 전극(ES1)이 동시에 형성된다. In the etching process of forming the pixel electrode PE, a first sensing electrode ES1 for electrically contacting the first signal line SL1 and the first protrusion electrode ER1 is simultaneously formed.

따라서, 상기 제1 센싱 전극(ES1)은 상기 화소 전극(PE)과 동일하게 상기 평 탄화막(214) 상부에 형성된다. Therefore, the first sensing electrode ES1 is formed on the planarization layer 214 in the same manner as the pixel electrode PE.

상기 게이트 절연막(212b), 보호막(213) 및 평탄화막(214)에는 상기 제1 센싱 전극(ES1)을 상기 제1 신호 배선(SL1)에 전기적으로 연결하기 위해 상기 제1 신호 배선(SL1)을 노출시키는 콘택홀(미도시)이 형성된다. The gate insulating layer 212b, the passivation layer 213, and the planarization layer 214 may connect the first signal line SL1 to electrically connect the first sensing electrode ES1 to the first signal line SL1. A contact hole (not shown) for exposing is formed.

상기 대향 기판(220)은 베이스 기판(221), 차광층(222), 컬러필터층(223), 평탄화막(224), 돌기 패턴(225), 지지 패턴(226) 및 공통 전극층(227)을 포함한다.The opposing substrate 220 includes a base substrate 221, a light blocking layer 222, a color filter layer 223, a planarization film 224, a protrusion pattern 225, a support pattern 226, and a common electrode layer 227. do.

상기 베이스 기판(221)은 유리 또는 폴리카보네이트(PC)등과 같은 투명한 절연 물질로 이루어진다. 상기 베이스 기판(221)은 상기 표시 패널(200)에 터치 스크린 기능을 부여하기 위하여 작은 외부 압력에도 휘어짐이 발생하도록 폴리카보네이트(PC)와 같은 플라스틱 재질의 기판을 사용한다. 또한, 상기 베이스 기판(221)은 유리 기판에 에칭(etching) 또는 글라인딩(glinding) 공정을 수행하여 0.2 내지 0.5mm의 얇은 두께를 갖도록 형성한 후 사용할 수도 있다. The base substrate 221 is made of a transparent insulating material such as glass or polycarbonate (PC). The base substrate 221 uses a substrate made of a plastic material such as polycarbonate (PC) so that bending occurs even at a small external pressure in order to provide a touch screen function to the display panel 200. In addition, the base substrate 221 may be used after being formed to have a thin thickness of 0.2 to 0.5 mm by performing an etching or grinding process on the glass substrate.

상기 차광층(222)은 상기 박막 트랜지스터(TFT), 데이터 라인(DL), 게이트 라인(GL), 제1 신호 배선(SL1) 및 제2 신호 배선(SL2)과 대응되는 위치에 형성된다. 상기 차광층(222)을 상기 화소 전극(PE)으로 조절이 되지 않는 영역의 액정을 통과하는 빛을 차단하여 액정표시패널의 콘트라스트 비율(contrast ratio)을 향상시킨다. The light blocking layer 222 is formed at a position corresponding to the thin film transistor TFT, the data line DL, the gate line GL, the first signal line SL1, and the second signal line SL2. The light blocking layer 222 blocks light passing through the liquid crystal in a region that is not controlled by the pixel electrode PE to improve the contrast ratio of the liquid crystal display panel.

상기 컬러필터층(223)은 일례로, 레드필터패턴(R), 그린필터패턴(G) 및 블루필터패턴(B)을 포함하며, 화소와 대응하는 위치에 형성된다. 상기 컬러필터층(223)은 상기 차광막(222)의 일부를 덮는 것이 바람직하다.The color filter layer 223 includes, for example, a red filter pattern R, a green filter pattern G, and a blue filter pattern B, and is formed at a position corresponding to the pixel. The color filter layer 223 preferably covers a portion of the light blocking film 222.

상기 평탄화막(224)은 상기 컬러필터층(223)의 상부에 형성되어 상기 대향 기판(220)을 평탄화시키는 유기 절연막으로 이루어진다.The planarization layer 224 is formed of an organic insulating layer formed on the color filter layer 223 to planarize the opposing substrate 220.

상기 돌기 패턴(225) 및 지지 패턴(226)은 상기 차광층(222)이 형성된 상기 베이스 기판(221)의 바로 위에 감광성 고분자 유기물을 도포한 후, 상기 감광성 고분자 유기물 상부에 노광 마스크를 배치하여 노광 후 현상하는 포토 공정을 통해 형성될 수 있다. The protrusion pattern 225 and the support pattern 226 apply a photosensitive polymer organic material directly on the base substrate 221 on which the light blocking layer 222 is formed, and then expose an exposure mask on the photosensitive polymer organic material. It may be formed through a photo process to be developed later.

이 때, 상기 돌기 패턴(225)과 지지 패턴(226)은 상기 감광성 고분자 유기물의 광학적 환경에 따라 즉, 노광의 정도에 따라 서로 다른 용융성을 바탕으로 서로 다른 길이를 갖도록 형성된다. 이에 따라, 상기 지지 패턴(226)은 상기 어레이 기판(210)과 대향 기판(220)의 이격 간격을 유지하기 위하여 제1 길이(a1)를 갖도록 형성되고, 상기 돌기 패턴(225)은 터치 스크린 기능을 수행하기 위해 상기 제1 길이(a1)보다 상대적으로 작은 길이의 제2 길이(a2)로 형성된다. In this case, the protrusion pattern 225 and the support pattern 226 are formed to have different lengths based on different meltability depending on the optical environment of the photosensitive polymer organic material, that is, the degree of exposure. Accordingly, the support pattern 226 is formed to have a first length a1 in order to maintain the separation distance between the array substrate 210 and the opposing substrate 220, and the protrusion pattern 225 has a touch screen function. It is formed as a second length (a2) of a length relatively smaller than the first length (a1) to perform.

또한, 상기 돌기 패턴(225)은 상기 어레이 기판(210)에 형성된 제1 신호 배선(SL1)들과 대응하는 영역에 복수개로 형성된다. 마찬가지로, 상기 돌기 패턴(225)은 상기 어레이 기판(210)에 형성된 제2 신호 배선(SL2)들과 대응하는 영역에서 각각의 제2 신호 배선(SL2)에 대해 복수개가 형성된다. In addition, a plurality of protrusion patterns 225 are formed in regions corresponding to the first signal lines SL1 formed on the array substrate 210. Similarly, a plurality of protrusion patterns 225 are formed for each second signal wire SL2 in a region corresponding to the second signal wires SL2 formed on the array substrate 210.

상기 지지 패턴(226)은 그 자체의 형상으로 인하여 표시 패널(200)의 광 투과도에 영향을 미치지 않게 하기 위해 상기 차광층(222) 영역 내부에 형성하는 것이 바람직하다. 상기 지지 패턴(226)은 단위 화소마다 형성될 수도 있고, 소정 개수의 단위 화소들마다 형성될 수도 있다. 바람직하게는 표시 패널 전체에 있어서 균등한 밀도로 형성한다.The support pattern 226 may be formed inside a region of the light blocking layer 222 so as not to affect the light transmittance of the display panel 200 due to its shape. The support pattern 226 may be formed for each unit pixel or for each predetermined number of unit pixels. Preferably, it is formed in uniform density over the whole display panel.

상기 공통 전극층(227)은 투명한 도전 물질인 산화 주석 인듐(Indium Tin Oxide; ITO) 또는 산화 아연 인듐(Indium Zinc Oxide; IZO)등으로 이루어지며, 상기 돌기 패턴(225)을 커버하면서 상기 평탄화막(224) 위에 형성된다. 이 때, 상기 지지 패턴(226)도 상기 공통 전극층(227)이 형성되나, 상기 지지 패턴(226) 상부에 형성된 공통 전극층(227)은 별도의 공정을 통해 제거하는 것이 바람직하다. The common electrode layer 227 is made of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or the like, which is a transparent conductive material, and covers the protrusion pattern 225 while the planarization film ( 224). In this case, the common electrode layer 227 is also formed on the support pattern 226, but the common electrode layer 227 formed on the support pattern 226 may be removed through a separate process.

여기서, 상기 공통 전극층(227)은 상기 돌기 패턴(225)의 상부를 커버하기 때문에 상기 돌기 패턴(225)과 상기 공통 전극층(227)은 상기 제1 돌기 전극(ER1)들을 구성한다. Here, since the common electrode layer 227 covers the upper portion of the protrusion pattern 225, the protrusion pattern 225 and the common electrode layer 227 constitute the first protrusion electrodes ER1.

따라서, 도 6에 도시된 바와 같이 상기 제1 돌기 전극(ER1)들은 외부 압력(PO)에 의해 휘어지는 상기 베이스 기판(221)과 함께 상기 어레이 기판(221) 방향으로 유동되어 상기 센싱 전극(ES1)과 전기적으로 접촉된다. 상술한 바와 같이, 돌기 전극(ER)과 센싱 전극(ES)이 접촉됨에 따라 신호 배선(SL)들에 인가되는 초기 구동 전압(Vid)의 전위 레벨이 변동되어 상기 외부 압력(PO)이 가해지는 위치 좌표를 감지할 수 있다. Therefore, as shown in FIG. 6, the first protrusion electrodes ER1 flow in the direction of the array substrate 221 together with the base substrate 221 that is bent by an external pressure PO, and thus the sensing electrode ES1. Is in electrical contact with As described above, as the protruding electrode ER and the sensing electrode ES contact each other, the potential level of the initial driving voltage Vid applied to the signal lines SL is changed to apply the external pressure PO. The position coordinates can be detected.

상기 제1 돌기 전극(ER1)은 블랙 매트릭스(126) 영역 내부에 형성하고, 상기 제1 돌기 전극(ER1) 및 제1 센싱 전극(ES1)은 화소들의 투과 영역과 겹치지 않도록 형성하여 화소들의 개구율에 영향을 미치지 않도록 형성하는 것이 바람직하다. The first protruding electrode ER1 is formed inside the black matrix 126 region, and the first protruding electrode ER1 and the first sensing electrode ES1 are formed so as not to overlap with the transmissive region of the pixels, so that the aperture ratio of the pixels is increased. It is preferable to form so as not to affect.

이를 위해, 상기 제1 신호 라인(SL1)은 상기 제1 방향(D1)으로 연장된 신호 라인으로부터 상기 제2 방향(D2)으로 분기된 브랜치(branch) 배선(BR)을 갖고, 상 기 제1 돌기 전극(ER1) 및 제1 센싱 전극(ES1)은 상기 브랜치 배선(BR)이 형성되는 블랙 매트릭스 영역 내부에 형성될 수 있다. To this end, the first signal line SL1 has a branch wiring BR branched from the signal line extending in the first direction D1 in the second direction D2, and the first signal line SL1 is formed. The protruding electrode ER1 and the first sensing electrode ES1 may be formed in the black matrix area where the branch wiring BR is formed.

또한, 상기 제1 돌기 전극(ER1)을 형성하기 위하여, R, G 및 B의 색상을 각각 표시하는 제ji-1 화소(Pji+1), 제ji 화소(Pji) 및 제ji+1 화소(Pji+1)로 구성된 단위 화소와 인접하는 단위 화소 사이에 상기 제1 돌기 전극(ER1)을 커버하기에 충분한 폭을 갖는 차광층(222)을 형성하는 것이 바람직하다. In addition, in order to form the first protrusion electrode ER1, the j−1 th pixel Pji + 1, the j th pixel Pji, and the j th + 1 pixel (showing the colors of R, G, and B, respectively) It is preferable to form the light shielding layer 222 having a width sufficient to cover the first protrusion electrode ER1 between the unit pixel composed of Pji + 1 and the adjacent unit pixel.

더욱이, 상기 제1 센싱 전극(ES1)은 제ji+1 화소 전극(PEji+1)과 동일한 레이 아웃 상에 형성하며, 상기 제ji+1 화소 전극(PEji+1)과 상기 제1 센싱 전극(ES1) 사이의 커플링 현상등을 방지하기 위하여 상기 제ji+1 화소 전극(PEji+1)을 상기 제1 센싱 전극(ES1)으로부터 소정 간격 이격 형성한다. 따라서, 상기 제1 센싱 전극(ES1)과 인접하는 상기 화소 전극(PEji+1)은 제ji+1 화소 영역(PAji+1) 내부로 함입되어 형성될 수 있다. Further, the first sensing electrode ES1 is formed on the same layout as the ji + 1 pixel electrode PEji + 1, and the ji + 1 pixel electrode PEji + 1 and the first sensing electrode ( In order to prevent coupling between the ES1, the ji + 1 pixel electrode PEji + 1 is formed to be spaced apart from the first sensing electrode ES1 by a predetermined distance. Therefore, the pixel electrode PEji + 1 adjacent to the first sensing electrode ES1 may be formed by being recessed into the ji + 1 pixel area PAji + 1.

여기서, 본 발명의 일 실시예에서는 돌기 전극(ER)과 신호 배선(SL)을 제1 돌기 전극(ER1)과 제1 신호 배선(SL1)을 예로 들어 설명하였으나, 도 5에 도시된 제2 돌기 전극(ER2)과 제2 신호 배선(SL2)도 실질적으로 동일한 방법으로 형성될 수 있음은 당업자에게 자명한 사항이다.Here, in one embodiment of the present invention, the protruding electrode ER and the signal wire SL are described using the first protruding electrode ER1 and the first signal wire SL1 as an example, but the second protrusion shown in FIG. It will be apparent to those skilled in the art that the electrode ER2 and the second signal wire SL2 may be formed in substantially the same manner.

또한, 본 발명의 일 실시예에서는 제1 돌기 전극(ER1) 및 제2 돌기 전극(ER2) 및 이와 대응하는 위치에 형성되는 제1 센싱 전극(ES1) 및 제2 센싱 전극(ES2)을 서로 다른 차광층(222) 내에 형성하는 것으로 도시하였으나, 제1 신호 배선(SL1)의 브랜치 배선(BR)과 제2 신호 배선(SL2)을 동일한 차광층(222) 내에서 인 접 형성하고, 상기 제1 및 제2 센싱 전극(ES1, ES2)을 브랜치 배선(BR) 및 제2 신호 배선(SL2) 상부에 각각 형성함으로써 동일한 차광층(222) 내에 형성할 수도 있다.In addition, in an embodiment of the present invention, the first and second sensing electrodes ER1 and ER2 and the first and second sensing electrodes ES1 and ES2 formed at positions corresponding thereto are different from each other. Although illustrated as being formed in the light blocking layer 222, the branch wiring BR and the second signal wiring SL2 of the first signal wiring SL1 are formed adjacent to each other in the same light blocking layer 222, and the first signal wiring SL1 is formed in the light blocking layer 222. The second sensing electrodes ES1 and ES2 may be formed on the branch wiring BR and the second signal wiring SL2, respectively, to form the same light blocking layer 222.

이 경우, 상기 제1 및 제2 센싱 전극(ES1, ES2)을 동일한 차광층(222) 내에 인접 형성하고, 상기 제1 및 제2 돌기 패턴을 일체로 구성함으로써 제1 및 제2 돌기 전극(ER1, ER2)을 하나의 통합 돌기 전극으로 형성할 수도 있다.In this case, the first and second sensing electrodes ES1 and ES2 are formed adjacent to each other in the same light blocking layer 222, and the first and second protrusion electrodes ER1 are integrally formed. , ER2) may be formed as one integrated protrusion electrode.

여기서, 상기 표시 패널의 터치 스크린 기능을 수행하는 방법을 설명하면 다음과 같다.Herein, a method of performing the touch screen function of the display panel will be described.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 위치 검출방법을 설명하기 위한 타이밍도이고, 도 8은 도 7에 타이밍도에 따라 도 1에 도시된 터치 위치 검출부를 구현한 개략적인 도면이다. FIG. 7 is a timing diagram illustrating a touch position detection method according to an embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a schematic diagram of the touch position detector illustrated in FIG. 1 according to the timing diagram of FIG. 7.

도 7과 도 8을 참조하면, 도 5에 도시된 공통 전극층(227)에 공통 전압(Vcom)이 인가된 상태(SY1 이전)에서 도 1에 도시된 타이밍 제어부(310)에서 출력되는 제5 제어 신호(CNTL5)에 응답하여 전압 공급 제어부(410)가 구동되고, 전원 공급부(320)에서 출력되는 초기 구동 전압(Vid)이 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2)들로 제공된다(SY1~SY2). 7 and 8, a fifth control output from the timing controller 310 shown in FIG. 1 in a state in which the common voltage Vcom is applied to the common electrode layer 227 shown in FIG. 5 (before SY1). The voltage supply controller 410 is driven in response to the signal CNTL5, and the initial driving voltage Vid output from the power supply unit 320 is provided to the first and second signal lines SL1 and SL2 (SY1). ~ SY2).

이 상태에서 하나의 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2) 상에 형성되어 있는 제1 및 제2 돌기 전극(ER1, ER2)들 중 소정의 돌기 전극(ER1p+q, ER2p+q)이 외부 압력(PO)에 의해 상기 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2)들에 접촉되는 경우(SY2~SY3) 상기 돌기 전극(ER1p+q, ER2p+q)과 접촉되는 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2)들의 전위 레벨은 변동하게 된다. In this state, predetermined protrusion electrodes ER1p + q and ER2p + q of the first and second protrusion electrodes ER1 and ER2 formed on the first and second signal wires SL1 and SL2 are formed. When the first and second signal wires SL1 and SL2 are in contact with each other by an external pressure PO (SY2 to SY3), the first and second contacts the protruding electrodes ER1p + q and ER2p + q. The potential level of the signal lines SL1 and SL2 is varied.

이 경우, 상기 공통 전압(Vcom)의 전위 레벨이 상기 초기 구동 전압(Vid)의 전위 레벨에 비해 상대적으로 낮은 경우, 일례로, 상기 공통 전압(Vcom)에는 0V의 전압이 제공되고, 상기 초기 구동 전압(Vid)으로 5V의 전압이 제공될 경우, 상기 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2)들에 흐르는 전류는 상기 공통 전극층(227)으로 이동하게 되며, 상기 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2)들의 전위는 공통 전압(Vcom)의 전위 레벨에 근접하게 형성된다(SY3~SY4). In this case, when the potential level of the common voltage Vcom is relatively lower than the potential level of the initial driving voltage Vid, for example, the common voltage Vcom is provided with a voltage of 0 V, and the initial driving When a voltage of 5 V is provided as the voltage Vid, current flowing through the first and second signal lines SL1 and SL2 moves to the common electrode layer 227, and the first and second signal lines The potentials of the SL1 and SL2 are formed close to the potential level of the common voltage Vcom (SY3 to SY4).

이러한 조건 하에서, 데이터 샘플링부(420)는 상기 타이밍 제어부(310)에서 제공되는 샘플링 신호(SS)에 응답하여 상기 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2)들의 변동된 전위 레벨을 래치하고, 제1 및 제2 검출 신호(DS1, DS2)를 생성하여 출력한다. Under these conditions, the data sampling unit 420 latches the changed potential levels of the first and second signal lines SL1 and SL2 in response to the sampling signal SS provided from the timing controller 310. The first and second detection signals DS1 and DS2 are generated and output.

이를 위해 상기 데이터 샘플링부(420)는 상기 샘플링 신호(SS)를 제어 입력으로 받는 래치(latch)를 포함할 수 있다. To this end, the data sampling unit 420 may include a latch that receives the sampling signal SS as a control input.

여기서, 상기 데이터 샘플링부(420)는 상기 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2) 마다 각각 독립적으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 전압 공급 제어부(410)는 모스 트랜지스터 등의 스위칭 소자로 형성될 수 있고, 상기 전압 공급 제어부(410)는 상기 제1 및 제2 신호 배선(SL1, SL2)들 모두에 공통 연결될 수도 있다.The data sampling unit 420 may be formed independently for each of the first and second signal lines SL1 and SL2. In addition, the voltage supply controller 410 may be formed of a switching element such as a MOS transistor, and the voltage supply controller 410 may be commonly connected to both the first and second signal lines SL1 and SL2. .

이 후, 도 1에 도시된 위치 결정부(500)는 상기 데이터 샘플링부(420)에서 출력되는 상기 제1 및 제2 검출 신호(DS1, DS2)에 의해 판단된 각각의 y-축 및 x-축의 위치 좌표를 조합하여 상기 외부 압력이 상기 표시패널(200)에 인가되는 위치 를 판단한다. Subsequently, the positioning unit 500 illustrated in FIG. 1 may determine the y-axis and x− of the respective y-axes determined by the first and second detection signals DS1 and DS2 output from the data sampling unit 420. The position where the external pressure is applied to the display panel 200 is determined by combining the position coordinates of the axes.

도 9 내지 도 16은 본 발명의 일 실시예에 의한 표시 기판의 제조 공정을 도시한 단면도들이다. 특히, 도 5에 도시된 돌기 패턴 및 지지 패턴을 포함하는 대향 기판의 제조 공정이 도시된다. 9 through 16 are cross-sectional views illustrating a process of manufacturing a display substrate according to an exemplary embodiment of the present invention. In particular, the manufacturing process of the opposing substrate including the projection pattern and the support pattern shown in FIG. 5 is shown.

도 9를 참조하면, 대향 기판을 형성하는 베이스 기판(221) 상부에 각 화소를 구획하며, 상기 각 화소에 외부로부터 광이 유입되지 않도록 차광층(222)을 형성한다. 이 때, 상기 차광층(222)은 크롬(Cr)등의 금속 박막이나 카보네이트(carbonate) 계열의 유기 재료가 사용될 수 있으며, 저 반사화를 목적으로 크롬/크롬 옥사이드(Cr/CrOx)와 같은 이층막 구조로 형성될 수도 있다.Referring to FIG. 9, the pixels are partitioned on the base substrate 221 forming the opposing substrate, and the light blocking layer 222 is formed to prevent light from flowing into the pixels. In this case, the light shielding layer 222 may be a metal thin film such as chromium (Cr) or a carbonate-based organic material, and a double layer such as chromium / chromium oxide (Cr / CrOx) for the purpose of low reflection. It may be formed into a film structure.

도 10을 참조하면, 상기 차광층(222)이 형성된 베이스 기판(221)의 전면에 감광성 고분자 유기물(PP)을 도포한다. 이 때, 상기 감광성 고분자 유기물(PP)의 두께는 도 5에 도시된 지지 패턴(226)의 제2 길이(a2)와 동일하게 도포하는 것이 바람직하다.Referring to FIG. 10, a photosensitive polymer organic PP is coated on the entire surface of the base substrate 221 on which the light blocking layer 222 is formed. In this case, it is preferable that the thickness of the photosensitive polymer organic material PP be applied to be equal to the second length a2 of the support pattern 226 shown in FIG. 5.

도 11을 참조하면, 상기 감광성 고분자 유기물(PP) 상부에 노광 마스크(MASK)를 소정 간격(b)으로 이격 배치하고, 상기 노광 마스크(MASK) 상부에 광원을 배치하여 상기 감광성 고분자 유기물(PP)을 노광한다. 상기 노광 마스크(MASK)는 광을 차단할 수 있는 크롬(Cr)등의 차광성 물질로 이루어진다. 또한, 상기 노광 마스크(MASK)에는 제1 마스크 패턴(MP1)과 제2 마스크 패턴(MP2)이 형성되어 있으며, 상기 마스크 패턴들(MP1, MP2) 이외의 영역은 광 차단 영역(LCA)이 형성된다. Referring to FIG. 11, an exposure mask MASK is spaced apart from the photosensitive polymer organic PP at a predetermined interval b, and a light source is disposed on the exposure mask MASK, so that the photosensitive polymer organic PP is disposed. Is exposed. The exposure mask MASK is made of a light blocking material such as chromium (Cr) that can block light. In addition, a first mask pattern MP1 and a second mask pattern MP2 are formed in the exposure mask MASK, and a light blocking region LCA is formed in a region other than the mask patterns MP1 and MP2. do.

이 때, 상기 제1 마스크 패턴(MP1)은 상기 베이스 기판(221) 상에 지지 패턴 을 형성하기 위한 마스크 패턴이며, 상기 제2 마스크 패턴(MP2)은 상기 베이스 기판(221) 상에 돌기 패턴을 형성하기 위한 마스크 패턴이다. 또한, 상기 제1 마스크 패턴(MP1)은 상기 제2 마스크 패턴(MP2)과 실질적으로 동일한 모양을 갖고, 상대적으로 큰 크기를 갖도록 형성된다. 일례로, 상기 제1 및 제2 마스크 패턴(MP1, MP2)이 원 형상으로 형성될 경우, 상기 제1 마스크 패턴(MP1)의 직경은 상기 제2 마스크 패턴(MP2)의 직경보다 넓게 형성된다. In this case, the first mask pattern MP1 is a mask pattern for forming a support pattern on the base substrate 221, and the second mask pattern MP2 forms a protrusion pattern on the base substrate 221. It is a mask pattern for forming. In addition, the first mask pattern MP1 has a shape substantially the same as that of the second mask pattern MP2 and is formed to have a relatively large size. For example, when the first and second mask patterns MP1 and MP2 are formed in a circular shape, the diameter of the first mask pattern MP1 is wider than the diameter of the second mask pattern MP2.

도 12를 참조하면, 상기 노광 마스크(MASK)를 이용하여 상기 감광성 고분자 유기물(PP)을 프록시미티(proximity)형 노광 방식을 이용하여 노광하면, 제1 및 제2 마스크 패턴(MP1, MP2)에 대응하는 영역의 상기 감광성 고분자 유기물(PP)은 풀 노광되지만, 상기 광 차단 영역(LCA)에 대응하는 영역의 상기 감광성 유기물(PP)은 노광되지 않는다. Referring to FIG. 12, when the photosensitive polymer organic material PP is exposed using the exposure type mask, the first and second mask patterns MP1 and MP2 may be exposed. The photosensitive polymer organic PP in the corresponding region is full exposed, but the photosensitive organic PP in the region corresponding to the light blocking region LCA is not exposed.

또한, 상기 제1 및 제2 마스크 패턴(MP1, MP2)의 크기에 따라 광의 회절 정도의 차이가 발생하고, 이에 따라 노광량의 차이가 발생한다. 즉, 상대적으로 큰 크기를 갖는 제1 마스크 패턴(MP1)은 상대적으로 작은 크기를 갖는 제2 마스크 패턴(MP2)에 비해 광의 회절 정도를 작게 형성한다. 이러한 광의 회절 정도에 따라 상기 제1 마스크 패턴(MP1)에 대응하는 영역의 상기 감광성 고분자 유기물(PP)은 상기 제2 마스크 패턴(MP2)에 대응하는 영역의 상기 감광성 고분자 유기물(PP)에 비해 노광량이 커지게 된다. In addition, a difference in the degree of diffraction of light occurs according to the sizes of the first and second mask patterns MP1 and MP2, and thus a difference in exposure amount occurs. That is, the first mask pattern MP1 having a relatively large size has a smaller diffraction degree of light than the second mask pattern MP2 having a relatively small size. According to the degree of diffraction of the light, the photosensitive polymer organic material PP in the region corresponding to the first mask pattern MP1 is exposed to the photosensitive polymer organic PP in the region corresponding to the second mask pattern MP2. Will become large.

이와 같이 노광량의 차이가 발생한 상기 감광성 고분자 유기물(PP)에 베이킹(baking) 공정을 수행한 후 현상하면, 광 차단 영역에 대응하는 상기 감광성 고분 자 유기물(PP)이 제거되고, 상기 노광량의 차이에 따라 상기 제1 마스크 패턴(MP1) 하부에는 상기 감광성 고분자 유기물(PP)이 초기 도포된 두께를 거의 유지하면서 제1 길이(a1)를 갖는 지지 패턴(226)이 형성된다. When the photosensitive polymer organic material (PP) having a difference in the exposure amount is developed after the baking process, the photosensitive polymer organic material PP corresponding to the light blocking area is removed, and the difference in the exposure amount is applied. Accordingly, a support pattern 226 having a first length a1 is formed under the first mask pattern MP1 while maintaining the thickness of the photosensitive polymer organic PP initially applied.

또한, 상기 노광량의 차이에 따라 상기 제2 마스크 패턴(MP2) 하부에는 상기 감광성 고분자 유기물(PP)이 초기 도포된 두께에서 소정 단차만큼 제거되어 제2 길이(a2)를 갖는 돌기 패턴(225)이 형성된다. In addition, the projection pattern 225 having the second length a2 may be formed by removing the photosensitive polymer organic material PP by a predetermined step below the second mask pattern MP2 according to the difference in the exposure amount. Is formed.

이러한 지지 패턴(226)의 제1 길이(a1)와 돌기 패턴(225)의 제2 길이(a2)는 상기 감광성 고분자 유기물(PP)과 노광 마스크(MASK)의 이격 간격(b)에 의해 제어될 수 있다. 즉, 프락시미티(proximity)형 노광 방식의 경우, 상기 이격 간격(b)을 조정할 수 있는 설비로 노광 공정을 수행하기 때문에 상기 이격 간격(b)이 증가하면 광의 직교성이 저하되어 노광량이 감소하며, 이격 간격(b)이 감소하면 광의 직교성이 증가되어 노광량이 증가하게되는 원리를 이용하여 상기 감광성 고분자 유기물(PP)의 노광 정도를 제어함으로써 상기 지지 패턴(226) 및 돌기 패턴(225)의 길이를 제어할 수 있다. 바람직하게 상기 지지 패턴(226) 및 돌기 패턴(225)은 차광층(222) 위에 형성된다. The first length a1 of the support pattern 226 and the second length a2 of the protrusion pattern 225 may be controlled by the spaced distance b between the photosensitive polymer organic PP and the exposure mask MASK. Can be. That is, in the case of a proximity type exposure method, since the exposure process is performed by a facility capable of adjusting the separation interval b, when the separation interval b is increased, the orthogonality of the light decreases and the exposure amount decreases. When the separation distance b decreases, the length of the support pattern 226 and the protrusion pattern 225 is controlled by controlling the exposure degree of the photosensitive polymer organic material PP by using the principle that the orthogonality of light increases to increase the exposure amount. Can be controlled. Preferably, the support pattern 226 and the protrusion pattern 225 are formed on the light blocking layer 222.

정리하면, 도 17에 도시된 바와 같이 상기 노광 마스크(MASK)에 형성된 마스크 패턴(MP1, MP2)을 이용하여 노광 및 현상 공정을 수행하면 마스크 패턴(MP1, MP2)의 크기에 비례하여 감광성 고분자 유기물(PP)의 잔류막의 두께가 결정된다. 또한, 도 18에 도시된 바와 같이 상기 노광 마스크(MASK)와 감광성 고분자 유기물(PP)의 이격 간격(b)에 반비례하여 상기 감광성 고분자 유기물(PP)의 잔류막의 두 께가 결정된다. In summary, when the exposure and development processes are performed using the mask patterns MP1 and MP2 formed on the exposure mask MASK as shown in FIG. 17, the photosensitive polymer organic material is proportional to the size of the mask patterns MP1 and MP2. The thickness of the residual film of (PP) is determined. In addition, as shown in FIG. 18, the thickness of the remaining film of the photosensitive polymer organic material PP is determined in inverse proportion to the separation distance b between the exposure mask MASK and the photosensitive polymer organic material PP.

도 13을 참조하면, 상기 지지 패턴(226) 및 돌기 패턴(225)이 형성된 베이스 기판(221) 상부에 컬러 필터층(223)을 형성한다. 상기 컬러 필터층(223)은 상기 차광층(224)을 경계로 R, G, B의 컬러 필터패턴들이 화소와 대응하는 위치에 형성된다.Referring to FIG. 13, the color filter layer 223 is formed on the base substrate 221 on which the support pattern 226 and the protrusion pattern 225 are formed. The color filter layer 223 is formed at a position where the color filter patterns of R, G, and B correspond to the pixel with respect to the light blocking layer 224.

이 때, 상기 컬러 필터층(223)은 두께 균일성이 우수한 스핀(spin) 코팅 방식에 의해 형성되는 것이 바람직하며, 상기 스핀 코팅에 따라 컬러 필터를 형성하는 안료가 상기 지지 패턴(226)과 돌기 패턴(225)의 상부에 비해 낮은 영역에서 분출되어 상기 지지 패턴(226)과 돌기 패턴(225) 상부에 컬러 필터층(223)이 형성되지 아니한다.In this case, the color filter layer 223 is preferably formed by a spin coating method having excellent thickness uniformity, and a pigment forming a color filter according to the spin coating is formed by the support pattern 226 and the protrusion pattern. The color filter layer 223 is not formed on the support pattern 226 and the protrusion pattern 225 because it is ejected in a region lower than the upper portion of 225.

도 14를 참조하면, 상기 컬러 필터층(223)이 형성된 상기 베이스 기판(221)의 상부에 상기 컬러 필터층(223)을 보호하고, 대향 기판(220)의 평탄화를 도모하기 위해 아크릴(acryl)계 또는 폴리이미드(polyimide)계 수지(resin)를 사용하여 평탄화막(224)을 형성한다. Referring to FIG. 14, in order to protect the color filter layer 223 on the base substrate 221 on which the color filter layer 223 is formed and to planarize the counter substrate 220, an acrylic or The planarization film 224 is formed using a polyimide resin.

도 15를 참조하면, 상기 평탄화막(224)이 형성된 베이스 기판(221)의 상부에 투과성과 도전성이 양호하고, 화학적 및 열적 안정성이 우수한 투명 전극인 ITO를 스퍼터링(sputtering)에 의해 증착하여 상기 액정 물질에 공통 전압(Vcom)을 인가하는 공통 전극층(227)을 형성한다. 이에 따라, 상기 돌기 패턴(225)과 상기 공통 전극층(227)은 하나의 돌기 전극(ER)을 구성하고, 도 5에 도시된 신호 배선(SL)과 외부 압력에 의해 전기적으로 접촉되어 초기 구동 전압(Vid)의 전위 레벨을 변동시 킴으로써 상기 외부 압력이 가해지는 위치 좌표를 감지할 수 있다. Referring to FIG. 15, the liquid crystal is deposited by sputtering ITO, which is a transparent electrode having good permeability and conductivity and excellent chemical and thermal stability on the base substrate 221 on which the planarization layer 224 is formed. The common electrode layer 227 applying the common voltage Vcom to the material is formed. Accordingly, the protrusion pattern 225 and the common electrode layer 227 constitute one protrusion electrode ER, and are electrically contacted with the signal wire SL shown in FIG. By changing the potential level of (Vid) it is possible to detect the position coordinates to which the external pressure is applied.

도 16을 참조하면, 상기 공통 전극층(227)을 스퍼터링에 의해 증착하여 형성함에 따라 상기 지지 패턴(226) 상부에 공통 전극층(227)이 도포된다. 이는 도 5에 도시된 어레이 기판(210)과 전기적으로 접촉되어 공통 전극층(227)에 인가되는 공통 전압(Vcom)의 변동 또는 어레이 기판(210)에 형성되는 소자들에 상기 공통 전압(Vcom)으로 인한 전기적 영향을 미치지 않도록 별도의 공정 과정을 통해 제거하여 비도전성 지지 패턴(226)을 형성한다. Referring to FIG. 16, as the common electrode layer 227 is formed by sputtering, the common electrode layer 227 is coated on the support pattern 226. This is a change in the common voltage Vcom applied to the common electrode layer 227 by being in electrical contact with the array substrate 210 illustrated in FIG. 5, or as a common voltage Vcom for the elements formed in the array substrate 210. The non-conductive support pattern 226 is formed through a separate process so as not to have an electrical effect.

본 발명에서는 마스크 패턴에 노출된 영역의 감광성 고분자 유기물(PP)이 현상 공정을 통해 잔류하게 되는 네거티브(negative) 방식의 노광 공정을 통해 형성하는 것으로 설명하였으나, 이와 반대의 방식인 포지티브(positive) 방식의 노광 공정을 통해서도 형성될 수 있다. In the present invention, the photosensitive polymer organic material (PP) in the region exposed to the mask pattern has been described as being formed through a negative exposure process in which the development process is carried out, but the positive method is the reverse method. It can also be formed through the exposure process of.

상기와 같은 본 발명에 따르면, 터치 위치를 감지하기 위한 제1 및 제2 신호 라인들이 형성된 어레이 기판과 전기적으로 접촉되어 상기 터치 위치의 위치 좌표를 판단하는 터치 스크린 기능을 갖는 표시 패널의 대향 기판에 있어서, 상기 제1 및 제2 신호 배선과 전기적으로 접촉하여 터치 위치의 위치 좌표를 감지하는 돌기 패턴을 어레이 기판과 대향 기판의 이격 간격을 유지하는 지지 부재와 하나의 공정을 통해 동시에 형성하여 표시 기판의 제조 공정을 감소시킬 수 있다.According to the present invention as described above, the opposite substrate of the display panel having a touch screen function to be in electrical contact with the array substrate on which the first and second signal lines for sensing the touch position is determined to determine the position coordinates of the touch position. The display substrate may be formed by simultaneously forming a projection pattern, which is in electrical contact with the first and second signal wires, and detects a position coordinate of a touch position through a single process with a support member that maintains a separation distance between the array substrate and the opposing substrate. Can reduce the manufacturing process.

이에 따라 표시 패널의 제조 공정을 단순화시켜 제조 편의성을 향상시킬 수 있으며, 제조 원가를 절감할 수 있다. Accordingly, the manufacturing process of the display panel may be simplified to improve manufacturing convenience, and manufacturing cost may be reduced.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below I can understand that you can.

Claims (24)

게이트 라인들과 데이터 라인들에 의해 복수의 화소들이 정의되고, 터치 위치를 감지하기 위한 제1 및 제2 신호 라인들이 형성된 어레이 기판과 전기적으로 접촉되어 상기 터치 위치의 위치 좌표를 판단하는 터치 스크린 기능을 갖는 표시 패널의 표시 기판에 있어서,A touch screen function in which a plurality of pixels are defined by gate lines and data lines, and are electrically contacted with an array substrate on which first and second signal lines for sensing a touch position are formed to determine position coordinates of the touch position. In a display substrate of a display panel having a 상기 표시 기판은The display substrate 베이스 기판;A base substrate; 상기 베이스 기판 상에 직접 제1 길이로 형성되어 상기 어레이 기판과의 이격 거리를 일정하게 유지하는 지지 패턴; 및A support pattern formed directly on the base substrate to a first length to maintain a constant distance from the array substrate; And 상기 베이스 기판 상에 직접 제2 길이로 형성되어 상기 터치 위치에서 상기 제1 및 제2 신호 라인들과 각각 전기적으로 접촉하는 제1 및 제2 돌기 패턴을 포함한 것을 특징으로 하는 표시 기판.And a first and second protrusion pattern formed on the base substrate to have a second length and in electrical contact with the first and second signal lines, respectively, at the touch position. 제1항에 있어서, 상기 제1 길이는 상기 제2 길이보다 긴 것을 특징으로 하는 표시 기판. The display substrate of claim 1, wherein the first length is longer than the second length. 제2항에 있어서, 상기 제1 및 제2 돌기 패턴에는 도전성막이 형성된 것을 특징으로 하는 표시 기판. The display substrate of claim 2, wherein a conductive film is formed on the first and second protrusion patterns. 제3항에 있어서, 상기 제1 및 제2 돌기 패턴은 소정 간격 이격되어 형성된 것을 특징으로 하는 표시 기판. The display substrate of claim 3, wherein the first and second protrusion patterns are spaced apart from each other by a predetermined interval. 제3항에 있어서, 상기 제1 및 제2 돌기 패턴은 서로 인접하게 형성된 것을 특징으로 하는 표시 기판. The display substrate of claim 3, wherein the first and second protrusion patterns are adjacent to each other. 제3항에 있어서, 상기 베이스 기판 위에 형성되어 상기 베이스 기판을 복수의 화소부들로 정의하는 차광층을 더 포함하며, The display device of claim 3, further comprising: a light blocking layer formed on the base substrate to define the base substrate as a plurality of pixel portions. 상기 지지 패턴과, 제1 및 제2 돌기 패턴은 상기 차광층 위에 형성된 것을 특징으로 하는 표시 기판.The support pattern and the first and second protrusion patterns are formed on the light blocking layer. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 돌기 패턴에는 도전성막이 형성된 것을 특징으로 하는 표시 기판. The display substrate of claim 1, wherein a conductive film is formed on the first and second protrusion patterns. 제7항에 있어서, 상기 제1 길이는 상기 제2 길이보다 긴 것을 특징으로 하는 표시 기판.The display substrate of claim 7, wherein the first length is longer than the second length. 제8항에 있어서, 상기 베이스 기판 위에 형성되어 복수의 화소들을 정의하는 차광층을 더 포함하며, The method of claim 8, further comprising a light blocking layer formed on the base substrate to define a plurality of pixels. 상기 지지 패턴과, 제1 및 제2 돌기 패턴은 상기 차광층 위에 형성된 것을 특징으로 하는 표시 기판.The support pattern and the first and second protrusion patterns are formed on the light blocking layer. 제1항에 있어서, 상기 지지 패턴과 상기 제1 및 제2 돌기 패턴은 단일 노광 공정으로 형성된 것을 특징으로 하는 표시 기판.The display substrate of claim 1, wherein the support pattern and the first and second protrusion patterns are formed by a single exposure process. 게이트 라인들과 데이터 라인들에 의해 복수의 화소들이 정의되고, 터치 위치를 감지하기 위한 제1 및 제2 신호 라인들이 형성된 어레이 기판과 전기적으로 접촉되어 상기 터치 위치의 위치 좌표를 판단하는 터치 스크린 기능을 갖는 표시 패널의 표시 기판에 있어서,A touch screen function in which a plurality of pixels are defined by gate lines and data lines, and are electrically contacted with an array substrate on which first and second signal lines for sensing a touch position are formed to determine position coordinates of the touch position. In a display substrate of a display panel having a (a) 베이스 기판 위에 유기물층을 도포하는 단계;(a) applying an organic layer on the base substrate; (b) 지지 패턴을 형성하기 위한 제1 마스크 패턴과 제1 및 제2 돌기 패턴을 형성하기 위한 제2 마스크 패턴들이 혼합 형성된 노광 마스크를 상기 유기물층 상부에 이격 배치하는 단계;(b) disposing an exposure mask on which the first mask pattern for forming the support pattern and the second mask patterns for forming the first and second protrusion patterns are formed on the organic layer; (c) 상기 노광 마스크와 상기 유기물층의 이격 간격을 일정하게 유지하여 상기 유기물층을 노광하는 단계; 및(c) exposing the organic layer by maintaining a constant distance between the exposure mask and the organic layer; And (d) 상기 노광된 유기물층을 현상하여 상기 지지 패턴 및 돌기 패턴들을 형성하는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법. and (d) developing the exposed organic material layer to form the support pattern and the projection patterns. 제11항에 있어서, 상기 베이스 기판 위에는 화소부를 정의하는 차광층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법. The method of claim 11, further comprising forming a light blocking layer on the base substrate, the light blocking layer defining a pixel portion. 제12항에 있어서, 상기 단계(c)의 이격 간격에 따라 상기 지지 패턴 및 돌기 패턴들의 길이가 제어되는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.The method of claim 12, wherein the length of the support pattern and the protrusion pattern is controlled according to the separation interval of the step (c). 제11항에 있어서,The method of claim 11, (e) 상기 감광된 영역의 유기물층을 제거한 후, 컬러 필터층을 형성하는 단계;(e) removing the organic layer of the photosensitive region and then forming a color filter layer; (f) 상기 컬러 필터층이 형성된 베이스 기판 위에 도전층을 형성하는 단계; 및(f) forming a conductive layer on the base substrate on which the color filter layer is formed; And (g) 상기 도전층을 패터닝하여 상기 지지 부재와 대응되는 영역의 도전층을 제거하는 단계를 더 포함한 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.and (g) patterning the conductive layer to remove the conductive layer in a region corresponding to the support member. 제14항에 있어서, 상기 단계(e)는 상기 컬러 필터층은 스핀(spin) 코팅 방식으로 형성하는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.The method of claim 14, wherein in the step (e), the color filter layer is formed by spin coating. 제11항에 있어서, 상기 지지 패턴 및 돌기 패턴은 프록시미티(proximity)형 노광 방식으로 형성하는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.The method of claim 11, wherein the support pattern and the protrusion pattern are formed by a proximity type exposure method. 게이트 라인들과 데이터 라인들에 의해 복수의 화소들이 정의되고, 터치 위치를 감지하기 위한 제1 신호 라인들 및 제2 신호 라인들이 각각 상기 게이트 라인 들 및 데이터 라인들과 동일한 방향으로 형성된 어레이 기판; 및An array substrate in which a plurality of pixels are defined by gate lines and data lines, and first signal lines and second signal lines for sensing a touch position are formed in the same direction as the gate lines and data lines, respectively; And 상기 어레이 기판과 결합하여 액정 물질을 수용하는 대향 기판을 구비하고,A counter substrate coupled with the array substrate to receive a liquid crystal material; 상기 대향 기판은 The opposite substrate is 베이스 기판 위의 상기 게이트 및 데이터 라인들에 대응하여 형성된 차광층; A light blocking layer formed on the base substrate to correspond to the gate and data lines; 상기 차광층 위에 제1 길이로 직접 형성되고, 상기 어레이 기판과의 이격 거리를 일정하게 유지하는 지지 패턴; 및A support pattern formed directly on the light shielding layer at a first length and maintaining a constant distance from the array substrate; And 상기 차광층 위에 제2 길이로 직접 형성된 제1 및 제2 돌기 패턴들을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널.And first and second protrusion patterns directly formed on the light blocking layer to have a second length. 제17항에 있어서, 상기 제1 및 제2 돌기 패턴은 상기 데이터 라인에 대응하는 차광층 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 표시 패널. The display panel of claim 17, wherein the first and second protrusion patterns are formed on a light blocking layer corresponding to the data line. 제18항에 있어서, 상기 제1 및 제2 돌기 패턴은 소정 간격 이격되어 형성된 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel of claim 18, wherein the first and second protrusion patterns are spaced apart from each other by a predetermined interval. 제18항에 있어서, 상기 제1 및 제2 돌기 패턴은 서로 인접하게 형성된 것을 특징으로 하는 표시 패널. The display panel of claim 18, wherein the first and second protrusion patterns are adjacent to each other. 제17항에 있어서, 상기 제1 및 제2 돌기 패턴에는 도전성막이 형성된 것을 특징으로 하는 표시 패널. The display panel of claim 17, wherein a conductive film is formed on the first and second protrusion patterns. 제21항에 있어서, 상기 어레이 기판은The method of claim 21, wherein the array substrate 상기 제1 및 제2 신호 라인들 위에 각각 형성되고, 상기 도전성막이 형성된 제1 및 제2 돌기 패턴들과 상기 제1 및 제2 신호 라인들을 각각 전기적으로 연결하는 제1 센싱 전극 및 제2 센싱 전극을 더 포함한 것을 특징으로 하는 표시 패널.First and second sensing electrodes respectively formed on the first and second signal lines and electrically connecting the first and second protrusion patterns on which the conductive layer is formed, and the first and second signal lines, respectively. A display panel further comprising an electrode. 제17항에 있어서, 상기 지지 패턴과 상기 제1 및 제2 돌기 패턴은 프록시미티(proximity)형 노광 방식으로 형성된 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel of claim 17, wherein the support pattern and the first and second protrusion patterns are formed in a proximity type exposure method. 제23항에 있어서, 상기 제1 길이는 상기 제2 길이 보다 긴 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel of claim 23, wherein the first length is longer than the second length.
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