KR20070056305A - 칠러 장치의 전자식 팽창밸브 제어방법 - Google Patents

칠러 장치의 전자식 팽창밸브 제어방법 Download PDF

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Abstract

반도체 공정설비용 칠러 장치에 적용되는 전자식 팽창밸브를 제어하는 방법으로서, 전자식 팽창밸브의 전체 스텝 수에 기초하여 최소 개도량에 대응하는 하한 스텝 수와 최대 개도량에 대응하는 상한 스텝수를 설정하는 단계; 설정된 상한 스텝 수와 하한 스텝수를 기준으로 균등 분할하는 단계; 및 전자식 팽창밸브에 인가되는 신호 출력 백분율에 균등 분할된 단위 스텝을 대응시키는 단계를 포함하는 칠러 장치의 전자식 팽창밸브의 제어방법이 개시된다.
최소개도량, 최대개도량, 분할, 안정화, 브라인, 프로그램, 컨트롤러

Description

칠러 장치의 전자식 팽창밸브 제어방법{Control method for electrnoic expansion valve}
도 1은 반도체 공정설비를 위한 칠러 장치의 일 예를 나타내는 계통도이다.
도 2는 반도체 공정설비를 위한 칠러 장치의 다른 예를 나타내는 계통도이다.
도 3은 본 발명에 따른 전자식 팽창밸브의 제어방법을 설명하는 도식도이다.
본 발명은 반도체 공정설비를 위한 칠러 장치에 적용되는 전자식 팽창밸브의 제어방법에 관한 것이다.
칠러는 반도체 소자의 제조공정에서 안정적인 공정제어를 위한 온도조절장치이다. 특히 칠러는 여러 공정 중 식각 및 노광공정에서 주로 사용하는데 공정 중 과도한 열이 발생하는 전극판 및 챔버(chamber)의 온도를 일정하게 유지시켜 줌으로써 고온으로 인한 웨이퍼의 파손 및 생산성의 저하를 막아준다.
이러한 기능을 수행하는 칠러의 냉동사이클은 냉매 경로와 브라인 경로가 일 부분에서 중첩되어 열교환이 이루어진다.
여기서, 브라인(brine)은 낮은 동결점을 가진 용액 또는 액체로, 보통 CaCl2와 NaCl의 수용액이 사용된다.
도 1은 반도체 공정설비를 위한 칠러 장치의 일 예를 나타내는 계통도이다.
먼저 냉동사이클로 형성되는 냉매(예를 들어, 프레온 가스)의 순환경로를 보면 다음과 같다.
즉, 압축기(100)에서 압축된 냉매는 응축기(110)에서 응축과정을 수행한 후, 온도식 팽창밸브(120, TEV)에서 팽창을 수행하고, 증발기(130)의 냉매경로를 통해서 열교환되며, 액분리기(150)와 흡입압력 조절기(160)를 거쳐 다시 압축기(100)로 유입되는 과정을 반복하게 된다.
또한, 냉각유체(브라인)의 순환경로를 보면 다음과 같다.
즉, 반도체 공정용설비(200)를 빠져나온 브라인은 브라인 인렛(210)을 통하여 증발기(130)의 브라인 경로로 유입되어 냉매경로와의 열교환을 수행한 후, 브라인 히터(220)에서 가열되고, 브라인 펌프(230)와 브라인 아웃렛(240)을 통하여 다시 반도체공정용 설비(200)로 유입되는 경로를 형성한다.
이때, 상기한 브라인 경로와 냉매경로가 열교환되는 곳은 증발기(130)이며, 증발기(130)에는 하나의 경로로 냉매경로가 형성되고, 다른 경로로 브라인 경로가 형성된다. 물론 두 유체경로는 경로 간의 열교환이지, 두 유체 자체가 혼합되는 것은 아니다.
이와 같이, 두 개의 경로가 열교환됨으로써, 브라인 경로 상의 위치 A, B 또는 C의 온도가 일정하게 유지되며, 이에 따라 반도체 공정설비(200)의 내부 챔버는 일정한 온도로 유지될 수 있다.
그러나, 이와 같은 종래의 칠러 장치에 의하면, 냉동시스템에서 위치 a와 위치 b 사이의 온도차이, 즉 과열도를 감지하여 기계적으로 작동하는 온도식 팽창밸브를 사용함으로써 브라인에 부가되거나 제거되는 부하에 대한 응답성이 느려 온도편차가 발생한다는 문제점이 있다.
또한, 브라인의 온도 및 부하조건에 따라 다름으로 인해서 증발기 출구단에서 압축기로 유입되는 냉매의 상태를 안정화, 즉 기체상태의 유지와 압력유지를 위하여 액분리기(150)와 흡입압력 조절기(160)를 사용함으로써 소요부품의 수량이 증가되고, 온도식 팽창밸브(120)와 흡입압력 조절기(160)를 수동으로 조작함으로써 칠러의 동일한 모델에서도 서로 상이한 냉동사이클을 보이는 등 제품간의 표준화 관리가 어렵다는 문제가 있다.
이러한 문제점을 해결하기 위하여 본 출원인은 다른 형태의 칠러 장치를 제안하였다.
도 2는 본 출원인에 의해 제안된 반도체 공정설비를 위한 칠러 장치의 다른 예를 나타내는 계통도이다.
먼저, 브라인 경로를 살펴보면, 반도체 공정설비(200) -> 브라인 인렛(210) -> 증발기(130)내 브라인경로 -> 브라인 히터(220) -> 브라인 펌프(230) -> 브라인 아웃렛(240) -> 반도체 공정설비(200)가 순서대로 연결되는 폐회로로 이루어진다.
브라인 히터(220)는 브라인 경로 상의 특정 위치 A, B 또는 C의 온도를 피드백 받아 브라인의 설정온도와 비교하여 그 출력값을 PID 제어를 통해 조절하게 된다.
또한, 냉매 경로를 살펴보면, 압축기(100)에서 압축된 냉매는 응축기(110)에서 응축과정을 수행한 후 전자식 팽창밸브(120a,EEV)에서 팽창을 수행한 다음, 증발기(130)의 냉매경로를 통해서 브라운경로와 열교환되며, 이후 다시 압축기(100)로 유입되는 과정을 반복하게 된다.
이러한 구성에 의하면, 전자식 팽창밸브(120a)의 원활한 개도 조절기능을 활용함으로써 종래 온도식 팽창밸브를 사용하여 야기되었던 부하응답성이 느리거나 저하되는 것을 개선하여 브라인에 부가되는 부하에 대해 신속하게 대응함으로써 브라인 온도의 안정화를 꾀할 수 있다.
또한, 전자식 팽창밸브의 종래 브라인 온도의 변화나 부하응답에 대응하기 위해 온도식 팽창밸브의 개도를 수동으로 조절하는 번거로움을 개선할 수 있다.
이러한 전자식 팽창밸브(120a)의 개도량을 조절하기 위한 피드백 신호는 여러 가지 형태로 제공될 수 있다.
먼저, 브라인 히터를 적용하지 않는 경우, 브라인 경로 상의 하나의 특정 위치 A, B 또는 C의 온도상태를 피드백 신호로 받아들여 그 온도에 따라 전자식 팽창밸브(120a)가 PID 제어에 의해서 그 개도를 조정할 수 있다.
또한, 브라인 경로 상의 하나의 특정 위치 A, B 또는 C의 온도상태를 브라인 히터(220)에서 피드백 받아 브라인 히터(220)가 그 출력량을 조절하고, "100% - 브 라인 히터의 출력량"으로 계산된 잔여량을 전자식 팽창밸브(120a)의 신호로 인식하여 개도를 조정할 수 있다.
또한, 브라인 경로 상의 하나의 특정 위치 A, B 또는 C의 온도상태를 브라인 히터(220)에서 피드백 받아 브라인 히터(220)가 그 출력량을 조절하고, 전자식 팽창밸브(120a)는 브라인 설정온도별로 각각의 과열도, 즉 증발기 후단의 온도에서 증발기 전단의 온도를 뺀 값을 미리 지정한 후, 그 과열도를 조정하기 위해서 PID 제어에 의해서 개도를 조정할 수 있다.
물론, 상기한 방법 이외에 다양한 방법으로 전자식 팽창밸브의 개도를 조정할 수 있다.
이와 같은 구조에 적용되는 전자식 팽창밸브(120a)는 디지털화된 전기적 신호, 즉 펄스를 입력받아 스텝퍼 구동방식으로 0 내지 N 스텝으로 개도를 변화시키는 밸브이다.
통상 전자식 팽창밸브의 제조업체에서는 안정성을 고려하여 전자식 팽창밸브의 전체 스텝 수에 대한 백분율로 볼 때, 0 내지 10%의 범위 내에서는 팽창밸브가 열리지 않도록 세팅한다. 그러나, 전자식 팽창밸브를 칠러 장치에 적용하는 경우, 전체 스텝을 균일하게 이용해야 하는 상황에서 이러한 세팅이 오히려 방해 요소로 작용한다는 문제가 있다.
또한, 전자식 팽창밸브의 스텝 수를 증가하고자 하는 경우, 기존에 사용하던 전자식 팽창밸브는 더 이상 사용할 수 없다는 문제가 있다. 예를 들어, 기존에 500 스텝의 전자식 팽창밸브를 사용하다가 필요에 의해 1000 스텝의 전자식 팽창밸브를 사용해야 할 경우 기존의 500 스텝의 전자식 팽창밸브는 폐기되어야 했다.
또한, 전자식 팽창밸브를 통과하는 냉매의 유량에 따라 브라인의 온도 변화는 민감하게 변화한다. 따라서, 전자식 팽창밸브의 단위 스텝당 브라인의 온도 변화를 작게 할수록 좋다. 그러나, 이를 위해서는 스텝 수가 적은 전자식 팽창밸브를 사용하는 것을 고려할 수 있지만, 실제 생산되는 전자식 팽창밸브는 훨씬 더 많은 스텝 수를 갖기 때문에 적용할 수 없으며, 스텝 수가 적은 전자식 팽창밸브를 적용하더라도 상기와 같이 스텝 수 증가시에 문제가 발생하게 된다.
따라서, 본 발명의 목적은 브라인의 온도 안정화를 구현할 수 있는 전자식 팽창밸브 제어방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 통상의 전자식 팽창밸브를 적용하면서도 초기 스텝에서도 피드백 신호에 정확하게 반응하고, 스텝 수 확장이 용이하도록 하는 칠러 장치의 전자식 팽창밸브 제어방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적과 특징 및 이점은 이하에 서술되는 실시예로부터 명확하게 이해될 것이다.
반도체 공정설비용 칠러 장치에 적용되는 전자식 팽창밸브를 제어하는 방법으로서, 전자식 팽창밸브의 전체 스텝 수에 기초하여 최소 개도량에 대응하는 하한 스텝 수와 최대 개도량에 대응하는 상한 스텝수를 설정하는 단계; 설정된 상한 스텝 수와 하한 스텝수를 기준으로 균등 분할하는 단계; 및 전자식 팽창밸브에 인가 되는 신호 출력 백분율에 균등 분할된 단위 스텝을 대응시키는 단계를 포함하는 칠러 장치의 전자식 팽창밸브의 제어방법이 개시된다.
일 예로, 균등 분할은 100 등분일 수 있다.
바람직하게, 최소 개도량은 전자식 팽창밸브의 출하시 세팅된 비동작 범위 이상으로 설정될수 있다.
바람직하게, 상기 각 단계는 칠러 장치에 설치되는 컨트롤러에 실장되는 마이크로프로세서에 프로그램 형태로 구현될 수 있다.
바람직하게, 상기 전자식 팽창밸브는 디지털화된 전기적 신호를 입력받아 스텝퍼 구동방식으로 0 내지 N 단계로 개도가 변화되는 밸브이다.
이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자식 팽창밸브의 제어방법을 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.
전자식 팽창밸브는 그 특성상 저온의 냉매를 통과시켜 증발기로 유입되도록 하는 것이므로, 통과되는 냉매의 유량에 따라서 브라인의 온도변화는 민감하게 반응하게 된다.
따라서, 먼저 본 발명에서는 브라인의 온도유지의 안정화와 냉동사이클의 압력상승을 방지하기 위하여 전자식 팽창밸브의 개도 상한과 하한을 설정하여 강제적으로 그 개도를 제한한다.
예를 들어, 전체 500 스텝의 전자식 팽창밸브(120a)의 최소 개도량을 50 스텝으로 설정하였을 때, 신호 출력이 0%인 경우 전자식 팽창밸브(120a)의 개도량은 설정된 최소 개도량에 의해서 실제로는 50 스텝의 개도가 열린다.
마찬가지로, 전자식 팽창밸브(120a)의 최대 개도량을 250 스텝으로 설정하였을 때, 신호 출력이 100%인 경우 전자식 팽창밸브(120a)의 개도량은 설정된 최대 개도량에 의해서 실제로는 250 스텝의 개도가 열린다.
결론적으로, 신호 출력에 의해서 전자식 팽창밸브(120a)가 실제로 열리는 개도량은 최소 개도량과 최대 개도량의 범위 내에서 변동하게 된다.
따라서, 상기한 바와 같이, 종래의 전자식 팽창밸브에서는 통상 전체 스텝 수에 대한 백분율로 볼 때, 예를 들어, 0 내지 10%의 범위(비동작 범위) 내에서는 팽창밸브가 열리지 않도록 세팅한 경우, 작은 신호 출력에 의해서는 전자식 팽창밸브가 열리지 않았지만, 본 발명에 의하면, 최소 개도량을 출하시 세팅 범위 이상으로 설정함으로써 작은 신호 출력에 대해서도 개도량이 변화되도록 할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면 전자식 팽창밸브의 최소 개도량과 최대 개도량이 설정된 후, 최소 개도량에 대응하는 스텝 수와 최대 개도량에 대응하는 스텝 수를 각각 하한과 상한 기준 스텝 수로 하여 신호 출력 백분율에 대응하여 100 등분으로 균등 분할한다.
이를 도 3을 참조하여 구체적으로 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 전자식 팽창밸브의 제어방법을 설명하는 도식도이다.
도 3a와 3b에 도시된 바와 같이, 예를 들어, 전체 500 스텝 수를 갖는 전자식 팽창밸브의 최소 개도량(하한)이 50 스텝에 대응하도록 설정하고, 최대 개도량(상한)이 250 스텝에 대응하도록 설정한다.
이어, 도 3c와 같이, 최소 개도량과 최대 개도량 사이를 신호 출력 백분율에 대응하도록 100 등분한다.
따라서, 신호 출력 1%에 대해 2 스텝씩 변화하게 된다.
결국, 도 3a에 도시된 바와 같이, 신호 출력 1%에 대해 5 스텝씩 변화하는 것과 비교하여 신호 출력에 대한 변화량이 적으며, 이는 전자식 팽창밸브의 개도에 대한 저온 상태로 팽창된 냉매 유량의 변화량이 적다는 것을 의미하고, 이에 따라 냉매 유량의 변화가 안정적으로 되어 결과적으로 냉매와 열교환되는 브라인의 온도 안정화를 구현할 수 있다.
이러한 구성에 의하면, 스텝 수가 많은 전자식 팽창밸브를 사용하더라도 스텝 수가 적은 전자식 팽창밸브로 실질적으로 변경하는 효과를 가져오기 때문에 크게 문제가 되지 않는다.
또한, 이와 같이 스텝 수가 많은 전자식 팽창밸브를 적용함으로써 추후에 스텝 수를 증가하고자 하는 경우에도 쉽게 증가할 수 있다. 더욱이, 하나의 전자식 팽창밸브를 이용하여 다양한 스텝 수를 갖는 전자식 팽창밸브를 구현할 수 있다.
한편, 상기한 최소 개도량과 최대 개도량의 설정이나 스텝 수의 균등 분할 등은 칠러 장치에 설치되는 컨트롤러의 마이크로프로세서에 프로그램 형태로 내장된다.
따라서, 필요에 따라 최소 개도량이나 최대 개도량을 변경하거나, 분할 스텝 수를 변경하고자 하는 경우에는 프로그램 수정 등을 통하여 달성할 수 있다.
상기한 최소 개도량과 최대 개도량의 스텝 수는 일 예에 지나지 않으며, 다 양한 변경이 가능하다. 예를 들어, 브라인의 온도를 유지하는 과정, 상승 또는 하강하는 과정 등을 분리하여 최소 및 최대 개도량을 다르게 설정할 수 있다. 또한, 개도량의 상한과 하한 사이를 100 등분하지 않고 50 등분이나 40등분을 할 수도 있다.
이상에서는 본 발명의 일 실시예를 중심으로 설명하였지만, 당업자의 수준에서 다양한 변경과 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명의 범주는 상기한 실시예에 한정되어서는 안 되며 이하에 기술되는 청구범위에 의해 해석되어야 할 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 여러 가지의 효과를 갖는다.
먼저, 온도식 팽창밸브를 전자식 팽창밸브로 대체함으로써, 종래 온도식 팽창밸브를 사용하여 야기되었던 부하응답성이 느리거나 저하되는 것을 개선하여 브라인에 부가되는 부하에 대해 신속하게 대응함으로써 브라인 온도의 안정화를 꾀할 수 있다.
또한, 전자식 팽창밸브의 최소 개도량을 설정하고, 선택적으로 최대 개도량을 설정하고, 이들 사이를 신호 출력 백분율에 대응하여 일정하게 균등 분할함으로써 브라인의 온도 안정화를 구현할 수 있다.
더욱이, 신호 출력 백분율에 대응하여 일정하게 균등 분할함으로써 스텝 수가 많은 전자식 팽창밸브를 사용하더라도 스텝 수가 적은 전자식 팽창밸브로 실질적으로 변경하는 효과를 가져 오며, 스텝 수가 많은 전자식 팽창밸브를 적용함으로 써 추후에 스텝 수를 증가하고자 하는 경우에도 쉽게 증가할 수 있다.

Claims (5)

  1. 반도체 공정설비용 칠러 장치에 적용되는 전자식 팽창밸브를 제어하는 방법으로서,
    상기 전자식 팽창밸브의 전체 스텝 수에 기초하여 최소 개도량에 대응하는 하한 스텝 수와 최대 개도량에 대응하는 상한 스텝수를 설정하는 단계;
    상기 설정된 상한 스텝 수와 하한 스텝수를 기준으로 균등 분할하는 단계; 및
    상기 전자식 팽창밸브에 인가되는 신호 출력 백분율에 상기 균등 분할된 단위 스텝을 대응시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 칠러 장치의 전자식 팽창밸브의 제어방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 균등 분할은 100 등분인 것을 특징으로 하는 칠러 장치의 전자식 팽창밸브의 제어방법.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 최소 개도량은 상기 전자식 팽창밸브의 출하시 세팅된 비동작 범위 이상으로 설정되는 것을 특징으로 하는 칠러 장치의 전자식 팽창밸브의 제어방법.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 각 단계는 상기 칠러 장치에 설치되는 컨트롤러에 실장되는 마이크로프로세서에 프로그램 형태로 구현되는 것을 특징으로 하는 칠러 장치의 전자식 팽창밸브의 제어방법.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 전자식 팽창밸브는 디지털화된 전기적 신호를 입력받아 스텝퍼 구동방식으로 0 내지 N 단계로 개도가 변화되는 밸브인 것을 특징으로 하는 칠러 장치의 전자식 팽창밸브의 제어방법.
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