KR20070043193A - Equipment for evaluating fusing imformation of semiconductor memory device - Google Patents

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KR20070043193A
KR20070043193A KR1020050099191A KR20050099191A KR20070043193A KR 20070043193 A KR20070043193 A KR 20070043193A KR 1020050099191 A KR1020050099191 A KR 1020050099191A KR 20050099191 A KR20050099191 A KR 20050099191A KR 20070043193 A KR20070043193 A KR 20070043193A
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임종형
변상만
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삼성전자주식회사
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Abstract

본 발명은 반도체 메모리장치에서 퓨즈 프리차지 및 퓨즈 커팅 독출동작을 미리 설정된 횟수만큼 반복하여 실시하는 반도체 메모리 퓨우징정보 독출장치 및 그 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory fusing information reading apparatus and a method of repeatedly performing a fuse precharge and a fuse cutting reading operation in a semiconductor memory device.

퓨즈 프리차지 및 퓨우징정보 독출동작을 여러 번 실행하여 퓨우징독출 오동작을 방지하기 위한 반도체 메모리장치의 퓨우징정보 독출장치는, 반복적인 퓨즈 프리차지 인에이블신호를 발생하는 프리차지 펄스 발생부와, 퓨즈커팅신호(PCUT)에 의해 퓨즈저항을 커팅하고, 상기 프리차지 펄스 발생부로부터 발생된 퓨즈 프리차지 인에이블신호에 의해 퓨즈 프리차지가 진행될 때마다 상기 퓨즈저항의 커팅유무에 따른 퓨즈커팅 판별신호를 출력하는 퓨즈커팅 판별부와, 상기 퓨즈커팅판별부로부터 출력된 퓨즈커팅 판별신호를 래치저장하는 래치저장부와, 상기 래치부저장부로부터 래치저장된 퓨즈커팅 판별신호를 래치 프리차지 인에이블신호(PRE_LAT)에 의해 일정시간동안 지연 출력되도록 하는 지연부를 포함한다. A fusing information reading device of a semiconductor memory device for performing a fuse precharging and fusing information reading operation several times to prevent a fusing reading malfunction may include a precharge pulse generator for generating a repeated fuse precharge enable signal; When the fuse is cut by the fuse cutting signal PCUT, and the fuse precharge is performed by the fuse precharge enable signal generated from the precharge pulse generator, the fuse cutting may be determined according to whether the fuse resistor is cut. A latch precharge enable signal (e.g., a latch storing unit for latch storing the fuse cutting determination signal outputted from the fuse cutting determining unit); and a fuse cutting determination signal latched from the latch unit storing unit. And a delay unit configured to delay output for a predetermined time by PRE_LAT).

반도체 메모리장치에서 퓨즈 프리차지 및 퓨즈 커팅 독출동작을 미리 설정된 횟수만큼 반복하여 실시한 후 한 번이라도 퓨즈커팅상태가 독출되면 퓨즈가 커팅된 상태로 판독하여 퓨즈커팅 에러로 인한 반도체 메모리장치의 오동작을 방지한다.After the fuse precharging and the fuse cutting read operation are repeatedly performed a predetermined number of times in the semiconductor memory device, and the fuse cutting state is read even once, the fuse is cut and the semiconductor memory device is prevented from malfunctioning due to the fuse cutting error. do.

반도체 메모리 장치, 리던던시 프로그램, 퓨즈, 퓨즈커팅 정보  Semiconductor Memory Devices, Redundancy Programs, Fuses, Fuse Cutting Information

Description

반도체 메모리의 퓨우징정보 독출장치{EQUIPMENT FOR EVALUATING FUSING IMFORMATION OF SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE} EQUIPMENT FOR EVALUATING FUSING IMFORMATION OF SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE}

도 1은 종래의 반도체 메모리 장치의 퓨우징정보 독출장치의 회로도이고, 1 is a circuit diagram of a fusing information reading apparatus of a conventional semiconductor memory device.

도 2는 도 1의 각부의 동작 파형도2 is an operation waveform diagram of each part of FIG.

도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 메모리 퓨우징정보 독출장치의 회로도3 is a circuit diagram of a semiconductor memory fusing information reading apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4는 도 3중 프리차지 펄스 발생부(10)의 상세회로도4 is a detailed circuit diagram of the precharge pulse generator 10 of FIG. 3.

도 5는 도 3의 각부의 동작 파형도5 is an operation waveform diagram of each part of FIG.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *          Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10: 퓨즈 프리차지 펄스 발생부 20: 퓨즈커팅 판별부10: fuse precharge pulse generator 20: fuse cutting determination unit

30: 래치저장부 40: 지연부 30: latch storage unit 40: delay unit

본 발명은 반도체 메모리장치의 퓨우징정보 독출장치에 관한 것으로, 특히 반도체 메모리장치에서 퓨즈 프리차지 및 퓨즈 커팅 독출동작을 미리 설정된 횟수만큼 반복하여 실시하는 반도체 메모리의 퓨우징정보 독출장치 및 그 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a fusing information reading device of a semiconductor memory device, and more particularly, to a fusing information reading device of a semiconductor memory and a method of repeating a fuse precharge and a fuse cutting read operation in a semiconductor memory device a predetermined number of times. It is about.

일반적으로 반도체 메모리 장치는 집적도가 크게 증가하여 메모리 셀들이 불량일 가능성이 매우 높으며, 초기 테스트에서 불량인 메모리 셀들이 존재하지 않더라도 반복되는 데이터 기입/독출에 의한 메모리 셀들의 불량 가능성도 존재한다.그리고 반도체 메모리장치는 다수의 메모리 셀들을 포함하는 메모리 블록들로 구획되어 있다. 이런 경우 반도체 메모리장치의 불량 가능성이 특정 메모리 블록에 집중될 수 있다. 이러한 불량 발생에 대비하여 메모리 셀의 불량을 테스트하기 위해 외부 테스트 장비를 이용하여 반도체 메모리장치에 포함된 메모리 셀들에 데이터를 입력한 후 다시 데이터를 출력하여 입력된 데이터와 출력된 데이터를 비교하여 불량 메모리 셀들을 검출한다. 상기 검출된 불량 메모리 셀들이 반도체 메모리장치의 내부에 포함된 리던던트(Redundant) 메모리 셀들로 리페어(Repair)된다. 반도체 메모리장치의 수율(Yield)은 상기 리던던트 메모리 셀들의 수와 불량 메모리 셀들을 리던던트 메모리 셀들로 대체하는 방법에 의하여 크게 영향을 받는다.In general, a semiconductor memory device has a high degree of integration, which is very likely to be a defective memory cell, and even if no defective memory cells exist in an initial test, there is a possibility of a defective memory cell due to repeated data writing / reading. The semiconductor memory device is divided into memory blocks including a plurality of memory cells. In this case, the possibility of failure of the semiconductor memory device may be concentrated in a specific memory block. In order to test the defect of the memory cell in preparation for the occurrence of such defect, input data into the memory cells included in the semiconductor memory device using an external test equipment, and then output the data again to compare the input data with the output data. Detect memory cells. The detected bad memory cells are repaired to redundant memory cells included in the semiconductor memory device. Yield of the semiconductor memory device is greatly affected by the number of redundant memory cells and a method of replacing defective memory cells with redundant memory cells.

각 주요한 메모리 셀이 개별적으로 지정되기 때문에, 결함 셀을 대체하기 위해서는, 결함 메모리 셀에 대응하는 어드레스가 저장되도록 퓨즈 회로가 프로그램되어야 한다. 퓨즈 회로에는 결함 어드레스를 저장하기 위한 복수 개의 퓨즈들이 포함된다. 이 분야의 통상적인 지식을 습득한 자들에게 잘 알려진 바와 같이, 퓨즈들의 선택적인 단선을 통해 결함 어드레스가 퓨즈 회로에 저장될 수 있다. Since each major memory cell is individually designated, in order to replace the defective cell, a fuse circuit must be programmed so that an address corresponding to the defective memory cell is stored. The fuse circuit includes a plurality of fuses for storing a defective address. As is well known to those of ordinary skill in the art, faulty addresses can be stored in fuse circuits through selective disconnection of fuses.

현재 사용되고 있는 리페어 방법으로는 레이저로 퓨즈를 절단하여 불량 메모리 셀들을 리던던트 메모리 셀들로 대체하는 방법 및 전기적인 제어신호로 퓨즈를 절단하거나 단락시켜 불량 메모리 셀들을 리던던트 메모리 셀들로 대체 하는 방법이 있다. 상기 방법들은 외부 테스트 장비가 모든 메모리 셀들을 테스트한 후 불량인 메모리 셀들의 주소가 외부 테스트 장비에 저장된다. 그리고 불량 메모리 셀들을 지정하는 주소에 따라 반도체 메모리 장치의 리던던트 메모리 셀들에 대응되는 퓨즈가 절단되거나 단락되어 리페어된다. Repair methods currently used include a method of replacing fuse memory with redundant memory cells by cutting a fuse with a laser, and a method of replacing defective memory cells with redundant memory cells by cutting or shorting the fuse with an electrical control signal. In the above methods, after the external test equipment tests all the memory cells, the addresses of the defective memory cells are stored in the external test equipment. The fuse corresponding to the redundant memory cells of the semiconductor memory device is cut or shorted and repaired according to an address designating bad memory cells.

도 1은 종래의 반도체 메모리 장치의 퓨우징정보 독출장치의 회로도이고, 1 is a circuit diagram of a fusing information reading apparatus of a conventional semiconductor memory device.

도 2는 도 1의 각부의 동작 파형도이다.2 is an operational waveform diagram of each part of FIG. 1.

상술한 도 1 및 도 2를 참조하여 종래의 반도체 메모리장치의 퓨우징정보 독출장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.Referring to FIG. 1 and FIG. 2, the operation of the fusing information reading apparatus of the conventional semiconductor memory device will be described.

전원전압(VDD)에 연결되어 발열작용에 의해 커팅되는 퓨즈저항(R0)과, 상기 퓨즈저항(R0)과 접지사이에 드레인과 소스가 연결되고, 게이트로 퓨즈커팅신호(PCUT)를 받아 상기 퓨즈저항(R0)이 발열되도록 하는 엔모오스 트랜지스터(NM0)와, 상기 전원전압(VDD)에 연결된 기준저항(R1)과, 상기 휴즈저항(R0)과 접지사이에 직렬로 연결된 피모오스 트랜지스터(PM1) 및 엔모오스 트랜지스터(NM3)와, 상기 기준저항(R1)과 접지사이에 직렬로 연결된 피모오스 트랜지스터(PM2) 및 엔모오스 트랜지스터(NM4)와, 상기 피모오스 트랜지스터(PM1)의 드레인과 엔모오스 트랜지스터(NM3)의 드레인이 연결된 접속노드(A1)와 접지사이에 연결된 엔모오스 트랜지스터 (NM1)와, 상기 피모오스 트랜지스터(PM2)의 드레인과 엔모오스 트랜지스터(NM4)의 드레인이 연결된 접속노드(A2)와 접지사이에 연결된 엔모오스 트랜지스터(NM2)와, 상기 피모오스 트랜지스터(PM2)의 드레인과 엔모오스 트랜지스터(NM4)의 드레인이 연결된 접속노드(A2)에 연결된 인버터(I1)와, 상기 인버터(I1)의 출력단에 연결된 인버터(I2)로 구성되어 있다.A fuse resistor R0 connected to a power supply voltage V DD and being cut by a heating operation, a drain and a source are connected between the fuse resistor R0 and ground, and receiving a fuse cutting signal PCUT through a gate; An en-MOS transistor NM0 for generating a fuse resistor R0, a reference resistor R1 connected to the power supply voltage V DD , and a PMOS transistor connected in series between the fuse resistor R0 and ground. PM1) and the NMOS transistor NM3, the PMOS transistor PM2 and the NMOS transistor NM4 connected in series between the reference resistor R1 and the ground, and the drain and N of the PMOS transistor PM1. An NMOS transistor NM1 connected between a connection node A1 connected to the drain of the MOS transistor NM3 and ground, and a connection node connected to a drain of the PMOS transistor PM2 and the drain of the NMOS transistor NM4. Between A2) and ground An inverter I1 connected to the connected NMOS transistor NM2, a drain of the PMOS transistor PM2 and a drain of the NMOS transistor NM4, and an inverter I1 connected to an output terminal of the inverter I1. It consists of a connected inverter I2.

상기 피모오스 트랜지스터(PM1) 및 엔모오스 트랜지스터(NM3)의 게이트가 공통접속되고, 상기 피모오스 트랜지스터(PM2) 및 엔모오스 트랜지스터(NM4)의 게이트가 공통접속되어 있다. 상기 피모오스 트랜지스터(PM1) 및 엔모오스 트랜지스터(NM3)의 게이트는 엔모오스 트랜지스터(NM2)의 드레인에 접속되고, 상기 피모오스 트랜지스터(PM2) 및 엔모오스 트랜지스터(NM4)의 게이트는 엔모오스 트랜지스터(NM1)의 드레인에 접속된다.Gates of the PMOS transistor PM1 and the NMOS transistor NM3 are connected in common, and gates of the PMOS transistor PM2 and the NMOS transistor NM4 are connected in common. Gates of the PMOS transistor PM1 and the NMOS transistor NM3 are connected to a drain of the NMOS transistor NM2, and gates of the PMOS transistor PM2 and the NMOS transistor NM4 are connected to the NMOS transistor ( NM1) is connected to the drain.

먼저 엔모오스 트랜지스터(NM0)는 게이트로 도 2의 PMRSET와 같은 퓨즈 커팅신호가 인가되면 턴온된다. 상기 엔모오스 트랜지스터(NM0)가 턴온되면 퓨즈저항(R0)에 큰 전류가 흐르게되어 발열작용으로 퓨즈저항(R0)이 컷팅된다. First, the NMOS transistor NM0 is turned on when a fuse cutting signal such as PMRSET of FIG. 2 is applied to the gate. When the NMOS transistor NM0 is turned on, a large current flows through the fuse resistor R0, and the fuse resistor R0 is cut by the heating operation.

그리고 퓨즈커팅신호가 인가된 후 퓨즈 프리차지를 위한 도 2의 PPRE와 같은 퓨즈프리차지 인에이블신호가 엔모오스 트랜지스터(NM1, NM2)의 게이트로 인가되어 엔모오스 트랜지스터(NM1, NM2)가 턴온되어 프리차지된다. 퓨즈프리차지가 완료되면 엔모오스 트랜지스터(NM1, NM2)가 턴오프된다. 그런 후 저항(R0)이 컷팅되면 기준저항(R1)의 저항값 10R대비 큰 저항값을 갖게 되어 접속노드(A2)가 하이(H)전위를 갖게되고, 이 하이(H)전위는 인버터(I1, I2)를 통해 래치되어 도 2의 POUT와 같 이 인에이블 상태를 갖게 한다. 즉, 퓨즈저항(R0)이 커팅된 상태로 인식한다. After the fuse cutting signal is applied, a fuse precharge enable signal such as PPRE of FIG. 2 for fuse precharge is applied to the gates of the NMOS transistors NM1 and NM2 so that the NMOS transistors NM1 and NM2 are turned on. Precharged. When the fuse precharge is completed, the NMOS transistors NM1 and NM2 are turned off. Then, when the resistance R0 is cut, the resistance R10 is larger than the resistance value 10R, and the connection node A2 has a high (H) potential, and the high (H) potential is the inverter I1. , I2) is latched and enabled as shown in POUT of FIG. 2. That is, the fuse resistor R0 is recognized as being cut.

그러나 상기 퓨즈저항(R0)이 컷팅되지 않으면 기준저항(R1)의 10R 대비 상대적으로 작은 저항값을 갖게 되므로 퓨즈독출구간에서 접속노드(A2)가 로우(L)전위를 갖는다. 상기 접속노드(A2)가 로우(L)전위는 인버터(I1, I2)를 통해 래치되어 디스에이블상태를 갖게 한다. 즉, 퓨즈저항(R0)이 커팅되지 않은 상태로 인식한다.However, if the fuse resistor R0 is not cut, the connection node A2 has a low L potential in the fuse read section since the fuse resistor R0 has a relatively small resistance value compared to 10R of the reference resistor R1. The low L potential of the connection node A2 is latched through the inverters I1 and I2 to make the disabled state. That is, the fuse resistor R0 is recognized as not cut.

상기 출력신호(Pout)가 하이인에이블 상태이면 불량셀이 접근되지 않고 리페어셀로 대체되도록 한다. If the output signal Pout is in the high enable state, the defective cell is not accessed and is replaced with a repair cell.

상기 접속노드(A1, A2)는 엔모오스 트랜지스터(NM1, NM2)의 게이트로 인가되는 퓨즈 프리차지 인에이블신호(PPRE)가 하이(H)상태일 때 프리차지 동작을 한다. 그리고 도 2의 퓨즈 프리차지 인에이블신호(PPRE)의 로우(L)구간에서 퓨즈독출 동작이 실시된다.The connection nodes A1 and A2 perform a precharge operation when the fuse precharge enable signal PPRE applied to the gates of the NMOS transistors NM1 and NM2 is high (H). Then, the fuse read operation is performed in the low L section of the fuse precharge enable signal PPRE of FIG. 2.

상기와 같은 종래의 반도체 메모리 퓨우징 정보 독출장치는 퓨즈 프리차지와 퓨우징정보 독출동작은 파워 업 시에 1회만 실시하게 되므로 상기 퓨즈컷 동작이 충분치 않아 퓨즈저항(R0)이 기준저항(R1)의 저항값과 유사한 수준으로 남게되어 상기 퓨우징정보 독출동작 시 원하지 않는 출력 결과값이 출력되어 오동작이 발생하는 문제가 있었다.  In the conventional semiconductor memory fusing information reading apparatus as described above, since the fuse precharging and the fusing information reading operation are performed only once at power-up, the fuse cut operation is not sufficient, so that the fuse resistor R0 is the reference resistor R1. There was a problem that a malfunction is generated because an unwanted output result value is output when the fusing information reading operation is left at a level similar to the resistance value of.

따라서 본 발명의 목적은 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 퓨즈 프리차지 및 퓨우징정보 독출동작을 여러 번 실행하여 퓨우징독출 오동작을 방지할 수 있는 반도체 메모리 퓨우징정보 독출장치 및 그 방법을 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory fusing information reading apparatus and method for preventing a fusing reading malfunction by executing the fuse precharge and the fusing information reading operation several times in order to solve the above problems. have.

상기 목적을 달성하기 위한 반도체 메모리장치의 퓨우징정보 독출장치는, 반복적인 퓨즈 프리차지 인에이블신호를 발생하는 프리차지 펄스 발생부와, 퓨즈커팅신호(PCUT)에 의해 퓨즈저항을 커팅하고, 상기 프리차지 펄스 발생부로부터 발생된 퓨즈 프리차지 인에이블신호에 의해 퓨즈 프리차지가 진행될 때마다 상기 퓨즈저항의 커팅유무에 따른 퓨즈커팅 판별신호를 출력하는 퓨즈커팅 판별부와, 상기 퓨즈커팅판별부로부터 출력된 퓨즈커팅 판별신호를 래치저장하는 래치저장부와, 상기 래치부저장부로부터 래치저장된 퓨즈커팅 판별신호를 래치 프리차지 인에이블신호(PRE_LAT)에 의해 일정시간동안 지연 출력되도록 하는 지연부를 포함함을 특징으로 한다. The fusing information reading apparatus of the semiconductor memory device for achieving the above object is a precharge pulse generating unit for generating a repeated fuse precharge enable signal, and cutting the fuse resistor by the fuse cutting signal (PCUT), A fuse cutting determination unit for outputting a fuse cutting determination signal according to whether or not the fuse resistance is cut by the fuse precharge enable signal generated from the precharge pulse generator, and from the fuse cutting determination unit And a latch storage unit configured to latch and store the output fuse cutting determination signal, and a delay unit configured to delay output of the fuse cutting determination signal latched from the latch unit storage for a predetermined time by a latch precharge enable signal PRE_LAT. It features.

상기 퓨즈 커팅 판별부는, 퓨즈커팅신호(PCUT)를 받아 상기 퓨즈저항이 발열되도록 하는 제1 엔모오스 트랜지스터와, 상기 전원전압에 연결된 기준저항과, 상기 퓨즈저항과 접지사이에 직렬로 연결된 제1피모오스 트랜지스터 및 제4엔모오스 트랜지스터와, 상기 기준저항과 접지사이에 직렬로 연결된 제2피모오스 트랜지스터 및 제5 엔모오스 트랜지스터와, 상기 프리차지 펄스발생부로부터 출력된 퓨즈 프리차지 펄스에 의해 주기적으로 접속노드(A1, A2)를 프리차지하는 프리차지부를 구비하고,The fuse cutting determiner may include a first NMOS transistor configured to receive a fuse cutting signal PCUT to generate the fuse resistor, a reference resistor connected to the power supply voltage, and a first coat connected in series between the fuse resistor and the ground. Periodically by an oss transistor and a fourth enmos transistor, a second PMOS transistor and a fifth enmos transistor connected in series between the reference resistor and ground, and a fuse precharge pulse output from the precharge pulse generator. A precharge unit for precharging the connection nodes A1 and A2;

상기 제1 피모오스 트랜지스터와 제4 엔모오스 트랜지스터의 게이트가 공통 접속되도록 하고, 상기 제2 피모오스 트랜지스터와 상기 제5 엔모오스 트랜지스터의 게이트가 공통접속되도록 함을 특징으로 한다. The gates of the first PMOS transistor and the fourth NMOS transistor are commonly connected, and the gates of the second PMOS transistor and the fifth NMOS transistor are commonly connected.

상기 래치부는, 상기 제1 피모오스 트랜지스터의 드레인과 제5 엔모오스 트랜지스터의 드레인이 연결된 접속노드에 연결되는 제1 인버터와, 상기 제1 인버터의 출력단에 연결된 제2 인버터를 포함함을 특징으로 한다.The latch unit may include a first inverter connected to a connection node to which the drain of the first PMOS transistor and the drain of the fifth NMOS transistor are connected, and the second inverter connected to an output terminal of the first inverter. .

상기 지연부는, 퓨즈커팅정보를 지연시키기 위한 제어신호에 응답하여 상기 제2 인버터의 출력로부터 출력되는 퓨즈커팅 정보를 지연출력하는 제1 노아게이트와, 래치 프리차지 인에이블신호(PPRE_LAT)를 반전시켜 출력하는 제3 인버터와, 상기 제1 노아게이트의 출력단신호를 받아 상기 제3 인버터에 의해 반전된 래치 프리차지 인에이블신호(PPRE_LAT)에 의해 설정된 퓨즈 프리차지 횟수만큼 상기 퓨즈커팅정보를 지연시키기 위한 제어신호를 상기 제1 노아게이트로 출력하는 제2 노아게이트와, 상기 제1 노아게이트의 출력신호를 반전시켜 퓨즈커팅 판별신호로 출력하는 제4 인버터를 포함함을 특징으로 한다.The delay unit may be configured to invert the first pre-gate enable signal PPRE_LAT and the first no-gate for delaying outputting the fuse cutting information output from the output of the second inverter in response to a control signal for delaying the fuse cutting information. A third inverter for outputting and delaying the fuse cutting information by the number of fuse precharges set by the latch precharge enable signal PPRE_LAT inverted by the third inverter in response to the output terminal signal of the first noah gate. And a second inverter for outputting a control signal to the first noble gate, and a fourth inverter for inverting the output signal of the first noble gate to output the fuse cutting determination signal.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리장치의 퓨우징정보 독출방법은, 반복적인 퓨즈 프리차지 인에이블신호를 발생하는 단계와, 상기 발생한 퓨즈 프리차지 인에이블신호에 의해 퓨즈 프리차지 및 퓨즈커팅 독출동작을 미리 설정된 횟수만큼 반복실행하여 퓨즈커팅 독출정보를 저장하는 단계와, 상기 미리 설정된 횟수의 상기 퓨즈커팅 독출동작이 완료될 시 상기 퓨즈커팅 독출정보를 출력하는 단계로 이루어짐을 특징으로 한다.The method of reading the fusing information of the semiconductor memory device of the present invention for achieving the above object comprises the steps of: generating a repeated fuse precharge enable signal, the fuse precharge and fuse cutting by the generated fuse precharge enable signal And repeating the read operation for a predetermined number of times to store the fuse cutting read information, and outputting the fuse cutting read information when the preset number of times of the fuse cutting read operations is completed.

이하 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설 명한다. 그리고 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 메모리 퓨우징정보 독출장치의 회로도이다.3 is a circuit diagram of a semiconductor memory fusing information reading apparatus according to an embodiment of the present invention.

반복적인 퓨즈 프리차지 인에이블신호를 발생하는 퓨즈프리차지 펄스 발생부(10)와, 퓨즈커팅신호(PCUT)에 의해 퓨즈저항(R0)을 커팅하고, 상기 프리차지 펄스 발생부(10)로부터 발생된 퓨즈 프리차지 인에이블신호에 의해 퓨즈 프리차지가 진행될 때마다 상기 퓨즈저항(R0)의 커팅유무에 따른 퓨즈커팅 판별신호를 출력하는 퓨즈커팅 판별부(20)와, 상기 퓨즈커팅판별부(20)로부터 출력된 퓨즈커팅 판별신호를 래치저장하는 래치부(30)와, 상기 래치부(30)로부터 래치저장된 퓨즈커팅 판별신호를 받아 래치 프리차지 인에이블신호(PRE_LAT)에 의해 일정시간동안 지연 출력되도록 하는 지연부(40)로 구성되어 있다. The fuse resistor R0 is cut by the fuse precharge pulse generator 10 and the fuse cutting signal PCUT, which generates a repeated fuse precharge enable signal, and is generated from the precharge pulse generator 10. A fuse cutting determination unit 20 for outputting a fuse cutting determination signal according to whether the fuse resistor R0 is cut each time the fuse precharge is performed by the fuse precharge enable signal, and the fuse cutting determination unit 20 The latch unit 30 latch-storages the fuse cutting determination signal outputted from the < RTI ID = 0.0 >), < / RTI > It consists of a delay part 40 which makes it possible.

상기 퓨즈커팅 판별부(20)는 전원전압(VDD)에 연결되어 발열작용에 의해 커팅되는 퓨즈저항(R0)과, 상기 퓨즈저항(R0)과 접지사이에 드레인과 소스가 연결되고, 게이트로 퓨즈커팅신호(PCUT)를 받아 상기 퓨즈저항(R0)이 발열되도록 하는 제1 엔모오스 트랜지스터(NM0)와, 상기 전원전압(VDD)에 연결된 기준저항(R1)과, 상기 퓨즈저항(R0)과 접지사이에 직렬로 연결된 제1 피모오스 트랜지스터(PM1) 및 제4 엔모오스 트랜지스터(NM3)와, 상기 기준저항(R1)과 접지사이에 직렬로 연결된 제2 피모오스 트랜지스터(PM2) 및 제5엔 모오스 트랜지스터(NM4)와, 상기 제1 피모오스 트랜지스터(PM1)의 드레인과 제4 엔모오스 트랜지스터(NM3)의 드레인이 연결된 접속노드(A1)와 접지사이에 연결된 제2 엔모오스 트랜지스터(NM1)와, 상기 제2 피모오스 트랜지스터(PM2)의 드레인과 제5 엔모오스 트랜지스터(NM4)의 드레인이 연결된 접속노드(A2)와 접지사이에 연결된 제3 엔모오스 트랜지스터(NM2)로 구성되어 있다.The fuse cutting determination unit 20 is connected to the power supply voltage (V DD ) and the fuse resistor (R0) is cut by the heating action, the drain and the source is connected between the fuse resistor (R0) and the ground, and the gate A first NMOS transistor NM0 for receiving the fuse cutting signal PCUT to generate heat of the fuse resistor R0, a reference resistor R1 connected to the power supply voltage V DD , and the fuse resistor R0 A first PMOS transistor PM1 and a fourth NMOS transistor NM3 connected in series between a ground and ground, and a second PMOS transistor PM2 and a fifth connected in series between the reference resistor R1 and ground; The second NMOS transistor NM1 connected between the NMOS transistor NM4, the drain of the first PMOS transistor PM1, the drain of the fourth NMOS transistor NM3, and a connection node A1 connected to ground. And a drain and a fifth enmo of the second PMOS transistor PM2. A third switch connected between the transistor connected to the drain of the (NM4) connected to the node (A2) and the ground yen consists Mohs transistor (NM2).

상기 래치부(30)는 상기 제2 피모오스 트랜지스터(PM2)의 드레인과 제5 엔모오스 트랜지스터(NM4)의 드레인이 연결된 접속노드(A2)에 연결되는 인버터(I1)와, 상기 인버터(I1)의 출력단에 연결된 인버터(I2)로 구성되어 있다.The latch unit 30 includes an inverter I1 connected to a connection node A2 to which the drain of the second PMOS transistor PM2 and the drain of the fifth enMOS transistor NM4 are connected, and the inverter I1. It consists of an inverter I2 connected to the output terminal of.

상기 지연부(40)는 상기 인버터(I2)의 출력단이 한 입력단으로 연결되는 노아게이트(NOR1)와, 래치 프리차지 인에이블신호(PPRE_LAT)를 반전시켜 출력하는 인버터(I3)와, 상기 노아게이트(NOR1)의 출력단이 한 입력단으로 연결되고 다른 입력단으로 상기 인버터(I3)에 의해 반전된 래치 프리차지 인에이블신호(PPRE_LAT)가 입력되며 상기 노아게이트(NOR1)의 출력단이 다른 입력단으로 연결되는 제2 노아게이트(NOR2)와, 상기 노아게이트(NOR1)의 출력신호를 반전시켜 출력하는 인버터(I4)로 구성되어 있다. The delay unit 40 includes a noar gate NOR1 having an output terminal of the inverter I2 connected to one input terminal, an inverter I3 for inverting and outputting a latch precharge enable signal PPRE_LAT, and the noa gate. The output terminal of NOR1 is connected to one input terminal, the latch precharge enable signal PPRE_LAT inverted by the inverter I3 is input to the other input terminal, and the output terminal of the NOA gate NOR1 is connected to another input terminal. It consists of 2 NOR gates NOR2 and inverter I4 which inverts and outputs the output signal of the NOR gate NOR1.

도 4는 도 3중 프리차지 펄스 발생부(10)의 상세회로도이다.4 is a detailed circuit diagram of the precharge pulse generator 10 of FIG. 3.

프리차지 펄스발생구간신호(POSC START)를 세트단자(S)로 입력받고 클럭단자(CK)로 소정의 발진주파수(POSC)를 입력받아 출력단(Q)으로 래치출력하는 디플립플롭(FF1)과, 상기 디플립플롭(FF1)의 출력단(Q)이 클럭단자(CK)로 연결되고 프리차 지 펄스발생구간신호(POSC START)를 세트단자(S)로 입력되는 디플립플롭(FF2)과, 상기 디플립플롭(FF2)의 출력단(Q)이 클럭단자(CK)로 연결되고 퓨즈 프리차지 펄스발생구간신호(POSC START)를 세트단자(S)로 입력되는 디플립플롭(FF3)과, 상기 디플립플롭(FF3)의 출력단(Q)이 클럭단자(CK)로 연결되고 퓨즈 프리차지 펄스발생구간신호(POSC START)를 세트단자(S)로 입력되는 디플립플롭(FF4)과, 상기 디플립플롭(FF4)의 출력단(Q)이 클럭단자(CK)로 연결되고 퓨즈 프리차지 펄스발생구간신호(POSC START)를 세트단자(S)로 입력되고 출력단(Q)이 상기 디플립플롭(FF1)의 데이터단(D)에 연결되는 디플립플롭(FF5)으로 구성되어 있다.A deflip-flop (FF1) for inputting the precharge pulse generation interval signal (POSC START) to the set terminal (S), receiving a predetermined oscillation frequency (POSC) to the clock terminal (CK), and latching it to the output terminal (Q); A deflip-flop FF2 in which an output terminal Q of the deflip-flop FF1 is connected to a clock terminal CK and a precharge pulse generation interval signal POSC START is input to the set terminal S; A deflip-flop FF3 for connecting the output terminal Q of the flip-flop FF2 to the clock terminal CK and inputting the fuse precharge pulse generation period signal POSC START to the set terminal S; A deflip-flop FF4 for connecting the output terminal Q of the deflip-flop FF3 to the clock terminal CK and inputting the fuse precharge pulse generation period signal POSC START to the set terminal S; The output terminal Q of the flip-flop FF4 is connected to the clock terminal CK, the fuse precharge pulse generation section signal POSC START is input to the set terminal S, and the output terminal Q is connected to the de-terminal. It consists of a D flip-flop (FF5) coupled to the data terminal of the lip-flop (FF1) (D).

도 5는 도 3의 각부 동작파형도이다.5 is an operation waveform diagram of each part of FIG. 3.

상술한 도 3 내지 도 5를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 퓨우징정보를 독출하는 동작을 상세히 설명한다. 3 to 5, the operation of reading the fusing information according to the preferred embodiment of the present invention will be described in detail.

먼저 엔모오스 트랜지스터(NM0)는 게이트로 도 5의 PMRSET와 같은 퓨즈 커팅신호가 인가되면 턴온된다. 상기 제1 엔모오스 트랜지스터(NM0)가 턴온되면 퓨즈저항(R0)에 큰 전류가 흐르게되어 발열작용으로 퓨즈저항(R0)이 컷팅된다. First, the NMOS transistor NM0 is turned on when a fuse cutting signal such as PMRSET of FIG. 5 is applied to the gate. When the first NMOS transistor NM0 is turned on, a large current flows through the fuse resistor R0, and the fuse resistor R0 is cut by the heating operation.

그리고 퓨즈프리차지 펄스 발생부(10)는 도 5의 PRE_OSC와 같은 반복적인 퓨즈 프리차지 인에이블신호를 발생하여 제2 및 제3 엔모오스 트랜지스터(NM1, NM2)의 게이트로 인가된다. 이로인해 제2 및 제3 엔모오스 트랜지스터(NM1, NM2)는 도 5의 PRE_OSC와 같은 반복적인 퓨즈 프리차지 인에이블신호의 하이구간에서 턴온되어 프리차지된다. 그리고 퓨즈커팅 판별부(20)는 도 5의 PRE_OSC와 같은 반복적인 퓨즈 프리차지 인에이블신호의 로우구간에서 퓨즈커팅 정보를 독출하게 된다. 도 5 의 PRE_OSC와 같은 반복적인 퓨즈 프리차지 인에이블신호의 로우구간에서 제2 및 제3 엔모오스 트랜지스터(NM1, NM2)가 턴오프된다. The fuse precharge pulse generator 10 generates a repetitive fuse precharge enable signal such as PRE_OSC of FIG. 5 and is applied to the gates of the second and third NMOS transistors NM1 and NM2. As a result, the second and third NMOS transistors NM1 and NM2 are turned on and precharged in the high section of the repetitive fuse precharge enable signal such as PRE_OSC of FIG. 5. The fuse cutting determination unit 20 reads fuse cutting information in a row section of a repetitive fuse precharge enable signal such as PRE_OSC of FIG. 5. The second and third NMOS transistors NM1 and NM2 are turned off in the low section of the repetitive fuse precharge enable signal such as PRE_OSC of FIG. 5.

그런 후 저항(R0)이 컷팅되면 기준저항(R1)의 저항값 10R대비 큰 저항값을 갖게 되어 접속노드(A2)가 하이(H)전위를 갖게되고, 이 하이(H)전위는 인버터(I1, I2)를 통해 래치저장된다. 그리고 도 5의 PPRE_LAT와 같은 래치 프리차지 인에이블신호(PPRE_LAT)는 인버터(I3)를 통해 반전되어 제2 노아게이트(NOR2)의 다른 입력단으로 인가된다. 이때 래치 프리차지 인에이블신호(PPRE_LAT)의 로우구간에서 제2 노아게이트(NOR2)는 상기 제1 노아게이트(NOR1)의 출력신호와 반전 논리합하여 하이신호를 출력하게 된다. 상기 제2 노아게이트(NOR2)로부터 출력된 하이신호는 제1 노아게이트(NOR1)의 다른 입력단으로 인가된다. 이로인해 상기 제1 노아게이트(NOR1)는 여러번 실시된 퓨즈 프리차지 및 퓨즈컷팅 독출정보가 설정된 횟수동안 출력되지 않도록 래치 프리차지 인에이블신호(PPRE_LAT)가 하이구간에서 로우상태로 천이될 때 까지 로우상태신호를 출력하도록 한다. 즉, 노아게이트(NOR1,NOR2)와 인버터(I3, I4)로 이루어진 지연부(40)는 래치저장부(30)에 저장된 퓨즈커팅 독출정보를 설정된 퓨즈 프리차지 실시 횟수동안을 출력되지 않도록 지연시키는 것이다. Then, when the resistance R0 is cut, the resistance R10 is larger than the resistance value 10R, and the connection node A2 has a high (H) potential, and the high (H) potential is the inverter I1. Latched via I2). The latch precharge enable signal PPRE_LAT such as PPRE_LAT of FIG. 5 is inverted through the inverter I3 and applied to another input terminal of the second NOR gate NOR2. At this time, in the low section of the latch precharge enable signal PPRE_LAT, the second NOR gate NOR2 is inverted and ORed with the output signal of the first NOR gate NOR1 to output a high signal. The high signal output from the second NOR gate NOR2 is applied to the other input terminal of the first NOR gate NOR1. As a result, the first NOR gate NOR1 is low until the latch precharge enable signal PPRE_LAT transitions from the high section to the low state so that the fuse precharge and the fuse cutting read information that have been repeatedly executed are not output for a set number of times. Output the status signal. That is, the delay unit 40 including the NOA gates NOR1 and NOR2 and the inverters I3 and I4 delays the fuse cutting read information stored in the latch storage unit 30 so as not to output the set number of fuse precharges. will be.

그리고 래치 프리차지 인에이블신호(PPRE_LAT)가 하이구간에서 로우상태로 천이되면 이 신호는 인버터(I3)를 통해 반전되어 하이신호를 제2 노아게이트(NOR2)의 다른 입력단으로 인가된다. 이때 제2 노아게이트(NOR2)는 다른 입력단으로 하이신호가 입력되므로 출력신호는 로우상태신호를 출력하게 된다. 상기 제2 노아게이 트(NOR2)로부터 출력된 로우신호는 제1 노아게이트(NOR1)의 다른 입력단으로 인가되고, 상기 제1 노아게이트(NOR1)는 상기 인버터(I2)를 통해 출력되는 퓨즈커팅 정보를 출력하게 된다. 상기 제1 노아게이트(NOR1)로부터 출력된 퓨즈커팅정보는 인버터(I4)를 통해 반전되어 출력된다.When the latch precharge enable signal PPRE_LAT transitions from the high section to the low state, the signal is inverted through the inverter I3 and the high signal is applied to the other input terminal of the second NOR gate NOR2. In this case, since the high signal is input to the other input terminal, the second NOR gate NOR2 outputs a low state signal. The low signal output from the second NOR gate NOR2 is applied to another input terminal of the first NOR gate NOR1, and the first NOR gate NOR1 is fuse cutting information output through the inverter I2. Will print The fuse cutting information output from the first NOR gate NOR1 is inverted and output through the inverter I4.

이렇게 퓨즈프리차지 펄스발생부(10)에서 상기 퓨즈 프리차지인에이블신호가 반복적으로 발생되어 제2 및 제3 엔모오스 트랜지스터(NM1, NM2)가 턴온되어 접속노드(A1, A2)가 프리차지된 후 상기 접속노드(A2)의 퓨즈커팅 독출정보가 한번이라도 하이상태로 검출되면 인버터(I1, I2)에 래치저장되어 퓨즈커팅 정보가 제1 노아게이트(NOR1) 및 인버터(I4)를 통해 하이상태로 출력된다. 퓨즈커팅 정보가 하이상태로 출력되면 퓨즈저항(R0)이 커팅된 상태로 판독하게 하게 된다. As described above, the fuse precharge enable signal is repeatedly generated in the fuse precharge pulse generator 10 so that the second and third NMOS transistors NM1 and NM2 are turned on so that the connection nodes A1 and A2 are precharged. After the fuse cutting read information of the connection node A2 is detected as a high state even once, the latch cutting is stored in the inverters I1 and I2 so that the fuse cutting information is high through the first NOR gate NOR1 and the inverter I4. Is output. When the fuse cutting information is output in a high state, the fuse resistor R0 is read in a cut state.

그러나 상기 퓨즈저항(R0)이 컷팅되지 않으면 기준저항(R1)의 10R 대비 상대적으로 작은 저항값을 갖게 되므로 퓨즈커팅 정보독출구간에서 접속노드(A2)가 로우(L)전위를 갖는다. 상기 접속노드(A2)가 로우(L)전위는 인버터(I1, I2)를 통해 래치되어 저장된다. 상기 인버터(I1, I2)에 의해 래치저장된 로우전위는 지연부(40)에 의해 일정시간 지연된 후 출력되어 퓨즈커팅이 이루어지지 않은 퓨즈커팅 디스에이블상태를 갖게 한다. However, when the fuse resistor R0 is not cut, the connection node A2 has a low L potential in the fuse cutting information reading section since the fuse resistor R0 has a relatively small resistance value compared to 10R of the reference resistor R1. The low L potential of the connection node A2 is latched and stored through the inverters I1 and I2. The low potential latch-stored by the inverters I1 and I2 is output after being delayed by the delay unit 40 for a predetermined time to have a fuse cutting disable state in which fuse cutting is not performed.

상기 출력신호(Pout)가 하이인에이블 상태이면 불량셀이 접근되지 않고 리페어셀로 대체되도록 한다. If the output signal Pout is in the high enable state, the defective cell is not accessed and is replaced with a repair cell.

상기 접속노드(A1, A2)는 제2 및 제3 엔모오스 트랜지스터(NM1, NM2)의 게이트로 인가되는 퓨즈 프리차지 인에이블신호(PPRE_OSC)가 하이(H)상태일 때 프리차 지된다. 그리고 도 5의 퓨즈 프리차지 인에이블신호(PPRE_OSC)의 로우(L)구간에서 접속노드(A2)를 통해 퓨즈커팅 정보가 출력된다.The connection nodes A1 and A2 are precharged when the fuse precharge enable signal PPRE_OSC applied to the gates of the second and third NMOS transistors NM1 and NM2 is high (H). Further, fuse cutting information is output through the connection node A2 in the row L section of the fuse precharge enable signal PPRE_OSC of FIG. 5.

상술한 바와 같이 본 발명은, 반도체 메모리장치에서 퓨즈 프리차지 및 퓨즈 커팅 독출동작을 미리 설정된 횟수만큼 반복하여 실시한 후 한 번이라도 퓨즈커팅상태가 독출되면 퓨즈가 커팅된 상태로 판독하여 퓨즈커팅 에러로 인한 반도체 메모리장치의 오동작을 방지할 수 있는 이점이 있다.As described above, according to the present invention, after the fuse precharging and the fuse cutting read operation are repeatedly performed a predetermined number of times in the semiconductor memory device, if the fuse cutting state is read at least once, the fuse is cut and read as a fuse cutting error. There is an advantage that can prevent the malfunction of the semiconductor memory device.

Claims (6)

반도체 메모리장치의 퓨우징정보 독출장치에 있어서,A fusing information reading apparatus of a semiconductor memory device, 반복적인 퓨즈 프리차지 인에이블신호를 발생하는 프리차지 펄스 발생부와,A precharge pulse generator for generating a repetitive fuse precharge enable signal; 퓨즈커팅신호(PCUT)에 의해 퓨즈저항을 커팅하고, 상기 프리차지 펄스 발생부로부터 발생된 퓨즈 프리차지 인에이블신호에 의해 퓨즈 프리차지가 진행될 때마다 상기 퓨즈저항의 커팅유무에 따른 퓨즈커팅 판별신호를 출력하는 퓨즈커팅 판별부와, A fuse cutting determination signal according to whether a fuse is cut or not is cut whenever a fuse resistor is cut by a fuse cutting signal PCUT and a fuse precharge is performed by a fuse precharge enable signal generated from the precharge pulse generator. Fuse cutting determination unit for outputting a; 상기 퓨즈커팅판별부로부터 출력된 퓨즈커팅 판별신호를 래치저장하는 래치저장부와, A latch storage unit for latch storing the fuse cutting determination signal outputted from the fuse cutting determination unit; 상기 래치부저장부로부터 래치저장된 퓨즈커팅 판별신호를 래치 프리차지 인에이블신호(PRE_LAT)에 의해 일정시간동안 지연 출력되도록 하는 지연부를 포함함을 특징으로 하는 반도체 메모리의 퓨우징정보 독출장치. And a delay unit configured to delay the fuse cutting determination signal stored in the latch unit from the latch unit storage unit for a predetermined time by a latch precharge enable signal PRE_LAT. 제1항에 있어서, 상기 퓨즈 커팅 판별부는,The method of claim 1, wherein the fuse cutting determination unit, 퓨즈커팅신호(PCUT)를 받아 상기 퓨즈저항이 발열되도록 하는 제1 엔모오스 트랜지스터와, A first NMOS transistor configured to receive a fuse cutting signal PCUT to generate heat to the fuse resistor; 상기 전원전압에 연결된 기준저항과, A reference resistor connected to the power supply voltage; 상기 퓨즈저항과 접지사이에 직렬로 연결된 제1피모오스 트랜지스터 및 제4 엔모오스 트랜지스터와, A first PMOS transistor and a fourth NMOS transistor connected in series between the fuse resistor and ground; 상기 기준저항과 접지사이에 직렬로 연결된 제2피모오스 트랜지스터 및 제5 엔모오스 트랜지스터를 구비하고,A second PMOS transistor and a fifth NMOS transistor connected in series between the reference resistor and ground; 상기 제1 피모오스 트랜지스터와 제4 엔모오스 트랜지스터의 게이트가 공통접속되도록 하고, 상기 제2 피모오스 트랜지스터와 상기 제5 엔모오스 트랜지스터의 게이트가 공통접속되도록 함을 특징으로 하는 반도체 메모리의 퓨우징정보 독출장치. Fusing information of the semiconductor memory, wherein the gates of the first PMOS transistor and the fourth NMOS transistor are commonly connected, and the gates of the second PMOS transistor and the fifth NMOS transistor are commonly connected. Reader. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 프리차지 펄스발생부로부터 출력된 퓨즈 프리차지 펄스에 의해 주기적으로 접속노드(A1, A2)를 프리차지하는 프리차지부를 더 포함함을 특징으로 하는 반도체 메모리의 퓨우징정보 독출장치. And a precharge unit which periodically precharges the connection nodes A1 and A2 by the fuse precharge pulses output from the precharge pulse generator. 제3항에 있어서, 상기 래치부는,The method of claim 3, wherein the latch unit, 상기 제2 피모오스 트랜지스터의 드레인과 제5 엔모오스 트랜지스터의 드레인이 연결된 접속노드에 연결되는 제1 인버터와, A first inverter connected to a connection node to which the drain of the second PMOS transistor and the drain of the fifth NMOS transistor are connected; 상기 제1 인버터의 출력단에 연결된 제2 인버터를 포함함을 특징으로 하는 반도체 메모리의 퓨우징정보 독출장치.And a second inverter connected to an output terminal of the first inverter. 제4항에 있어서, 상기 지연부는,The method of claim 4, wherein the delay unit, 퓨즈커팅정보를 지연시키기 위한 제어신호에 응답하여 상기 제2 인버터의 출력로부터 출력되는 퓨즈커팅 정보를 지연출력하는 제1 노아게이트와, A first noble gate which delays the fuse cutting information output from the output of the second inverter in response to a control signal for delaying the fuse cutting information; 래치 프리차지 인에이블신호(PPRE_LAT)를 반전시켜 출력하는 제3 인버터와, A third inverter for inverting and outputting the latch precharge enable signal PPRE_LAT; 상기 제1 노아게이트의 출력단신호를 받아 상기 제3 인버터에 의해 반전된 래치 프리차지 인에이블신호(PPRE_LAT)에 의해 설정된 퓨즈 프리차지 횟수만큼 상기 퓨즈커팅정보를 지연시키기 위한 제어신호를 상기 제1 노아게이트로 출력하는 제2 노아게이트와, A control signal for delaying the fuse cutting information by the number of fuse precharges set by the latch precharge enable signal PPRE_LAT inverted by the third inverter in response to the output terminal signal of the first noah gate; A second noah gate output to the gate, 상기 제1 노아게이트의 출력신호를 반전시켜 퓨즈커팅 판별신호로 출력하는 제4 인버터를 포함함을 특징으로 하는 반도체 메모리의 퓨우징정보 독출장치. And a fourth inverter for inverting the output signal of the first NOR gate and outputting the fuse signal as a fuse cutting determination signal. 반도체 메모리장치의 퓨우징정보 독출방법에 있어서,In the fusing information reading method of a semiconductor memory device, 반복적인 퓨즈 프리차지 인에이블신호를 발생하는 단계와,Generating a repetitive fuse precharge enable signal; 상기 발생한 퓨즈 프리차지 인에이블신호에 의해 퓨즈 프리차지 및 퓨즈커팅 독출동작을 미리 설정된 횟수만큼 반복실행하여 퓨즈커팅 독출정보를 저장하는 단계와, Storing fuse cutting read information by repeatedly performing a fuse precharge and a fuse cutting read operation by a predetermined number of times by the generated fuse precharge enable signal; 상기 미리 설정된 횟수의 상기 퓨즈커팅 독출동작이 완료될 시 상기 퓨즈커 팅 독출정보를 출력하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 메모리의 퓨우징 정보 독출방법.And outputting the fuse cutting read information when the fuse cutting read operation of the preset number of times is completed.
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