KR20070041951A - Apparatus for vacuum processing - Google Patents

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Abstract

본 발명은 그 내부를 진공분위기로 형성시키고 기판에 소정의 처리를 실시할 수 있는 진공처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 진공 챔버를 챔버 본체와 상부 커버로 분리시켜 구비시키고, 상부 커버를 챔버본체로부터 용이하게 개폐할 수 있는 진공처리장치에 관한 것이다. The present invention relates to a vacuum processing apparatus capable of forming a vacuum atmosphere therein and performing a predetermined treatment on a substrate. More specifically, the vacuum chamber is separated into a chamber main body and an upper cover, and the upper cover is provided with a chamber. A vacuum processing apparatus that can be easily opened and closed from a main body.

본 발명은, 기판의 유출입이 가능하도록 게이트 밸브가 구비된 챔버 본체, 상기 챔버 본체의 상부에 탈부착 가능하게 마련된 상부커버를 구비한 처리장치에 있어서, 상기 상부 커버를 상기 게이트 밸브 배치 방향과 마주보는 방향으로 수평 이동 가능하게 지지하는 수평 구동부; 상기 상부 커버를 사이에 두고 상부 커버의 양 측에 배치되어 상하로 구동가능하며, 상기 수평 구동부의 수평이동 경로를 제공하는 상부커버 이동프레임; 상기 상부커버 이동프레임의 하측 다수 지점에 일정 간격을 두고 이격된 상태로 결합되어, 상기 상부커버 이동프레임 및 상부 커버를 상하 방향으로 승강시키는 다수개의 승강 구동부;를 포함하는 진공처리장치를 제공한다.The present invention relates to a processing apparatus including a chamber main body provided with a gate valve so as to enable flow in and out of a substrate, and an upper cover detachably provided on an upper portion of the chamber main body, the upper cover facing the gate valve arrangement direction. A horizontal driving unit supporting the horizontal movement in a direction; An upper cover moving frame disposed on both sides of the upper cover with the upper cover interposed therebetween, the upper cover moving frame providing a horizontal movement path of the horizontal driving unit; It is coupled to a plurality of spaced apart at a predetermined interval to the lower side of the upper cover moving frame, a plurality of lifting drive unit for lifting the upper cover moving frame and the upper cover in the vertical direction; provides a vacuum processing apparatus comprising a.

진공처리장치, 평판표시소자 제조장치, 상부커버, 챔버 본체 Vacuum processing device, flat panel display device manufacturing device, upper cover, chamber body

Description

진공처리장치{APPARATUS FOR VACUUM PROCESSING}Vacuum Processing Equipment {APPARATUS FOR VACUUM PROCESSING}

도 1은 종래의 진공처리장치의 각 챔버의 레이아웃을 도시하는 도면이다. 1 is a diagram showing the layout of each chamber of a conventional vacuum processing apparatus.

도 2는 진공처리장치의 내부 구조를 설명하는 모식 단면도이다. It is a schematic cross section explaining the internal structure of a vacuum processing apparatus.

도 3은 종래의 상부커버 개폐장치의 구조를 도시하는 사시도이다. Figure 3 is a perspective view showing the structure of a conventional top cover opening and closing device.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공처리장치의 구조를 나타내는 단면도이다. 4 is a cross-sectional view showing the structure of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공처리장치의 구조를 나타내는 사시도이다. 5 is a perspective view showing the structure of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 지지프레임의 구조를 도시하는 측면도이다. Figure 6 is a side view showing the structure of a support frame according to an embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공처리장치에서 상부커버를 개폐하는 과정을 도시하는 도면들이다. 7 is a view showing a process of opening and closing the top cover in the vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 그 내부를 진공분위기로 형성시키고 기판에 소정의 처리를 실시할 수 있는 진공처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 진공 챔버를 챔버 본체와 상부 커버로 분리시켜 구비시키고, 상부 커버를 챔버본체로부터 용이하게 개폐할 수 있는 진공처리장치에 관한 것이다. The present invention relates to a vacuum processing apparatus capable of forming a vacuum atmosphere therein and performing a predetermined treatment on a substrate. More specifically, the vacuum chamber is separated into a chamber main body and an upper cover, and the upper cover is provided with a chamber. A vacuum processing apparatus that can be easily opened and closed from a main body.

진공처리장치는 대부분 반도체 제조장치와 평판표시소자 제조장치에 사용된다. 반도체 제조장치 또는 평판표시소자(FPD Flat Panel Display) 제조장치는 내부에 기판을 반입시키고, 플라즈마 등을 이용하여 식각 등의 처리를 실시하는 데 사용된다. 이때 평판표시소자는, LCD, PDP, OLED 등을 말하며, 이러한 진공처리용 장치는 일반적으로 도 1에 도시된 바와 같이, 로드락(Loadlock) 챔버(R), 반송 챔버(T) 및 공정챔버(P)의 3개의 진공 챔버로 구성된다. Vacuum processing devices are mostly used in semiconductor manufacturing devices and flat panel display device manufacturing devices. BACKGROUND OF THE INVENTION A semiconductor manufacturing apparatus or a flat panel display (FPD) manufacturing apparatus is used to carry a substrate therein and to perform an etching process using plasma or the like. In this case, the flat panel display device refers to an LCD, a PDP, an OLED, and the like, and the vacuum processing apparatus generally includes a loadlock chamber (R), a transfer chamber (T), and a process chamber ( It consists of three vacuum chambers of P).

여기서 로드락 챔버(R)는 외부로부터 처리되지 않은 기판을 받아 들이거나 처리가 끝난 기판을 외부로 반출하는 역할을 하며, 반송 챔버(T)는 기판을 각 챔버들 간에 반송하기 위한 로봇이 구비되어 있어서 처리가 예정된 기판을 로드락 챔버에서 공정챔버로 전달하거나, 처리가 완료된 기판을 공정챔버에서 로드락 챔버로 전달하는 역할을 한다. 그리고 공정 챔버(P)에는 챔버 내에서 기판을 지지하기 위한 지지부재와, 상기 챔버 내에 처리 가스를 공급하기 위한 처리가스 공급계와, 챔버 내부를 배기함과 동시에 챔버 내부를 진공으로 설정하기 위한 배기계 등이 구비되어, 진공 중에서 플라즈마를 이용하거나 열 에너지를 이용하여 기판 상에 막을 성막하거나 에칭을 수행하는 역할을 한다. Here, the load lock chamber (R) serves to accept the unprocessed substrate from the outside or to take out the processed substrate to the outside, the transfer chamber (T) is provided with a robot for transferring the substrate between the chambers In this case, the substrate to be processed is transferred from the load lock chamber to the process chamber, or the processed substrate is transferred from the process chamber to the load lock chamber. The process chamber P includes a support member for supporting a substrate in the chamber, a process gas supply system for supplying a process gas into the chamber, and an exhaust system for evacuating the chamber and setting the chamber interior to a vacuum. Etc., and serves to form a film or etch a film on a substrate using a plasma or heat energy in a vacuum.

이때, 공정 챔버 내에서는 여러가지 공정가스나 플라즈마를 이용하므로 많은 수의 공정을 반복하는 경우에는 상기 공정 챔버 내의 장비들이 손상되거나 오염되어서 그 교체나 보수가 주기적으로 필요한 실정이다. 따라서, 공정 챔버는 도 2에 도시된 바와 같이, 공정 챔버(1)의 내부를 유지 보수할 수 있도록 챔버 본체(10)와 상부 커버(20)로 이루어지고, 공정챔버(1)의 상부 커버(20)를 개폐 가능하게 구성되는 것이 일반적이다. 이때 상부 커버(20)를 개폐시키는 방식으로는 공정 챔버(1)가 설치된 클린룸의 천장에 크레인을 마련하고, 그 크레인을 이용하여 상부 커버를 개폐하는 방식과, 공정 챔버에 개폐수단을 구비시키고, 그 개폐수단에 의하여 상부 커버를 개폐하는 방식이 있다. In this case, since various process gases or plasmas are used in the process chamber, when a large number of processes are repeated, equipment in the process chamber may be damaged or contaminated, and replacement or repair thereof is necessary periodically. Therefore, the process chamber is composed of a chamber body 10 and the upper cover 20 so as to maintain the interior of the process chamber 1, as shown in Figure 2, the upper cover of the process chamber ( 20) generally configured to be openable and openable. At this time, the method of opening and closing the upper cover 20 is provided with a crane in the ceiling of the clean room in which the process chamber 1 is installed, the method of opening and closing the upper cover using the crane, and the opening and closing means in the process chamber There is a way to open and close the top cover by the opening and closing means.

종래에 상부 커버(20)를 개폐하기 위한 일례로는 도 3에 도시된 바와 같이, 공정 챔버(1)의 외부에 상부 커버(20)를 개폐할 수 있는 개폐수단(50)을 구비하고, 그 개폐수단(50)에 의하여 상부커버(20)를 개폐한다. 이때 이 개폐수단(50)에는 상부 커버(20)를 수직방향으로 들어 올릴 수 있는 수작방향 구동기구와, 상부 커버(20)를 수평방향으로 이동시킬 수 있는 수평방향 구동기구와, 상부 커버(20)를 회전시킬 수 있는 회전기구가 마련되고, 이와 별도로 수평방향 구동기구의 이동 경로를 제공하는 수평이동 가이드(60)가 마련된다. As an example for opening and closing the upper cover 20 in the related art, as shown in FIG. 3, an opening and closing means 50 capable of opening and closing the upper cover 20 is provided outside the process chamber 1. The top cover 20 is opened and closed by the opening and closing means 50. In this case, the opening and closing means 50 includes a manual driving mechanism capable of lifting the upper cover 20 in a vertical direction, a horizontal driving mechanism capable of moving the upper cover 20 in a horizontal direction, and an upper cover 20. ) Is provided with a rotating mechanism capable of rotating, and a horizontal movement guide 60 for providing a movement path of the horizontal drive mechanism is provided separately.

이러한 개폐수단(50)을 사용하여 상부 커버(20)를 개폐하는 상부커버(20)의 개폐 과정을 살펴보면 다음과 같다. 먼저 개폐수단(50)에 구비되어 있는 수직 방향 구동기구에 의하여 상기 상부커버(20)를 소정 간격 만큼 수직 방향으로 들어 올린 후, 상부커버(20)가 들어 올려진 상태에서 수평 이동 가이드(60)를 이용하여 상부 커버를 수평방향으로 이동시킨다. 그리고 상부커버(20)가 완전히 수평방향으로 이동되면 상부커버(20)를 회전 기구에 의하여 180°회전시킨다. 이렇게 하여 공정 챔버(1)의 하부와 상부를 모두 개방시켜 공정 챔버(1) 내부의 각 장비를 교환하거나 보수하는 작업을 한다. Looking at the opening and closing process of the upper cover 20 for opening and closing the upper cover 20 by using the opening and closing means 50 as follows. First, the upper cover 20 is lifted in the vertical direction by a predetermined distance by the vertical direction driving mechanism provided in the opening and closing means 50, and then the horizontal movement guide 60 in the state where the upper cover 20 is lifted up. Use to move the top cover in the horizontal direction. And when the upper cover 20 is completely moved in the horizontal direction, the upper cover 20 is rotated by 180 ° by a rotating mechanism. In this way, the lower and upper portions of the process chamber 1 are opened to replace or repair the equipment inside the process chamber 1.

그러나 최근 평판표시소자 제조장치에 의하여 처리되는 기판이 대형화되면서 평판표시소자 제조장치의 진공챔버의 크기고 급격하게 대형화되고 있다. 따라서 최근의 진공 챔버에 있어서, 그 상부 커버(20)는 그 크기가 가로, 세로 3, 4m에 이를 뿐만아니라, 그 무게도 3, 4 톤이 넘는 상황이다. 그러므로 이렇게 무거운 대형 진공 챔버의 상부 커버를 상하 방향으로 들어올리기 위해서는 상하 방향 구동기구에 매우 큰 용량의 에어 실린더 등이 필요하고, 부피가 큰 대형 챔버의 상부 커버를 들어 올릴때 그 불안정성이 증가하여 진공 챔버 내부의 유지, 보수 작업이 매우 어려워지는 문제점이 있다. However, in recent years, as the substrate processed by the flat panel display device manufacturing apparatus has increased in size, the vacuum chamber of the flat panel display device manufacturing apparatus has rapidly increased in size. Therefore, in the recent vacuum chamber, the upper cover 20 is not only the size of the horizontal, vertical 3, 4m, but also the weight of more than 3, 4 tons. Therefore, in order to lift the upper cover of such a heavy large vacuum chamber in the up and down direction, a very large capacity air cylinder is required in the up and down driving mechanism, and the instability increases when lifting the upper cover of the large large chamber. There is a problem that the internal maintenance, repair work becomes very difficult.

본 발명의 목적은 상부 커버를 용이하게 개폐할 수 있는 대형 진공처리장치를 제공함에 있다. An object of the present invention to provide a large vacuum processing apparatus that can easily open and close the top cover.

전술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 기판의 유출입이 가능하도록 게이트 밸브가 구비된 챔버 본체, 상기 챔버 본체의 상부에 탈부착 가능하게 마련된 상부커버를 구비한 처리장치에 있어서, 상기 상부 커버를 상기 게이트 밸브 배치 방향과 마주보는 방향으로 수평 이동 가능하게 지지하는 수평 구동부; 상기 상부 커버를 사이에 두고 상부 커버의 양 측에 배치되어 상하로 구동가능하며, 상기 수평 구동부의 수평이동 경로를 제공하는 상부커버 이동프레임; 상기 상부커버 이동프레임의 하측 다수 지점에 일정 간격을 두고 이격된 상태로 결합되어, 상기 상부 커버 이동프레임 및 상부 커버를 상하 방향으로 승강시키는 다수개의 승강 구동부;를 포함하는 진공처리장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is a processing apparatus having a chamber body provided with a gate valve to enable the flow of the substrate, the upper cover is detachably provided on the upper portion of the chamber body, the upper cover is A horizontal driving unit supporting the horizontal movement in a direction facing the gate valve arrangement direction; An upper cover moving frame disposed on both sides of the upper cover with the upper cover interposed therebetween, the upper cover moving frame providing a horizontal movement path of the horizontal driving unit; It is coupled to a plurality of spaced apart at a predetermined interval to the lower side of the upper cover moving frame, a plurality of lifting drive unit for lifting the upper cover moving frame and the upper cover in the vertical direction; provides a vacuum processing apparatus comprising a.

이때 본 발명에서는, 상기 상부커버 이동프레임의 하측에 상기 상부커버 이동프레임과 평행하게 배치되며, 그 상부에 상기 다수개의 승강 구동부가 일정한 간격으로 배치되는 하측 프레임이 더 마련되며, 상기 다수개의 승강 구동부는 상기 하측 프레임 상에서 동시에 구동되어 상기 상부커버 이동프레임을 바닥면과 수평한 방향 상태에서 승강구동시키는 것이, 상부 커버의 균형을 유지한 상태에서 승강시킬 수 있어서 바람직하다. At this time, in the present invention, the lower cover is disposed in parallel with the upper cover moving frame on the lower side of the upper cover moving frame, the plurality of lifting drive unit is provided at a predetermined interval on the upper side, the plurality of lifting drive unit Is driven simultaneously on the lower frame to drive the upper cover moving frame in a horizontal direction with the bottom surface, it is preferable to raise and lower in a balanced state of the top cover.

그리고 본 발명에서, 상기 지지프레임은, 상기 상부커버 이동프레임과 동일한 높이에 배치되며, 상기 상부커버 이동프레임이 연장되는 방향에서 상기 상부 커버의 수평 이동을 안내하는 수평 프레임; 상기 수평 프레임을 상기 상부커버 이동프레임과 동일한 높이로 지지하는 수직 프레임; 상기 수평 프레임의 챔버 측 일단에 마련되며, 상기 지지프레임을 상기 상부커버 이동프레임에 접근시킬 때 상기 수평 프레임과 상부커버 이동프레임 사이의 간극을 메우는 간극 메움수단;을 포함하여 구성되는 것이, 상부 커버를 용이하게 지지할 수 있으며, 상부커버 이동프레임과 간극 없이 밀착하여 상부커버를 수취할 수 있어서 바람직하다. And in the present invention, the support frame is disposed at the same height as the upper cover moving frame, the horizontal frame for guiding the horizontal movement of the upper cover in the direction in which the upper cover moving frame extends; A vertical frame supporting the horizontal frame at the same height as the upper cover moving frame; And a gap filling means provided at one end of the chamber side of the horizontal frame to fill a gap between the horizontal frame and the upper cover moving frame when the support frame approaches the upper cover moving frame. It can be easily supported, it is preferable because the upper cover can be received in close contact with the upper cover moving frame without a gap.

그리고 상기 간극 메움수단은, 상기 수평 프레임에 힌지 결합하여 회동가능 한 구조를 가지며, And the gap filling means, has a structure rotatably coupled to the horizontal frame,

상기 간극 메움수단을 상하 방향으로 이동시키는 상하 구동부가 더 마련되는 것이, 상부커버 이동프레임과 수평 프레임 사이의 간극을 용이하게 메우면서도 상부커버 이동프레임과 수평 프레임 사이의 높이차를 용이하게 극복할 수 있어서 바람직하다. Further provided with a vertical drive unit for moving the gap filling means in the vertical direction, while easily filling the gap between the upper cover moving frame and the horizontal frame, can easily overcome the height difference between the upper cover moving frame and the horizontal frame. It is preferable.

그리고 본 발명에서는, 상기 지지프레임에, 상기 수직 프레임의 하단에 마련되며, 상기 수직 프레임과 바닥면 사이의 마찰력을 감소시켜 수직 프레임의 수평이동을 돕는 바퀴부가 더 마련되는 것이, 다양한 위치로 이동하면서 다수개의 진공처리장치의 유지 보수 작업을 진행할 수 있어서 바람직하다. And in the present invention, the support frame, which is provided at the lower end of the vertical frame, is further provided with a wheel portion to help the horizontal movement of the vertical frame by reducing the friction between the vertical frame and the bottom surface, while moving to various positions It is preferable to carry out maintenance work of a plurality of vacuum processing apparatuses.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 일 실시예를 상세하게 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a specific embodiment of the present invention.

본 실시예에 따른 진공처리장치도 로드락 챔버, 반송 챔버, 공정 챔버로 이루어진다. 다만, 여기에서는 설명의 편의를 위하여 하나의 공정 챔버를 가지고 설명한다. 본 실시예에 따른 진공처리장치(100)는, 도 4에 도시된 바와 같이, 챔버 본체(110); 상부 커버(120); 수평 구동부(130); 상부커버 이동프레임(140); 승강 구동부(150);를 포함하여 구성된다. The vacuum processing apparatus according to the present embodiment also includes a load lock chamber, a transfer chamber, and a process chamber. However, it is described here with one process chamber for convenience of description. Vacuum processing apparatus 100 according to the present embodiment, as shown in Figure 4, the chamber body 110; Upper cover 120; Horizontal driver 130; Upper cover moving frame 140; Lift driver 150 is configured to include.

먼저 본 실시예에 따른 진공처리장치(100)에는, 전체적으로 직육면체 형상인 챔버 본체(110)와 상기 챔버 본체(110) 상에 탈착가능하게 배치되는 상부 커버(120)로 구성되는 진공 챔버가 구비된다. 이 진공 챔버 내부에서는 대면적의 평판표시소자 기판이 처리되므로, 일반적으로 직사각형 기판과 호응되는 직육면체 형상을 가진다. 이 진공 챔버에는 챔버 내부를 진공상태로 만들기 위한 배기계(도면에 미도시)가 마련된다. 이 배기계의 동작에 의하여 챔버 내부를 진공으로 만든 상태에서 기판에 대한 처리공정이 진행된다. First, the vacuum processing apparatus 100 according to the present embodiment includes a vacuum chamber including a chamber main body 110 having an overall rectangular parallelepiped shape and an upper cover 120 detachably disposed on the chamber main body 110. . Since the large-area flat panel display substrate is processed inside this vacuum chamber, it generally has a rectangular parallelepiped shape compatible with a rectangular substrate. The vacuum chamber is provided with an exhaust system (not shown in the figure) for vacuuming the inside of the chamber. By the operation of the exhaust system, the substrate is processed in a state in which the inside of the chamber is vacuumed.

그리고 상기 챔버 본체(110)에는 챔버 내부로 기판을 반입하거나 챔버 내부의 기판을 외부로 반출하는 통로 역할을 하는 기판 출입구가 형성된다. 일반적으로 기판이 수평으로 누운 상태에서 횡방향으로 이동하여 반입되거나 반출되므로, 상기 기판 출입구는 상기 챔버 본체의 일 측벽을 관통하여 형성된다. 그리고 이 기판 출입구를 개폐하는 게이트 밸브가 마련된다. 기판 출입구는 기판의 반출입과정에서는 열린 상태를 유지하지만, 기판의 반입이 완료되고 처리공정이 진행되는 동안에는 차단되어야 한다. 따라서 상기 게이트 밸브가 상하로 이동하면서 상기 기판 출입구를 개폐하는 것이다. In addition, the chamber main body 110 is provided with a substrate entrance that serves as a passage for carrying a substrate into the chamber or for carrying the substrate inside the chamber to the outside. In general, since the substrate is moved horizontally while the substrate is horizontally laid down, the substrate entrance and exit is formed through one side wall of the chamber body. And a gate valve which opens and closes this board | substrate entrance and exit is provided. The substrate entrance and exit remains open during the loading and unloading process of the substrate, but should be blocked while the loading of the substrate is completed and the processing is in progress. Therefore, the gate valve is opened and closed while the gate valve moves up and down.

다음으로 수평 구동부(130)는, 상기 상부 커버(120)를 상기 게이트 밸브 배치 방향과 마주보는 방향으로 수평 이동 가능하게 지지하는 구성요소이다. 이 수평 구동부(130)는 도 4에 도시된 바와 같이, 다수개가 마련될 수도 있다. 다수개의 수평 구동부(130)가 마련되는 경우에는 고중량의 상부 커버(120)에 의한 하중을 서로 분담하므로 안정성이 높아지며, 상부 커버의 다수 지점을 지지하므로 상부 커버의 이동과정에서 상부 커버가 흔들리지 않아서 작업의 안정성이 높아지는 장점이 있다. Next, the horizontal driver 130 is a component that supports the upper cover 120 to be horizontally movable in a direction facing the gate valve arrangement direction. As shown in FIG. 4, the horizontal driving unit 130 may be provided in plural numbers. In the case where a plurality of horizontal driving units 130 are provided, the load is increased by sharing the load by the high weight upper cover 120 with each other, thereby increasing stability, and supporting the multiple points of the upper cover. There is an advantage of increasing the stability.

다음으로 상부커버 이동프레임(140)은, 상기 상부 커버(120)를 사이에 두고 상부 커버의 양 측에 배치되어 상하로 구동가능하며, 상기 수평 구동부(130)의 수평이동 경로를 제공하는 구성요소이다. 상부 커버를 개방하기 위한 회전 반경 확보를 위해서 상부 커버를 충분히 수평 이동시켜야 하는데, 이 상부커버 이동프레임이 그 이동 경로를 제공하는 것이다. Next, the upper cover moving frame 140 is disposed on both sides of the upper cover with the upper cover 120 interposed therebetween to drive up and down, and to provide a horizontal movement path of the horizontal driving unit 130. to be. In order to secure the radius of rotation for opening the top cover, the top cover must be moved sufficiently horizontally, and this top cover moving frame provides its movement path.

다음으로 승강 구동부(150)는, 상기 상부커버 이동프레임(140)의 하측 다수 지점에 일정 간격을 두고 이격된 상태로 결합되어, 상기 상부커버 이동프레임(140) 및 상부 커버(120)를 상하 방향으로 승강시키는 구성요소이다. 본 실시예에서는 상부 커버(120)를 직접 승강시키는 것이 아니라, 상부 커버(120)가 지지되어 있는 상부커버 이동프레임(140)을 승강시킴으로써, 하나의 대용량 실린더를 사용하는 것이 아니라, 다수개의 소용량 실린더를 사용하여 작업의 안정성을 높이는 장점이 있다. 따라서 본 실시예에서는 상기 승강 구동부(150)가 하나의 상부커버 이동프레임(140)에 다수개가 마련된다. 그리고 상기 상부커버 이동프레임(140)의 하측에 상기 상부커버 이동프레임과 평행하게 배치되며, 그 상부에 상기 다수개의 승강 구동부(150)가 일정한 간격으로 배치되는 하측 프레임(152)이 더 마련되며, 상기 다수개의 승강 구동부(150)는 상기 하측 프레임(152) 상에서 동시에 구동되어 상기 상부커버 이동프레임(140)을 바닥면과 평행한 상태에서 승강 구동시키는 것이 바람직하다. Next, the elevating driving unit 150 is coupled to a plurality of spaced apart spaces at a lower side of the upper cover moving frame 140 at a predetermined interval, and the upper cover moving frame 140 and the upper cover 120 in the up and down direction. It is a component to lift and lower. In the present embodiment, instead of elevating the upper cover 120 directly, by elevating the upper cover moving frame 140 on which the upper cover 120 is supported, a plurality of small capacity cylinders are not used. Using has the advantage of increasing the stability of the work. Therefore, in the present exemplary embodiment, a plurality of the elevating driving parts 150 are provided in one upper cover moving frame 140. Further, a lower frame 152 is disposed below the upper cover moving frame 140 in parallel with the upper cover moving frame, and the plurality of lifting drive parts 150 are disposed at regular intervals thereon. The plurality of lifting drive units 150 are driven simultaneously on the lower frame 152 to drive the upper cover moving frame 140 in a state parallel to the bottom surface.

그리고 상기 상부커버 이동프레임(140)은, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 상부 커버(120)에 대향하는 1차 부분(140a)과, 상기 상부 커버(120)를 지나서 수평 방향으로 연장하는 2차 부분(140b)을 포함하고, 상기 2차 부분(140b)은 상기 상부 커버의 측면을 향해 접힐 수 있는 구조를 가지는 것이 장치가 차지하는 면적을 줄일 수 있어서 바람직하다. And the upper cover moving frame 140, as shown in Figure 5, the first portion 140a facing the upper cover 120, and extends in the horizontal direction beyond the upper cover 120 It is preferable that the secondary portion 140b has a structure that can be folded toward the side of the upper cover, so as to reduce the area occupied by the device.

한편 본 실시예에 따른 진공처리장치(100)에는, 상기 챔버 본체(110)의 측방에 마련되며, 상기 상부커버 이동프레임(140)에 의하여 수평 이동되는 상부 커버(120)를 수취하는 지지프레임(170)이 더 마련될 수도 있다. 이렇게 별도로 지지프레임이 마련되는 경우에는 하나의 진공처리장치에 마련되는 다수개의 진공 챔버에 대하여 하나의 지지프레임을 가지고 대응할 수 있는 장점이 있다. 즉, 각 진공 챔버 마다 별도의 지지프레임을 구비하는 것이 아니라, 이동가능한 구조의 지지프레임을 사용하여 다수개의 진공 챔버에 대하여 하나의 지지프레임을 사용하는 것이다. On the other hand, in the vacuum processing apparatus 100 according to the present embodiment, provided on the side of the chamber body 110, the support frame for receiving the upper cover 120 which is horizontally moved by the upper cover moving frame 140 ( 170 may be further provided. When the support frame is provided separately, there is an advantage that the support frame can be coped with a plurality of vacuum chambers provided in one vacuum processing apparatus. That is, instead of providing a separate support frame for each vacuum chamber, a support frame of a movable structure is used to use one support frame for a plurality of vacuum chambers.

본 실시예에서는 이 지지프레임(170)을, 도 6에 도시된 바와 같이, 수평 프레임(172); 수직 프레임(174); 간극 메움수단(176);으로 구성한다. 먼저 수평 프레임(172)은, 상기 상부커버 이동프레임(140)과 동일한 높이에 배치되며, 상기 상부커버 이동프레임이 연장되는 방향에서 상기 상부 커버의 수평 이동을 안내하는 구성요소이다. 다음으로 수직 프레임(174)은, 상기 수평 프레임(172)을 상기 상부커버 이동프레임(140)과 동일한 높이로 지지하는 구성요소이다. 이 수직 프레임(174) 은 상기 수평 프레임의 높이를 상하 방향으로 조정할 수 있는 구조를 가지는 것이, 상기 상부커버 이동프레임과의 높이 차에 적응할 수 있어서 바람직하다. In this embodiment, the support frame 170, as shown in Figure 6, the horizontal frame 172; Vertical frame 174; It comprises a gap filling means 176. First, the horizontal frame 172 is disposed at the same height as the upper cover moving frame 140 and is a component that guides the horizontal movement of the upper cover in the direction in which the upper cover moving frame extends. Next, the vertical frame 174 is a component that supports the horizontal frame 172 at the same height as the upper cover moving frame 140. This vertical frame 174 preferably has a structure that can adjust the height of the horizontal frame in the vertical direction, it can be adapted to the height difference with the upper cover moving frame.

그리고 상기 간극 메움수단(176)은, 상기 수평 프레임(172)의 챔버 측 일단에 마련되며, 상기 지지프레임(170)을 상기 상부커버 이동프레임(140)에 접근시킬 때 상기 수평 프레임(172)와 상부커버 이동프레임(140) 사이의 간극을 메우는 구성요소이다. 상기 수평 프레임을 상부커버 이동프레임에 완전히 밀착시키는 것은 챔버의 외부에 마련된 여러가지 구성요소와 지지프레임 구조 상 매우 어렵다. 따라서 도 6에 도시된 바와 같이, 별도의 간극 메움수단(176)을 이용하여 수평 프레임(172)과 상부커버 이동프레임(140) 사이의 간극을 메우는 것이다. 본 실시예에서는 이 간극 메움수단(176)이, 상기 수평 프레임에 힌지 결합하여 회동가능한 구조를 가지도록 하여, 이동과정에서는 접혀 있다가, 사용과정에서는 회동하여 수평 프레임과 상부커버 이동프레임 사이의 간극을 메우도록 한다. And the gap filling means 176 is provided at one end of the chamber side of the horizontal frame 172, when the support frame 170 approaches the upper cover moving frame 140 and the horizontal frame 172 The gap covering the upper cover moving frame 140 is a component. Full contact of the horizontal frame to the upper cover moving frame is very difficult in terms of the structure of the support frame and the various components provided on the outside of the chamber. Therefore, as shown in Figure 6, by using a separate gap filling means 176 to fill the gap between the horizontal frame 172 and the upper cover moving frame 140. In the present embodiment, the gap filling means 176 is hinged to the horizontal frame to have a rotatable structure, and is folded in the moving process, and rotates in the use process, and then rotates in the use process to form a gap between the horizontal frame and the upper cover moving frame. Make sure you fill the

또한 상기 간극 메움수단에는, 상기 간극 메움수단을 상하 방향으로 이동시키는 상하 구동부가 더 마련되는 것이 바람직하다. In addition, the gap filling means is preferably further provided with a vertical drive unit for moving the gap filling means in the vertical direction.

그리고 본 실시예에 따른 지지프레임(170)에는, 상기 수직 프레임의 하단에 마련되며, 상기 수직 프레임와 바닥면 사이의 마찰력을 감소시켜 수직 프레임의 수평이동을 돕는 바퀴부(178)가 더 마련되는 것이, 지지프레임를 용이하게 이동시킬 수 있어서 바람직하다. In addition, the support frame 170 according to the present embodiment is provided at the lower end of the vertical frame, and further provided with a wheel portion 178 to reduce the friction between the vertical frame and the bottom surface to help the horizontal movement of the vertical frame. It is desirable to be able to easily move the support frame.

그리고 본 실시예에 따른 지지프레임(170)에는, 회전부(177)가 더 마련되는 것이 바람직하다. 이 회전부(177)는 상기 상부 커버(120)를 회전시키는 구성요소이 다. 본 실시예에서는 이 회전부(177)를, 상부 커버(120)를 사이에 두고, 상부 커버(120)의 양 측에 대향하게 배치하며, 상부 커버의 측벽 중앙부와 결합하여 상부 커버를 회전 가능하게 지지하도록 한다. 따라서 이 회전부는 상부 커버가 수평 구동부에 의하여 충분한 회전 반경을 확보한 상태로 이동되면, 상부 커버의 중앙부와 결합하여 상부커버를 회전시켜 상부 커버의 내부가 상측을 항햐도록 하여 유지 보수 작업이 용이하도록 한다. And the support frame 170 according to the present embodiment, it is preferable that the rotating unit 177 is further provided. The rotating part 177 is a component for rotating the upper cover 120. In this embodiment, the rotary part 177 is disposed opposite to both sides of the upper cover 120 with the upper cover 120 interposed therebetween, and the upper cover is rotatably supported in combination with the central portion of the side wall of the upper cover. Do it. Therefore, when the upper cover is moved in a state where the upper cover is secured by a sufficient horizontal radius, the upper cover is rotated in combination with the center portion of the upper cover so that the inside of the upper cover is facing the upper side to facilitate maintenance work. do.

또한 본 실시예에 따른 지지프레임(170)에는 지지프레임(170)을 챔버 본체(110)에 고정시키는 고정부(179)가 더 마련되는 것이 바람직하다. 이 고정부(179)는 상부 커버(120)의 수평 이동 및 회전 과정에서 지지프레임(170)이 챔버 본체(110)로부터 이격되는 것을 방지한다. 본 실시예에서는 이 고정부(179)를 고정 블럭(179a)과 고정핀(179b)로 구성한다. 따라서 한 쌍의 고정 블럭(179a)를 잘 맞춘 후, 고정핀(179b)를 고정블럭에 삽입하여 지지프레임을 고정시키는 것이다. In addition, the support frame 170 according to the present embodiment is preferably provided with a fixing portion 179 for fixing the support frame 170 to the chamber body 110. The fixing part 179 prevents the support frame 170 from being spaced apart from the chamber body 110 during the horizontal movement and rotation of the upper cover 120. In this embodiment, the fixing part 179 is composed of a fixing block 179a and a fixing pin 179b. Therefore, after fitting a pair of fixing blocks 179a, the fixing pin 179b is inserted into the fixing block to fix the support frame.

이하에서는 본 실시예에 따른 진공처리장치(100)에서 상부 커버(120)를 개폐하는 과정을 설명한다. Hereinafter, a process of opening and closing the upper cover 120 in the vacuum processing apparatus 100 according to the present embodiment will be described.

먼저 7a에 도시된 바와 같이, 다수개의 승강 구동부(150)를 동시에 구동시켜서 상부커버 이동프레임(140)을 약 10 ~ 1mm 정도 들어올린다. 그러면 이 상부커버 이동프레임(140)에 지지된 수평 구동부(130), 회전부(160) 및 상부 커버(120)도 함께 상승한다. 챔버 내부의 진공이 해제되면, 도 7b에 도시된 바와 같이, 수평 구동 부(130)를 구동시켜 상부 커버(120)를 수평 이동시킨다. 이때 지지프레임(170)를 사용하는 경우에는, 이 지지프레임(170)를 상기 상부커버 이동프레임(140)에 밀착되도록 배치하여야 한다. 상부 커버(120)가 회전할 수 있을 정도로 수평이동한 후에는, 도 7c에 도시된 바와 같이, 회전부(177)를 구동시켜 상부커버(120)를 180°회전시킨다. 그리고 상부커버의 유지보수 작업을 진행한다. 유지 보수 작업이 완료되면, 전술한 상부커버 개방 과정의 역순으로 상부커버를 다시 닫는다. First, as shown in 7a, by simultaneously driving the plurality of lifting drive unit 150 to lift the upper cover moving frame 140 by about 10 ~ 1mm. Then, the horizontal driving unit 130, the rotating unit 160, and the upper cover 120 supported by the upper cover moving frame 140 also rise together. When the vacuum inside the chamber is released, as illustrated in FIG. 7B, the horizontal cover 130 is driven to horizontally move the upper cover 120. At this time, in the case of using the support frame 170, the support frame 170 should be arranged to be in close contact with the upper cover moving frame 140. After horizontally moving to the top cover 120 to rotate, as shown in Figure 7c, by driving the rotating part 177 to rotate the top cover 120 180 °. Then proceed with the maintenance work of the top cover. When the maintenance work is completed, the top cover is closed again in the reverse order of the above-described top cover opening process.

본 발명에 따르면 대면적 기판을 처리하는 대형 진공처리장치에 있어서, 상부 커버에는 간이한 구조의 회전부와 수평 이동부만 구비하고, 챔버 본체를 간단한 구조에 의하여 승강시키는 구조를 구비함으로써, 용이하게 상부 커버를 개폐할 수 있는 장점이 있다. According to the present invention, in the large-sized vacuum processing apparatus for processing a large area substrate, the upper cover is provided with only a rotating part and a horizontal moving part of a simple structure, and has a structure for elevating the chamber body by a simple structure. There is an advantage that can open and close the cover.

Claims (9)

기판의 유출입이 가능하도록 게이트 밸브가 구비된 챔버 본체, 상기 챔버 본체의 상부에 탈부착 가능하게 마련된 상부커버를 구비한 처리장치에 있어서,In the processing apparatus having a chamber body having a gate valve to enable the flow of the substrate, the upper cover is detachably provided on the upper portion of the chamber body, 상기 상부 커버를 상기 게이트 밸브 배치 방향과 마주보는 방향으로 수평 이동 가능하게 지지하는 수평 구동부;A horizontal driving part supporting the upper cover to be horizontally movable in a direction facing the gate valve arrangement direction; 상기 상부 커버를 사이에 두고 상부 커버의 양 측에 배치되어 상하로 구동가능하며, 상기 수평 구동부의 수평이동 경로를 제공하는 상부커버 이동프레임;An upper cover moving frame disposed on both sides of the upper cover with the upper cover interposed therebetween, the upper cover moving frame providing a horizontal movement path of the horizontal driving unit; 상기 상부커버 이동프레임의 하측 다수 지점에 일정 간격을 두고 이격된 상태로 결합되어, 상기 상부커버 이동프레임 및 상부 커버를 상하 방향으로 승강시키는 다수개의 승강 구동부;를 포함하는 진공처리장치.And a plurality of lifting and lowering driving units coupled to be spaced apart from each other at a plurality of lower sides of the upper cover moving frame at predetermined intervals to elevate the upper cover moving frame and the upper cover in the vertical direction. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 상부커버 이동프레임의 하측에 상기 상부커버 이동프레임과 평행하게 배치되며, 그 상부에 상기 다수개의 승강 구동부가 일정한 간격으로 배치되는 하측 프레임이 더 마련되며, A lower frame is disposed below the upper cover moving frame in parallel with the upper cover moving frame, and the lower frame having the plurality of lifting drive units disposed at regular intervals thereon. 상기 다수개의 승강 구동부는 상기 하측 프레임 상에서 동시에 구동되어 상기 상부커버 이동프레임을 바닥면과 수평한 상태에서 승강구동시키는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.And the plurality of lifting drivers are simultaneously driven on the lower frame to drive the upper cover moving frame in a horizontal state with a bottom surface. 제2항에 있어서, 상기 상부커버 이동프레임은, The method of claim 2, wherein the upper cover moving frame, 상기 상부 커버에 대향하는 1차 부분과, 상기 상부 커버를 지나서 수평 방향으로 연장하는 2차 부분을 포함하고, 상기 2차 부분은 상기 상부 커버의 측면을 향해 접힐 수 있는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.And a primary portion facing the upper cover and a secondary portion extending in the horizontal direction beyond the upper cover, wherein the secondary portion is foldable toward the side of the upper cover. . 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 챔버 본체의 측방에 마련되며, 상기 상부커버 이동프레임에 의하여 수평 이동되는 상부 커버를 수취하는 지지프레임이 더 마련되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.It is provided on the side of the chamber body, the vacuum processing apparatus characterized in that the support frame for receiving the upper cover horizontally moved by the upper cover moving frame is further provided. 제4항에 있어서, 상기 지지프레임은, The method of claim 4, wherein the support frame, 상기 상부커버 이동프레임과 동일한 높이에 배치되며, 상기 상부커버 이동프레임이 연장되는 방향에서 상기 상부 커버의 수평 이동을 안내하는 수평 프레임;A horizontal frame disposed at the same height as the upper cover moving frame and guiding a horizontal movement of the upper cover in a direction in which the upper cover moving frame extends; 상기 수평 프레임을 상기 상부커버 이동프레임과 동일한 높이로 지지하는 수직 프레임;A vertical frame supporting the horizontal frame at the same height as the upper cover moving frame; 상기 수평 프레임의 챔버 측 일단에 마련되며, 상기 지지프레임을 상기 상부커버 이동프레임에 접근시킬 때 상기 수평 프레임과 상부커버 이동프레임 사이의 간극을 메우는 간극 메움수단;을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.And a gap filling means provided at one end of the chamber side of the horizontal frame to fill a gap between the horizontal frame and the upper cover moving frame when the support frame approaches the upper cover moving frame. Vacuum processing equipment. 제5항에 있어서, 상기 간극 메움수단은, The method of claim 5, wherein the gap filling means, 상기 수평 프레임에 힌지 결합하여 회동가능한 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.And a rotatable structure hinged to the horizontal frame. 제5항에 있어서, 상기 간극 메움수단에는, The method of claim 5, wherein the gap filling means, 상기 간극 메움수단을 상하 방향으로 이동시키는 상하 구동부가 더 마련되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.And a vertical driving part for moving the gap filling means in the vertical direction. 제5항에 있어서, The method of claim 5, 상기 수직 프레임의 하단에 마련되며, 상기 수직 프레임과 바닥면 사이의 마찰력을 감소시켜 수직 프레임의 수평이동을 돕는 바퀴부가 더 마련되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.It is provided on the bottom of the vertical frame, the vacuum processing apparatus characterized in that the wheel portion to further assist the horizontal movement of the vertical frame by reducing the friction between the vertical frame and the bottom surface. 제5항에 있어서, The method of claim 5, 상기 수평 프레임 상으로 이동해온 상부커버와 결합하여 회전시키는 회전부가 더 마련되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.And a rotating part which is combined with the upper cover which has moved on the horizontal frame to rotate.
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