KR20070040267A - 플라즈마 디스플레이 패널의 에이징 장치 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널의 에이징 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 에이징 장치에 관한 것으로, 본 발명은 에이징 장치의 전압 공급부를 연결한 하우징 내부에 불활성 가스 헬륨(He), 아르곤(Ar), 네온(Ne) 및 크세논(Xe)과 방전 촉진 가스인 수소(H2) 또는 질소(N2) 중 적어도 하나를 포함한 패닝 가스를 주입한 플라즈마 방전을 일으켜서 스퍼터링(Sputtring) 공법에 의해 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층이 안정화된다.
이와 같이, 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층의 표면이 깨끗한 상태이므로 이차방출계수도 향상되어 방전 특성도 개선되고 에이징 공정의 시간이 대폭 단축된다.
이러한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 장치에 있어서 복수의 전극이 형성되고 상기 복수의 전극 상에 소정의 층이 형성된 패널이 배치되는 하우징과 소정의 층을 에이징하기 위하여 하우징 내에 방전을 위한 패닝 가스를 주입하기 위한 가스 주입부 및 하우징 내에 가스 방전을 발생시키기 위하여 에이징 전압을 복수의 전극으로 공급하는 에이징 전압 공급부를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 에이징 장치{Device for Aging Plasma Display Panel}
도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 에이징 장치이다.
도 2는 본 발명에 있어서 에이징 장치를 이용하여 전면 패널을 형성하는 도.
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 순차적으로 나타낸 순서도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
101 : 에이징 장치 102 : 가스 주입부
103 : 전압 공급부 104 : 전면 패널
105 : 복수의 전극 106 : 보호층
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 더욱 자세하게는 플라즈마 디스플레이 제조 방법에 있어서 전면 패널과 후면 패널 합착 전에 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층을 에이징 장치를 이용하여 불안정한 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층을 안정화시키는 것에 관한 플라즈마 디스플레이 패널의 에이징 장치에 관한 것이다.
일방적으로, 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 패널과 후면 패널 사이에 형성된 격벽이 하나의 단위 셀을 이루는 것으로, 각 셀 내에는 네온(Ne), 헬륨(He) 또는 네온과 헬륨의 혼합기체(Ne+He)와 같은 주 방전 기체와 소량의 크세논(Xe)을 함유하는 불활성 가스가 충진되어 있다. 고주파 전압에 위해 방전이 될 때, 불활성 가스는 진공자외선(Vacuum Ultraviolet Rays)을 발생하고 격벽 사이에 형성된 형광체를 발광시켜 화상이 구현된다. 이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 얇고 가벼운 구성이 가능하므로 차세대 표시장치로 각광받고 있다.
이러한 종래의 플라즈마 디스플레이 패널은 제조 과정 중 전면 패널과 후면 패널을 합착하여 제작한다. 이때, 전면 패널과 후면 패널을 합착한 뒤 에이징 장치를 이용한 에이징 과정을 거쳐 플라즈마 디스플레이 패널이 제작되는 것이다.
또한, 에이징 장치를 이용한 에이징 과정은 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널과 후면 패널 사이에 형성된 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층과 형광체를 일정 수준까지 열화 시킴으로써 플라즈마 디스플레이 패널을 안정화시킨다. 이때, 전면 기판에 불안정하게 형성된 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층을 안정화시키기 위해서 에이징 방전을 실행한다. 이때, 에이징 방전 시간이 너무 오래 걸리는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명은 에이징 장치를 하우징에 연결하여 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 공정의 자유도를 증가시키고 에이징 방전 시간을 감소시키는데 목적이 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 장치에 있어서 복수의 전극이 형성되고 상기 복수의 전극 상에 소정의 층이 형성된 패널이 배치되는 하우징과 소정의 층을 에이징하기 위하여 하우징 내에 방전을 위한 패닝 가스를 주입하기 위한 가스 주입부 및 하우징 내에 가스 방전을 발생시키기 위하여 에이징 전압을 복수의 전극으로 공급하는 에이징 전압 공급부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 소정의 층은 상기 복수의 전극을 보호하는 보호막인 것을 특징으로 한다.
또한, 패닝 가스는 불활성 가스와 방전 촉진 가스의 혼합 가스인 것을 특징으로 한다.
또한, 패닝 가스는 헬륨(He), 아르곤(Ar), 네온(Ne) 및 크세논(Xe) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 방전 촉진 가스는 수소(H2) 또는 질소(N2) 중 적어도 하나인 것을 특징으로 한다.
또한, 패닝 가스의 기압은 대기압보다 낮은 것을 특징으로 한다.
이하에서는 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 보다 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 에이징 장치이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 에이징 장치는 하우징(101), 가스 주입부(102) 및 전압 공급부(103)를 포함한다.
하우징(101) 내에 복수의 전극이 형성된 전면 패널(104)이 배치된다. 또한, 하우징(101) 내에 배치된 전면 패널(104)에 복수의 전극(105)이 형성되는데, 복수의 전극(105)은 스캔 전극과 서스테인 전극으로 이루어진다. 스캔 전극과 서스테인 전극 각각은 ITO 물질로 이루어진 투명 전극과 금속 재질로 제작된 버스 전극을 포함한다. 또한, 전면 패널(104)에 복수의 전극(105) 상부에 유전체 층이 형성되고, 유전체 층 상부에 복수의 전극(105)을 보호하기 위하여 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층(106)이 형성된다.
가스 주입부(102)는 하우징(101) 내에 방전을 위한 가스를 주입하기 위한 것이다. 하우징 내에 방전을 위하여 불활성 가스인 패닝 가스(penning gas)를 주입한다. 불활성 가스인 패닝 가스는 헬륨(He), 아르곤(Ar), 네온(Ne) 및 크세논(Xe) 중 적어도 하나의 가스가 주입된다. 또한, 패닝 가스에 방전 촉진 가스인 질소(N2) 또는 수소(H2) 중 적어도 하나가 추가되어 주입될 수도 있다. 이때, 패닝 가스의 기압은 대기압보다 낮아야 한다.
에이징 전압 공급부(103)는 하우징(101) 내에 가스 방전을 발생시키기 위하여 복수의 전극(105)에 에이징 전압을 공급한다. 또한, 하우징(101)에 연결된 에이징 전압 공급부(103)는 하우징(101) 내에 충진되어 있는 불활성 가스인 패닝 가스 를 플라즈마 방전을 하기 위한 전압을 인가하기 위하여 하우징(101)에 연결된다.
에이징 전압 공급부(103)는 하우징(101) 내에 충진되어 있는 불활성 가스인 패닝 가스의 플라즈마 방전을 하기 위하여 전면 패널(104)에 형성되어있는 복수의 전극인 스캔 전극과 서스테인 전극 사이에서 면방전을 하기 위해서 에이징 전압을 인가한다.
이와 같이 에이징 장치를 이용하여 전면 패널에 형성된 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층을 안정화시키는 방법은 도 2를 참조하여 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명에 있어서 에이징 장치를 이용하여 전면 패널을 형성하는 도면이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 에이징 장치의 전압 공급부(103)가 하우징(101)에 연결된다. 또한, 가스 주입부(102)는 하우징(101)으로부터 돌출되어 있으며 하우징(101) 외부로부터 하우징(101) 내부로 가스를 주입하기 위한 홀(미도시)이 형성되어 있다. 또한 에이징 전압 공급부(103)는 하우징(101)의 내부에 전면 패널이 배치될 때 전면 패널(104)에 형성된 스캔 전극 및 서스테인 전극과 전기적으로 연결되어 방전을 위한 에이징 전압을 스캔 전극 및 서스테인 전극으로 교번되게 인가한다. 이 때, 전면 패널(104)은 자동 이송라인에 의해 운반되어 하우징(101) 내부에 배치된다.
또한, 하우징(101) 내부에는 진공상태에서 가스 주입부(102)를 통하여 주입된 패닝 가스가 채워져 있다. 패닝 가스는 불활성 가스와 방전 촉진 가스의 혼합 가스이다. 불활성 가스는 헬륨(He), 아르곤(Ar), 네온(Ne) 및 크세논(Xe) 중 적어 도 하나의 가스로 이루어진다. 방전 촉진 가스는 수소(H2) 또는 질소(N2) 중 적어도 하나의 가스로 이루어진다. 이러한 방전 촉진 가스는 불활성 가스의 방전을 촉진하여 에이징이 보다 원활하게 이루어질 수 있도록 한다. 이 때 하우징(101) 내부에 채워져 있는 패닝 가스의 기압은 대기압보다 낮다.
또한, 소정의 전압으로 패닝 가스의 플라즈마 방전을 일으키기 위하여 에이징 장치의 전압 공급부(103)는 하우징(101) 내부에 배치된 전면 패널(104)의 스캔 전극 및 서스테인 전극에 연결된다.
이때, 방전 촉진 가스가 불활성 가스와 더블어 하우징(101)의 내부에 주입되면 패닝 가스의 플라즈마 방전이 쉬워져서 상대적으로 작은 전압만으로도 플라즈마 방전이 이루어진다.
또한, 앞에 설명한 불활성 가스인 패닝 가스를 사용하여 플라즈마 방전을 하는 이유는 전면 패널(104)에 형성된 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층을 안정화시키기 위하여 플라즈마 방전을 한다.
즉, 전면 패널(104)에 스캔 전극 또는 서스테인 전극을 포함한 복수의 전극(105) 상부에 상부 유전체 층이 형성되고, 유전체 층 상부에 복수의 전극(105)을 보호하기 위한 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층(106)이 형성된다.
이때, 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층(106)은 불안정하게 형성되어있다. 불안정하게 형성된 보호층(106)을 안정화시키기 위하여 하우징(101) 내부에 형성된 불활성 가스인 패닝 가스를 에이징 장치의 전압 공급부(103)에서 소정의 전 압을 인가하여 플라즈마 방전을 일으킴으로써 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층(106)은 스퍼터링(Sputtering) 공법에 의해서 안정화가 된다.
전면 패널(101)에 형성된 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층(106)은 하우징(101) 내부에서 안정화되어 자동 이송라인을 따라 배출된다.
이와 같이, 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층의 표면이 깨끗한 상태이므로 이차방출계수도 향상되어 방전 특성도 개선되고 에이징 공정의 시간이 대폭 단축된다.
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 순차적으로 나타낸 순서 도이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은 도 3의 좌측에 나열된 전면 패널 제조 과정과, 우측에 나열된 후면 패널 제조 과정 및 하측에 나열된 실링 과정 등을 포함한 조립 과정을 포함한다.
먼저, 도 3의 좌측에 나열된 전면 패널 제조 과정을 설명하면 다음과 같다. 먼저 준비된 전면 글라스(S201)에 스캔 전극과 서스테인 전극은 각각 ITO 물질로 이루어진 투명 전극과 금속 재질로 제작된 버스 전극을 포함하여 형성된다(S202). 이 후, 스캔 전극과 서스테인 전극을 포함한 복수의 전극 상부에 유전체 층이 형성되고(S203), 복수의 유지전극쌍을 보호하기 위하여 상부 유전체 층 상부에 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층이 형성된다(S204). 상부 유전체 층 상부에 형성된 보호층은 불안정하게 형성되어 있다. 이때, 불안정하게 형성된 보호층은 본 발명의 에이징 장치를 이용하여 에이징 공정을 실시 한다(S205).
이어서, 도 3의 우측에 나열된 후면 패널 제조 과정을 설명하면 다음과 같다. 후면 패널은 전면 패널과 마찬가지로 먼저 준비된 후면 글라스를 준비하고(S206), 전면 패널에 형성된 스캔 전극과 서스테인 전극을 포함한 복수의 전극과 교차하여 대향 되도록 복수의 어드레스 전극이 후면 글라스에 형성된다(S207). 이 후, 어드레스 전극 상면에 하부 유전체 층이 형성되고(S208), 하부 유전체 층 상면에 형광체 층이 형성된다(S209).
이와 같이 제조된 전면 패널과 후면 패널은 서로 실링 되어(S210) 플라즈마 디스플레이 패널(S211)을 형성한다.
이와 같이, 전면 패널과 후면 패널은 합착 전 전면 패널에 형성된 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층에 먼저 에이징 장치를 이용하여 에이징 공정을 실시함으로써 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 공정이 단축된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서는 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
이상에서 보는 바와 같이, 본 발명은 에이징 장치의 전압 공급부를 연결한 하우징 내부에 불활성 가스 헬륨(He), 아르곤(Ar), 네온(Ne) 및 크세논(Xe)과 방전 촉진 가스인 수소(H2) 또는 질소(N2) 중 적어도 하나를 포함한 패닝 가스를 주입한 하우징 내부에서 플라즈마 방전을 일으켜 스퍼터링(Sputtring) 공법에 의해 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층이 안정화된다.
이와 같이, 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층의 표면이 깨끗한 상태이므로 이차방출계수도 향상되어 방전 특성도 개선되고 에이징 공정의 시간이 대폭 단축된다.

Claims (6)

  1. 복수의 전극이 형성되고 상기 복수의 전극 상에 소정의 층이 형성된 패널 이 배치되는 하우징;
    상기 소정의 층을 에이징하기 위하여 상기 하우징 내에 방전을 위한 패닝 가스를 주입하기 위한 가스 주입부; 및
    상기 하우징 내에 가스 방전을 발생시키기 위하여 에이징 전압을 상기 복수의 전극으로 공급하는 에이징 전압 공급부
    를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 에이징 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 소정의 층은 상기 복수의 전극을 보호하는 보호막인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 에이징 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 패닝 가스는 불활성 가스와 방전 촉진 가스의 혼합 가스인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 에이징 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 패닝 가스는
    헬륨(He), 아르곤(Ar), 네온(Ne) 및 크세논(Xe) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 에이징 장치.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 방전 촉진 가스는 수소(H2) 또는 질소(N2) 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 에이징 장치.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 패닝 가스의 기압은 대기압보다 낮은 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 에이징 장치.
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