KR20070018850A - Oxime ester compound, photopolymerizable composition and color filter utilizing the same - Google Patents

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Abstract

특정 구조를 갖는 옥심 에스테르 화합물이 제공된다. 특히, 상기 옥심 에스테르 화합물은 (a) 흑색 색 재료, (b) 유기 결합제 및 (c) 광중합 개시제를 함유하는 광중합성 조성물에서, 상기 성분 (c) 를 구성한다.An oxime ester compound having a specific structure is provided. In particular, the oxime ester compound constitutes component (c) in a photopolymerizable composition containing (a) a black material, (b) an organic binder and (c) a photopolymerization initiator.

상기 옥심 에스테르 화합물은 고감도 광중합 개시제로서 사용할 수 있다. 상기 옥심 에스테르 화합물을 함유하는 광중합성 조성물은 박막 형태에서 고 차광성을 나타내면서 감도 및 해상성이 우수하여, 저 비용으로 고 품질의 수지 흑색 매트릭스 (BM) 를 형성시킬 수 있다. 상기 수지 BM 을 사용한 컬러 필터는 정밀도, 평탄성 및 내구성이 우수하여, 액정 소자의 표시 품위를 향상시킬 수 있다. 또한, 제조 공정 및 컬러 필터 자체는 유해 물질을 함유하지 않아서, 인체에 대한 위험성을 저감할 수 있으며 환경 안정성을 향상시킬 수 있다. 또한, 포토 스페이서 또는 리브 (액정 분할 배향 돌기) 와 같이, 색 재료를 사용하지 않는 용도에도 응용 가능하다.The said oxime ester compound can be used as a high sensitivity photoinitiator. The photopolymerizable composition containing the oxime ester compound exhibits high light shielding properties in the form of a thin film and is excellent in sensitivity and resolution, thereby forming a high quality resin black matrix (BM) at low cost. The color filter using the said resin BM is excellent in precision, flatness, and durability, and can improve the display quality of a liquid crystal element. In addition, the manufacturing process and the color filter itself do not contain harmful substances, so that the risk to the human body can be reduced and the environmental stability can be improved. Moreover, it is applicable also to the use which does not use a color material like a photo spacer or a rib (liquid crystal division orientation protrusion).

Description

옥심 에스테르 화합물, 광중합성 조성물 및 이것을 사용한 컬러 필터 {OXIME ESTER COMPOUND, PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION AND COLOR FILTER UTILIZING THE SAME}Oxime ester compound, photopolymerizable composition and color filter using same {OXIME ESTER COMPOUND, PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION AND COLOR FILTER UTILIZING THE SAME}

본 발명은 광중합 개시제로서 유용한 옥심 에스테르 화합물 및 이것을 함유하는 광중합성 조성물에 관한 것이다. 더욱 구체적으로는, 본 발명은 예를 들어, 컬러 텔레비젼, 액정 표시 소자, 고체 촬상 소자 및 카메라에 사용되는 광학적 컬러 필터의 제조에 사용되는 컬러 필터용 광중합성 조성물, 및 상기 조성물로부터 수득되는 컬러 필터에 유효하고, 또한 본 발명은 고 감도 및 우수한 해상성 뿐만 아니라 고 차광성을 갖는 흑색 매트릭스 (black matrix, 이하, BM 으로 약칭함) 의 제조에 적합한 컬러 필터용 광중합성 조성물, 및 고 차광성을 가지는 고 정밀 수지 BM 을 갖는 컬러 필터에 관한 것이다.The present invention relates to oxime ester compounds useful as photopolymerization initiators and to photopolymerizable compositions containing them. More specifically, the present invention is, for example, a photopolymerizable composition for color filters used in the production of optical color filters used in color televisions, liquid crystal display devices, solid-state imaging devices and cameras, and color filters obtained from the compositions. The present invention is also effective in, and the present invention is a photopolymerizable composition for color filters suitable for the production of a black matrix (hereinafter abbreviated as BM) having high light blocking property as well as high sensitivity and excellent resolution, and high light blocking property The branch relates to a color filter having a high precision resin BM.

또한, 본 발명에 따른 옥심 에스테르 화합물은 고 감도의 광중합 개시제이며, 따라서 그 용도가 BM 으로 한정되지 않고, 예를 들어 포토 스페이서 또는 리브 (액정 분할 배향 돌기) 용의, 색 재료를 사용하지 않는 투명한 감광성 조성물에 이용 가능하며, 다양한 기술 분야에 광범위하게 이용될 수 있다.In addition, the oxime ester compound according to the present invention is a high sensitivity photopolymerization initiator, and therefore its use is not limited to BM, and is transparent, for example, without using a color material for photo spacers or ribs (liquid crystal division orientation protrusions). It can be used in photosensitive compositions and can be widely used in various technical fields.

컬러 필터는 통상 유리 또는 플라스틱 시이트와 같은 투명 기판의 표면에 흑 색 매트릭스를 형성시키고, 이어서 예를 들어 적색, 녹색 및 청색의 3 가지 이상의 상이한 색상을 순차적으로 스트라이프 또는 모자이크의 색 패턴으로 형성시킴으로써 형성된다. 패턴 크기는 컬러 필터의 용도 및 색에 따라 다르며, 통상 5 내지 700 ㎛ 정도이다. 또한, 중첩 위치 정확도는 수 ㎛ 내지 수십 ㎛ 이며, 컬러 필터는 치수 정확도가 높은 미세가공 기술에 의해 제조된다.Color filters are typically formed by forming a black matrix on the surface of a transparent substrate, such as a glass or plastic sheet, and then sequentially forming, for example, three or more different colors of red, green and blue in a color pattern of stripes or mosaics. do. The pattern size depends on the use and color of the color filter and is usually on the order of 5 to 700 μm. In addition, the overlap position accuracy is several micrometers to several tens of micrometers, and a color filter is manufactured by the microfabrication technique with high dimensional accuracy.

컬러 필터의 대표적인 제조 방법으로는, 염색법, 인쇄법, 안료 분산법, 전착법 등이 언급될 수 있다. 이들 중에서, 특히, 색 재료를 함유하는 광중합성 조성물을 투명 기판상에 도포하고, 화상 노광, 현상 및 필요에 따라, 경화를 반복 수행하여 컬러 필터 화상을 형성시키는 안료 분산법은, 컬러 필터 화소의 위치, 막 두께 등의 정밀도가 높은 경향이 있고, 내광성 및 내열성과 같은 우수한 내구성이 수득되며, 핀홀과 같은 결함이 형성될 가능성이 적기 때문에, 광범위하게 사용된다.As a typical manufacturing method of a color filter, a dyeing method, a printing method, a pigment dispersion method, an electrodeposition method, etc. can be mentioned. Among these, the pigment dispersion method which apply | coats the photopolymerizable composition containing a color material on a transparent board | substrate, and repeatedly performs image exposure, image development, and as needed, and forms a color filter image is a color filter pixel. It is widely used because it tends to have high precision in position, film thickness and the like, excellent durability such as light resistance and heat resistance is obtained, and defects such as pinholes are less likely to be formed.

일반적으로, BM 은 적색, 녹색 및 청색의 색 패턴 사이에 격자, 스트라이프 또는 모자이크로 배치되며, 각각의 색의 색 혼합을 억제함으로써 콘트라스트를 향상시키거나 또는 빛 누출로 인한 박막 트랜지스터 (TFT) 의 오작동을 방지하는 역할을 한다. 따라서, BM 은 고 차광성을 갖는 것이 요구된다. 지금까지, BM 은 예를 들어 크롬의 금속막으로 형성하는 것이 일반적이었다. 이 수법은 투명 기판상에 크롬과 같은 금속을 증착시키고, 포토리소그래피 공정에 의해서 크롬층을 에칭하는 것이다. 따라서, 얇은 막 두께로 고 차광성이 고 정밀도로 수득될 수 있다. 반면, 상기 수법은 긴 제조 공정을 포함하고, 생산성이 불량하여 비용이 많이 들며, 또한 에칭 처리시의 폐수 등으로 인한 환경 문제를 야기할 수 있다.In general, BMs are arranged in grids, stripes, or mosaics between red, green, and blue color patterns, improving the contrast by suppressing the color mixing of each color, or malfunctioning thin film transistors (TFTs) due to light leakage. Serves to prevent. Therefore, BM is required to have high light shielding property. Until now, it was common to form BM with the metal film of chromium, for example. This technique deposits a metal such as chromium on a transparent substrate and etches the chromium layer by a photolithography process. Therefore, high light-shielding property can be obtained with high precision with a thin film thickness. On the other hand, the above method involves a long manufacturing process, is poor in productivity and expensive, and may also cause environmental problems due to waste water during etching and the like.

따라서, 차광성 안료 또는 염료를 분산시킨 감광성 수지로부터 저비용으로 무공해 수지 BM 을 형성시키는 수법이 활발하게 연구되었다. 그러나, 수지 BM 은 후술하는 문제를 가짐으로써, 아직 실용화되지 못했다. 수지 BM 이 예를 들어 크롬의 금속막에 의해 형성된 BM 과 동등한 차광성 (광학 농도) 을 갖도록 하기 위해서는, 차광성 안료, 염료 등의 함량을 증가시키거나, 또는 막 두께를 증가시키는 것이 필요하다.Therefore, the method of forming pollution-free resin BM at low cost from the photosensitive resin which disperse | distributed the light-shielding pigment or dye was actively researched. However, since resin BM has the problem mentioned later, it has not been put to practical use yet. In order for the resin BM to have a light shielding property (optical density) equivalent to that of the BM formed, for example, by the metal film of chromium, it is necessary to increase the content of the light shielding pigment, dye, or the like, or increase the film thickness.

막 두께를 증가시키는 방법에서는, BM 의 불규칙성의 영향으로 인해, BM 상에 형성되는 RGB 의 착색 화소의 평탄성이 손상될 것이다. 따라서, 액정 셀 갭이 불균일하게 되는 경향이 있거나 또는 액정의 배향이 방해를 받는 경향이 있어, 표시 능력이 저하될 것이다. 게다가, 이러한 문제는 또한 컬러 필터상에 형성된 투명 전극 ITO (인듐 주석 산화물) 막의 단선 (평면 막의 파손) 을 발생시킬 수 있다.In the method of increasing the film thickness, the flatness of RGB colored pixels formed on the BM will be impaired due to the influence of the irregularities of the BM. Therefore, the liquid crystal cell gap tends to be nonuniform or the alignment of the liquid crystal tends to be disturbed, so that the display capability will be lowered. In addition, this problem can also cause disconnection (breakage of the planar film) of the transparent electrode ITO (indium tin oxide) film formed on the color filter.

또한, 차광성 안료 또는 염료의 함량을 증가시키는 방법에서는, 감광성 수지 (흑색 레지스트) 의 감도, 현상성, 해상성, 밀착성 등이 악화될 수 있으며, 생산성이 저하될 뿐만 아니라, 컬러 필터에 요구되는 정밀도 및 신뢰성이 수득되지 않을 것이다. 즉, 고 차광성의 박막 형태에서 감도 및 해상성을 발휘할 수 있는 감광성 재료는 아직 실현되지 않았으며, 이는 수지 BM 의 실용화를 저지한다.In addition, in the method of increasing the content of light-shielding pigments or dyes, the sensitivity, developability, resolution, adhesiveness, etc. of the photosensitive resin (black resist) may be deteriorated, and the productivity is not only reduced, but also required for the color filter. Precision and reliability will not be obtained. That is, a photosensitive material capable of exhibiting sensitivity and resolution in a high light-shielding thin film form has not yet been realized, which hinders practical use of the resin BM.

종래, 일반적 감광성 수지 또는 컬러 필터용 착색 감광성 조성물과 같은 특정의 광 투과성을 갖는 감광성 수지에 대해서는, 감도 및 해상성을 개선하는 수법 이 알려져 있다. 예를 들면, 안료를 분산시킨 컬러 필터용 착색 조성물로서, 결합제 수지, 다관능 아크릴 단량체 및 트리아진 화합물을 포함하는 개시제를 함유하는 감광성 조성물이 알려져 있다 (특허 문헌 1 내지 4). 또한, 개시제가 비스이미다졸인 유사한 조성물이 알려져 있다 (특허 문헌 5 및 6). 그러나, 상기 문헌에 기재된 조성물은 공기중에서 노광시키는 경우에 산소에 의한 중합이 저지되어, 실용적인 감도를 수득할 수 없다.Conventionally, the method of improving a sensitivity and the resolution is known about the photosensitive resin which has specific light transmittance like general photosensitive resin or the coloring photosensitive composition for color filters. For example, as a coloring composition for color filters which disperse | distributed a pigment, the photosensitive composition containing the initiator containing a binder resin, a polyfunctional acrylic monomer, and a triazine compound is known (patent documents 1-4). Similar compositions are also known in which the initiator is bisimidazole (Patent Documents 5 and 6). However, the composition described in the above document inhibits polymerization by oxygen when exposed in air, and practical sensitivity cannot be obtained.

수지 BM 의 경우와 같이 빛의 모든 파장 영역에서 차광 능력이 요구되는 경우에는, (1) 노광 부분과 미노광 부분 간에 가교 밀도 차이를 만드는 것이 매우 곤란하고, (2) 노광 부분에서도 막 두께 방향에서 가교 밀도 차이가 있으며, 즉 광 조사 표면에서 충분한 경화를 달성하는 경우에도, 기저면에서는 경화가 수행되지 않고, (3) 현상액에 불용성인 다량의 흑색 색 재료를 배합하기 때문에 현상성이 현저하게 저하되는 것과 같이, 감광 특성을 부여하는데 현저한 장애가 있다.In the case where light shielding ability is required in all wavelength ranges of light as in the case of resin BM, it is very difficult to make a crosslinking density difference between the exposed portion and the unexposed portion, and (2) in the film thickness direction even in the exposed portion. There is a difference in crosslinking density, i.e., even when sufficient curing is achieved on the light irradiation surface, hardening is not performed on the base surface, and (3) developability is remarkably decreased because a large amount of insoluble black material is added to the developing solution. As such, there is a significant obstacle to imparting photosensitive properties.

특히, 상기 현상 (1) 및 (2) 는 서로 상반되며, 노광 부분이 더욱 경화되는 조성에 의해 막 두께 방향에서의 경화 밀도 차이가 보다 현저하게 되므로, 해상력이 저하된다. 또한, 노광 부분과 미노광 부분의 가교 밀도 차이 및 노광 부분의 경화 밀도를 균일하게 할 수 없는 경우에는, 높은 용해력을 갖는 현상액의 사용이 곤란한 경향이 있어, 현상성의 개량도 곤란하게 되는 경향이 있다. 종래 공지된 수지 BM 형성용 감광성 조성물 (예를 들면, 특허 문헌 7 및 8) 은 이러한 상황을 회피하는 것이며, 금속 BM 과 동일한 차광성을 갖는 수지 BM 을 형성시키지 않으나, 어느 정도 광 투과시킴으로써 감광력을 갖는 수지 BM 을 형성하므로, 차광 능력이 현저하게 저하되고, 실용적이지 못하다. 따라서, 저 차광성의 두꺼운 막 형태의 수지 BM 을 일단 형성시키고 경화시켜 수축시킴으로써 수득한 고 차광성의 박막 형태의 수지 BM 도 제안되었다 (특허 문헌 9). 그러나, 이러한 수지는 공정이 복잡하고, 막 수축 동안에 뒤틀림의 축적으로 인해 밀착성이 저하되는 경향이 있기 때문에 실용적이지 못하다. 따라서, 본래 광 반응과 상반되는 차광 조건하에서 광 반응을 일으키는 일견 모순되는 과제로 인해 실용적인 수지 BM 의 실현은 곤란하였다.In particular, the above developments (1) and (2) are mutually opposite, and since the difference in curing density in the film thickness direction becomes more remarkable by the composition in which the exposed portion is further cured, the resolution is lowered. In addition, when the difference in crosslinking density between the exposed portion and the unexposed portion and the curing density of the exposed portion cannot be made uniform, the use of a developer having a high solvent power tends to be difficult, and the improvement of developability also tends to be difficult. . Conventionally known photosensitive compositions for resin BM formation (for example, Patent Documents 7 and 8) avoid such a situation, and do not form resin BM having the same light shielding properties as metal BM, but the photosensitive ability by light transmission to some extent Since resin BM which has a form is formed, light-shielding ability falls remarkably and it is not practical. Therefore, the resin BM of the high light-shielding thin film form obtained by forming, hardening and shrinking the resin BM of the low light-shielding thick film form once was also proposed (patent document 9). However, such resins are not practical because the process is complicated and the adhesion tends to be lowered due to the accumulation of distortion during film shrinkage. Therefore, the practical resin BM was difficult due to the seemingly contradictory problem of causing the photoreaction under the light-shielding conditions incompatible with the original photoreaction.

또한, 광중합 개시제로서 특정의 옥심 에스테르 화합물을 사용하는 기술이 공지되어 있다 (특허 문헌 10). 그러나, 종래의 수지 BM 에 사용된 개시제 (예컨대, 비스이미다졸 또는 트리아진 개시제) 를 단지 옥심 화합물로 치환함으로써는, 수지 BM 에 요구되는 화상 특성, 즉 감도 및 해상성을 개선할 수 없다.Moreover, the technique of using a specific oxime ester compound as a photoinitiator is known (patent document 10). However, by simply replacing the initiator (for example, bisimidazole or triazine initiator) used in the conventional resin BM with an oxime compound, the image characteristics required for the resin BM, i.e., sensitivity and resolution cannot be improved.

또한, 고감도 광중합성 조성물은 흑색 안료를 갖는 BM 뿐만 아니라, 적색, 녹색 및 청색 화소 형성용 조성물, 포토 스페이서용 조성물, 리브용 조성물 등에 광범위하게 요구되며, 그의 기술상의 문제점은 주로 광중합 개시제의 선택에 있다.In addition, high-sensitivity photopolymerizable compositions are widely required not only for BM having a black pigment, but also for compositions for forming red, green and blue pixels, compositions for photo spacers, compositions for ribs, and the like. have.

특허 문헌 1: JP-A-1-152449Patent Document 1: JP-A-1-152449

특허 문헌 2: JP-A-1-254918Patent Document 2: JP-A-1-254918

특허 문헌 3: JP-A-2-153353Patent document 3: JP-A-2-153353

특허 문헌 4: JP-A-2-804Patent Document 4: JP-A-2-804

특허 문헌 5: JP-A-6-75372Patent Document 5: JP-A-6-75372

특허 문헌 6: JP-A-6-75373Patent Document 6: JP-A-6-75373

특허 문헌 7: JP-A-6-51499Patent Document 7: JP-A-6-51499

특허 문헌 8: JP-A-6-3518Patent Document 8: JP-A-6-3518

특허 문헌 9: JP-A-8-44050Patent Document 9: JP-A-8-44050

특허 문헌 10: JP-A-2000-80068Patent Document 10: JP-A-2000-80068

발명이 해결하고자 하는 과제Problems to be Solved by the Invention

본 발명은 상기 문제점을 해결하고, 고 차광성을 갖는 박막 형태의 패턴을 포토리소그래피에 의해서 용이하게 형성할 수 있는, 충분한 감도 및 해상성을 갖는 레지스트 재료를 제공하는 것이며, 이는 컬러 필터의 수지 BM 을 저 비용, 높은 정밀도로 제조 가능하게 한다. 또한, 상기 수지를 사용하여 제조한 컬러 필터를 사용하는 액정 표시 장치는 콘트라스트와 같은 표시 능력이 우수하다. 또한, 본 발명에 따르면, 수지를 BM 에 사용함으로써, 고화질의 무공해 컬러 필터를 수득할 수 있다.The present invention solves the above problems and provides a resist material having sufficient sensitivity and resolution, which can easily form a thin film pattern having high light blocking property by photolithography, which is a resin BM of a color filter. It can be manufactured at low cost and with high precision. Moreover, the liquid crystal display device using the color filter manufactured using the said resin is excellent in the display capability like contrast. In addition, according to the present invention, by using the resin for BM, a high-quality, pollution-free color filter can be obtained.

또한, 최근에, 컬러 필터에 요구되는 "고 농도" 를 달성하기 위해서는, 사용하는 착색 조성물 중의 색 재료 농도를 증가시키는 것이 필요하였다. 반면, 상기 착색 수지 조성물의 광 투과성은 저하되기 때문에, 화상 형성 성능을 유지하고 향상시키기 위해서는, 고감도를 갖는 광중합성 재료가 요구되었다. 본 발명은 상기 과제를 해결한 것이다.Moreover, in recent years, in order to achieve the "high density | concentration" required for a color filter, it was necessary to increase the color material density | concentration in the coloring composition to be used. On the other hand, since the light transmittance of the said colored resin composition falls, in order to maintain and improve image formation performance, the photopolymerizable material which has high sensitivity was calculated | required. This invention solves the said subject.

또한, 액정 표시 장치의 제조에 사용되는, 포토 스페이서 또는 리브용 감광성 조성물, 및 또한 광중합성 재료를 사용하는 일반적인 감광성 조성물을 저 비용, 높은 정밀도로 제조하는 것이 더욱더 요구되며, 고감도를 갖는 광중합성 화상 형성 재료가 요구된다. 본 발명은 상기 과제를 해결한 것이다.In addition, it is further required to produce photosensitive compositions for photo spacers or ribs, and also general photosensitive compositions using photopolymerizable materials with low cost and high precision, which are used in the manufacture of liquid crystal display devices, and have photosensitive polymers having high sensitivity. Forming material is required. This invention solves the said subject.

과제를 해결하기 위한 수단Means to solve the problem

본 발명자는 예의 연구를 진행한 결과, 광중합 개시제로서 광중합의 효율을 더욱 향상시키는 구조를 갖는 특정의 옥심 에스테르 화합물 및 유기 결합제로서 카르복실기를 갖는 에폭시 아크릴레이트 수지를 조합하여 함유하는 광중합성 조성물을 사용함으로써 상기 목적을 달성할 수 있다는 것을 발견하였다.As a result of intensive studies, the present inventors have used a photopolymerizable composition containing a specific oxime ester compound having a structure that further improves the efficiency of photopolymerization as a photopolymerization initiator and an epoxy acrylate resin having a carboxyl group as an organic binder. It has been found that this object can be achieved.

또한, 본 발명자는 이러한 특정의 옥심 에스테르 화합물 자체가 신규 화합물이고, 색 재료의 존재 유무에 상관없이 우수한 광중합 개시제로서 유효하다는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하였다.In addition, the present inventors have found that this specific oxime ester compound itself is a novel compound and is effective as an excellent photopolymerization initiator regardless of the presence or absence of a color material, and completed the present invention.

즉, 본 발명의 목적은 화학식 (1) 또는 (2) 로 표시되는 옥심 에스테르 화합물을 제공하는 것이다:That is, an object of the present invention is to provide an oxime ester compound represented by the formula (1) or (2):

Figure 112006057038294-PCT00001
Figure 112006057038294-PCT00001

(상기 식 중에서,(In the above formula,

R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C1 -20 헤테로아릴알킬기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 또는 헤테로아릴티오알킬기, C0 -20 아미노기, 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, 단, R1a 는 R1' 와 함께 고리를 형성할 수 있으며, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이고 (n 은 0 내지 3 의 정수임);R 1a is optionally substituted C 2 -25 alkenyl, C 1 -20 alkyl-heteroaryl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group, C 1 -20 heteroaryloxy carbonyl alkyl group or a hetero arylthio group, a C 0 -20 amino group, or a C 1 -20 represents an amino group, with the proviso that, R 1a is C 1 -10, which can form a ring with R1 ', the linking group may have a substituent An alkylene group,-(CH = CH) n -,-(C≡C) n -or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3);

R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기, C3 -25 알케노일기, C3 -8 시클로알카노일기, C7 -20 벤조일기, C1 -20 헤테로아릴로일기, C2 -10 알콕시카르보닐기 또는 C7 -20 페녹시카르보닐기를 나타내며;R 2a is optionally substituted C 2 -12 alkanoyl groups, C 3 -25 noilgi alkenyl, C 3 -8 cycloalkyl alkanoyl, C 7 -20 benzoyl group, C 1 -20 group, C 2 to heteroaryl- 10 alkoxy group or a C 7 -20 phenoxy represents a carbonyl group;

R1' 는 방향족 고리 또는 헤테로방향족 고리를 함유하는 임의의 치환기를 나타낸다):R 1 ′ represents any substituent containing an aromatic ring or a heteroaromatic ring):

Figure 112006057038294-PCT00002
Figure 112006057038294-PCT00002

(상기 식 중에서,(In the above formula,

R1b 는 치환될 수 있는 C6 -20 페닐기, C1 -20 알킬기, C5 -8 시클로알킬기, C2 -20 알카노일기, C7 -20 벤조일기, C2 -12 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기, C1 -20 아미드기, 니트로기, C2 -25 알케닐기, C1 -10 헤테로아릴알킬기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 또는 헤테로아릴티오알킬기, C0 -20 아미노기, 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, 단, R1b 는 R1' 와 함께 고리를 형성할 수 있으며, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이고 (n 은 0 내지 3 의 정수임);R 1b is optionally substituted C 6 -20 phenyl group, C 1 -20 alkyl, C 5 -8 cycloalkyl group, C 2 -20 alkanoyl groups, C 7 -20 benzoyl group, C 2 -12 alkoxy group or a phenoxy a carbonyl group, C 1 -20 amide group, a nitro group, a C 2 -25 alkenyl, C 1 -10 alkyl-heteroaryl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group, C 1 -20 heteroaryloxy-carbonyl group or a hetero arylthio group, a C 0 -20 amino group, or represents a C 1 -20 amino group, with the proviso that, R 1b may form a ring with the R1 ', the linking group may have a substituent in C 1 -10 alkylene group, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3);

R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴기, C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기, C3 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알카노일기, 또는 C2 -10 아미노카르보닐기를 나타내며;R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl group, C 1 -20 heteroaryl alkanoyl, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group, C 3 - 20 heteroaryloxy carbonyl nilal Kano represents a group, or C 2 -10 amino group;

R1' 는 방향족 고리 또는 헤테로방향족 고리를 함유하는 임의의 치환기를 나타낸다).R 1 ′ represents any substituent containing an aromatic ring or a heteroaromatic ring).

본 발명의 또다른 목적은 화학식 (1) 에서,Another object of the present invention is in the formula (1),

R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기 또는 C1 -20 아미노알킬기이거나, 또는 R1a 는 R1' 와 함께 고리를 형성하고, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이며 (n 은 0 내지 3 의 정수임),R 1a is a ring which may be substituted with a C 2 -25 alkenyl, C 3 -20 alkoxycarbonyl group, a C 8 -20 phenoxycarbonyl group or C 1 -20 alkyl, or amino, or R 1a is R1 ' the formation, and the linking group which may have a substituent, C 1 -10 alkylene group, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3),

R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기인 상기 옥심 에스테르 화합물을 제공하는 것이다.R 2a is to provide a C 2 -12 alkanoyl group of the oxime ester compound which may be substituted.

본 발명의 또다른 목적은 화학식 (2) 에서,Another object of the present invention is in formula (2),

R1b 는 치환될 수 있는 C1 -20 알킬기이고,R 1b is an optionally substituted C 1 -20 alkyl,

R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴기, C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기 또는 C2 -10 아미노카르보닐기인 상기 옥심 에스테르 화합물을 제공하는 것이다.R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl group, C 1 -20 heteroaryl alkanoyl, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group or a C 2 - It is providing the said oxime ester compound which is a 10 aminocarbonyl group.

본 발명의 또다른 목적은 화학식 (3) 또는 (4) 로 표시되는 옥심 에스테르 화합물을 제공하는 것이다:Another object of the present invention is to provide an oxime ester compound represented by the formula (3) or (4):

Figure 112006057038294-PCT00003
Figure 112006057038294-PCT00003

(상기 식 중에서,(In the above formula,

R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C1 -20 헤테로아릴알킬기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 또는 헤테로아릴티오알킬기, C0 -20 아미노기, 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, 단, R1a 는 R3 또는 R7 과 함께 고리를 형성할 수 있으며, 이 경우, R1a 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 2 가 또는 3 가 연결기를 형성하고, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이며 (n 은 0 내지 3 의 정수임);R 1a is optionally substituted C 2 -25 alkenyl, C 1 -20 alkyl-heteroaryl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group, C 1 -20 heteroaryloxy carbonyl represents an alkyl group or a hetero arylthio group, a C 0 -20 amino group, or a C 1 -20 amino group, with the proviso that, R 1a may form a ring together with R 3 or R 7, in this case, R 1a and R 3 and / or R 7 are bonded to each other to form a divalent or trivalent linking group, the linking group is C 1 -10 alkylene group which may have a substituent, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - Or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3);

R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기, C3 -25 알케노일기, C3 -8 시클로알카노일기, C7 -20 벤조일기, C1 -20 헤테로아릴로일기, C2 -10 알콕시카르보닐기 또는 C7 -20 페녹시카르보닐기를 나타내고;R 2a is optionally substituted C 2 -12 alkanoyl groups, C 3 -25 noilgi alkenyl, C 3 -8 cycloalkyl alkanoyl, C 7 -20 benzoyl group, C 1 -20 group, C 2 to heteroaryl- 10 alkoxy group or a C 7 -20 phenoxy represents a carbonyl group;

R3, R4, R5, R6 및 R7 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C1 -12 알콕시기, C5 -8 시클로알킬기, C6 -20 페닐기, C7 -20 벤질기, C7 -20 벤조일기, C2 -12 알카노일기, C1 -20 헤테로아릴로일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기, C3 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알카노일기, C2 -12 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기, 또는 -OR8, -SR9, -SOR9, -SO2R9 또는 NR10R11 을 나타내며, R3, R4, R5, R6 및 R7 중 하나 이상은 -OR8, -SR9 또는 -NR10R11 을 나타내고, 여기에서, R8 은 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -8 알카노일기, C3 -12 알케닐기, C3 -20 알케노일기, C6 -20 페닐기, -(CH2CH2O)mH (m 은 1 내지 20 의 정수임) 또는 C3 -15 트리알킬실릴기를 나타내며, R9 는 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -8 알카노일기, C3 -12 알케닐기, C6 -20 페닐기 또는 C3 -15 트리알킬실릴기를 나타내고, R10 및 R11 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -4 히드록실알킬기, C3 -5 알케닐기 또는 C6-20 페닐기를 나타내며, 단, R3 내지 R7 은 서로 결합하여 또는 이들 각각은 R1 과 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있다): R 3, R 4, R 5 , R 6 and R 7 is C 1 -12 alkyl, C 1 -12 alkoxy group, C 5 -8 cycloalkyl group each independently of the other, may be hydrogen atom, a halogen atom, or a substituted , C 6 -20 phenyl, C 7 -20 benzyl group, C 7 -20 benzoyl group, C 2 -12 alkanoyl groups, C 1 -20 in the heteroaryl group, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl group, C 8-20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl, C 3 -20 heteroaryloxy carbonyl nilal alkanoyl group, C 2 -12 alkoxycarbonyl group or phenoxycarbonyl group, or -OR 8, -SR 9, -SOR 9 , -SO 2 R 9 or NR 10 R 11 , wherein at least one of R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 represents -OR 8 , -SR 9 or -NR 10 R 11 , wherein R 8 is C 1 -12 alkyl group which hydrogen atom or may be substituted, C 2 -8 alkanoyl, C 3 -12 alkenyl, C 3 -20 noilgi alkenyl, C 6 -20 phenyl, - (CH 2 CH 2 O ) m H (m is an integer of 1 to 20) or C 3 -15 trialkyl represents a silyl, R 9 is Bovine atom or C 1 -12 alkyl group which may be substituted, C 2 -8 alkanoyl, C 3 -12 alkenyl group, C 6 represents a phenyl group or a C 3 -20 -15 trialkylsilyl, R 10 and R 11 are each independently of the other, hydrogen atom or C 1 -12 alkyl group which may be substituted, C 2 -4 hydroxyl group, C 3 -5 alkenyl group or represents a C 6-20 phenyl group, with the proviso that, R 3 to R 7 May combine with each other or each of them with R 1 to form a cyclic structure):

Figure 112006057038294-PCT00004
Figure 112006057038294-PCT00004

(상기 식 중에서,(In the above formula,

R1b 는 치환될 수 있는 C6 -20 페닐기, C1 -20 알킬기, C5 -8 시클로알킬기, C2 -20 알카노일기, C7 -20 벤조일기, C2 -12 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기, C1 -20 아미드기, 니트로기, C2 -25 알케닐기, C1 -10 헤테로아릴알킬기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 또는 헤테로아릴티오알킬기, C0 -20 아미노기, 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, 단, R1b 는 R3 또는 R7 과 함께 고리를 형성할 수 있으며, 이 경우, R1b 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 2 가 또는 3 가 연결기를 형성하고, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이며 (n 은 0 내지 3 의 정수임);R 1b is optionally substituted C 6 -20 phenyl group, C 1 -20 alkyl, C 5 -8 cycloalkyl group, C 2 -20 alkanoyl groups, C 7 -20 benzoyl group, C 2 -12 alkoxy group or a phenoxy a carbonyl group, C 1 -20 amide group, a nitro group, a C 2 -25 alkenyl, C 1 -10 alkyl-heteroaryl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group, C 1 -20 heteroaryloxy-carbonyl group or a hetero arylthio group, a C 0 -20 amino group, or represents a C 1 -20 amino group, with the proviso that, R 1b may form a ring together with R 3 or R 7, in this case, R 1b and a R 3 and / or R 7 is a bivalent or trivalent form a linking group, C 1 -10 alkylene group, which linking group may have a substituent and bonded to each other - (CH = CH) n - , - (C ≡C) n -or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3);

R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴기, C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기, C3 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알카노일기, 또는 C2 -10 아미노카르보닐기를 나타내고;R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl group, C 1 -20 heteroaryl alkanoyl, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group, C 3 - 20 heteroaryloxy carbonyl nilal alkanoyl group, or C 2 -10 represents an amino group;

R3, R4, R5, R6 및 R7 은 화학식 (3) 에서와 동일하다).R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are the same as in formula (3)).

본 발명의 또다른 목적은 화학식 (3) 에서,Another object of the present invention is to formula (3),

R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기 또는 C1 -20 아미노알킬기이거나, 또는 R1a 는 R3 또는 R7 과 함께 고리를 형성하고, 이 경우, R1b 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 2 가 또는 3 가 연결기를 형성하며, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이고 (n 은 0 내지 3 의 정수임),R 1a is optionally substituted C 2 -25 alkenyl, C 3 -20 alkoxycarbonyl group, a C 8 -20 phenoxycarbonyl group or C 1 -20 alkyl, or amino, or R 1a is R 3 or R 7 form a ring together with, and in this case, R 1b and R 3 and / or R 7 are bonded to each other, and divalent or trivalent form a linkage group, the linking group which may have a substituent, C 1 -10 alkylene group, - ( CH = CH) n -,-(C≡C) n -or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3),

R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기이며,R 2a is a C 2 -12 alkanoyl group which may be substituted,

R3, R4, R5, R6 및 R7 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C6 -20 페닐기, C1 -20 헤테로아릴로일기 또는 -NR10R11 을 나타내고, R3, R4, R5, R6 및 R7 중 하나 이상은 -NR10R11 (식 중, R10 및 R11 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -4 히드록실알킬기, C3 -5 알케닐기 또는 C6 -20 페닐기를 나타냄) 을 나타내며, 단, R3 내지 R7 은 서로 결합하여 또는 이들 각각은 R1a 와 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있는 옥심 에스테르 화합물을 제공하는 것이다. R 3, R 4, R 5 , R 6 and R 7 are each independently of each other, C 1 -12 alkyl group which may be a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituted, C 6 -20 phenyl group, C 1 -20 heteroaryl Diary or —NR 10 R 11 , wherein at least one of R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 is —NR 10 R 11 (wherein R 10 and R 11 are each independently of one another a hydrogen atom; , or which may be substituted with a C 1 -12 alkyl, C 2 -4 hydroxyl group, C 3 -5 alkenyl or C 6 -20 shows a represents a phenyl group), provided that, R 3 to R 7 are bonded to each other or Each of these provides an oxime ester compound capable of combining with R 1a to form a cyclic structure.

본 발명의 또다른 목적은 화학식 (4) 에서,Another object of the present invention is in formula (4),

R1b 는 치환될 수 있는 C1 -20 알킬기이고,R 1b is an optionally substituted C 1 -20 alkyl,

R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴기, C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기 또는 C2 -10 아미노카르보닐기이며,R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl group, C 1 -20 heteroaryl alkanoyl, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group or a C 2 - 10 aminocarbonyl group,

R3, R4, R5, R6 및 R7 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C6 -20 페닐기, C1 -20 헤테로아릴로일기 또는 -NR10R11 을 나타내고, R3, R4, R5, R6 및 R7 중 하나 이상은 -NR10R11 (식 중, R10 및 R11 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -4 히드록실알킬기, C3 -5 알케닐기 또는 C6 -20 페닐기를 나타냄) 을 나타내며, 단, R3 내지 R7 은 서로 결합하여 또는 R1b 와 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있는 상기 옥심 에스테르 화합물을 제공하는 것이다. R 3, R 4, R 5 , R 6 and R 7 are each independently of each other, C 1 -12 alkyl group which may be a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituted, C 6 -20 phenyl group, C 1 -20 heteroaryl Diary or —NR 10 R 11 , wherein at least one of R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 is —NR 10 R 11 (wherein R 10 and R 11 are each independently of one another a hydrogen atom; , or which may be substituted with a C 1 -12 alkyl, C 2 -4 hydroxyl group, C 3 -5 alkenyl or C 6 -20 shows a represents a phenyl group), provided that, R 3 to R 7 are bonded to each other or It is to provide the oxime ester compound capable of combining with R 1b to form a cyclic structure.

본 발명의 또다른 목적은 화학식 (5) 내지 (7) 중 어느 하나로 표시되는 옥심 에스테르 화합물을 제공하는 것이다:Another object of the present invention is to provide an oxime ester compound represented by any one of formulas (5) to (7):

Figure 112006057038294-PCT00005
Figure 112006057038294-PCT00005

(상기 식 중에서,(In the above formula,

R1a 및 R2a 는 제 4 항에서 정의하는 화학식 (3) 에서와 동일하고;R 1a and R 2a are the same as in formula (3) as defined in claim 4;

R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -12 알케노일기, C6 -20 페닐기, C7 -20 벤질기 또는 벤조일기, 또는 -NR10R11 이며, 단, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 서로 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있다):R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 16 is C 1 -12 alkyl, C 2 -12 alkenyl noilgi, C 6 -20 phenyl, C 7 -20, which may be each substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, or Benzyl or benzoyl, or —NR 10 R 11 , provided that R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 may combine with each other to form a cyclic structure):

Figure 112006057038294-PCT00006
Figure 112006057038294-PCT00006

(상기 식 중에서,(In the above formula,

R1b 및 R2b 는 상기 화학식 (4) 에서와 동일하고;R 1b and R 2b are the same as in the above formula (4);

R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 상기 화학식 (5) 에서와 동일하다):R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 are the same as in the above formula (5)):

Figure 112006057038294-PCT00007
Figure 112006057038294-PCT00007

(상기 식 중에서,(In the above formula,

R1b 는 상기 화학식 (4) 에서와 동일하며;R 1b is the same as in formula (4) above;

R2b 는 상기 화학식 (3) 에서의 R2a 또는 상기 화학식 (4) 에서의 R2b 를 나타내고;R 2b represents R 2a in Formula (3) or R 2b in Formula (4);

R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -12 알케노일기, C6 -20 페닐기, C7 -20 벤질기 또는 벤조일기, 또는 -NR10R11 이며, 단, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 서로 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있고, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 중 하나 이상은 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴알킬, 헤테로아릴알카노일 및 헤테로아릴로일기, 및 C3 -15 트리알킬실릴기로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 함유한다).R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 16 is C 1 -12 alkyl, C 2 -12 alkenyl noilgi, C 6 -20 phenyl, C 7 -20, which may be each substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, or Benzyl or benzoyl, or —NR 10 R 11 , provided that R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 may be bonded to each other to form a cyclic structure, and R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 is one or more of the at least one selected from the group, and C 3 -15 tree group consisting alkylsilyl a C 1 -20 alkyl, heteroaryl, heteroaryl-alkanoyl and heteroaryl which may be substituted Containing).

본 발명의 또다른 목적은 화학식 (5) 에서,Another object of the present invention is in formula (5),

R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기 또는 C1 -20 아미노알킬기이거나, 또는 R1a 는 R3 또는 R7 과 함께 고리를 형성하고, 이 경우, R1a 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 2 가 또는 3 가 연결기를 형성하며, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n-, 또는 이의 조합이고 (n 은 0 내지 3 의 정수임);R 1a is optionally substituted C 2 -25 alkenyl, C 3 -20 alkoxycarbonyl group, a C 8 -20 phenoxycarbonyl group or C 1 -20 alkyl, or amino, or R 1a is R 3 or R 7 form a ring together with, and in this case, R 1a and R 3 and / or R 7 are bonded to each other, and divalent or trivalent form a linkage group, the linking group which may have a substituent, C 1 -10 alkylene group, - ( CH = CH) n -,-(C≡C) n- , or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3);

R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기이며;R 2a is optionally substituted C 2 -12 alkanoyl group and;

R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -12 알케노일기, C6 -20 페닐기, C7 -20 벤질기 또는 벤조일기, 또는 -NR10R11 이고, 단, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 서로 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있는 상기 옥심 에스테르 화합물을 제공하는 것이다.R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 16 is C 1 -12 alkyl, C 2 -12 alkenyl noilgi, C 6 -20 phenyl, C 7 -20, which may be each substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, or Benzyl or benzoyl, or —NR 10 R 11 , provided that R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 are bonded to each other to form the oxime ester compound which may form a cyclic structure. .

본 발명의 또다른 목적은 화학식 (6) 에서,Another object of the present invention is in formula (6),

R1b 는 치환될 수 있는 C1 -20 알킬기이고,R 1b is an optionally substituted C 1 -20 alkyl,

R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기 또는 C2 -10 아미노카르보닐기이며,R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl alkanoyl, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group, or C 2 -10 and amino group,

R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -12 알케노일기, C6 -20 페닐기, C7 -20 벤질기 또는 벤조일기, 또는 -NR10R11 이고, 단, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 서로 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있는 상기 옥심 에스테르 화합물을 제공하는 것이다.R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 16 is C 1 -12 alkyl, C 2 -12 alkenyl noilgi, C 6 -20 phenyl, C 7 -20, which may be each substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, or Benzyl or benzoyl, or —NR 10 R 11 , provided that R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 are bonded to each other to form the oxime ester compound which may form a cyclic structure. .

본 발명의 또다른 목적은 화학식 (8) 또는 (9) 로 표시되는 옥심 에스테르 화합물을 제공하는 것이다:Another object of the present invention is to provide an oxime ester compound represented by the formula (8) or (9):

Figure 112006057038294-PCT00008
Figure 112006057038294-PCT00008

(상기 식 중에서,(In the above formula,

R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C1 -20 헤테로아릴알킬기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 또는 헤테로아릴티오알킬기, C0 -20 아미노기, 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, 단, R1a 는 Ar1 과 함께 고리를 형성할 수 있으며, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이고 (n 은 0 내지 3 의 정수임);R 1a is optionally substituted C 2 -25 alkenyl, C 1 -20 alkyl-heteroaryl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group, C 1 -20 heteroaryloxy carbonyl alkyl group or a hetero arylthio group, a C 0 -20 amino group, or a C 1 -20 represents an amino group, with the proviso that, R 1a is C 1 -10, which can form a ring together with Ar 1, the linking group may have a substituent An alkylene group,-(CH = CH) n -,-(C≡C) n -or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3);

R2a 는 제 1 항에서 정의하는 화학식 (1) 에서와 동일하며;R 2a is the same as in formula (1) as defined in claim 1;

Ar1 은 치환기를 가질 수 있는 방향족 고리, 헤테로방향족 고리, 축합 방향족 고리 또는 축합 헤테로방향족 고리를 나타내고;Ar 1 represents an aromatic ring, heteroaromatic ring, condensed aromatic ring or condensed heteroaromatic ring which may have a substituent;

p 는 2 내지 5 의 정수를 나타낸다):p represents an integer from 2 to 5):

Figure 112006057038294-PCT00009
Figure 112006057038294-PCT00009

(상기 식 중에서,(In the above formula,

R1b 는 치환될 수 있는 C6 -20 페닐기, C1 -20 알킬기, C5 -8 시클로알킬기, C2 -20 알카노일기, C7 -20 벤조일기, C2 -12 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기, C1 -20 아미드기, 니트로기, C2 -25 알케닐기, C1 -10 헤테로아릴알킬기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 또는 헤테로아릴티오알킬기, C0 -20 아미노기 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내며, 단, R1b 는 Ar1 과 함께 고리를 형성할 수 있고, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이며 (n 은 0 내지 3 의 정수임);R 1b is optionally substituted C 6 -20 phenyl group, C 1 -20 alkyl, C 5 -8 cycloalkyl group, C 2 -20 alkanoyl groups, C 7 -20 benzoyl group, C 2 -12 alkoxy group or a phenoxy a carbonyl group, C 1 -20 amide group, a nitro group, a C 2 -25 alkenyl, C 1 -10 alkyl-heteroaryl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group, C 1 -20 heteroaryloxy-carbonyl group or a hetero arylthio group, a C -20 0 represents an amino group or C 1 -20 amino group, with the proviso that, R 1b may form a ring together with Ar 1, the linking group which may have a substituent C 1 -10 alkylene group, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3);

R2b 는 제 1 항에서 정의하는 화학식 (2) 에서와 동일하고;R 2b is the same as in formula (2) as defined in claim 1;

Ar1 은 치환기를 가질 수 있는 방향족 고리, 헤테로방향족 고리, 축합 방향족 고리 또는 축합 헤테로방향족 고리를 나타내며;Ar 1 represents an aromatic ring, heteroaromatic ring, condensed aromatic ring or condensed heteroaromatic ring which may have a substituent;

p 는 2 내지 5 의 정수를 나타낸다).p represents an integer of 2 to 5).

본 발명의 또다른 목적은 화학식 (8) 에서,Another object of the present invention is that in formula (8),

R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, 단, R1a 는 Ar1 과 함께 고리를 형성할 수 있으며, 이 경우, R1a 와 Ar1 은 서로 결합하여 2 가 또는 3 가 연결기를 형성하고, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이며 (n 은 0 내지 3 의 정수임),R 1a is C 2 -25 alkenyl group which may be substituted, C 3 -20 alkoxycarbonyl group, a C 8 -20 phenoxycarbonyl group, or C 1 -20 represents an amino group, with the proviso that, R 1a is Ar 1 It can form a ring with, in this case, R 1a and Ar 1 may be bonded to each other to form a divalent or trivalent linking group, the linking group which may have a substituent, C 1 -10 alkylene group, - (CH = CH ) n -,-(C≡C) n -or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3),

R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기인 상기 옥심 에스테르 화합물을 제공하는 것이다.R 2a is to provide a C 2 -12 alkanoyl group of the oxime ester compound which may be substituted.

본 발명의 또다른 목적은 화학식 (9) 에서,Another object of the present invention is in the formula (9),

R1b 는 치환될 수 있는 C1 -20 알킬기이고,R 1b is an optionally substituted C 1 -20 alkyl,

R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴기, C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기 또는 C2 -10 아미노카르보닐기인 상기 옥심 에스테르 화합물을 제공하는 것이다.R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl group, C 1 -20 heteroaryl alkanoyl, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group or a C 2 - It is providing the said oxime ester compound which is a 10 aminocarbonyl group.

본 발명의 또다른 목적은 유기 결합제 (b) 및 광중합 개시제 (c) 를 포함하고, 상기 성분 (c) 가 상기 옥심 에스테르 화합물을 함유하는 광중합성 조성물을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition comprising an organic binder (b) and a photopolymerization initiator (c), wherein the component (c) contains the oxime ester compound.

본 발명의 또다른 목적은 유기 결합제 (b) 가 카르복실기를 갖는 에폭시 아크릴레이트 수지인 상기 광중합성 조성물을 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide the photopolymerizable composition wherein the organic binder (b) is an epoxy acrylate resin having a carboxyl group.

본 발명의 또다른 목적은 유기 결합제 (b) 가 (히드로)프탈산 무수물을 노볼락 에폭시 수지와 (메트)아크릴산의 반응 생성물과 반응시킴으로써 수득되는 에폭시 아크릴레이트인 상기 광중합성 조성물을 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide the photopolymerizable composition wherein the organic binder (b) is an epoxy acrylate obtained by reacting (hydro) phthalic anhydride with a reaction product of a novolak epoxy resin with (meth) acrylic acid.

본 발명의 또다른 목적은 광중합성 단량체 (d) 를 추가로 함유하는 상기 광중합성 조성물을 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide the photopolymerizable composition further containing a photopolymerizable monomer (d).

본 발명의 또다른 목적은 염기성 관능기를 함유하는 중합체 분산제 (e) 를 추가로 함유하는 상기 광중합성 조성물을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide the photopolymerizable composition further containing a polymer dispersant (e) containing a basic functional group.

본 발명의 또다른 목적은 색 재료 (a) 를 추가로 함유하는 상기 광중합성 조성물을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide the photopolymerizable composition further containing a color material (a).

본 발명의 또다른 목적은 상기 광중합성 조성물에 의해서 형성되는 화상을 갖는 컬러 필터를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a color filter having an image formed by the photopolymerizable composition.

본 발명의 또다른 목적은 상기 광중합성 조성물에 의해서 형성되는 화상을 갖는 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having an image formed by the photopolymerizable composition.

발명의 효과Effects of the Invention

본 발명의 옥심 에스테르 화합물은 신규하고 고 감도인 광중합 개시제로서 이용할 수 있다. 이것을 유기 결합제 및 색 재료와 조합함으로써, 컬러 필터에 유용한 광중합성 조성물을 구성할 수 있다. 특히 흑색 색 재료와 조합하는 경우, 수득되는 광중합성 조성물은 고 차광성의 박막 형태에서도 감도 및 해상성이 우수하여, 저비용으로 고품질의 수지 BM 을 형성시킬 수 있다. 본 발명의 수지 BM 을 이용한 컬러 필터는 정밀도, 평탄성 및 내구성이 우수하여, 액정 소자의 표시 품위를 향상시킬 수 있다. 또한, 제조 공정 및 컬러 필터 자체가 유해한 물질을 사용하지 않기 때문에, 인체에 대한 위험성이 감소될 수 있고 환경 안정성이 향상된다. 또한, 본 발명은 BM 용으로 한정되지 않으며, 예를 들어 포토 스페이서 또는 리브 (액정 분할 배향 돌기) 용의, 색 재료를 사용하지 않는 투명한 감광성 조성물에 이용 가능하고, 다양한 기술 분야에 광범위하게 이용된다.The oxime ester compound of this invention can be used as a novel and highly sensitive photoinitiator. By combining this with an organic binder and a color material, the photopolymerizable composition useful for a color filter can be comprised. In particular, when combined with a black material, the obtained photopolymerizable composition is excellent in sensitivity and resolution even in the form of a high light-shielding thin film, and can form high quality resin BM at low cost. The color filter using resin BM of this invention is excellent in precision, flatness, and durability, and can improve the display quality of a liquid crystal element. In addition, since the manufacturing process and the color filter itself do not use harmful substances, the risk to the human body can be reduced and the environmental stability is improved. In addition, the present invention is not limited to BM, but can be used in a transparent photosensitive composition that does not use color materials, for example, for photo spacers or ribs (liquid crystal division alignment projections), and is widely used in various technical fields. .

도 1 은 가열에 의한 접촉각의 변화의 상태를 모식적으로 나타내는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows typically the state of the change of the contact angle by heating.

부호의 설명Explanation of the sign

W1: 가열전 가느다란 선 (thin line) 화상의 측면과 기판 평면에 의해 형성된 접촉각.W1: Contact angle formed by the side of the thin line image and the substrate plane before heating.

W2: 가열후 가느다란 선 화상의 측면과 기판 평면에 의해 형성된 접촉각.W2: Contact angle formed by the side of the thin line image and the substrate plane after heating.

발명을 실시하기To practice the invention 위한 최선의 형태 Best form for

(a) 색 재료(a) color material

본 발명에서 색 재료는 필수 성분은 아니지만, 많은 용도에서 색 재료를 조합하여 사용한다. 본원에서, 색 재료는 감광성 조성물을 착색시키는 것이다. 색 재료로는, 염료 및 안료가 언급될 수 있으며, 내열성, 내광성 등의 점에서 안료가 바람직하다. 안료로는, 청색 안료, 녹색 안료, 적색 안료, 황색 안료, 보라색 안료, 오렌지색 안료, 갈색 안료 및 흑색 안료와 같은 각종 색의 안료를 사용할 수 있다. 또한, 이들의 구조에 대해서는, 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤조이미다졸론계, 이소인돌리논계, 디옥사딘계, 인단트렌계 및 페릴렌계와 같은 유기 안료, 및 또한 각종 무기 안료 등도 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 안료의 구체예를 안료 번호 (피그멘트 넘버, pigment No.) 로 하기에 나타낸다. 하기의 "C.I. 피그멘트 레드 2" 와 같은 용어는 컬러 인덱스 (C.I.) 를 의미한다.Although the color material is not an essential component in the present invention, the color material is used in combination in many applications. Here, the color material is to color the photosensitive composition. As the color material, dyes and pigments may be mentioned, and pigments are preferable in terms of heat resistance, light resistance and the like. As the pigment, pigments of various colors such as blue pigments, green pigments, red pigments, yellow pigments, purple pigments, orange pigments, brown pigments and black pigments can be used. Moreover, about these structures, organic pigments, such as azo system, phthalocyanine system, quinacridone system, benzoimidazolone system, isoindolinone system, dioxadine system, indanthrene system, and perylene system, and also various inorganic pigments, etc. Can be used. The specific example of the pigment which can be used is shown below as a pigment number (pigment number, pigment No.). Terms such as “C.I. Pigment Red 2” below mean color index (C.I.).

적색 안료로는, C.I. 피그멘트 레드 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 52:2, 53, 53:1, 53:2, 53:3, 57, 57:1, 57:2, 58:4, 60, 63, 63:1, 63:2, 64, 64:1, 68, 69, 81, 81:1, 81:2, 81:3, 81:4, 83, 88, 90:1, 101, 101:1, 104, 108, 108:1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235, 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250, 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275 및 276 을 언급할 수 있다. 이들 중, C.I. 피그멘트 레드 48:1, 122, 168, 177, 202, 206, 207, 209, 224, 242 및 254 가 바람직하고, C.I. 피그멘트 레드 177, 209, 224 및 254 가 더욱 바람직하다.As a red pigment, C.I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48 , 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 52: 2, 53, 53: 1, 53: 2, 53 : 3, 57, 57: 1, 57: 2, 58: 4, 60, 63, 63: 1, 63: 2, 64, 64: 1, 68, 69, 81, 81: 1, 81: 2, 81 : 3, 81: 4, 83, 88, 90: 1, 101, 101: 1, 104, 108, 108: 1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151 , 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202, 206, 207, 208 , 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235, 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250, 251, 253, 254 , 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275 and 276. Among these, C.I. Pigment Red 48: 1, 122, 168, 177, 202, 206, 207, 209, 224, 242 and 254 are preferred, and C.I. Pigment Red 177, 209, 224 and 254 are more preferred.

청색 안료로는, C.I. 피그멘트 블루 1, 1:2, 9, 14, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56:1, 60, 61, 61:1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78 및 79 를 언급할 수 있다. 이들 중, C.I. 피그멘트 블루 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4 및 15:6 이 바람직하고, C.I. 피그멘트 블루 15:6 이 더욱 바람직하다.As a blue pigment, C.I. Pigment Blue 1, 1: 2, 9, 14, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33 , 35, 36, 56, 56: 1, 60, 61, 61: 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78 and 79. Among these, C.I. Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4 and 15: 6 are preferred, and C.I. Pigment Blue 15: 6 is more preferred.

녹색 안료로는, C.I. 피그멘트 그린 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54 및 55 를 언급할 수 있다. 이들 중, C.I. 피그멘트 그린 7 및 36 이 바람직하다.As a green pigment, C.I. Pigment greens 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54 and 55. Among these, C.I. Pigment Greens 7 and 36 are preferred.

황색 안료로는, C.I. 피그멘트 옐로우 1, 1:1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35:1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62:1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127:1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191:1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199, 200, 202, 203, 204, 205, 206, 207 및 208 을 언급할 수 있다. 이들 중, C.I. 피그멘트 옐로우 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180 및 185 가 바람직하고, C.I. 피그멘트 옐로우 83, 138, 139, 150 및 180 이 더욱 바람직하다.As a yellow pigment, C.I. Pigment Yellow 1, 1: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36 : 1, 37, 37: 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62: 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94 , 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127: 1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139 , 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170, 172, 173, 174 , 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191: 1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199, 200, 202, 203 , 204, 205, 206, 207 and 208 may be mentioned. Among these, C.I. Pigment yellow 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180 and 185 are preferred, and C.I. Pigment Yellow 83, 138, 139, 150 and 180 are more preferred.

오렌지색 안료로는, C.I. 피그멘트 오렌지 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78 및 79 를 언급할 수 있다. 이들 중, C.I. 피그멘트 오렌지 38 및 71 이 바람직하다.As an orange pigment, C.I. Pigment Orange 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65 , 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78 and 79. Among these, C.I. Pigment Orange 38 and 71 are preferred.

보라색 안료로는, C.I. 피그멘트 바이올렛 1, 1:1, 2, 2:2, 3, 3:1, 3:3, 5, 5:1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49 및 50 을 언급할 수 있다. 이들 중, C.I. 피그멘트 바이올렛 19 및 23 이 바람직하고, C.I. 피그멘트 바이올렛 23 이 더욱 바람직하다.As a purple pigment, C.I. Pigment Violet 1, 1: 1, 2, 2: 2, 3, 3: 1, 3: 3, 5, 5: 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32 , 37, 39, 42, 44, 47, 49 and 50 may be mentioned. Among these, C.I. Pigment violets 19 and 23 are preferred, and C.I. Pigment violet 23 is more preferred.

흑색 색 재료로는, 흑색 재료 자체 또는 적색, 녹색, 청색 등과 혼합된 흑색 색 재료를 사용할 수 있다. 이러한 흑색 색 재료는 무기 및 유기 안료 및 염료에서 임의로 선택될 수 있으며, 단독으로 또는 복수종의 혼합물로서 사용될 수 있다.As the black material, a black material mixed with the black material itself or red, green, blue and the like can be used. Such black materials may be optionally selected from inorganic and organic pigments and dyes, and may be used alone or as a mixture of plural kinds.

단일 흑색 색 재료는 예를 들면, 카본 블랙, 아세틸렌 블랙, 램프 블랙, 본 블랙, 흑연, 철 블랙, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙 또는 티탄 블랙일 수 있다. 이들 중, 카본 블랙 및 티탄 블랙이 차광율 및 화상 특성의 관점에서 특히 바람직하다. 시판되는 카본 블랙의 예로는, 하기의 브랜드가 언급될 수 있다.The single black material can be, for example, carbon black, acetylene black, lamp black, bone black, graphite, iron black, aniline black, cyanine black or titanium black. Among them, carbon black and titanium black are particularly preferable in view of light shielding rate and image characteristics. As examples of commercially available carbon blacks, the following brands may be mentioned.

Mitsubishi Chemical Corporation 제품: MA7, MA8, MA11, MA100, MA220, MA230, #52, #50, #47, #45, #2700, #2650, #2200, #1000, #990, #900 등.Mitsubishi Chemical Corporation Products: MA7, MA8, MA11, MA100, MA220, MA230, # 52, # 50, # 47, # 45, # 2700, # 2650, # 2200, # 1000, # 990, # 900, etc.

DEGGUSA 제품: Printex 95, Printex 90, Printex 85, Printex 75, Printex 55, Printex 45, Printex 40, Printex 30, Printex 3, Printex A, Printex G, Special Black 550, Special Black 350, Special Black 250, Special Black 100 등.DEGGUSA products: Printex 95, Printex 90, Printex 85, Printex 75, Printex 55, Printex 45, Printex 40, Printex 30, Printex 3, Printex A, Printex G, Special Black 550, Special Black 350, Special Black 250, Special Black 100 etc.

Cabot Corporation 제품: Monarch 460, Monarch 430, Monarch 280, Monarch 120, Monarch 800, Monarch 4630, REGAL 99, REGAL 99R, REGAL 415, REGAL 415R, REGAL 250, REGAL 250R, REGAL 330, BLACK PEARLS 480, PEARLS 130 등.Cabot Corporation products: Monarch 460, Monarch 430, Monarch 280, Monarch 120, Monarch 800, Monarch 4630, REGAL 99, REGAL 99R, REGAL 415, REGAL 415R, REGAL 250, REGAL 250R, REGAL 330, BLACK PEARLS 480, PEARLS 130, etc. .

Columbian Chemicals 제품: RAVEN 11, RAVEN 15, RAVEN 30, RAVEN 35, RAVEN 40, RAVEN 410, RAVEN 420, RAVEN 450, RAVEN 500, RAVEN 780, RAVEN 850, RAVEN 890H, RAVEN 1000, RAVEN 1020, RAVEN 1040 등.Columbian Chemicals products: RAVEN 11, RAVEN 15, RAVEN 30, RAVEN 35, RAVEN 40, RAVEN 410, RAVEN 420, RAVEN 450, RAVEN 500, RAVEN 780, RAVEN 850, RAVEN 890H, RAVEN 1000, RAVEN 1020, RAVEN 1040, etc.

다음에, 혼합에 의한 흑색 색 재료에 대해서 설명한다. 혼합의 베이스인 색 재료의 구체예로는, 빅토리아 퓨어 블루 (42595), 오라민 O (41000), 카틸론 브릴리언트 플라빈 (베이직 13), 로다민 6GCP (45160), 로다민 B (45170), 사프라닌 OK 70:100 (50240), 에리오 그라우신 X (42080), No. 120/리오놀 옐로우 (21090), 리오놀 옐로우 GRO (21090), 시밀로르 퍼스트 옐로우 8GF (21105), 벤지딘 옐로우 4T-564D (21095), 시밀로르 퍼스트 레드 4015 (12355), 리오놀 레드 7B4401 (15850), 파스트 겐 블루 TGR-L (74160), 리오놀 블루 SM (26150), 리오놀 블루 ES (피그멘트 블루 15:6), 리오노겐 레드 GD (피그멘트 레드 168), 리오놀 그린 2YS (피그멘트 그린 36) 를 언급할 수 있다 (여기에서, 상기 괄호안의 숫자는 컬러 인덱스 (C.I.) 를 의미한다).Next, the black material by mixing will be described. Specific examples of the color material that is the base of the mixing include Victoria Pure Blue (42595), Oramine O (41000), Catyl Brilliant Flavin (Basic 13), Rhodamine 6GCP (45160), Rhodamine B (45170), Safranin OK 70: 100 (50240), Erio Grausin X (42080), No. 120 / Lionol Yellow (21090), Lionol Yellow GRO (21090), Cymilor First Yellow 8GF (21105), Benzidine Yellow 4T-564D (21095), Cymilor First Red 4015 (12355), Lionol Red 7B4401 (15850), Pastgen Blue TGR-L (74160), Lionol Blue SM (26150), Lionol Blue ES (Pigment Blue 15: 6), Lionogen Red GD (Pigment Red 168), Lionol Green 2YS (Pigment Green 36) may be mentioned (wherein the numbers in parentheses refer to the color index (CI)).

또한, 혼합 사용할 수 있는 기타 안료의 예로는, C.I. No. 로, C.I. 황색 안료 20, 24, 86, 93, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 147, 148, 153, 154 및 166, C.I. 오렌지색 안료 36, 43, 51, 55, 59 및 61, C.I. 적색 안료 9, 97, 122, 123, 149, 168, 177, 180, 192, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228 및 240, C.I. 보라색 안료 19, 23, 29, 30, 37, 40 및 50, C.I. 청색 안료 15, 15:1, 15:4, 22, 60 및 64, C.I. 녹색 안료 7 및 C.I. 갈색 안료 23, 25 및 26 을 언급할 수 있다.Moreover, as an example of the other pigment which can be mixed and used, C.I. No. By C.I. Yellow pigments 20, 24, 86, 93, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 147, 148, 153, 154 and 166, C.I. Orange pigments 36, 43, 51, 55, 59 and 61, C.I. Red pigments 9, 97, 122, 123, 149, 168, 177, 180, 192, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228 and 240, C.I. Purple pigments 19, 23, 29, 30, 37, 40 and 50, C.I. Blue pigments 15, 15: 1, 15: 4, 22, 60 and 64, C.I. Green pigment 7 and C.I. Mention may be made of the brown pigments 23, 25 and 26.

상기 카본 블랙은 다른 흑색 또는 유색 무기 또는 유기 안료와 함께 사용할 수 있다. 상기 다른 안료는 카본 블랙보다 낮은 차광성 또는 화상 특성을 갖기 때문에, 이의 혼합 비율은 제한된다.The carbon black can be used with other black or colored inorganic or organic pigments. Since the other pigments have lower light shielding or image characteristics than carbon black, the mixing ratio thereof is limited.

티탄 블랙의 제조 방법으로는, 예를 들면 이산화티탄과 금속 티탄의 혼합물을 환원 분위기에서 가열하여 환원시키는 방법 (JP-A-49-5432), 사염화티탄의 고온 가수분해로 수득한 초미세 이산화티탄을 수소를 함유하는 환원 분위기에서 환원시키는 방법 (JP-A-57-205322), 이산화티탄 또는 수산화티탄을 암모니아 존재하에 고 온에서 환원시키는 방법 (JP-A-60-65069, JP-A-61-201610), 및 바나듐 화합물을 이산화티탄 또는 수산화티탄에 부착시킨 후, 암모니아 존재하에서 고온 환원시키는 방법 (JP-A-61-201610) 을 언급할 수 있으나, 이들로 한정되는 것은 아니다.As a method for producing titanium black, for example, a method of heating and reducing a mixture of titanium dioxide and metal titanium in a reducing atmosphere (JP-A-49-5432), ultrafine titanium dioxide obtained by high temperature hydrolysis of titanium tetrachloride To reduce hydrogen in a reducing atmosphere containing hydrogen (JP-A-57-205322), or to reduce titanium dioxide or titanium hydroxide at high temperature in the presence of ammonia (JP-A-60-65069, JP-A-61 -201610), and a method (JP-A-61-201610) of attaching a vanadium compound to titanium dioxide or titanium hydroxide and then high temperature reduction in the presence of ammonia, but is not limited thereto.

시판되는 티탄 블랙의 예는, Mitsubishi Material Corporation 제조의 티탄 블랙 10S, 12S, 13R, 13M, 13M-C 를 언급할 수 있다.As an example of commercially available titanium black, the titanium black 10S, 12S, 13R, 13M, 13M-C by Mitsubishi Material Corporation can be mentioned.

(b) 유기 결합제(b) organic binder

본 발명에서 광중합성 조성물을 구성하는 경우, 유기 결합제 (b) 가 사용된다. 유기 결합제는 특별히 제한되지 않으나, 특히 카르복실기를 갖는 에폭시 아크릴레이트 수지가 바람직하게 사용된다.When constructing the photopolymerizable composition in the present invention, an organic binder (b) is used. The organic binder is not particularly limited, but an epoxy acrylate resin having a carboxyl group is particularly preferably used.

상기 에폭시 아크릴레이트 수지는 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 에스테르 부분에 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실레이트를 에폭시 수지에 부가시키고, 추가로 다염기 산 무수물을 반응시킴으로써 수득된다. 이러한 반응 생성물은 화학 구조상 실질적으로 에폭시기를 갖지 않으며, "아크릴레이트" 로 한정되지는 않으나, 에폭시 수지가 원료이고, "아크릴레이트" 가 대표적인 예이므로, 관용적으로 이렇게 명명된다.The epoxy acrylate resin is obtained by adding α, β-unsaturated monocarboxylate having a carboxyl group in the α, β-unsaturated monocarboxylic acid or ester moiety to the epoxy resin and further reacting the polybasic acid anhydride. Such reaction products are substantially free of epoxy groups in chemical structure and are not limited to "acrylates", but are conventionally so named because epoxy resins are raw materials and "acrylates" are representative examples.

원료 에폭시 수지로는, 예를 들면 (o, m, p-)크레졸 노볼락 에폭시 수지, 페놀 노볼락 에폭시 수지, 비스페놀 A 에폭시 수지, 비스페놀 F 에폭시 수지, 트리스페놀메탄 에폭시 수지 또는 하기 화학식으로 표시되는 에폭시 수지가 바람직하게 사용될 수 있다 (일본 특허 번호 2878486):As a raw material epoxy resin, it is represented by (o, m, p-) cresol novolak epoxy resin, a phenol novolak epoxy resin, a bisphenol A epoxy resin, a bisphenol F epoxy resin, a trisphenol methane epoxy resin, or the following general formula, for example. Epoxy resins can preferably be used (Japanese Patent No. 2878486):

Figure 112006057038294-PCT00010
Figure 112006057038294-PCT00010

에폭시 수지의 분자량은, GPC 로 측정한 중량 평균 분자량으로서, 통상 200 내지 200,000, 바람직하게는 300 내지 100,000 이다. 분자량이 상기 범위 미만이면, 많은 경우에 막 형성성에 문제가 있다. 반면, 상기 범위를 초과하면, α,β-불포화 모노카르복실산의 첨가시에 겔화가 일어나기 쉬워, 상기 수지의 제조가 곤란한 경향이 있다.The molecular weight of an epoxy resin is 200-200,000, Preferably it is 300-100,000 as a weight average molecular weight measured by GPC. If the molecular weight is less than the above range, there is a problem in film formation in many cases. On the other hand, when it exceeds the said range, gelation will arise easily at the time of addition of (alpha), (beta)-unsaturated monocarboxylic acid, and it exists in the tendency which manufacture of the said resin is difficult.

α,β-불포화 모노카르복실산은 예를 들면, 이타콘산, 크로톤산, 신남산, 아크릴산 또는 메타크릴산일 수 있으며, 아크릴산 또는 메타크릴산이 바람직하고, 높은 반응성의 관점에서 아크릴산이 특히 바람직하다. 에스테르 부분 내에 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실레이트는 예를 들면, 아크릴산 2-숙시노일옥시에틸 에스테르, 아크릴산 2-말레이노일옥시에틸 에스테르, 아크릴산 2-프탈로일옥시에틸 에스테르, 아크릴산 2-헥사히드로프탈로일옥시에틸 에스테르, 메타크릴산 2-숙시노일옥시에틸 에스테르, 메타크릴산 2-말레이노일옥시에틸 에스테르, 메타크릴산 2-프탈로일옥시에틸 에스테르, 메타크릴산 2-헥사히드로프탈로일옥시에틸 에스테르 또는 크로톤산 2-숙시노일옥시에틸 에스테르일 수 있다. 아크릴산 2-말레이노일옥시에틸 에스테르 또는 아크릴산 2-프탈로일옥시에틸 에스테르가 바람직하고, 아크릴산 2-말레이노일옥시에틸 에스테르가 특히 바람직하다.The α, β-unsaturated monocarboxylic acid may be, for example, itaconic acid, crotonic acid, cinnamic acid, acrylic acid or methacrylic acid, acrylic acid or methacrylic acid is preferred, and acrylic acid is particularly preferred in view of high reactivity. Α, β-unsaturated monocarboxylates having a carboxyl group in the ester moiety are, for example, acrylic acid 2-succinoyloxyethyl ester, acrylic acid 2-maleinoyloxyethyl ester, acrylic acid 2-phthaloyloxyethyl ester, acrylic acid 2 Hexahydrophthaloyloxyethyl ester, methacrylic acid 2-succinoyloxyethyl ester, methacrylic acid 2-maleinoyloxyethyl ester, methacrylic acid 2-phthaloyloxyethyl ester, methacrylic acid 2-hexa Hydrophthaloyloxyethyl ester or crotonic acid 2-succinoyloxyethyl ester. Acrylic acid 2-maleinoyloxyethyl ester or acrylic acid 2-phthaloyloxyethyl ester is preferred, and acrylic acid 2-maleinoyloxyethyl ester is particularly preferred.

α,β-불포화 모노카르복실산 또는 이의 에스테르와 에폭시 수지의 부가 반응은 공지 수법으로 수행할 수 있다. 예를 들면, 에스테르화 촉매 존재하에 50 내지 150 ℃ 의 온도에서 반응을 수행할 수 있다. 에스테르화 촉매는 예를 들면, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 벤질디메틸아민 또는 벤질디에틸아민과 같은 3급 아민, 또는 테트라메틸암모늄 클로라이드, 테트라에틸암모늄 클로라이드 또는 도데실트리메틸암모늄 클로라이드와 같은 4급 암모늄염일 수 있다.The addition reaction of the α, β-unsaturated monocarboxylic acid or ester thereof with the epoxy resin can be carried out by a known method. For example, the reaction can be carried out at a temperature of 50 to 150 ° C. in the presence of an esterification catalyst. The esterification catalyst is, for example, tertiary amines such as triethylamine, trimethylamine, benzyldimethylamine or benzyldiethylamine, or quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride or dodecyltrimethylammonium chloride Can be.

α,β-불포화 모노카르복실산 또는 이의 에스테르의 양은 원료 에폭시 수지의 에폭시기 1 당량에 대해서, 바람직하게는 0.5 내지 1.2 당량, 더욱 바람직하게는 0.7 내지 1.1 당량이다. α,β-불포화 모노카르복실산 또는 이의 에스테르의 양이 적으면, 도입되는 불포화기의 양이 불충분한 경향이 있고, 이후의 다염기 산 무수물과의 반응이 불충분한 경향이 있다. 또한, 다량의 에폭시기의 잔존은 유리하지 않다. 반면, 상기 양이 많으면, α,β-불포화 모노카르복실산 또는 이의 에스테르가 미반응 생성물로서 잔존한다. 어떠한 경우에도, 경화 특성이 악화되는 경향이 있다.The amount of the α, β-unsaturated monocarboxylic acid or ester thereof is preferably 0.5 to 1.2 equivalents, more preferably 0.7 to 1.1 equivalents, relative to 1 equivalent of the epoxy group of the raw material epoxy resin. When the amount of the α, β-unsaturated monocarboxylic acid or ester thereof is small, the amount of the unsaturated group to be introduced tends to be insufficient, and subsequent reaction with the polybasic acid anhydride tends to be insufficient. In addition, the residual of a large amount of epoxy groups is not advantageous. On the other hand, if the amount is large, α, β-unsaturated monocarboxylic acids or esters thereof remain as unreacted products. In any case, the curing characteristics tend to deteriorate.

α,β-불포화 모노카르복실산 또는 이의 에스테르가 부가된 에폭시 수지에 추가로 부가시키는 다염기 산 무수물은 예를 들면, 말레산 무수물, 숙신산 무수물, 이타콘산 무수물, 프탈산 무수물, 테트라히드로프탈산 무수물, 헥사히드로프탈산 무수물, 피로멜리트산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 메틸헥사히드로프탈산 무수물, 엔도메틸렌테트라히드로프탈산 무수물, 클로렌드산 무수물, 메틸테트라히드로프탈산 무수물 또는 비페닐테트라카르복실산 이 무수물일 수 있다. 말레산 무수물, 숙신산 무수물, 이타콘산 무수물, 프탈산 무수물, 테트라히드로프탈산 무수물, 헥사히드로프탈산 무수물, 피로멜리트산 무수물, 트리멜리트산 무수물 또는 비페닐테트라카르복실산 이무수물이 바람직하고, 테트라히드로프탈산 무수물 또는 비페닐테트라카르복실산 이무수물이 특히 바람직하다.The polybasic acid anhydrides further added to the epoxy resin to which the α, β-unsaturated monocarboxylic acid or its ester is added include, for example, maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, Hexahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chloric anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride or biphenyl Tetracarboxylic acid may be an anhydride. Maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride or biphenyltetracarboxylic dianhydride are preferred, and tetrahydrophthalic anhydride Or biphenyltetracarboxylic dianhydride is particularly preferred.

다염기 산 무수물의 부가 반응은 또한 공지 수법으로 수행할 수 있으며, α,β-불포화 카르복실산 또는 이의 에스테르의 부가 반응과 동일한 조건하에서 반응을 계속 수행할 수 있다. 다염기 산 무수물의 부가량은, 형성되는 에폭시 아크릴레이트 수지의 산가가 10 내지 150 ㎎ KOH/g 의 범위이도록 하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 20 내지 140 ㎎ KOH/g 이다. 수지 산가가 상기 범위 미만이면, 알칼리 현상성이 불량한 경향이 있고, 상기 범위를 초과하면, 경화 성능이 불량한 경향이 있다.The addition reaction of the polybasic acid anhydride can also be carried out by known techniques, and the reaction can be continued under the same conditions as the addition reaction of the α, β-unsaturated carboxylic acid or ester thereof. The addition amount of the polybasic acid anhydride is preferably such that the acid value of the epoxy acrylate resin formed is in the range of 10 to 150 mg KOH / g, more preferably 20 to 140 mg KOH / g. If the resin acid value is less than the above range, alkali developability tends to be poor, and if it exceeds the above range, curing performance tends to be poor.

유기 결합제 (b) 로는, 카르복실기를 갖는 에폭시 아크릴레이트 수지 이외에, 또한 하기의 수지를 사용할 수 있다. 하기의 수지에는 에폭시 아크릴레이트 수지에 속하는 수지가 포함되며, 이 수지는 반드시 완전히 상이한 물질로 분류되지는 않는다.As an organic binder (b), in addition to the epoxy acrylate resin which has a carboxyl group, the following resin can also be used. The following resins include resins belonging to epoxy acrylate resins, which are not necessarily classified as completely different materials.

즉, 예를 들면, 예를 들어 (메트)아크릴산, (메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로니트릴, (메트)아크릴아미드, 말레산, 스티렌, 비닐 아세테이트, 비닐리덴 클로라이드 또는 말레이미드의 단독중합체 또는 공중합체, 카르복실기 함유 비닐 수지, 및 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리에테르, 폴리우레탄, 폴리비닐 부티랄, 폴 리비닐 알코올, 폴리비닐 피롤리돈 및 아세틸 셀룰로오스가 바람직하게 언급될 수 있다. 이들 중에서, 알칼리 현상성 및 화상 형성성 면에서, 상기 카르복실기를 갖는 에폭시 아크릴레이트 수지 및 카르복실기 함유 비닐 수지가 바람직하고, 카르복실기를 갖는 에폭시 아크릴레이트 수지가 더욱 바람직하다.That is, for example, homopolymers of (meth) acrylic acid, (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, maleic acid, styrene, vinyl acetate, vinylidene chloride or maleimide Or copolymers, carboxyl group-containing vinyl resins, and polyamides, polyesters, polyethers, polyurethanes, polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone and acetyl cellulose. Among them, epoxy acrylate resins having a carboxyl group and carboxyl group-containing vinyl resins are preferred from the viewpoint of alkali developability and image forming property, and epoxy acrylate resins having carboxyl groups are more preferable.

카르복실기 함유 비닐 수지는 예를 들면, (메트)아크릴산, 크로톤산, 이소크로톤산, 말레산, 말레산 무수물, 이타콘산 또는 시트라콘산과 같은 불포화 카르복실산과, 스티렌, α-메틸스티렌, 히드록시스티렌, 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 프로필 (메트)아크릴레이트, 부틸 (메트)아크릴레이트, 펜틸 (메트)아크릴레이트, 헥실 (메트)아크릴레이트, 도데실 (메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메트)아크릴레이트, 히드록시메틸 (메트)아크릴레이트, 히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 글리시딜 (메트)아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐 (메트)아크릴레이트, 벤질 (메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트, N-(메트)아크릴로일모르폴린, (메트)아크릴로니트릴, (메트)아크릴아미드, N-메틸올 (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸 (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸 (메트)아크릴아미드 또는 비닐 아세테이트와 같은 비닐 화합물과의 공중합체일 수 있다.The carboxyl group-containing vinyl resin is, for example, unsaturated carboxylic acids such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid or citraconic acid, and styrene, α-methylstyrene and hydroxystyrene. , Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate , 2-ethylhexyl (meth) acrylate, hydroxymethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, benzyl (Meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N- (meth) acryloyl morpholine, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, N-methylol (meth) Acrylamide, N, N-dimeth (Meth) acrylamide may be, N, N- dimethylaminoethyl (meth) copolymers of vinyl compounds such as acrylamide or vinyl acetate.

상기 공중합체 중에서, 스티렌/(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산 공중합체가 바람직하고, 3 내지 30 mol% 의 스티렌, 10 내지 70 mol% 의 (메트)아크릴레이트 및 10 내지 60 mol% 의 (메트)아크릴산을 포함하는 공중합체가 더욱 바람직하다. 특히, 5 내지 25 mol% 의 스티렌, 20 내지 60 mol% 의 (메트)아크릴레이트 및 15 내지 55 mol% 의 (메트)아크릴산을 포함하는 공중합체가 바람직하다. 또한, 이러한 카르복실기 함유 비닐 수지는 30 내지 250 ㎎ KOH/g, 바람직하게는 50 내지 200 ㎎ KOH/g, 더욱 바람직하게는 70 내지 150 ㎎ KOH/g 의 산가를 가진다.Of the above copolymers, styrene / (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymers are preferred, and 3 to 30 mol% of styrene, 10 to 70 mol% of (meth) acrylate and 10 to 60 mol% of ( More preferred are copolymers comprising meth) acrylic acid. In particular, copolymers comprising 5 to 25 mol% styrene, 20 to 60 mol% (meth) acrylate and 15 to 55 mol% (meth) acrylic acid are preferred. In addition, such carboxyl group-containing vinyl resin has an acid value of 30 to 250 mg KOH / g, preferably 50 to 200 mg KOH / g, more preferably 70 to 150 mg KOH / g.

또한, 카르복실기 함유 비닐 수지는 바람직하게는 측쇄 내에 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 것이다. 이것은 예를 들면, 카르복실기 함유 중합체와, 알릴 글리시딜 에테르, 글리시딜 (메트)아크릴레이트, α-에틸글리시딜 (메트)아크릴레이트, 글리시딜 크로토네이트, 글리시딜 이소크로토네이트, 크로토닐 글리시딜 에테르, 모노알킬 모노글리시딜 이타코네이트, 모노알킬 모노글리시딜 푸마레이트 또는 모노알킬 모노글리시딜 말레에이트와 같은 지방족 에폭시기 함유 불포화 화합물, 또는 3,4-에폭시시클로헥실메틸 (메트)아크릴레이트, 2,3-에폭시시클로펜틸메틸 (메트)아크릴레이트 또는 7,8-에폭시[트리시클로[5.2.1.0]데크-2-일]옥시메틸 (메트)아크릴레이트와 같은 지환족 에폭시기 함유 불포화 화합물을, 카르복실기 함유 중합체가 갖는 카르복실기에 대해 5 내지 90 mol%, 바람직하게는 약 30 내지 약 70 mol% 의 양으로 반응시켜 수득되는 반응 생성물; 또는 알릴 (메트)아크릴레이트, 3-알릴옥시-2-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 신나밀 (메트)아크릴레이트, 크로토닐 (메트)아크릴레이트, 메탈릴 (메트)아크릴레이트 또는 N,N-디알릴 (메트)아크릴아미드와 같은 2 종 이상의 불포화기를 갖는 화합물, 또는 비닐 (메트)아크릴레이트, 1-클로로비닐 (메트)아크릴레이트, 2-페닐비닐 (메트)아크릴레이트, 1-프로페닐 (메트)아크릴레이트, 비닐 크로토네이트 또는 비닐 (메트)아크릴아미드와 같은 2 종 이상의 불포화기를 갖는 화합물과, (메트)아크릴산과 같은 불포 화 카르복실산, 또는 추가로 불포화 카르복실레이트를, 전체 화합물에 대해 전자의 불포화기를 갖는 화합물을 10 내지 90 mol%, 바람직하게는 약 30 내지 약 80 mol% 의 비율로 공중합시켜 수득되는 반응 생성물일 수 있다.The carboxyl group-containing vinyl resin is preferably one having an ethylenically unsaturated bond in the side chain. This is, for example, a carboxyl group-containing polymer, allyl glycidyl ether, glycidyl (meth) acrylate, α-ethylglycidyl (meth) acrylate, glycidyl crotonate, glycidyl isocroto Aliphatic epoxy group-containing unsaturated compounds such as nates, crotonyl glycidyl ethers, monoalkyl monoglycidyl itaconates, monoalkyl monoglycidyl fumarates or monoalkyl monoglycidyl maleates, or 3,4-epoxy With cyclohexylmethyl (meth) acrylate, 2,3-epoxycyclopentylmethyl (meth) acrylate or 7,8-epoxy [tricyclo [5.2.1.0] dec-2-yl] oxymethyl (meth) acrylate Reaction products obtained by reacting the same alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound in an amount of 5 to 90 mol%, preferably about 30 to about 70 mol%, based on the carboxyl group of the carboxyl group-containing polymer; Or allyl (meth) acrylate, 3-allyloxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, cinnamil (meth) acrylate, crotonyl (meth) acrylate, metalyl (meth) acrylate or N, Compounds having two or more unsaturated groups such as N-diallyl (meth) acrylamide, or vinyl (meth) acrylate, 1-chlorovinyl (meth) acrylate, 2-phenylvinyl (meth) acrylate, 1-pro A compound having two or more unsaturated groups such as phenyl (meth) acrylate, vinyl crotonate or vinyl (meth) acrylamide, an unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid, or further unsaturated carboxylate, It may be a reaction product obtained by copolymerizing a compound having an electron unsaturated group with respect to the whole compound at a ratio of 10 to 90 mol%, preferably about 30 to about 80 mol%.

또한, 액정 분할 배향 돌기의 형성에 광중합성 조성물을 사용하는 경우, 특히 겔 투과 크로마토그래피 (GPC) 측정에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은, 카르복실기를 갖는 에폭시 아크릴레이트 수지의 경우, 통상 1,000 이상, 바람직하게는 1,500 이상, 통상 30,000 이하, 바람직하게는 20,000 이하, 더욱더 바람직하게는 10,000 이하, 특히 바람직하게는 5,000 이하이다. 카르복실기 함유 비닐 수지의 경우는, 통상 1,000 이상, 바람직하게는 1,500 이상, 더욱 바람직하게는 2,000 이상이고, 통상 100,000 이하, 바람직하게는 50,000 이하, 더욱더 바람직하게는 20,000 이하, 특히 바람직하게는 10,000 이하이다. 상기 범위내의 분자량을 갖는 유기 결합제를 함유하는 경우에는, 광중합성 조성물의 가열시의 변형이 현저한 경향이 있으며, 따라서 액정 분할 배향 돌기의 양호한 형상인 아치형 돌기가 형성될 수 있다.In addition, when using a photopolymerizable composition for formation of a liquid crystal division orientation protrusion, especially the weight average molecular weight of polystyrene conversion by a gel permeation chromatography (GPC) measurement is usually 1,000 or more, when epoxy acrylate resin which has a carboxyl group, It is preferably at least 1,500, usually at most 30,000, preferably at most 20,000, even more preferably at most 10,000, particularly preferably at most 5,000. In the case of the carboxyl group-containing vinyl resin, it is usually 1,000 or more, preferably 1,500 or more, more preferably 2,000 or more, and usually 100,000 or less, preferably 50,000 or less, even more preferably 20,000 or less, particularly preferably 10,000 or less. . In the case of containing an organic binder having a molecular weight within the above range, the deformation during heating of the photopolymerizable composition tends to be remarkable, and thus an arcuate protrusion which is a good shape of the liquid crystal split alignment protrusion can be formed.

(c) 광중합 개시제(c) photopolymerization initiator

본 발명의 광중합성 조성물은 광중합 개시제로서 화학식 (1) 또는 (2) 로 표시되는 옥심 에스테르 화합물을 함유한다:The photopolymerizable composition of the present invention contains an oxime ester compound represented by the formula (1) or (2) as a photopolymerization initiator:

Figure 112006057038294-PCT00011
Figure 112006057038294-PCT00011

(상기 식 중에서, 기호는 상기 화학식 (1) 에서 정의한 바와 같다).(In said formula, a symbol is as defined in the said General formula (1).).

화학식 (1) 에서, 바람직하게는, R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, R1a 는 R1' 와 함께 고리를 형성할 수 있으며, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이고 (n 은 0 내지 3 의 정수임), R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기를 나타내며, R1' 는 방향족 고리 또는 헤테로방향족 고리를 함유하는 임의의 치환기를 나타낸다.In formula (1), preferably, R 1a is a C 2 -25 alkenyl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group or C 1 -20 amino group which may be substituted represents, R 1a is R1 'and may form a ring together, and the linking group which may have a substituent C 1-10 alkylene group, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - , or a combination thereof and (n is an integer of 0 to 3), R 2a represents a C 2 -12 alkanoyl group which may be substituted, R1 'represents any substituent containing an aromatic ring or a heteroaromatic ring.

Figure 112006057038294-PCT00012
Figure 112006057038294-PCT00012

(상기 식 중에서, 기호는 상기 화학식 (2) 에서 정의한 바와 같다).(In said formula, a symbol is as defined in the said General formula (2).).

화학식 (2) 에서, 바람직하게는, R1b 는 C1 -20 알킬기를 나타내고, R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기 또는 C2 -10 아미노카르보닐기를 나타내며, R1' 는 방향족 고리 또는 헤테로방향족 고리를 함유하는 임의의 치환기를 나타낸다.In formula (2), preferably, R 1b represents a C 1 -20 alkyl, R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl group, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 - 20 phenoxycarbonyl nilal represents an alkanoyl group or a C 2 -10-amino group, R1 'represents any substituent containing an aromatic ring or a heteroaromatic ring.

화학식 (1) 및 (2) 로 표시되는 옥심 에스테르 화합물 중에서, 화학식 (3) 또는 (4) 로 표시되는 화합물이 바람직하다:Among the oxime ester compounds represented by the formulas (1) and (2), the compounds represented by the formula (3) or (4) are preferred:

Figure 112006057038294-PCT00013
Figure 112006057038294-PCT00013

(상기 식 중에서, 기호는 상기 화학식 (3) 에서 정의한 바와 같다).(In said formula, a symbol is as defined in the said General formula (3).).

화학식 (3) 에서, 바람직하게는, R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, R1a 는 R3 또는 R7 과 함께 고리를 형성할 수 있다. 이 경우, R1a 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 2 가 또는 3 가 연결기를 형성하고, 연결기는 치환될 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이며 (n 은 0 내지 3 의 정수임), R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기를 나타내고, R3, R4, R5, R6 및 R7 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C6-20 페닐기, C1 -20 헤테로아릴로일기 또는 -NR10R11 을 나타내며, R3, R4, R5, R6 및 R7 중 하나 이상은 -NR10R11 을 나타내고, 단, R10 및 R11 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -4 히드록실알킬기, C3 -5 알케닐기 또는 C6 -20 페닐기를 나타내며, R3 내지 R7 은 서로 결합하여 또는 이들 각각은 R1 과 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있다.Formula (3), preferably, R 1a is an optionally substituted C 2 -25 alkenyl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group or C 1 -20 alkyl amino R 1a may form a ring together with R 3 or R 7 . In this case, R 1a and R 3 and / or R 7 is combined with a divalent or trivalent linking group formed of, a linking group is C 1 -10 alkylene group, which may be substituted, and each - (CH = CH) n - , - (C≡C) n -, or combinations thereof, and (n is an integer of 0 to 3), R 2a represents a C 2 -12 alkanoyl group which may be substituted, R 3, R 4, R 5, R 6 , and R 7 are each independently of the other, a hydrogen atom, a halogen atom, or which may be substituted with a C 1 -12 alkyl, C 6-20 phenyl group, C 1 group or -NR 10 R 11 to-20 heteroaryl group, R 3 , R 4, R 5, R 6 and R 7 represents at least one of the -NR 10 R 11, stage, R 10 and R 11 is C 1 -12 alkyl groups which each independently of the other, may be hydrogen atom, substituted or , C 2 -4 hydroxyl group, C 3 -5 alkenyl group or represents a C 6 -20 phenyl group, R 3 to R 7 are bonded to each other or each of which may form a cyclic structure in combination with R 1 .

Figure 112006057038294-PCT00014
Figure 112006057038294-PCT00014

(상기 식 중에서, 기호는 상기 화학식 (4) 에서 정의한 바와 같다).(In said formula, a symbol is as defined in the said General formula (4).).

화학식 (4) 에서, 바람직하게는, R1b 는 치환될 수 있는 C1 -20 알킬기이고, R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴기, C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기 또는 C2 -10 아미노카르보닐기이며, R3, R4, R5, R6 및 R7 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C6 -20 페닐기, C1 -20 헤테로아릴로일기 또는 -NR10R11 이고, R3, R4, R5, R6 및 R7 중 하나 이상은 -NR10R11 (식 중, R10 및 R11 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -4 히드록실알킬기, C3 -5 알케닐기 또는 C6 -20 페닐기를 나타냄) 을 나타내며, 단, R3 내지 R7 은 서로 결합하여 또는 이들 각각은 R1b 와 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있다.It is as in formula (4), preferably, R 1b is an optionally substituted C 1 -20 alkyl, R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl group, C 1 -20 heteroaryl alkanoyl group, C 3-20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal Kano a group or C 2 -10-amino group, R 3, R 4, R 5, R 6, and R 7 are each independently of the other hydrogen atom, a halogen atom, or which may be substituted with a C 1 -12 alkyl, C 6 -20 phenyl group, C 1 -20 heteroaryl group or -NR 10 R 11, R 3, R 4, R 5, R 6 , and one or more of R 7 is -NR 10 R 11 (wherein, R 10 and R 11 is C 1 -12 alkyl, C 2 -4 hydroxyl group which each independently of the other, may be hydrogen atoms, or substituted, C 3 -5 it represents a represents an alkenyl group or C 6 -20 phenyl group), provided that, R 3 to R 7 are bonded to each other or each of which may form a cyclic structure in combination with R 1b.

더욱 바람직하게는, 옥심 에스테르 화합물은 하기 화학식 (5) 내지 (7) 중 어느 하나로 표시되는 화합물이다:More preferably, the oxime ester compound is a compound represented by any one of the following formulas (5) to (7):

Figure 112006057038294-PCT00015
Figure 112006057038294-PCT00015

(상기 식 중에서, 기호는 상기 화학식 (5) 에서 정의한 바와 같다).(In said formula, a symbol is as defined in the said General formula (5).).

바람직하게는, R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C1 -10 헤테로아릴알킬기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -15 헤테로아릴티오알킬기, C2 -12 디알킬아미노기, C1 -15 디알킬아미노알킬기 또는 C3 -15 N-아실옥시-N-아실아미노알킬기이거나, 또는 R1a 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 치환기를 가질 수 있는 C1 -15 알킬렌기, -(CH=CH)n- 또는 이의 조합을 형성한다.Preferably, R 1a is C 2 -25 alkenyl, C 1 -10 alkyl-heteroaryl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group, C 1 -15 heteroaryl which may be substituted arylthio group, a C 2 -12 dialkylamino group, C 1 -15 alkyl or C 3 dialkylamino -15 N- -N- acyloxy or acylamino group, or R 1a and R 3 and / or R 7 are to each other coupled may have a substituent, C 1 -15 alkylene group, which by-forms or a combination thereof, - (CH = CH) n.

더욱 바람직하게는, R1a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알케닐기, C3 -12 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -10 헤테로아릴티오알킬기 또는 C2 -8 아미노기이거나, 또는 R1a 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n- 또는 이의 조합을 형성한다.More preferably, R 1a is C 2 -12 alkenyl group which may be substituted, C 3 -12 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group, C 1 -10 alkyl group or a hetero arylthio C 2 - to form or a combination thereof - 8, or an amino group, or R 1a and R 3 and / or R 7 are bonded to each other which may have a substituent, C 1 -10 alkylene group, - (CH = CH) n .

상기에서, n 은 0 내지 3 의 정수이고, 바람직하게는 1 또는 2 이다.In the above, n is an integer of 0 to 3, preferably 1 or 2.

바람직하게는, R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기, C3 -12 알케노일기, C3 -8 시클로알카노일기, C7 -15 벤조일기, C1 -15 헤테로아릴로일기, C2 -10 알콕시카르보닐기 또는 C7 -20 페녹시카르보닐기, C3 -12 디알킬아미노카르보닐기 또는 C7 -15 페닐아미노카르보닐기를 나타낸다.Preferably, R 2a is optionally substituted C 2 -12 alkanoyl groups, C 3 -12 noilgi alkenyl, C 3 -8 cycloalkyl alkanoyl, C 7 -15 benzoyl group, C 1 -15 group with heteroaryl , C 2 -10 represents an alkoxycarbonyl group or C 7 -20 phenoxy group, C 3 -12 dialkylamino group or a C 7 -15 phenylamino group.

바람직하게는, R3, R6, R7 및 R12 내지 R15 는 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -12 알케닐기, C2 -12 알케노일기, C5 -8 시클로알킬기, C6 -12 페닐기, C3 -20 헤테로아릴기, C7 -12 벤조일기, C2 -12 알카노일기, C3 -20 헤테로아릴로일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기, C3 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알카노일기, C3-20 알콕시카르보닐알킬기, C8-20 페녹시카르보닐알킬기, C3-20 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기, C2-12 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기, 또는 -OR8 또는 NR10R11 을 나타내고, 단, R3, R6, R7 및 R12 내지 R15 는 서로 결합하여 또는 이들 각각은 R1a 와 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있다.Preferably, R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 15 are each independently of the other a hydrogen atom, a halogen atom, or which may be substituted with a C 1 -12 alkyl, C 2 -12 alkenyl, C 2 noilgi -12 alkenyl, C 5 -8 cycloalkyl group, C 6 -12 phenyl group, C 3 -20 heteroaryl group, C 7 -12 benzoyl group, C group with 2-12 alkanoyl, C 3 -20 heteroaryl, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl, C 3 -20 heteroaryloxy carbonyl nilal alkanoyl group, C 3-20 alkoxycarbonyl group, C 8-20 phenoxy Brassica A carbonylalkyl group, a C 3-20 heteroaryloxycarbonylalkyl group, a C 2-12 alkoxycarbonyl group or a phenoxycarbonyl group, or —OR 8 or NR 10 R 11 , wherein R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 15 may be bonded to each other or each of them may be bonded to R 1a to form a cyclic structure.

바람직하게는, R16 은 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -12 알케닐기, C2 -12 알케노일기, C5 -8 시클로알킬기, C6 -12 페닐기, C3 -20 헤테로아릴기, C7 -12 벤질기, C7 -12 벤조일기, C2 -12 알카노일기, C3 -20 헤테로아릴로일기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C3 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기, C2-12 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기, C3 -15 트리알킬실릴기 또는 C2 -4 히드록실알킬기를 나타내고, 단, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 서로 결합하여 또는 이들 각각은 R1a 와 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있다.Preferably, R 16 is optionally substituted C 1 -12 alkyl, C 2 -12 alkenyl, C 2 -12 alkenyl noilgi, C 5 -8 cycloalkyl group, C 6 -12 phenyl group, C 3 -20 heteroaryl group, C 7 -12 benzyl group, C 7 -12 benzoyl group, C 2 -12 alkanoyl groups, C 3 -20 heteroaryl as weather, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl alkyl group, a C 3 -20 heteroaryloxy carbonyl group, a C 2-12 alkoxy group or a phenoxy group, C 3 -15 trialkylsilyl group or a C 2 -4 represents a hydroxyl group, with the proviso that, R 3, R 6 , R 7 and R 12 to R 16 may be bonded to each other or each of them may be bonded to R 1a to form a cyclic structure.

여기에서, R8 은 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -8 알카노일기, C3 -12 알케닐기, C3 -20 알케노일기, C6 -12 페닐기, -(CH2CH2O)mH (m 은 1 내지 20, 바람직하게는 1 내지 5 의 정수임) 또는 C3 -15 트리알킬실릴기를 나타내고, R9 는 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -8 알카노일기, C3 -12 알케닐기 또는 C6-12 페닐기를 나타내며, R10 및 R11 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -4 히드록실알킬기, C3 -5 알케닐기 또는 C6 -20 페닐기를 나타낸다.Here, R 8 is C 1 -12 alkyl group which may be hydrogen, or substituted, C 2 -8 alkanoyl, C 3 -12 alkenyl, C 3 -20 noilgi alkenyl, C 6 -12 phenyl, - ( CH 2 CH 2 O) m H (m is a number ranging from 1 to 20, preferably an integer of 1 to 5) or C 3 -15 tree represents an alkylsilyl group, R 9 is C 1 -12, which may be a hydrogen atom or a substituted alkyl group, C 2 -8 alkanoyl, C 3 -12 alkenyl group or represents a C 6-12 phenyl group, R 10 and R 11 is C 1 -12 alkyl groups which each independently of the other, may be hydrogen atoms, or substituted, C 2 -4 hydroxyl group, C 3 -5 alkenyl group represents a phenyl group or a C 6 -20.

Figure 112006057038294-PCT00016
Figure 112006057038294-PCT00016

(상기 식 중에서, 기호는 상기 화학식 (6) 에서 정의한 바와 같다).(In said formula, a symbol is as defined in the said General formula (6).).

바람직하게는, R1b 는 치환될 수 있는 C6 -15 페닐기, C1 -10 알킬기, C5 -8 시클로알킬기, C2 -15 알카노일기, C7 -15 벤조일기, C2 -12 알콕시카르보닐기 또는 C7 -12 페녹시카르보닐기, C1 -15 아미드기, 니트로기, C2 -15 알케닐기, C1 -10 헤테로아릴알킬기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C1 -15 헤테로아릴티오알킬기, C2 -12 디알킬아미노기, C1 -15 디알킬아미노알킬기 또는 C3 -15 N-아실옥시-N-아실아미노알킬기이거나, 또는 R1a 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 치환기를 가질 수 있는 C1 -15 알킬렌기, -(CH=CH)n- 또는 이의 조합을 형성한다.Preferably, R 1b is optionally substituted C 6 -15 phenyl group, C 1 -10 alkyl, C 5 -8 cycloalkyl group, C 2 -15 alkanoyl groups, C 7 -15 benzoyl group, C 2 -12 alkoxy group or a C 7 -12 phenoxy group, C 1 -15 amide group, a nitro group, a C 2 -15 alkenyl, C 1 -10 alkyl-heteroaryl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 1 -15 heteroaryl alkylthio group, a C 2 -12 dialkylamino group, C 1 -15 alkyl or C 3 dialkylamino or acylamino -15 N- oxy -N- acylamino group, or R 1a and R 3 and / or R 7 are bonded to each other may have a substituent, C 1 -15 alkylene group, which by-forms or a combination thereof, - (CH = CH) n.

더욱 바람직하게는, R1b 는 치환될 수 있는 C6 -15 페닐기, C1 -10 알킬기, C5 -8 시클로알킬기, C2 -12 알카노일기, C7 -12 벤조일기, C2 -12 알콕시카르보닐기 또는 C7 -12 페녹시카르보닐기, C1-10 아미드기, 니트로기, C2-12 알케닐기, C3-12 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -10 헤테로아릴티오알킬기 또는 C2 -8 아미노기이거나, 또는 R1a 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n- 또는 이의 조합을 형성한다.More preferably, R 1b is optionally substituted C 6 -15 phenyl group, C 1 -10 alkyl, C 5 -8 cycloalkyl group, C 2 -12 alkanoyl groups, C 7 -12 benzoyl group, C 2 -12 alkoxycarbonyl group or C 7 -12 phenoxycarbonyl group, C 1-10 amide group, nitro group, C 2-12 alkenyl, C 3-12 alkoxycarbonyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group, C 1 - 10 hetero arylthio group or an amino group or a C 2 -8, or R 1a and R 3 and / or R 7 is C 1 -10 alkylene group which may have a substituent bonded to each other, - (CH = CH) n - or a Form a combination.

상기에서, n 은 0 내지 3 의 정수이고, 바람직하게는 1 또는 2 이다.In the above, n is an integer of 0 to 3, preferably 1 or 2.

바람직하게는, R2a 는 치환될 수 있는 C1 -15 헤테로아릴기, C1 -15 헤테로아릴알카노일기, C3 -15 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -15 페녹시카르보닐알카노일기, C3 -15 헤테로아릴옥시카르보닐알카노일기 또는 C2 -10 아미노카르보닐기이다.Preferably, R 2a is C 1 -15 heteroaryl group, C 1 -15 heteroaryl alkanoyl, C 3 -15 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -15 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group which may be substituted , C 3 -15 heteroaryloxy carbonyl nilal Kano a group or C 2 -10-amino group.

바람직한 R3, R6, R7 및 R12 내지 R15 는 상기 화학식 (6) 에서의 바람직한 R3, R6, R7 및 R12 내지 R15 와 동일하다.Preferred R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 15 is the same as the preferred R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 15 in the above formula (6).

Figure 112006057038294-PCT00017
Figure 112006057038294-PCT00017

(상기 식 중에서, R1b 는 상기 화학식 (4) 에서 정의한 바와 같고;(Wherein, R 1b is as defined in formula (4) above;

R2b 는 상기 화학식 (3) 에서의 R2a 또는 상기 화학식 (4) 에서의 R2b 를 나타내며;R 2b represents R 2a in Formula (3) or R 2b in Formula (4);

R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -12 알케노일기, C6 -20 페닐기, C7 -20 벤질기 또는 벤조일기, 또는 -NR10R11 이고, 단, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 서로 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있으며, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 중 하나 이상은 치환될 수 있는 C1 -20 헤테 로아릴알킬, 헤테로아릴알카노일 및 헤테로아릴로일기, 및 C3 -15 트리알킬실릴기로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 함유한다).R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 16 is C 1 -12 alkyl, C 2 -12 alkenyl noilgi, C 6 -20 phenyl, C 7 -20, which may be each substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, or Benzyl or benzoyl, or —NR 10 R 11 , provided that R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 may be bonded to each other to form a cyclic structure, and R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 is one or more of the group by C 1 -20 alkyl hete Loa reel, heteroaryl, alkanoyl and heteroaryl which may be substituted, and C 3 -15 tree least one selected from the group consisting alkylsilyl ).

본 발명의 옥심 에스테르 화합물을 표시하는 화학식에서, R1a, R1b, R2a, R2b 및 R2 내지 R16 에 대한 "치환될 수 있는 치환기" 는 각각 서로 독립적으로, 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자와 같은 할로겐 원자; 히드록실기; 니트로기; 시아노기; 또는 임의의 유기기일 수 있으며, 임의의 유기기는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, 아밀기, t-아밀기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기 또는 t-옥틸기와 같은 C1 -18 직쇄 또는 분지형 알킬기; 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 또는 아다만틸기와 같은 C3 -18 시클로알킬기; 비닐기, 프로페닐기 또는 헥세닐기와 같은 C2 -18 직쇄 또는 분지형 알케닐기; 시클로펜테닐기 또는 시클로헥세닐기와 같은 C3 -18 시클로알케닐기; 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, s-부톡시기, t-부톡시기, 아밀옥시기, t-아밀옥시기, n-헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기 또는 t-옥틸옥시기와 같은 C1 -18 직쇄 또는 분지형 알콕시기; 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, 이소프로필티오기, n-부틸티오기, s-부틸티오기, t-부틸티오기, 아밀티오기, t-아밀티오기, n-헥실티오기, n-헵틸티오기, n-옥틸티오기 또는 t-옥틸티오기와 같은 C1 -18 직쇄 또는 분지형 알킬티 오기; 페닐기, 톨릴기, 크실릴기 또는 메시틸기와 같은 C6 -18 아릴기; 벤질기 또는 페네틸기와 같은 C7 -18 아르알킬기; 비닐옥시기, 프로페닐옥시기 또는 헥세닐옥시기와 같은 C2-18 직쇄 또는 분지형 알케닐옥시기; 비닐티오기, 프로페닐티오기 또는 헥세닐티오기와 같은 C2 -18 직쇄 또는 분지형 알케닐티오기; -COR17 로 표시되는 아실기; 카르복실기; -OCOR18 로 표시되는 아실옥시기; -NR19R20 으로 표시되는 아미노기; -NHCOR21 로 표시되는 아실아미노기; -NHCOOR22 로 표시되는 카르바메이트기; -CONR23R24 로 표시되는 카르바모일기; -COOR25 로 표시되는 카르복실레이트기; -SO3NR26R27 로 표시되는 술파모일기; -SO3R28 로 표시되는 술포네이트기; 2-티에닐기, 2-피리딜기, 푸릴기, 옥사졸릴기, 벤족사졸릴기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기, 모르폴리노기, 피롤리디닐기 또는 테트라히드로티오펜 디옥사이드기와 같은 포화 또는 불포화 헤테로시클릭기, 또는 트리메틸실릴기와 같은 트리알킬실릴기일 수 있다.In the formulas representing the oxime ester compounds of the invention, the "substitutable substituents" for R 1a , R 1b , R 2a , R 2b and R 2 to R 16 are each independently of one another, for example, a fluorine atom Halogen atoms such as chlorine, bromine or iodine atoms; Hydroxyl group; Nitro group; Cyano group; Or any organic group, and any organic group may be, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, amyl group, t-amyl group , n- hexyl, n- heptyl, n- octyl group or a t- octyl groups such as C 1 -18 linear or branched alkyl group; Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group or adamantyl group, such as C 3 -18 cycloalkyl; Vinyl group, propenyl group or a hexenyl group and C 2 -18 straight-chain or branched alkenyl groups such as; Cyclopentenyl group or a cyclohexenyl C 3 -18 cycloalkenyl group, such group; Methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, s-butoxy group, t-butoxy group, amyloxy group, t-amyloxy group, n-hexyloxy group, n- tilok heptyl group, n- or t- oxide tilok time octyloxy group and C 1 -18 linear or branched alkoxy group such as; Methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, isopropylthio group, n-butylthio group, s-butylthio group, t-butylthio group, amylthio group, t-amylthio group, n-hex silti come, n- heptyl tilti come, n- or t- oxide tilti come octylthio group and import of C 1 -18 linear or branched alkyl group; C 6 -18 aryl group such as phenyl group, tolyl group, xylyl group or a mesityl group; C 7 -18 aralkyl groups such as benzyl group or phenethyl group; C 2-18 straight or branched alkenyloxy groups such as vinyloxy group, propenyloxy group or hexenyloxy group; Vinyl thio, phenylthio or pro-hexenylthio C 2 -18 coming straight-chain or branched alkenyl groups such nilti; Acyl group represented by -COR 17 ; Carboxyl groups; An acyloxy group represented by -OCOR 18 ; Amino group represented by -NR 19 R 20 ; Acylamino group represented by -NHCOR 21 ; Carbamate groups represented by -NHCOOR 22 ; Carbamoyl group represented by -CONR 23 R 24 ; Carboxylate group represented by -COOR 25 ; Sulfamoyl group represented by -SO 3 NR 26 R 27 ; Sulfonate groups represented by -SO 3 R 28 ; Saturated or unsaturated such as 2-thienyl group, 2-pyridyl group, furyl group, oxazolyl group, benzoxazolyl group, thiazolyl group, benzothiazolyl group, morpholino group, pyrrolidinyl group or tetrahydrothiophene dioxide group Trialkylsilyl groups such as heterocyclic groups or trimethylsilyl groups.

또한, 본 발명에서의 치환기로서, 상기의 것 이외에, =N-OC(=O)R2 와 같은 치환기가 언급될 수 있다. 이러한 화합물로서, R1a 및 R1b 는 각각 =N-OC(=O)R2 로 치환되는 C1 -20 알킬기, C5 -8 시클로알킬기, C2 -20 알카노일기, C7 -20 벤조일기, C2 -12 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기, 또는 C1 -20 아미드기일 수 있다.In addition, as the substituent in the present invention, a substituent such as = N-OC (= 0) R 2 may be mentioned in addition to the above. As such a compound, R 1a and R 1b are each = N-OC (= O) C 1 -20 alkyl group which is substituted with R 2, C 5 -8 cycloalkyl group, C 2 -20 alkanoyl groups, C 7 -20 benzo group, may be a C 2 -12 alkoxycarbonyl group or phenoxycarbonyl group, or C 1 -20 amides.

상기에서, 복수의 치환기는 결합하여 고리를 형성할 수 있고, 형성된 고리는 포화 또는 불포화 방향족 고리 또는 헤테로시클릭 고리일 수 있으며, 시클릭 형태의 치환기를 추가로 가질 수 있고, 치환기는 또한 고리를 형성할 수 있다.In the above, a plurality of substituents may combine to form a ring, the ring formed may be a saturated or unsaturated aromatic ring or a heterocyclic ring, may further have a substituent in cyclic form, and the substituent may also Can be formed.

R17 내지 R28 은 각각 수소 원자, 치환될 수 있는 알킬기, 치환될 수 있는 알케닐기, 치환될 수 있는 알릴기 또는 치환될 수 있는 아르알킬기를 나타낸다. 이들의 위치 관계는 특별히 제한되지 않으며, 이들이 복수의 치환기를 갖는 경우, 치환기는 동일 또는 상이할 수 있다.R 17 to R 28 each represent a hydrogen atom, a substituted alkyl group, a substituted alkenyl group, a substituted allyl group or a substituted aralkyl group. Their positional relationship is not particularly limited, and when they have a plurality of substituents, the substituents may be the same or different.

이상, 화학식 (5) 내지 (7) 로 표시되는 화합물에 대해서 상세하게 설명하였으며, 치환기의 바람직한 조합을 갖는 화합물을 하기에 요약한다.In the above, the compound represented by General formula (5)-(7) was demonstrated in detail, and the compound which has a preferable combination of a substituent is summarized below.

화학식 (5) 에서,In the formula (5),

R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기 또는 C1 -20 아미노알킬기이거나, 또는 R1a 는 R3 또는 R7 과 함께 고리를 형성하고, 이 경우, R1a 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 2 가 또는 3 가 연결기를 형성하며, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n-, 또는 이의 조합이고 (n 은 0 내지 3 의 정수임),R 1a is optionally substituted C 2 -25 alkenyl, C 3 -20 alkoxycarbonyl group, a C 8 -20 phenoxycarbonyl group or C 1 -20 alkyl, or amino, or R 1a is R 3 or R 7 form a ring together with, and in this case, R 1a and R 3 and / or R 7 are bonded to each other, and divalent or trivalent form a linkage group, the linking group which may have a substituent, C 1 -10 alkylene group, - ( CH = CH) n -,-(C≡C) n- , or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3),

R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기이며,R 2a is a C 2 -12 alkanoyl group which may be substituted,

R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -12 알케노일기, C6 -20 페닐기, C7 -20 벤질기 또는 벤조일기, 또는 -NR10R11 이고, 단, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 서로 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있는 화합물.R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 16 is C 1 -12 alkyl, C 2 -12 alkenyl noilgi, C 6 -20 phenyl, C 7 -20, which may be each substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, or A benzyl group or a benzoyl group, or -NR 10 R 11 , provided that R 3 , R 6 , R 7, and R 12 to R 16 are bonded to each other to form a cyclic structure.

화학식 (6) 에서,In formula (6),

R1b 는 치환될 수 있는 C1 -20 알킬기이고,R 1b is an optionally substituted C 1 -20 alkyl,

R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기 또는 C2 -10 아미노카르보닐기이며,R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl alkanoyl, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group, or C 2 -10 and amino group,

R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -12 알케노일기, C6 -20 페닐기, C7 -20 벤질기 또는 벤조일기, 또는 -NR10R11 이고, 단, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 서로 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있는 화합물.R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 16 is C 1 -12 alkyl, C 2 -12 alkenyl noilgi, C 6 -20 phenyl, C 7 -20, which may be each substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, or A benzyl group or a benzoyl group, or -NR 10 R 11 , provided that R 3 , R 6 , R 7, and R 12 to R 16 are bonded to each other to form a cyclic structure.

화학식 (7) 에서,In formula (7),

R1b 는 치환될 수 있는 C1 -20 알킬기, C2 -25 알케닐기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬 기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기 또는 C1 -20 아미노알킬기이거나, 또는 R1a 는 R3 또는 R7 과 함께 고리를 형성하고, 이 경우, R1a 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 2 가 또는 3 가 연결기를 형성하며, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이고 (n 은 0 내지 3 의 정수임),R 1b is optionally substituted C 1 -20 alkyl, C 2 -25 alkenyl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group or C 1 -20 alkyl, or amino, or R 1a is R 3 or form a ring with R 7, and in this case, R 1a and R 3 and / or R 7 are bonded to each other, and divalent or trivalent form a linking group, the linking group is C 1, which may have a substituent -10 alkylene group,-(CH = CH) n -,-(C≡C) n -or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3),

R2 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기, C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기 또는 C2 -10 아미노카르보닐기이며,R 2 is C 2 -12 alkanoyl groups, C 1 -20 hetero arylalkenyl which may be substituted alkanoyl group, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group or a C 2 - 10 aminocarbonyl group,

R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -12 알케노일기, C6 -20 페닐기, C7 -20 벤질기 또는 벤조일기, 또는 -NR10R11 이고, 단, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 서로 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있으며, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 중 하나 이상은 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴알킬, 헤테로아릴알카노일 및 헤테로아릴로일기, 및 C3 -15 트리알킬실릴기로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 함유하는 화합물.R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 16 is C 1 -12 alkyl, C 2 -12 alkenyl noilgi, C 6 -20 phenyl, C 7 -20, which may be each substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, or Benzyl or benzoyl, or —NR 10 R 11 , provided that R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 may be bonded to each other to form a cyclic structure, and R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 is one or more of the at least one selected from the group, and C 3 -15 tree group consisting alkylsilyl a C 1 -20 alkyl, heteroaryl, heteroaryl-alkanoyl and heteroaryl which may be substituted Containing compounds.

또한, 옥심 에스테르 화합물로서 바람직한 것은 하기 화학식 (8) 또는 (9) 로 표시되는 화합물이다:Further preferred as oxime ester compounds are compounds represented by the following general formula (8) or (9):

Figure 112006057038294-PCT00018
Figure 112006057038294-PCT00018

(상기 식 중에서, 기호는 상기 화학식 (8) 에서 정의한 바와 같다).(In said formula, a symbol is as defined in the said General formula (8).).

화학식 (8) 에서, 바람직하게는, R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, 단, R1a 는 Ar1 과 함께 고리를 형성할 수 있으며, 이 경우, R1a 와 Ar1 은 서로 결합하여 2 가 또는 3 가 연결기를 형성하고, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1-10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이며 (n 은 0 내지 3 의 정수임), R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기이다.In formula (8), preferably, R 1a is a C 2 -25 alkenyl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group or C 1 -20 amino group which may be substituted represents, with the proviso that, R 1a may form a ring together with Ar 1, in this case, R 1a and Ar 1 may be bonded to each other to form a divalent or trivalent linking group, the linking group is C 1- which may have a substituent 10 alkylene, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - , or combinations thereof, and (n is an integer of 0 to 3), R 2a is a C 2 -12 know the alkanoyl group which may be substituted .

Figure 112006057038294-PCT00019
Figure 112006057038294-PCT00019

(상기 식 중에서, 기호는 상기 화학식 (9) 에서 정의한 바와 같다).(In said formula, a symbol is as defined in the said General formula (9).).

화학식 (9) 에서, 바람직하게는, R1a 는 치환될 수 있는 C1 -20 알킬기이고, R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴기, C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기 또는 C2 -10 아미노카르보닐기이다.It is as in formula (9), preferably, R 1a is an optionally substituted C 1 -20 alkyl, R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl group, C 1 -20 heteroaryl alkanoyl group, C 3-20 alkoxy carbonyloxy a nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group or a C 2 -10-amino group.

또한, Ar1 은 본 발명의 화합물이 빛을 흡수하기 위해 필요한 부분이며, 200 ㎚ 이상, 바람직하게는 200 내지 500 ㎚, 더욱 바람직하게는 250 내지 500 ㎚ 의 파장을 갖는 빛을 흡수하는 화합물이 바람직하게 사용된다. 구체적으로는, Ar1 은 예를 들면, 벤젠 고리, 페난트렌 고리, 아줄렌 고리, 플루오렌 고리, 아세나프틸렌 고리, 인덴 고리 또는 이의 축합 고리를 함유하는 방향족 고리, 푸란 고리, 티오펜 고리, 피롤 고리, 옥사졸 고리, 이속사졸 고리, 티아졸 고리, 이소티아졸 고리, 이미다졸 고리, 피라졸 고리, 푸라잔 고리, 트리아졸 고리, 피란 고리, 티아디아졸 고리, 옥사디아졸 고리, 피리딘 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 피라진 고리 또는 이의 축합 고리를 함유하는 고리, 또는 아크리딘 고리, 페난트리딘 고리, 크산텐 고리, 카르바졸 고리, 페나진 고리, 페노티아진 고리, 페녹사진 고리 또는 벤조티아졸 고리와 같은 방향족 고리 및 헤테로시클릭 고리를 함유하는 축합 고리일 수 있다.In addition, Ar 1 is a portion required for the compound of the present invention to absorb light, and a compound which absorbs light having a wavelength of 200 nm or more, preferably 200 to 500 nm, more preferably 250 to 500 nm is preferable. Is used. Specifically, Ar 1 is, for example, an aromatic ring containing a benzene ring, phenanthrene ring, azulene ring, fluorene ring, acenaphthylene ring, indene ring or condensed ring thereof, furan ring, thiophene ring, Pyrrole ring, oxazole ring, isoxazole ring, thiazole ring, isothiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, furazan ring, triazole ring, pyran ring, thiadiazole ring, oxadiazole ring, pyridine Ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, ring containing pyrazine ring or condensed ring thereof, or acridine ring, phenanthridine ring, xanthene ring, carbazole ring, phenazine ring, phenothiazine ring, phenoxy Condensed rings containing aromatic rings and heterocyclic rings, such as photographic rings or benzothiazole rings.

p 는 상기 방향족 고리, 헤테로방향족 고리, 축합 방향족 고리 및 축합 헤테로방향족 고리에서 선택되는 Ar1 내에 존재하는 치환 가능한 수소 원자의 수에 상응하며, 통상 2 내지 5, 바람직하게는 2 내지 3 이다.p corresponds to the number of substitutable hydrogen atoms present in Ar 1 selected from the above aromatic rings, heteroaromatic rings, condensed aromatic rings and condensed heteroaromatic rings, and is usually 2 to 5, preferably 2 to 3.

본 발명의 바람직한 화합물의 구체예를 치환기의 조합과 관련해서 하기 표 1(1) 내지 1(6) 에 나타낸다.Specific examples of preferred compounds of the present invention are shown in Tables 1 (1) to 1 (6) below with respect to combinations of substituents.

Figure 112006057038294-PCT00020
Figure 112006057038294-PCT00020

Figure 112006057038294-PCT00021
Figure 112006057038294-PCT00021

Figure 112006057038294-PCT00022
Figure 112006057038294-PCT00022

Figure 112006057038294-PCT00023
Figure 112006057038294-PCT00023

Figure 112006057038294-PCT00024
Figure 112006057038294-PCT00024

Figure 112006057038294-PCT00025
Figure 112006057038294-PCT00025

또한, 본 발명에서의 광중합 개시제로는, 상기 옥심 에스테르 화합물을 단독으로 사용할 수 있거나, 또는 또다른 광중합 개시제와 조합하여 사용할 수 있다. 또다른 광중합 개시제를 병용함으로써 감도 향상을 기대할 수 있다. 예를 들면, 하기 화합물을 언급할 수 있다.In addition, as said photoinitiator, the said oxime ester compound can be used individually, or can be used in combination with another photoinitiator. Sensitivity improvement can be anticipated by using together another photoinitiator. For example, the following compounds may be mentioned.

2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 또는 2-(4-에톡시카르보닐나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진과 같은 할로메틸화 트리아진 유도체; 2-트리클로로메틸-5-(2'-벤조푸릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-[β-(2'-벤조푸릴)비닐]-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-[β-(2'-(6"-벤조푸릴)비닐)]-1,3,4-옥사디아졸 또는 2-트리클로로메틸-5-푸릴-1,3,4-옥사디아졸과 같은 할로메틸화 옥사디아졸 유도체; 2-(2'-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 이량체, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-비스(3'-메톡시페닐)이미다졸 이량체, 2-(2'-플루오로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 이량체, 2-(2'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 이량체 또는 (4'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 이량체와 같은 이미다졸 유도체; 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 페닐 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르 또는 벤조인 이소프로필 에테르와 같은 벤조인 알킬 에테르; 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논 또는 1-클로로안트라퀴논과 같은 안트라퀴논 유도체; 벤잔트론 유도체; 벤조페논, Michler's 케톤, 2-메틸벤조페논, 3-메틸벤조페논, 4-메틸벤조페논, 2-클로로벤조페논, 4-브로모벤조페논 또는 2-카르복시벤조페논과 같은 벤조페논 유도체; 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, α-히드록시-2-메틸페닐프로파논, 1-히드록시-1-메틸에틸-(p-이소프로필페닐) 케톤, 1-히드록시-1-(p-도데실페닐) 케톤, 2-메틸-(4'-(메틸티오)페닐)-2-모르폴리노-1-프로파논 또는 1,1,1-트리클로로메틸-(p-부틸페닐) 케톤과 같은 아세토페논 유도체; 티오크산톤, 2-에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤 또는 2,4-디이소프로필티오크산톤과 같은 티오크산톤 유도체; 에틸 p-디메틸아미노 벤조에이트 또는 에틸 p-디에틸아미노 벤조에이트와 같은 벤조에이트 유도체; 9-페닐아크리딘 또는 9-(p-메톡시페닐)아크리딘과 같은 아크리딘 유도체; 9,10-디메틸벤조페나진과 같은 페나진 유도체; 또는 비스-시클로펜타디에닐-Ti-디클로라이드, 비스-시클로펜타디에닐-Ti-비스-페닐, 비스-시클로펜타디에닐-Ti-비스-(2,3,4,5,6-펜타플루오로펜-1-일), 비스-시클로펜타디에닐-Ti-비스-(2,3,5,6-테트라플루오로펜-1-일), 비스-시클로펜타디에닐-Ti-비스-(2,4,6-트리플루오로펜-1-일), 비스-시클로펜타디에닐-Ti-2,6-디-플루오로펜-1-일, 비스-시클로펜타디에닐-Ti-2,4-디-플루오로펜-1-일, 비스-메틸시클로펜타디에닐-Ti-비스-(2,3,4,5,6-펜타플루오로펜-1-일), 비스-메틸시클로펜타디에닐-Ti-비스-(2,6-디-플루오로펜-1-일) 또는 비스-시클로펜타디에닐-Ti-2,6-디-플루오로-3-(피롤-1-일)-프넨-1-일과 같은 티타노센 유도체.2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s- Triazine, 2- (4-ethoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine or 2- (4-ethoxycarbonylnaphthyl) -4,6-bis (trichloro Halomethylated triazine derivatives such as rommethyl) -s-triazine; 2-trichloromethyl-5- (2'-benzofuryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- [β- (2'-benzofuryl) vinyl] -1,3 , 4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- [β- (2 '-(6 "-benzofuryl) vinyl)]-1,3,4-oxadiazole or 2-trichloromethyl-5 Halomethylated oxadiazole derivatives such as furyl-1,3,4-oxadiazole; 2- (2'-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2'-chloro Phenyl) -4,5-bis (3'-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (2'-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2'- Imidazole derivatives such as methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer or (4'-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer; benzoin methyl ether, benzoin Benzoin alkyl ethers such as phenyl ether, benzoin isobutyl ether or benzoin isopropyl ether; anthra such as 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone or 1-chloroanthraquinone Non derivatives; benzanthrone derivatives; with benzophenone, Michler's ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone or 2-carboxybenzophenone Benzophenone derivatives such as 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy Hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1-hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 '-(methylthio) phenyl) -2-mor Acetophenone derivatives such as polyno-1-propanone or 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) ketone; thioxanthone, 2-ethyl thioxanthone, 2-isopropyl thioxanthone, Thioxanthone derivatives such as 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone or 2,4-diisopropyl thioxanthone; ethyl p-dimethylamino benzoate Or ethyl p-di Benzoate derivatives such as ethylamino benzoate, acridine derivatives such as 9-phenylacridine or 9- (p-methoxyphenyl) acridine, phenazine derivatives such as 9,10-dimethylbenzophenazine; Or bis-cyclopentadienyl-Ti-dichloride, bis-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, bis-cyclopentadienyl-Ti-bis- (2,3,4,5,6-pentafluoro Lofen-1-yl), bis-cyclopentadienyl-Ti-bis- (2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl), bis-cyclopentadienyl-Ti-bis- ( 2,4,6-trifluorophen-1-yl), bis-cyclopentadienyl-Ti-2,6-di-fluorophen-1-yl, bis-cyclopentadienyl-Ti-2, 4-di-fluorophen-1-yl, bis-methylcyclopentadienyl-Ti-bis- (2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl), bis-methylcyclopenta Dienyl-Ti-bis- (2,6-di-fluorophen-1-yl) or bis-cyclopentadienyl-Ti-2,6-di-fluoro-3- (pyrrole-1-yl) Titanocene derivatives such as phenen-1-yl.

본 발명의 광중합성 조성물에는, 상기 개시제 성분 이외에 추가로 증감 색소를 첨가할 수 있다. 광중합성 조성물이 차광 조건하에서 광중합 반응을 일으키기 위해서는, 증감 색소를 첨가하는 것이 바람직하다. 이러한 증감 색소는 예를 들면, JP-A-3-239703 또는 JP-A-5-289335 에 기재된 헤테로시클릭 고리를 갖는 쿠마린 화합물, JP-A-63-221110 에 기재된 3-케토쿠마린 화합물, JP-A-4-221958 또는 JP-A-4-219756 에 기재된 크산텐 색소, JP-A-6-19240 에 기재된 피로메텐 색소, JP-A-47-2528, JP-A-54-155292, JP-A-56-166154 또는 JP-A-59-56403 에 기재된 (p-디알킬아미노벤질리덴)케톤, 스티릴계 색소, JP-A-6-295061 에 기재된 줄로리딜기를 갖는 증감 색소 또는 JP-A-11-326624 에 기재된 디아미노벤젠 화합물일 수 있다.A sensitizing dye can be added to the photopolymerizable composition of this invention further in addition to the said initiator component. In order for a photopolymerizable composition to produce a photopolymerization reaction under light-shielding conditions, it is preferable to add a sensitizing dye. Such sensitizing dyes are, for example, coumarin compounds having a heterocyclic ring as described in JP-A-3-239703 or JP-A-5-289335, 3-ketocoumarin compound as described in JP-A-63-221110, Xanthene dyes described in JP-A-4-221958 or JP-A-4-219756, pyrromethene dyes described in JP-A-6-19240, JP-A-47-2528, JP-A-54-155292, (P-dialkylaminobenzylidene) ketones described in JP-A-56-166154 or JP-A-59-56403, styryl dyes, sensitizing dyes having a gluridyl group described in JP-A-6-295061 or JP The diamino benzene compound described in -A-11-326624.

이들 증감 색소 중에서, 아미노기 함유 증감 색소 또는 크산텐 색소가 특히 바람직하다.Among these sensitizing dyes, amino group-containing sensitizing dyes or xanthene dyes are particularly preferred.

(d) 광중합성 단량체(d) photopolymerizable monomer

본 발명에서의 광중합성 단량체로는, 하나 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물 (이하, 에틸렌성 화합물이라 함) 이 사용된다. 구체적으로, 이것은 예를 들면, 지방족 (폴리)히드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르, 방향족 (폴리)히드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르, 불포화 카르복실산과 다가 카르복실산 및 지방족 폴리히드록시 화합물로부터 수득되는 에스테르, 방향족 폴리히드록시 화합물의 에틸렌 옥사이드, 프로필렌 옥사이드 부가 생성물과 불포화 카르복실산의 에스테르화 반응 생성물, 지방족 폴리히드록시 화합물의 에틸렌 옥사이드, 프로필렌 옥사이드 부가 생성물과 불포화 카르복실산의 에스테르화 반응 생성물, 카프로락톤 변성 다가 알코올과 불포화 카르복실산의 에스테르, 다가 알코올과 다가 이소시아네이트 및 불포화 카르복실산의 반응 생성물, 스티릴 말단 화합물, 인산 함유 불포화 화합물, 또는 폴리에폭시와 불포화 카르복실산의 부가 생성물일 수 있다.As the photopolymerizable monomer in the present invention, a compound having one or more ethylenically unsaturated groups (hereinafter referred to as an ethylenic compound) is used. Specifically, these include, for example, esters of aliphatic (poly) hydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids, esters of aromatic (poly) hydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids, unsaturated carboxylic acids and polyhydric carboxylic acids and aliphatic polyhydrides. Esters obtained from hydroxy compounds, ethylene oxide of aromatic polyhydroxy compounds, esterification products of propylene oxide addition products with unsaturated carboxylic acids, ethylene oxide of aliphatic polyhydroxy compounds, propylene oxide addition products of unsaturated carboxylic acids Esterification products, esters of caprolactone-modified polyhydric alcohols and unsaturated carboxylic acids, reaction products of polyhydric alcohols and polyhydric isocyanates and unsaturated carboxylic acids, styryl terminated compounds, phosphoric acid-containing unsaturated compounds, or polyepoxy and unsaturated carboxylic acids of It may be an addition product.

이들 중, 지방족 폴리히드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르는 구체적으로는, 예를 들면, 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디아크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸올에탄 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 또는 글리세롤 아크릴레이트와 같은 아크릴레이트, 또는 같은 종류의 메타크릴레이트, 이타코네이트, 크로토네이트 또는 말레에이트일 수 있다.Of these, esters of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids are specifically, for example, ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, hexanediol diacrylate, Trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate , Acrylates such as dipentaerythritol hexaacrylate or glycerol acrylate, or the same kind of methacrylates, itaconates, crotonates or maleates.

방향족 폴리히드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르는 예를 들면, 히드로퀴논 디아크릴레이트, 히드로퀴논 디메타크릴레이트, 레소르신 디아크릴레이트, 레소르신 디메타크릴레이트 또는 피로갈롤 트리아크릴레이트일 수 있다. 불포화 카르복실산과 다가 카르복실산 및 다가 히드록시 화합물의 에스테르화에 의해 수득되는 에스테르는 반드시 단일 물질일 필요는 없으며, 그의 대표적인 구체예는 (메트)아크릴산, 프탈산 및 에틸렌 글리콜의 축합물, (메트)아크릴산, 말레산 및 디에틸렌 글리콜의 축합물, (메트)아크릴산, 테레프탈산 및 펜타에리트리톨의 축합물, 및 (메트)아크릴산, 아디프산, 부탄 디올 및 글리세롤의 축합물을 포함한다.The ester of the aromatic polyhydroxy compound and the unsaturated carboxylic acid may be, for example, hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcin diacrylate, resorcin dimethacrylate or pyrogallol triacrylate. have. The esters obtained by esterification of unsaturated carboxylic acids with polyhydric carboxylic acids and polyhydric hydroxy compounds need not necessarily be single substances, and representative embodiments thereof include condensates of (meth) acrylic acid, phthalic acid and ethylene glycol, (meth ) Condensates of acrylic acid, maleic acid and diethylene glycol, condensates of (meth) acrylic acid, terephthalic acid and pentaerythritol, and condensates of (meth) acrylic acid, adipic acid, butane diol and glycerol.

본 발명에 사용되는 기타 에틸렌성 화합물의 예로는, 에틸렌비스아크릴아미드와 같은 아크릴아미드; 디알릴 프탈레이트와 같은 알릴 에스테르; 및 디비닐 프탈레이트와 같은 비닐기 함유 화합물이 또한 유용하다.Examples of other ethylenic compounds used in the present invention include acrylamides such as ethylenebisacrylamide; Allyl esters such as diallyl phthalate; And vinyl group-containing compounds such as divinyl phthalate are also useful.

상기 에틸렌성 화합물 중에서, 바람직한 것은 (메트)아크릴로일기를 갖는 것, 더욱 바람직하게는 아크릴로일기를 갖는 것이다. 이러한 화합물은 예를 들면, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸올에탄 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트 또는 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트일 수 있다.Among the ethylenic compounds, those having a (meth) acryloyl group are preferred, and those having an acryloyl group are more preferred. Such compounds include, for example, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, Dipentaerythritol pentaacrylate or dipentaerythritol hexaacrylate.

본 발명의 광중합성 조성물에서 상기 성분의 배합량으로는, 유기 결합제 (b) 100 중량부 당, 광중합 개시제 (c) 는 0.1 내지 50 중량부, 바람직하게는 1 내지 45 중량부이고, 광중합성 단량체 (d) 는 통상 0 내지 200 중량부, 바람직하게는 3 내지 180 중량부이다. 또한, 흑색 색 재료 (a) 는 용매를 제외한 전체 고형분 중, 통상 30 내지 70 중량%, 바람직하게는 35 내지 65 중량% 이다. 또한, 증감 색소는 유기 결합제 (b) 100 중량부 당, 통상 0 내지 30 중량부, 바람직하게는 0 내지 10 중량부이다.As a compounding quantity of the said component in the photopolymerizable composition of this invention, per 100 weight part of organic binders (b), a photoinitiator (c) is 0.1-50 weight part, Preferably it is 1-45 weight part, and a photopolymerizable monomer ( d) is usually 0 to 200 parts by weight, preferably 3 to 180 parts by weight. In addition, black material (a) is 30-70 weight% normally in the total solid except a solvent, Preferably it is 35-65 weight%. Further, the sensitizing dye is usually 0 to 30 parts by weight, preferably 0 to 10 parts by weight, per 100 parts by weight of the organic binder (b).

광중합 개시제가 상기 범위 미만이면, 광중합성 조성물이 낮은 감도를 가지고 작업 효율이 불량한 경향이 있으며, 상기 범위를 초과하면, 막 형성 기능이 저하되는 경향이 있다. 광중합성 단량체 (에틸렌성 화합물) 가 상기 범위 미만이면, 가교 밀도가 저하되어 내구성, 내열성 등에 문제를 일으키는 경향이 있으며, 상기 범위를 초과하면, 현상성이 저하될 수 있다. 흑색 색 재료가 상기 범위 미만이면, 차광성이 저하되는 경향이 있으며, 따라서 충분한 광학 농도를 갖는 수지 BM 의 형성이 곤란하게 되는 경향이 있다. 반면, 상기 범위를 초과하면, 감도, 해상성, 현상성 등이 현저하게 저하되는 경향이 있으며, 따라서 화상 형성이 곤란하게 되는 경향이 있다.When the photopolymerization initiator is less than the above range, the photopolymerizable composition tends to have low sensitivity and poor working efficiency, and when it exceeds the above range, the film forming function tends to decrease. If a photopolymerizable monomer (ethylenic compound) is less than the said range, crosslinking density will fall and it will have a problem in durability, heat resistance, etc., and when it exceeds this range, developability may fall. If a black material is less than the said range, light-shielding property will fall, and therefore, formation of resin BM which has sufficient optical density tends to become difficult. On the other hand, when it exceeds the said range, there exists a tendency for the sensitivity, resolution, developability, etc. to fall remarkably, and hence image formation tends to become difficult.

본 발명의 광중합성 조성물은 통상 흑색 색 재료 (a), 유기 결합제 (b) (카르복실기를 갖는 에폭시 아크릴레이트 수지), 광중합 개시제 (c) (옥심 에스테르 화합물) 및 추가로, 필요에 따라, 광중합성 단량체 (d) (에틸렌성 화합물) 를 용매에 용해시킨 상태로 사용된다.The photopolymerizable composition of the present invention is usually a black material (a), an organic binder (b) (epoxy acrylate resin having a carboxyl group), a photopolymerization initiator (c) (oxime ester compound) and, if necessary, photopolymerizable. It is used in the state which melt | dissolved the monomer (d) (ethylenic compound) in a solvent.

용매는 바람직하게는 조성물을 구성하는 성분을 용해 또는 분산시킬 수 있고, 100 내지 200 ℃ 범위내의 비점을 갖는 것에서 선택된다. 더욱 바람직한 것은 120 내지 170 ℃ 의 비점을 갖는 것이다.The solvent is preferably selected from those capable of dissolving or dispersing the components constituting the composition and having a boiling point in the range of 100 to 200 ° C. More preferably, it has a boiling point of 120-170 degreeC.

이러한 용매는 예를 들면, 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노프로필 에테르, 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 t-부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 메톡시메틸펜탄올, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올 또는 트리프로필렌 글리콜 메틸 에테르와 같은 글리콜 모노알킬 에테르;Such solvents are, for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol t-butyl ether, Diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, methoxymethylpentanol, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol or Glycol monoalkyl ethers such as tripropylene glycol methyl ether;

에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 디프로필 에테르 또는 디에틸렌 글리콜 디부틸 에테르와 같은 글리콜 디알킬 에테르;Glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether or diethylene glycol dibutyl ether;

에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노프로필 에테르 아세테이트, 메톡시부틸 아세테이트, 메톡시펜틸 아세테이트, 디프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 또는 3-메틸-3-메톡시부틸 아세테이트와 같은 글리콜 알킬 에테르 아세테이트;Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate, methoxypentyl acetate, dipropylene glycol monomethyl Glycol alkyl ether acetates such as ether acetate or 3-methyl-3-methoxybutyl acetate;

디에틸 에테르, 디프로필 에테르, 디이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디아밀 에테르, 에틸 이소부틸 에테르 또는 디헥실 에테르와 같은 에테르;Ethers such as diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, butyl ether, diamyl ether, ethyl isobutyl ether or dihexyl ether;

아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 아밀 케톤, 메틸 이소프로필 케톤, 메틸 이소아밀 케톤, 디이소부틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 시클로헥사논, 에틸 아밀 케톤, 메틸 부틸 케톤, 메틸 헥실 케톤 또는 메틸 노닐 케톤과 같은 케톤;Acetone, methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isoamyl ketone, diisobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl amyl ketone, methyl butyl ketone, methyl hexyl ketone or methyl nonyl ketone Such ketones;

에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜 또는 글리세롤과 같은 1 가 또는 다가 알코올;Monohydric or polyhydric alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol or glycerol;

n-펜탄, n-옥탄, 디이소부티렌, n-헥산, 헥센, 이소프렌, 디펜텐 또는 도데칸과 같은 지방족 탄화수소;aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-octane, diisobutylene, n-hexane, hexene, isoprene, dipentene or dodecane;

시클로헥산, 메틸시클로헥산, 메틸시클로헥센 또는 비시클로헥실과 같은 지환족 탄화수소;Alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, methylcyclohexene or bicyclohexyl;

벤젠, 톨루엔, 크실렌 또는 쿠멘과 같은 방향족 탄화수소;Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene or cumene;

아밀 포르메이트, 에틸 포르메이트, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 아밀 아세테이트, 에틸렌 글리콜 아세테이트, 에틸 프로피오네이트, 프로필 프로피오네이트, 부틸 부티레이트, 이소부틸 부티레이트, 메틸 이소부티레이트, 에틸 카프릴레이트, 부틸 스테아레이트, 에틸 벤조에이트, 메틸 3-에톡시프로피오네이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 메틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 메틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-메톡시프로피오네이트, 프로필 3-메톡시프로피오네이트, 부틸 3-메톡시프로피오네이트 또는 γ-부티로락톤과 같은 사슬상 또는 시클릭 에스테르;Amyl formate, ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, propyl acetate, amyl acetate, ethylene glycol acetate, ethyl propionate, propyl propionate, butyl butyrate, isobutyl butyrate, methyl isobutyrate, ethyl caprylate, Butyl stearate, ethyl benzoate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxyprop Chain or cyclic esters such as cypionate, ethyl 3-methoxypropionate, propyl 3-methoxypropionate, butyl 3-methoxypropionate or γ-butyrolactone;

3-메톡시프로피온산 또는 3-에톡시프로피온산과 같은 알콕시카르복실산;Alkoxycarboxylic acids such as 3-methoxypropionic acid or 3-ethoxypropionic acid;

부틸 클로라이드 또는 아밀 클로라이드와 같은 할로겐화 탄화수소;Halogenated hydrocarbons such as butyl chloride or amyl chloride;

메톡시메틸펜타논과 같은 에테르 케톤; 또는Ether ketones such as methoxymethylpentanone; or

아세토니트릴 또는 벤조니트릴과 같은 니트릴일 수 있다.Nitrile such as acetonitrile or benzonitrile.

상기에 해당하는 용매는 상품명 mineral sprit, Varsol #2, Apco #18 solvent, Apco thinner, Socal solvent No. 1 및 No. 2, Solvesso #150, Shell TS28 solvent, Carbitol, Ethyl Carbitol, butyl Carbitol, Methyl Cellosolve, Ethyl Cellosolve, Ethyl Cellosolve Acetate, 및 diglime 의 시판품일 수 있다.Solvents corresponding to the above are trade name mineral sprit, Varsol # 2, Apco # 18 solvent, Apco thinner, Socal solvent No. 1 and No. 2, Solvesso # 150, Shell TS28 solvent, Carbitol, Ethyl Carbitol, butyl Carbitol, Methyl Cellosolve, Ethyl Cellosolve, Ethyl Cellosolve Acetate, and diglime.

이러한 용매는 단독으로 또는 여러종의 혼합물로서 사용될 수 있다. 본 발명의 광중합성 조성물은 바람직하게는 이러한 용매를 사용하여, 5 내지 50 중량%, 바람직하게는 10 내지 30 중량% 의 고형분 농도를 갖도록 제조된다.These solvents may be used alone or as mixtures of several kinds. The photopolymerizable composition of the present invention is preferably prepared using such a solvent to have a solid concentration of 5 to 50% by weight, preferably 10 to 30% by weight.

본 발명에서는, 필수 성분 (a), (b) 및 (c), 및 필요에 따라 임의 성분 (d) 를 첨가하며, 또한 안료 분산제, 밀착성 향상제, 도포성 향상제, 현상성 개량제 등을 바람직하게 첨가할 수 있다. 특히, 본 발명의 조성물에서는, 흑색 색 재료를 미세하게 분산시키고, 분산 상태를 안정화시키는 것이 품질 안정성 면에서 중요하기 때문에, 안료 분산제를 배합하는 것이 바람직하다.In the present invention, the essential components (a), (b) and (c), and optional component (d) are added as necessary, and a pigment dispersant, an adhesion improving agent, a coatability improving agent, a developability improving agent, and the like are preferably added. can do. In particular, in the composition of the present invention, it is preferable to mix the pigment dispersant because it is important in terms of quality stability to finely disperse the black material and stabilize the dispersed state.

안료 분산제는 흑색 색 재료 (a) 및 유기 결합제 (b) 모두에 친화성을 갖는 것이며, 예를 들면, 비이온성, 양이온성 또는 음이온성 계면활성제, 또는 중합체 분산제일 수 있다. 이들 중, 중합체 분산제가 바람직하며, 특히 1급, 2급 또는 3급 아미노기, 피리딘, 피리미딘 또는 피라진과 같은 질소 함유 헤테로사이클과 같은 염기성 관능기를 갖는 중합체 분산제 (e) 가 유리하게 사용된다.The pigment dispersant is one having affinity for both the black material (a) and the organic binder (b), and may be, for example, a nonionic, cationic or anionic surfactant, or a polymer dispersant. Of these, polymer dispersants are preferred, and polymer dispersants (e) having basic functional groups such as nitrogen-containing heterocycles such as primary, secondary or tertiary amino groups, pyridine, pyrimidine or pyrazine are advantageously used.

염기성 관능기를 갖는 중합체 분산제 (e) 의 바람직한 화학 구조의 구체예로는, 폴리이소시아네이트 화합물, 분자내에 하나 또는 두 개의 히드록실기를 갖는 화합물, 및 동일 분자내에 활성 수소와 3급 아미노기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써 수득되는 분산 수지를 언급할 수 있다.Specific examples of the preferred chemical structure of the polymer dispersing agent (e) having a basic functional group include polyisocyanate compounds, compounds having one or two hydroxyl groups in the molecule, and compounds having active hydrogen and tertiary amino groups in the same molecule. The dispersion resin obtained by making a reaction can be mentioned.

폴리이소시아네이트 화합물은 예를 들면, 파라페닐렌 디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌 디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트 또는 톨리딘 디이소시아네이트와 같은 방향족 디이소시아네이트; 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 리신 메틸 에스테르 디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트 또는 이량체 산 디이소시아네이트와 같은 지방족 디이소시아네이트; 이소포론 디이소시아네이트, 4,4'-메틸렌비스-(시클로헥실 이소시아네이트) 또는 ω,ω'-디이소시아네이트 디메틸시클로헥산과 같은 지환족 디이소시아네이트; 크실릴렌 디이소시아네이트 또는 α,α,α',α'-테트라메틸크실릴렌 디이소시아네이트와 같은 방향족 고리를 갖는 지방족 디이소시아네이트; 리신 에스테르 트리이소시아네이트, 1,6,11-운데칸 트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이트 메틸옥탄, 1,3,6-헥사메틸렌 트리이소시아네이트, 비시클로헵탄 트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트 페닐메탄) 또는 트리스(이소시아네이트페닐) 티오포스페이트와 같은 트리이소시아네이트; 또는 이들의 삼량체 또는 수 부가 생성물, 또는 이들의 폴리올 부가 생성물일 수 있다. 폴리이소시아네이트로서 바람직한 것은 유기 디이소시아네이트의 삼량체이고, 가장 바람직한 것은 톨릴렌 디이소시아네이트의 삼량체 또는 이소포론 디이소시아네이트의 삼량체이며, 이들은 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다.The polyisocyanate compound is, for example, paraphenylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, naphthalene-1,5-di Aromatic diisocyanates such as isocyanates or tolidine diisocyanates; Aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, lysine methyl ester diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate or dimer acid diisocyanate; Alicyclic diisocyanates such as isophorone diisocyanate, 4,4'-methylenebis- (cyclohexyl isocyanate) or ω, ω'-diisocyanate dimethylcyclohexane; Aliphatic diisocyanates having an aromatic ring such as xylylene diisocyanate or α, α, α ', α'-tetramethylxylylene diisocyanate; Lysine ester triisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanate methyloctane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, bicycloheptane triisocyanate, tris (isocyanate phenyl Triisocyanates such as methane) or tris (isocyanatephenyl) thiophosphate; Or trimers or water addition products thereof, or polyol addition products thereof. Preferred as polyisocyanates are trimers of organic diisocyanates, most preferred are trimers of tolylene diisocyanates or trimers of isophorone diisocyanates, which can be used alone or in combination.

이소시아네이트의 삼량체의 제조 방법은 예를 들면, 상기 폴리이소시아네이트를 3급 아민, 포스핀, 알콕시드, 금속 산화물 또는 카르복실레이트와 같은 적당한 삼량체화 촉매로 처리하여 이소시아네이트기를 부분적으로 삼량체화시키고, 항촉매를 첨가하여 삼량체화를 정지시킨 후, 미반응 폴리이소시아네이트를 용매 추출 및 박막 증류에 의해 제거하여 목적하는 이소시아누레이트기 함유 폴리이소시아네이트를 수득하는 방법일 수 있다.Processes for the preparation of trimers of isocyanates include, for example, treating the polyisocyanates with suitable trimerization catalysts such as tertiary amines, phosphines, alkoxides, metal oxides or carboxylates to partially trimer the isocyanate groups, After stopping the trimerization by adding a catalyst, unreacted polyisocyanate may be removed by solvent extraction and thin film distillation to obtain a desired isocyanurate group-containing polyisocyanate.

동일 분자내에 하나 또는 두 개의 히드록실기를 갖는 화합물은 예를 들면, 폴리에테르 글리콜, 폴리에스테르 글리콜, 폴리카보네이트 글리콜 또는 폴리올레핀 글리콜, 또는 이러한 화합물의 하나의 말단의 히드록실기가 C1 -25 알킬기로 알콕시화된 것, 또는 이들의 2 종 이상의 혼합물일 수 있다.Compounds having one or two hydroxyl groups in the same molecule, for example, polyether glycols, polyester glycols, polycarbonate glycols or polyolefin glycol, or such a hydroxyl group in the terminal of the compound C 1 -25 alkyl May be alkoxylated, or a mixture of two or more thereof.

폴리에테르 글리콜은 폴리에테르 디올, 폴리에테르 에스테르 디올 또는 이들의 2 종 이상의 혼합물일 수 있다. 폴리에테르 디올은 알킬렌 옥사이드를 단독중합 또는 공중합시켜 수득되는 것, 예를 들면 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌-프로필렌 글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌 글리콜, 폴리옥시헥사메틸렌 글리콜, 폴리옥시옥타메틸렌 글리콜 또는 이들의 2 종 이상의 혼합물일 수 있다.The polyether glycols may be polyether diols, polyether ester diols or mixtures of two or more thereof. Polyether diols are those obtained by homopolymerization or copolymerization of alkylene oxides, for example polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene-propylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, polyoxyhexamethylene glycol, polyoxyoctamethylene glycol or It may be a mixture of two or more thereof.

폴리에테르 에스테르 디올은 에테르기 함유 디올 또는 이것과 또다른 글리콜과의 혼합물을 디카르복실산 또는 이의 무수물과 반응시켜 수득되는 것, 또는 폴리에스테르 글리콜과 알킬렌 옥사이드를 반응시켜 수득되는 것, 예를 들면 폴리(폴리옥시테트라메틸렌) 아디페이트일 수 있다. 폴리에테르 글리콜로서 가장 바람직한 것은 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌 글리콜 또는 이러한 화합물의 하나의 말단의 히드록실기가 C1 -25 알킬기로 알콕시화된 화합물이다.Polyether ester diols are those obtained by reacting an ether group-containing diol or a mixture of this with another glycol with dicarboxylic acids or anhydrides thereof, or those obtained by reacting polyester glycols with alkylene oxides, e.g. For example poly (polyoxytetramethylene) adipate. Most preferred as the polyether glycol is an alkoxylated compound is polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyoxytetramethylene glycol or a hydroxyl group of one of the terminal of the compound to a C 1 -25 alkyl.

폴리에스테르 글리콜은 디카르복실산 (예를 들면, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 세바스산, 푸마르산, 말레산 또는 프탈산) 또는 이의 무수물과 글리콜 (예를 들면, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2,3-부탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 네오펜틸 글리콜, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 2,5-디메틸-2,5-헥산디올, 1,8-옥타메틸렌 글리콜, 2-메틸-1,8-옥타메틸렌 글리콜 또는 1,9-노난 디올과 같은 지방족 글리콜, 비스히드록시메틸시클로헥산과 같은 지환족 글리콜, 크실릴렌 글리콜 또는 비스히드록시에톡시벤젠과 같은 방향족 글리콜, 또는 N-메틸디에탄올아민과 같은 N-알킬디알칸올아민) 을 중축합시켜 수득되는 것, 예를 들면 폴리에틸렌 아디페이트, 폴리부틸렌 아디페이트, 폴리헥사메틸렌 아디페이트 또는 폴리에틸렌/프로필렌 아디페이트, 또는 상기 디올 또는 C1 -25 1 가 알코올을 개시제로서 사용하여 수득되는 폴리락톤 디올 또는 폴리락톤 모노올, 예를 들면 폴리카프로락톤 글리콜, 폴리메틸 발레로락톤 또는 이들의 2 종 이상의 혼합물일 수 있다. 폴리에스테르 글리콜로서 가장 바람직한 것은 폴리카프로락톤 글리콜 또는 C1 -25 알코올을 개시제로서 사용되는 수득되는 폴리카프로락톤이다.Polyester glycols are dicarboxylic acids (e.g. succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid or phthalic acid) or anhydrides thereof and glycols (e.g. ethylene glycol, diethylene glycol, Triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, Neopentyl glycol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 1,5-pentane Diol, 1,6-hexanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,5- Aliphatic glycols such as dimethyl-2,5-hexanediol, 1,8-octamethylene glycol, 2-methyl-1,8-octamethylene glycol or 1,9-nonane diol, alicyclics such as bishydroxymethylcyclohexane Glycol, xylylene glycol or bismuth Obtained by polycondensation of an aromatic glycol such as hydroxyethoxybenzene or N-alkyldialkanolamine such as N-methyldiethanolamine, for example polyethylene adipate, polybutylene adipate, polyhexamethylene adipate or polyethylene / polypropylene adipate, or a diol or a diol or poly-C 1 -25 1 polylactone obtained by using an alcohol as an initiator monool lactone, for example, polycaprolactone glycol, a lactone or a polymethyl ballet It may be a mixture of two or more thereof. Most preferred as a polyester glycol, a polycaprolactone obtained used the polycaprolactone glycol or C 1 -25 alcohol as an initiator.

폴리카보네이트 글리콜은 예를 들면, 폴리(1,6-헥실렌)카보네이트 또는 폴리(3-메틸-1,5-펜틸렌)카보네이트일 수 있으며, 폴리올레핀 글리콜은 예를 들면, 폴리부타디엔 글리콜, 수소화 폴리부타디엔 글리콜 또는 수소화 폴리이소프로필렌 글리콜일 수 있다. 동일 분자내에 하나 또는 두 개의 히드록실기를 갖는 화합물의 수 평균 분자량은 300 내지 10,000, 바람직하게는 500 내지 6,000, 더욱 바람직하게는 1,000 내지 4,000 이다.The polycarbonate glycol may be, for example, poly (1,6-hexylene) carbonate or poly (3-methyl-1,5-pentylene) carbonate, and the polyolefin glycol may be, for example, polybutadiene glycol, hydrogenated poly Butadiene glycol or hydrogenated polyisopropylene glycol. The number average molecular weight of the compound having one or two hydroxyl groups in the same molecule is 300 to 10,000, preferably 500 to 6,000, more preferably 1,000 to 4,000.

이제, 본 발명에 사용되는, 동일 분자내에 활성 수소와 3급 아미노기를 갖는 화합물을 설명한다. 활성 수소, 즉, 산소 원자, 질소 원자 또는 황 원자에 직접 결합된 수소 원자는 히드록실기, 아미노기 또는 티올기와 같은 관능기 내의 수소 원자일 수 있으며, 이들 중, 아미노기, 특히 1급 아미노기 내의 수소 원자가 바람직하다. 3급 아미노기는 특별히 제한되지 않는다. 3급 아미노기는 C1 -4 알킬기를 갖는 아미노기, 또는 헤테로시클릭 구조, 더욱 구체적으로는 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리일 수 있다.Now, a compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule will be described. Active hydrogen, ie, a hydrogen atom directly bonded to an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, may be a hydrogen atom in a functional group such as a hydroxyl group, an amino group or a thiol group, among which a hydrogen atom in an amino group, in particular a primary amino group is preferred. Do. The tertiary amino group is not particularly limited. Tertiary amino group may be an amino group, or a heterocyclic structure, and more specifically to an imidazole ring or a triazole ring having a C 1 -4 alkyl group;

동일 분자내에 활성 수소와 3급 아미노기를 갖는 화합물의 예로는, 예를 들면 N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, N,N-디프로필-1,3-프로판디아민, N,N-디부틸-1,3-프로판디아민, N,N-디메틸에틸렌디아민, N,N-디에틸에틸렌디아민, N,N-디프로필에틸렌디아민, N,N-디부틸에틸렌디아민, N,N-디메틸-1,4-부탄디아민, N,N-디에틸-1,4-부탄디아민, N,N-디프로필-1,4-부탄디아민 또는 N,N-디부틸-1,4-부탄디아민이 언급될 수 있다.Examples of the compound having active hydrogen and tertiary amino groups in the same molecule include, for example, N, N-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-diethyl-1,3-propanediamine, N, N- Dipropyl-1,3-propanediamine, N, N-dibutyl-1,3-propanediamine, N, N-dimethylethylenediamine, N, N-diethylethylenediamine, N, N-dipropylethylenediamine, N, N-dibutylethylenediamine, N, N-dimethyl-1,4-butanediamine, N, N-diethyl-1,4-butanediamine, N, N-dipropyl-1,4-butanediamine or N, N-dibutyl-1,4-butanediamine may be mentioned.

또한, 3급 아미노기로서의 N 함유 헤테로사이클은 예를 들면, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 트리아졸 고리, 테트라졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 인다졸 고리, 벤즈이미다졸 고리, 벤조트리아졸 고리, 벤족사졸 고리, 벤조티아졸 고리 또는 벤조티아디아졸 고리와 같은 N 함유 헤테로 5-원 고리, 또는 피리딘 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 아크리딘 고리 또는 이소퀴놀린 고리와 같은 N 함유 헤테로 6-원 고리일 수 있다. N 함유 헤테로사이클로서 바람직한 것은 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리이다.Moreover, N containing heterocycle as a tertiary amino group is a pyrazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a tetrazole ring, an indole ring, a carbazole ring, an indazole ring, a benzimidazole ring, benzotriazole, for example. N-containing hetero 5-membered rings such as rings, benzoxazole rings, benzothiazole rings or benzothiadiazole rings, or pyridine rings, pyridazine rings, pyrimidine rings, triazine rings, quinoline rings, acridine rings or N-containing hetero 6-membered ring such as isoquinoline ring. Preferred as N-containing heterocycles are imidazole rings or triazole rings.

이미다졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물의 구체예로는, 예를 들면 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 히스티딘, 2-아미노이미다졸 및 1-(2-아미노에틸)이미다졸이 언급될 수 있다. 또한, 트리아졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물의 구체예로는, 예를 들면 3-아미노-1,2,4-트리아졸, 5-(2-아미노-5-클로로페닐)-3-페닐-1H-1,2,4-트리아졸, 4-아미노-4H-1,2,4-트리아졸-3,5-디올, 3-아미노-5-페닐-1H-1,3,4-트리아졸, 5-아미노-1,4-디페닐-1,2,3-트리아졸 및 3-아미노-1-벤질-1H-2,4-트리아졸이 언급될 수 있다.As specific examples of the compound having an imidazole ring and an amino group, for example, 1- (3-aminopropyl) imidazole, histidine, 2-aminoimidazole and 1- (2-aminoethyl) imidazole may be mentioned. have. As specific examples of the compound having a triazole ring and an amino group, for example, 3-amino-1,2,4-triazole, 5- (2-amino-5-chlorophenyl) -3-phenyl-1H -1,2,4-triazole, 4-amino-4H-1,2,4-triazole-3,5-diol, 3-amino-5-phenyl-1H-1,3,4-triazole, 5-amino-1,4-diphenyl-1,2,3-triazole and 3-amino-1-benzyl-1H-2,4-triazole may be mentioned.

이들 중, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, 1-(3-아미노프로필)이미다졸 또는 3-아미노-1,2,4-트리아졸이 바람직하다. 분산제 재료의 바람직한 배합 비율로는, 폴리이소시아네이트 화합물 100 중량부 당, 동일 분자내에 하나 또는 두 개의 히드록실기를 가지며 수 평균 분자량이 300 내지 10,000 인 화합물이 10 내지 200 중량부, 바람직하게는 20 내지 190 중량부, 더욱 바람직하게는 30 내지 180 중량부이고, 동일 분자내에 활성 수소와 3급 아미노기를 갖는 화합물이 0.2 내지 25 중량부, 바람직하게는 0.3 내지 24 중량부이다.Among them, N, N-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-diethyl-1,3-propanediamine, 1- (3-aminopropyl) imidazole or 3-amino-1,2,4 -Triazole is preferred. The preferred blending ratio of the dispersant material is 10 to 200 parts by weight, preferably 20 to 20, of compounds having one or two hydroxyl groups in the same molecule and having a number average molecular weight of 300 to 10,000 per 100 parts by weight of the polyisocyanate compound. 190 parts by weight, more preferably 30 to 180 parts by weight, and 0.2 to 25 parts by weight, preferably 0.3 to 24 parts by weight of the compound having active hydrogen and tertiary amino groups in the same molecule.

염기성 관능기를 갖는 중합체 분산제 (e) 의 GPC 환산 중량 평균 분자량은 1,000 내지 200,000, 바람직하게는 2,000 내지 100,000, 더욱 바람직하게는 3,000 내지 50,000 이다. 분자량이 1,000 이하이면 분산성 및 분산 안정성이 불충분한 경향이 있고, 200,000 이상이면 용해성이 저하하는 경향과 분산성이 불충분한 경향이 있으며, 동시에 반응의 제어가 곤란하게 될 것이다. 중합체 분산제의 제조는 폴리우레탄 수지 제조의 공지 방법에 따라서 수행된다. 제조를 위한 용매로는, 예를 들면 통상 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논 또는 이소포론과 같은 케톤, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트 또는 셀로솔브 아세테이트와 같은 에스테르, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 또는 헥산과 같은 탄화수소, 디아세톤 알코올, 이소프로판올, 2급 부탄올 또는 3급 부탄올과 같은 일부 알코올, 메틸렌 클로라이드 또는 클로로포름과 같은 염화물, 테트라히드로푸란 또는 디에틸 에테르와 같은 에테르, 또는 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈 또는 디메틸술폭시드와 같은 비양성자성 극성 용매를 사용할 수 있다.The GPC equivalent weight average molecular weight of the polymer dispersing agent (e) having a basic functional group is 1,000 to 200,000, preferably 2,000 to 100,000, more preferably 3,000 to 50,000. If the molecular weight is 1,000 or less, the dispersibility and dispersion stability tend to be insufficient, and if it is 200,000 or more, the solubility tends to decrease and the dispersibility tends to be insufficient, and at the same time, control of the reaction will be difficult. The preparation of the polymer dispersant is carried out in accordance with known methods for preparing polyurethane resins. As solvents for the preparation, for example, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone or isophorone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate or cellosolve acetate, benzene Hydrocarbons such as toluene, xylene or hexane, some alcohols such as diacetone alcohol, isopropanol, secondary butanol or tert butanol, chlorides such as methylene chloride or chloroform, ethers such as tetrahydrofuran or diethyl ether, or dimethylform Aprotic polar solvents such as amides, N-methylpyrrolidone or dimethyl sulfoxide can be used.

제조를 위해서는, 통상 우레탄화 촉매가 사용된다. 이것은 예를 들면, 디부틸주석 디라우레이트, 디옥틸주석 디라우레이트, 디부틸주석 디옥토에이트 또는 스타나스(stannous) 옥토에이트와 같은 주석계 촉매, 철 아세틸아세토네이트 또는 염화 제2철과 같은 철계 촉매, 또는 트리에틸아민 또는 트리에틸렌디아민과 같은 3급 아민계 촉매일 수 있다.For the production, a urethanization catalyst is usually used. This is for example tin based catalysts such as dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, dibutyltin dioctoate or stannous octoate, iron acetylacetonate or ferric chloride. Iron based catalysts or tertiary amine based catalysts such as triethylamine or triethylenediamine.

동일 분자내에 활성 수소와 3급 아미노기를 갖는 화합물의 도입량은 반응 후의 아민가로서 1 내지 100 ㎎ KOH/g 의 범위내로 제어하는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는, 5 내지 95 ㎎ KOH/g 의 범위내이다. 아민가는 염기성 아미노기를 산으로 중화 적정하는 경우 산가에 대응하는 KOH 의 ㎎ 으로 표시되는 값이다. 아민가가 상기 범위 이하이면, 분산 능력이 저하되는 경향이 있고, 상기 범위를 초과하면, 현상성이 저하되는 경향이 있다. 상기 반응으로 수득한 중합체 분산제에 이소시아네이트기가 잔존하는 경우에는, 알코올 또는 아민 화합물로 이소시아네이트기를 탈활성화시키는 것이, 생성물의 경시 안정성을 증가시키는 경향이 있기 때문에 바람직하다. 중합체 분산제를 사용하는 경우, 그 비율은 흑색 색 재료 (a) 에 대해서, 바람직하게는 0.1 내지 30 중량%, 특히 바람직하게는 0.5 내지 25 중량% 이다.It is preferable to control the introduction amount of the compound which has active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule in the range of 1-100 mg KOH / g as amine value after reaction. More preferably, it is in the range of 5-95 mg KOH / g. The amine number is a value expressed in mg of KOH corresponding to the acid value when neutralizing and titrating the basic amino group with an acid. If the amine value is less than or equal to the above range, the dispersing ability tends to be lowered, and if it exceeds the above range, the developability tends to be lowered. In the case where an isocyanate group remains in the polymer dispersant obtained by the above reaction, deactivating the isocyanate group with an alcohol or an amine compound is preferable because it tends to increase the stability over time of the product. In the case of using a polymer dispersant, the proportion is preferably 0.1 to 30% by weight, particularly preferably 0.5 to 25% by weight, with respect to the black material (a).

다음에, 본 발명의 광중합성 조성물의 제조 방법에 대해서 설명한다. 본 발명에서는, 통상 색 재료는, 예를 들어 페인트 컨디셔너, 샌드 그라인더, 볼 밀, 롤 밀, 스톤 밀, 제트 밀 또는 균질화기를 사용하여 분산 처리하는 것이 바람직하다. 분산 처리에 의해 색 재료를 미립자로 형성시킴으로써, 레지스트의 도포 특성이 향상될 것이다. 또한, 색 재료로서 흑색 색 재료를 사용하는 경우, 상기 처리는 차광 능력의 향상에 기여할 것이다.Next, the manufacturing method of the photopolymerizable composition of this invention is demonstrated. In this invention, it is preferable to disperse | distribute a color material normally using a paint conditioner, a sand grinder, a ball mill, a roll mill, a stone mill, a jet mill, or a homogenizer, for example. By forming the color material into fine particles by the dispersion treatment, the coating properties of the resist will be improved. In addition, when using a black material as the color material, the above treatment will contribute to the improvement of the light shielding ability.

분산 처리는 바람직하게는 흑색 색 재료와 용매 또는 분산 기능을 갖는 유기 결합제를 병용한 계, 또는 상기 안료 분산제를 추가로 병용한 계에서 수행된다. 경시적으로 우수한 분산 안정성을 달성하기 위해서 중합체 분산제를 사용하는 것이 특히 바람직하다. 또한, 레지스트 액체로서 배합되는 전체 성분을 동시에 혼합한 액체에서의 분산 처리는, 분산 동안에 발생하는 열로 인해 고 반응성 성분이 변형을 일으킬 수 있기 때문에 바람직하지 않다.Dispersion treatment is preferably carried out in a system using a black material and a solvent or an organic binder having a dispersing function, or in a system further using the pigment dispersant. Particular preference is given to using polymeric dispersants to achieve good dispersion stability over time. In addition, dispersion treatment in a liquid in which all the components to be combined as a resist liquid are mixed at the same time is not preferable because the highly reactive component may cause deformation due to heat generated during dispersion.

샌드 그라인더로 분산을 수행하는 경우에는, 직경 0.1 내지 8 ㎜ 의 유리 비이드 또는 지르코니아 비이드가 바람직하게 사용된다. 분산 조건으로서, 온도는 통상 0 ℃ 내지 100 ℃, 바람직하게는 실온 내지 80 ℃ 이다. 분산 시간은, 잉크의 조성 (색 재료, 용매, 분산제), 샌드 그라인더의 장치 크기 등에 따라 적정 시간이 상이하기 때문에 임의로 조절한다. 레지스트의 20°광택값이 100 내지 200 의 범위내 이도록 잉크의 광택을 제어하는 것이 분산의 척도이다. 레지스트 광택이 낮은 경우에는, 분산 처리가 충분하지 않아, 많은 경우에 거친 안료 입자가 잔존하게 되는데, 이것은 현상성, 밀착성, 해상성 등의 점에서 불충분하다. 또한, 광택값이 상기 범위를 초과할 때까지 분산 처리를 수행하는 경우에는, 다수의 초미립자가 형성되어, 역으로 분산 안정성이 손상되는 경향이 있다.In the case of dispersing with a sand grinder, glass beads or zirconia beads having a diameter of 0.1 to 8 mm are preferably used. As dispersion conditions, the temperature is usually 0 ° C to 100 ° C, preferably room temperature to 80 ° C. The dispersion time is arbitrarily adjusted because the appropriate time varies depending on the composition (color material, solvent, dispersant) of the ink, the device size of the sand grinder, and the like. It is a measure of dispersion to control the gloss of the ink so that the 20 ° gloss value of the resist is in the range of 100 to 200. When the resist gloss is low, the dispersion treatment is not sufficient, and in many cases coarse pigment particles remain, which is insufficient in view of developability, adhesion, resolution and the like. In addition, when the dispersion treatment is performed until the gloss value exceeds the above range, a large number of ultra fine particles are formed, and conversely, dispersion stability tends to be impaired.

이어서, 상기 분산 처리에 의해서 수득한 잉크 및 레지스트 성분으로서 필요한 상기 기타 성분을 첨가하고 혼합하여 균일한 용액을 수득한다. 제조 공정에서는 많은 경우에 미세한 먼지가 감광 용액에 혼합되므로, 수득한 레지스트 감광 용액은 예를 들어 필터로 여과하는 것이 바람직하다.Subsequently, the ink and resist components obtained by the dispersing treatment are added and mixed with the other components necessary to obtain a uniform solution. In many cases, fine dust is mixed with the photosensitive solution in the manufacturing process, so that the obtained resist photosensitive solution is preferably filtered through, for example, a filter.

다음에, 본 발명의 광중합성 조성물을 이용한 컬러 필터의 제조 방법에 대해서 설명한다.Next, the manufacturing method of the color filter using the photopolymerizable composition of this invention is demonstrated.

이하, 본 발명의 광중합성 조성물의 응용예에 대해서 설명한다.Hereinafter, the application example of the photopolymerizable composition of this invention is demonstrated.

(I) 컬러 필터(I) color filter

먼저, 스피너, 와이어 바, 플로우 코터, 다이 코터, 롤 코터 또는 스프레이와 같은 도포 장치로 본 발명의 광중합성 조성물을 투명 기판상에 피복하고, 건조시킨다. 이어서, 이 시료상에 포토마스크를 놓고, 포토마스크를 통해서 화상 노광, 현상 및 필요에 따라, 열 경화 또는 광 경화를 수행하여 차광용 BM 화상을 형성시킨다. 이 조작을 3 색 RGB 에 대해서 반복 수행하여 컬러 필터 화상을 형성시킨다.First, the photopolymerizable composition of the present invention is coated on a transparent substrate with a coating device such as a spinner, a wire bar, a flow coater, a die coater, a roll coater or a spray, and dried. Subsequently, a photomask is placed on this sample, and image exposure, development, and, if necessary, thermal curing or photocuring are performed to form a light shielding BM image. This operation is repeated for three-color RGB to form a color filter image.

(I-1) 광중합성 조성물의 도포 및 건조(I-1) Application and drying of the photopolymerizable composition

본 발명의 광중합성 조성물을 사용하여 컬러 필터의 화소를 형성시키는 경우에는, 이것이 매우 높은 감도 및 고 해상력을 갖기 때문에, 예를 들어 폴리비닐 알코올 산소 차단층을 제공하지 않고서 노광 및 현상에 의해 화상을 형성시킬 수 있다. 사용되는 투명 기판은 컬러 필터용 투명 기판이고, 그의 재질은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 예를 들어 폴리에틸렌 테레프탈레이트와 같은 폴리에스테르, 폴리프로필렌 또는 폴리에틸렌과 같은 폴리올레핀, 또는 폴리카보네이트, 폴리메틸 메타크릴레이트 또는 폴리술폰의 열가소성 플라스틱 시이트, 예를 들어 에폭시 수지, 폴리에스테르 수지 또는 폴리(메트)아크릴 수지의 열경화성 플라스틱 시이트, 또는 유리판일 수 있다. 특히, 내열성 면에서, 유리판 또는 내열성 플라스틱이 바람직하게 사용된다.When the pixel of the color filter is formed using the photopolymerizable composition of the present invention, since it has very high sensitivity and high resolution, for example, an image is exposed and developed without providing a polyvinyl alcohol oxygen barrier layer. Can be formed. The transparent substrate used is a transparent substrate for color filters, and the material thereof is not particularly limited. For example, polyester such as polyethylene terephthalate, polyolefin such as polypropylene or polyethylene, or polycarbonate, polymethyl meta It may be a thermoplastic plastic sheet of acrylate or polysulfone, for example a thermosetting plastic sheet of epoxy resin, polyester resin or poly (meth) acrylic resin, or glass plate. In particular, in view of heat resistance, glass plates or heat resistant plastics are preferably used.

표면에 대한 접착성과 같은 물성을 개량하기 위해, 코로나 방전 처리, 오존 처리 또는 실란 커플링제 또는 우레탄 중합체와 같은 중합체의 박막을 형성하기 위한 처리를 투명 기판에 먼저 적용할 수 있다. 도포 방법은 특별히 제한되지 않으며, 도포 및 건조후의 수지 흑색 매트릭스의 막 두께는 적절하게는 0.1 내지 2 ㎛, 바람직하게는 0.1 내지 1.5 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 1 ㎛ 이다. 본원에서, 본 발명의 컬러 필터는 차광성 면에서, 두께 1 ㎛ 당 3.0 이상의 광학 밀도를 가지는 것이 바람직하다. 또한, 안료와 같은 고형분의 분산 상태의 지표로서, BM 의 20°광택값이 100 내지 200 인 것이 유리하다.In order to improve physical properties such as adhesion to the surface, a corona discharge treatment, an ozone treatment or a treatment for forming a thin film of a polymer such as a silane coupling agent or a urethane polymer may be first applied to the transparent substrate. The coating method is not particularly limited, and the film thickness of the resin black matrix after application and drying is suitably 0.1 to 2 m, preferably 0.1 to 1.5 m, and more preferably 0.1 to 1 m. In the present application, it is preferable that the color filter of the present invention has an optical density of 3.0 or more per micrometer in thickness in terms of light shielding property. Moreover, it is advantageous that the 20 degree glossiness value of BM is 100-200 as an index of the dispersion state of solid content like a pigment.

(I-2) 노광 및 현상(I-2) Exposure and development

건조에는 핫 플레이트, IR 오븐 또는 컨벡션 오븐 등을 사용할 수 있으며, 바람직한 건조 조건은 40 내지 150 ℃ 에서 건조 시간 10 초 내지 60 분간이다. 또한, 노광에 사용되는 광원은 예를 들면, 크세논 램프, 할로겐 램프, 텅스텐 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 금속 할라이드 램프, 중압 수은 램프 또는 저압 수은 램프와 같은 램프 광원, 또는 아르곤 이온 레이저, YAG 레이저, 엑시머 레이저 또는 질소 레이저와 같은 레이저 광원일 수 있다. 특정 파장만을 가지는 조사광을 사용하는 경우에는 광학 필터를 사용할 수 있다.For drying, a hot plate, an IR oven or a convection oven may be used, and preferred drying conditions are a drying time of 10 seconds to 60 minutes at 40 to 150 ° C. Further, the light source used for exposure may be, for example, a lamp light source such as a xenon lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a medium pressure mercury lamp or a low pressure mercury lamp, or an argon ion laser, Laser light sources such as YAG lasers, excimer lasers or nitrogen lasers. When using the irradiation light which has only a specific wavelength, an optical filter can be used.

현상 처리는, 미노광부의 레지스트막을 용해시킬 수 있는 용매를 사용하는 한, 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 아세톤, 메틸렌 클로라이드, 트리클로로에틸렌 또는 시클로헥사논과 같은 유기 용매를 사용할 수 있다. 그러나, 많은 유기 용매는 환경 오염을 야기하고, 인체에 유해하며, 화재 위험이 있기 때문에, 이러한 위험성이 없는 알칼리 현상액을 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 알칼리 현상액은 예를 들면, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 수산화나트륨 또는 수산화칼륨과 같은 무기 알칼리제, 또는 디에탄올아민, 트리에탄올아민 또는 테트라알킬 암모늄 히드록사이드와 같은 유기 알칼리제를 함유하는 수용액일 수 있다. 알칼리 현상액은 필요에 따라, 계면활성제, 수용성 유기 용매, 히드록실기 또는 카르복실기를 갖는 저분자량 화합물 등을 함유할 수 있다. 특히, 다수의 계면활성제는 현상성 및 해상성의 개량 효과 및 부스러기 감소 효과를 가지므로, 계면활성제를 첨가하는 것이 바람직하다.The development treatment is not particularly limited as long as a solvent capable of dissolving the resist film of the unexposed part is used. For example, organic solvents such as acetone, methylene chloride, trichloroethylene or cyclohexanone can be used. However, since many organic solvents cause environmental pollution, are harmful to the human body, and pose a fire hazard, it is preferable to use an alkali developer without such a risk. Such alkaline developers include, for example, inorganic alkali agents such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide or potassium hydroxide, or organic alkali agents such as diethanolamine, triethanolamine or tetraalkyl ammonium hydroxide. It may be an aqueous solution. The alkaline developer may contain, if necessary, a low molecular weight compound having a surfactant, a water-soluble organic solvent, a hydroxyl group, or a carboxyl group. In particular, since many surfactants have an effect of improving developability and resolution and a debris reduction effect, it is preferable to add a surfactant.

예를 들면, 현상액용 계면활성제는 나트륨 나프탈렌 술포네이트기 또는 나트륨 벤젠 술포네이트기를 갖는 음이온성 계면활성제, 폴리알킬렌옥시기를 갖는 비이온성 계면활성제, 또는 테트라알킬암모늄기를 갖는 양이온성 계면활성제일 수 있다. 현상 처리 방법은 특별히 제한되지 않으며, 통상 10 내지 50 ℃, 바람직하게는 15 내지 45 ℃ 의 현상 온도에서, 침지 현상, 스프레이 현상, 브러시 현상, 초음파 현상 등에 의해 수행된다.For example, the surfactant for the developer may be an anionic surfactant having a sodium naphthalene sulfonate group or a sodium benzene sulfonate group, a nonionic surfactant having a polyalkyleneoxy group, or a cationic surfactant having a tetraalkylammonium group. . The development treatment method is not particularly limited, and is usually carried out by immersion development, spray development, brush development, ultrasonic development, and the like at a development temperature of 10 to 50 ° C., preferably 15 to 45 ° C.

(II) 액정 표시 장치 (패널)(II) liquid crystal display (panel)

본 발명의 액정 표시 장치는 상기 컬러 필터를 사용하여 다음과 같이 제조할 수 있다. 먼저, 컬러 필터 상에 배향막을 형성시키고, 이 배향막 상에 스페이서를 배치한 후, 대향 기판과 접합시켜 액정 셀을 형성시킨다. 이어서, 형성된 액정 셀에 액정을 주입하고, 대향 전극에 결선 (結線, wire connection) 시킨다.The liquid crystal display of the present invention can be manufactured as follows using the color filter. First, an alignment film is formed on a color filter, a spacer is arrange | positioned on this alignment film, and it bonds with an opposing board | substrate, and a liquid crystal cell is formed. Next, a liquid crystal is inject | poured into the formed liquid crystal cell, and it connects to a counter electrode.

배향막으로는, 예를 들어 폴리이미드의 수지막이 적합하다. 배향막의 형성에는, 통상 그라비야 인쇄 또는 플렉소 인쇄가 사용된다. 배향막의 두께는 통상 10 내지 100 ㎚ 로 된다. 열 소성에 의해서 배향막을 경화 처리한 후, 자외선 조사 또는 러빙 포 (rubbing cloth) 에 의해서 표면 처리하여, 액정의 경사를 조정할 수 있는 표면 상태로 가공한다.As an orientation film, the resin film of polyimide is suitable, for example. Gravure printing or flexographic printing is normally used for formation of an alignment film. The thickness of the alignment film is usually 10 to 100 nm. After hardening an oriented film by thermal baking, it surface-treats by ultraviolet irradiation or a rubbing cloth, and processes it into the surface state which can adjust the inclination of a liquid crystal.

스페이서로는, 대향 기판과의 간격에 상응하는 크기를 갖는 것이 사용되며, 통상 2 내지 8 ㎛ 의 것이 적합하다. 포토리소그래피에 의해서 컬러 필터 기판상에 투명 수지막의 포토 스페이서 (PS) 를 형성하여, 이것을 스페이서 대신 사용할 수 있다. 대향 기판으로는, 통상 어레이 (array) 기판이 사용되며, 특히 TFT (박막 트랜지스터) 기판이 적합하다.As the spacer, one having a size corresponding to the distance from the opposing substrate is used, and usually 2 to 8 mu m is suitable. By photolithography, the photo spacer PS of a transparent resin film is formed on a color filter substrate, and this can be used instead of a spacer. As the counter substrate, an array substrate is usually used, and in particular, a TFT (thin film transistor) substrate is suitable.

대향 기판과의 간격은 액정 표시 장치의 용도에 따라 다르며, 통상 2 내지 8 ㎛ 의 범위에서 선택된다. 스페이서를 대향 기판에 접합시킨 후, 액정 주입구에 해당하는 부분 이외의 부분은 에폭시 수지와 같은 밀봉 재료로 밀봉시킨다. 밀봉 재료는 UV 조사 및/또는 가열에 의해 경화시켜, 액정 셀의 주변을 밀봉시킨다.The distance from the opposing substrate depends on the use of the liquid crystal display device, and is usually selected in the range of 2 to 8 µm. After the spacer is bonded to the opposing substrate, portions other than those corresponding to the liquid crystal injection holes are sealed with a sealing material such as an epoxy resin. The sealing material is cured by UV irradiation and / or heating to seal the periphery of the liquid crystal cell.

주변이 밀봉된 액정 셀은 패널 단위로 절단한 후, 진공 챔버내에서 감압하에 상기 액정 주입구를 액정에 침지시킨 후, 챔버내로 누출시킴으로써, 액정 셀내에 액정을 주입한다. 액정 셀내의 감압도는 통상 1 × 10-2 내지 1 × 10-7 Pa, 바람직하게는 1 × 10-3 내지 1 × 10-6 Pa 이다. 또한, 감압시에 액정 셀을 가열하는 것이 바람직하고, 가열 온도는 통상 30 내지 100 ℃, 바람직하게는 50 내지 90 ℃ 이다. 액정 셀은 감압시에 통상 10 내지 60 분간 가열을 유지시킨 후, 액정 중에 침지시킨다. 액정이 주입되는 액정 셀의 액정 주입구를 UV 경화 수지의 경화에 의해 밀봉시켜 액정 표시 장치 (패널) 를 완성한다.The liquid crystal cell sealed in the periphery is cut into panel units, and the liquid crystal injection port is immersed in the liquid crystal under reduced pressure in the vacuum chamber, and then leaked into the chamber, thereby injecting the liquid crystal into the liquid crystal cell. The degree of reduced pressure in the liquid crystal cell is usually 1 × 10 −2 to 1 × 10 −7 Pa, preferably 1 × 10 −3 to 1 × 10 −6 Pa. Moreover, it is preferable to heat a liquid crystal cell at the time of pressure reduction, and heating temperature is 30-100 degreeC normally, Preferably it is 50-90 degreeC. The liquid crystal cell is usually immersed in the liquid crystal after maintaining heating for 10 to 60 minutes at the time of pressure reduction. The liquid crystal injection port of the liquid crystal cell into which a liquid crystal is injected is sealed by hardening of UV curable resin, and a liquid crystal display device (panel) is completed.

액정의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 액정은 방향족계, 지방족계 또는 폴리시클릭 화합물과 같은 공지의 액정일 수 있고, 리오트로픽 액정, 서모트로픽 액정 등의 어느 것일 수 있다. 서모트로픽 액정으로는, 네마틱 액정, 스멕틱 액정, 콜레스테릭 액정 등이 알려져 있으며, 이들의 어느 것을 사용할 수 있다.The type of liquid crystal is not particularly limited, and the liquid crystal may be a known liquid crystal such as an aromatic, aliphatic or polycyclic compound, and may be any of a lyotropic liquid crystal and a thermotropic liquid crystal. As a thermotropic liquid crystal, a nematic liquid crystal, a smectic liquid crystal, a cholesteric liquid crystal, etc. are known, and any of these can be used.

(III) 포토 스페이서(III) Photo Space

(III-1) 기판에의 공급 방법(III-1) Supply Method to Substrate

본 발명의 수지 조성물은 통상 용매에 용해 또는 분산된 상태로 기판상에 공급된다. 공급은 스피너법, 와이어바법, 플로우 코트법, 다이 코트법, 롤 코트법 또는 스프레이 코트법과 같은 종래 방법에 의해서 수행할 수 있다. 특히, 다이 코트법이, 도포액의 사용량이 현저하게 감소하며, 또한 예를 들어 스핀 코트법에 의한 경우처럼 부착되는 먼지의 영향이 전혀 없고, 이물질의 발생이 억제되는 종합적인 관점에서 바람직하다. 도포량은 건조 막 두께로서, 통상 0.5 내지 10 ㎛, 바람직하게는 1 내지 8 ㎛, 특히 바람직하게는 1 내지 5 ㎛ 이다. 또한, 건조 막 두께 또는 최종적으로 형성된 스페이서의 높이는 전체 기판 표면에서 균일한 것이 중요하다. 유의한 비균일성은 액정 패널의 불균형을 야기할 수 있다. 또한, 수지 조성물은 잉크젯법 또는 인쇄법에 의해서 패턴 형태로 공급될 수 있다.The resin composition of the present invention is usually supplied onto a substrate in a dissolved or dispersed state in a solvent. Supply can be performed by a conventional method such as spinner method, wire bar method, flow coating method, die coating method, roll coating method or spray coating method. In particular, the die coating method is preferable from a general viewpoint that the amount of the coating liquid used is significantly reduced, and there is no influence of dust to be attached as in the case of the spin coating method, for example, and the generation of foreign matter is suppressed. The application amount is a dry film thickness, usually 0.5 to 10 m, preferably 1 to 8 m, particularly preferably 1 to 5 m. In addition, it is important that the dry film thickness or the height of the finally formed spacer is uniform across the entire substrate surface. Significant nonuniformity can cause imbalance of the liquid crystal panel. In addition, the resin composition may be supplied in a pattern form by an inkjet method or a printing method.

(III-2) 건조 방법(III-2) Drying Method

기판상에 수지 조성물을 공급한 후의 건조는 바람직하게는 핫 플레이트, IR 오븐 또는 컨벡션 오븐을 사용한 건조 방법에 의해서 수행된다. 또한, 온도 증가없이 진공 챔버내에서 수행되는 감압하에서의 건조를 조합하여 사용할 수 있다. 건조 조건은 용매 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라서 임의로 선택할 수 있다. 건조 시간은 용매 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라서, 통상 40 내지 100 ℃ 의 온도에서 15 초 내지 5 분간의 범위내에서, 바람직하게는 50 내지 90 ℃ 의 온도에서 30 초 내지 3 분간의 범위내에서 선택된다.Drying after supplying the resin composition onto the substrate is preferably carried out by a drying method using a hot plate, an IR oven or a convection oven. It is also possible to use a combination of drying under reduced pressure carried out in a vacuum chamber without increasing the temperature. Drying conditions can be arbitrarily selected according to the kind of solvent component, the performance of the dryer to be used, and the like. The drying time is usually within a range of 15 seconds to 5 minutes at a temperature of 40 to 100 ° C, preferably 30 seconds to 3 minutes at a temperature of 50 to 90 ° C, depending on the type of solvent component, the performance of the dryer to be used, and the like. It is selected within the range.

(III-3) 노광 방법(III-3) Exposure method

노광은, 수지 조성물의 도포막 상에 네거티브 마스크 패턴을 겹쳐놓은 후, 마스크 패턴을 통해 자외선 또는 가시광선을 조사하는 방식으로 수행된다. 또한, 레이저 빔에 의한 주사 노광 방법도 사용할 수 있다. 이 경우, 필요에 따라, 산소에 의한 광중합성층의 감도 저하를 방지하기 위해, 광중합성층 상에 폴리비닐 알코올층과 같은 산소 차단층을 형성시킨 후에 노광을 수행한다. 노광에 사용되는 광원은 특별히 한정되지 않는다. 광원은 예를 들면, 크세논 램프, 할로겐 램프, 텅스텐 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 금속 할라이드 램프, 중압 수은 램프, 저압 수은 램프, 탄소 아크 또는 형광 램프와 같은 램프 광원, 또는 아르곤 이온 레이저, YAG 레이저, 엑시머 레이저, 질소 레이저, 헬륨 카드뮴 레이저, 청자색 반도체 레이저 또는 근적외 반도체 레이저와 같은 레이저 광원일 수 있다. 특정 파장을 가지는 광을 조사하는 경우에는 광학 필터를 사용할 수 있다.Exposure is performed by superposing a negative mask pattern on the coating film of a resin composition, and then irradiating an ultraviolet-ray or a visible light through a mask pattern. Moreover, the scanning exposure method by a laser beam can also be used. In this case, if necessary, exposure is performed after forming an oxygen barrier layer such as a polyvinyl alcohol layer on the photopolymerizable layer in order to prevent the sensitivity of the photopolymerizable layer from being deteriorated by oxygen. The light source used for exposure is not specifically limited. The light source may be, for example, a lamp light source such as a xenon lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a medium pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc or a fluorescent lamp, or an argon ion laser, Laser source such as YAG laser, excimer laser, nitrogen laser, helium cadmium laser, blue violet semiconductor laser or near infrared semiconductor laser. When irradiating light with a specific wavelength, an optical filter can be used.

(III-4) 현상 방법(III-4) Developing method

상기 노광을 수행한 후, 알칼리성 화합물과 계면활성제를 함유하는 수용액, 또는 유기 용매를 이용한 현상에 의해서 기판상에 화상 패턴을 형성시킬 수 있다. 수용액은 추가로 유기 용매, 완충제, 착화제, 염료 또는 안료를 함유할 수 있다.After the exposure is performed, an image pattern can be formed on the substrate by an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant or development using an organic solvent. The aqueous solution may further contain organic solvents, buffers, complexing agents, dyes or pigments.

알칼리성 화합물은 예를 들면, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 메타규산나트륨, 황산나트륨, 황산칼륨, 인산수소나트륨, 인산수소칼륨, 인산2수소나트륨, 인산2수소칼륨 또는 수산화암모늄과 같은 무기 알칼리성 화합물, 또는 모노-, 디- 또는 트리에탄올아민, 모노-, 디- 또는 트리메틸아민, 모노-, 디- 또는 트리에틸아민, 모노- 또는 디이소프로필아민, n-부틸아민, 모노-, 디- 또는 트리이소프로판올아민, 에틸렌이민, 에틸렌디이민, 테트라메틸암모늄 히드록사이드 (TMAH) 또는 콜린과 같은 유기 알칼리성 화합물일 수 있다. 이러한 알칼리성 화합물은 이들의 2 종 이상의 혼합물일 수 있다.The alkaline compound is, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium metasilicate, sodium sulfate, potassium sulfate, sodium hydrogen phosphate, hydrogen phosphate Inorganic alkaline compounds such as potassium, sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate or ammonium hydroxide, or mono-, di- or triethanolamine, mono-, di- or trimethylamine, mono-, di- or triethylamine, mono Or an organic alkaline compound such as diisopropylamine, n-butylamine, mono-, di- or triisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediimine, tetramethylammonium hydroxide (TMAH) or choline. Such alkaline compounds may be mixtures of two or more thereof.

계면활성제는 예를 들면, 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르, 폴리옥시에틸렌 알킬 아릴 에테르, 폴리옥시에틸렌 알킬 에스테르, 소르비탄 알킬 에스테르 또는 모노글리세라이드 알킬 에스테르와 같은 비이온성 계면활성제, 알킬벤젠 술포네이트, 알킬나프탈렌 술포네이트, 알킬 술페이트, 알킬 술포네이트 또는 술포숙시네이트와 같은 음이온성 계면활성제, 또는 알킬 베타인 또는 아미노산과 같은 양쪽성 계면활성제일 수 있다.Surfactants include, for example, nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters or monoglyceride alkyl esters, alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalenes Anionic surfactants such as sulfonates, alkyl sulfates, alkyl sulfonates or sulfosuccinates, or amphoteric surfactants such as alkyl betaines or amino acids.

유기 용매는 예를 들면, 이소프로필 알코올, 벤질 알코올, 에틸 셀로솔브, 부틸 셀로솔브, 페닐 셀로솔브, 프로필렌 글리콜 또는 디아세톤 알코올일 수 있다. 유기 용매는 단독으로 또는 수용액과 조합하여 사용할 수 있다.The organic solvent can be, for example, isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol or diacetone alcohol. The organic solvent can be used alone or in combination with an aqueous solution.

(III-5) 열 경화 처리(III-5) heat curing treatment

현상 후의 기판에는 열 경화 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 이 경우, 열 경화 처리 조건으로서, 온도는 100 내지 280 ℃, 바람직하게는 150 내지 250 ℃ 의 범위에서 선택되고, 시간은 5 내지 60 분의 범위에서 선택된다.It is preferable to give a thermosetting process to the board | substrate after image development. In this case, as the thermosetting treatment conditions, the temperature is selected in the range of 100 to 280 ° C, preferably 150 to 250 ° C, and the time is selected in the range of 5 to 60 minutes.

(IV) 리브 (액정 분할 배향 돌기)(IV) rib (liquid crystal division orientation projection)

리브 (액정 분할 배향 돌기) 는 액정 표시 장치의 시야각을 개선하기 위해서 투명 전극 상에 형성되는 돌기를 의미한다. 상기 돌기의 슬로프를 이용하여 액정을 국소적으로 경사지게 함으로써, 한 화소 내에서 액정을 다방향으로 분할시킨다. 이하, 리브의 형성 방법을 상세히 설명한다.The rib (liquid crystal division orientation projection) means a projection formed on the transparent electrode in order to improve the viewing angle of the liquid crystal display device. By inclining the liquid crystal locally using the slope of the projection, the liquid crystal is divided in multiple directions within one pixel. Hereinafter, the formation method of a rib is explained in full detail.

(IV-1) 도포 및 현상 공정(IV-1) Coating and Developing Process

흑색 매트릭스와 적색, 청색 및 녹색 컬러 필터가 형성되어 있고, 추가로 그 위에 150 nm 두께의 ITO 를 증착한 통상 0.1 내지 2 mm 두께의 투명 기판상에, 본 발명의 감광성 조성물을 스피너, 와이어 바, 플로우 코터, 다이 코터, 롤 코터 또는 스프레이와 같은 도포 장치를 이용하여 도포한다. 조성물의 도포막 두께는 통상 0.5 내지 5 ㎛ 이다. 상기 조성물을 함유하는 도포막을 건조시킨 후, 건조 도포막 상에 포토마스크를 놓고, 이어서 상기 포토마스크를 통해 화상 노광시킨다. 노광 후, 노광되지 않은 미경화 부분을 현상에 의해 제거하여 화소를 형성시킨다. 통상, 현상 후 수득되는 화상은 폭 5 내지 20 ㎛ 의 가느다란 선의 재현성을 갖는 것이 요구되며, 고화질 디스플레이의 요구와 함께 고 선명한 가느다란 선 재현성을 갖는 것이 요구되는 경향이 있다. 고 선명한 가느다란 선의 안정한 재현을 위해서, 현상 후의 가느다란 선 화상의 단면 형상은, 현상 시간, 현상액 경시 및 현상 샤워의 물리적 자극과 같은 광범위한 현상 마진의 면에서, 비화상부와 화상부의 콘트라스트가 명확한 직사각형 형태가 바람직하다.The photosensitive composition of the present invention was formed on a transparent substrate having a black matrix and a red, blue, and green color filter, and further having a thickness of 150 nm thick ITO deposited on a normal 0.1-2 mm thick spinner, wire bar, Application is carried out using an application device such as a flow coater, die coater, roll coater or spray. The coating film thickness of a composition is 0.5-5 micrometers normally. After the coating film containing the composition is dried, a photomask is placed on the dry coating film, and then image exposed through the photomask. After the exposure, the unexposed portion that has not been exposed is removed by development to form a pixel. Usually, an image obtained after development is required to have a reproducibility of a thin line having a width of 5 to 20 mu m, and to have a high sharp thin line reproducibility along with the demand of a high quality display. For stable reproduction of high sharp thin lines, the cross-sectional shape of the thin line image after development is a rectangle with a clear contrast of the non-image portion and the image portion in terms of a wide range of development margins such as development time, developer aging and physical stimulation of the development shower. The form is preferred.

(IV-2) 가열 공정(IV-2) heating process

본 발명에서는, 현상 후의 화상은 직사각형 형상에 근접한 단면 형상을 가진다. 리브 형상에 필요한 아치 형상을 수득하기 위해서는, 통상 150 ℃ 이상, 바람직하게는 180 ℃ 이상, 더욱 바람직하게는 200 ℃ 이상 및 통상 400 ℃ 이하, 바람직하게는 300 ℃ 이하, 더욱 바람직하게는 280 ℃ 이하의 온도에서, 통상 10 분 이상, 바람직하게는 15 분 이상, 더욱 바람직하게는 20 분 이상 및 통상 120 분 이하, 바람직하게는 60 분 이하, 더욱 바람직하게는 40 분 이하 동안 가열 처리를 실시하여, 직사각형 단면 형상을 아치 형상으로 변형시킴으로써, 폭 0.5 내지 20 ㎛ 및 높이 0.2 내지 5 ㎛ 의 리브를 형성시킨다. 가열에 의한 변형은, 가열전의 가느다란 선 화상 (직사각형 단면 형상 화상) 의 측면과 기판 평면에 의해 형성된 접촉각 (W1) 을 상기 가열 처리후의 가느다란 선 화상의 측면과 기판 평면에 의해 형성된 접촉각 (W2) 를 비교하는 경우, W1/W2 가 1.2 이상, 바람직하게는 1.3 이상, 더욱 바람직하게는 1.5 이상 및 통상 10 이하, 바람직하게는 8 이하가 되도록, 감광성 조성물과 가열 조건을 임의로 조정함으로써 제어한다. 가열 온도가 높거나 또는 가열 시간이 긴 경우, 변형율은 보다 현저하게 되는 경향이 있으며, 반면, 가열 온도가 낮거나 또는 가열 시간이 짧은 경우, 변형율은 낮아지는 경향이 있다.In the present invention, the image after development has a cross-sectional shape that approximates a rectangular shape. In order to obtain the arch shape required for the rib shape, it is usually 150 ° C or higher, preferably 180 ° C or higher, more preferably 200 ° C or higher and usually 400 ° C or lower, preferably 300 ° C or lower, and more preferably 280 ° C or lower. At a temperature of 10 minutes, preferably at least 15 minutes, more preferably at least 20 minutes and usually at most 120 minutes, preferably at most 60 minutes, more preferably at most 40 minutes, By modifying the rectangular cross-sectional shape into an arch shape, ribs having a width of 0.5 to 20 mu m and a height of 0.2 to 5 mu m are formed. Deformation by heating is performed by the contact angle W1 formed by the side surface of the thin line image (rectangular cross-sectional image) and the substrate plane before heating, and the contact angle W2 formed by the side surface of the thin line image after the heat treatment and the substrate plane. ) Is compared by controlling the photosensitive composition and heating conditions arbitrarily so that W1 / W2 is at least 1.2, preferably at least 1.3, more preferably at least 1.5 and usually at most 10, preferably at most 8. If the heating temperature is high or the heating time is long, the strain tends to be more pronounced, while when the heating temperature is low or the heating time is short, the strain tends to be low.

다음에, 실시예 및 비교예로 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 본 발명의 목적을 벗어나지 않는 범위내에서 결코 하기의 실시예로 한정되지 않는 것으로 이해해야 한다.Next, the present invention will be described in more detail with Examples and Comparative Examples. However, it should be understood that the present invention is not limited to the following examples without departing from the object of the present invention.

제조예 1Preparation Example 1

중합체 분산제 용액의 제조Preparation of Polymer Dispersant Solution

톨릴렌 디이소시아네이트의 삼량체 (Mitsubishi Chemical Corporation 제조, Mytec GP750A, 수지 고형분 50 중량%, 부틸 아세테이트 용액) 32 g 및 촉매로서 디 부틸주석 디라우레이트 0.02 g 을 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 (PGMEA) 47 g 에 희석시키고, 용해시켰다. 이것에, 하나의 말단이 메톡시기인 수 평균 분자량 1,000 의 폴리에틸렌 글리콜 (NOF CORPORATION 제조, UNIOX M-1000) 14.4 g 과 수 평균 분자량 1,000 의 폴리프로필렌 글리콜 (Sanyo Chemical Industries, Ltd. 제조, SANNIX PP-1000) 9.6 g 의 혼합물을 교반하면서 적하한 후, 70 ℃ 에서 추가로 3 시간 동안 반응시켰다. 이어서, 이것에 N,N-디메틸아미노-1,3-프로판디아민 1 g 을 첨가한 후, 40 ℃ 에서 추가로 1 시간 동안 반응시켰다. 이와 같이 수득된 중합체 분산제를 함유하는 용액의 아민가를 중화 적정에 의해 수득하여, 14 ㎎ KOH/g 임을 확인하였다. 또한, 수지 함량을 드라이 업 (dry up) 방법 (150 ℃ 에서 30 분간 핫 플레이트 상에서 용매를 제거하고, 중량 변화량으로부터 수지 농도를 계산하였다) 으로 수득하여, 40 중량% 임을 확인하였다.32 g of tolylene diisocyanate (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Mytec GP750A, 50% by weight of resin solids, butyl acetate solution) and 0.02 g of dibutyltin dilaurate as catalyst were used in propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA). Diluted in g and dissolved. To this, 14.4 g of polyethylene glycol (manufactured by NOF CORPORATION, UNIOX M-1000) having a number-average molecular weight of one terminal and a polypropylene glycol (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., SANNIX PP-) having a number average molecular weight of 1,000 1000) 9.6 g of the mixture was added dropwise while stirring, followed by further reaction at 70 ° C for 3 hours. Subsequently, after adding 1 g of N, N-dimethylamino-1,3-propanediamine to this, it was made to react at 40 degreeC for further 1 hour. The amine titer of the solution containing the polymer dispersant thus obtained was obtained by neutralization titration, and it was confirmed that it was 14 mg KOH / g. In addition, the resin content was obtained by a dry up method (solvent was removed on a hot plate for 30 minutes at 150 ° C., and the resin concentration was calculated from the weight change amount), and it was confirmed that it was 40% by weight.

제조예 2Preparation Example 2

유기 결합제의 제조Preparation of Organic Binder

200 g/eq 의 에폭시 당량 및 65 ℃ 의 연화점을 갖는 o-크레졸 노볼락 에폭시 수지 200 g, 아크릴산 72 g, p-메톡시페놀 0.2 g, 도데실트리메틸암모늄 클로라이드 0.2 g 및 PGMEA 272 g 을 플라스크에 장입하고, 100 ℃ 의 온도에서 8 시간 동안 반응시켰다 (아크릴산 1 당량이 에폭시기 1 당량과 반응함). 또한, 이것에 테트라히드로프탈산 무수물 42 g 을 첨가한 후, 80 ℃ 에서 3 시간 동안 반응시켰다. 반응액을 물에 재침전시키고, 진공 건조시켜 카르복실기를 갖는 노볼락 에폭시 아크릴레이트 수지를 수득하였다. KOH 에 의한 중화 적정을 수행하였으며, 그 후의 수지의 산가는 50 ㎎ KOH/g 이었다.200 g o-cresol novolac epoxy resin, 200 g acrylic acid, 0.2 g p-methoxyphenol, 0.2 g dodecyltrimethylammonium chloride and 272 g PGMEA were added to the flask with an epoxy equivalent of 200 g / eq and a softening point of 65 ° C. Charged and reacted at the temperature of 100 degreeC for 8 hours (1 equivalent of acrylic acid reacted with 1 equivalent of epoxy group). Furthermore, after adding 42 g of tetrahydrophthalic anhydride to this, it was made to react at 80 degreeC for 3 hours. The reaction solution was reprecipitated in water and dried in vacuo to give a novolak epoxy acrylate resin having a carboxyl group. Neutralization titration with KOH was performed, and the acid value of the resin after that was 50 mg KOH / g.

카본 블랙의 분산Dispersion of carbon black

고형분으로서 각각 50 중량부 및 5 중량부의 비율의 착색용 카본 블랙 (Mitsubishi Chemical Corporation 제조, MA-220) 및 제조예 1 에 나타낸 중합체 분산제, 및 PGMEA 를, 고형분 농도가 50 중량% 가 되도록 첨가하였다. 분산액의 총 중량은 50 g 이었다. 분산액을 교반기로 충분히 교반하여 예비혼합을 수행하였다.As the solids, coloring carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MA-220) and the polymer dispersant shown in Preparation Example 1 and PGMEA in the proportions of 50 parts by weight and 5 parts by weight, respectively, were added so that the solid content concentration was 50% by weight. The total weight of the dispersion was 50 g. The dispersion was sufficiently stirred with a stirrer to perform premixing.

이어서, 페인트 진탕기에 의해 25 내지 45 ℃ 에서 6 시간 동안 분산 처리를 수행하였다. 비이드로서 0.5 mmφ 지르코니아 비이드를 분산액과 동일한 중량으로 첨가하였다. 분산 종료 후, 필터로 비이드와 분산액을 분리하였다.The dispersion treatment was then carried out at 25 to 45 ° C. for 6 hours by a paint shaker. As beads, 0.5 mmφ zirconia beads were added at the same weight as the dispersion. After the dispersion was completed, the beads and the dispersion were separated by a filter.

제조예 3Preparation Example 3

옥심 에스테르 화합물 C-1 의 제조Preparation of Oxime Ester Compound C-1

(I) 카르바졸 유도체 (케톤) 의 생성(I) Production of carbazole derivatives (ketones)

에틸 카르바졸 3.9 g (20 mmol) 을 디클로로메탄 20 ㎖ 에 용해시키고, 염화알루미늄 2.9 g (22 mmol) 을 첨가하였다. 얼음 중탕에서 냉각하에, o-메틸벤조일 클로라이드 4.1 g (22 mmol) 을, 반응액의 온도를 5 ℃ 이하로 유지시키면서 적하하였다. 1 시간에 걸쳐서 서서히 실온까지 온도를 승온시키면서 교반을 수행하고, 실온에서 추가로 3 시간 동안 반응을 수행하였다. 또한, 반응액을 얼음 중탕에서 냉각시키고, 염화알루미늄 2.9 g (22 mmol) 을 첨가한 후, 얼음 중탕 에서 냉각시키면서 메타크릴로일 클로라이드 2.3 g (22 mmol) 을, 반응액의 온도를 5 ℃ 이하로 유지시키면서 적하하였다. 1 시간에 걸쳐서 서서히 실온까지 온도를 승온시키면서 교반을 수행한 후, 실온에서 추가로 3 시간 동안 반응을 수행하였다.3.9 g (20 mmol) of ethyl carbazole were dissolved in 20 mL of dichloromethane, and 2.9 g (22 mmol) of aluminum chloride were added. Under cooling in an ice bath, 4.1 g (22 mmol) of o-methylbenzoyl chloride was added dropwise while maintaining the temperature of the reaction solution at 5 ° C or lower. Stirring was performed while gradually raising the temperature to room temperature over 1 hour, and the reaction was carried out at room temperature for an additional 3 hours. The reaction solution was cooled in an ice bath and 2.9 g (22 mmol) of aluminum chloride was added, followed by 2.3 g (22 mmol) of methacryloyl chloride while cooling in an ice bath. It dripped keeping it as. After stirring was performed while gradually raising the temperature to room temperature over 1 hour, the reaction was performed at room temperature for an additional 3 hours.

반응액을 빙수 150 ㎖ 에 적하하고, 에틸 아세테이트 100 ㎖ 를 첨가하여 추출하고, 또한 수성층을 에틸 아세테이트 50 ㎖ 로 추출하고, 유기층을 합하여 10 % 탄산나트륨 수용액 150 ㎖ 로 추출하였다. 유기층을 물 150 ㎖ 로 추가로 추출하고, 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고, 용매를 증발기로 증류 제거함으로써, 오렌지색-적색 오일을 수득하였다. 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (전개 용매: 에틸 아세테이트/n-헥산 = 1/1) 로 정제를 수행하여 담황색 고체 (1) 3.1 g 및 담황색 고체 (2) 0.7 g 을 수득하였다. 수득된 고체 (1) 및 고체 (2) 에 대해서 NMR 스펙트럼 분석을 수행하여, 하기 결과 (시프트 값) 를 수득하였다.The reaction solution was added dropwise to 150 ml of ice water, 100 ml of ethyl acetate was added for extraction, the aqueous layer was extracted with 50 ml of ethyl acetate, and the organic layers were combined and extracted with 150 ml of 10% aqueous sodium carbonate solution. The organic layer was further extracted with 150 mL of water, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off by an evaporator to give an orange-red oil. Purification was carried out by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / n-hexane = 1/1) to give 3.1 g of a pale yellow solid (1) and 0.7 g of a pale yellow solid (2). NMR spectral analysis was carried out on the obtained solid (1) and solid (2) to obtain the following results (shift values).

고체 (1):Solid (1):

7.9-8.8, m, 3H; 7.4, m, 7H; 5.9 (1H,) 5.6, s, 1H; 5.6, s, 1H; 4.4 (2H,), 2.4, s, 3H; 2.1, 2.4, d3H, 1.5, t, 3H7.9-8.8, m, 3 H; 7.4, m, 7 H; 5.9 (1 H,) 5.6, s, 1 H; 5.6, s, 1 H; 4.4 (2H,), 2.4, s, 3H; 2.1, 2.4, d3H, 1.5, t, 3H

고체 (2):Solid (2):

8.6, dd, 1H; 8.0, dd, 1H; 7.9, d, 1H; 7.4, m, 6H; 4.5, q, 2H; 3.6, d, 2H, 2.6, s, 1H; 2.4, s, 3H; 2.2, s, 3H; 1.5, t, 3H8.6, dd, 1 H; 8.0, dd, 1 H; 7.9, d, 1 H; 7.4, m, 6 H; 4.5, q, 2H; 3.6, d, 2H, 2.6, s, 1H; 2.4, s, 3 H; 2.2, s, 3 H; 1.5, t, 3H

상기 NMR 분석 결과로부터, 담황색 고체 (1) 은 3-메타크릴로일-9-에틸-6-(o-톨루오일)-9H-카르바졸로 확인되었다. 담황색 고체 (2) 는 하기 화학식으로 표시되는 케톤 화합물인 것으로 확인되었다:From the above NMR analysis results, the pale yellow solid (1) was identified as 3-methacryloyl-9-ethyl-6- (o-toluoyl) -9H-carbazole. The pale yellow solid (2) was found to be a ketone compound represented by the formula:

Figure 112006057038294-PCT00026
Figure 112006057038294-PCT00026

(II) 옥심 에스테르 화합물의 생성(II) Production of Oxime Ester Compounds

상기 담황색 고체 (2) (0.38 g, 0.001 mol) 를 에탄올 5 ㎖ 에 용해시키고, 히드록실아민 히드로클로라이드 (0.075 g, 0.00105 mol) 및 피리딘 (0.084 g, 0.00105 mol) 을 첨가한 후, 2 시간 동안 환류시켰다. 에탄올을 증류 제거한 후, 물을 첨가하여 무기 물질을 용해시킨 다음, 여과하였다. 여과물을 에틸 아세테이트에 용해시키고, 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켜 옥심체를 수득하였다. 수득된 고체를 THF 3 ㎖ 에 용해시키고, 아세틸 클로라이드 (0.23 g, 0.0022 mol) 를 첨가한 후, 교반하였다. 반응액에 트리에틸아민 (0.21 g, 0.0023 mol) 을 실온에서 적하하였다. 트리에틸아민을 적하함에 따라 염의 침강이 확인되었다. 2 시간 동안 교반한 후, 물 20 ㎖ 를 첨가하고, 이어서 에틸 아세테이트 40 ㎖ 로 추출하였다. 유기층을 물 20 ㎖ 로 2 회 세정하고, 포화 탄산칼륨 수용액 20 ㎖ 로 2 회 세정하고, 유기층을 황산마그네슘으로 건조시키고, 증발시켰다. 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피 (전개 용매: 에틸 아세테이트/n-헥산 = 1/1) 로 정제를 수행하여 담황색 고체 (3) 0.3 g 을 수득하였다.The pale yellow solid (2) (0.38 g, 0.001 mol) was dissolved in 5 mL of ethanol, hydroxylamine hydrochloride (0.075 g, 0.00105 mol) and pyridine (0.084 g, 0.00105 mol) were added, followed by 2 hours. It was refluxed. After ethanol was distilled off, water was added to dissolve the inorganic material and then filtered. The filtrate was dissolved in ethyl acetate, dried over magnesium sulfate and evaporated to afford an oxime. The obtained solid was dissolved in 3 ml of THF, acetyl chloride (0.23 g, 0.0022 mol) was added and then stirred. Triethylamine (0.21 g, 0.0023 mol) was added dropwise to the reaction solution at room temperature. Precipitation of the salt was confirmed by dropping triethylamine. After stirring for 2 hours, 20 ml of water were added, followed by extraction with 40 ml of ethyl acetate. The organic layer was washed twice with 20 ml of water, twice with 20 ml of saturated aqueous potassium carbonate solution, and the organic layer was dried over magnesium sulfate and evaporated. Purification was carried out by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / n-hexane = 1/1) to give 0.3 g of a pale yellow solid (3).

수득된 고체 (3) 에 대해서, 하기 조건하에서 H-NMR 스펙트럼 분석을 수행하 여, 하기 결과 (시프트 값) 를 수득하였다.On the obtained solid (3), H-NMR spectral analysis was performed under the following conditions to obtain the following results (shift value).

용매: 중 클로로포름 (CDCl3)Solvent: In Chloroform (CDCl 3 )

주파수: 270 ㎒Frequency: 270 ㎒

기준 화합물: (CH3)4SiReference compound: (CH 3 ) 4 Si

8.5, dd, 1H; 8.1, dd, 1H; 7.9, dd, 1H; 7.4, m, 6H; 4.4, q, 2H; 3.6, d, 2H, 2.4, s, 3H; 2.3, s, 3H; 2.2, s, 3H; 2.0, s, 3H; 1.5, t, 3H8.5, dd, 1 H; 8.1, dd, 1 H; 7.9, dd, 1 H; 7.4, m, 6 H; 4.4, q, 2 H; 3.6, d, 2H, 2.4, s, 3H; 2.3, s, 3 H; 2.2, s, 3 H; 2.0, s, 3 H; 1.5, t, 3H

상기 NMR 분석 결과로부터, 담황색 고체 (3) 은 하기 화학식으로 표시되는 옥심 에스테르 화합물 (후술하는 실시예 1 에서 사용한 광중합 개시제 C-1) 인 것으로 확인되었다:From the NMR analysis results, it was confirmed that the pale yellow solid (3) was an oxime ester compound represented by the following formula (photopolymerization initiator C-1 used in Example 1 to be described later):

Figure 112006057038294-PCT00027
Figure 112006057038294-PCT00027

제조예 4Preparation Example 4

옥심 에스테르 화합물 C-2 의 제조Preparation of Oxime Ester Compound C-2

제조예 3 에서 담황색 고체 (2) 대신에 3-메타크릴로일-9-에틸-6-(o-톨루오일)-9H-카르바졸을 사용한 것 이외에는, C-1 의 제조와 동일한 방식으로 C-2 를 제조하였다. NMR 시프트 값은 다음과 같았다:C was prepared in the same manner as in the preparation of C-1, except that 3-methacryloyl-9-ethyl-6- (o-toluoyl) -9H-carbazole was used instead of the pale yellow solid (2) in Preparation Example 3. -2 was prepared. NMR shift values were as follows:

8.5, d, 1H; 8.4, d, 1H; 8.1, dd, 1H; 7.9, dd, 1H; 7.4, m, 6H; 7.2, d, 1H; 5.6, s, 1H; 5.1, s, 1H; 4.4, q, 2H; 2.4, s, 3H; 2.2, s, 3H; 2.0, s, 3H; 1.5, t, 3H8.5, d, 1 H; 8.4, d, 1 H; 8.1, dd, 1 H; 7.9, dd, 1 H; 7.4, m, 6 H; 7.2, d, 1 H; 5.6, s, 1 H; 5.1, s, 1 H; 4.4, q, 2 H; 2.4, s, 3 H; 2.2, s, 3 H; 2.0, s, 3 H; 1.5, t, 3H

제조예 5Preparation Example 5

옥심 에스테르 화합물 C-3 의 제조Preparation of Oxime Ester Compound C-3

제조예 3 에서 메타크릴로일 클로라이드를 크로토닐 클로라이드로 변경한 것 이외에는, C-1 의 제조와 동일한 방식으로 C-3 을 제조하였다. NMR 시프트 값은 다음과 같았다:C-3 was prepared in the same manner as the preparation of C-1, except that methacryloyl chloride was changed to crotonyl chloride in Preparation Example 3. NMR shift values were as follows:

8.5, d, 1H; 8.4, d, 1H; 8.1, dd, 1H; 7.9, dd, 1H; 7.4, m, 6H; 4.4, q, 2H; 2.4, s, 3H; 2.2, s, 3H; 2.0, s, 3H; 1.5, t, 3H8.5, d, 1 H; 8.4, d, 1 H; 8.1, dd, 1 H; 7.9, dd, 1 H; 7.4, m, 6 H; 4.4, q, 2 H; 2.4, s, 3 H; 2.2, s, 3 H; 2.0, s, 3 H; 1.5, t, 3H

제조예 6Preparation Example 6

옥심 에스테르 화합물 C-4 의 제조Preparation of Oxime Ester Compound C-4

제조예 3 에서 메타크릴로일 클로라이드를 아세틸 클로라이드로 변경하고, 최종 공정에서 사용한 아세틸 클로라이드를 모노에틸 숙시닐 클로라이드로 변경한 것 이외에는, C-1 의 제조와 동일한 방식으로 C-4 를 제조하였다. NMR 시프트 값은 다음과 같았다:C-4 was prepared by the same method as the preparation of C-1, except for changing the methacryloyl chloride to acetyl chloride in Preparation Example 3 and the acetyl chloride used in the final step to monoethyl succinyl chloride. NMR shift values were as follows:

8.6, d, 1H; 8.5, d, 1H; 8.1, dd, 1H; 8.0, dd, 1H; 7.9, dd, 1H; 7.5, m, 6H; 4.5, q, 2H; 4.2, m, 6H; 2.9, t, 2H; 2.8, t, 2H; 2.7, t, 2H; 2.6, s, 3H; 2.5, s, 3H; 1.5, t, 3H; 1.3, s, 3H8.6, d, 1 H; 8.5, d, 1 H; 8.1, dd, 1 H; 8.0, dd, 1 H; 7.9, dd, 1 H; 7.5, m, 6 H; 4.5, q, 2H; 4.2, m, 6 H; 2.9, t, 2 H; 2.8, t, 2 H; 2.7, t, 2 H; 2.6, s, 3 H; 2.5, s, 3 H; 1.5, t, 3 H; 1.3, s, 3H

제조예 7Preparation Example 7

옥심 에스테르 화합물 C-5 의 제조Preparation of Oxime Ester Compound C-5

제조예 3 에서 메타크릴로일 클로라이드를 아세틸 클로라이드로 변경하고, 최종 공정에서 사용한 아세틸 클로라이드를 모르폴리닐 카르보닐 클로라이드로 변경한 것 이외에는, C-1 의 제조와 동일한 방식으로 C-5 를 제조하였다.C-5 was prepared in the same manner as in the preparation of C-1, except for changing the methacryloyl chloride to acetyl chloride in Preparation Example 3 and the acetyl chloride used in the final step to morpholinyl carbonyl chloride. .

제조예 8Preparation Example 8

옥심 에스테르 화합물 C-8 의 제조Preparation of Oxime Ester Compound C-8

제조예 3 에서 메타크릴로일 클로라이드를 모노에틸 숙시닐 클로라이드로 변경한 것 이외에는, C-1 의 제조와 동일한 방식으로 C-8 을 제조하였다. NMR 시프트 값은 다음과 같았다:C-8 was prepared in the same manner as the preparation of C-1, except that methacryloyl chloride was changed to monoethyl succinyl chloride in Preparation Example 3. NMR shift values were as follows:

8.5, d, 1H; 8.4, d, 1H; 8.1, dd, 1H; 7.9, dd, 1H; 7.4, m, 6H; 4.4, q, 2H; 4.1, q, 2H; 3.3, t, 2H; 2.6, s, 3H; 2.4, s, 3H; 2.3, s, 3H; 1.5, t, 3H; 1.2, d, 3H8.5, d, 1 H; 8.4, d, 1 H; 8.1, dd, 1 H; 7.9, dd, 1 H; 7.4, m, 6 H; 4.4, q, 2 H; 4.1, q, 2H; 3.3, t, 2H; 2.6, s, 3 H; 2.4, s, 3 H; 2.3, s, 3 H; 1.5, t, 3 H; 1.2, d, 3H

실시예 1 내지 9 및 비교예 1 내지 3Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3

(1) 레지스트 용액의 제조(1) Preparation of Resist Solution

상기 기술한 카본 블랙 분산 잉크를 사용하여, 각각의 성분 (a), (b), (c), (d) 및 (e), 유기 용매 및 계면활성제를 고형분으로서 하기 배합비로 첨가한 후, 교반기에 의해 교반 및 용해시켜 흑색 레지스트 감광 용액을 제조하였다.After using each of the carbon black dispersion inks described above, the components (a), (b), (c), (d) and (e), the organic solvent and the surfactant are added as solids in the following blending ratios, and then agitated. Was stirred and dissolved to prepare a black resist photosensitive solution.

(a) 흑색 색 재료(a) black material

카본 블랙 (Mitsubishi Chemical Corporation 제조, MA-220) 50 g50 g of carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MA-220)

(b) 유기 결합제(b) organic binder

표 2 에 기재 30 g30 g described in Table 2

(d) 광중합성 단량체: 에틸렌성 화합물(d) photopolymerizable monomer: ethylenic compound

디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 10 g10 g of dipentaerythritol hexaacrylate

(c) 광중합 개시제(c) photopolymerization initiator

표 2 에 기재Listed in Table 2

유기 용매Organic solvent

프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 300 gPropylene Glycol Monomethyl Ether Acetate 300g

(e) 중합체 분산제 (제조예 1) 5 g(e) 5 g of a polymer dispersant (Preparation Example 1)

계면활성제 (Sumitomo 3M Limited 제조, FC-430) 100 ppm100 ppm of surfactant (manufactured by Sumitomo 3M Limited, FC-430)

(2) 레지스트의 평가(2) Evaluation of resist

흑색 레지스트 감광 용액을 스핀 코터로 유리 기판 (Corning Incorporated 제조, 7059) 상에 도포하고, 80 ℃ 에서 1 분간 핫 플레이트 상에서 건조시켰다. 건조 후의 레지스트의 막 두께를 촉침식 막 두께 측정기 (a feeler type surface profiler) (KLA-Tencor Corporation 제조의 α-step) 로 측정하여 1 ㎛ 임을 확인하였다. 이어서, 샘플을 마스크를 통해 고압 수은 램프로 노광량을 변화시켜 화상 노광시켰다. 25 ℃ 의 온도에서 0.8 % 의 농도를 갖는 탄산나트륨 수용액을 사용하여 스프레이 현상함으로써 레지스트 패턴을 수득하였다.The black resist photosensitive solution was applied onto a glass substrate (Corning Incorporated, 7059) with a spin coater and dried on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute. The film thickness of the resist after drying was measured by a tactile film thickness meter (a-step manufactured by KLA-Tencor Corporation) to confirm that the thickness was 1 m. The sample was then image exposed by varying the exposure dose through a mask with a high pressure mercury lamp. A resist pattern was obtained by spray development using an aqueous sodium carbonate solution having a concentration of 0.8% at a temperature of 25 ° C.

감도, 해상력 및 차광성을 하기의 기준으로 평가하여, 표 2 에 나타낸 결과를 수득하였다.The sensitivity, resolution and light-shielding property were evaluated based on the following criteria, and the results shown in Table 2 were obtained.

1. 감도1. Sensitivity

이것은 20 ㎛ 마스크 패턴을 형성하여 배열시킬 수 있는 적정 노광량 (mj/ ㎠) 으로 나타냈다. 즉, 노광량이 적은 레지스트는 적은 노광량으로 화상을 형성할 수 있기 때문에 고감도를 가진다.This was shown by the appropriate exposure amount (mj / cm <2>) which can form and arrange | position a 20 micrometer mask pattern. That is, a resist with a small exposure amount has high sensitivity because an image can be formed with a small exposure amount.

2. 해상력2. Resolution

20 ㎛ 마스크 패턴을 충실히 재현하는 노광량에서 해상 가능한 레지스트 최소 패턴 치수를 200 배 배율의 현미경으로 관찰하였다.At a exposure dose that faithfully reproduces a 20 μm mask pattern, the resolvable resist minimum pattern dimension was observed under a microscope of 200 times magnification.

최소 패턴 치수가 10 ㎛ 이하: ○Minimum pattern dimensions 10 μm or less: ○

최소 패턴 치수가 10 ㎛ 초과: ×Minimum pattern dimensions exceed 10 μm: ×

3. 차광성3. Shading

화상부에서의 광학 밀도 (OD) 를 Macbeth 반사 밀도계 (Gretag Macbeth (이전 고르모르군) 제조의 TR927) 로 측정하였다. OD 값은 차광 능력을 나타내는 수치이며, 높은 값이 높은 차광성을 나타낸다.The optical density (OD) in the image portion was measured by a Macbeth reflection density meter (TR927, manufactured by Gretag Macbeth (formerly Gormor Group)). An OD value is a numerical value which shows light shielding ability, and a high value shows high light shielding property.

4. 내스크래치성4. Scratch resistance

수득된 화상 패턴을 갖는 유리 기판을 무처리 유리 기판 (Corning Incorporated 제조, 7059) 상에, 화상 패턴이 무처리 유리면에 접촉하도록 놓고, 하기에 나타낸 하중을 가하여, 3 ㎝/초의 속도로 5 회 마찰시켰다. 마찰시킨 후, 스크래치의 유무를 육안으로, 하기 기준으로 시각 평가하였다.The glass substrate having the obtained image pattern was placed on an untreated glass substrate (manufactured by Corning Incorporated, 7059) such that the image pattern was brought into contact with the untreated glass surface, and subjected to the load shown below, and subjected to friction five times at a speed of 3 cm / sec. I was. After rubbing, the presence or absence of a scratch was visually evaluated based on the following reference | standard.

하중 (g/㎠)Load (g / ㎠) 스크래치scratch 평가evaluation 6060 관찰됨Observed 6060 전혀 관찰되지 않음Not observed at all 100100 전혀 관찰되지 않음Not observed at all

실시예 10Example 10

흑색 색 재료로서 사용한 카본 블랙 (Mitsubishi Chemical Corporation 제조, MA-220) 대신 티탄 블랙 (MITSUBISHI MATERIAL CORPORATION 제조, 13M-C) 을 사용한 것 이외에는 실시예 9 와 동일한 처리를 수행하여 흑색 매트릭스 패턴을 수득하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.A black matrix pattern was obtained in the same manner as in Example 9 except that titanium black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, 13M-C) was used instead of carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MA-220) used as the black material. The results are shown in Table 2.

비교예 4Comparative Example 4

흑색 색 재료로서 사용한 카본 블랙 (Mitsubishi Chemical Corporation 제조, MA-220) 대신 티탄 블랙 (MITSUBISHI MATERIAL CORPORATION 제조, 13M-C) 을 사용한 것 이외에는 비교예 3 과 동일한 처리를 수행하여 흑색 매트릭스 패턴을 수득하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.A black matrix pattern was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that titanium black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, 13M-C) was used instead of carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MA-220) used as the black material. The results are shown in Table 2.

유기 결합제 (b)Organic binders (b) 광중합 개시제 (c)Photopolymerization initiator (c) 감도Sensitivity 해상력definition 내스크래치성Scratch resistance 차광성Shading 표 1 에 대응Corresponds to Table 1 mj/㎠mj / ㎠ 실시예 1Example 1 제조예 2Preparation Example 2 C-1C-1 No. 22No. 22 2525 3.53.5 실시예 2Example 2 제조예 2Preparation Example 2 C-2C-2 No. 3No. 3 2525 3.53.5 실시예 3Example 3 제조예 2Preparation Example 2 C-3C-3 No. 4No. 4 2525 3.53.5 실시예 4Example 4 제조예 2Preparation Example 2 C-4C-4 No. 16No. 16 3030 3.53.5 실시예 5Example 5 제조예 2Preparation Example 2 C-5C-5 No. 19No. 19 3030 3.53.5 실시예 6Example 6 제조예 2Preparation Example 2 C-1/C-2 혼합계C-1 / C-2 Mixing System No. 22, No. 3No. 22, no. 3 2525 3.53.5 실시예 7Example 7 제조예 2Preparation Example 2 C-7C-7 No. 28No. 28 2020 3.53.5 실시예 8Example 8 제조예 2Preparation Example 2 C-8C-8 No. 29No. 29 2525 3.53.5 실시예 9Example 9 제조예 2Preparation Example 2 C-9C-9 No. 37No. 37 2020 3.53.5 실시예 10 Example 10 제조예 2Preparation Example 2 C-9C-9 No. 37No. 37 2020 3.33.3 비교예 1Comparative Example 1 제조예 2Preparation Example 2 트리아진 ATriazine A -- 100100 3.53.5 비교예 2Comparative Example 2 ACA-200MACA-200M CGI-124CGI-124 -- 150150 ×× 3.53.5 비교예 3Comparative Example 3 제조예 2Preparation Example 2 3 종 혼합계3 types of mixing system -- 200200 3.53.5 비교예 4Comparative Example 4 제조예 2Preparation Example 2 3 종 혼합계3 types of mixing system -- 150150 3.33.3

표 2 에서, 기호의 의미는 다음과 같다.In Table 2, the meanings of the symbols are as follows.

ACA-200M: 아크릴 중합체 (DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. 제조, ACA-200M)ACA-200M: acrylic polymer (manufactured by DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD., ACA-200M)

C-1: 표 1 에 나타낸 화합물 번호 22C-1: Compound No. 22 shown in Table 1

Figure 112006057038294-PCT00028
Figure 112006057038294-PCT00028

C-2: 표 1 에 나타낸 화합물 번호 3C-2: Compound No. 3 shown in Table 1

Figure 112006057038294-PCT00029
Figure 112006057038294-PCT00029

C-3: 표 1 에 나타낸 화합물 번호 4C-3: Compound No. 4 shown in Table 1

Figure 112006057038294-PCT00030
Figure 112006057038294-PCT00030

C-4: 표 1 에 나타낸 화합물 번호 16C-4: Compound No. 16 shown in Table 1

Figure 112006057038294-PCT00031
Figure 112006057038294-PCT00031

C-5: 표 1 에 나타낸 화합물 번호 19C-5: compound number 19 shown in Table 1

Figure 112006057038294-PCT00032
Figure 112006057038294-PCT00032

C-7: 표 1 에 나타낸 화합물 번호 28C-7: Compound No. 28 shown in Table 1

Figure 112006057038294-PCT00033
Figure 112006057038294-PCT00033

C-8: 표 1 에 나타낸 화합물 번호 29C-8: Compound No. 29 shown in Table 1

Figure 112006057038294-PCT00034
Figure 112006057038294-PCT00034

C-9: 표 1 에 나타낸 화합물 번호 37C-9: compound number 37 shown in Table 1

Figure 112006057038294-PCT00035
Figure 112006057038294-PCT00035

트리아진 A: 4-(m-브로모-p-메톡시페닐)-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진 (5 g)Triazine A: 4- (m-bromo-p-methoxyphenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine (5 g)

Figure 112006057038294-PCT00036
Figure 112006057038294-PCT00036

CGI-124: 광중합 개시제 (Ciba Specialty Chemicals K.K. 제조, CGI-124) (5 g)CGI-124: photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals K.K., CGI-124) (5 g)

Figure 112006057038294-PCT00037
Figure 112006057038294-PCT00037

3 종 혼합계: 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 (2 g) + 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 (1 g) + 2-메르캅토벤조티아졸 (1 g)3 type mixing system: 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'- tetraphenylbiimidazole (2 g) + 4,4'-bis (diethylamino) benzo Phenone (1 g) + 2-mercaptobenzothiazole (1 g)

Figure 112006057038294-PCT00038
Figure 112006057038294-PCT00038

실시예 11 및 12 및 비교예 5Examples 11 and 12 and Comparative Example 5

각각의 시험 용액을 스핀 코터로, 두께 150 ㎚ 의 ITO 를 스퍼터한 (sputtered) AN100 유리 기판상에 도포하고, 핫 플레이트 상에서 80 ℃ 에서 3 분간 건조시켜 건조 막 두께 1.7 ㎛ 의 도포막을 수득하였다. 그 후, 도포막 측으로부터 폭 15 ㎛ 의 가느다란 선 패턴 마스크를 통해 3 kW 고압 수은 램프를 이용하여, 25, 50, 100 및 200 mJ/㎝- 2 의 노광 조건하에서 화상 노광을 수행하였다. 이어서, 탄산칼륨 1 중량% 와 비이온성 계면활성제 (Kao Corporation 제조의 "Emulgen A-60") 4 중량% 를 함유하는 수용액을 포함하는 현상액을 이용하여, 23 ℃ 에서 0.25 ㎫ 의 수압하에 샤워 (shower) 현상을 수행한 후, 순수로 현상을 정지시키고, 세정 스프레이로 기판을 린스하였다. 샤워 현상 시간을 10 내지 120 초로 조정하여, 감광층이 용해 및 제거되는 시간 (브레이크 시간) 의 2 배로 하였다. 이렇게 화상이 형성된 유리 기판을 230 ℃ 에서 30 분간 가열하여, 아치 형상으로 변형된 가느다란 선 패턴을 형성시켰다. 수득된 가열 전후의 가느다란 선의 단면 형상을 VK9500 으로 측정하고, 기판 평면과 가느다란 선 화상 측면에 의해 형성된 접촉각을 구하고, 가열 전후의 접촉각의 변화율을 하기 방법으로 평가하였다. 결과를 표 3 에 나타낸다.Each test solution was applied onto an AN100 glass substrate sputtered with 150 nm thick ITO by a spin coater, and dried at 80 ° C. for 3 minutes on a hot plate to obtain a coating film having a dry film thickness of 1.7 μm. Then, using a 3 kW high-pressure mercury lamp through a fine line width of the pattern mask 15 ㎛ from the coating film side, 25, 50, 100 and 200 mJ / ㎝ - was carried out an image exposure under the exposure conditions of FIG. Next, using a developing solution containing an aqueous solution containing 1% by weight of potassium carbonate and 4% by weight of a nonionic surfactant ("Emulgen A-60" manufactured by Kao Corporation), a shower was carried out at 23 ° C under a water pressure of 0.25 MPa. After the development was carried out, the development was stopped with pure water, and the substrate was rinsed with a cleaning spray. The shower developing time was adjusted to 10 to 120 seconds to double the time (break time) during which the photosensitive layer was dissolved and removed. Thus, the glass substrate in which the image was formed was heated at 230 degreeC for 30 minutes, and the thin line pattern deformed in arch shape was formed. The cross-sectional shape of the obtained thin line before and after heating was measured by VK9500, the contact angle formed by the board | substrate plane and the thin line image side surface was calculated | required, and the change rate of the contact angle before and behind heating was evaluated by the following method. The results are shown in Table 3.

표 3 으로부터 명확한 바와 같이, 본 발명의 감광성 조성물을 사용한 실시예 11 및 12 는 접촉각의 변형율이 높고, 아치 형상 돌기가 양호하게 형성되며, 또한 화상 형성이 양호한 액정 분할 배향 돌기의 형성이 가능하다는 것이 밝혀졌다.As is clear from Table 3, Examples 11 and 12 using the photosensitive composition of the present invention show that the deformation rate of the contact angle is high, the arch protrusions are formed satisfactorily, and the formation of liquid crystal split alignment protrusions with good image formation is possible. Turned out.

가열에 의한 접촉각의 변화율의 평가Evaluation of rate of change of contact angle by heating

가열 전후의 가느다란 선의 단면 형상을 VK9500 으로 측정하여 접촉각을 구하고, 가열전 가느다란 선 화상의 측면과 기판 평면에 의해 형성된 접촉각 (W1) 및 가열후 가느다란 선 화상의 측면과 기판 평면에 의해 형성된 접촉각 (W2) 을 구하고, 접촉각의 변화율 (W1/W2) 값으로부터 가열에 의한 접촉각의 변화를 하기와 같이 평가하였다. 도 1 참조.The contact angle was obtained by measuring the cross-sectional shape of the thin line before and after heating with VK9500, and formed by the contact angle W1 formed by the side of the thin line image before heating and the substrate plane and the side of the thin line image after heating and the substrate plane. The contact angle W2 was calculated | required, and the change of the contact angle by heating was evaluated from the value of the change rate (W1 / W2) of a contact angle as follows. See FIG. 1.

A: W1/W2 가 2 이상A: W1 / W2 is 2 or more

B: W1/W2 가 1.5 이상 2 미만B: W1 / W2 is 1.5 or more but less than 2

C: W1/W2 가 1.2 이상 1.5 미만C: W1 / W2 is 1.2 or more and less than 1.5

D: W1/W2 가 1.2 미만D: W1 / W2 is less than 1.2

화상 형성Image formation

상기 노광 및 현상 처리에 의해 수득된 화상을 하기와 같이 평가하였다.The image obtained by the said exposure and image development process was evaluated as follows.

A: 도포막 두께의 70 % 이상의 막 두께의 화상이 형성됨.A: An image with a film thickness of 70% or more of the coating film thickness is formed.

B: 도포막 두께의 70 % 미만의 막 두께의 화상이 형성됨.B: An image of a film thickness of less than 70% of the coating film thickness is formed.

C: 감광층이 완전히 용해되어 화상이 형성되지 않음.C: The photosensitive layer is completely dissolved and no image is formed.

실시예 11Example 11 실시예 12Example 12 비교예 5Comparative Example 5 화합물compound 배합율Compounding rate 배합율Compounding rate 배합율Compounding rate (중량부)(Parts by weight) (중량부)(Parts by weight) (중량부)(Parts by weight) 감광성 조성물Photosensitive composition 광중합성 단량체 (d)Photopolymerizable monomer (d) M-1M-1 1212 10.510.5 2121 M-2M-2 22 22 22 광중합 개시제 (c)Photopolymerization initiator (c) C-9C-9 22 22 00 S-1S-1 00 00 66 S-2S-2 00 00 33 유기 결합제 (b)Organic binders (b) P-1P-1 8484 85.585.5 7777 중합체 분산제 (e)Polymer dispersants (e) F-1F-1 0.10.1 0.10.1 0.10.1 용매menstruum PGMAPGMA 500500 500500 500500 물성 평가Property evaluation P/M 비P / M ratio (b) 중량부 / (d) 중량부(b) parts by weight / (d) parts by weight 66 6.86.8 3.33.3 가열에 의한 접촉각의 변형율Strain of contact angle by heating AA AA CC 적정 감도Proper sensitivity mJ/㎝-2 mJ / cm -2 6060 6060 200200 화상 형성Image formation AA AA BB

표 3 에서, 기호의 의미는 다음과 같다.In Table 3, the meanings of the symbols are as follows.

M-1: Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 (DPHA)M-1: Nippon Kayaku Co., Ltd. Manufacture, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA)

M-2: SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD. 제조, 2관능 포스페이트 "PM-21"M-2: SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD. Preparation, bifunctional phosphate "PM-21"

S-1: Ciba Specialty Chemicals K.K. 제조, "IRGACURE 907"S-1: Ciba Specialty Chemicals K.K. Manufacture, "IRGACURE 907"

S-2: Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조, 2,4-디에틸티오크산톤S-2: Nippon Kayaku Co., Ltd. Manufacture, 2,4-diethyl thioxanthone

P-1: 중량 평균 분자량 2,000 및 산가 100 의 알칼리 가용성 수지, 하기 나타낸 화학식을 가짐.P-1: Alkali-soluble resin of the weight average molecular weight 2,000 and acid value 100, and has a chemical formula shown below.

F-1: DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INCORPORATED 제조, 불소계 계면활성제 "F475"F-1: DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INCORPORATED, Fluorine-based surfactant "F475"

PGMA: Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd. 제조, 이소프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트.PGMA: Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd. Isopropylene glycol monomethyl ether acetate.

표 3 에서, 적정 감도 mJ/㎝-2 는 15 ㎛ 의 가느다란 선 패턴이 재현될 수 있는 최소 노광량을 의미한다.In Table 3, the appropriate sensitivity mJ / cm −2 means the minimum exposure amount at which a thin line pattern of 15 μm can be reproduced.

Figure 112006057038294-PCT00039
Figure 112006057038294-PCT00039

본 발명의 광중합성 조성물 및 이것을 이용한 컬러 필터는, 예를 들어 컬러 텔레비젼, 액정 표시 소자, 고체 촬상 소자 및 카메라에 이용 가능하다.The photopolymerizable composition of this invention and the color filter using the same can be used for a color television, a liquid crystal display element, a solid-state image sensor, and a camera, for example.

명세서, 청구의 범위 및 요약서를 포함한 일본 특허 출원 제 2004-046071 호 (2004 년 2 월 23 일 출원), 일본 특허 출원 제 2004-094927 호 (2004 년 3 월 29 일 출원) 및 일본 특허 출원 제 2004-183593 호 (2004 년 6 월 22 일 출원) 의 전 체 명세서의 내용은 온전히 그대로 본원에서 참고로 인용된다.Japanese Patent Application No. 2004-046071 (filed February 23, 2004), Japanese Patent Application No. 2004-094927 (filed March 29, 2004) and Japanese Patent Application No. 2004 including the specification, claims, and abstract The entire contents of -183593, filed June 22, 2004, are incorporated herein by reference in their entirety.

Claims (20)

화학식 (1) 또는 (2) 로 표시되는 옥심 에스테르 화합물:Oxime ester compound represented by the formula (1) or (2):
Figure 112006057038294-PCT00040
Figure 112006057038294-PCT00040
(상기 식 중에서,(In the above formula, R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C1 -20 헤테로아릴알킬기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 또는 헤테로아릴티오알킬기, C0 -20 아미노기, 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, 단, R1a 는 R1' 와 함께 고리를 형성할 수 있으며, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이고 (n 은 0 내지 3 의 정수임);R 1a is optionally substituted C 2 -25 alkenyl, C 1 -20 alkyl-heteroaryl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group, C 1 -20 heteroaryloxy carbonyl alkyl group or a hetero arylthio group, a C 0 -20 amino group, or a C 1 -20 represents an amino group, with the proviso that, R 1a is C 1 -10, which can form a ring with R1 ', the linking group may have a substituent An alkylene group,-(CH = CH) n -,-(C≡C) n -or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3); R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기, C3 -25 알케노일기, C3 -8 시클로알카노일기, C7 -20 벤조일기, C1 -20 헤테로아릴로일기, C2 -10 알콕시카르보닐기 또는 C7 -20 페녹시카르보닐기를 나타내며;R 2a is optionally substituted C 2 -12 alkanoyl groups, C 3 -25 noilgi alkenyl, C 3 -8 cycloalkyl alkanoyl, C 7 -20 benzoyl group, C 1 -20 group, C 2 to heteroaryl- 10 alkoxy group or a C 7 -20 phenoxy represents a carbonyl group; R1' 는 방향족 고리 또는 헤테로방향족 고리를 함유하는 임의의 치환기를 나타낸다):R 1 ′ represents any substituent containing an aromatic ring or a heteroaromatic ring):
Figure 112006057038294-PCT00041
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(상기 식 중에서,(In the above formula, R1b 는 치환될 수 있는 C6 -20 페닐기, C1 -20 알킬기, C5 -8 시클로알킬기, C2 -20 알카노일기, C7 -20 벤조일기, C2 -12 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기, C1 -20 아미드기, 니트로기, C2 -25 알케닐기, C1 -10 헤테로아릴알킬기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 또는 헤테로아릴티오알킬기, C0 -20 아미노기, 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, 단, R1b 는 R1' 와 함께 고리를 형성할 수 있으며, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이고 (n 은 0 내지 3 의 정수임);R 1b is optionally substituted C 6 -20 phenyl group, C 1 -20 alkyl, C 5 -8 cycloalkyl group, C 2 -20 alkanoyl groups, C 7 -20 benzoyl group, C 2 -12 alkoxy group or a phenoxy a carbonyl group, C 1 -20 amide group, a nitro group, a C 2 -25 alkenyl, C 1 -10 alkyl-heteroaryl, C 3 -20 Alkoxycarbonyl group, a C 8 -20 phenoxycarbonyl group, a C 1 -20 heteroaryloxy carbonyl group or a hetero arylthio group, a C 0 -20 represents an amino group, or a C 1 -20 amino group, with the proviso that, R 1b is R1 'and together can form a ring, the linking group which may have a substituent, C 1 -10 alkylene group, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - or a combination thereof (n Is an integer from 0 to 3); R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴기, C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기, C3 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알카노일기, 또는 C2 -10 아미노카르보닐기를 나타내며;R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl group, C 1 -20 heteroaryl alkanoyl, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group, C 3 - 20 heteroaryloxy carbonyl nilal Kano represents a group, or C 2 -10 amino group; R1' 는 방향족 고리 또는 헤테로방향족 고리를 함유하는 임의의 치환기를 나타낸다).R 1 ′ represents any substituent containing an aromatic ring or a heteroaromatic ring).
제 1 항에 있어서, 화학식 (1) 에서,The compound according to claim 1, wherein in formula (1), R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기 또는 C1 -20 아미노알킬기이거나, 또는 R1a 는 R1' 와 함께 고리를 형성하고, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이고 (n 은 0 내지 3 의 정수임),R 1a is a ring which may be substituted with a C 2 -25 alkenyl, C 3 -20 alkoxycarbonyl group, a C 8 -20 phenoxycarbonyl group or C 1 -20 alkyl, or amino, or R 1a is R1 ' the formation, and the linking group is C 1 -10 alkylene group which may have a substituent, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기인 옥심 에스테르 화합물.R 2a is C 2 -12 alkanoyl oxime ester compound which may be substituted. 제 1 항에 있어서, 화학식 (2) 에서,The compound according to claim 1, wherein in formula (2), R1b 는 치환될 수 있는 C1 -20 알킬기이고,R 1b is an optionally substituted C 1 -20 alkyl, R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴기, C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기 또는 C2 -10 아미노카르보닐기인 옥심 에스테르 화합물.R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl group, C 1 -20 heteroaryl alkanoyl, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group or a C 2 - An oxime ester compound which is a 10 aminocarbonyl group. 화학식 (3) 또는 (4) 로 표시되는 옥심 에스테르 화합물:Oxime ester compound represented by the formula (3) or (4):
Figure 112006057038294-PCT00042
Figure 112006057038294-PCT00042
(상기 식 중에서,(In the above formula, R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C1 -20 헤테로아릴알킬기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 또는 헤테로아릴티오알킬기, C0 -20 아미노기, 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, 단, R1a 는 R3 또는 R7 과 함께 고리를 형성할 수 있으며, 이 경우, R1a 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 2 가 또는 3 가 연결기를 형성하고, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이며 (n 은 0 내지 3 의 정수임);R 1a is optionally substituted C 2 -25 alkenyl, C 1 -20 alkyl-heteroaryl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group, C 1 -20 heteroaryloxy carbonyl represents an alkyl group or a hetero arylthio group, a C 0 -20 amino group, or a C 1 -20 amino group, with the proviso that, R 1a may form a ring together with R 3 or R 7, in this case, R 1a and R 3 and / or R 7 are bonded to each other to form a divalent or trivalent linking group, the linking group is C 1 -10 alkylene group which may have a substituent, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - Or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3); R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기, C3 -25 알케노일기, C3 -8 시클로알카노일기, C7 -20 벤조일기, C1 -20 헤테로아릴로일기, C2 -10 알콕시카르보닐기 또는 C7 -20 페녹시카르보닐기를 나타내고;R 2a is optionally substituted C 2 -12 alkanoyl groups, C 3 -25 noilgi alkenyl, C 3 -8 cycloalkyl alkanoyl, C 7 -20 benzoyl group, C 1 -20 group, C 2 to heteroaryl- 10 alkoxy group or a C 7 -20 phenoxy represents a carbonyl group; R3, R4, R5, R6 및 R7 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 또 는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C1 -12 알콕시기, C5 -8 시클로알킬기, C6 -20 페닐기, C7 -20 벤질기, C7 -20 벤조일기, C2 -12 알카노일기, C1 -20 헤테로아릴로일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8-20 페녹시카르보닐알카노일기, C3-20 헤테로아릴옥시카르보닐알카노일기, C2 -12 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기, 또는 -OR8, -SR9, -SOR9, -SO2R9 또는 NR10R11 을 나타내며, R3, R4, R5, R6 및 R7 중 하나 이상은 -OR8, -SR9 또는 -NR10R11 을 나타내고, 여기에서, R8 은 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -8 알카노일기, C3 -12 알케닐기, C3 -20 알케노일기, C6 -20 페닐기, -(CH2CH2O)mH (m 은 1 내지 20 의 정수임) 또는 C3 -15 트리알킬실릴기를 나타내며, R9 는 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -8 알카노일기, C3 -12 알케닐기, C6 -20 페닐기 또는 C3 -15 트리알킬실릴기를 나타내고, R10 및 R11 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -4 히드록실알킬기, C3 -5 알케닐기 또는 C6-20 페닐기를 나타내며, 단, R3 내지 R7 은 서로 결합하여 또는 이들 각각은 R1 과 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있다): R 3, R 4, R 5 , R 6 and R 7 are each independently of each other, a hydrogen atom, a halogen atom, or which may be substituted with a C 1 -12 alkyl, C 1 -12 alkoxy group, a cycloalkyl C 5 -8 alkyl group, C 6 -20 phenyl, C 7 -20 benzyl group, C 7 -20 benzoyl group, C 2 -12 alkanoyl groups, C 1 -20 in the heteroaryl group, a C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl group, C 8-20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group, C 3-20 heteroaryloxy carbonyl nilal alkanoyl group, C 2 -12 alkoxycarbonyl group or phenoxycarbonyl group, or -OR 8, -SR 9, -SOR 9 , -SO 2 R 9 or NR 10 R 11 , at least one of R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 represents -OR 8 , -SR 9 or -NR 10 R 11 , wherein R 8 is C 1 -12 alkyl group which may be hydrogen, or substituted, C 2 -8 alkanoyl, C 3 -12 alkenyl, C 3 -20 noilgi alkenyl, C 6 -20 phenyl, - (CH 2 CH 2 O ) m H (m is an integer of 1 to 20) or C 3 -15 trialkyl represents a silyl, R 9 is Bovine atom or C 1 -12 alkyl group which may be substituted, C 2 -8 alkanoyl, C 3 -12 alkenyl group, C 6 represents a phenyl group or a C 3 -20 -15 trialkylsilyl, R 10 and R 11 are each independently of the other, hydrogen atom or C 1 -12 alkyl group which may be substituted, C 2 -4 hydroxyl group, C 3 -5 alkenyl group or represents a C 6-20 phenyl group, with the proviso that, R 3 to R 7 May combine with each other or each of them with R 1 to form a cyclic structure):
Figure 112006057038294-PCT00043
Figure 112006057038294-PCT00043
(상기 식 중에서,(In the above formula, R1b 는 치환될 수 있는 C6 -20 페닐기, C1 -20 알킬기, C5 -8 시클로알킬기, C2 -20 알카노일기, C7 -20 벤조일기, C2 -12 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기, C1 -20 아미드기, 니트로기, C2 -25 알케닐기, C1 -10 헤테로아릴알킬기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 또는 헤테로아릴티오알킬기, C0 -20 아미노기, 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, 단, R1b 는 R3 또는 R7 과 함께 고리를 형성할 수 있으며, 이 경우, R1b 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 2 가 또는 3 가 연결기를 형성하고, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이며 (n 은 0 내지 3 의 정수임);R 1b is optionally substituted C 6 -20 phenyl group, C 1 -20 alkyl, C 5 -8 cycloalkyl group, C 2 -20 alkanoyl groups, C 7 -20 benzoyl group, C 2 -12 alkoxy group or a phenoxy a carbonyl group, C 1 -20 amide group, a nitro group, a C 2 -25 alkenyl, C 1 -10 alkyl-heteroaryl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group, C 1 -20 heteroaryloxy-carbonyl group or a hetero arylthio group, a C 0 -20 amino group, or represents a C 1 -20 amino group, with the proviso that, R 1b may form a ring together with R 3 or R 7, in this case, R 1b and a R 3 and / or R 7 is a bivalent or trivalent form a linking group, C 1 -10 alkylene group, which linking group may have a substituent and bonded to each other - (CH = CH) n - , - (C ≡C) n -or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3); R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴기, C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기, C3 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알카노일기, 또는 C2 -10 아미노카르보닐기를 나타내고;R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl group, C 1 -20 heteroaryl alkanoyl, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group, C 3 - 20 heteroaryloxy carbonyl nilal alkanoyl group, or C 2 -10 represents an amino group; R3, R4, R5, R6 및 R7 은 화학식 (3) 에서와 동일하다).R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are the same as in formula (3)).
제 4 항에 있어서, 화학식 (3) 에서,The compound according to claim 4, wherein in formula (3), R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기 또는 C1 -20 아미노알킬기이거나, 또는 R1a 는 R3 또는 R7 과 함께 고리를 형성하고, 이 경우, R1b 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 2 가 또는 3 가 연결기를 형성하며, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이고 (n 은 0 내지 3 의 정수임),R 1a is optionally substituted C 2 -25 alkenyl, C 3 -20 alkoxycarbonyl group, a C 8 -20 phenoxycarbonyl group or C 1 -20 alkyl, or amino, or R 1a is R 3 or R 7 form a ring together with, and in this case, R 1b and R 3 and / or R 7 are bonded to each other, and divalent or trivalent form a linkage group, the linking group which may have a substituent, C 1 -10 alkylene group, - ( CH = CH) n -,-(C≡C) n -or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3), R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기이며,R 2a is a C 2 -12 alkanoyl group which may be substituted, R3, R4, R5, R6 및 R7 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C6 -20 페닐기, C1 -20 헤테로아릴로일기 또는 -NR10R11 을 나타내고, R3, R4, R5, R6 및 R7 중 하나 이상은 -NR10R11 (식중, R10 및 R11 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -4 히드록실알킬기, C3 -5 알케닐기 또는 C6 -20 페닐기를 나타냄) 을 나타내며, 단, R3 내지 R7 은 서 로 결합하여 또는 이들 각각은 R1a 와 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있는 옥심 에스테르 화합물. R 3, R 4, R 5 , R 6 and R 7 are each independently of each other, C 1 -12 alkyl group which may be a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituted, C 6 -20 phenyl group, C 1 -20 heteroaryl Diary or -NR 10 R 11 , wherein at least one of R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 represents -NR 10 R 11 (wherein R 10 and R 11 are each independently of one another a hydrogen atom, or which may be substituted with a C 1 -12 alkyl, C 2 -4 hydroxyl group, C 3 -5 alkenyl or C 6 -20 shows a represents a phenyl group), provided that, R 3 to R 7 are bound to the standing or Each of which is combined with R 1a to form a cyclic structure. 제 4 항에 있어서, 화학식 (4) 에서,The compound according to claim 4, wherein in formula (4), R1b 는 치환될 수 있는 C1 -20 알킬기이고,R 1b is an optionally substituted C 1 -20 alkyl, R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴기, C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기 또는 C2 -10 아미노카르보닐기이며,R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl group, C 1 -20 heteroaryl alkanoyl, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group or a C 2 - 10 aminocarbonyl group, R3, R4, R5, R6 및 R7 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C6 -20 페닐기, C1 -20 헤테로아릴로일기 또는 -NR10R11 을 나타내고, R3, R4, R5, R6 및 R7 중 하나 이상은 -NR10R11 (식 중, R10 및 R11 은 각각 서로 독립적으로, 수소 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -4 히드록실알킬기, C3 -5 알케닐기 또는 C6 -20 페닐기를 나타냄) 을 나타내며, 단, R3 내지 R7 은 서로 결합하여 또는 R1b 와 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있는 옥심 에스테르 화합물. R 3, R 4, R 5 , R 6 and R 7 are each independently of each other, C 1 -12 alkyl group which may be a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituted, C 6 -20 phenyl group, C 1 -20 heteroaryl Diary or —NR 10 R 11 , wherein at least one of R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 is —NR 10 R 11 (wherein R 10 and R 11 are each independently of one another a hydrogen atom; , or which may be substituted with a C 1 -12 alkyl, C 2 -4 hydroxyl group, C 3 -5 alkenyl or C 6 -20 shows a represents a phenyl group), provided that, R 3 to R 7 are bonded to each other or An oxime ester compound capable of combining with R 1b to form a cyclic structure. 화학식 (5) 내지 (7) 중 어느 하나로 표시되는 옥심 에스테르 화합물:Oxime ester compound represented by any one of formulas (5) to (7):
Figure 112006057038294-PCT00044
Figure 112006057038294-PCT00044
(상기 식 중에서,(In the above formula, R1a 및 R2a 는 제 4 항에서 정의한 화학식 (3) 에서와 동일하고;R 1a and R 2a are the same as in formula (3) as defined in claim 4; R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -12 알케노일기, C6 -20 페닐기, C7 -20 벤질기 또는 벤조일기, 또는 -NR10R11 이며, 단, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 서로 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있다):R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 16 is C 1 -12 alkyl, C 2 -12 alkenyl noilgi, C 6 -20 phenyl, C 7 -20, which may be each substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, or Benzyl or benzoyl, or —NR 10 R 11 , provided that R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 may combine with each other to form a cyclic structure):
Figure 112006057038294-PCT00045
Figure 112006057038294-PCT00045
(상기 식 중에서,(In the above formula, R1b 및 R2b 는 제 4 항에서 정의한 화학식 (4) 에서와 동일하고;R 1b and R 2b are the same as in formula (4) as defined in claim 4; R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 화학식 (5) 에서와 동일하다):R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 are the same as in formula (5)):
Figure 112006057038294-PCT00046
Figure 112006057038294-PCT00046
(상기 식 중에서,(In the above formula, R1b 는 제 4 항에서 정의한 화학식 (4) 에서와 동일하며;R 1b is the same as in formula (4) as defined in claim 4; R2 는 제 4 항에서 정의한 화학식 (3) 에서의 R2a 또는 화학식 (4) 에서의 R2b 를 나타내고;R 2 represents R 2a in formula (3) or R 2b in formula (4) as defined in claim 4; R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -12 알케노일기, C6 -20 페닐기, C7 -20 벤질기 또는 벤조일기, 또는 -NR10R11 이며, 단, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 서로 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있고, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 중 하나 이상은 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴알킬, 헤테로아릴알카노일 및 헤테로아릴로일기, 및 C3 -15 트리알킬실릴기로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 함유한다).R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 16 is C 1 -12 alkyl, C 2 -12 alkenyl noilgi, C 6 -20 phenyl, C 7 -20, which may be each substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, or Benzyl or benzoyl, or —NR 10 R 11 , provided that R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 may be bonded to each other to form a cyclic structure, and R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 is one or more of the at least one selected from the group, and C 3 -15 tree group consisting alkylsilyl a C 1 -20 alkyl, heteroaryl, heteroaryl-alkanoyl and heteroaryl which may be substituted Containing).
제 7 항에 있어서, 화학식 (5) 에서,8. A compound according to claim 7, wherein in formula (5), R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기 또는 C1 -20 아미노알킬기이거나, 또는 R1a 는 R3 또는 R7 과 함께 고리를 형성하고, 이 경우, R1a 와 R3 및/또는 R7 은 서로 결합하여 2 가 또는 3 가 연결기를 형성하며, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n-, 또는 이의 조합이고 (n 은 0 내지 3 의 정수임);R 1a is optionally substituted C 2 -25 alkenyl, C 3 -20 alkoxycarbonyl group, a C 8 -20 phenoxycarbonyl group or C 1 -20 alkyl, or amino, or R 1a is R 3 or R 7 form a ring together with, and in this case, R 1a and R 3 and / or R 7 are bonded to each other, and divalent or trivalent form a linkage group, the linking group which may have a substituent, C 1 -10 alkylene group, - ( CH = CH) n -,-(C≡C) n- , or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3); R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기이며;R 2a is optionally substituted C 2 -12 alkanoyl group and; R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -12 알케노일기, C6 -20 페닐기, C7 -20 벤질기 또는 벤조일기, 또는 -NR10R11 이고, 단, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 서로 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있는 옥심 에스테르 화합물.R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 16 is C 1 -12 alkyl, C 2 -12 alkenyl noilgi, C 6 -20 phenyl, C 7 -20, which may be each substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, or Or a benzyl group or a benzoyl group, or -NR 10 R 11 , provided that R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 are bonded to each other to form a cyclic structure. 제 7 항에 있어서, 화학식 (6) 에서,8. A compound according to claim 7, wherein in formula (6): R1b 는 치환될 수 있는 C1 -20 알킬기이고,R 1b is an optionally substituted C 1 -20 alkyl, R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카 노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기 또는 C2 -10 아미노카르보닐기이며,R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl alkanoyl, C 3 -20 alkoxycarbonyl alkaryl noilgi, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group or a C 2 -10 and the amino group, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 치환될 수 있는 C1 -12 알킬기, C2 -12 알케노일기, C6 -20 페닐기, C7 -20 벤질기 또는 벤조일기, 또는 -NR10R11 이고, 단, R3, R6, R7 및 R12 내지 R16 은 서로 결합하여 시클릭 구조를 형성할 수 있는 옥심 에스테르 화합물.R 3, R 6, R 7 and R 12 to R 16 is C 1 -12 alkyl, C 2 -12 alkenyl noilgi, C 6 -20 phenyl, C 7 -20, which may be each substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, or Or a benzyl group or a benzoyl group, or -NR 10 R 11 , provided that R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 are bonded to each other to form a cyclic structure. 화학식 (8) 또는 (9) 로 표시되는 옥심 에스테르 화합물:Oxime ester compound represented by the formula (8) or (9):
Figure 112006057038294-PCT00047
Figure 112006057038294-PCT00047
(상기 식 중에서,(In the above formula, R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C1 -20 헤테로아릴알킬기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 또는 헤테로아릴티오알킬기, C0 -20 아미노기 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, 단, R1a 는 Ar1 과 함께 고리를 형성할 수 있으며, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이고 (n 은 0 내지 3 의 정수임);R 1a is optionally substituted C 2 -25 alkenyl, C 1 -20 alkyl-heteroaryl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group, C 1 -20 heteroaryloxy carbonyl alkyl group or a hetero arylthio group, an amino group or C 1 -20 -20 0 C represents the amino group, with the proviso that, R 1a may form a ring together with Ar 1, and a linking group is C 1 -10 alkyl which may have a substituent A len group,-(CH = CH) n -,-(C≡C) n -or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3); R2a 는 제 1 항에서 정의한 화학식 (1) 에서와 동일하며;R 2a is the same as in formula (1) as defined in claim 1; Ar1 은 치환기를 가질 수 있는 방향족 고리, 헤테로방향족 고리, 축합 방향족 고리 또는 축합 헤테로방향족 고리를 나타내고;Ar 1 represents an aromatic ring, heteroaromatic ring, condensed aromatic ring or condensed heteroaromatic ring which may have a substituent; p 는 2 내지 5 의 정수를 나타낸다):p represents an integer from 2 to 5):
Figure 112006057038294-PCT00048
Figure 112006057038294-PCT00048
(상기 식 중에서,(In the above formula, R1b 는 치환될 수 있는 C6 -20 페닐기, C1 -20 알킬기, C5 -8 시클로알킬기, C2 -20 알카노일기, C7 -20 벤조일기, C2 -12 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기, C1 -20 아미드기, 니트로기, C2 -25 알케닐기, C1 -10 헤테로아릴알킬기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, C1 -20 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 또는 헤테로아릴티오알킬기, C0 -20 아미노기 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내며, 단, R1b 는 Ar1 과 함께 고리를 형성할 수 있고, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이며 (n 은 0 내지 3 의 정수임);R 1b is optionally substituted C 6 -20 phenyl group, C 1 -20 alkyl, C 5 -8 cycloalkyl group, C 2 -20 alkanoyl groups, C 7 -20 benzoyl group, C 2 -12 alkoxy group or a phenoxy a carbonyl group, C 1 -20 amide group, a nitro group, a C 2 -25 alkenyl, C 1 -10 alkyl-heteroaryl, C 3 -20 alkoxycarbonylalkyl group, C 8 -20 phenoxycarbonyl group, C 1 -20 heteroaryloxy-carbonyl group or a hetero arylthio group, a C -20 0 represents an amino group or C 1 -20 amino group, with the proviso that, R 1b may form a ring together with Ar 1, the linking group which may have a substituent C 1 -10 alkylene group, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3); R2b 는 제 1 항에서 정의한 화학식 (2) 에서와 동일하고;R 2b is the same as in formula (2) as defined in claim 1; Ar1 은 치환기를 가질 수 있는 방향족 고리, 헤테로방향족 고리, 축합 방향족 고리 또는 축합 헤테로방향족 고리를 나타내며;Ar 1 represents an aromatic ring, heteroaromatic ring, condensed aromatic ring or condensed heteroaromatic ring which may have a substituent; p 는 2 내지 5 의 정수를 나타낸다).p represents an integer of 2 to 5).
제 10 항에 있어서, 화학식 (8) 에서,The compound according to claim 10, wherein in formula (8), R1a 는 치환될 수 있는 C2 -25 알케닐기, C3 -20 알콕시카르보닐알킬기, C8 -20 페녹시카르보닐알킬기, 또는 C1 -20 아미노알킬기를 나타내고, 단, R1a 는 Ar1 과 함께 고리를 형성할 수 있으며, 이 경우, R1a 와 Ar1 은 서로 결합하여 2 가 또는 3 가 연결기를 형성하고, 연결기는 치환기를 가질 수 있는 C1 -10 알킬렌기, -(CH=CH)n-, -(C≡C)n- 또는 이의 조합이며 (n 은 0 내지 3 의 정수임),R 1a is C 2 -25 alkenyl group which may be substituted, C 3 -20 alkoxycarbonyl group, a C 8 -20 phenoxycarbonyl group, or C 1 -20 represents an amino group, with the proviso that, R 1a is Ar 1 It can form a ring with, in this case, R 1a and Ar 1 may be bonded to each other to form a divalent or trivalent linking group, the linking group which may have a substituent, C 1 -10 alkylene group, - (CH = CH ) n -,-(C≡C) n -or a combination thereof (n is an integer from 0 to 3), R2a 는 치환될 수 있는 C2 -12 알카노일기인 옥심 에스테르 화합물.R 2a is C 2 -12 alkanoyl oxime ester compound which may be substituted. 제 10 항에 있어서, 화학식 (9) 에서,The compound according to claim 10, wherein in formula (9), R1b 는 치환될 수 있는 C1 -20 알킬기이고,R 1b is an optionally substituted C 1 -20 alkyl, R2b 는 치환될 수 있는 C1 -20 헤테로아릴기, C1 -20 헤테로아릴알카노일기, C3 -20 알콕시카르보닐알카노일기, C8 -20 페녹시카르보닐알카노일기 또는 C2 -10 아미노카르보닐기인 옥심 에스테르 화합물.R 2b is optionally substituted C 1 -20 heteroaryl group, C 1 -20 heteroaryl alkanoyl, C 3 -20 alkoxy carbonyl nilal alkanoyl groups, C 8 -20 phenoxycarbonyl nilal alkanoyl group or a C 2 - An oxime ester compound which is a 10 aminocarbonyl group. 유기 결합제 (b) 및 광중합 개시제 (c) 를 함유하고, 상기 성분 (c) 가 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 의한 옥심 에스테르 화합물을 함유하는 광중합성 조성물.A photopolymerizable composition containing an organic binder (b) and a photopolymerization initiator (c), wherein said component (c) contains the oxime ester compound according to any one of claims 1 to 12. 제 13 항에 있어서, 유기 결합제 (b) 가 카르복실기를 갖는 에폭시 아크릴레이트 수지인 광중합성 조성물.The photopolymerizable composition according to claim 13, wherein the organic binder (b) is an epoxy acrylate resin having a carboxyl group. 제 14 항에 있어서, 유기 결합제 (b) 가 (히드로)프탈산 무수물과, 노볼락 에폭시 수지와 (메트)아크릴산의 반응 생성물을 반응시켜 수득되는 에폭시 아크릴레이트인 광중합성 조성물.The photopolymerizable composition according to claim 14, wherein the organic binder (b) is an epoxy acrylate obtained by reacting a (hydro) phthalic anhydride with a reaction product of a novolak epoxy resin and (meth) acrylic acid. 제 13 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서, 광중합성 단량체 (d) 를 추가로 함유하는 광중합성 조성물.The photopolymerizable composition according to any one of claims 13 to 15, further comprising a photopolymerizable monomer (d). 제 13 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 염기성 관능기를 함유하는 중합체 분산제 (e) 를 추가로 함유하는 광중합성 조성물.The photopolymerizable composition according to any one of claims 13 to 16, further comprising a polymer dispersant (e) containing a basic functional group. 제 13 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서, 색 재료 (a) 를 추가로 함유하는 광중합성 조성물.The photopolymerizable composition according to any one of claims 13 to 17, further comprising a color material (a). 제 13 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 의한 광중합성 조성물에 의해 형성된 화상을 갖는 컬러 필터.A color filter having an image formed by the photopolymerizable composition according to any one of claims 13 to 18. 제 13 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 의한 광중합성 조성물에 의해 형성된 화상을 갖는 액정 표시 장치.A liquid crystal display device having an image formed by the photopolymerizable composition according to any one of claims 13 to 18.
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