KR20070017710A - Liquid crystal display, panel therefor, and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20070017710A
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김병주
김장섭
강윤호
권성규
곽창훈
이광호
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삼성전자주식회사
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Abstract

본 발명에 따른 액정 표시 장치용 표시판은 기판, 상기 기판 위에 형성되어 있는 유기물 격벽, 그리고 상기 기판 및 상기 격벽 위에 형성되어 있는 색필터를 포함하며, 상기 격벽이 포함하는 입자 크기는 100Å 내지 300Å이고, 상기 차광 부재 상면의 물에 대한 접촉각은 70°내지 90°이고, 상기 차광 부재 상면 거칠기는 150Å 내지 200Å이다. 격벽은 차광 부재의 역할을 할 수 있다. 차광 부재의 입자 크기와 접촉각 그리고 차광 부재 상면의 거칠기를 조절함으로써, 잉크젯 인쇄 시스템을 이용한 색필터 제조 시 차광 부재로 정의된 영역 내에서의 색필터의 높이차를 감소시킬 수 있다.The display panel for a liquid crystal display according to the present invention includes a substrate, an organic barrier formed on the substrate, and a color filter formed on the substrate and the barrier, wherein the partition has a particle size of 100 μs to 300 μs, The contact angle of the light blocking member upper surface with respect to water is 70 ° to 90 °, and the light blocking member upper surface roughness is 150 kPa to 200 kPa. The partition wall may serve as a light blocking member. By adjusting the particle size and the contact angle of the light blocking member and the roughness of the top surface of the light blocking member, it is possible to reduce the height difference of the color filter in the area defined as the light blocking member in manufacturing the color filter using the inkjet printing system.

잉크젯, 컬러 필터, 차광부재, 거칠기, 평탄화 Inkjet, color filter, light blocking member, roughness, planarization

Description

액정 표시 장치, 이를 위한 표시판 및 그 제조 방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY, PANEL THEREFOR, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF} Liquid crystal display device, display panel for this and manufacturing method therefor {LIQUID CRYSTAL DISPLAY, PANEL THEREFOR, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이다.1 is a layout view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 색필터 표시판의 배치도이다.2 is a layout view of a color filter panel of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 도 1의 액정 표시 장치를 Ⅲ-Ⅲ 선을 따라 자른 단면도이다.3 is a cross-sectional view of the liquid crystal display of FIG. 1 taken along line III-III.

도 4는 도 1의 액정 표시 장치를 Ⅳ-Ⅳ 선을 따라 자른 단면도이다.4 is a cross-sectional view of the liquid crystal display of FIG. 1 taken along line IV-IV.

도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 한 실시예에 따라 액정 표시 장치용 색필터 표시판의 제조 공정을 단계별로 도시한 단면도이다.5A through 5D are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a color filter display panel for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라스마 처리 전후의 차광 부재를 도시한다.6 illustrates a light blocking member before and after plasma treatment according to an embodiment of the present invention.

도 7은 잉크젯 인쇄 방식에 의하여 색필터가 형성되는 것을 도시한다.7 illustrates that the color filter is formed by an inkjet printing method.

도 8은 본 발명의 한 실험예에서 차광 부재 재료에 레벨링제와 첨가제를 혼합함에 따라 접촉각의 변화를 나타내는 표이다.FIG. 8 is a table showing a change in contact angle as the leveling agent and the additive are mixed with the light blocking member material in an experimental example of the present invention. FIG.

도 9는 본 발명의 한 실험예에서 차광 부재 재료가 포함하는 안료 입자 크기에 따른 차광 부재 상면의 거칠기를 변화를 나타내는 표이다.FIG. 9 is a table illustrating a change in roughness of an upper surface of the light blocking member according to the size of pigment particles included in the light blocking member material in an experimental example of the present invention.

도 10은 플라스마 처리 전 후의 차광 부재 상면을 원자 현미경으로 측정한 결과를 나타내는 그래프이다.It is a graph which shows the result of having measured the light shielding member upper surface before and after a plasma processing with the atomic microscope.

도 11은 플라스마 처리 전후의 차광 부재 표면 거칠기 크기를 나타내는 표이다. 11 is a table showing the surface roughness magnitudes of light blocking members before and after plasma treatment.

<도면 부호의 설명><Description of Drawing>

11, 21...배향막 12, 22...편광판11, 21.Alignment film 12, 22.Polarizing plate

3...액정층 31...액정 분자3.Liquid Crystal Layer 31 ... Liquid Crystal Molecule

33, 34...경사 부재 81, 82...접촉 보조 부재33, 34 ... inclined member 81, 82 ... contact auxiliary member

83...연결 다리 100...박막 트랜지스터 표시판83 Connection bridge 100 Thin film transistor display panel

110...기판 121, 129...게이트선110 ... substrate 121, 129 ... gate line

124...게이트 전극 131...유지 전극선124 gate electrode 131 holding electrode wire

133a, 133b...유지 전극 140...게이트 절연막133a, 133b ... hold electrode 140 ... gate insulating film

151, 154...반도체 161, 163, 165...저항성 접촉층151, 154 ... semiconductor 161, 163, 165 ... resistive contact layer

171, 179...데이터선 173...소스 전극171, 179 Data line 173 Source electrode

175...드레인 전극 180...보호막175 Drain electrode 180 Shield

181, 182, 183a, 183b, 185...접촉 구멍 191...화소 전극181, 182, 183a, 183b, 185 ... contact hole 191 ... pixel electrode

200...색필터 표시판 210...기판200 ... color filter panel 210 ... substrate

220...차광 부재 230...색필터220 ... light-shielding member 230 ... color filter

250...덮개막 270...공통 전극250 ... overcoat 270 ... common electrode

본 발명은 액정 표시 장치용 표시판과 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a display panel for a liquid crystal display device, a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof.

일반적으로 액정 표시 장치는 전기장 생성 전극과 편광판이 구비된 한 쌍의 표시판 사이에 위치한 액정층을 포함한다. 전기장 생성 전극은 액정층에 전기장을 생성하고 이러한 전기장의 세기가 변화함에 따라 액정 분자들의 배열이 변화한다. 예를 들면, 전기장이 인가된 상태에서 액정층의 액정 분자들은 그 배열을 변화시켜 액정층을 지나는 빛의 편광을 변화시킨다. 편광판은 편광된 빛을 적절하게 차단 또는 투과시켜 밝고 어두운 영역을 만들어냄으로써 원하는 영상을 표시한다.In general, a liquid crystal display device includes a liquid crystal layer positioned between a field generating electrode and a pair of display panels provided with a polarizing plate. The field generating electrode generates an electric field in the liquid crystal layer and the arrangement of liquid crystal molecules changes as the intensity of the electric field changes. For example, the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer in the state in which the electric field is applied to change the polarization of the light passing through the liquid crystal layer. The polarizer displays a desired image by appropriately blocking or transmitting polarized light to create bright and dark areas.

액정 표시 장치의 한쪽 표시판에는 적색, 녹색 및 청색 등의 삼원색의 색필터가 형성되어 있는데, 잉크젯 인쇄 시스템(inkjet printing system)을 사용하는 것은 이러한 색필터를 형성하는 방법 중 하나이다. 잉크젯 인쇄 시스템을 사용하여 색필터를 형성하는 것은 잉크젯 헤드의 복수의 노즐을 통하여 적색, 녹색 및 청색 등의 삼원색의 잉크를 원하는 양만큼 분사하여, 기판 위의 차광 부재로 둘러싸인 영역에 분사된 잉크를 채워 넣어 형성하는 방식이다. One display panel of the liquid crystal display is formed with three primary color filters, such as red, green, and blue. Using an inkjet printing system is one of methods for forming such a color filter. Forming a color filter using an inkjet printing system sprays a desired amount of three primary colors such as red, green, and blue through a plurality of nozzles of the inkjet head, thereby injecting the ink sprayed into the area surrounded by the light blocking member on the substrate. It is a way of filling and forming.

이 때, 색필터용 잉크와 차광 부재 측면 및 상면의 접촉각과 액체에 대한 반발력에 의하여 차광 부재로 정의된 영역 내에서 색필터의 높이차가 존재하게 된다.At this time, the height difference of the color filter exists in the area defined by the light blocking member due to the contact angle between the ink for the color filter, the side surfaces and the upper surface of the light blocking member, and the repulsive force against the liquid.

따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 잉크젯 인쇄 시스템을 이용하여 색필터를 제조할 때, 차광 부재로 정의된 영역 내에서의 색필터의 높이차를 감소시키는 것이다.Therefore, the technical problem to be achieved by the present invention is to reduce the height difference of the color filter in the region defined by the light blocking member when manufacturing the color filter using the inkjet printing system.

본 발명에 따른 액정 표시 장치용 색필터 표시판은 기판, 상기 기판 위에 형성되어 있는 유기물 격벽, 그리고 상기 기판 및 상기 격벽 위에 형성되어 있는 색필터를 포함하며, 상기 격벽이 포함하는 입자 크기는 100Å 내지 300Å이고, 상기 격벽의 물에 대한 접촉각은 70°내지 90°이고, 상기 격벽 상면 거칠기는 150Å 내지 200Å이다.The color filter display panel for a liquid crystal display device according to the present invention includes a substrate, an organic partition formed on the substrate, and a color filter formed on the substrate and the partition, wherein the particle size of the partition includes 100 μs to 300 μs. The contact angle of the partition wall with respect to water is 70 ° to 90 °, and the partition top surface roughness is 150 kPa to 200 kPa.

상기 격벽은 차광 부재일 수 있다. The partition wall may be a light blocking member.

상기 액정 표시 장치용 표시판은 상기 기판 위에 형성되어 있는 전기장 생성 전극을 더 포함할 수 있다.The display panel for the liquid crystal display may further include an electric field generating electrode formed on the substrate.

본 발명에 따른 액정 표시 장치는 제1 기판, 상기 제1 기판 위에 형성되어 있는 게이트선 및 데이터선, 상기 게이트선 및 데이터선에 연결되어 있는 박막 트랜지스터, 상기 박막 트랜지스터와 연결되어 있는 화소 전극, 상기 제1 기판에 마주하는 제2 기판, 상기 제2 기판 위에 형성되어 있는 차광 부재, 상기 제2 기판 및 상기 차광 부재 위에 형성되어 있는 색필터, 그리고 상기 색필터 위에 형성되어 있는 공통 전극을 포함하며, 상기 차광 부재가 포함하는 안료 입자 크기는 100Å 내지 300Å이고, 상기 차광 부재 상면의 물에 대한 접촉각은 70°내지 90°이고, 상기 차광 부재 상면 거칠기는 150Å 내지 200Å이다.The liquid crystal display according to the present invention includes a first substrate, a gate line and a data line formed on the first substrate, a thin film transistor connected to the gate line and the data line, a pixel electrode connected to the thin film transistor, A second substrate facing the first substrate, a light blocking member formed on the second substrate, a color filter formed on the second substrate and the light blocking member, and a common electrode formed on the color filter, The pigment particle size of the light blocking member is 100 kPa to 300 kPa, the contact angle of the light blocking member upper surface with water is 70 ° to 90 °, and the light shielding member upper surface roughness is 150 kPa to 200 kPa.

상기 차광 부재는 유기물을 포함할 수 있다.The light blocking member may include an organic material.

본 발명에 따른 액정 표시 장치용 색필터 표시판을 제조하는 방법은 기판을 준비하는 단계, 상기 기판 위에 차광 부재를 형성하는 단계, 상기 차광 부재의 상면을 거칠게 하는 단계, 그리고 잉크젯 인쇄 시스템을 사용하여, 상기 차광 부재로 정의된 영역에 색필터를 형성하는 단계를 포함하며, 상기 차광 부재의 상면을 거칠게 하는 단계는 상기 차광 부재의 상면을 플라스마 처리하는 것이고, 상기 차광 부재가 포함하는 안료 입자 크기는 100Å 내지 300Å이다.A method of manufacturing a color filter display panel for a liquid crystal display device according to the present invention comprises the steps of preparing a substrate, forming a light blocking member on the substrate, roughening the upper surface of the light blocking member, and using an inkjet printing system, And forming a color filter in a region defined by the light blocking member, and roughening the top surface of the light blocking member is to plasma-process the top surface of the light blocking member, and the pigment particle size of the light blocking member is 100 kV. To 300 mW.

상기 차광 부재 상면의 접촉각은 70°내지 90°일 수 있다.The contact angle of the upper surface of the light blocking member may be 70 ° to 90 °.

상기 차광 부재 상면 거칠기는 150Å 내지 200Å일 수 있다.The light blocking member upper surface roughness may be 150 kPa to 200 kPa.

첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.DETAILED DESCRIPTION Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.In the drawings, the thickness of layers, films, panels, regions, etc., are exaggerated for clarity. Like parts are designated by like reference numerals throughout the specification. When a part of a layer, film, region, plate, etc. is said to be "on" another part, this includes not only the other part being "right over" but also another part in the middle. On the contrary, when a part is "just above" another part, there is no other part in the middle.

도 1 내지 도 4를 참고로 하여 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치용 색필터 표시판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치에 대하여 상세하게 설명한다. A color filter display panel for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention and a liquid crystal display including the same will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 4.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이고, 도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 색필터용 표시판의 배치도이고, 도 3 및 도 4는 각각 도 1의 액정 표시 장치를 Ⅲ-Ⅲ 선 및 Ⅳ-Ⅳ 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.1 is a layout view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention, FIG. 2 is a layout view of a display panel for a color filter according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIGS. 3 and 4 are respectively a liquid crystal display of FIG. 1. Is a cross-sectional view taken along lines III-III and IV-IV.

본 실시예에 따른 액정 표시 장치는 서로 마주 보는 박막 트랜지스터 표시판(100) 및 공통 전극 표시판(200)과 이들 두 표시판(100, 200) 사이에 들어 있는 액정층(3)을 포함한다.The liquid crystal display according to the present exemplary embodiment includes a thin film transistor array panel 100 and a common electrode panel 200 facing each other, and a liquid crystal layer 3 interposed between the two display panels 100 and 200.

그러면, 도 1, 도 3 및 도 4를 참고로 하여 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판에 대하여 상세하게 설명한다.Next, a thin film transistor array panel for a liquid crystal display will be described in detail with reference to FIGS. 1, 3, and 4.

투명한 유리 또는 플라스틱 따위로 만들어진 절연 기판(110) 위에 복수의 게이트선(gate line)(121) 및 복수의 유지 전극선(storage electrode line)(131)이 형성되어 있다.A plurality of gate lines 121 and a plurality of storage electrode lines 131 are formed on an insulating substrate 110 made of transparent glass or plastic.

게이트선(121)은 게이트 신호를 전달하며 주로 가로 방향으로 뻗어 있다. 각 게이트선(121)은 아래로 돌출한 복수의 게이트 전극(gate electrode)(124)과 다른 층 또는 외부 구동 회로와의 접속을 위하여 면적이 넓은 끝 부분(129)을 포함한다. 게이트 신호를 생성하는 게이트 구동 회로(도시하지 않음)는 기판(110) 위에 부착되는 가요성 인쇄 회로막(flexible printed circuit film)(도시하지 않음) 위에 장착되거나, 기판(110) 위에 직접 장착되거나, 기판(110)에 집적될 수 있다. 게이트 구동 회로가 기판(110) 위에 집적되어 있는 경우 게이트선(121)이 연장되어 이와 직접 연결될 수 있다.The gate line 121 transmits a gate signal and mainly extends in a horizontal direction. Each gate line 121 includes a plurality of gate electrodes 124 protruding downward and an end portion 129 having a large area for connection with another layer or an external driving circuit. A gate driving circuit (not shown) for generating a gate signal may be mounted on a flexible printed circuit film (not shown) attached to the substrate 110 or directly mounted on the substrate 110, It may be integrated into the substrate 110. When the gate driving circuit is integrated on the substrate 110, the gate line 121 may extend to be directly connected to the gate driving circuit.

유지 전극선(131)은 소정의 전압을 인가 받으며, 게이트선(121)과 거의 나란하게 뻗은 줄기선과 이로부터 갈라진 복수 쌍의 제1 및 제2 유지 전극(133a, 133b) 을 포함한다. 유지 전극선(131) 각각은 인접한 두 게이트선(121) 사이에 위치하며 줄기선은 두 게이트선(121) 중 아래쪽에 가깝다. 유지 전극(133a, 133b) 각각은 줄기선과 연결된 고정단과 그 반대쪽의 자유단을 가지고 있다. 제1 유지 전극(133a)의 고정단은 면적이 넓으며, 그 자유단은 직선 부분과 굽은 부분의 두 갈래로 갈라진다. 그러나 유지 전극선(131)의 모양 및 배치는 여러 가지로 변형될 수 있다.The storage electrode line 131 receives a predetermined voltage, and includes a stem line extending substantially in parallel with the gate line 121 and a plurality of pairs of first and second storage electrodes 133a and 133b separated therefrom. Each of the storage electrode lines 131 is positioned between two adjacent gate lines 121, and the stem line is closer to the lower side of the two gate lines 121. Each of the sustain electrodes 133a and 133b has a fixed end connected to the stem line and a free end opposite thereto. The fixed end of the first sustain electrode 133a has a large area, and its free end is divided into two parts, a straight portion and a bent portion. However, the shape and arrangement of the storage electrode line 131 may be modified in various ways.

게이트선(121) 및 유지 전극선(131)은 알루미늄(Al)이나 알루미늄 합금 등 알루미늄 계열 금속, 은(Ag)이나 은 합금 등 은 계열 금속, 구리(Cu)나 구리 합금 등 구리 계열 금속, 몰리브덴(Mo)이나 몰리브덴 합금 등 몰리브덴 계열 금속, 크롬(Cr), 탄탈륨(Ta) 및 티타늄(Ti) 따위로 만들어질 수 있다. 그러나 이들은 물리적 성질이 다른 두 개의 도전막(도시하지 않음)을 포함하는 다중막 구조를 가질 수도 있다. 이 중 한 도전막은 신호 지연이나 전압 강하를 줄일 수 있도록 비저항(resistivity)이 낮은 금속, 예를 들면 알루미늄 계열 금속, 은 계열 금속, 구리 계열 금속 등으로 만들어진다. 이와는 달리, 다른 도전막은 다른 물질, 특히 ITO(indium tin oxide) 및 IZO(indium zinc oxide)와의 물리적, 화학적, 전기적 접촉 특성이 우수한 물질, 이를테면 몰리브덴 계열 금속, 크롬, 탄탈륨, 티타늄 등으로 만들어진다. 이러한 조합의 좋은 예로는 크롬 하부막과 알루미늄 (합금) 상부막 및 알루미늄 (합금) 하부막과 몰리브덴 (합금) 상부막을 들 수 있다. 그러나 게이트선(121) 및 유지 전극선(131)은 이외에도 여러 가지 다양한 금속 또는 도전체로 만들어질 수 있다.The gate line 121 and the storage electrode line 131 may be formed of aluminum-based metal such as aluminum (Al) or aluminum alloy, silver-based metal such as silver (Ag) or silver alloy, copper-based metal such as copper (Cu) or copper alloy, or molybdenum ( It may be made of molybdenum-based metals such as Mo) or molybdenum alloy, chromium (Cr), tantalum (Ta) and titanium (Ti). However, they may have a multilayer structure including two conductive films (not shown) having different physical properties. One of the conductive films is made of a metal having low resistivity, such as aluminum-based metal, silver-based metal, or copper-based metal, so as to reduce signal delay or voltage drop. In contrast, other conductive films are made of other materials, particularly materials having excellent physical, chemical, and electrical contact properties with indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO), such as molybdenum-based metals, chromium, tantalum, and titanium. Good examples of such a combination include a chromium bottom film, an aluminum (alloy) top film, and an aluminum (alloy) bottom film and a molybdenum (alloy) top film. However, the gate line 121 and the storage electrode line 131 may be made of various other metals or conductors.

게이트선(121) 및 유지 전극선(131)의 측면은 기판(110) 면에 대하여 경사져 있으며 그 경사각은 약 30° 내지 약 80°인 것이 바람직하다.Side surfaces of the gate line 121 and the storage electrode line 131 are inclined with respect to the surface of the substrate 110, and the inclination angle is preferably about 30 ° to about 80 °.

게이트선(121) 및 유지 전극선(131) 위에는 질화규소(SiNx) 또는 산화규소(SiOx) 따위로 만들어진 게이트 절연막(gate insulating layer)(140)이 형성되어 있다.A gate insulating layer 140 made of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx) is formed on the gate line 121 and the storage electrode line 131.

게이트 절연막(140) 위에는 수소화 비정질 규소(hydrogenated amorphous silicon)(비정질 규소는 약칭 a-Si로 씀) 또는 다결정 규소(polysilicon) 등으로 만들어진 복수의 선형 반도체(151)가 형성되어 있다. 선형 반도체(151)는 주로 세로 방향으로 뻗어 있으며, 게이트 전극(124)을 향하여 뻗어 나온 복수의 돌출부(projection)(154)를 포함한다. 선형 반도체(151)는 게이트선(121) 및 유지 전극선(131) 부근에서 너비가 넓어져 이들을 폭넓게 덮고 있다.A plurality of linear semiconductors 151 made of hydrogenated amorphous silicon (hereinafter referred to as a-Si) or polysilicon are formed on the gate insulating layer 140. The linear semiconductor 151 mainly extends in the longitudinal direction and includes a plurality of projections 154 extending toward the gate electrode 124. The linear semiconductor 151 has a wider width in the vicinity of the gate line 121 and the storage electrode line 131 and covers them widely.

반도체(151) 위에는 복수의 선형 및 섬형 저항성 접촉 부재(ohmic contact)(161, 165)가 형성되어 있다. 저항성 접촉 부재(161, 165)는 인 따위의 n형 불순물이 고농도로 도핑되어 있는 n+ 수소화 비정질 규소 따위의 물질로 만들어지거나 실리사이드(silicide)로 만들어질 수 있다. 선형 저항성 접촉 부재(161)는 복수의 돌출부(163)를 가지고 있으며, 이 돌출부(163)와 섬형 저항성 접촉 부재(165)는 쌍을 이루어 반도체(151)의 돌출부(154) 위에 배치되어 있다.A plurality of linear and island ohmic contacts 161 and 165 are formed on the semiconductor 151. The ohmic contacts 161 and 165 may be made of a material such as n + hydrogenated amorphous silicon in which n-type impurities such as phosphorus are heavily doped, or may be made of silicide. The linear ohmic contact 161 has a plurality of protrusions 163, and the protrusion 163 and the island-type ohmic contact 165 are paired and disposed on the protrusion 154 of the semiconductor 151.

반도체(151)와 저항성 접촉 부재(161, 165)의 측면 역시 기판(110) 면에 대하여 경사져 있으며 경사각은 30° 내지 80° 정도이다.Side surfaces of the semiconductor 151 and the ohmic contacts 161 and 165 are also inclined with respect to the surface of the substrate 110, and the inclination angle is about 30 ° to 80 °.

저항성 접촉 부재(163, 165) 및 게이트 절연막(140) 위에는 복수의 데이터선 (data line)(171)과 복수의 드레인 전극(drain electrode)(175)이 형성되어 있다.A plurality of data lines 171 and a plurality of drain electrodes 175 are formed on the ohmic contacts 163 and 165 and the gate insulating layer 140.

데이터선(171)은 데이터 신호를 전달하며 주로 세로 방향으로 뻗어 게이트선(121)과 교차한다. 각 데이터선(171)은 또한 유지 전극선(131)과 교차하며 인접한 유지 전극(133a, 133b) 집합 사이를 달린다. 각 데이터선(171)은 게이트 전극(124)을 향하여 뻗은 복수의 소스 전극(source electrode)(173)과 다른 층 또는 외부 구동 회로와의 접속을 위하여 면적이 넓은 끝 부분(179)을 포함한다. 데이터 신호를 생성하는 데이터 구동 회로(도시하지 않음)는 기판(110) 위에 부착되는 가요성 인쇄 회로막(도시하지 않음) 위에 장착되거나, 기판(110) 위에 직접 장착되거나, 기판(110)에 집적될 수 있다. 데이터 구동 회로가 기판(110) 위에 집적되어 있는 경우, 데이터선(171)이 연장되어 이와 직접 연결될 수 있다.The data line 171 transmits a data signal and mainly extends in the vertical direction to cross the gate line 121. Each data line 171 also crosses the storage electrode line 131 and runs between adjacent sets of storage electrodes 133a and 133b. Each data line 171 includes a plurality of source electrodes 173 extending toward the gate electrode 124 and an end portion 179 having a large area for connection with another layer or an external driving circuit. A data driving circuit (not shown) for generating a data signal is mounted on a flexible printed circuit film (not shown) attached to the substrate 110, directly mounted on the substrate 110, or integrated in the substrate 110. Can be. When the data driving circuit is integrated on the substrate 110, the data line 171 may be extended to be directly connected to the data driving circuit.

드레인 전극(175)은 데이터선(171)과 분리되어 있으며 게이트 전극(124)을 중심으로 소스 전극(173)과 마주한다. 각 드레인 전극(175)은 넓은 한 쪽 끝 부분과 막대형인 다른 쪽 끝 부분을 포함한다. 넓은 끝 부분은 유지 전극선(131)과 중첩하며, 막대형 끝 부분은 구부러진 소스 전극(173)으로 일부 둘러싸여 있다.The drain electrode 175 is separated from the data line 171 and faces the source electrode 173 around the gate electrode 124. Each drain electrode 175 includes one wide end and the other end having a rod shape. The wide end portion overlaps the storage electrode line 131, and the rod-shaped end portion is partially surrounded by the bent source electrode 173.

하나의 게이트 전극(124), 하나의 소스 전극(173) 및 하나의 드레인 전극(175)은 반도체(151)의 돌출부(154)와 함께 하나의 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)를 이루며, 박막 트랜지스터의 채널(channel)은 소스 전극(173)과 드레인 전극(175) 사이의 돌출부(154)에 형성된다.One gate electrode 124, one source electrode 173, and one drain electrode 175 together with the protrusion 154 of the semiconductor 151 form one thin film transistor (TFT). A channel of the transistor is formed in the protrusion 154 between the source electrode 173 and the drain electrode 175.

데이터선(171) 및 드레인 전극(175)은 몰리브덴, 크롬, 탄탈륨 및 티타늄 등 내화성 금속(refractory metal) 또는 이들의 합금으로 만들어지는 것이 바람직하 며, 내화성 금속막(도시하지 않음)과 저저항 도전막(도시하지 않음)을 포함하는 다중막 구조를 가질 수 있다. 다중막 구조의 예로는 크롬 또는 몰리브덴 (합금) 하부막과 알루미늄 (합금) 상부막의 이중막, 몰리브덴 (합금) 하부막과 알루미늄 (합금) 중간막과 몰리브덴 (합금) 상부막의 삼중막을 들 수 있다. 그러나 데이터선(171) 및 드레인 전극(175)은 이외에도 여러 가지 다양한 금속 또는 도전체로 만들어질 수 있다.The data line 171 and the drain electrode 175 are preferably made of a refractory metal such as molybdenum, chromium, tantalum and titanium, or an alloy thereof. The data line 171 and the drain electrode 175 may be formed of a refractory metal film (not shown) and a low resistance conductive material. It may have a multilayer structure including a film (not shown). Examples of the multilayer structure include a double layer of chromium or molybdenum (alloy) lower layer and an aluminum (alloy) upper layer, and a triple layer of molybdenum (alloy) lower layer and aluminum (alloy) interlayer and molybdenum (alloy) upper layer. However, the data line 171 and the drain electrode 175 may be made of various metals or conductors.

데이터선(171) 및 드레인 전극(175) 또한 그 측면이 기판(110) 면에 대하여 30° 내지 80° 정도의 경사각으로 기울어진 것이 바람직하다.The side of the data line 171 and the drain electrode 175 may also be inclined at an inclination angle of about 30 ° to about 80 ° with respect to the surface of the substrate 110.

저항성 접촉 부재(161, 165)는 그 아래의 반도체(151)와 그 위의 데이터선(171) 및 드레인 전극(175) 사이에만 존재하며 이들 사이의 접촉 저항을 낮추어 준다. 대부분의 곳에서는 선형 반도체(151)가 데이터선(171)보다 좁지만, 앞서 설명하였듯이 게이트선(121)과 만나는 부분에서 너비가 넓어져 표면의 프로파일을 부드럽게 함으로써 데이터선(171)이 단선되는 것을 방지한다. 반도체(151)에는 소스 전극(173)과 드레인 전극(175) 사이를 비롯하여 데이터선(171) 및 드레인 전극(175)으로 가리지 않고 노출된 부분이 있다.The ohmic contacts 161 and 165 exist only between the semiconductor 151 below and the data line 171 and the drain electrode 175 thereon, and lower the contact resistance therebetween. Although the linear semiconductor 151 is narrower than the data line 171 in most places, as described above, the width of the linear semiconductor 151 is widened at the portion where it meets the gate line 121 to smooth the profile of the surface, thereby disconnecting the data line 171. prevent. The semiconductor 151 has an exposed portion between the source electrode 173 and the drain electrode 175, and not covered by the data line 171 and the drain electrode 175.

데이터선(171), 드레인 전극(175) 및 노출된 반도체(151) 부분 위에는 보호 막(passivation layer)(180)이 형성되어 있다. 보호막(180)은 무기 절연물 또는 유기 절연물 따위로 만들어지며 표면이 평탄할 수 있다. 무기 절연물의 예로는 질화규소와 산화규소를 들 수 있다. 유기 절연물은 감광성(photosensitivity)을 가질 수 있으며 그 유전 상수(dielectric constant)는 약 4.0 이하인 것이 바람직하 다. 그러나 보호막(180)은 유기막의 우수한 절연 특성을 살리면서도 노출된 반도체(151) 부분에 해가 가지 않도록 하부 무기막과 상부 유기막의 이중막 구조를 가질 수 있다.A passivation layer 180 is formed on the data line 171, the drain electrode 175, and the exposed semiconductor 151. The passivation layer 180 may be made of an inorganic insulator or an organic insulator, and may have a flat surface. Examples of the inorganic insulator include silicon nitride and silicon oxide. The organic insulator may have photosensitivity and its dielectric constant is preferably about 4.0 or less. However, the passivation layer 180 may have a double layer structure of the lower inorganic layer and the upper organic layer so as not to damage the exposed portion of the semiconductor 151 while maintaining excellent insulating properties of the organic layer.

보호막(180)에는 데이터선(171)의 끝 부분(179)과 드레인 전극(175)을 각각 드러내는 복수의 접촉 구멍(contact hole)(182, 185)이 형성되어 있으며, 보호막(180)과 게이트 절연막(140)에는 게이트선(121)의 끝 부분(129)을 드러내는 복수의 접촉 구멍(181), 제1 유지 전극(133a) 고정단 부근의 유지 전극선(131) 일부를 드러내는 복수의 접촉 구멍(183a), 그리고 제1 유지 전극(133a) 자유단의 돌출부를 드러내는 복수의 접촉 구멍(183b)이 형성되어 있다.In the passivation layer 180, a plurality of contact holes 182 and 185 exposing the end portion 179 and the drain electrode 175 of the data line 171 are formed, respectively, and the passivation layer 180 and the gate insulating layer are formed. In the 140, a plurality of contact holes 181 exposing the end portion 129 of the gate line 121 and a plurality of contact holes 183a exposing a part of the storage electrode line 131 near the fixed end of the first storage electrode 133a. And a plurality of contact holes 183b exposing the protruding portion of the free end of the first storage electrode 133a.

보호막(180) 위에는 복수의 화소 전극(pixel electrode)(191), 복수의 연결 다리(overpass)(83) 및 복수의 접촉 보조 부재(contact assistant)(81, 82)가 형성되어 있다. 이들은 ITO 또는 IZO 등의 투명한 도전 물질이나 알루미늄, 은, 크롬 또는 그 합금 등의 반사성 금속으로 만들어질 수 있다.A plurality of pixel electrodes 191, a plurality of overpasses 83, and a plurality of contact assistants 81 and 82 are formed on the passivation layer 180. They may be made of a transparent conductive material such as ITO or IZO or a reflective metal such as aluminum, silver, chromium or an alloy thereof.

화소 전극(191)은 접촉 구멍(185)을 통하여 드레인 전극(175)과 물리적, 전기적으로 연결되어 있으며, 드레인 전극(175)으로부터 데이터 전압을 인가 받는다. 데이터 전압이 인가된 화소 전극(191)은 공통 전압(common voltage)을 인가 받는 다른 표시판(200)의 공통 전극(common electrode)(270)과 함께 전기장을 생성함으로써 두 전극(191, 270) 사이의 액정층(3)의 액정 분자(도시하지 않음)의 방향을 결정한다. 이와 같이 결정된 액정 분자의 방향에 따라 액정층(3)을 통과하는 빛의 편광이 달라진다. 화소 전극(191)과 공통 전극(270)은 축전기[이하 "액정 축전기 (liquid crystal capacitor)"라 함]를 이루어 박막 트랜지스터가 턴 오프된 후에도 인가된 전압을 유지한다.The pixel electrode 191 is physically and electrically connected to the drain electrode 175 through the contact hole 185 and receives a data voltage from the drain electrode 175. The pixel electrode 191 to which the data voltage is applied is generated between the two electrodes 191 and 270 by generating an electric field together with the common electrode 270 of the other display panel 200 to which the common voltage is applied. The direction of liquid crystal molecules (not shown) of the liquid crystal layer 3 is determined. The polarization of light passing through the liquid crystal layer 3 varies according to the direction of the liquid crystal molecules determined as described above. The pixel electrode 191 and the common electrode 270 form a capacitor (hereinafter, referred to as a "liquid crystal capacitor") to maintain an applied voltage even after the thin film transistor is turned off.

화소 전극(191)은 유지 전극(133a, 133b)을 비롯한 유지 전극선(131)과 중첩한다. 화소 전극(191) 및 이와 전기적으로 연결된 드레인 전극(175)이 유지 전극선(131)과 중첩하여 이루는 축전기를 "유지 축전기(storage capacitor)"라 하며, 유지 축전기는 액정 축전기의 전압 유지 능력을 강화한다.The pixel electrode 191 overlaps the storage electrode line 131 including the storage electrodes 133a and 133b. A capacitor in which the pixel electrode 191 and the drain electrode 175 electrically connected thereto overlap the storage electrode line 131 is called a "storage capacitor", and the storage capacitor enhances the voltage holding capability of the liquid crystal capacitor. .

접촉 보조 부재(81, 82)는 각각 접촉 구멍(181, 182)을 통하여 게이트선(121)의 끝 부분(129) 및 데이터선(171)의 끝 부분(179)과 연결된다. 접촉 보조 부재(81, 82)는 게이트선(121)의 끝 부분(129) 및 데이터선(171)의 끝 부분(179)과 외부 장치와의 접착성을 보완하고 이들을 보호한다. 연결 다리(83)는 게이트선(121)을 가로지르며, 게이트선(121)을 사이에 두고 반대쪽에 위치하는 접촉 구멍(183a, 183b)을 통하여 유지 전극선(131)의 노출된 부분과 유지 전극(133b) 자유단의 노출된 끝 부분에 연결되어 있다. 유지 전극(133a, 133b)을 비롯한 유지 전극선(131)은 연결 다리(83)와 함께 게이트선(121)이나 데이터선(171) 또는 박막 트랜지스터의 결함을 수리하는 데 사용할 수 있다.The contact auxiliary members 81 and 82 are connected to the end portion 129 of the gate line 121 and the end portion 179 of the data line 171 through the contact holes 181 and 182, respectively. The contact auxiliary members 81 and 82 compensate for and protect the adhesion between the end portion 129 of the gate line 121 and the end portion 179 of the data line 171 and the external device. The connecting leg 83 crosses the gate line 121 and exposes the exposed portion of the storage electrode line 131 and the storage electrode through contact holes 183a and 183b positioned on opposite sides with the gate line 121 interposed therebetween. 133b) is connected to the exposed end of the free end. The storage electrode lines 131 including the storage electrodes 133a and 133b may be used together with the connecting legs 83 to repair defects in the gate line 121, the data line 171, or the thin film transistor.

다음, 색필터 표시판(200)에 대하여 도 2 및 도 3을 참고로 하여 설명한다. Next, the color filter display panel 200 will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

투명한 유리 또는 플라스틱 등으로 만들어진 절연 기판(210) 위에 차광 부재(light blocking member)(220)가 형성되어 있다. 차광 부재(220)는 블랙 매트릭스(black matrix)라고도 하며 빛샘을 막아준다. A light blocking member 220 is formed on an insulating substrate 210 made of transparent glass, plastic, or the like. The light blocking member 220 is also called a black matrix and prevents light leakage.

차광 부재(220)는 화소 전극(191)과 마주보며 화소 전극(191)과 거의 동일한 모양을 가지는 복수의 개구부(225)를 가지고 있으며, 화소 전극(191) 사이의 빛샘을 막는다. 그러나 차광 부재(220)는 게이트선(121) 및 데이터선(171)에 대응하는 부분과 박막 트랜지스터에 대응하는 부분으로 이루어질 수 있다.The light blocking member 220 has a plurality of openings 225 facing the pixel electrode 191 and having substantially the same shape as the pixel electrode 191, and prevents light leakage between the pixel electrodes 191. However, the light blocking member 220 may include a portion corresponding to the gate line 121 and the data line 171 and a portion corresponding to the thin film transistor.

이러한 차광 부재(220)는 잉크젯 인쇄 시스템을 이용한 색필터 표시판의 제조 공정 시 색필터용 잉크를 가두는 개구부(225)에 가두는 격벽의 역할을 한다. The light blocking member 220 serves as a partition wall confined to the opening 225 confining the color filter ink during the manufacturing process of the color filter display panel using the inkjet printing system.

차광 부재(220)는 흑색 안료를 포함하는 유기막으로 이루어질 수 있다. 차광 부재(220)가 포함하는 안료 입자 크기는 100Å 내지 300Å이고, 차광 부재(220) 상면의 물에 대한 접촉각은 70°내지 90°이고, 차광 부재(220) 상면 거칠기는 150Å 내지 200Å인 것이 바람직하다. 이러한 차광 부재(220)가 포함하는 안료 입자 크기와 상면의 접촉각 및 거칠기에 의하여, 잉크젯 인쇄 시스템을 이용하여 색필터(230)를 형성하는 경우, 차광 부재(220)의 개구부(225) 측벽 부근과 중앙부에서의 색필터(230)의 높이차가 줄어든다.The light blocking member 220 may be formed of an organic layer including a black pigment. The pigment particle size of the light blocking member 220 is 100 kPa to 300 kPa, the contact angle of the upper surface of the light blocking member 220 to water is 70 ° to 90 °, and the top surface roughness of the light blocking member 220 is 150 kPa to 200 kPa. Do. When the color filter 230 is formed using the inkjet printing system by the pigment particle size, the contact angle and the roughness of the upper surface of the light blocking member 220, The height difference of the color filter 230 in the center portion is reduced.

기판(210) 위에는 또한 복수의 색필터(230)가 형성되어 있다. 색필터(230)는 차광 부재(230)로 둘러싸인 영역(225) 내에 대부분 존재하며, 화소 전극(191) 열을 따라서 세로 방향으로 길게 뻗을 수 있다. 각 색필터(230)는 적색, 녹색 및 청색의 삼원색 등 기본색(primary color) 중 하나를 표시할 수 있다. 색필터(230)는 잉크젯 인쇄 시스템을 사용하여 형성되는 것이 바람직하다. A plurality of color filters 230 is also formed on the substrate 210. The color filter 230 is mostly present in the region 225 surrounded by the light blocking member 230, and may extend in the vertical direction along the column of the pixel electrodes 191. Each color filter 230 may display one of primary colors such as three primary colors of red, green, and blue. The color filter 230 is preferably formed using an inkjet printing system.

색필터(230) 및 차광 부재(220) 위에는 덮개막(overcoat)(250)이 형성되어 있다. 덮개막(250)은 (유기) 절연물로 만들어질 수 있으며, 색필터(230)가 노출되는 것을 방지하고 평탄면을 제공한다. 덮개막(250)은 생략할 수 있다. An overcoat 250 is formed on the color filter 230 and the light blocking member 220. The overcoat 250 may be made of an (organic) insulator, which prevents the color filter 230 from being exposed and provides a flat surface. The overcoat 250 may be omitted.

덮개막(250) 위에는 공통 전극(270)이 형성되어 있다. 공통 전극(270)은 ITO, IZO 등의 투명한 도전체 따위로 만들어진다. The common electrode 270 is formed on the overcoat 250. The common electrode 270 is made of a transparent conductor such as ITO or IZO.

표시판(100, 200)의 안쪽 면에는 배향막(alignment layer)(11, 21)이 도포되어 있으며 이들은 수평 배향막 또는 수직 배향막일 수 있다. 표시판(100, 200)의 바깥쪽 면에는 편광자(polarizer)(12, 22)가 구비되어 있는데, 두 편광자(12, 22)의 편광축은 직교하며 이중 한 편광축은 게이트선(121)에 대하여 나란한 것이 바람직하다. 반사형 액정 표시 장치의 경우에는 두 개의 편광자(12, 22) 중 하나가 생략될 수 있다. Alignment layers 11 and 21 are coated on inner surfaces of the display panels 100 and 200, and the alignment layers 11 and 21 may be horizontal alignment layers or vertical alignment layers. Polarizers 12 and 22 are provided on the outer surfaces of the display panels 100 and 200, and the polarization axes of the two polarizers 12 and 22 are orthogonal and one of the polarization axes is parallel to the gate line 121. desirable. In the case of a reflective liquid crystal display, one of the two polarizers 12 and 22 may be omitted.

본 실시예에 따른 액정 표시 장치는 액정층(3)의 지연을 보상하기 위한 위상 지연막(retardation film)(도시하지 않음)을 더 포함할 수 있다. 액정 표시 장치는 또한 편광자(12, 22), 위상 지연막, 표시판(100, 200) 및 액정층(3)에 빛을 공급하는 조명부(backlight unit)(도시하지 않음)를 포함할 수 있다. The liquid crystal display according to the present exemplary embodiment may further include a phase retardation film (not shown) for compensating for the delay of the liquid crystal layer 3. The liquid crystal display may also include a polarizer 12 and 22, a phase retardation film, display panels 100 and 200, and a backlight unit (not shown) for supplying light to the liquid crystal layer 3.

그러면, 본 발명의 실시예에 따라 액정 표시 장치용 색필터 및 그 제조 방법에 대하여 도 5a 내지 도 7을 참고로 하여 상세하게 설명한다. Next, a color filter for a liquid crystal display and a method of manufacturing the same according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 5A to 7.

도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 한 실시예에 따라 액정 표시 장치용 색필터 표시판(200)의 제조 공정을 단계별로 도시한 단면도이다.5A through 5D are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a color filter display panel 200 for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5a를 참고하면, 기판(210) 위에 차광 부재(220)를 형성한다. 차광 부재(220)는 흑색 안료를 포함하는 유기막으로 이루어질 수 있다. 앞서 설명하였듯이, 차광 부재(220)가 포함하는 안료 입자 크기는 100Å 내지 300Å이고, 차광 부재 상면의 물에 대한 접촉각은 70°내지 90°일 수 있다. 차광 부재(220)의 접촉각은 차광 부재(220)의 주재료에 레벨링제나 첨가제를 혼합하여 조절할 수 있다. Referring to FIG. 5A, the light blocking member 220 is formed on the substrate 210. The light blocking member 220 may be formed of an organic layer including a black pigment. As described above, the particle size of the pigment included in the light blocking member 220 is 100 kPa to 300 kPa, and the contact angle of the upper surface of the light blocking member with respect to water may be 70 ° to 90 °. The contact angle of the light blocking member 220 may be adjusted by mixing a leveling agent or an additive with the main material of the light blocking member 220.

도 5b에서는 기판(210) 및 차광 부재(220) 표면을 플라스마 처리한다. 플라스마 처리에 의하여 차광 부재(220) 상면을 거칠게 할 수 있다.In FIG. 5B, the surfaces of the substrate 210 and the light blocking member 220 are plasma treated. The upper surface of the light blocking member 220 can be roughened by the plasma treatment.

도 6에서 (a) 및 (b)는 각각 플라스마 처리 전후의 차광 부재(220)를 보여주고 있으며, 도 6에 도시한 바와 같이, 플라스마 처리 후에 차광 부재(220)의 상면의 거칠기가 커진다. 차광 부재(220)의 거칠기는 또한 차광 부재(220)가 포함하는 안료 입자 크기를 조절함에 따라 달라질 수 있다.6 (a) and 6 (b) show the light blocking member 220 before and after the plasma treatment, respectively, and as shown in FIG. 6, the roughness of the top surface of the light blocking member 220 increases after the plasma treatment. The roughness of the light blocking member 220 may also vary by adjusting the pigment particle size included in the light blocking member 220.

도 5c를 참고하면, 플라스마 처리된 차광 부재(220)로 정의되는 개구부(225)에 잉크젯 인쇄 시스템(500)의 헤드의 노즐로부터 색필터용 잉크(5)를 적하한 후, 인쇄된 색필터용 잉크(5)를 경화시켜 잉크(5)의 용매를 건조하여, 색필터(230)를 형성한다. 잉크(5)는 색을 나타내는 안료가 용매제 내에 분산되어 있는 안료 분사형 잉크이다. Referring to FIG. 5C, the color filter ink 5 is dropped from the nozzle of the head of the inkjet printing system 500 into the opening 225 defined by the plasma treated light blocking member 220, and then the printed color filter is used. The ink 5 is cured to dry the solvent of the ink 5 to form the color filter 230. The ink 5 is a pigment injection type ink in which a pigment showing color is dispersed in a solvent.

도 7에서 (a)는 잉크(5)를 적하한 직후의 상태를 보여주고, (b)는 잉크(5)의 용매가 제거되어 색필터(230)가 완성된 상태를 보여준다. In FIG. 7, (a) shows a state immediately after dropping the ink 5, and (b) shows a state in which the color filter 230 is completed by removing the solvent of the ink 5.

도 7에 도시한 바와 같이, 잉크젯 헤드의 노즐에서 적하되는 잉크(5)의 양은 개구부(225)가 담을 수 있는 용량보다 커서 인쇄 직후에는 개구부(225)뿐만 아니라 차광 부재(220) 상부에도 존재한다. 이때 차광 부재(220)는 물에 대하여 70°이상의 접촉각을 가지므로, 액체 상태인 잉크(5)와 반발력이 커서 잉크(5)는 개구부 내로 쏠려 들어가고 차광 부재(220)의 측벽 부분에서는 잉크(5)의 높이가 낮고 개구부의 중앙부에서는 잉크(5)의 높이가 높게 된다. 따라서 잉크(5)의 용매 제거 후 개구부(225)의 측벽 부위에서 색필터(230)의 높이가 낮아질 수 있다. 만일 차광 부재(220)의 물에 대한 접촉각이 작아서 친수성을 띄게 되면, 차광 부재(220) 상부에 존재하는 잉크(5)가 유동성을 가지게 되어 인접한 개구부에 적하된 다른 색의 잉크(5)와 혼합될 수 있다. As shown in FIG. 7, the amount of the ink 5 dripping from the nozzle of the inkjet head is larger than the capacity of the opening 225, so that the ink 5 may be present not only on the opening 225 but also on the light blocking member 220 immediately after printing. . In this case, since the light blocking member 220 has a contact angle of 70 ° or more with respect to water, the ink 5 in the liquid state and the repulsive force are so large that the ink 5 is drawn into the opening and the ink 5 is formed at the sidewall of the light blocking member 220. ) Height is low, and the height of the ink 5 is high at the central portion of the opening. Therefore, the height of the color filter 230 may be lowered at the sidewall of the opening 225 after the solvent of the ink 5 is removed. If the contact angle of the light blocking member 220 with respect to water is small and thus hydrophilic, the ink 5 existing on the light blocking member 220 has fluidity and is mixed with ink 5 of another color dropped in the adjacent opening. Can be.

그러나 본 발명의 한 실시예와 같이 차광 부재(220)가 물에 대하여 큰 접촉각을 가지고, 이러한 차광 부재(220) 상면을 플라스마 처리할 경우, 차광 부재(220) 상면의 거칠기가 증가하여, 차광 부재 상면에서 인접한 개구부(225)의 잉크의 혼합을 방지함과 동시에, 차광 부재(220)의 상면에서 마찰력이 증가하므로 개구부(225) 내로 잉크가 완전히 쏠려 들어가는 것을 방지할 수 있다. 따라서 차광 부재(220)의 상면의 일부분에도 잉크(5)가 잔존할 수 있으며, 차광 부재(220)의 측벽 및 개구부(225) 내의 잉크(5) 높이가 모두 동일할 수 있다. 그러므로 도 7의 (b)에서와 같이, 잉크(5)의 용매를 제거한 후 개구부(225) 내에서 색필터(230)의 높이는 균일할 수 있다. However, as in the embodiment of the present invention, when the light blocking member 220 has a large contact angle with respect to water, and when the upper surface of the light blocking member 220 is plasma treated, the roughness of the top surface of the light blocking member 220 is increased, In addition to preventing mixing of the ink in the adjacent openings 225 on the upper surface, the frictional force increases in the upper surface of the light blocking member 220, thereby preventing the ink from fully penetrating into the openings 225. Therefore, the ink 5 may remain on a portion of the upper surface of the light blocking member 220, and the height of the ink 5 in the sidewall of the light blocking member 220 and the opening 225 may be the same. Therefore, as shown in FIG. 7B, the height of the color filter 230 in the opening 225 after removing the solvent of the ink 5 may be uniform.

이제 본 발명의 한 실험예에 따른 차광 부재의 접촉각, 입자 크기 및 표면 거칠기에 대하여 설명한다.Now, the contact angle, particle size and surface roughness of the light blocking member according to the experimental example of the present invention will be described.

도 8은 본 발명의 한 실험예에 따른 차광 부재의 레벨링제 및 첨가제에 따른 접촉각을 측정한 표이고, 도 9는 차광 부재가 포함하는 입자 크기에 따른 차광 부재의 거칠기 차이를 측정한 표이다.FIG. 8 is a table measuring contact angles according to leveling agents and additives of a light blocking member according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a table measuring roughness differences of light blocking members according to particle sizes included in the light blocking member.

본 실험예에서는 차광 부재로 "BK0910H-3"과 "BK0350L-11"를 사용하였는데, BK0910H-3에는 일반적인 레벨링제를 0.045% 혼합하였고, BK0350L-11에는 0.075%의 레벨링제와 0.025%의 첨가제를 혼합하였다. 도 8에 도시한 바와 같이, 레벨링제와 첨가제를 더 많이 혼합할수록, 차광 부재의 접촉각은 커졌다. 이처럼 차광 부재의 재료에 레벨링제와 첨가제를 혼합함으로써 차광 부재의 접촉각을 조절할 수 있다는 것을 알 수 있다. 또한 0.075%의 레벨링제와 0.025%의 첨가제를 혼합한 경우 70°보다 큰 접촉각을 얻을 수 있다.In this test example, "BK0910H-3" and "BK0350L-11" were used as the light blocking member. In BK0910H-3, 0.045% of a general leveling agent was mixed, and 0.075% of a leveling agent and 0.025% of an additive were added to BK0350L-11. Mixed. As shown in Fig. 8, the more the leveling agent and the additive were mixed, the larger the contact angle of the light blocking member was. It can be seen that the contact angle of the light blocking member can be adjusted by mixing the leveling agent and the additive with the material of the light blocking member. In addition, a contact angle greater than 70 ° can be obtained when 0.075% of the leveling agent and 0.025% of the additive are mixed.

도 9에 도시한 실험예에서는 차광 부재로 "BK0910H-1"과 "BK0350L-11"를 사용하였는데, BK0910H-1 및 BK0350L-11에 0.075%의 레벨링제와 0.025%의 첨가제를 혼합하였고, BK0910H-1은 포함하는 입자의 평균 크기가 100Å보다 작았으며, BK0350L-11은 포함하는 입자의 평균 크기가 100Å보다 컸다.In the experimental example illustrated in FIG. 9, "BK0910H-1" and "BK0350L-11" were used as light blocking members, and 0.075% leveling agent and 0.025% additive were mixed with BK0910H-1 and BK0350L-11, and BK0910H- 1 indicates that the average particle size was smaller than 100 microns, and BK0350L-11 was larger than 100 microns.

도 9에 도시한 바와 같이, 입자의 평균 크기가 100Å보다 큰 BK0350L-11의 경우, 차광 부재(220)의 평균 거칠기가 165Å 보다 컸으며, 입자의 평균 크기가 100Å보다 작은 BK0910H-1의 경우, 차광 부재(220)의 평균 거칠기가 32Å 에서 42Å 정도로 작았다. 제곱 평균 거칠기 역시 입자의 평균 크기가 100Å 보다 작은 경우 매우 작았다. 이처럼 차광 부재(220)가 포함하는 입자의 평균 크기가 100Å 보다 크면 165Å보다 큰 평균 거칠기를 얻을 수 있다는 것을 알 수 있다.As shown in FIG. 9, in the case of BK0350L-11 having an average size of particles larger than 100 μs, the average roughness of the light blocking member 220 was greater than 165 μs, and in the case of BK0910H-1 having an average size of particles smaller than 100 μs, The average roughness of the light blocking member 220 was as small as 32 kW to 42 kW. The root mean square roughness was also very small when the average size of the particles was less than 100 mm 3. As such, when the average size of the particles included in the light blocking member 220 is greater than 100 mm 3, it can be seen that an average roughness larger than 165 mm 3 can be obtained.

다음으로, 도 10은 플라스마 처리 전 후의 차광 부재(220)의 상면을 원자 현미경(Atomic Force Microscope)으로 측정한 결과를 나타내는 그래프이며, 도 11은 플라스마 처리 전후의 차광 부재(220) 표면 거칠기 크기를 나타내는 표이다. Next, FIG. 10 is a graph showing the results of measuring the upper surface of the light blocking member 220 before and after plasma treatment by atomic force microscope, and FIG. 11 shows the surface roughness size of the light blocking member 220 before and after plasma treatment. Table to show.

도 10에 도시한 바와 같이, 차광 부재(220) 상면을 플라스마 처리한 후 차광 부재(220)의 표면의 굴곡이 더 커졌다. 도 11을 참조하면, 플라스마 처리 후 평균 거칠기 및 제곱 평균 거칠기 크기가 커졌다. 즉, 플라스마 처리에 의하여 차광 부재(220) 상면에서 높고 낮음의 차이가 커졌음을 알 수 있다.As shown in FIG. 10, after the plasma treatment of the upper surface of the light blocking member 220, the curvature of the surface of the light blocking member 220 became larger. Referring to FIG. 11, the average roughness and the squared average roughness sizes increased after the plasma treatment. That is, it can be seen that the difference between high and low on the upper surface of the light blocking member 220 is increased by the plasma treatment.

본 발명에 따른 액정 표시 장치는 차광 부재의 입자 크기와 접촉각 그리고 차광 부재 상면의 거칠기를 조절함으로써, 잉크젯 인쇄 시스템을 이용하여 색필터를 제조할 때 차광 부재로 정의된 개구부에서의 색필터의 높이차를 감소할 수 있다.The liquid crystal display according to the present invention adjusts the particle size and the contact angle of the light blocking member and the roughness of the top surface of the light blocking member, thereby producing a height difference of the color filter in the opening defined by the light blocking member when manufacturing the color filter using the inkjet printing system. Can be reduced.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 권리 범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다. Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Accordingly, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concept of the present invention as defined in the following claims also fall within the scope of the present invention.

Claims (8)

기판,Board, 상기 기판 위에 형성되어 있는 유기물 격벽, 그리고An organic barrier formed on the substrate, and 상기 기판 및 상기 격벽 위에 형성되어 있는 색필터A color filter formed on the substrate and the partition wall 를 포함하며, Including; 상기 격벽이 포함하는 입자 크기는 100Å 내지 300Å이고,The partition includes a particle size of 100 Å to 300 Å, 상기 격벽의 물에 대한 접촉각은 70°내지 90°이고, 상기 격벽 상면 거칠기는 150Å 내지 200Å인 The contact angle of the partition wall with respect to water is 70 ° to 90 °, and the partition top surface roughness is 150 격 to 200Å. 액정 표시 장치용 표시판. Display panel for liquid crystal display device. 제1항에서, In claim 1, 상기 격벽은 차광 부재인 액정 표시 장치용 표시판.The partition wall is a display panel for a liquid crystal display device that is a light blocking member. 제1항에서,In claim 1, 상기 기판 위에 형성되어 있는 전기장 생성 전극을 더 포함하는 액정 표시 장치용 표시판. And a field generating electrode formed on the substrate. 제1 기판,First substrate, 상기 제1 기판 위에 형성되어 있는 게이트선 및 데이터선,A gate line and a data line formed on the first substrate; 상기 게이트선 및 데이터선에 연결되어 있는 박막 트랜지스터, A thin film transistor connected to the gate line and the data line, 상기 박막 트랜지스터와 연결되어 있는 화소 전극,A pixel electrode connected to the thin film transistor, 상기 제1 기판에 마주하는 제2 기판, A second substrate facing the first substrate, 상기 제2 기판 위에 형성되어 있는 차광 부재, A light blocking member formed on the second substrate, 상기 제2 기판 및 상기 차광 부재 위에 형성되어 있는 색필터, 그리고A color filter formed on the second substrate and the light blocking member; and 상기 색필터 위에 형성되어 있는 공통 전극Common electrode formed on the color filter 을 포함하며,Including; 상기 차광 부재가 안료 포함하는 입자 크기는 100Å 내지 300Å이고,The particle size of the light-shielding member includes a pigment is 100 kPa to 300 kPa, 상기 차광 부재 상면의 물에 대한 접촉각은 70°내지 90°이고, 상기 차광 부재 상면 거칠기는 150Å 내지 200Å인 The contact angle of the upper surface of the light blocking member with respect to water is 70 ° to 90 °, the roughness of the upper surface of the light blocking member is 150 kPa to 200 kPa 액정 표시 장치.Liquid crystal display. 제4항에서,In claim 4, 상기 차광 부재는 유기물을 포함하는 액정 표시 장치.The light blocking member includes an organic material. 기판을 준비하는 단계,Preparing the substrate, 상기 기판 위에 차광 부재를 형성하는 단계,Forming a light blocking member on the substrate; 상기 차광 부재의 상면을 거칠게 하는 단계, 그리고Roughening an upper surface of the light blocking member, and 잉크젯 인쇄 시스템을 사용하여, 상기 차광 부재로 정의된 영역에 색필터를 형성하는 단계Using an inkjet printing system, forming a color filter in a region defined by the light blocking member 를 포함하며,Including; 상기 차광 부재의 상면을 거칠게 하는 단계는 상기 차광 부재의 상면을 플라스마 처리하는 것이고, 상기 차광 부재가 포함하는 입자 크기는 100Å 내지 300Å인 The roughening of the upper surface of the light blocking member is performed by plasma treatment of the upper surface of the light blocking member, and the particle size of the light blocking member is 100 μs to 300 μs. 액정 표시 장치용 표시판 제조 방법.Display panel manufacturing method for liquid crystal display devices. 제6항에서, In claim 6, 상기 차광 부재 상면의 접촉각은 70°내지 90°인 액정 표시 장치용 표시판 제조 방법.The contact angle of the upper surface of the light blocking member is 70 ° to 90 ° display panel manufacturing method for a liquid crystal display device. 제6항에서,In claim 6, 상기 차광 부재 상면 거칠기는 150Å 내지 200Å인 액정 표시 장치용 표시판 제조 방법.The light blocking member upper surface roughness is 150 kPa to 200 kPa, the display panel manufacturing method for a liquid crystal display device.
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