KR20070015629A - Method for manufacturing wire for correcting a set of t - Google Patents

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Abstract

A manufacturing method of a wire for correcting a set of teeth is provided to prevent the change of the color of a transparent metal material by applying a parylene film after applying a transparent metal material on a wire for correcting a set of teeth. The manufacturing method of a wire for correcting a set of teeth includes the steps of: manufacturing a metal wire with a metal alloy material; chemically etching the surface of the metal wire(21) and performing heat treatment; vacuum depositing metal material(23) on the surface of the metal wire; vacuum depositing transparent metal oxide film(24) on the metal material vacuum deposed on the surface of the metal wire; and forming a transparent parylene film(25) on the transparent metal oxide and then performing heat treatment.

Description

치열 교정용 와이어 제조 방법{method for manufacturing wire for correcting a set of teeth}Method for manufacturing wire for correcting a set of teeth}

도 1은 종래의 치열 교정용 와이어의 개략도와 단면도이다.1 is a schematic and sectional view of a conventional orthodontic wire.

도 2는 본 발명의 실시예에 따라 제조된 치열 교정용 와이어의 개략도 및 단면도이다.2 is a schematic view and a cross-sectional view of an orthodontic wire manufactured according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 다이머들의 구조식이다.3 is a structural formula of dimers according to an embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10, 20 : 치열 교정용 와이어 11, 21 : 금속 와이어10, 20: orthodontic wire 11, 21: metal wire

13 : 테프론 코팅막 23 : 금속 물질13: Teflon coating film 23: metal material

24 : 금속 산화물막 25 : 패럴린막24 metal oxide film 25 parallel film

본 발명은 치열 교정용 와이어 제조 방법에 관한 것으로, 특히 인체에 해롭지 않고 치아 색깔을 계속해서 유지할 수 있는 치열 교정용 와이어 제조 방법에 관 한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing the orthodontic wire, and more particularly to a method for manufacturing the orthodontic wire that can continue to maintain the tooth color without harming the human body.

예컨대 치주염(齒周炎)의 진행에 의하여 치주조직이 파괴되어 잇몸가의 가장자리로부터 순차 파괴되어 치조골(齒槽骨)이 점차 소실해 감에 따라서, 그 치주염부분의 치아가 동요하는, 소위, 치조농루의 증상이 나타난다. 이와같은 치조농루의 치아에 대한 치료방법은, 동요가 심해서, 보존희망이 없는 치아에 대해서는 발치(拔齒)를 하지만, 동요는 하고 있지만 보존의 희망이 있는 치아에 대해서는 이것과 인접하는 동요가 적은 치아와 함께 고정하는 방법이 있다. For example, as the periodontitis is destroyed by the progression of periodontal tissue, the periodontal tissue is sequentially destroyed from the edge of the gum, and the alveolar bone gradually disappears, so-called, periodontal abscess Symptoms appear. As for the treatment method of the tooth of the alveolar rash, the fluctuations are severe and extraction is performed for the tooth which does not have a preservation hope, but there is little agitation which is close to this for the tooth which shakes, but there is hope of preservation There is a method of fixing with the teeth.

인접한 복수의 치아를 고정할 때에는, 금속 와이어의 사용이 일반적이다. 이것은 금속 와이어의 탄성을 이용하여, 고정대상인 복수의 치아에 금속 와이어를 감고, 이들 치아에 금속 와이어의 굽힘 또는 인장에 의하여 발생하는 부하하중을 가하여, 이 하중에 의하여 치아를 고정하는 방법이다.When fixing a plurality of adjacent teeth, the use of metal wires is common. This is a method of winding a metal wire around a plurality of teeth to be fixed using the elasticity of the metal wire, applying a load load generated by bending or stretching the metal wire to these teeth, and fixing the tooth by this load.

상기한 방법에서는, 금속 와이어를 고정대상이 치아에 순차적으로 감아부착하는 작업에 공수가 소용되고 부가되는 하중 때문에 환자가 늘 통증을 느끼고, 불쾌감에 괴로워하며 입을 벌렸을 때 정면으로부터 금속 와이어가 눈에 띠므로써 보기에 좋지 않다고 하는 문제가 있다. In the above-described method, the metal wire is seen from the front when the patient always feels pain, suffers from discomfort, and opens his mouth because of the load that is used and added to the work of sequentially fixing the metal wire to the tooth. There is a problem that it is not good to see.

따라서, 최근에 형상기억합금을 사용하여 치열을 고정하는 방법이 제안되고 있다. 이들의 방법은, 미리 모상상태(母相狀態)의 형상이 소망의 형상, 즉 해부학적으로 바른 치열을 이루는 형상이 되도록, 형상기억 합금제인 와이어 형상의 교정부재에 열처리를 실시하고, 이 교정부재를 저온의 환경에서 환자의 치열에 맞추어 설치하고, 가열하여 본래의 형상으로 복귀시키고, 탄성력에 의하여 치열을 교정하 는 것이다. Therefore, a method of fixing teeth by using a shape memory alloy has recently been proposed. These methods heat-treat the wire-shaped straightening member made of shape memory alloy so that the shape of a hair-shaped state may become a desired shape, ie, an anatomically correct tooth shape previously, and this straightening member Is installed in accordance with the patient's dentition in a low temperature environment, heated to return to its original shape, and the orthodontics are corrected by elastic force.

도 1은 종래의 치열 교정용 와이어의 개략도 및 단면도이다.1 is a schematic view and a cross-sectional view of a conventional orthodontic wire.

도 1의 (a)에 도시된 바와 같이, 치열 교정용 와이어(10)는 외형적으로는 일반적인 와이어와 유사하다. 그러나, 내형적으로 일반적인 와이어와 다르기때문에 첨부된 도 1의 (b)를 참조하여 그 형상 및 제조 공정에 대하여 간단히 설명한다.As shown in FIG. 1A, the orthodontic wire 10 is similar in appearance to a general wire. However, since it is internally different from the general wire, the shape and manufacturing process thereof will be briefly described with reference to FIG.

첨부된 도 1의 (b)는 첨부된 도 1의 (a)에 도시된 치열 교정용 와이어에서 "A" 부분의 단면도이다.FIG. 1B is a cross-sectional view of a portion “A” of the orthodontic wire shown in FIG. 1A.

도 1의 (b)에 도시된 바와 같이, 종래의 치열 교정용 와이어(10)는 금속 와이어(11)와, 상기 금속 와이어(11) 표면에 형성되는 테프론 코팅막(13)으로 이루어져 있다. 상기 금속 와이어(11)는 일반적인 금속 와이어 또는 형상기억합금으로 형성된 금속 와이어일 수 있다. 그리고, 상기 테프론 코팅막(13)은 각 종 코팅 방법에 의하여 상기 금속 와이어(11) 표면에 코팅되어 형성된다. 상기 테프론 코팅막(13)은 치아색에 근접하게 코팅된다.As shown in FIG. 1B, the conventional orthodontic wire 10 includes a metal wire 11 and a Teflon coating film 13 formed on the metal wire 11 surface. The metal wire 11 may be a metal wire formed of a general metal wire or a shape memory alloy. The Teflon coating layer 13 is formed by coating the surface of the metal wire 11 by various coating methods. The Teflon coating film 13 is coated close to the tooth color.

상기와 같이, 종래에는 치아색을 내기 위하여 금속 와이어 표면에 테프론 코팅막을 형성하여 치열 교정용 와이어를 형성하였는데, 상기 테프론은 인체에 대한 유해성 논란으로 인하여 문제가 되고 있다. 따라서, 인체에 무해한 치열 교정용 와이어를 제공하는 것이 시급한 상황이다.As described above, in the related art, a teflon coating film was formed on the surface of the metal wire to form a tooth color, so that the orthodontic wire was formed. Therefore, it is urgent to provide an orthodontic wire that is harmless to the human body.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으 로, 치아색을 계속해서 유지할 수 있고 인체에 무해한 치열 교정용 와이어 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention was devised to solve the above problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing orthodontic wire that can maintain the tooth color continuously and harmless to the human body.

상기와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 제안된 본 발명인 치열 교정용 와이어 제조 방법을 이루는 구성수단은, 치열 교정용 와이어 제조 방법에 있어서, 금속합금 소재로 금속 와이어를 제조하는 단계, 상기 금속 와이어의 표면을 화학적 에칭한 후, 열처리 공정을 수행하는 단계, 상기 금속 와이어 표면이 백색을 띌 수 있도록 금속 물질을 진공 증착하는 단계, 상기 금속 와이어 표면에 진공 증착되는 금속 물질 상에 투명 금속 산화물막을 진공 증착하는 단계, 상기 투명 금속 산화물 상에 투명한 패럴린막을 형성한 후, 열처리를 수행하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In order to solve the technical problem as described above, the constituent means of the orthodontic wire manufacturing method proposed by the present invention, in the orthodontic wire manufacturing method, manufacturing a metal wire from a metal alloy material, the surface of the metal wire Performing a heat treatment process, vacuum depositing a metal material such that the surface of the metal wire is white, and vacuum depositing a transparent metal oxide film on the metal material vacuum deposited on the metal wire surface. Step, after forming a transparent paraline film on the transparent metal oxide, characterized in that it comprises a step of performing a heat treatment.

또한, 상기 금속 와이어는 스테인레스, NiTi, 니켈(Ni)계 합금, 티탄(Ti)계 합금, 구리Cu)계 합금, 알루미늄(Al)계 합금 중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the metal wire is formed of any one of stainless steel, NiTi, nickel (Ni) alloy, titanium (Ti) alloy, copper Cu-based alloy, aluminum (Al) -based alloy.

또한, 상기 금속 와이어의 표면을 화학적 에칭하기 전에 알칼리, 유기 용제 또는 초순수를 이용하여 상기 금속 와이어 표면을 초음파 세척하는 것을 특징으로 한다.In addition, before chemically etching the surface of the metal wire, the surface of the metal wire may be ultrasonically cleaned using an alkali, an organic solvent, or ultrapure water.

또한, 상기 금속 와이어의 표면 에칭은 CuCl2, FeCl3, HCl, H2SO4, HNO3, H3PO4, HF, H2O2 중 어느 하나 또는 혼합물을 H2O 또는 유기용제에 혼합하여 제조된 에칭용액을 사용하여 수행되는 것을 특징으로 한다.In addition, the surface etching of the metal wire is any one or a mixture of CuCl 2 , FeCl 3 , HCl, H 2 SO 4 , HNO 3 , H 3 PO 4 , HF, H 2 O 2 mixed with H 2 O or an organic solvent It is characterized in that it is carried out using the prepared etching solution.

또한, 상기 금속 와이어는 상기 에칭용액에서 전해 또는 무전해 에칭되어 표면처리되는 것을 특징으로 한다.In addition, the metal wire is characterized in that the surface is treated by electrolytic or electroless etching in the etching solution.

또한, 상기 금속 와이어는 상기 표면처리에 의하여 0.1㎛ ~ 20㎛의 폭과 깊이를 가지는 굴곡이 형성되는 것을 특징으로 하고, 상기 표면처리된 금속 와이어는 알칼리, 용제 및 물 중 어느 하나를 이용하여 습식 세정되는 것이 바람직하다.In addition, the metal wire is characterized in that the bent having a width and depth of 0.1㎛ ~ 20㎛ by the surface treatment, the surface-treated metal wire is wet using any one of alkali, solvent and water It is preferred to be cleaned.

또한, 상기 화학적 에칭한 후, 수행되는 열처리 공정은 대기압 또는 진공 챔버 내에서 수행하되, 100 ~ 250 ℃ 온도에서 1시간 ~ 24시간 동안 진행되는 것을 특징으로 한다.In addition, after the chemical etching, the heat treatment process is carried out in an atmospheric pressure or a vacuum chamber, characterized in that for 1 hour to 24 hours at a temperature of 100 ~ 250 ℃.

또한, 상기 금속 와이어 표면에 증착되는 금속 물질은 플라즈마를 이용한 스퍼터링법(sputtering), 열 진공증착법(thermal vacuum evaporation), 전자빔 증착법(e-beam evaporation), 이온 플레이팅법(ion plating), 진공 스프레이 분사법 중 어느 하나를 이용하여 진공 증착되는 것을 특징으로 한다.In addition, the metal material deposited on the surface of the metal wire may be sputtering, thermal vacuum evaporation, e-beam evaporation, ion plating, or vacuum spraying using plasma. It is characterized in that the vacuum deposition using any one of the law.

또한, 상기 금속 와이어 표면에 진공 증착되는 금속 물질은 은(Ag), 아연(Zn), 주석(Sn), 인듐(In), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 알루미늄(Al) 중 어느 하나 또는 혼합물질인 것을 특징으로 한다.In addition, the metal material vacuum deposited on the surface of the metal wire is any one of silver (Ag), zinc (Zn), tin (Sn), indium (In), nickel (Ni), chromium (Cr), aluminum (Al). Or a mixture.

또한, 상기 진공 증착되는 금속 물질은 0.1 ~ 10㎛ 사이 두께로 상기 금속 와이어 전체 표면에 증착되는 것을 특징으로 한다.In addition, the vacuum deposited metal material is characterized in that deposited on the entire surface of the metal wire in a thickness of 0.1 ~ 10㎛.

또한, 상기 금속 와이어 표면에 진공 증착되는 금속 물질은 15℃ ~ 300℃ 사이에서 수행되는 것을 특징으로 한다.In addition, the metal material vacuum deposited on the surface of the metal wire is characterized in that it is carried out between 15 ℃ ~ 300 ℃.

또한, 상기 투명 금속 산화물막은 스퍼터링(sputtering)법, 열진공 증착(thermal vacuum evaporation)법, 전자빔 증착법(e-beam evaporation), 이온 플레이팅(ion plating)법 중 어느 하나를 사용하여 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the transparent metal oxide film is formed using any one of sputtering method, thermal vacuum evaporation method, e-beam evaporation method, ion plating method. It is done.

또한, 상기 투명 금속 산화물막은 나노 입자 크기의 알갱이로 구성된 졸(sol) 상태의 원료를 진공 스프레이 분사법을 이용하여 코팅함으로써 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the transparent metal oxide film is characterized in that formed by coating a sol (sol) raw material consisting of grains of the nano-particle size using a vacuum spray injection method.

또한, 상기 투명 금속 산화물막은 ITO, ZnO, TiO2, Al2O3, Ta2O5, ZrO2, SiO2, GeO2, Y2O3, La2O3, HfO2, CaO, In2O3, SnO2, MgO, WO2 및 WO3 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 한다.In addition, the transparent metal oxide film is ITO, ZnO, TiO 2 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , ZrO 2 , SiO 2 , GeO 2 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , HfO 2 , CaO, In 2 O 3 , SnO 2 , MgO, WO 2 and WO 3 , or a mixture thereof.

또한, 상기 투명 금속 산화물막은 10Å ~ 1㎛ 사이 두께로 증착되는 것을 특징으로 한다.In addition, the transparent metal oxide film is characterized in that deposited to a thickness between 10 사이 ~ 1㎛.

또한, 상기 투명 금속 산화물막은 진공 챔버에서 15℃ ~ 300℃ 사이의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 한다.In addition, the transparent metal oxide film is characterized in that carried out at a temperature between 15 ℃ to 300 ℃ in a vacuum chamber.

또한, 상기 투명 금속 산화물막은 진공 챔버 내로 산소 가스를 1 ~ 200sccm 사이로 흘러주어 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the transparent metal oxide film is characterized by being formed by flowing an oxygen gas between 1 ~ 200sccm into the vacuum chamber.

또한, 상기 투명 금속 산화물막은 플라즈마 처리하여 형성하되, 50sccm ~ 500sccm의 아르곤 가스를 흘려주며, 투명 금속 산화물막의 플라즈마 처리 중 챔버 압력은 1 ~ 20mTorr로 유지시키는 것을 특징으로 한다.In addition, the transparent metal oxide film is formed by plasma treatment, 50sccm ~ 500sccm of argon gas flows, the plasma pressure of the transparent metal oxide film is characterized in that the chamber pressure is maintained at 1 ~ 20mTorr.

또한, 상기 투명한 패럴린막은, C(Di-chloro-para-xylylene)- 타입, N(Di-para-xylylene)- 타입, D(Tetra-chloro-para-xylylene)- 타입, F(Octafluoro-[2,2]para-xylylene)- 타입, HT- 타입, A - 타입, AM - 타입 다이머(dimer), 중 적어도 하나를 사용하는 것을 특징으로 한다.In addition, the transparent paraline film is C (Di-chloro-para-xylylene) -type, N (Di-para-xylylene) -type, D (Tetra-chloro-para-xylylene) -type, F (Octafluoro- [ 2,2] at least one of para-xylylene) -type, HT-type, A-type, and AM-type dimer.

또한, 상기 투명한 패럴린막은 상기 다이머(dimer)를 기화기(vaporizer) 내에서 50 ~ 250 ℃ 온도로 기화시키고, 550 ~ 750 ℃ 온도의 전기로(pyrolysis)를 통과하면서 모노머(monomer)로 분해시킨 후, 진공 챔버 내에서 모노머(monomer)의 분압을 10 ~ 100 mTorr 로 유지하여 상기 모노머(monomer)들을 상기 투명 금속 산화물막 표면에 증착시켜 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, the transparent paraline film vaporizes the dimer at a temperature of 50 to 250 ° C. in a vaporizer, and decomposes it into a monomer while passing through a pyrolysis at a temperature of 550 to 750 ° C. In the vacuum chamber, the partial pressure of the monomer is maintained at 10 to 100 mTorr, and the monomers are deposited on the surface of the transparent metal oxide film.

또한, 상기 투명한 패럴린막을 형성한 후, 수행되는 열처리는 50℃ ~ 400℃ 사이의 온도에서 진행되고, 1분 ~ 48시간 동안 진행되는 것을 특징으로 한다.In addition, after forming the transparent paraline film, the heat treatment is carried out at a temperature between 50 ℃ ~ 400 ℃, it characterized in that for 1 minute to 48 hours.

이하, 상기와 같은 구성수단으로 이루어져 있는 본 발명인 치열 교정용 와이어 제조 방법에 관한 작용 및 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, the operation and the preferred embodiment related to the orthodontic wire manufacturing method of the present invention consisting of the above-described constituent means will be described in detail.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 치열 교정용 와이어 제조 방법에 의하여 제조된 치열 교정용 와이어의 개략도 및 단면도이다. Figure 2 is a schematic view and a cross-sectional view of the orthodontic wire produced by the orthodontic wire manufacturing method according to an embodiment of the present invention.

도 2의 (a)에 도시된 바와 같이, 치열 교정용 와이어(20)는 외형적으로는 일반적인 와이어와 유사하다. 그러나, 내형적으로 일반적인 와이어와 다르기 때문에 첨부된 도 2의 (b)를 참조하여 그 형상 및 제조 공정에 대하여 설명한다.As shown in FIG. 2A, the orthodontic wire 20 is similar in appearance to a general wire. However, since it is internally different from the general wire, the shape and manufacturing process thereof will be described with reference to FIG.

첨부된 도 2의 (b)는 본 발명의 실시예를 설명하기 위하여 첨부된 도 2의 (a)에 도시된 치열 교정용 와이어에서 "A" 부분의 단면도이다.FIG. 2B is a cross-sectional view of a portion “A” of the orthodontic wire shown in FIG. 2A to illustrate the embodiment of the present invention.

도 2의 (b)에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 치열 교정용 와이어(20)는 길게 형성되는 금속 와이어(21)와, 상기 금속 와이어(21) 표면에 진공 증착되는 백색의 금속 물질(23)과, 상기 금속 물질(23) 표면에 진공 증착되는 투명 금속 산화물막(24)과, 상기 투명 금속 산화물막(24) 상에 형성되는 패럴린막(25)을 포함하여 이루어진다. As shown in (b) of FIG. 2, the orthodontic wire 20 according to the embodiment of the present invention is formed of a metal wire 21 that is elongated and white of vacuum deposition on the surface of the metal wire 21. And a metal material 23, a transparent metal oxide film 24 vacuum deposited on the surface of the metal material 23, and a paraline film 25 formed on the transparent metal oxide film 24.

상기 금속 와이어(21)는 일반 금속 소재 및 형상기억합금 소재를 포함하는 금속 합금을 이용하여 형성된다. 상기 금속 와이어(21)를 형성하기 위한 금속합금 소재는 스테인레스, NiTi, 니켈(Ni)계 합금, 티탄(Ti)계 합금, 구리(Cu)계 합금, 알루미늄(Al)계 합금 중 어느 하나로 형성되는 것이 바람직하다.The metal wire 21 is formed using a metal alloy including a general metal material and a shape memory alloy material. The metal alloy material for forming the metal wire 21 is formed of any one of stainless steel, NiTi, nickel (Ni) alloy, titanium (Ti) alloy, copper (Cu) alloy, and aluminum (Al) alloy. It is preferable.

보통 금속은 탄성 한계를 넘어서 변형을 주면 데우거나 식혀도 원래 형태로 돌아가지 않는다. 그러나 어떤 합금은 고온에서 적당한 형상으로 성형한 다음 실온에서 변형한 후 다시 가열하면 원래 성형한 모양으로 되돌아간다. Usually, metals do not return to their original shape when warmed or cooled by deformation beyond their elastic limits. Some alloys, however, are molded into a suitable shape at high temperatures, then deformed at room temperature and then heated again to return to their original shape.

이러한 효과를 형상 기억 효과라고 하는데, 이는 합금이 주어진 형상을 원자 배열로서 기억하고 있기 때문에 생긴다. 이러한 효과는 확산에 의하지 않고 변태하는 합금에서 나타나는데, 고온의 모상원자배열이 저온에서의 변형 때도 기억되고 있다가 다시 고온이 되면 원래의 원자 배열로 재배열하는 것이다.This effect is called the shape memory effect, which occurs because the alloy stores the given shape as an atomic array. This effect appears in the transformation alloy, not by diffusion, where the high-molecular parent array is remembered even when it is deformed at low temperatures, and then rearranges back to its original atomic arrangement when the high temperature returns.

이 효과는 형상 회복과 동시에, 큰 힘이 발생한다. 힘이 발생하기 때문에 형상 기억 합금은 감지 소자로서의 용도만이 아니라 기계 부품을 죄는 데 쓰인다. 따 라서, 형상기억합금 소재로 형성된 금속 와이어를 이용하여 치아를 교정할 수 있는 것이다.This effect simultaneously with shape recovery, a large force is generated. Because of the force generated, shape memory alloys are used not only as sensing elements but also for clamping mechanical parts. Therefore, the teeth can be corrected by using a metal wire formed of a shape memory alloy material.

상기 형상기억합금 소재 및 일반 금속 합금 소재를 이용하여 형성되는 금속 와이어(21)의 표면에 진공 증착되는 금속 물질(23)은 치아색과 유사한 색깔인 백색이 상기 금속 와이어(21) 표면에 띌 수 있도록 한다. The metal material 23 vacuum-deposited on the surface of the metal wire 21 formed using the shape memory alloy material and the general metal alloy material may have a white color similar to a tooth color on the surface of the metal wire 21. Make sure

상기 금속 와이어(21) 표면에 진공 증착되는 금속물질(23)은 플라즈마를 이용한 스퍼터링법(sputtering), 열 진공증착법(thermal vacuum evaporation), 전자빔 증착법(e-beam evaporation), 이온 플레이팅(ion plating), 진공 스프레이 분사법 중 어느 하나를 이용하여 형성된다.The metal material 23 vacuum deposited on the surface of the metal wire 21 may be sputtered using plasma, thermal vacuum evaporation, e-beam evaporation, or ion plating. ), Using a vacuum spray injection method.

상기 금속 와이어(21) 표면에 진공 증착되는 백색의 금속물질(23)은 은(Ag), 아연(Zn), 주석(Sn), 인듐(In), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 알루미늄(Al) 중 어느 하나 또는 적어도 두개 이상이 혼합된 혼합물질인 것이 바람직하다.The white metal material 23 vacuum deposited on the surface of the metal wire 21 includes silver (Ag), zinc (Zn), tin (Sn), indium (In), nickel (Ni), chromium (Cr), and aluminum. It is preferable that any one or at least two of (Al) are mixed materials.

상기 백색의 금속 물질(23) 표면에는 투명한 금속 산화물막(24)이 진공 증착되는데, 상기 투명한 금속 산화물막(24)은 ITO, ZnO, TiO2, Al2O3, Ta2O5, ZrO2, SiO2, GeO2, Y2O3, La2O3, HfO2, CaO, In2O3, SnO2, MgO, WO2, WO3 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물이 진공증착되어 형성된다.A transparent metal oxide film 24 is vacuum deposited on the surface of the white metal material 23, and the transparent metal oxide film 24 is formed of ITO, ZnO, TiO 2 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , ZrO 2. , SiO 2, GeO 2 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , HfO 2 , CaO, In 2 O 3 , SnO 2 , MgO, WO 2 , WO 3 Either or a mixture thereof is formed by vacuum deposition.

상기 투명 금속 산화물막(24)은 10Å ~ 1㎛ 사이의 두께를 가지는 것이 바람직하고, 이와 같은 두께를 가지는 투명한 금속 산화물막(24)을 형성하기 위하여 플라즈마를 이용한 스퍼터링법(sputtering), 전자빔 증착법(e-beam evaporation), 열 진공 증착법(thermal evaporation), 이온플레이팅법(ion plating) 중 어느 하나를 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 나노 입자 크기의 알갱이로 구성된 졸(sol) 상태의 원료를 진공 스프레이 분사법을 이용하여 코팅함으로써 형성할 수도 있다.The transparent metal oxide film 24 preferably has a thickness of between 10 μm and 1 μm. In order to form the transparent metal oxide film 24 having such a thickness, sputtering and electron beam deposition methods using plasma ( It is preferable to use any one of e-beam evaporation, thermal evaporation, and ion plating. In addition, it may be formed by coating the raw material in the sol state consisting of grains of nano-particle size using a vacuum spray injection method.

상기 투명한 금속 산화물막(24) 상에는 고분자화합물인 투명한 패럴린(parylene)막(25)이 코팅되어 형성된다. 상기 투명 금속 산화물막(24) 표면에 코팅되는 상기 투명 패럴린막(25)은 0.1㎛ ~ 100㎛ 사이의 두께로 형성되는 것이 바람직하다.The transparent metal oxide film 24 is formed by coating a transparent parylene film 25, which is a polymer compound. The transparent paraline layer 25 coated on the surface of the transparent metal oxide layer 24 may be formed to a thickness of 0.1 μm to 100 μm.

상기 패럴린은 인체에 무해한 것으로 검증된 물질로서, 균일하게 상기 투명한 금속 산화물막(24) 표면에 코팅가능하고, 좋은 표면 조도를 가지고 있으며 감촉이 부드럽기 때문에, 상기 패럴린이 코팅된 치열 교정용 와이어를 치아에 착용할 때 좋은 질감을 가질 수 있도록 한다.The paraline is a material that has been proved to be harmless to the human body, and is uniformly coated on the transparent metal oxide layer 24, has good surface roughness, and soft to the touch. Make sure you have a good texture when worn on your teeth.

상기와 같은 구조로 이루어진 본 발명의 실시예에 따른 치열 교정용 와이어를 제조하는 방법에 대하여 설명하면 다음과 같다.Referring to the method of manufacturing the orthodontic wire according to an embodiment of the present invention having the above structure as follows.

먼저, 금속합금 소재로 금속 와이어(21)를 제조한다. 즉, 금속합금 소재인 니켈(Ni)계 합금, 스테인레스, NiTi, 티탄(Ti)계 합금, 구리(Cu)계 합금, 알루미늄(Al)계 합금 중 어느 하나를 이용하여 금속 와이어(21)를 제조한다. 이와 같은 금속 와이어(21)는 탄성력과 인장력을 가지고 있다.First, the metal wire 21 is manufactured from a metal alloy material. That is, the metal wire 21 is manufactured using any one of nickel (Ni) alloy, stainless steel, NiTi, titanium (Ti) alloy, copper (Cu) alloy, and aluminum (Al) alloy, which are metal alloy materials. do. Such a metal wire 21 has an elastic force and a tensile force.

상기 금속 와이어(21)가 제조되면, 상기 금속 와이어(21)의 표면을 화학적 에칭 처리한다. 그리고, 열처리 공정을 수행한다. 상기 금속 와이어(21)의 표면을 화학적 에칭하기 전에는 알칼리, 유기 용제 또는 초순수를 이용하여 상기 금속 와이어 표면을 초음파 세척하는 것이 바람직하다. 즉, 화학적 에칭을 수행하기 전에 금속 와이어(21)의 표면을 세정하는 것이 바람직하다.When the metal wire 21 is manufactured, the surface of the metal wire 21 is chemically etched. Then, a heat treatment process is performed. Before chemically etching the surface of the metal wire 21, it is preferable to ultrasonically clean the surface of the metal wire using an alkali, an organic solvent, or ultrapure water. That is, it is preferable to clean the surface of the metal wire 21 before performing chemical etching.

상기 금속 와이어(21)의 표면 에칭은 소정의 굴곡을 형성시킬 수 있는 에칭 용액을 사용할 수 있는데, 본 발명에서는 CuCl2, FeCl3, HCl, H2SO4, HNO3, H3PO4, HF, H2O2 중 어느 하나 또는 혼합물을 H2O 또는 유기용제(메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올 등)에 혼합하여 제조된 에칭용액을 사용한다.The etching of the surface of the metal wire 21 may use an etching solution capable of forming a predetermined bend. In the present invention, CuCl 2 , FeCl 3 , HCl, H 2 SO 4 , HNO 3 , H 3 PO 4 , HF and using the etching solution prepared by any of H 2 O 2 or a mixture of H 2 O or a mixture of the organic solvent (methanol, ethanol and isopropyl alcohol, etc.).

상기 금속 와이어(21)는 상기 에칭 용액에 담겨진 상태에서 전해 또는 무전해 에칭되어 표면처리된다. 이 표면처리에 의하여 상기 금속 와이어(21)의 표면은 소정 형상으로 굴곡이 발생한다. 즉, 상기 금속 와이어(21)는 상기 표면처리에 의하여 0.1㎛ ~ 20㎛의 폭과 깊이를 가지는 굴곡이 형성된다. 상기 표면처리된 금속 와이어는 알칼리, 용제 및 물 중 어느 하나를 이용하여 습식 세정되는 것이 바람직하다.The metal wire 21 is electrolytically or electrolessly etched in the state of being immersed in the etching solution to be surface treated. By the surface treatment, the surface of the metal wire 21 is bent in a predetermined shape. That is, the metal wire 21 is bent to have a width and depth of 0.1㎛ ~ 20㎛ by the surface treatment. The surface-treated metal wire is preferably wet cleaned using any one of alkali, solvent and water.

상기와 같이 화학적 에칭으로 표면처리된 금속 와이어(21)는 소정의 조건에서 열처리된다. 상기 화학적 에칭한 후, 수행되는 열처리 공정은 대기압 또는 진공 챔버 내에서 수행되되, 100 ~ 250 ℃ 온도에서 1시간 ~ 24시간 동안 진행되는 것이 바람직하다.The metal wire 21 surface-treated by chemical etching as described above is heat treated under a predetermined condition. After the chemical etching, the heat treatment process is carried out in an atmospheric pressure or a vacuum chamber, it is preferable to proceed for 1 to 24 hours at a temperature of 100 ~ 250 ℃.

상기와 같은 조건에서 열처리를 받은 금속 와이어(21) 표면에는 백색을 띌 수 있도록 금속 물질(23)로 진공 증착된다. 상기 금속 와이어 표면에 증착되는 금 속 물질은 플라즈마를 이용한 스퍼터링법(sputtering), 열 진공증착법(thermal vacuum evaporation), 전자빔 증착법(e-beam evaporation), 이온 플레이팅법(ion plating), 진공 스프레이 분사법 중 어느 하나를 이용하여 형성된다.The surface of the metal wire 21 subjected to the heat treatment under the above conditions is vacuum-deposited with the metal material 23 so as to have a white color. The metal material deposited on the surface of the metal wire may be sputtered by plasma, thermal vacuum evaporation, e-beam evaporation, ion plating, or vacuum spray spraying. It is formed using either.

상기 금속 와이어(21) 표면에 진공 증착되어 치아 색깔과 유사한 백색을 띄는 금속 물질은 은(Ag), 아연(Zn), 주석(Sn), 인듐(In), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 알루미늄(Al) 중 어느 하나 또는 적어도 두개 이상이 혼합된 혼합물질인 것이 바람직하다.The metallic material which is vacuum deposited on the surface of the metal wire 21 to have a white color similar to that of teeth is silver (Ag), zinc (Zn), tin (Sn), indium (In), nickel (Ni), and chromium (Cr). It is preferable that any one or at least two or more of aluminum (Al) is mixed.

상기와 같은 물질로 상기 금속 와이어(21) 표면에 진공 증착되는 금속 물질(23)은 0.1 ~ 10㎛ 사이 두께로 상기 금속 와이어(21) 전체 표면에 증착된다. 상기 금속 와이어(21) 표면에 진공 증착되는 금속 물질(23)은 15℃ ~ 300℃ 사이에서 수행되는 것을 특징으로 한다.The metal material 23, which is vacuum deposited on the surface of the metal wire 21 by the same material, is deposited on the entire surface of the metal wire 21 to a thickness between 0.1 μm and 10 μm. The metal material 23 is vacuum deposited on the surface of the metal wire 21 is characterized in that it is carried out between 15 ℃ ~ 300 ℃.

상기와 같이 금속 와이어(21) 전체 표면에 백색을 띄는 금속 물질(23)을 진공증착한 후에는, 상기 금속 물질(23) 상에 투명한 금속 산화물막(24)을 진공 증착한다.As described above, after vacuum depositing the metal material 23 having a white color on the entire surface of the metal wire 21, a transparent metal oxide film 24 is vacuum deposited on the metal material 23.

상기 투명 금속 산화물막(24)은 스퍼터링(sputtering)법, 열진공 증착(thermal vacuum evaporation)법, 전자빔 증착법(e-beam evaporation), 이온 플레이팅(ion plating)법 중 어느 하나를 사용하여 상기 금속 물질(23) 상에 형성된다.The transparent metal oxide layer 24 may be formed using any one of sputtering, thermal vacuum evaporation, e-beam evaporation, and ion plating. It is formed on the material (23).

한편, 상기 투명 금속 산화물막(24)은 나노 입자 크기의 알갱이로 구성된 졸(sol) 상태의 원료를 진공 스프레이 분사법을 이용하여 코팅함으로써 상기 금속 물질(23) 상에 형성될 수 있다.On the other hand, the transparent metal oxide film 24 is coated with a sol (sol) raw material consisting of grains of nano-particle size by using a vacuum spray spraying method to the metal May be formed on the material 23.

상기 투명 금속 산화물막(24)은 투명한 색깔을 띌 수 있으면 다양한 금속 산화물로 형성할 수 있는데, 본 발명에서는 ITO, ZnO, TiO2, Al2O3, Ta2O5, ZrO2, SiO2, GeO2, Y2O3, La2O3, HfO2, CaO, In2O3, SnO2, MgO, WO2 및 WO3 중 어느 하나 또는 이들 중 적어도 두개 이상을 혼합한 혼합물인 것이 바람직하다.The transparent metal oxide layer 24 may be formed of various metal oxides as long as the transparent metal oxide layer 24 has a transparent color. In the present invention, ITO, ZnO, TiO 2 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , ZrO 2 , SiO 2 , Any one or any of GeO 2 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , HfO 2 , CaO, In 2 O 3 , SnO 2 , MgO, WO 2 and WO 3 It is preferable that it is a mixture which mixed at least two or more of them.

상기와 같이 형성된 투명 금속 산화물막(24)은 상기 치아 교정용 치열 와이어를 치아에 착용하였을 경우에 착용감이 좋은 두께로 형성되어야 하는데, 대략적으로 10Å ~ 1㎛ 사이 두께로 증착되는 것이 바람직하다.The transparent metal oxide layer 24 formed as described above should be formed to have a good wearing thickness when the dental orthodontic wire is worn on the teeth, and is preferably deposited to a thickness of approximately 10 μm to 1 μm.

상기 투명 금속 산화물막(24)을 진공 증착하는 경우, 진공 챔버에서 15℃ ~ 300℃ 사이의 온도에서 수행되는 것이 바람직하고, 투명 금속 산화물막(24)은 진공 챔버 내로 산소 가스를 1 ~ 200sccm 사이로 흘러주어 형성된다. 그리고, 상기 투명 금속 산화물막(24)은 플라즈마 처리하여 형성하되, 50sccm ~ 500sccm의 아르곤 가스를 흘려주며, 투명 금속 산화물막의 플라즈마 처리 중 챔버 압력은 1 ~ 20mTorr를 유지시키는 것이 바람직하다.In the case of vacuum deposition of the transparent metal oxide film 24, it is preferably carried out at a temperature of 15 ℃ to 300 ℃ in a vacuum chamber, the transparent metal oxide film 24 is between 1 to 200 sccm oxygen gas into the vacuum chamber It is formed by flowing. In addition, the transparent metal oxide film 24 is formed by plasma treatment, but flows argon gas of 50sccm ~ 500sccm, it is preferable to maintain the chamber pressure of 1 ~ 20mTorr during the plasma treatment of the transparent metal oxide film.

상기와 같이, 금속 물질(23) 상에 투명의 금속 산화물막(24)을 형성한 후에는, 상기 투명 금속 산화물막(24) 상에 투명한 패럴린막(25)을 형성하고, 열처리를 수행한다. 이와 같이 패럴린막(25)을 코팅하여 상기 백색을 띄는 금속 물질(23)의 변색을 방지하고, 인체에 무해한 치열 교정용 와이어를 형성할 수 있는 것이다.As described above, after the transparent metal oxide film 24 is formed on the metal material 23, the transparent paraline film 25 is formed on the transparent metal oxide film 24, and heat treatment is performed. As described above, the paralin film 25 may be coated to prevent discoloration of the white metallic material 23 and to form an orthodontic wire that is harmless to the human body.

상기 투명한 패럴린막(25)은 다이머(dimer) 원료를 이용하여 상기 투명 금속 산화물막(24) 상에 형성되는데, 상기 투명한 패럴린막(25)은 C(Di-chloro-para-xylylene)- 타입(도 3의 (a) 도시), N(Di-para-xylylene)- 타입(도 3의 (b) 도시), D(Tetra-chloro-para-xylylene)- 타입(도 3의 (c) 도시), F(Octafluoro-[2,2]para-xylylene)- 타입(도 3의 (d) 도시), HT- 타입(도 3의 (e) 도시), A - 타입(도 3의 (f) 도시), AM - 타입(도 3의 (g) 도시) 다이머(dimer) 중 적어도 하나를 사용하여 형성한다.The transparent paraline film 25 is formed on the transparent metal oxide film 24 by using a dimer raw material, and the transparent paraline film 25 is a C (Di-chloro-para-xylylene) -type ( Figure 3 (a), N (Di-para-xylylene) -type (shown in Figure 3 (b)), D (Tetra-chloro-para-xylylene)-type (shown in Figure 3 (c)) , F (Octafluoro- [2,2] para-xylylene) -type (shown in (d) of FIG. 3), HT-type (shown in (e) of FIG. 3), A-type (shown in (f) of FIG. 3) ), AM-type (shown in FIG. 3 (g)) dimer.

상기 투명한 패럴린막(25)은 상기 다이머(dimer)를 기화기(vaporizer) 내에서 50 ~ 250 ℃ 온도로 기화시키고, 550 ~ 750 ℃ 온도의 전기로(pyrolysis)를 통과하면서 모노머(monomer)로 분해시킨 후, 진공 챔버 내에서 모노머(monomer)의 분압을 10 ~ 100 mTorr 로 유지하여 상기 모노머(monomer)들을 상기 투명 금속 산화물막 표면에 증착시켜 이루어진다.The transparent paraline film 25 vaporizes the dimer at a temperature of 50 to 250 ° C. in a vaporizer and decomposes it into a monomer while passing through a pyrolysis at a temperature of 550 to 750 ° C. Thereafter, the monomers are deposited on the surface of the transparent metal oxide film while maintaining a partial pressure of a monomer at 10 to 100 mTorr in a vacuum chamber.

상기와 같이 투명한 패럴린막(25)을 형성한 후에는 열처리를 수행하는데, 수행되는 열처리는 50℃ ~ 400℃ 사이의 온도에서 진행되고, 1분 ~ 48시간 동안 진행되는 것이 바람직하다. 이와 같은 열처리를 통하여 상기 치열 교정용 와이어의 각 구성요소간의 결합력이 강해져서 전체적인 강도가 향상된다. After the transparent paraline film 25 is formed as described above, heat treatment is performed. The heat treatment is performed at a temperature between 50 ° C. and 400 ° C., and preferably for 1 minute to 48 hours. Through such heat treatment, the bonding force between the components of the orthodontic wire is strengthened, thereby improving the overall strength.

본 발명은 상기에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있는 것이며, 단지 상기에서 개시한 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. The present invention is not limited to the embodiments disclosed above, but can be implemented in various different forms, only the embodiments disclosed above to make the disclosure of the present invention complete, the invention to those skilled in the art It is provided to fully inform the category of.

상기와 같은 구성 및 작용 그리고 바람직한 실시예를 가지는 본 발명인 치열 교정용 와이어 제조 방법에 의하면, 치열 교정용 와이어에 투명한 금속 물질을 코팅한 후 투명한 패럴린막을 코팅함으로써, 치아색을 내는 투명한 금속 물질의 변색을 막을 수 있고, 치아에 착용하는 동안에 치아와의 일체감을 주기 때문에 혐오감을 줄일 수 있는 효과가 있다.According to the orthodontic wire manufacturing method of the present invention having the configuration and operation and the preferred embodiment as described above, by coating a transparent paraline film after coating the transparent metal material on the orthodontic wire, the transparent metal material of the tooth color Discoloration can be prevented, and while wearing on the teeth, because it gives a sense of unity with the teeth has the effect of reducing the aversion.

또한, 패럴린막을 최외각 표면에 코팅함으로써, 인체에 무해하고 부드러운 질감을 주기 때문에 치아에 더욱 향상된 착용감을 부여할 수 있는 장점이 있다.In addition, by coating the paraline film on the outermost surface, there is an advantage that can give a more improved fit to the teeth because it gives a soft texture and harmless to the human body.

Claims (22)

치열 교정용 와이어 제조 방법에 있어서,In the orthodontic wire manufacturing method, 금속합금 소재로 금속 와이어를 제조하는 단계;Manufacturing a metal wire from a metal alloy material; 상기 금속 와이어의 표면을 화학적 에칭한 후, 열처리 공정을 수행하는 단계;Chemically etching the surface of the metal wire, and then performing a heat treatment process; 상기 금속 와이어 표면이 백색을 띌 수 있도록 금속 물질을 진공 증착하는 단계;Vacuum depositing a metal material such that the metal wire surface is white in color; 상기 금속 와이어 표면에 진공 증착되는 금속 물질 상에 투명 금속 산화물막을 진공 증착하는 단계;Vacuum depositing a transparent metal oxide film on a metal material vacuum deposited on the metal wire surface; 상기 투명 금속 산화물 상에 투명한 패럴린막을 형성한 후, 열처리를 수행하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.Forming a transparent paraline film on the transparent metal oxide, the method for producing orthodontic wire, characterized in that comprising the step of performing a heat treatment. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 금속 와이어는 스테인레스, NiTi, 니켈(Ni)계 합금, 티탄(Ti)계 합금, 구리(Cu)계 합금, 알루미늄(Al)계 합금 중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The metal wire is a method for manufacturing orthodontic wire, characterized in that formed of any one of stainless, NiTi, nickel (Ni) alloy, titanium (Ti) alloy, copper (Cu) alloy, aluminum (Al) alloy. . 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 금속 와이어의 표면을 화학적 에칭하기 전에 알칼리, 유기 용제 또는 초순수를 이용하여 상기 금속 와이어 표면을 초음파 세척하는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.Before the chemical etching of the surface of the metal wire, an orthodontic wire manufacturing method, characterized in that for cleaning the surface of the metal wire by using an alkali, an organic solvent or ultrapure water. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 금속 와이어의 표면 에칭은 CuCl2, FeCl3, HCl, H2SO4, HNO3, H3PO4, HF, H2O2 중 어느 하나 또는 혼합물을 H2O 또는 유기용제에 혼합하여 제조된 에칭용액을 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.Surface etching of the metal wire is prepared by mixing any one or mixture of CuCl 2 , FeCl 3 , HCl, H 2 SO 4 , HNO 3 , H 3 PO 4 , HF, H 2 O 2 with H 2 O or an organic solvent Orthodontic wire manufacturing method characterized in that it is carried out using the prepared etching solution. 청구항 4에 있어서,The method according to claim 4, 상기 금속 와이어는 상기 에칭용액에서 전해 또는 무전해 에칭되어 표면처리되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.And the metal wire is electrolytically or electrolessly etched in the etching solution to be surface treated. 청구항 5에 있어서,The method according to claim 5, 상기 금속 와이어는 상기 표면처리에 의하여 0.1㎛ ~ 20㎛의 폭과 깊이를 가 지는 굴곡이 형성되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The metal wire is orthodontic wire manufacturing method characterized in that the bent having a width and depth of 0.1㎛ ~ 20㎛ by the surface treatment. 청구항 6에 있어서,The method according to claim 6, 상기 표면처리된 금속 와이어는 알칼리, 유기 용제 및 물 중 어느 하나를 이용하여 습식 세정되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The surface-treated metal wire is a method for producing orthodontic wire, characterized in that the wet cleaning using any one of alkali, organic solvent and water. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 화학적 에칭한 후, 수행되는 열처리 공정은 대기압 또는 진공 챔버 내에서 수행되되, 100 ~ 250 ℃ 온도에서 1시간 ~ 24시간 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.After the chemical etching, the heat treatment process is carried out in an atmospheric pressure or a vacuum chamber, wherein the orthodontic wire manufacturing method, characterized in that proceeds for 1 to 24 hours at a temperature of 100 ~ 250 ℃. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 금속 와이어 표면에 증착되는 금속 물질은 플라즈마를 이용한 스퍼터링법(sputtering), 열 진공증착법(thermal vacuum evaporation), 전자빔 증착법(e-beam evaporation), 이온 플레이팅법(ion plating), 진공 스프레이 분사법 중 어느 하나를 이용하여 진공 증착되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The metal material deposited on the surface of the metal wire may be formed by sputtering, thermal vacuum evaporation, e-beam evaporation, ion plating, or vacuum spraying using plasma. Orthodontic wire manufacturing method characterized in that the vacuum deposition using any one. 청구항 9에 있어서,The method according to claim 9, 상기 금속 와이어 표면에 진공 증착되는 금속 물질은 은(Ag), 아연(Zn), 주석(Sn), 인듐(In), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 알루미늄(Al) 중 어느 하나 또는 혼합물질인 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The metal material vacuum deposited on the surface of the metal wire may be any one of silver (Ag), zinc (Zn), tin (Sn), indium (In), nickel (Ni), chromium (Cr), and aluminum (Al). Orthodontic wire manufacturing method characterized in that the substance. 청구항 10에 있어서,The method according to claim 10, 상기 진공 증착되는 금속 물질은 0.1 ~ 10㎛ 사이 두께로 상기 금속 와이어 전체 표면에 증착되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The vacuum-deposited metal material is a method of manufacturing orthodontic wire, characterized in that deposited on the entire surface of the metal wire to a thickness of 0.1 ~ 10㎛. 청구항 10에 있어서,The method according to claim 10, 상기 금속 와이어 표면에 진공 증착되는 금속 물질은 15℃ ~ 300℃ 사이에서 수행되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The metal material is vacuum deposited on the surface of the metal wire is wire orthodontic wire manufacturing method, characterized in that carried out between 15 ℃ ~ 300 ℃. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 투명 금속 산화물막은 스퍼터링(sputtering)법, 열진공 증착(thermal vacuum evaporation)법, 전자빔 증착법(e-beam evaporation), 이온 플레이팅(ion plating)법 중 어느 하나를 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The transparent metal oxide film is formed by any one of a sputtering method, thermal vacuum evaporation method, e-beam evaporation method, ion plating method Orthodontic wire manufacturing method. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 투명 금속 산화물막은 나노 입자 크기의 알갱이로 구성된 졸(sol) 상태의 원료를 진공 스프레이 분사법을 이용하여 코팅함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The transparent metal oxide film is a method of manufacturing orthodontic wire, characterized in that formed by coating the sol (sol) raw material consisting of grains of the nano-particle size using a vacuum spray spraying method. 청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,The method according to claim 13 or 14, 상기 투명 금속 산화물막은 ITO, ZnO, TiO2, Al2O3, Ta2O5, ZrO2, SiO2, GeO2, Y2O3, La2O3, HfO2, CaO, In2O3, SnO2, MgO, WO2 및 WO3 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The transparent metal oxide film may be formed of ITO, ZnO, TiO 2 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , ZrO 2 , SiO 2 , GeO 2 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , HfO 2 , CaO, In 2 O 3 , SnO 2 , MgO, WO 2 and WO 3 or any one or a mixture thereof. 청구항 15에 있어서,The method according to claim 15, 상기 투명 금속 산화물막은 10Å ~ 1㎛ 사이 두께로 증착되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The transparent metal oxide film is a method of manufacturing orthodontic wire, characterized in that deposited to a thickness between 10Å ~ 1㎛. 청구항 13에 있어서,The method according to claim 13, 상기 투명 금속 산화물막은 진공 챔버에서 15℃ ~ 300℃ 사이의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The transparent metal oxide film is a method for producing orthodontic wire, characterized in that carried out at a temperature between 15 ℃ to 300 ℃ in a vacuum chamber. 청구항 13에 있어서,The method according to claim 13, 상기 투명 금속 산화물막은 진공 챔버 내로 산소 가스를 1 ~ 200sccm 사이로 흘러주어 형성되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The transparent metal oxide film is an orthodontic wire manufacturing method, characterized in that formed by flowing an oxygen gas between 1 ~ 200sccm into the vacuum chamber. 청구항 13에 있어서,The method according to claim 13, 상기 투명 금속 산화물막은 플라즈마 처리하여 형성하되, 50sccm ~ 500sccm의 아르곤 가스를 흘려주며, 투명 금속 산화물막의 플라즈마 처리 중 챔버 압력은 1 ~ 20mTorr를 유지시키는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The transparent metal oxide film is formed by plasma treatment, 50sccm ~ 500sccm of argon gas flowing, during the plasma treatment of the transparent metal oxide film chamber pressure during the orthodontic wire manufacturing method, characterized in that to maintain 1 ~ 20mTorr. 청구항 1에 있어서, 상기 투명한 패럴린막은,The method according to claim 1, wherein the parallel paraline film, C(Di-chloro-para-xylylene)- 타입, N(Di-para-xylylene)- 타입, D(Tetra-chloro-para-xylylene)- 타입, F(Octafluoro-[2,2]para-xylylene)- 타입, HT- 타입, A - 타입, AM - 타입 다이머(dimer), 중 적어도 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.C (Di-chloro-para-xylylene) -type, N (Di-para-xylylene) -type, D (Tetra-chloro-para-xylylene) -type, F (Octafluoro- [2,2] para-xylylene) At least one of type, HT-type, A-type, AM-type dimer, and the like. 청구항 20에 있어서,The method of claim 20, 상기 투명한 패럴린막은 상기 다이머(dimer)를 기화기(vaporizer) 내에서 50 ~ 250 ℃ 온도로 기화시키고, 550 ~ 750 ℃ 온도의 전기로(pyrolysis)를 통과하면서 모노머(monomer)로 분해시킨 후, 진공 챔버 내에서 모노머(monomer)의 분압을 10 ~ 100 mTorr 로 유지하여 상기 모노머(monomer)들을 상기 투명 금속 산화물막 표면에 증착시켜 이루어지는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.The transparent paraline film vaporizes the dimer at a temperature of 50 to 250 ° C. in a vaporizer, and decomposes it into a monomer while passing through a pyrolysis at a temperature of 550 to 750 ° C., followed by vacuum. A method for manufacturing orthodontic wires, characterized in that the monomers are deposited on the surface of the transparent metal oxide film while maintaining a partial pressure of monomers in the chamber at 10 to 100 mTorr. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 투명한 패럴린막을 형성한 후, 수행되는 열처리는 50℃ ~ 400℃ 사이의 온도에서 진행되고, 1분 ~ 48시간 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 치열 교정용 와이어 제조 방법.After forming the transparent paraline film, the heat treatment is carried out at a temperature between 50 ℃ ~ 400 ℃, 1 minute to 48 hours, characterized in that proceeding for orthodontic wire manufacturing method.
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