KR20070003655A - Curable resin composition and cured film formed from same - Google Patents

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Abstract

Provided are a curing resin composition which can form a cured film of multilayered structure having a low refractive index layer and a high refractive index layer into a single film, and a cured film prepared from the composition. The curing resin composition comprises (A) a tin-containing indium oxide particle; (B) a fluorine-containing polymer containing an ethylenically unsaturated group; (C) a solvent which has a high solubility to the fluorine-containing polymer containing an ethylenically unsaturated group; and (D) a solvent which has a high dispersion stability to a tin-containing indium oxide particle and is compatible with the solvent (C). The relative evaporation velocity of the solvent (C) is higher than that of the solvent (D).

Description

경화성 수지 조성물 및 그로부터 형성된 경화막 {CURABLE RESIN COMPOSITION AND CURED FILM FORMED FROM SAME}Curable resin composition and cured film formed therefrom {CURABLE RESIN COMPOSITION AND CURED FILM FORMED FROM SAME}

도 1은 본 발명의 경화성 수지 조성물로부터 형성된 경화막을 포함하는 반사 방지막의 전형적인 예를 나타내는 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The figure which shows the typical example of the anti-reflective film containing the cured film formed from curable resin composition of this invention.

도 2는 층 분리성의 평가 기준의 전형적인 예를 나타내는 전자 현미경 상.2 is an electron microscope image showing a typical example of evaluation criteria of layer separability.

도 3은 2층 분리되어 있는 본 발명의 경화막 단면의 전형적인 예(실시예 4의 경화막)을 나타내는 전자 현미경 상.3 is an electron microscope image showing a typical example (cured film of Example 4) of a cured film cross section of the present invention, which is separated from two layers.

[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 (소)57-34107호 공보[Patent Document 1] Japanese Unexamined Patent Publication No. 57-34107

[특허 문헌 2] 일본 특허 공개 (소)59-189108호 공보[Patent Document 2] Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-189108

[특허 문헌 3] 일본 특허 공개 (소)60-67518호 공보[Patent Document 3] Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-67518

[특허 문헌 4] 일본 특허 공고 (평)6-35559호 공보[Patent Document 4] Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-35559

본 발명은 경화성 수지 조성물 및 그로부터 형성된 경화막에 관한 것이고, 특히 예를 들면, 저굴절률층과 고굴절률층 등의 2층 이상의 다층 구조를 갖는 경화 막을 하나의 도막으로 형성할 수 있는 경화성 수지 조성물 및 그로부터 형성된 경화막에 관한 것이다. The present invention relates to a curable resin composition and a cured film formed therefrom, in particular, a curable resin composition capable of forming a cured film having a multilayer structure of two or more layers, such as a low refractive index layer and a high refractive index layer, in one coating film, and It relates to the cured film formed therefrom.

액정 표시 패널, 냉음극선관 패널, 플라즈마 디스플레이 등의 각종 표시 패널에는, 외광의 비침을 방지하고, 화질을 향상시키기 위해서, 저굴절률성, 내찰상성 (耐擦傷性), 도공성(塗工性) 및 내구성이 우수한 경화물을 포함하는 저굴절률층을 포함하는 반사 방지막이 요구되고 있다. 이들 표시 패널에는, 부착된 지문, 먼지 등을 제거하기 위해서, 그 표면을 에탄올 등을 함침시킨 가제로 닦는 경우가 많아 내찰상성이 요구되고 있다. 특히, 액정 표시 패널에 있어서, 반사 방지막은 편광판과 접합시킨 상태로 액정 유닛 상에 설치된다. 또한, 예를 들면 트리아세틸셀룰로오스 등이 기재로서 이용되고 있지만, 이러한 기재를 이용한 반사 방지막에서는, 편광판과 접합시킬 때의 밀착성을 증가시키기 위해서, 통상적으로 알칼리 수용액으로 비누화를 행할 필요가 있다. 따라서, 액정 표시 패널의 용도에는, 내구성에 있어서 특히 내알칼리성이 우수한 반사 방지막이 요구되고 있다. Various display panels, such as a liquid crystal display panel, a cold cathode ray tube panel, and a plasma display, have low refractive index, abrasion resistance, and coating property, in order to prevent external light from shining and to improve image quality. And a low refractive index layer containing a cured product excellent in durability. In order to remove the fingerprint, dust, etc. which adhered to these display panels, the surface is often wiped with the gauze impregnated with ethanol, and scratch resistance is calculated | required. In particular, in the liquid crystal display panel, the antireflection film is provided on the liquid crystal unit in a state of being bonded to the polarizing plate. In addition, although triacetyl cellulose etc. are used as a base material, for example, in order to increase the adhesiveness at the time of bonding with a polarizing plate, it is necessary to saponify normally with aqueous alkali solution. Therefore, the antireflection film excellent in alkali resistance especially in durability is calculated | required for the use of a liquid crystal display panel.

반사 방지막의 저굴절률층용 재료로서, 예를 들면 수산기 함유 불소-함유 중합체를 포함하는 불소 수지계 도료가 알려져 있고, 이는 특허 문헌 1, 특허 문헌 2 및 특허 문헌 3 등에 개시되어 있다. 그러나, 이러한 불소 수지계 도료에서는, 도막을 경화시키기 위해서, 수산기 함유 불소-함유 중합체와, 멜라민 수지 등의 경화제를 산 촉매하에서 가열하여 가교시킬 필요가 있으며, 가열 조건에 따라서는, 경화 시간이 과도하게 길어지거나, 사용할 수 있는 기재의 종류가 한정되는 문제가 있었다. 또한, 얻어진 도막에 있어서도, 내후성(耐候性)은 우수하지만, 내찰상성 이나 내구성이 부족하다는 문제가 있었다.As the material for the low refractive index layer of the antireflection film, for example, a fluorine resin paint containing a hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer is known, which is disclosed in Patent Document 1, Patent Document 2, Patent Document 3 and the like. However, in such a fluororesin paint, in order to cure the coating film, it is necessary to crosslink by heating a hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer and a curing agent such as a melamine resin under an acid catalyst, and the curing time is excessive depending on the heating conditions. There was a problem that the length of the substrate or the type of the substrate that can be used is limited. Moreover, also in the obtained coating film, although it was excellent in weather resistance, there existed a problem that it was lacking in abrasion resistance and durability.

따라서, 상기 문제점을 해결하기 위해서, 특허 문헌 4에는, 1개 이상의 이소시아네이트기와 1개 이상의 부가 중합성 불포화기를 갖는 이소시아네이트기 함유 불포화 화합물을 수산기 함유 불소-함유 중합체와, 이소시아네이트기의 수/수산기의 수의 비가 0.01 내지 1.0인 비율로 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 불소-함유 비닐 중합체를 포함하는 도료용 조성물이 제안되어 있다.Therefore, in order to solve the above problem, Patent Document 4 discloses an isocyanate group-containing unsaturated compound having at least one isocyanate group and at least one addition polymerizable unsaturated group, in which a hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer and the number of hydroxyl groups / hydroxyl groups of the isocyanate group There is proposed a coating composition comprising an unsaturated group-containing fluorine-containing vinyl polymer obtained by reacting at a ratio of 0.01 to 1.0.

종래의 불소계 재료에 의한 반사 방지막은, 기재 상에 설치된 고굴절률층에, 불소계 재료를 포함하는 저굴절률층을 형성할 필요가 있었으며, 이들 층을 형성하기 위한 도포 공정을 개별적으로 설치할 필요가 있었다.In the conventional anti-reflection film made of a fluorine-based material, it was necessary to form a low-refractive-index layer containing a fluorine-based material in the high refractive index layer provided on the substrate, and it was necessary to separately provide a coating step for forming these layers.

또한, 표층인 저굴절률층의 내찰상성이 충분하지 않았다.Moreover, the scratch resistance of the low refractive index layer which is a surface layer was not enough.

본 발명은 이상과 같은 상황을 배경으로 하여 이루어진 것이며, 그의 목적은 저굴절률층과 고굴절률층을 효율적으로 제조할 수 있는, 자외선에 의해 경화될 수 있는 경화성 수지 조성물을 제공하는 것에 있다. 또한, 본 발명의 다른 목적은, 종래보다 반사율이 더 낮으며, 투명성이 높고, 기재에 대한 밀착성이 크며, 내찰상성이 우수하고, 또한 환경 내성이 우수한 경화막을 제공하는 것에 있다. This invention is made on the background of the above situation, The objective is to provide the curable resin composition which can be hardened by an ultraviolet-ray which can manufacture a low refractive index layer and a high refractive index layer efficiently. Another object of the present invention is to provide a cured film having a lower reflectance, higher transparency, greater adhesion to a substrate, excellent scratch resistance, and excellent environmental resistance than before.

<발명의 개시><Start of invention>

상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명자들은 예의 연구를 행하여, 자외선의 조사에 의해 경화되는 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체에, 주석 함유 산 화인듐 입자를 배합하고, 또한 특정 물성을 갖는 2종의 용제를 조합한 조성물을 기재에 도포하여, 용제를 증발시키면, 상기 주석 함유 산화인듐 입자가 고밀도로 존재하는 층 또는 상기 ITO 입자가 고밀도로 존재하는 층과 상기 주석 함유 산화인듐 입자가 거의 존재하지 않는 층의 2개 이상의 층으로 분리되는 것을 발견하였다. 또한, 자외선을 조사하여 경화시켜 얻은 경화막은, 내찰상성 및 투명성이 우수하고, 또한 내후성이 우수한 것을 발견하여 본 발명을 완성시켰다. In order to achieve the above object, the present inventors earnestly study and mix 2 types of tin-containing indium oxide particles with the ethylenically unsaturated group containing fluorine-containing polymer hardened | cured by irradiation of an ultraviolet-ray, and have specific physical properties. When the composition combining the solvent is applied to the substrate and the solvent is evaporated, the layer containing the tin-containing indium oxide particles at a high density or the layer containing the ITO particles at a high density and the tin-containing indium oxide particles hardly exist. It has been found to separate into two or more layers of layers. Moreover, the cured film obtained by irradiating and hardening an ultraviolet-ray discovered that it was excellent in scratch resistance and transparency, and excellent in weatherability, and completed this invention.

즉, 본 발명은 하기의 경화성 수지 조성물, 및 그것을 경화시켜 이루어지는 경화막을 제공한다.That is, this invention provides the following curable resin composition and the cured film which hardens it.

[1] 하기 성분:[1] the following ingredients:

(A) 주석 함유 산화인듐 입자,(A) tin-containing indium oxide particles,

(B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체,(B) an ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer,

(C) (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체의 용해성이 높은 용제, 및(C) (B) Highly soluble solvent of ethylenically unsaturated group containing fluorine-containing polymer, and

(D) (A) 주석 함유 산화인듐 입자의 분산 안정성이 높고, 또한 (C)의 용제와 상용성인 용제(D) Solvent which is high in the dispersion stability of (A) tin-containing indium oxide particle, and is compatible with the solvent of (C)

를 포함하며, 또한 (C)의 용제의 상대 증발 속도가, (D)의 용제의 상대 증발 속도보다 높은 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.And the relative evaporation rate of the solvent of (C) is higher than the relative evaporation rate of the solvent of (D).

[2] 상기 [1]에 있어서, 상기 (A) 주석 함유 산화인듐 입자가 주석 함유 산화인듐의 이소프로판올 분산 졸로부터 유래된 것인 경화성 수지 조성물. [2] The curable resin composition according to the above [1], wherein the (A) tin-containing indium oxide particles are derived from an isopropanol dispersion sol of tin-containing indium oxide.

[3] 상기 [1] 또는 [2]에 있어서, 상기 (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함 유 중합체가, [3] The above-mentioned [1] or [2], wherein the (B) ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer is

수산기 함유 불소-함유 중합체를,Hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer,

수산기와 반응 가능한 관능기와 에틸렌성 불포화기를 함유하는 화합물Compound containing functional group and ethylenically unsaturated group which can react with hydroxyl group

과 반응시켜 얻어지는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물. It is obtained by reacting with curable resin composition characterized by the above-mentioned.

[4] 상기 [3]에 있어서, 상기 수산기 함유 불소-함유 중합체가, 불소 중합체 전체를 100 질량%라 하였을 때, (a) 하기 화학식 1로 표시되는 구조 단위 5 내지 90 질량%, (b) 하기 화학식 2로 표시되는 구조 단위 0.3 내지 90 질량% 및 (c) 하기 화학식 3으로 표시되는 구조 단위 1 내지 65 질량%를 포함하여 이루어지는 경화성 수지 조성물. [4] The above-mentioned [3], wherein the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer is 100% by mass of the entire fluoropolymer, wherein (a) 5 to 90% by mass of the structural unit represented by the following formula (1), (b) Curable resin composition containing 0.3-90 mass% of structural units represented by following formula (2), and (c) 1-65 mass% of structural units represented by following formula (3).

Figure 112006047041309-PAT00001
Figure 112006047041309-PAT00001

[화학식 1 중, R1은 불소 원자, 플루오로알킬기 또는 -OR2(식 중, R2는 알킬기 또는 플루오로알킬기를 나타냄)로 표시되는 기를 나타냄][In Formula 1, R 1 represents a group represented by a fluorine atom, a fluoroalkyl group, or -OR 2 (wherein R 2 represents an alkyl group or a fluoroalkyl group.)

Figure 112006047041309-PAT00002
Figure 112006047041309-PAT00002

[화학식 2 중, R3은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R4는 알킬기, -(CH2)x-OR5 또는 -OCOR5(식 중, R5는 알킬기 또는 플루오로알킬기를 나타내고, x는 0 또는 1의 수를 나타냄)로 표시되는 기, 카르복실기 또는 알콕시카르보닐기를 나타냄]In Formula 2, R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 4 represents an alkyl group,-(CH 2 ) x -OR 5 or -OCOR 5 (wherein R 5 represents an alkyl group or a fluoroalkyl group, x is Represents a group represented by 0 or 1), a carboxyl group or an alkoxycarbonyl group]

Figure 112006047041309-PAT00003
Figure 112006047041309-PAT00003

[화학식 3 중, R6은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R7은 -(CH2)v-OR27 또는 -OCOR27(식 중, R27은 수소 원자, 히드록시알킬기 또는 글리시딜기를 나타내고, v는 0 내지 2의 수를 나타냄)로 표시되는 기를 나타냄].In Formula 3, R 6 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 7 represents — (CH 2 ) v —OR 27 Or -OCOR 27 (wherein R 27 represents a hydrogen atom, a hydroxyalkyl group or a glycidyl group, v represents a number from 0 to 2).

[5] 상기 [3] 또는 [4]에 있어서, 상기 수산기 함유 불소-함유 중합체가, 불소 중합체 전체를 100 질량%라 하였을 때, 아조기 함유 폴리실록산 화합물에서 유래하는 (d) 하기 화학식 4로 표시되는 구조 단위 0.1 내지 10 질량%를 더 포함하는 경화성 수지 조성물.[5] The above-mentioned [3] or [4], wherein the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer is derived from an azo group-containing polysiloxane compound when the total fluorine polymer is 100 mass%, and is represented by the following general formula (4). Curable resin composition containing 0.1-10 mass% of structural units further.

Figure 112006047041309-PAT00004
Figure 112006047041309-PAT00004

[화학식 4 중, R8 및 R9는 동일하거나 상이할 수도 있고, 수소 원자, 알킬 기, 할로겐화 알킬기 또는 아릴기를 나타냄].[In Formula 4, R <8> and R <9> may be same or different and represents a hydrogen atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group, or an aryl group.

[6] 상기 [3] 내지 [5] 중 어느 하나에 있어서, 상기 수산기와 반응 가능한 관능기가, 이소시아네이트기, 카르복실기, 산 할라이드기, 산 무수물기로 이루어지는 군에서 선택되는 기인 경화성 수지 조성물.[6] The curable resin composition according to any one of [3] to [5], wherein the functional group capable of reacting with the hydroxyl group is selected from the group consisting of an isocyanate group, a carboxyl group, an acid halide group and an acid anhydride group.

[7] 상기 [1] 내지 [6] 중 어느 하나에 있어서, 상기 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체가 불소를 40 질량% 이상 함유하는 것인 경화성 수지 조성물.[7] The curable resin composition according to any one of [1] to [6], wherein the ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer contains 40% by mass or more of fluorine.

[8] 상기 [1] 내지 [7] 중 어느 하나에 있어서, (C)의 용제가, (A) 주석 함유 산화인듐 입자의 분산 안정성이 낮은 용제이고,[8] The solvent of any of the above [1] to [7], wherein the solvent of (C) is a solvent having low dispersion stability of the (A) tin-containing indium oxide particles,

(D)의 용제가, (B) 에틸렌계 불포화기 함유 불소 중합체의 용해성이 낮은 용제인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물. The solvent of (D) is a solvent with low solubility of the (B) ethylenically unsaturated group containing fluoropolymer, Curable resin composition characterized by the above-mentioned.

[9] 상기 [1] 내지 [8] 중 어느 하나에 있어서, (E) 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물 및(또는) 1개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유하는 불소-함유 (메트)아크릴레이트 화합물을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물. [9] The polyfunctional (meth) acrylate compound and / or one or more (meth), according to any one of the above [1] to [8], containing (E) two or more (meth) acryloyl groups. Curable resin composition containing the fluorine-containing (meth) acrylate compound containing an acryloyl group further.

[10] 상기 [1] 내지 [9] 중 어느 하나에 있어서, (F) 광 라디칼 중합 개시제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물. [10] The curable resin composition according to any one of the above [1] to [9], further comprising (F) a radical photopolymerization initiator.

[11] 상기 [1] 내지 [10] 중 어느 하나에 기재된 경화성 수지 조성물을 경화시켜 얻어지고, 2층 이상의 다층 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 경화막. [11] A cured film obtained by curing the curable resin composition according to any one of the above [1] to [10] and having a multilayer structure of two or more layers.

[12] 상기 [11]에 있어서, 상기 (A) 주석 함유 산화인듐 입자가 고밀도로 존재하는 1개 이상의 층과, 상기 (A) 주석 함유 산화인듐 입자가 실질적으로 존재하 지 않는 1개 이하의 층을 포함하는 2층 이상의 층 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 경화막. [12] The one or more layers according to the above [11], wherein the (A) tin-containing indium oxide particles are present at a high density, and the one or more layers in which the (A) tin-containing indium oxide particles are not substantially present. Cured film which has a layer structure of two or more layers containing a layer.

본 발명의 경화성 수지 조성물은, 하나의 도막으로부터 저굴절률층 및 고굴절률층 등의 임의의 2층 이상의 다층 구조를 갖는 경화막을 형성할 수 있기 때문에, 다층 구조를 갖는 경화막의 제조 공정을 간략화할 수 있다. Since the curable resin composition of this invention can form the cured film which has a multilayer structure of arbitrary two or more layers, such as a low refractive index layer and a high refractive index layer, from one coating film, the manufacturing process of the cured film which has a multilayered structure can be simplified. have.

본 발명의 경화성 수지 조성물은, 가수분해가 관여하는 열에 의한 경화 반응을 행하지 않기 때문에, 환경 내성(내습열성 등)이 우수한 경화막을 제공할 수 있다. Since the curable resin composition of this invention does not perform hardening reaction by the heat which hydrolysis involves, it can provide the cured film excellent in environmental resistance (moisture heat resistance etc.).

본 발명의 경화성 수지 조성물은, 특히 반사 방지막, 선택 투과막 필터 등의 광학 재료의 형성에 유리하게 사용할 수 있고, 또한 불소 함량이 높은 것을 이용하여, 내후성이 요구되는 기재에 대한 도료용 재료, 내후 필름용 재료, 코팅용 재료 등으로서 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 상기 경화막은, 기재에 대한 밀착성이 우수하고, 내찰상성이 높으며, 대전 방지 성능을 가지고, 양호한 반사 방지 효과를 부여하기 때문에, 반사 방지막으로서 매우 유용하고, 각종 표시 장치에 적용함으로써 그의 시인성을 향상시킬 수 있다. The curable resin composition of this invention can be used advantageously for formation of optical materials, such as an anti-reflective film and a selective permeable film filter, and also uses the thing with high fluorine content, The coating material for a base material with which weather resistance is required, weather resistance It can be used preferably as a film material, a coating material, etc. Moreover, since the said cured film is excellent in adhesiveness with respect to a base material, high scratch resistance, has antistatic performance, and gives favorable antireflection effect, it is very useful as an antireflection film, and its visibility is applicable by applying to various display apparatuses. Can be improved.

또한, 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체의 불소 함량을 상승시킴으로써, 얻어지는 적층체의 반사율을 향상시킬 수 있다. Moreover, the reflectance of the laminated body obtained can be improved by raising the fluorine content of an ethylenically unsaturated group containing fluorine-containing polymer.

또한, 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체에 반응성 계면활성제를 도입하지 않음으로써, 주석 함유 산화인듐 입자 로트(lot)간의 차이에 의한 층 분리 특성의 변동(층이 분리되거나 분리되지 않음)을 개선할 수 있다.Also, by not introducing a reactive surfactant into the ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer, variations in layer separation properties (layers are separated or not separated) due to differences between lots of tin-containing indium oxide particles are also improved. can do.

<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>Best Mode for Carrying Out the Invention

이하, 본 발명의 경화성 수지 조성물, 그의 경화막 및 적층체에 대하여 구체적으로 설명한다. Hereinafter, the curable resin composition, the cured film, and a laminated body of this invention are demonstrated concretely.

I. 경화성 수지 조성물I. Curable Resin Composition

본 발명의 경화성 수지 조성물은,Curable resin composition of this invention,

(A) 주석 함유 산화인듐 입자,(A) tin-containing indium oxide particles,

(B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체,(B) an ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer,

(C) (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체의 용해성이 높은 용제(고휘발성 용제), 및(C) (B) Highly soluble solvent (high volatile solvent) of ethylenically unsaturated group containing fluorine-containing polymer, and

(D) (A) 주석 함유 산화인듐 입자의 분산 안정성이 높고, 또한 (C)의 용제와 상용성인 용제(저휘발성 용제)(D) A solvent (low volatility solvent) which is high in the dispersion stability of (A) tin-containing indium oxide particle, and is compatible with the solvent of (C).

를 함유하는 것을 특징으로 한다. It is characterized by containing.

1. 본 발명의 경화성 수지 조성물의 각 구성 성분에 대하여 구체적으로 설명한다. 1. Each structural component of curable resin composition of this invention is demonstrated concretely.

(A) 주석 함유 산화인듐 입자(A) Tin-containing indium oxide particles

본 발명에서 이용되는 주석 함유 산화인듐 입자 (A)는, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화막을 고굴절화시킬 수 있다.The tin-containing indium oxide particles (A) used in the present invention can make the cured film obtained by curing the curable resin composition of the present invention high refractive index.

본 발명에서 이용되는 주석 함유 산화인듐 입자 (A)는, 이소프로판올(이하, 「IPA」라 하는 경우가 있음) 또는 프로필렌글리콜 모노메틸에테르(이하, 「PGME」라고 하는 경우가 있음)의 분산액인 것이 바람직하다. 주석 함유 산화인듐 입자 (A)의 용제 분산액은 1종 단독으로, 또는 입자 농도가 다른 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The tin-containing indium oxide particles (A) used in the present invention are dispersions of isopropanol (hereinafter sometimes referred to as "IPA") or propylene glycol monomethyl ether (hereinafter sometimes referred to as "PGME"). desirable. The solvent dispersion liquid of tin containing indium oxide particle (A) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types in which particle concentration differs.

주석 함유 산화인듐 입자 (A)의 IPA 분산액의 시판품으로는, 예를 들면 JX1002-ITV(쇼쿠바이 가세이 가가꾸 고교(주) 제조, IPA: 20 질량% 분산액), JX1003-ITV(쇼쿠바이 가세이 가가꾸 고교(주) 제조, PGME: 20 질량% 분산액), NID-20(후지 가가꾸(주) 제조, IPA: 20 질량% 분산액) 등을 들 수 있다. As a commercial item of the IPA dispersion liquid of a tin containing indium oxide particle (A), JX1002-ITV (made by Shokubai Kasei Kagaku Kogyo Co., Ltd., IPA: 20 mass% dispersion), JX1003-ITV (Shokubai Kasei Chemical Co., Ltd.) Kagaku Kogyo Co., Ltd. product, PGME: 20 mass% dispersion liquid, NID-20 (Fuji Chemical Co., Ltd. product, IPA: 20 mass% dispersion liquid), etc. are mentioned.

주석 함유 산화인듐 입자 (A)의 수평균 입경은, 전자 현미경법에 의한 측정으로, 0.001 ㎛ 내지 2 ㎛가 바람직하고, 0.001 ㎛ 내지 0.2 ㎛가 보다 바람직하며, 0.001 ㎛ 내지 0.1 ㎛가 특히 바람직하다. 수평균 입경이 2 ㎛를 초과하면, 경화물로 만들었을 때 투명성이 저하되거나, 피막으로 만들었을 때 표면 상태가 악화되는 경향이 있다. 또한, 입자의 분산성을 개선하기 위해서 각종 계면활성제나 아민류를 첨가할 수도 있다. 입자 형상이 막대 형상(종횡비가 1을 초과하며 10 이하인 형상을 말함)인 경우에는, 단경을 입경으로 하였다. The number average particle diameter of the tin-containing indium oxide particles (A) is preferably 0.001 µm to 2 µm, more preferably 0.001 µm to 0.2 µm, particularly preferably 0.001 µm to 0.1 µm by measurement by electron microscopy. . When the number average particle diameter exceeds 2 µm, transparency tends to deteriorate when made into a cured product or surface condition deteriorates when made into a film. Moreover, in order to improve the dispersibility of particle | grains, various surfactant and amines can also be added. When the particle shape was a rod shape (referring to a shape whose aspect ratio exceeds 1 and 10 or less), the short diameter was used as the particle size.

주석 함유 산화인듐 입자 (A)의 형상은 구상, 중공상, 다공질상, 막대 형상(종횡비가 1을 초과하며 10 이하인 형상을 말함), 판상, 섬유상 또는 부정 형상이고, 바람직하게는 구상이다. The shape of the tin-containing indium oxide particles (A) is spherical, hollow, porous, rod-shaped (an aspect ratio exceeding 1 and 10 or less), plate-like, fibrous or irregular, preferably spherical.

주석 함유 산화인듐 입자 (A)는 건조 상태의 분말 형태, 또는 물 또는 유기 용제로 분산시킨 상태로 사용할 수 있다. 특히, 경화물에 우수한 투명성이 요구되는 용도에는, 주석 함유 산화인듐 입자의 분산액을 이용하는 것이 바람직하다. The tin-containing indium oxide particles (A) can be used in a dry powder form or in a state dispersed in water or an organic solvent. In particular, it is preferable to use the dispersion liquid of tin containing indium oxide particle for the use which the outstanding transparency is calculated for hardened | cured material.

경화성 수지 조성물 중 주석 함유 산화인듐 입자((A) 성분)의 배합(함유)량 은, 유기 용제를 제외한 조성물 전체량을 100 질량%로 하여, 10 내지 90 질량%의 범위 내인 것이 바람직하고, 20 내지 80 질량%의 범위인 것이 보다 바람직하며, 30 내지 70 질량%의 범위인 것이 보다 바람직하다. 10 질량% 미만이면, 경화막의 경도가 불충분하거나, 또는 굴절률이 높은 층을 얻을 수 없는 경우가 있다. 90 질량%를 초과하면, 막 형성성이 불충분해지는 경우가 있다. 또한, 주석 함유 산화인듐 입자((A) 성분)의 양은 고형분을 의미하며, 주석 함유 산화인듐 입자((A) 성분)이 분산액의 형태로 이용될 때는, 그의 배합량에 분산매의 양을 포함시키지 않는다. In the curable resin composition, the amount of the mixture (containing) of the tin-containing indium oxide particles (component (A)) is 100 mass%, excluding the organic solvent, and preferably within the range of 10 to 90 mass%, 20 It is more preferable that it is the range of -80 mass%, and it is more preferable that it is the range which is 30-70 mass%. If it is less than 10 mass%, the hardness of a cured film may be inadequate or the layer with a high refractive index may not be obtained. When it exceeds 90 mass%, film formability may become inadequate. In addition, the quantity of tin containing indium oxide particle (component (A)) means solid content, and when a tin containing indium oxide particle (component (A)) is used in the form of a dispersion liquid, it does not include the quantity of a dispersion medium in the compounding quantity. .

(B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체(B) fluorine-containing polymer containing ethylenically unsaturated groups

본 발명에서 사용되는 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체는, 수산기 함유 불소-함유 중합체를, 수산기와 반응 가능한 관능기와 에틸렌성 불포화기를 함유하는 화합물과 반응시켜 얻어진다. 본 발명에서 이용되는 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체는, 불소를 통상적으로는 30 질량% 이상 함유하고, 바람직하게는 40 질량% 이상 함유한다. 불소 함량이 40 질량% 이상이면, 굴절률이 보다 낮은 경화막을 얻을 수 있다. 불소-함유량은 13C-NMR에 의해 중합체의 조성 분석을 수행하고, 구해진 조성으로부터 계산할 수 있다. The ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer used in the present invention is obtained by reacting a hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer with a compound containing a functional group capable of reacting with a hydroxyl group and an ethylenically unsaturated group. The ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer used in the present invention usually contains 30% by mass or more of fluorine, and preferably 40% by mass or more. If fluorine content is 40 mass% or more, the cured film with a lower refractive index can be obtained. The fluorine-containing content can be calculated from the composition obtained by performing the compositional analysis of the polymer by 13 C-NMR.

여기서, 수산기와 반응 가능한 관능기와 에틸렌성 불포화기를 함유하는 화합물로는, 1개의 이소시아네이트기와 1개 이상의 에틸렌성 불포화기를 함유하는 화합물, 또는 에틸렌성 불포화기 함유 카르복실산 화합물 또는 그의 유도체를 들 수 있 다. Here, as a compound containing a functional group and ethylenically unsaturated group which can react with a hydroxyl group, the compound containing one isocyanate group and 1 or more ethylenically unsaturated group, or an ethylenically unsaturated group containing carboxylic acid compound, or its derivative (s) can be mentioned. All.

(1) 수산기 함유 불소-함유 중합체 (1) hydroxyl-containing fluorine-containing polymer

수산기 함유 불소-함유 중합체는, 하기 구조 단위 (a) 5 내지 90 질량%, (b) 0.3 내지 90 질량% 및 (c) 1 내지 65 질량%를 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다. It is preferable that a hydroxyl-containing fluorine-containing polymer contains the following structural unit (a) 5-90 mass%, (b) 0.3-90 mass%, and (c) 1-65 mass%.

(a) 하기 화학식 1로 표시되는 구조 단위. (a) The structural unit represented by following formula (1).

(b) 하기 화학식 2로 표시되는 구조 단위. (b) The structural unit represented by following formula (2).

(c) 하기 화학식 3으로 표시되는 구조 단위. (c) The structural unit represented by following formula (3).

이와 같이 구성함으로써, 저굴절률성, 내찰상성, 도공성 및 내구성이 우수한 도막을 얻을 수 있다. By configuring in this way, the coating film excellent in low refractive index, scratch resistance, coating property, and durability can be obtained.

<화학식 1><Formula 1>

Figure 112006047041309-PAT00005
Figure 112006047041309-PAT00005

[화학식 1 중, R1은 불소 원자, 플루오로알킬기 또는 -OR2(식 중, R2는 알킬기 또는 플루오로알킬기를 나타냄)로 표시되는 기를 나타냄][In Formula 1, R 1 represents a group represented by a fluorine atom, a fluoroalkyl group, or -OR 2 (wherein R 2 represents an alkyl group or a fluoroalkyl group.)

<화학식 2><Formula 2>

Figure 112006047041309-PAT00006
Figure 112006047041309-PAT00006

[화학식 2 중, R3은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R4는 알킬기, -(CH2)x-OR5 또는 -OCOR5(식 중, R5는 알킬기 또는 플루오로알킬기를 나타내고, x는 0 또는 1의 수를 나타냄)로 표시되는 기, 카르복실기 또는 알콕시카르보닐기를 나타냄]In Formula 2, R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 4 represents an alkyl group,-(CH 2 ) x -OR 5 or -OCOR 5 (wherein R 5 represents an alkyl group or a fluoroalkyl group, x is Represents a group represented by 0 or 1), a carboxyl group or an alkoxycarbonyl group]

<화학식 3><Formula 3>

Figure 112006047041309-PAT00007
Figure 112006047041309-PAT00007

[화학식 3 중, R6은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R7은 -(CH2)v-OR27 또는 -OCOR27(식 중, R27은 수소 원자, 히드록시알킬기 또는 글리시딜기를 나타내고, v는 0 내지 2의 수를 나타냄)로 표시되는 기를 나타냄]In the formula (3), R 6 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 7 represents-(CH 2 ) v -OR 27 or -OCOR 27 (wherein R 27 represents a hydrogen atom, a hydroxyalkyl group or a glycidyl group) , v represents a number from 0 to 2).

1) 구조 단위 (a)1) structural unit (a)

화학식 1에서, R1 및 R2의 플루오로알킬기로는, 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로헥실기, 퍼플루오로시클로헥실기 등의, 탄소수 1 내지 6의 플루오로알킬기를 들 수 있다. 또한, R2의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 헥실기, 시클로헥실기 등의, 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 들 수 있다. In Formula 1, R 1 And a fluoroalkyl group of R 2 , having from 1 to 3 carbon atoms, such as a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorohexyl group, and a perfluorocyclohexyl group The fluoroalkyl group of 6 is mentioned. Moreover, as an alkyl group of R <2> , C1-C6 alkyl groups, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, and a cyclohexyl group, are mentioned.

구조 단위 (a)는, 불소-함유 비닐 단량체를 중합 성분으로서 이용함으로써 도입할 수 있다. 이러한 불소-함유 비닐 단량체로는, 적어도 1개의 중합성 불포화 이중 결합과 적어도 1개의 불소 원자를 갖는 화합물이라면 특별히 제한되지 않는다. 이러한 예로는 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 3,3,3-트리플루오로프로필렌 등의 플루오로올레핀류; 알킬퍼플루오로비닐에테르 또는 알콕시알킬 퍼플루오로비닐에테르류; 퍼플루오로(메틸비닐에테르), 퍼플루오로(에틸비닐에테르), 퍼플루오로(프로필비닐에테르), 퍼플루오로(부틸비닐에테르), 퍼플루오로(이소부틸비닐에테르) 등의 퍼플루오로(알킬비닐에테르)류; 퍼플루오로(프로폭시프로필비닐에테르) 등의 퍼플루오로(알콕시알킬비닐에테르)류의 1종 단독 또는 이들 중 2종 이상의 조합을 들 수 있다. The structural unit (a) can be introduced by using a fluorine-containing vinyl monomer as the polymerization component. The fluorine-containing vinyl monomer is not particularly limited as long as it is a compound having at least one polymerizable unsaturated double bond and at least one fluorine atom. Examples thereof include fluoroolefins such as tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene and 3,3,3-trifluoropropylene; Alkyl perfluorovinyl ether or alkoxyalkyl perfluorovinyl ether; Perfluoros such as perfluoro (methylvinylether), perfluoro (ethylvinylether), perfluoro (propylvinylether), perfluoro (butylvinylether), perfluoro (isobutylvinylether) (Alkyl vinyl ether) s; 1 type of perfluoro (alkoxy alkyl vinyl ether), such as perfluoro (propoxy propyl vinyl ether), or 2 or more types of these are mentioned.

이들 중에서도, 헥사플루오로프로필렌과 퍼플루오로(알킬비닐에테르) 또는 퍼플루오로(알콕시알킬비닐에테르)가 보다 바람직하다. Among these, hexafluoropropylene and perfluoro (alkyl vinyl ether) or perfluoro (alkoxy alkyl vinyl ether) are more preferable.

또한, 구조 단위 (a)의 함유율은, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 전체량을 100 질량%라 하였을 때, 5 내지 90 질량%로 하는 것이 바람직하다. 그 이유는, 함유율이 5 질량% 미만이면, 불소-함유 중합체의 불소 함유율이 낮아서, 본 발명이 의도하는, 불소-함유 재료의 광학적 특징인 저굴절률의 발현이 곤란해지는 경우가 있기 때문이고, 한편 함유율이 90 질량%를 초과하면, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 유기 용제에 대한 용해성, 투명성, 또는 기재에의 밀착성이 저하되는 경우가 있기 때문이다. In addition, the content rate of the structural unit (a) is preferably 5 to 90 mass%, when the total amount of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer is 100 mass%. The reason is that when the content is less than 5% by mass, the fluorine-containing content of the fluorine-containing polymer is low, and the expression of low refractive index, which is an optical characteristic of the fluorine-containing material, intended by the present invention may be difficult. It is because solubility, transparency, or adhesiveness to a base material of a hydroxyl-containing fluorine-containing polymer to an organic solvent may fall when content rate exceeds 90 mass%.

또한, 이러한 이유에 의해, 구조 단위 (a)의 함유율을, 수산기 함유 불소-함 유 중합체의 전체량에 대하여 10 내지 70 질량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 15 내지 60 질량%로 하는 것이 더욱 바람직하다.For this reason, the content of the structural unit (a) is more preferably 10 to 70% by mass, more preferably 15 to 60% by mass relative to the total amount of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer. Do.

2) 구조 단위 (b)2) structural unit (b)

화학식 2에서, R4 또는 R5의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 헥실기, 시클로헥실기, 라우릴기 등의, 탄소수 1 내지 12의 알킬기를 들 수 있고, R4의 알콕시카르보닐기로는, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기 등을 들 수 있으며, R5의 플루오로알킬기로는, 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로헥실기, 2-(트리플루오로메틸)에틸기, 2-(퍼플루오로에틸)에틸기, 2-(퍼플루오로프로필)에틸기, 2-(퍼플루오로부틸)에틸기, 2-(퍼플루오로펜틸)에틸기, 2-(퍼플루오로헥실)에틸기, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸기, 2-(퍼플루오로노닐)에틸기, 2-(퍼플루오로데실)에틸기 등을 들 수 있다. In the formula (2), examples of the alkyl group represented by R 4 or R 5 include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group, hexyl group, cyclohexyl group and lauryl group, and alkoxycarbonyl group of R 4 . As a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, etc. are mentioned, As a fluoroalkyl group of R <5> , a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoro butyl group, a perfluoro Hexyl group, 2- (trifluoromethyl) ethyl group, 2- (perfluoroethyl) ethyl group, 2- (perfluoropropyl) ethyl group, 2- (perfluorobutyl) ethyl group, 2- (perfluoropentyl The ethyl group, 2- (perfluorohexyl) ethyl group, 2- (perfluorooctyl) ethyl group, 2- (perfluorononyl) ethyl group, 2- (perfluorodecyl) ethyl group, etc. are mentioned.

구조 단위 (b)는, 상술한 치환기를 갖는 비닐 단량체를 중합 성분으로서 이용함으로써 도입할 수 있다. 이러한 비닐 단량체의 예로는, 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, n-프로필비닐에테르, 이소프로필비닐에테르, n-부틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르, tert-부틸비닐에테르, n-펜틸비닐에테르, n-헥실비닐에테르, n-옥틸비닐에테르, n-도데실비닐에테르, 2-에틸헥실비닐에테르, 시클로헥실비닐에테르 등의 알킬비닐에테르 또는 시클로알킬비닐에테르류; 에틸알릴에테르, 부틸알릴에테르 등의 알릴에테르류; 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 피발산비닐, 카프로산비닐, 버사트산비닐, 스테아르산비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르류; 메 틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-(n-프로폭시)에틸(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산에스테르류; (메트)아크릴산, 크로톤산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산 등의 불포화 카르복실산류; 및 이하의 구조식을 갖는 것을 들 수 있다. The structural unit (b) can be introduced by using the above-described vinyl monomer having a substituent as a polymerization component. Examples of such vinyl monomers are methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, n-pentyl vinyl ether, n Alkyl vinyl ethers or cycloalkyl vinyl ethers such as -hexyl vinyl ether, n-octyl vinyl ether, n-dodecyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether and cyclohexyl vinyl ether; Allyl ethers such as ethyl allyl ether and butyl allyl ether; Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl pivalate, vinyl caproate, vinyl versatate and vinyl stearate; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth (Meth) acrylic acid esters, such as a) acrylate and 2- (n-propoxy) ethyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acids such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid; And those having the following structural formulas.

또한, 「(메트)아크릴레이트」는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 의미한다. In addition, "(meth) acrylate" means an acrylate or a methacrylate.

Figure 112006047041309-PAT00008
Figure 112006047041309-PAT00008

(식 중, R28은 수소 원자 또는 메틸기이고, w는 0 내지 2의 수를 나타낸다.)(In formula, R28 is a hydrogen atom or a methyl group, w shows the number of 0-2.)

이들은 1종 단독으로 또는 2종 이상의 조합으로 사용할 수 있다. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

또한, 구조 단위 (b)의 함유율은, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 전체량을 100 질량%라 하였을 때, 0.3 내지 90 질량%로 하는 것이 바람직하다. 그 이유는, 함유율이 0.3 질량% 미만이면, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 유기 용제에 대한 용해성이 저하되는 경우가 있기 때문이고, 한편 함유율이 90 질량%를 초과하면, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 투명성 및 저반사율성 등의 광학 특성이 저하되는 경우가 있기 때문이다. In addition, when the content rate of a structural unit (b) assumes 100 mass% of the total amount of a hydroxyl-containing fluorine-containing polymer, it is preferable to set it as 0.3-90 mass%. This is because the solubility in the organic solvent of a hydroxyl-containing fluorine-containing polymer may fall when content rate is less than 0.3 mass%, and when a content rate exceeds 90 mass%, the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer may be reduced. It is because optical characteristics, such as transparency and low reflectivity, may fall.

또한, 이러한 이유에 의해, 구조 단위 (b)의 함유율을, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 전체량에 대하여 0.4 내지 70 질량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.5 내지 60 질량%로 하는 것이 더욱 바람직하다. For this reason, the content of the structural unit (b) is more preferably 0.4 to 70% by mass and more preferably 0.5 to 60% by mass relative to the total amount of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer. .

3) 구조 단위 (c)3) structural unit (c)

화학식 3에서, R27의 히드록시알킬기로는, 2-히드록시에틸기, 2-히드록시프로필기, 3-히드록시프로필기, 4-히드록시부틸기, 3-히드록시부틸기, 5-히드록시펜틸기, 6-히드록시헥실기 등을 들 수 있다. In the general formula (3), as the hydroxyalkyl group of R 27 , 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, 3-hydroxypropyl group, 4-hydroxybutyl group, 3-hydroxybutyl group, 5-hydroxy A hydroxypentyl group, 6-hydroxyhexyl group, etc. are mentioned.

구조 단위 (c)는, 수산기 함유 비닐 단량체를 중합 성분으로서 이용함으로써 도입할 수 있다. 이러한 수산기 함유 비닐 단량체의 예로는, 2-히드록시에틸비닐에테르, 3-히드록시프로필비닐에테르, 2-히드록시프로필비닐에테르, 4-히드록시부틸비닐에테르, 3-히드록시부틸비닐에테르, 5-히드록시펜틸비닐에테르, 6-히드록시헥실비닐에테르 등의 수산기 함유 비닐에테르류, 2-히드록시에틸알릴에테르, 4-히 드록시부틸알릴에테르, 글리세롤 모노알릴에테르 등의 수산기 함유 알릴에테르류, 알릴알코올 등을 들 수 있다. The structural unit (c) can be introduced by using a hydroxyl group-containing vinyl monomer as a polymerization component. Examples of such hydroxyl group-containing vinyl monomers include 2-hydroxyethyl vinyl ether, 3-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 5 Hydroxyl group-containing allyl ethers such as hydroxyl group-containing vinyl ethers such as hydroxypentyl vinyl ether and 6-hydroxyhexyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl allyl ether, 4-hydroxybutyl allyl ether, and glycerol monoallyl ether And allyl alcohol.

또한, 수산기 함유 비닐 단량체로는, 상기 이외에도, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 카프로락톤(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트 등을 사용할 수 있다. Moreover, as a hydroxyl-containing vinyl monomer, in addition to the above, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and caprolactone (meth) Acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, etc. can be used.

또한, 본 발명에서는, 가수분해에 의해 수산기를 생성하기 때문에, 글리시딜기도 수산기를 함유하는 것으로 간주한다. 글리시딜기를 함유하는 단량체로는 글리시딜(메트)아크릴레이트를 사용할 수 있다. In addition, in this invention, since a hydroxyl group is produced by hydrolysis, it is considered that glycidyl group contains a hydroxyl group. Glycidyl (meth) acrylate can be used as a monomer containing a glycidyl group.

또한, 구조 단위 (c)의 함유율은, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 전체량을 100 질량%라 하였을 때, 1 내지 65 질량%로 하는 것이 바람직하다. 그 이유는, 함유율이 1.0 질량% 미만이면, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 유기 용제에 대한 용해성이 저하되는 경우가 있기 때문이고, 한편 함유율이 65 질량%를 초과하면, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 투명성 및 저반사율성 등의 광학 특성이 저하되는 경우가 있기 때문이다. In addition, the content rate of the structural unit (c) is preferably 1 to 65% by mass when the total amount of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer is 100% by mass. This is because the solubility in the organic solvent of a hydroxyl-containing fluorine-containing polymer may fall when content rate is less than 1.0 mass%, On the other hand, when content rate exceeds 65 mass%, the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer may be reduced. It is because optical characteristics, such as transparency and low reflectivity, may fall.

또한, 이러한 이유에 의해, 구조 단위 (c)의 함유율을, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 전체량에 대하여 1 내지 45 질량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 1 내지 30 질량%로 하는 것이 더욱 바람직하다. For this reason, the content of the structural unit (c) is more preferably 1 to 45% by mass, more preferably 1 to 30% by mass based on the total amount of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer. .

4) 구조 단위 (d) 및 구조 단위 (e)4) structural unit (d) and structural unit (e)

상기 수산기 함유 불소-함유 중합체는, 아조기 함유 폴리실록산 화합물에서 유래하는 하기 구조 단위 (d) 0.1 내지 10 질량%를 포함하는 것이 바람직하다. It is preferable that the said hydroxyl-containing fluorine-containing polymer contains 0.1-10 mass% of following structural units (d) derived from an azo-group containing polysiloxane compound.

(d) 하기 화학식 4로 표시되는 구조 단위. (d) The structural unit represented by following formula (4).

<화학식 4><Formula 4>

Figure 112006047041309-PAT00009
Figure 112006047041309-PAT00009

[화학식 4 중, R8 및 R9는 동일하거나 상이할 수도 있고, 수소 원자, 알킬기, 할로겐화 알킬기 또는 아릴기를 나타냄].[In Formula 4, R <8> and R <9> may be same or different and represents a hydrogen atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group, or an aryl group.

구조 단위 (d)를 포함함으로써 내찰상성이 향상된다. By including the structural unit (d), scratch resistance is improved.

또한, 본 발명의 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체에 있어서, 상기 구조 단위 (d)를 하기 구조 단위 (e)의 일부로서 포함하는 것이 바람직하다. Moreover, in the ethylenically unsaturated group containing fluorine-containing polymer of this invention, it is preferable to include the said structural unit (d) as a part of following structural unit (e).

(e) 상기 화학식 6으로 표시되는 구조 단위. (e) A structural unit represented by the formula (6).

Figure 112006047041309-PAT00010
Figure 112006047041309-PAT00010

[화학식 6 중, R11 내지 R14는 동일하거나 상이할 수도 있고, 수소 원자, 알킬기 또는 시아노기를 나타내고, R15 내지 R18은 동일하거나 상이할 수도 있고, 수소 원자 또는 알킬기, 할로겐화 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, p 및 q는 1 내지 6의 수, s 및 t는 0 내지 6의 수, y는 1 내지 200의 수를 나타냄].In Formula 6, R 11 to R 14 may be the same or different, and represent a hydrogen atom, an alkyl group or a cyano group, and R 15 to R 18 may be the same or different, and a hydrogen atom or an alkyl group, a halogenated alkyl group or an aryl. And p and q represent a number from 1 to 6, s and t represent a number from 0 to 6, and y represents a number from 1 to 200.

이하, 구조 단위 (d) 및 (e)에 대하여 설명한다.Hereinafter, the structural units (d) and (e) will be described.

화학식 4에서, R8 또는 R9의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의, 탄소수 1 내지 3의 알킬기를 들 수 있고, 할로겐화 알킬기로는 트리플루오로메틸, 퍼플루오로에틸, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로부틸기 등의, 탄소수 1 내지 4의 플루오로알킬기 등을 들 수 있고, 아릴기로는 벤질기, 나프틸기 등을 각각 들 수 있다. In the general formula (4), examples of the alkyl group of R 8 or R 9 include alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms such as methyl group, ethyl group and propyl group, and halogenated alkyl groups include trifluoromethyl, perfluoroethyl and perfluoro C1-C4 fluoroalkyl groups, such as a ropropyl group and a perfluoro butyl group, etc. are mentioned, A benzyl group, a naphthyl group, etc. are mentioned as an aryl group, respectively.

구조 단위 (d)는, 상기 화학식 4로 표시되는 폴리실록산 세그먼트(segment)를 갖는 아조기 함유 폴리실록산 화합물을 이용함으로써 도입할 수 있다. 이러한 아조기 함유 폴리실록산 화합물의 예로는, 하기 화학식 7로 표시되는 화합물을 들 수 있다. The structural unit (d) can be introduced by using an azo group-containing polysiloxane compound having a polysiloxane segment represented by the general formula (4). As an example of such an azo-group containing polysiloxane compound, the compound represented by following formula (7) is mentioned.

Figure 112006047041309-PAT00011
Figure 112006047041309-PAT00011

[화학식 7 중, R11 내지 R14, R15 내지 R18, p, q, s, t 및 y는 상기 화학식 6과 동일하고, z는 1 내지 20의 수임].[In Formula 7, R 11 To R 14 , R 15 To R 18 , p, q, s, t and y are the same as the above Formula 6, z is a number of 1 to 20.

화학식 7로 표시되는 화합물을 이용한 경우, 구조 단위 (d)는 구조 단위 (e)의 일부로서 수산기 함유 불소-함유 중합체에 포함된다. 이 경우, 화학식 7에서, R11 내지 R14의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 헥실기, 시클로헥실기 등의, 탄소수 1 내지 12의 알킬기를 들 수 있고, R15 내지 R18의 알킬기로는 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의, 탄소수 1 내지 3의 알킬기를 들 수 있다. In the case of using the compound represented by the formula (7), the structural unit (d) is included in the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer as part of the structural unit (e). In this case, in the formula (7), examples of the alkyl group of R 11 to R 14 include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group, hexyl group and cyclohexyl group, and R 15 to R 18 group . As an alkyl group, C1-C3 alkyl groups, such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, are mentioned.

본 발명에서, 상기 화학식 7로 표시되는 아조기 함유 폴리실록산 화합물로는 하기 화학식 8로 표시되는 화합물이 특히 바람직하다. In the present invention, the compound represented by the following formula (8) is particularly preferable as the azo group-containing polysiloxane compound represented by the formula (7).

Figure 112006047041309-PAT00012
Figure 112006047041309-PAT00012

[화학식 8 중, y 및 z는 상기 화학식 7과 동일함].[In Formula 8, y and z are the same as that of Formula 7].

또한, 구조 단위 (d)의 함유율을, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 전체량을 100 질량%라 하였을 때, 0.1 내지 10 질량%로 하는 것이 바람직하다. 그 이유는, 함유율이 0.1 질량% 미만이면, 경화 후의 도막의 표면 윤활성이 저하되고, 도막의 내찰상성이 저하되는 경우가 있기 때문이고, 한편 함유율이 10 질량%를 초과하면, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 투명성이 열화되고, 코팅재로서 사용되는 경우, 도포시 크레이터링(cratering) 등이 발생하기 쉬워지는 경우가 있기 때문 이다. Moreover, when the content rate of a structural unit (d) makes 100 mass% the total amount of a hydroxyl-containing fluorine-containing polymer, it is preferable to set it as 0.1-10 mass%. The reason for this is that when the content is less than 0.1% by mass, the surface lubricity of the coating film after curing may decrease, and the scratch resistance of the coating film may decrease. On the other hand, when the content is more than 10% by mass, the hydroxyl group-containing fluorine-containing This is because when the transparency of the polymer is deteriorated and used as a coating material, cratering or the like may easily occur during coating.

또한, 이러한 이유에 의해, 구조 단위 (d)의 함유율을, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 전체량에 대하여 0.1 내지 5 질량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.1 내지 4 질량%로 하는 것이 더욱 바람직하다. 동일한 이유에 의해, 구조 단위 (e)의 함유율은, 그 중에 포함되는 구조 단위 (d)의 함유율을 상기 범위로 하 도록 결정하는 것이 바람직하다. For this reason, the content of the structural unit (d) is more preferably 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 4% by mass relative to the total amount of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer. . For the same reason, the content rate of the structural unit (e) is preferably determined so that the content rate of the structural unit (d) contained therein is within the above range.

5) 구조 단위 (f)5) Frame unit (f)

또한, 상기 수산기 함유 불소-함유 중합체는, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 전체량을 100 질량%라 하였을 때, 하기 구조 단위 (f) 0.1 내지 30 질량%를 포함할 수도 있다. The hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer may also contain 0.1 to 30 mass% of the following structural unit (f) when the total amount of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer is 100 mass%.

(f) 하기 화학식 5로 표시되는 구조 단위. (f) The structural unit represented by following formula (5).

Figure 112006047041309-PAT00013
Figure 112006047041309-PAT00013

[화학식 5 중, R10은 유화 작용을 하는 기를 나타냄].In formula (5), R 10 represents a group having an emulsifying action.

구조 단위 (f)를 포함함으로써 도공성이 향상된다.By including the structural unit (f), the coatability is improved.

단, (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체가 구조 단위 (f)를 포함하는 경우, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 기재 등에 도포하여 형성되는 도포층이, (A) 주석 함유 산화인듐 입자가 고밀도로 존재하는 1개 이상의 층과, (A) 주석 함유 산화인듐 입자가 실질적으로 존재하지 않는 1개 이하의 층으로 분리되는 특성(층 분리성)이 불확실해지는 경우가 있기 때문에, 확실한 층 분리를 기대하는 경우, 구조 단위 (f)의 도입은 바람직하지 않다. However, when (B) ethylenically unsaturated group containing fluorine-containing polymer contains a structural unit (f), the application layer formed by apply | coating curable resin composition of this invention to a base material etc., (A) tin-containing indium oxide particle | grains Is separated from one or more layers having high density and (A) one or less layers in which tin-containing indium oxide particles are substantially absent (layer separation property). When it is expected that the introduction of the structural unit (f) is not preferred.

이하, 구조 단위 (f)에 대하여 설명한다. Hereinafter, the structural unit (f) will be described.

화학식 5에서, R10의 유화 작용을 하는 기로는, 소수성기 및 친수성기를 모두 가지고, 또한 친수성기가 폴리에틸렌옥시드, 폴리프로필렌옥시드 등의 폴리에테르 구조인 기가 바람직하다. In the formula (5), a group having an emulsifying action of R 10 is preferably a group having both a hydrophobic group and a hydrophilic group and a hydrophilic group having a polyether structure such as polyethylene oxide and polypropylene oxide.

이러한 유화 작용을 하는 기의 예로는 하기 화학식 9로 표시되는 기를 들 수 있다. Examples of the group having such an emulsification action include groups represented by the following formula (9).

Figure 112006047041309-PAT00014
Figure 112006047041309-PAT00014

[화학식 9 중, n은 1 내지 20의 수, m은 0 내지 4의 수, u는 3 내지 50의 수를 나타냄].[Wherein n is a number from 1 to 20, m is a number from 0 to 4, u represents a number from 3 to 50].

구조 단위 (f)는, 반응성 유화제를 중합 성분으로서 이용함으로써 도입할 수 있다. 이러한 반응성 유화제로는 하기 화학식 10으로 표시되는 화합물을 들 수 있다. The structural unit (f) can be introduced by using a reactive emulsifier as a polymerization component. Examples of such reactive emulsifiers include compounds represented by the following general formula (10).

Figure 112006047041309-PAT00015
Figure 112006047041309-PAT00015

[화학식 10 중, n, m, 및 u는 상기 화학식 9와 동일함].[In Formula 10, n, m, and u are the same as that of Formula 9].

또한, 구조 단위 (f)의 함유율을, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 전체량을 100 질량%라 하였을 때, 0.1 내지 30 질량%로 하는 것이 바람직하다. 그 이유는, 함유율이 0.1 질량% 이상이면, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 용제에 대한 용해성이 향상되고, 한편 함유율이 30 질량% 이내이면, 경화성 수지 조성물의 점착성이 과도하게 증가하지 않아 취급이 용이해지고, 코팅재 등에 이용하더라도 내습성이 저하되기 않기 때문이다. Moreover, when the content rate of a structural unit (f) makes 100 mass% the total amount of a hydroxyl-containing fluorine-containing polymer, it is preferable to set it as 0.1-30 mass%. The reason is that when the content is 0.1% by mass or more, the solubility of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer in the solvent is improved, while when the content is within 30% by mass, the adhesiveness of the curable resin composition does not increase excessively and is easy to handle. This is because the moisture resistance is not lowered even when used as a coating material.

또한, 이러한 이유에 의해, 구조 단위 (f)의 함유율을, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 전체량에 대하여 0.1 내지 25 질량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 1 내지 20 질량%로 하는 것이 더욱 바람직하다. For this reason, the content of the structural unit (f) is more preferably 0.1 to 25% by mass, more preferably 1 to 20% by mass relative to the total amount of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer. .

6) 분자량 6) Molecular Weight

수산기 함유 불소-함유 중합체는, 겔 투과 크로마토그래피(이하「GPC」라 함)에서 테트라히드로푸란(이하「THF」라고 함)을 용제로 하여 측정한 폴리스티렌 환산 수평균 분자량이 5,000 내지 500,000인 것이 바람직하다. 그 이유는, 수평균 분자량이 5,000 미만이면, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 기계적 강도가 저하되는 경우가 있기 때문이고, 한편 수평균 분자량이 500,000을 초과하면, 후술하는 경화성 수지 조성물의 점도가 높아져서, 박막 코팅이 곤란해지는 경우가 있기 때문이다. The hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer preferably has a polystyrene reduced number average molecular weight of 5,000 to 500,000 as measured by gel permeation chromatography (hereinafter referred to as "GPC") using tetrahydrofuran (hereinafter referred to as "THF") as a solvent. Do. The reason is that when the number average molecular weight is less than 5,000, the mechanical strength of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer may decrease, while when the number average molecular weight exceeds 500,000, the viscosity of the curable resin composition described later increases, This is because the thin film coating may be difficult.

또한, 이러한 이유에 의해, 수산기 함유 불소-함유 중합체의 폴리스티렌 환산 수평균 분자량을 10,000 내지 300,000으로 하는 것이 보다 바람직하고, 10,000 내지 100,000으로 하는 것이 더욱 바람직하다. For this reason, the polystyrene reduced number average molecular weight of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer is more preferably 10,000 to 300,000, more preferably 10,000 to 100,000.

(2) 1개의 이소시아네이트기와 1개 이상의 에틸렌성 불포화기를 함유하는 화합물 (2) a compound containing one isocyanate group and one or more ethylenically unsaturated groups

1개의 이소시아네이트기와 1개 이상의 에틸렌성 불포화기를 함유하는 화합물로는, 분자 내에 1개의 이소시아네이트기와 1개 이상의 에틸렌성 불포화기를 함유하는 화합물이라면 특별히 제한되지 않는다. The compound containing one isocyanate group and at least one ethylenically unsaturated group is not particularly limited as long as it is a compound containing one isocyanate group and at least one ethylenically unsaturated group in the molecule.

또한, 이소시아네이트기를 2개 이상 함유하면, 수산기 함유 불소-함유 중합체와 반응시킬 때 겔화를 일으킬 가능성이 있다. Moreover, when two or more isocyanate groups are contained, there exists a possibility of gelatinization when reacting with a hydroxyl-containing fluorine-containing polymer.

또한, 후술하는 경화성 수지 조성물을 보다 용이하게 경화시킬 수 있기 때문에, 상기 에틸렌성 불포화기로서 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이 보다 바람직하다. 여기서, 「(메트)아크릴로일기」는 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 의미한다. Moreover, since the curable resin composition mentioned later can be hardened more easily, the compound which has a (meth) acryloyl group as said ethylenically unsaturated group is more preferable. Here, "(meth) acryloyl group" means acryloyl group or methacryloyl group.

이러한 화합물로는, 2-(메트)아크릴로일옥시 에틸이소시아네이트, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필이소시아네이트의 1종 단독 또는 이들 중 2종 이상의 조합을 들 수 있다. As such a compound, 1 type of 2- (meth) acryloyloxy ethyl isocyanate and 2- (meth) acryloyloxypropyl isocyanate is independent, or 2 or more types of these are mentioned.

또한, 이러한 화합물은, 디이소시아네이트 및 수산기 함유 (메트)아크릴레이트를 반응시켜 합성할 수도 있다. Moreover, such a compound can also be synthesize | combined by making a diisocyanate and hydroxyl-containing (meth) acrylate react.

이 경우, 디이소시아네이트의 예로는, 2,4-톨릴렌 디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌 디이소시아네이트, 1,3-크실릴렌 디이소시아네이트, 1,4-크실릴렌 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, m-페닐렌 디이소시아네이트, p-페닐렌 디이소시아네이트, 3,3'-디메틸-4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 3,3'-디메틸페닐렌 디이소시아네이트, 4,4'-비페닐렌 디이소시아네이트, 1,6-헥산 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 메틸렌비스(4-시클로헥실이소시아네이트), 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트, 비스(2-이소시아네이트에틸)푸마레이트, 6-이소프로필-1,3-페닐디이소시아네이트, 4-디페닐프로판 디이소시아네이트, 리신 디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄 디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아네이트메틸)시클로헥산, 테트라메틸크실릴렌 디이소시아네이트, 2,5(또는 2,6)-비스(이소시아네이트메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄 등의 1종 단독 또는 이들 중 2종 이상의 조합을 들 수 있다. In this case, examples of the diisocyanate include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, 1,5 Naphthalene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,3'-dimethyl-4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 3, 3'-dimethylphenylene diisocyanate, 4,4'-biphenylene diisocyanate, 1,6-hexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylenebis (4-cyclohexyl isocyanate), 2,2,4-trimethyl Hexamethylene diisocyanate, bis (2-isocyanate ethyl) fumarate, 6-isopropyl-1,3-phenyl diisocyanate, 4-diphenylpropane diisocyanate, lysine diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, 1, 3-bis (isosia One kind alone or a combination of two or more thereof, such as a methylate of methyl) cyclohexane, tetramethylxylylene diisocyanate, and 2,5 (or 2,6) -bis (isocyanatemethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane Can be mentioned.

이 중에서는, 2,4-톨릴렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 크실릴렌 디이소시아네이트, 메틸렌비스(4-시클로헥실이소시아네이트), 1,3-비스(이소시아네이트메틸)시클로헥산이 특히 바람직하다. In this, 2, 4- tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, methylenebis (4-cyclohexyl isocyanate), and 1, 3-bis (isocyanate methyl) cyclohexane are especially preferable.

또한, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 예로는, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 카프로락톤(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메트)아크릴레이트 모노스테아레이트, 이소시아누르산 EO 변성 디(메트)아크릴레이트 등의 1종 단독 또는 이들 중 2종 이상의 조합을 들 수 있다. Examples of hydroxyl group-containing (meth) acrylates include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and caprolactone (meth). ) Acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate monostearate, isocyanur Single 1 type, such as acid EO modified di (meth) acrylate, or 2 or more types of these combinations are mentioned.

이 중에서는, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트가 특히 바람직하다. Among these, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate are especially preferable.

또한, 수산기 함유 다관능 (메트)아크릴레이트의 시판품으로는, 예를 들면 오사까 유끼 가가꾸(주) 제조의 상품명 HEA, 닛본 가야꾸(주) 제조의 상품명 KAYARAD DPHA, PET-30, 도아 고세이(주) 제조의 상품명 알로닉스 M-215, M-233, M-305, M-400 등으로서 입수할 수 있다. In addition, as a commercial item of a hydroxyl-containing polyfunctional (meth) acrylate, For example, brand name HEA of Osaka Yuki Kagaku Co., Ltd. brand name KAYARAD DPHA, PET-30, Toagosei (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. product) Note) It can obtain as brand names Alonics M-215, M-233, M-305, M-400, etc. of manufacture.

디이소시아네이트 및 수산기 함유 다관능 (메트)아크릴레이트로부터 합성하는 경우에는, 디이소시아네이트 1 몰에 대하여, 수산기 함유 다관능 (메트)아크릴레이트의 첨가량을 1 내지 1.2 몰로 하는 것이 바람직하다. When synthesize | combining from diisocyanate and hydroxyl group containing polyfunctional (meth) acrylate, it is preferable to make the addition amount of a hydroxyl group containing polyfunctional (meth) acrylate 1-1.2 mol with respect to 1 mol of diisocyanate.

이러한 화합물의 합성 방법으로는, 디이소시아네이트 및 수산기 함유 (메트)아크릴레이트를 일괄로 투입하여 반응시키는 방법, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 중에 디이소시아네이트를 적하하여 반응시키는 방법 등을 들 수 있다. As a synthesis | combining method of such a compound, the method of adding a diisocyanate and a hydroxyl group containing (meth) acrylate collectively and making it react, the method of dropping and reacting diisocyanate in a hydroxyl group containing (meth) acrylate, etc. are mentioned.

(3) 에틸렌성 불포화기 함유 카르복실산 화합물 또는 그의 유도체(3) an ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid compound or a derivative thereof

에틸렌성 불포화기 함유 카르복실산 화합물 또는 그의 유도체로는, 에틸렌성 불포화기와 카르복실산을 분자 내에 갖는 화합물, 또는 그의 산 할라이드, 산 무수물 등이 있으며, 수산기 함유 불소-함유 중합체와 에스테르를 형성하는 화합물이라면 특별히 제한되지 않는다. Examples of the ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid compound or a derivative thereof include a compound having an ethylenically unsaturated group and a carboxylic acid in a molecule thereof, or an acid halide, an acid anhydride thereof, and the like to form an ester with a hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer. The compound is not particularly limited.

또한, 경화성 수지 조성물을 보다 용이하게 경화시킬 수 있기 때문에, 상기 에틸렌성 불포화기로서 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이 보다 바람직하다.Moreover, since curable resin composition can be hardened more easily, the compound which has a (meth) acryloyl group as said ethylenically unsaturated group is more preferable.

이러한 화합물로는, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산 클로라이드, (메트)아크릴산 브로마이드, 무수 (메트)아크릴산 등을 들 수 있다. 여기서, 「(메트)아크릴산」은 아크릴산 또는 메타크릴산을 의미한다. As such a compound, (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid chloride, (meth) acrylic acid bromide, (meth) acrylic anhydride, etc. are mentioned. Here, "(meth) acrylic acid" means acrylic acid or methacrylic acid.

(4) 반응 몰비(4) reaction molar ratio

본 발명의 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체는, 상술한 1개의 이소시아네이트기와 1개 이상의 에틸렌성 불포화기를 함유하는 화합물을, 수산기 함유 불소-함유 중합체와, 이소시아네이트기/수산기의 몰비가 0.1 내지 1.9인 비율로 반응시키는 것이 바람직하다. 그 이유는, 몰비가 0.1 미만이면 내찰상성 및 내구성이 저하되는 경우가 있기 때문이고, 한편 몰비가 1.9를 초과하면, 경화성 수지 조성물의 도막의 알칼리 수용액 침지 후의 내찰상성이 저하되는 경우가 있기 때문이다. In the ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer of the present invention, the molar ratio of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer and the isocyanate group / hydroxyl group is 0.1 to 1.9. It is preferable to react with phosphorus ratio. This is because if the molar ratio is less than 0.1, the scratch resistance and durability may decrease. On the other hand, if the molar ratio exceeds 1.9, the scratch resistance after immersion of the aqueous alkali solution of the coating film of the curable resin composition may decrease. .

또한, 이러한 이유에 의해, 이소시아네이트기/수산기의 몰비를 0.3 내지 1.5로 하는 것이 바람직하고, 0.5 내지 1.5로 하는 것이 보다 바람직하다. For this reason, the molar ratio of isocyanate group / hydroxyl group is preferably 0.3 to 1.5, and more preferably 0.5 to 1.5.

동일한 이유로, 에틸렌성 불포화기 함유 카르복실산 화합물 또는 그의 유도체를, 수산기 함유 불소-함유 중합체와, 에틸렌성 불포화기 함유 카르복실산 화합물 또는 그의 유도체/수산기의 몰비가 0.1 내지 1.9인 비율로 반응시키는 것이 바람직하다. 단, 카르복실산 유도체가 산 무수물인 경우, 1개 분자에서 2개의 수산기와 반응하는 것이 가능하기 때문에, 에틸렌성 불포화기 함유 카르복실산 화합물의 산 무수물/수산기의 몰비를 0.05 내지 0.95의 비율로 하는 것이 바람직하다. For the same reason, the ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid compound or derivative thereof is reacted at a rate where the molar ratio of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer and the ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid compound or derivative / hydroxyl group thereof is 0.1 to 1.9. It is preferable. However, when the carboxylic acid derivative is an acid anhydride, since it is possible to react with two hydroxyl groups in one molecule, the molar ratio of the acid anhydride / hydroxyl group of the ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid compound is in the ratio of 0.05 to 0.95. It is desirable to.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서, 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체 (B)의 첨가량은, 특별히 제한되지는 않지만, 유기 용제 이외의 조성물 전체량에 대하여 통상 1 내지 80 질량%이다. 그 이유는, 첨가량이 1 질량% 미만이면, 경화성 수지 조성물의 경화 도막의 굴절률이 높아져서, 충분한 반사 방지 효과가 얻어지지 않는 경우가 있기 때문이고, 한편 첨가량이 80 질량%를 초과하면, 경 화성 수지 조성물의 경화 도막의 내찰상성이 얻어지지 않는 경우가 있기 때문이다. In the curable resin composition of this invention, although the addition amount of an ethylenically unsaturated group containing fluorine-containing polymer (B) is not specifically limited, It is 1-80 mass% normally with respect to the composition whole quantity other than the organic solvent. The reason is that the refractive index of the cured coating film of curable resin composition may become high that the addition amount is less than 1 mass%, and sufficient antireflection effect may not be obtained. On the other hand, when the addition amount exceeds 80 mass%, curable resin This is because the scratch resistance of the cured coating film of the composition may not be obtained.

또한, 이러한 이유로부터, (E) 성분의 첨가량을 2 내지 70 질량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 3 내지 60 질량%의 범위 내의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다. Moreover, for this reason, it is more preferable to make the addition amount of (E) component into 2 to 70 mass%, and it is still more preferable to set it as the value within the range of 3 to 60 mass%.

(C) (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체의 용해성이 높은 용제(고휘발성 용제)(C) (B) Solvent having high solubility of ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer (highly volatile solvent)

본 발명의 경화성 수지 조성물에 포함되는 (C) 고휘발성 용제는, 상기 (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체의 용해성이 높은 용제이다. 여기서, 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체의 용해성이 높다는 것은, (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체를 50 질량%가 되도록 각 용제에 첨가하여 실온에서 8 시간 교반하였을 때, 육안으로 균일한 용액이 되는 것을 말한다. 용해성이 낮다는 것은, 이 때 육안으로 균일한 용액이 되지 않은 것을 말한다. 또한, (C) 고휘발성 용제의 상대 증발 속도는, 후술하는 (D) 저휘발성 용제의 상대 증발 속도보다 큰 것이 필요하다. 여기서, 「상대 증발 속도」란, 아세트산부틸이 90 질량% 증발되는 데 소요되는 시간을 기준으로 하는 증발 속도의 상대값을 말하며, 상세한 설명은 문헌 [TECHNIQUES OF CHEMISTRY VOL. 2 ORGANIC SOLVENTS Physical Properties and methods of purification 4th ed. (Interscience Publishers, Inc. 1986 page 62)]에 기재되어 있는 바와 같다. 또한, (C) 고휘발성 용제는, 상기 (A) 주석 함유 산화인듐 입자((A) 성분의 입자)에 대한 분산 안정성이 낮은 것이 바람직하다. (C) 고휘발성 용제는, 상대 증발 속도가 (D)보다 크고, (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체에 대한 용해성이 높기 때문에, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 기재에 도포하여 용제 (C) 및 (D)를 증발시키는 과정에서, (A) 성분의 입자를 편재화시킬 수 있다. The (C) high volatile solvent contained in curable resin composition of this invention is a high solubility of the said (B) ethylenically unsaturated group containing fluorine-containing polymer. Here, the high solubility of an ethylenically unsaturated group containing fluorine-containing polymer is visually when (B) ethylenically unsaturated group containing fluorine-containing polymer is added to each solvent so that it may become 50 mass%, and it stirred at room temperature for 8 hours. It means to be a uniform solution. The low solubility means that the solution was not visually uniform at this time. In addition, the relative evaporation rate of the (C) high volatile solvent needs to be larger than the relative evaporation rate of the (D) low volatile solvent mentioned later. Here, the "relative evaporation rate" means the relative value of the evaporation rate based on the time taken for butyl acetate to evaporate 90 mass%, and the detailed description is described in TECHNIQUES OF CHEMISTRY VOL. 2 ORGANIC SOLVENTS Physical Properties and methods of purification 4th ed. (Interscience Publishers, Inc. 1986 page 62). Moreover, it is preferable that (C) high volatile solvent is low in dispersion stability with respect to the said (A) tin containing indium oxide particle (particle of (A) component). (C) Since a high volatile solvent has a relative evaporation rate larger than (D) and (B) has high solubility to an ethylenically unsaturated group containing fluorine-containing polymer, the curable resin composition of this invention is apply | coated to a base material, and a solvent ( In the process of evaporating C) and (D), the particle | grains of (A) component can be localized.

본 발명에서 (C) 고휘발성 용제로서 사용할 수 있는 용제로는, 상대 증발 속도가 대략 1.7 이상인 용제이고, 구체적으로는 메틸에틸케톤(MEK; 상대 증발 속도 3.8), 이소프로판올(IPA; 상대 증발 속도 1.7), 메틸이소부틸케톤(MIBK; 상대 증발 속도 1.6), 아세톤, 메틸프로필케톤 등을 들 수 있다. The solvent which can be used as the (C) high-volatile solvent in the present invention is a solvent having a relative evaporation rate of approximately 1.7 or more, specifically methyl ethyl ketone (MEK; relative evaporation rate 3.8), isopropanol (IPA; relative evaporation rate 1.7 ), Methyl isobutyl ketone (MIBK; relative evaporation rate 1.6), acetone, methyl propyl ketone and the like.

(D) (A) 주석 함유 산화인듐 입자의 분산 안정성이 높고, 또한 (C)의 용제와 상용성인 용제(저휘발성 용제)(D) A solvent (low volatility solvent) which is high in the dispersion stability of (A) tin-containing indium oxide particle, and is compatible with the solvent of (C).

본 발명의 경화성 수지 조성물에 포함되는 (D) 저휘발성 용제는, 상기 (A) 주석 함유 산화인듐 입자((A) 성분의 입자)의 분산 안정성이 높은 용제이다. 여기서, (A) 성분의 입자의 분산 안정성이 높다는 것은, (A) 성분의 입자의 이소프로판올 분산액에 유리판을 침지시켜 (A) 성분의 입자를 유리벽에 부착시키고, 그 (A) 성분의 입자가 부착된 유리판을 각 용제에 침지시킨 경우에, (A) 성분의 입자가 상기 용제 중에 육안으로 균일하게 분산되는 것을 말한다. 분산 안정성이 낮다는 것은, 이 때 육안으로 균일하게 분산되지 않은 것을 말한다. 또한, (D) 저휘발성 용제는, 상기 (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체의 용해성이 낮은 것이 바람직하다. The (D) low-volatile solvent contained in curable resin composition of this invention is a solvent with high dispersion stability of the said (A) tin containing indium oxide particle (particle of (A) component). Here, that the dispersion stability of the particle | grains of (A) component is high means that the glass plate is immersed in the isopropanol dispersion liquid of the particle | grains of (A) component, the particle | grains of (A) component adhere to a glass wall, and the particle | grains of the (A) component When the attached glass plate is immersed in each solvent, it is said that the particle | grains of (A) component are disperse | distributed uniformly visually in the said solvent. Low dispersion stability means that it is not uniformly disperse | distributed visually at this time. Moreover, it is preferable that the (D) low-volatile solvent is low in the solubility of the said (B) ethylenically unsaturated group containing fluorine-containing polymer.

본 발명에서 (D) 저휘발성 용제로서 사용할 수 있는 용제로는, 메탄올(상대 증발 속도 2.1), 이소프로판올(IPA; 상대 증발 속도 1.7), n-부탄올(n-BuOH; 상대 증발 속도 0.5), tert-부탄올, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르, 에틸셀로솔브, 프로필셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트 등을 들 수 있다. 얻어지는 경화막의 광학 특성(헤이즈(haze), 반사율) 및 표면 저항을 향상시킨다는 측면에서, (D) 저휘발성 용제는, 특히 프로필렌글리콜 모노메틸에테르(PGME)를 포함하는 것이 바람직하다. Solvents that can be used as the (D) low-volatile solvent in the present invention include methanol (relative evaporation rate 2.1), isopropanol (IPA; relative evaporation rate 1.7), n-butanol (n-BuOH; relative evaporation rate 0.5), tert -Butanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, ethyl cellosolve, propyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monoethyl ether acetate, and the like. From the viewpoint of improving the optical properties (haze, reflectance) and surface resistance of the resulting cured film, the (D) low-volatile solvent particularly preferably contains propylene glycol monomethyl ether (PGME).

본 발명에서 이용되는 (C) 고휘발성 용제 및(또는) (D) 저휘발성 용제는 통상적으로 상기 (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체의 제조에 이용된 용제를 그대로 이용할 수 있다. The (C) high volatile solvent and / or (D) low volatile solvent used by this invention can use the solvent normally used for manufacture of the said (B) ethylenically unsaturated group containing fluorine-containing polymer as it is.

본 발명에서 이용되는 (C) 고휘발성 용제와 (D) 저휘발성 용제는, 상용성인 것이 필요하다. 상용성은, 본 발명의 조성물의 구체적 구성에 있어서 (C) 고휘발성 용제와 (D) 저휘발성 용제가 분리되지 않는 정도의 상용성이 있으면 충분하다. The (C) high volatile solvent and (D) low volatile solvent used by this invention need to be compatible. Compatibility is sufficient if the compatibility of the (C) high volatile solvent and (D) low volatile solvent is not separated in the specific structure of the composition of this invention.

여기서, 선택된 용제가, 본 발명에서 이용되는 (C) 고휘발성 용제 또는 (D) 저휘발성 용제 중 어느 것에 해당하는가는, 선택된 복수개의 용제 종류 사이에서 상대적으로 결정되는 것이며, 그 때문에 상대 증발 속도가 1.7인 이소프로판올은, (C) 고휘발성 용제로서 이용되는 경우도 있으며, (D) 저휘발성 용제로서 이용되는 경우도 있다. Here, whether the selected solvent corresponds to either (C) high volatile solvent or (D) low volatile solvent used in the present invention is relatively determined among a plurality of selected solvent types, so that the relative evaporation rate is Isopropanol which is 1.7 may be used as (C) a high volatile solvent, and may be used as (D) a low volatile solvent.

경화성 수지 조성물 중의 용제 (C) 및 (D) 이외의 성분 총량 100 질량부에 대하여, 용제 (C) 및 용제 (D)의 합계량은 통상 300 내지 5000 질량부, 바람직하게는 300 내지 4000 질량부, 보다 바람직하게는 300 내지 3000 질량부를 이용한다. 용제 (C)와 용제 (D)의 배합비는 1:99 내지 99:1의 범위에서 임의로 선택할 수 있다. The total amount of the solvent (C) and the solvent (D) is usually 300 to 5000 parts by mass, preferably 300 to 4000 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the component other than the solvents (C) and (D) in the curable resin composition. More preferably, 300-3000 mass parts is used. The compounding ratio of a solvent (C) and a solvent (D) can be arbitrarily selected in the range of 1: 99-99: 1.

(E) 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물 및(또는) 1개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유하는 불소-함유 (메트)아크릴레이트 화합물(이하, 「경화성 화합물」이라고 총칭하는 경우가 있음)(E) a polyfunctional (meth) acrylate compound containing two or more (meth) acryloyl groups and / or a fluorine-containing (meth) acrylate compound containing one or more (meth) acryloyl groups (hereinafter May be collectively referred to as a "curable compound."

2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물 (E-1)은, 경화성 수지 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물 및 그것을 이용한 반사 방지막의 내찰상성을 높이기 위해서 이용된다. 여기서, 「2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물」이란, 2개 이상의 아크릴로일기를 함유하는 화합물, 또는 2개 이상의 메타크릴로일기를 함유하는 화합물을 의미한다. The polyfunctional (meth) acrylate compound (E-1) containing two or more (meth) acryloyl groups is used in order to improve the scratch resistance of the hardened | cured material obtained by hardening | curing curable resin composition, and the antireflection film using the same. Here, "a polyfunctional (meth) acrylate compound containing two or more (meth) acryloyl groups" means the compound containing two or more acryloyl groups, or the compound containing two or more methacryloyl groups. it means.

1개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유하는 불소-함유 (메트)아크릴레이트 화합물 (E-2)는, 경화성 수지 조성물의 굴절률을 저하시키기 위해서 이용된다. The fluorine-containing (meth) acrylate compound (E-2) containing one or more (meth) acryloyl groups is used in order to reduce the refractive index of curable resin composition.

화합물 (E-1)에 대해서는, 분자 내에 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유하는 화합물이라면 특별히 제한되지 않는다. 이러한 예로는, 네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올에탄 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 알킬 변성 디펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 알킬 변성 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메트)아크릴레이트, 「U-15HA」(상품명, 신나카무라 가가꾸사 제조), 「HDP-M20」(상품명, 네가미 고교(주)사 제조) 등의 1종 단독 또는 이들 중 2종 이상의 조합을 들 수 있다. 또한, 이들 중에서, 네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트 및 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 「U-15HA」, 「HDP-M20」(상품명, 네가미 고교(주)사 제조)이 특히 바람직하다. The compound (E-1) is not particularly limited as long as it is a compound containing two or more (meth) acryloyl groups in the molecule. Examples thereof include neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, and pentaerythritol tetra (meth). ) Acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, alkyl modified dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, alkyl modified dipentaerythritol penta (meth) acrylic Rate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, `` U-15HA '' (brand name, Shinnakamura Kagaku 1 type single, such as "HDP-M20" (brand name, Negami Kogyo Co., Ltd. make), or 2 or more types of these are mentioned. In addition, among these, neopentyl glycol di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and caprolactone modified Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, "U-15HA", and "HDP-M20" (brand name, Negami Kogyo Co., Ltd. product) are especially preferable.

화합물 (E-2)에 대해서는, 1개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유하는 불소-함유 (메트)아크릴레이트 화합물이라면 특별히 제한되지 않는다. 이러한 예로는, 퍼플루오로옥틸에틸(메트)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메트)아크릴레이트, 트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트 등의 1종 단독 또는 이들 중 2종 이상의 조합을 들 수 있다. The compound (E-2) is not particularly limited as long as it is a fluorine-containing (meth) acrylate compound containing one or more (meth) acryloyl groups. As such an example, single 1 type, such as a perfluoro octyl ethyl (meth) acrylate, an octafluoro pentyl (meth) acrylate, a trifluoroethyl (meth) acrylate, or a combination of 2 or more of these is mentioned. .

본 발명의 경화성 수지 조성물 중 성분 (E)의 함유량은, 특별히 제한되지는 않지만, 유기 용제를 제외한 조성물 전체량 100 질량%에 대하여, 통상 5 내지 80 질량%이다. 그 이유는, 첨가량이 5 질량% 미만이면, 경화성 수지 조성물의 경화 도막의 내찰상성이 얻어지지 않는 경우가 있기 때문이고, 한편 첨가량이 80 질량%를 초과하면, 경화성 수지 조성물의 경화 도막의 굴절률이 높아져서, 충분한 반사 방지 효과가 얻어지지 않는 경우가 있기 때문이다. 또한, 이러한 이유 때문에, 성분 (E)의 첨가량을 5 내지 70 질량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 5 내지 50 질 량%의 범위 내의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다. Although content in particular of component (E) in curable resin composition of this invention is not restrict | limited, Usually, it is 5-80 mass% with respect to 100 mass% of composition total amounts except the organic solvent. The reason is that the scratch resistance of the cured coating film of the curable resin composition may not be obtained when the addition amount is less than 5 mass%. On the other hand, when the addition amount exceeds 80 mass%, the refractive index of the cured coating film of the curable resin composition is It is because it may become high and sufficient antireflection effect may not be acquired. Moreover, for this reason, it is more preferable to make the addition amount of a component (E) into 5 to 70 mass%, and it is still more preferable to set it as the value within the range of 5 to 50 mass%.

(F) 광 라디칼 중합 개시제(F) radical photopolymerization initiator

본 발명의 경화성 수지 조성물에서는, 필요에 따라서 방사선(광) 조사에 의해 활성 라디칼종을 발생시키는 (F) 광 라디칼 중합 개시제(방사선(광) 중합 개시제)를 배합할 수 있다. In the curable resin composition of this invention, the (F) radical photopolymerization initiator (radiation (photo) polymerization initiator) which generate | occur | produces an active radical species by radiation (light) irradiation can be mix | blended as needed.

방사선(광) 중합 개시제로는, 광 조사에 의해 분해되어 라디칼을 발생시켜 중합을 개시시키는 것이라면 특별히 제한은 없고, 예를 들어 아세토페논, 아세토페논벤질케탈, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 크산톤, 플루오레논, 벤즈알데히드, 플루오렌, 안트라퀴논, 트리페닐아민, 카르바졸, 3-메틸아세토페논, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디메톡시벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 벤조인프로필에테르, 벤조인에틸에테르, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 티오크산톤, 디에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1,4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드, 올리고(2-히드록시-2-메틸-1-(4-(1-메틸비닐)페닐)프로파논) 등을 들 수 있다.The radiation (photo) polymerization initiator is not particularly limited as long as it is decomposed by light irradiation to generate radicals to initiate polymerization. For example, acetophenone, acetophenonebenzyl ketal, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2 , 2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone , 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, benzoin propylether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy- 2-methylpropane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethyl thioxanthone, 2-isopropyl thioxanthone, 2-chlorothioke Santone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl)- Butanone-1,4- (2-hydroxye Phenyl) (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentyl Phosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone), and the like.

방사선(광) 중합 개시제의 시판품으로는, 예를 들면 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미칼즈사 제조의 상품명: 이르가큐어(Irgacure) 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI1850, CG24-61, 다로큐어 1116, 1173, BASF사 제조의 상품명: 루실린 TPO, UCB사 제조의 상품명: 유베크릴 P36, 프라테츠리ㆍ란벨티사 제조의 상품명: 에자큐어 KIP150, KIP65LT, KIP100F, KT37, KT55, KT046, KIP75/B 등을 들 수 있다. As a commercial item of a radiation (photo) polymerization initiator, the brand name of the Shiva specialty chemicals company make, for example: Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI1850, CG24-61, Tarocure 1116, 1173, BASF make, brand name: Lucillin TPO, UCB make, trade name: Uvecryl P36, Pratetsu, Ranvelte, make: trade name Ezacure KIP150, KIP65LT, KIP100F, KT37, KT55, KT046, KIP75 / B, etc. are mentioned.

본 발명에서 필요에 따라서 사용되는 광 라디칼 중합 개시제 (F)의 배합량은, 유기 용제를 제외한 조성물 전체량을 100 질량%로 하여, 0.01 내지 10 질량%를 배합하는 것이 바람직하고, 0.1 내지 10 질량%가 보다 바람직하다. 0.01 질량% 미만이면, 경화물로 만들었을 때의 경도가 불충분해지는 경우가 있고, 10 질량%를 초과하면, 경화물로 만들었을 때에 내부(하층)까지 경화되지 않는 경우가 있다. As for the compounding quantity of the radical photopolymerization initiator (F) used as needed in this invention, it is preferable to mix | blend 0.01-10 mass%, making the whole composition amount except the organic solvent 100 mass%, and 0.1-10 mass% Is more preferable. If it is less than 0.01 mass%, the hardness when it is made into hardened | cured material may become inadequate, and when it exceeds 10 mass%, it may not be hardened to the inside (lower layer) when it is made into hardened | cured material.

(G) 기타 성분(G) other ingredients

본 발명의 경화성 조성물에는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 필요에 따라서 광증감제, 중합 금지제, 중합 개시 보조제, 레벨링제, 습윤성 개량제, 계면활성제, 가소제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 대전 방지제, 무기 충전제, 안료, 염료, 용제 (C) 및 (D) 이외의 용제 등을 적절하게 배합할 수 있다. In the curable composition of this invention, as long as the effect of this invention is not impaired, a photosensitizer, a polymerization inhibitor, a polymerization start adjuvant, a leveling agent, a wettability improving agent, surfactant, a plasticizer, a ultraviolet absorber, antioxidant, an electrification charge An inhibitor, an inorganic filler, a pigment, dye, solvents other than solvent (C) and (D), etc. can be mix | blended suitably.

2. 경화성 수지 조성물의 제조 방법2. Manufacturing method of curable resin composition

본 발명의 조성물은 다음과 같이 하여 제조할 수 있다. The composition of this invention can be manufactured as follows.

주석 함유 산화인듐 입자 분산액((A) 성분), 에틸렌성 불포화기 함유 불소 중합체((B) 성분), 에틸렌성 불포화기 함유 불소 중합체의 용해성이 높은 용제((C) 용제), 및 주석 함유 산화인듐 입자의 분산 안정성이 높으며, 또한 (C)의 용제와 상용성인 용제((D) 용제), 필요에 따라서 다관능 (메트)아크릴레이트((E) 성분), 방사선(광) 중합 개시제((F) 성분) 등을 교반기가 부착된 반응 용기에 넣고, 35 ℃ 내지 45 ℃에서 2 시간 동안 교반하여 본 발명의 경화성 수지 조성물을 제조한다.Highly soluble solvent of tin-containing indium oxide particle dispersion (component (A)), ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer (component (B)), ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer ((C) solvent), and tin-containing oxidation Dispersion stability of indium particles is high and is compatible with the solvent of (C) ((D) solvent), if necessary, polyfunctional (meth) acrylate (component (E)), radiation (photo) polymerization initiator (( F) component) and the like are placed in a reaction vessel with a stirrer and stirred at 35 ° C to 45 ° C for 2 hours to prepare a curable resin composition of the present invention.

용제를 최초의 입자 분산액에 사용한 용제 (α)와 다른 종류의 용제 (β)로 치환하는 경우에는, 입자 분산액의 용제 (α)의 질량에 대하여 1.0배의 용제 (β)를 첨가하여 동일한 조건에서 교반한다. 그 다음, 이 조성액을, 회전 증발기를 이용하여 고형분 농도 50 %가 되는 질량까지 감압 농축하여 본 발명의 조성물을 제조한다.When the solvent is substituted with the solvent (α) used for the first particle dispersion and a different solvent (β), 1.0 times the solvent (β) is added to the mass of the solvent (α) of the particle dispersion under the same conditions. Stir. Then, this composition liquid is concentrated under reduced pressure to the mass which becomes 50% of solid content concentration using the rotary evaporator, and the composition of this invention is manufactured.

3. 경화성 수지 조성물의 도포(코팅) 방법3. Coating (Coating) Method of Curable Resin Composition

본 발명의 경화성 수지 조성물은 반사 방지막이나 피복재의 용도로 바람직하고, 반사 방지나 피복의 대상이 되는 기재로는, 예를 들면 플라스틱(폴리카르보네이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리에스테르, 폴리올레핀, 에폭시, 멜라민, 트리아세틸셀룰로오스, ABS, AS, 노르보르넨계 수지 등), 금속, 목재, 종이, 유리, 슬레이트 등을 들 수 있다. 이들 기재의 형상은 판상, 필름상 또는 3차원 성형체일 수도 있고, 코팅 방법은 통상적인 코팅 방법, 예를 들면 침지 코팅, 분무코팅, 플로우 코팅, 샤워 코팅, 롤 코팅, 스핀 코팅, 브러쉬 코팅 등을 들 수 있다. 이들 코팅에 의한 도막의 두께는, 건조 및 경화 후, 통상적으로는 0.1 내지 400 ㎛이고, 바람직하게는 1 내지 200 ㎛이다. Curable resin composition of this invention is suitable for the use of an anti-reflective film and a coating material, As a base material which is an object of reflection prevention or a coating, it is plastic (polycarbonate, polymethacrylate, polystyrene, polyester, polyolefin, for example). , Epoxy, melamine, triacetyl cellulose, ABS, AS, norbornene-based resin, etc.), metal, wood, paper, glass, slate and the like. The shape of these substrates may be plate-like, film-like or three-dimensional shaped bodies, and the coating method may be a conventional coating method such as dip coating, spray coating, flow coating, shower coating, roll coating, spin coating, brush coating, or the like. Can be mentioned. The thickness of the coating film by these coatings is 0.1-400 micrometers normally after drying and hardening, Preferably it is 1-200 micrometers.

4. 경화성 수지 조성물의 경화 방법4. Curing method of curable resin composition

본 발명의 경화성 수지 조성물은 방사선(광)에 의해서 경화시킬 수 있다. 그의 선원(線源)으로는, 조성물을 코팅한 후 이를 단시간에 경화시킬 수 있는 것이라면 특별히 제한은 없지만, 예를 들어 적외선의 선원으로서, 램프, 저항 가열판, 레이저 등을 들 수 있고, 또한 가시광선의 선원으로서, 일광, 램프, 형광등, 레이저 등을 들 수 있고, 또한 자외선의 선원으로서, 수은 램프, 할로겐 램프, 레이저 등을 들 수 있고, 또한 전자선의 선원으로서, 시판되고 있는 텅스텐 필라멘트로부터 발생하는 열 전자를 이용하는 방식, 금속에 고전압 펄스를 통과시켜 발생시키는 냉음극 방식, 및 이온화된 가스상 분자와 금속 전극과의 충돌에 의해 발생하는 2차 전자를 이용하는 2차 전자 방식을 들 수 있다. 또한, 알파선, 베타선 및 감마선의 선원으로서, 예를 들면 60Co 등의 핵 분열 물질을 들 수 있고, 감마선의 경우, 가속 전자를 양극에 충돌시키는 진공관 등을 이용할 수 있다. 이들 방사선은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 동시에 또는 일정 기간을 두고 조사할 수 있다. Curable resin composition of this invention can be hardened by radiation (light). The source thereof is not particularly limited as long as it can be cured in a short time after coating the composition. For example, as a source of infrared rays, a lamp, a resistance heating plate, a laser, and the like can be cited. Examples of the source include daylight, lamps, fluorescent lamps, lasers, and the like. Mercury lamps, halogen lamps, lasers, and the like may be used as the source of ultraviolet rays, and heat generated from commercially available tungsten filaments as a source of electron beams. The electron system, the cold cathode system which generate | occur | produces by passing a high voltage pulse through metal, and the secondary electron system which uses the secondary electron which generate | occur | produces by collision of ionized gaseous molecule and a metal electrode are mentioned. As the source of alpha rays, beta rays, and gamma rays, for example, fission materials such as 60 Co may be mentioned. In the case of gamma rays, a vacuum tube may be used to impinge the accelerated electrons to the anode. These radiations can be irradiated alone or in combination of two or more thereof over a period of time.

활성 에너지선을 이용한 경우, 노광량을 0.01 내지 10 J/cm2의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다. 그 이유는, 노광량이 0.01 J/cm2 미만이면, 경화 불량이 발생하는 경우가 있기 때문이고, 한편 노광량이 10 J/cm2를 초과하면, 경화 시간이 과도하게 길어지는 경우가 있기 때문이다. 또한, 이러한 이유에 의해, 노광량을 0.1 내지 5 J/cm2의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.3 내지 3 J/cm2의 범위 내의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다.When using an active energy ray, it is preferable to make an exposure amount into the value within the range of 0.01-10 J / cm <2> . The reason is that the exposure amount is 0.01 J / cm 2 It is because hardening defect may generate | occur | produce if it is less than the case, and hardening time may become excessively long when an exposure amount exceeds 10 J / cm < 2 >. Further, it is more preferable For these reasons, the exposure dose is more preferably in the range of 0.1 to 5 J / cm 2, and in the range of 0.3 to 3 J / cm 2.

본 발명의 경화성 수지 조성물의 경화 반응은, 질소 등의 혐기적 조건하에서 행할 필요가 있다. 그 이유는, 산소에 의해 라디칼 중합이 저해되는 결과, 경화 반응이 불충분해지기 때문이다. It is necessary to perform hardening reaction of curable resin composition of this invention under anaerobic conditions, such as nitrogen. This is because radical polymerization is inhibited by oxygen, resulting in insufficient curing reaction.

II. 경화막II. Cured film

본 발명의 경화막은 상기 본 발명의 경화성 수지 조성물을 경화시켜 얻어지고, 2층 이상의 다층 구조를 갖는 것을 특징으로 한다. 특히, 상기 (A) 주석 함유 산화인듐 입자((A) 성분의 입자)가 고밀도로 존재하는 1개 이상의 층과, 상기 (A) 성분의 입자가 실질적으로 존재하지 않는 1개 이하의 층을 포함하는 2층 이상의 층 구조를 갖는 것이 바람직하다. The cured film of this invention is obtained by hardening | curing the curable resin composition of the said invention, It has a multilayer structure of two or more layers, It is characterized by the above-mentioned. In particular, the (A) tin-containing indium oxide particles (particles of the component (A)) include at least one layer having a high density, and one or more layers substantially free of the particles of the component (A). It is preferable to have a layer structure of two or more layers.

본 발명의 경화막은, 상기 경화성 수지 조성물을 각종 기재, 예를 들면 플라스틱 기재에 코팅하여 경화시킴으로써 얻을 수 있다. 구체적으로는, 조성물을 코팅하고, 바람직하게는 0 내지 200 ℃에서 휘발 성분을 건조시킨 후, 상술한 방사선으로 경화 처리를 행함으로써 피복 성형체로서 얻을 수 있다. 이러한 경우, 바람직한 자외선의 조사 광량은 0.01 내지 10 J/cm2이고, 보다 바람직하게는 0.1 내지 2 J/cm2이다. 또한, 바람직한 전자선의 조사 조건은, 가압 전압 10 내지 300 KV, 전자 밀도 0.02 내지 0.30 mA/cm2 및 전자선 조사량 1 내지 10 Mrad이다.The cured film of this invention can be obtained by coating the said curable resin composition on various base materials, for example, a plastic base material, and hardening it. Specifically, it is possible to obtain a coating molded product by coating the composition, drying the volatile component at 0 to 200 ° C., and then performing a curing treatment with the above-described radiation. In this case, the preferable irradiation light amount of ultraviolet-ray is 0.01-10 J / cm <2> , More preferably, it is 0.1-2 J / cm <2> . Moreover, irradiation conditions of a preferable electron beam are 10-300 KV of pressurized voltages, 0.02-0.30 mA / cm <2> of electron densities, and 1-10 Mrad of electron beam irradiation amounts.

경화성 수지 조성물을 도포한 후, 조성물 중의 용제 (C) 및 용제 (D)가 증발하여 건조되는 과정에서, (A) 성분의 입자가 도포 하지(下地)측(인접층과의 경계 부근) 또는 그의 반대측에 편재화된다. 그 때문에, 경화막의 한쪽 계면 부근에서 는, (A) 성분의 입자가 고밀도로 존재하고, 경화막의 다른쪽 계면 부근에서는, (A) 성분의 입자가 실질적으로 존재하지 않기 때문에, 저굴절률의 수지층이 형성된다. 따라서, 경화성 수지 조성물로 이루어지는 하나의 도막을 경화시킴으로써, 실질적으로 2층 이상의 층 구조를 갖는 경화막이 얻어진다. 분리되어 형성되는 각 층은, 예를 들면 얻어진 막의 단면을 전자 현미경으로 관찰함으로써 확인할 수 있다. (A) 성분의 입자가 고밀도로 존재하는 층이란, (A) 성분의 입자가 집합되어 있는 부분을 가리키는 개념이고, 실질적으로 (A) 성분의 입자를 주성분으로 하여 구성된 층이지만, 층 내부에 (B) 성분 등이 공존하는 경우가 있다. 한편, (A) 성분의 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층이란, (A) 성분의 입자가 존재하지 않는 부분을 가리키는 개념이지만, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 (A) 성분의 입자가 약간 포함되어 있을 수도 있다. 이 층은, 실질적으로 (B) 성분과 (E) 성분의 경화물 등의 (A) 성분의 입자 이외의 성분으로 구성된 층이다. 본 발명의 경화막은 대부분 (A) 성분의 입자가 고밀도로 존재하는 층과 (A) 성분의 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층이 각각 연속된 층을 형성한 2층 구조를 갖는다. 기재에 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 수지(접착 용이층을 갖는 PET 수지를 포함함) 등을 이용한 경우에는, 통상적으로 기재인 층, (A) 성분의 입자가 고밀도로 존재하는 층, 및 (A) 성분의 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층이, 이 순서대로 인접하여 형성된다. After apply | coating curable resin composition, in the process of evaporating and drying the solvent (C) and solvent (D) in a composition, the particle | grains of (A) component apply | coated to the base side (near boundary with an adjacent layer) or its It is localized on the other side. Therefore, since the particle | grains of (A) component exist in high density near one interface of a cured film, and the particle | grains of (A) component do not exist substantially in the vicinity of the other interface of a cured film, the resin layer of low refractive index Is formed. Therefore, the cured film which has a layer structure of two or more layers substantially is obtained by hardening | curing one coating film which consists of curable resin composition. Each layer formed separately can be confirmed by observing the cross section of the obtained film | membrane with an electron microscope, for example. The layer in which the particles of the component (A) are present at a high density is a concept indicating a portion where the particles of the component (A) are aggregated, and is a layer substantially composed of the particles of the component (A) as a main component. B) A component etc. may coexist. On the other hand, the layer in which the particle | grains of (A) component do not exist substantially is a concept which shows the part which the particle | grains of (A) component do not exist, but the particle of (A) component does not fall within the range which does not impair the effect of this invention. It may be included a bit. This layer is a layer comprised substantially from components other than particle | grains of (A) component, such as hardened | cured material of (B) component and (E) component. The cured film of this invention has a 2-layered structure in which the layer in which the particle | grains of (A) component existed at high density, and the layer in which the particle | grains of (A) component substantially do not exist substantially each formed the continuous layer was formed. When a polyethylene terephthalate (PET) resin (including a PET resin having an easy adhesion layer) is used as the substrate, a layer which is usually a substrate, a layer in which particles of component (A) are present at a high density, and (A) Layers in which substantially no particles of the component are present are formed adjacent to each other in this order.

여기서, 2층 이상의 층 구조란, 「(A) 성분의 입자가 고밀도로 존재하는 층」과, 「(A) 성분의 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층」 둘 다를 함께 포함하는 2개 이상의 층을 포함하는 경우도 있고, 또한 2개 이상의 「주석 함유 산화인듐 입자가 고밀도로 존재하는 층」만으로 이루어지는 경우가 있다. Here, the layer structure of two or more layers means two or more layers including both "a layer in which particles of component (A) are present at high density" and "a layer in which particles of component (A) are substantially free". It may contain, and may consist only of two or more "layers in which a tin-containing indium oxide particle exists in high density."

본 발명의 경화성 수지 조성물 중의 (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체는, 열경화성 수지(예를 들면, 멜라민 화합물)에 비해 굴절률이 낮아, 반사 방지막의 저굴절률층으로서 바람직한 광학적 특성을 갖는다. 또한, (A) 주석 함유 산화인듐 입자로서, 투명성이 높고 도전성이 우수한 주석 함유 산화인듐 입자의 IPA 분산액을 이용함으로써, 더욱 우수한 광학 특성 및 대전 방지성을 갖는 반사 방지막을 형성할 수 있다. The (B) ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer in the curable resin composition of the present invention has a lower refractive index than a thermosetting resin (for example, a melamine compound) and has preferable optical properties as a low refractive index layer of an antireflection film. As the (A) tin-containing indium oxide particles, by using an IPA dispersion of tin-containing indium oxide particles having high transparency and excellent conductivity, an antireflection film having more excellent optical characteristics and antistatic properties can be formed.

본 발명의 경화막은 고경도임과 동시에, 내찰상성, 및 기재나 저굴절률층 등의 인접층과 기재의 밀착성이 우수한 도막(피막)을 형성할 수 있는 특징을 갖는다. 또한, 경화 반응에 열을 이용하지 않아, 열 경화 반응에서 발생하는 가수분해 반응을 수반하지 않기 때문에, 얻어지는 경화막은 내습열성이 우수하다. 따라서, 본 발명의 경화막은 필름형 액정 소자, 터치 패널, 플라스틱 광학 부품 등의 반사 방지막 등에 특히 바람직하게 이용된다. While the cured film of this invention is high hardness, it has a characteristic which can form the coating film (film | film | coat) excellent in abrasion resistance and adhesiveness of adjacent layers, such as a base material and a low refractive index layer, and a base material. Moreover, since heat is not used for hardening reaction and does not accompany the hydrolysis reaction which arises in a thermosetting reaction, the cured film obtained is excellent in moisture heat resistance. Therefore, the cured film of this invention is used especially suitably for anti-reflective films, such as a film type liquid crystal element, a touch panel, and a plastic optical component.

굴절률의 변화 정도는 (A) 성분의 함유량, (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체의 함유량, 조성, 및 (E) 성분(경화성 화합물)의 함유량, 종류 등에 의해 조정될 수 있다.The degree of change in the refractive index can be adjusted by the content of the component (A), the content of the (B) ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer, the composition, the content of the (E) component (curable compound), and the like.

또한, 경화막의 저굴절률 부분에서의 굴절률은, 예를 들면 1.20 내지 1.55이고, 고굴절률 부분에서의 굴절률은 1.50 내지 2.20이다. In addition, the refractive index in the low refractive index part of a cured film is 1.20-1.55, for example, and the refractive index in the high refractive index part is 1.50-2.20.

III. 적층체III. Laminate

본 발명의 경화성 수지 조성물로부터 얻어지는 2층 이상의 층 구조를 갖는 경화막이 적층 구조의 일부인 적층체를 얻을 수 있다. 적층체를 구성하는 기재층 이외의 임의의 2개 이상의 인접층은, 본 발명의 경화성 수지 조성물의 경화막으로서 제조할 수 있다. The laminated body whose cured film which has a layer structure of two or more layers obtained from curable resin composition of this invention is a part of laminated structure can be obtained. Any two or more adjacent layers other than the base material layer which comprises a laminated body can be manufactured as a cured film of curable resin composition of this invention.

적층체는, 예를 들면 기재가 투명 기재인 경우, 최외층(기재로부터 가장 먼 층)에 저굴절률층을 설치함으로써 우수한 반사 방지막이 된다. 적층체는, 반사 방지막 이외에도, 예를 들면 렌즈, 선택 투과막 필터 등의 광학용 부품에 사용할 수 있다. For example, when the substrate is a transparent substrate, the laminate has an excellent antireflection film by providing a low refractive index layer in the outermost layer (the layer furthest from the substrate). The laminated body can be used for optical components, such as a lens and a selective permeable membrane filter, in addition to an antireflection film.

반사 방지막의 구체적인 층 구성은 특별히 한정되지 않는다. 통상적인 반사 방지막은, 기재 상에 적어도 고굴절률막 및 저굴절률막을 이 순서대로 적층함으로써 반사 방지 기능을 갖게 한 것이다. 적층체의 층 구성의 일부에는, 이 외에도 하드 코팅층, 대전 방지층 등을 포함시킬 수 있다. 본 발명의 경화성 수지 조성물을 경화시킴으로써 얻어지는 경화막은, 기재 상에 고굴절률층 및 저굴절률층을 하나의 공정에 의해 형성할 수 있기 때문에, 제조 공정의 간략화가 가능하다. The specific layer structure of an antireflection film is not specifically limited. A typical antireflection film is provided with an antireflection function by laminating at least a high refractive index film and a low refractive index film on the substrate in this order. In addition, a part of the laminated constitution of the laminate may include a hard coating layer, an antistatic layer, and the like. Since the cured film obtained by hardening | curing curable resin composition of this invention can form a high refractive index layer and a low refractive index layer on a base material by one process, the manufacturing process can be simplified.

본 발명의 경화막은 통상적으로 고굴절률층 및 저굴절률층의 2층으로 이루어지고, 이것을 기재 상에 형성함으로써 반사 방지막으로서 바람직한 적층체를 형성할 수 있다. 이러한 적층체의 전형적인 예인 반사 방지막을 도 1에 나타낸다. 기재 (10) 상에 하드 코팅층 (12)를 설치하고, 그 위에 본 발명의 경화성 수지 조성물을 도포하여 경화시킴으로써 고굴절률층 (14) 및 저굴절률층 (16)이 형성된다. The cured film of this invention consists of two layers, a high refractive index layer and a low refractive index layer normally, and can form a laminated body suitable as an antireflection film by forming this on a base material. An antireflection film which is a typical example of such a laminate is shown in FIG. 1. The high refractive index layer 14 and the low refractive index layer 16 are formed by providing the hard-coat layer 12 on the base material 10, apply | coating and hardening curable resin composition of this invention on it.

반사 방지막은 이들 이외의 층을 더 가질 수도 있고, 예를 들면 고굴절률막 과 저굴절률막의 조합을 복수개 설치하여 넓은 파장 범위의 빛에 대하여 비교적 균일한 반사율 특성을 갖는, 소위 와이드 밴드(wide band)의 반사 방지막으로 만들 수도 있으며, 대전 방지층을 설치할 수도 있다. The anti-reflection film may further have other layers, for example, a so-called wide band having a relatively uniform reflectance characteristic for light of a wide wavelength range by providing a plurality of combinations of a high refractive index film and a low refractive index film. The antireflection film may be made, or an antistatic layer may be provided.

기재로는 특별히 제한은 없지만, 반사 방지막으로서 이용하는 경우, 예를 들면 상술한 플라스틱(PET, 폴리카르보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리에스테르, 폴리올레핀, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 수지, ABS 수지, AS 수지, 노르보르넨계 수지 등) 등을 들 수 있다. Although there is no restriction | limiting in particular as a base material, When using as an anti-reflective film, For example, the above-mentioned plastics (PET, polycarbonate, polymethylmethacrylate, polystyrene, polyester, polyolefin, epoxy resin, melamine resin, triacetyl cellulose) (TAC) resin, ABS resin, AS resin, norbornene-type resin, etc.) are mentioned.

상기 본 발명의 경화성 수지 조성물을 기재 상에 도포하고, UV 경화시켜 얻어진 본 발명의 경화물은, 내찰상성(스틸 울(steel wool) 내성) 및 헤이즈가 우수하며 고경도이다. The cured product of the present invention obtained by applying the curable resin composition of the present invention on a substrate and UV curing is excellent in scratch resistance (steel wool resistance) and haze, and has high hardness.

본 발명의 적층체는, 내찰상성 및 헤이즈가 우수하고, 또한 내습열성이 우수하기 때문에, 필름형 액정 소자, 터치 패널, 플라스틱 광학 부품 등의 반사 방지막으로서 특히 바람직하게 이용된다. Since the laminated body of this invention is excellent in scratch resistance and haze, and excellent in heat-and-moisture resistance, it is especially preferably used as an anti-reflective film, such as a film type liquid crystal element, a touch panel, a plastic optical component.

[실시예]EXAMPLE

이하, 실시예를 제시하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명의 범위는 이들 실시예의 기재로 한정되지 않는다. 또한, 실시예 중, 각 성분의 배합량은 특별히 기재하지 않는 한, 「부」는 질량부를, 「%」는 질량%를 의미한다. EXAMPLES Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated in more detail, the scope of the present invention is not limited to description of these Examples. In addition, in the Example, unless otherwise indicated, the compounding quantity of each component "part" means a mass part and "%" means the mass%.

제조예 1: 수산기 함유 불소-함유 중합체 (b-1)의 제조Preparation Example 1: Preparation of hydroxyl-containing fluorine-containing polymer (b-1)

내용적 1.5 L의 전자 교반기가 부착된 스테인레스제 오토클레이브를 질소 가스로 충분히 치환한 후, 아세트산에틸 800 g, 1-비닐옥시- 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-헵타데카플루오로데칸 165.5 g, 에틸비닐에테르 16.2 g, 히드록시에틸비닐에테르 49.5 g, 아조기 함유 폴리디메틸실록산으로서 「VPS-1001」(와코 쥰야쿠 고교 가부시끼가이샤 제조) 12.0 g 및 과산화라우로일 2.0 g을 첨가하고, 드라이아이스-메탄올로 -50 ℃까지 냉각시킨 후, 재차 질소 가스로 계 내의 산소를 제거하였다. After fully replacing the autoclave made of stainless steel with an internal volume 1.5 L stirrer with nitrogen gas, 800 g of ethyl acetate, 1, vinyloxy-3,3,4,4,5,5,6,6,7 "VPS-1001" as 165.5 g of 7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecane, 16.2 g of ethyl vinyl ether, 49.5 g of hydroxyethyl vinyl ether, and azo group-containing polydimethylsiloxane. (Made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 12.0 g and 2.0 g of lauroyl peroxide were added, and after cooling to dryness-methanol to -50 degreeC, oxygen in a system was removed again by nitrogen gas.

이어서, 헥사플루오로프로필렌 202.6 g을 첨가하여 승온을 개시하였다. 70 ℃의 교반하에서 반응을 계속하고, 20 시간 후에 수냉하여 반응을 정지시켰다. 실온에 도달한 후, 미반응 단량체를 꺼내고, 오토클레이브를 개방하여 고형분 농도 22 %의 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액을 메탄올에 투입하여 중합체를 석출시킨 후, 메탄올로 세정하고, 50 ℃에서 진공 건조를 행하여 264 g의 불소-함유 중합체 (b-1)을 얻었다. Then, 202.6 g of hexafluoropropylene was added to start the temperature increase. The reaction was continued under stirring at 70 ° C., and water cooled after 20 hours to terminate the reaction. After reaching room temperature, the unreacted monomer was taken out, the autoclave was opened, and the polymer solution of 22% of solid content concentration was obtained. The obtained polymer solution was thrown into methanol, and the polymer was deposited, washed with methanol, and vacuum dried at 50 deg. C to obtain 264 g of fluorine-containing polymer (b-1).

제조예 2: 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체(F 중합체 1)의 제조Preparation Example 2 Preparation of Ethylenic Unsaturation-Containing Fluorine-Containing Polymer (F Polymer 1)

전자 교반기, 유리제 냉각관 및 온도계를 구비한 1 리터 용량의 분리 플라스크에, 제조예 1에서 얻어진 수산기 함유 불소-함유 중합체 (b-1)을 63.00 g, 중합 금지제로서 2,6-디-t-부틸메틸페놀 0.01 g 및 MIBK 442 g을 넣고, 20 ℃에서 수산기 함유 불소-함유 중합체 (b-1)이 MIBK에 용해되어, 용액이 투명하고 균일하게 될 때까지 교반을 행하였다. 이어서, 이 계에, 2-아크릴로일옥시 에틸이소시아네이트15.01 g을 첨가하고, 용액이 균일하게 될 때까지 교반한 후, 디부틸주석디라우레이트 0.16 g을 첨가하여 반응을 개시하고, 계의 온도를 55 내지 65 ℃로 유지하여 5 시간 교반을 계속함으로써 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체(F 중합체 1) 의 MIBK 용액을 얻었다. 이 용액을 알루미늄 접시에 2 g 칭량 후, 150 ℃의 핫 플레이트 상에서 5 분간 건조 및 칭량하여 고형분 함량을 구한 결과, 15 %였다. In a 1 liter volumetric flask equipped with an electronic stirrer, a glass cooling tube and a thermometer, 63.00 g of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer (b-1) obtained in Production Example 1 and 2,6-di-t as a polymerization inhibitor 0.01 g of butylmethylphenol and 442 g of MIBK were added and stirring was carried out until the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer (b-1) was dissolved in MIBK at 20 ° C, and the solution became transparent and uniform. Subsequently, 15.01 g of 2-acryloyloxy ethyl isocyanate is added to the system, stirred until the solution becomes uniform, and then 0.16 g of dibutyltin dilaurate is added to start the reaction, and the temperature of the system is increased. Was maintained at 55 to 65 ° C and stirring was continued for 5 hours to obtain a MIBK solution of an ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer (F polymer 1). After weighing 2 g of this solution to the aluminum dish, it dried and weighed for 5 minutes on the 150 degreeC hotplate, and calculated | required solid content, and it was 15%.

얻어진 F 중합체 1의 겔 투과 크로마토그래피에 의한 폴리스티렌 환산 수평균 분자량은 29,600이고, 불소 함량은 49 질량%였다. The polystyrene reduced number average molecular weight by gel permeation chromatography of the obtained F polymer 1 was 29,600, and the fluorine content was 49 mass%.

실시예 1 Example 1

경화성 수지 조성물 1의 제조 Preparation of Curable Resin Composition 1

ITO 입자 졸 260 g(NID-20, 후지 가가꾸 제조 ITO 분산액(이소프로필알코올(IPA) 용액), 입자로서 52.0 g), 제조예 2에서 얻어진 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체(F 중합체 1) 215.5 g(에틸렌성 불포화기 함유 불소 중합체로서 32.3 g), 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트(SR-399E, 닛본 가야꾸사 제조) 17.1 g, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부타논(이르가큐어 369, 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미칼즈사 제조, 광 라디칼 중합 개시제) 2.56 g, 메틸에틸케톤 206 g, 메틸이소부틸케톤 186 g, 이소프로판올 23 g, 노르말 부탄올 45 g, 메틸아밀케톤 45 g을 첨가하여 교반하였다. 얻어진 경화성 수지 조성물의 고형분 농도는 10.4 %였다. 배합한 용제비를 표 1에 나타낸다. 260 g of ITO particle sol (NID-20, an ITO dispersion manufactured by Fuji Chemical Corporation (isopropyl alcohol (IPA) solution), 52.0 g as particles), an ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer obtained in Production Example 2 (F polymer 1 ) 215.5 g (32.3 g as ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer), dipentaerythritol pentaacrylate (SR-399E, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 17.1 g, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4- Morpholinophenyl) -1-butanone (Irgacure 369, Shiva Specialty Chemicals make, radical photopolymerization initiator) 2.56 g, methyl ethyl ketone 206 g, methyl isobutyl ketone 186 g, isopropanol 23 g, normal 45 g of butanol and 45 g of methyl amyl ketone were added and stirred. Solid content concentration of the obtained curable resin composition was 10.4%. The solvent ratio which mix | blended is shown in Table 1.

또한, 로트가 다른 3 종류의 ITO 분산액을 이용하여, 3 가지의 경화성 수지 조성물 샘플을 제조하였다. In addition, three types of curable resin composition samples were prepared using three types of ITO dispersions with different lots.

실시예 2 내지 4 Examples 2-4

경화성 수지 조성물 2 내지 4의 제조 Preparation of Curable Resin Compositions 2 to 4

각 고형 성분을 표 1에 나타내는 비율로 배합한 것 이외에는, 실시예 1과 동 일하게 하여 경화성 수지 조성물 2 내지 6을 얻었다. 이 때, 실시예 1과 동일한 표 1과 동일한 용제비가 되도록 용제를 배합하였다. 또한, 경화성 수지 조성물 2 내지 4에 대해서도, 로트가 다른 3 종류의 ITO 분산액을 이용하여, 각 3종의 경화성 수지 조성물 샘플을 제조하였다. Except having mix | blended each solid component in the ratio shown in Table 1, it carried out similarly to Example 1, and obtained curable resin compositions 2-6. At this time, the solvent was mix | blended so that it might become the same solvent ratio as Table 1 similar to Example 1. In addition, about curable resin compositions 2-4, each of three types of curable resin composition samples was manufactured using three types of ITO dispersions from which a lot differs.

또한, 상기 실시예 1 내지 4에서 제조한 경화성 수지 조성물 1 내지 4(각 3종의 샘플을 사용)를 이용하여, 각각 3개의 경화막 샘플을 제조하고, 경화막의 특성을 평가하였다. 경화막의 제조 방법은 하기와 같다. In addition, three cured film samples were produced, respectively, using curable resin compositions 1-4 (each of 3 types of samples) manufactured in the said Examples 1-4, and the characteristic of the cured film was evaluated. The manufacturing method of a cured film is as follows.

실리카 입자 졸(메틸에틸케톤 실리카 졸, 닛산 가가꾸 고교(주) 제조의 MEK-ST, 수평균 입경 0.022 ㎛, 실리카 농도 30 %) 98.6 g, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 2.1 g, 이르가큐어 907(2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미칼즈 제조) 1.2 g, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA) 33.2 g, 시클로헥사논 7 g을 혼합 교반하여, 실리카 입자 함유 하드 코팅층용 조성물을 얻었다. 이 실리카 입자 함유 하드 코팅층용 조성물을 와이어 바 코터(#12)를 이용하여 트리아세틸셀룰로오스 필름(후지 샤신 필름(주) 제조, 막 두께 80 ㎛)에 도공한 후, 오븐 중 80 ℃에서 2 분간 건조시켰다. 이어서, 공기하에 고압 수은 램프를 이용하여 0.3 J/cm2의 광 조사 조건에서 자외선을 조사함으로써 하드 코팅층을 형성하였다. 하드 코팅층의 막 두께를 촉침식 막 두께 측정계로써 측정한 결과 5 ㎛였다. Silica particle sol (methyl ethyl ketone silica sol, MEK-ST manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., number average particle diameter 0.022 µm, silica concentration 30%) 98.6 g, 1 g of 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, Irga Cure 907 (2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 1.2 g, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA ) 33.2 g and 7 g of cyclohexanone were mixed and stirred to obtain a composition for a silica particle-containing hard coating layer. This silica particle-containing hard coating layer composition was coated on a triacetyl cellulose film (manufactured by Fuji Shashin Film Co., Ltd., film thickness of 80 μm) using a wire bar coater (# 12), and then dried at 80 ° C. in an oven for 2 minutes. I was. Subsequently, a hard coat layer was formed by irradiating ultraviolet rays under light irradiation conditions of 0.3 J / cm 2 using a high pressure mercury lamp under air. It was 5 micrometers when the film thickness of the hard-coat layer was measured with the stylus type film thickness meter.

얻어진 하드 코팅층 위에, 와이어 바 코터(#3)을 이용하여, 상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1, 2에서 얻어진 경화성 수지 조성물을 도공한 후, 오븐 중 80 ℃에서 2 분간 건조시켰다. 이어서, 질소 분위기하에 고압 수은 램프를 이용하여 0.9 J/cm2의 광 조사 조건에서 자외선을 조사함으로써, 막 두께가 0.2 ㎛인 경화막층을 형성하였다. On the obtained hard coat layer, the curable resin composition obtained by the said Examples 1-4 and Comparative Examples 1 and 2 was coated using the wire bar coater (# 3), and it dried at 80 degreeC in oven for 2 minutes. Subsequently, under a nitrogen atmosphere, ultraviolet rays were irradiated under a light irradiation condition of 0.9 J / cm 2 using a high pressure mercury lamp to form a cured film layer having a thickness of 0.2 μm.

<경화막의 평가>Evaluation of Curing Film

(1) 층 분리성(1) layer separation

얻어진 경화막의 단면을 현미경으로 관찰하여, 2층으로 분리되었는지 여부를 평가하였다. 평가 기준은 다음과 같다. 하기 평가 기준의 전형적인 예를 도 2에 나타낸다. The cross section of the obtained cured film was observed under a microscope, and it was evaluated whether it separated into two layers. Evaluation criteria are as follows. Typical examples of the following evaluation criteria are shown in FIG. 2.

○: 2층으로 분리되어 있음(경화막이, 기재측의 ITO 입자가 고밀도로 존재하는 층(고굴절률층)과 공기측의 ITO 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층(저굴절률층)으로 나뉘어져 있음). (Circle): It is divided into two layers (The cured film is divided into the layer (high refractive index layer) in which the ITO particle of a base material exists in high density, and the layer (low refractive index layer) substantially free of ITO particle on the air side. .

△: 2층 분리되어 있지만, 분리 계면이 평활하지 않기 때문에, 국소적으로 2층 분리되지 않는 부분이 발생함. (Triangle | delta): Although it isolate | separates two layers, since the separation interface is not smooth, the part which does not separate two layers locally arises.

×: 2층으로 분리되어 있지 않음. ×: not separated into two layers.

또한, 비교예의 조성물의 층 분리성은, 이용한 ITO 입자 분산액의 로트에 따라서, 층 분리되는 것과 층 분리되지 않는 것이 있고, 안정한 결과가 얻어지지 않기 때문에, 「○ 내지 ×」, 「△ 내지 ×」라고 표기하였다. In addition, the layer separability of the composition of a comparative example is called "(circle) -x" and "(triangle | delta) -x" because there may be layer separation and layer separation depending on the lot of the used ITO particle dispersion liquid, and a stable result is not obtained. Notation.

(2) 헤이즈(2) haze

얻어진 적층체에서의 탁도(헤이즈값)를, 컬러 헤이즈 미터(스가 시껭끼(주) 제조)를 이용하며 JIS K7105에 준하여 측정하였다. Turbidity (haze value) in the obtained laminated body was measured according to JIS K7105 using a color haze meter (manufactured by Suga Seiki Co., Ltd.).

(3) 표면 저항(Ω/□)(3) Surface Resistance (Ω / □)

얻어진 경화막의 표면 저항(Ω/□)을 고저항(high resistance) 미터(휴렛ㆍ팩커드사 제조의 HP4330)를 이용하여, 주전극 직경 26 mmφ, 인가 전압 100 V에서 측정하였다. The surface resistance (Ω / square) of the obtained cured film was measured using the high resistance meter (HP4330 by Hewlett-Packard Co., Ltd.) at the main electrode diameter 26mm (phi), and the applied voltage 100V.

(4) 반사율(4) reflectance

얻어진 반사 방지용 적층체의 반사율을, 분광 반사율 측정 장치(대형 시료실 적분구 부속 장치 150-09090을 조합한 자기 분광 광도계 U-3410, 히타치 세이사꾸쇼(주) 제조)에 의해 파장 340 내지 700 nm의 범위에서 측정하여 평가하였다. 구체적으로는, 알루미늄 증착막에서의 반사율을 기준(100 %)으로 하여, 각 파장에 있어서의 반사 방지용 적층체(반사 방지막)의 반사율을 측정하고, 그 중 파장 550 nm에서의 빛의 반사율을 구하였다. The reflectance of the obtained antireflective laminate was wavelength 340 to 700 nm by a spectral reflectance measuring device (magnetic spectrophotometer U-3410, manufactured by Hitachi Seisakusho Co., Ltd.) incorporating a large sample chamber integrating sphere apparatus 150-09090. It evaluated by measuring in the range of. Specifically, the reflectance of the antireflection laminate (antireflection film) at each wavelength was measured based on the reflectance in the aluminum vapor deposition film, and the reflectance of light at a wavelength of 550 nm was determined among them. .

(5) 스틸 울 내성 (5) steel wool resistant

경화막의 스틸 울 내성 테스트를 다음에 나타내는 방법으로 실시하였다. 즉, 스틸 울(본스타 N0. 0000, 닛본 스틸 울(주)사 제조)을 학진형 마찰 견뢰도 시험기(AB-301, 테스터 산교(주) 제조)에 부착하고, 경화막의 표면을 1000 g의 조건에서 10회 반복하여 찰과시켜, 상기 경화막의 표면에서의 흠집의 발생 유무를 육안으로 이하의 기준으로 확인하였다. The steel wool tolerance test of the cured film was implemented by the method shown next. That is, a steel wool (Bonstar N0.0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) is attached to a Hakjin type friction fastness tester (AB-301, Tester Sangyo Co., Ltd.), and the surface of the cured film is 1000 g. Was repeated 10 times, and the presence or absence of the scratches on the surface of the cured film was visually confirmed by the following criteria.

○: 경화막의 박리나 흠집의 발생이 거의 확인되지 않음. (Circle): Peeling of a cured film and generation | occurrence | production of a scratch are hardly confirmed.

△: 경화막에 미세한 흠집이 확인됨. (Triangle | delta): Fine scratches are recognized by a cured film.

×: 경화막의 일부에 박리가 생기거나, 또는 경화막의 표면에 줄 형상의 흠집이 발생함.X: Peeling generate | occur | produces in a part of cured film, or a string-shaped flaw arises on the surface of a cured film.

Figure 112006047041309-PAT00016
Figure 112006047041309-PAT00016

표 1 중의 약칭 등은 하기의 것을 나타낸다. Abbreviated-name of Table 1, etc. show the following.

NID-20: 후지 가가꾸 제조 ITO 분산액(IPA: 20 질량% 분산액) NID-20: Fuji Chemicals ITO dispersion (IPA: 20 mass% dispersion)

JX-1002ITV: 쇼쿠바이 가세이 가가꾸 고교 제조 ITO 분산액(IPA: 20 질량% 분산액) JX-1002ITV: Shokubai Kasei Kagaku Kogyo ITO dispersion (IPA: 20 mass% dispersion)

SR-399E: 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트: 닛본 가야꾸 제조SR-399E: dipentaerythritol pentaacrylate: manufactured by Nippon Kayaku

NK 올리고 U-6HA: 6관능 우레탄 아크릴레이트; 신나카무라 가가꾸 고교 제조NK oligo U-6HA: six-functional urethane acrylate; Shin-Nakamura Kagaku high school production

NK 올리고 U-15HA: 15관능 우레탄 아크릴레이트; 신나카무라 가가꾸 고교 제조NK oligo U-15HA: 15 functional urethane acrylate; Shin-Nakamura Kagaku high school production

이르가큐어 369: 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부타논; 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미칼즈 제조Irgacure 369: 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone; Shiva, specialty, chemicals production

MEK: 메틸에틸케톤 MEK: methyl ethyl ketone

MIBK: 메틸이소부틸케톤 MIBK: methyl isobutyl ketone

IPA: 이소프로판올 IPA: Isopropanol

MAK: 메틸아밀케톤 MAK: methyl amyl ketone

n-BuOH: n-부탄올 n-BuOH: n-butanol

PGME: 프로필렌글리콜 모노메틸에테르PGME: propylene glycol monomethyl ether

제조예 3: 수산기 함유 불소-함유 중합체 (b-2)의 제조Preparation Example 3: Preparation of hydroxyl-containing fluorine-containing polymer (b-2)

내용적 1.5 L의 전자 교반기가 부착된 스테인레스제 오토클레이브를 질소 가스로 충분히 치환한 후, 아세트산에틸 500 g, 퍼플루오로(프로필비닐에테르) 43.2 g, 에틸비닐에테르 41.2 g, 히드록시에틸비닐에테르 21.5 g, 비이온성 반응성 유화제로서 「아데카 리아소프 NE-30」(아사히 덴카 고교 가부시끼가이샤 제조) 40.5 g, 아조기 함유 폴리디메틸실록산으로서 「VPS-1001」(와코 쥰야쿠 고교 가부시끼가이샤 제조) 6.0 g 및 과산화라우로일 1.25 g을 첨가하고, 드라이아이스-메탄올로 -50 ℃까지 냉각시킨 후, 재차 질소 가스로 계 내의 산소를 제거하였다. After fully replacing the autoclave made of stainless steel with an internal volume 1.5 L stirrer with nitrogen gas, 500 g of ethyl acetate, 43.2 g of perfluoro (propyl vinyl ether), 41.2 g of ethyl vinyl ether, and hydroxyethyl vinyl ether As 21.5 g, nonionic reactive emulsifier, "Adeka Riaso NE-30" (made by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 40.5 g, azo-group containing polydimethylsiloxane "VPS-1001" (made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 6.0 g and lauroyl peroxide 1.25 g were added, cooled to -50 ° C with dry ice-methanol, and then oxygen in the system was removed again with nitrogen gas.

이어서, 헥사플루오로프로필렌 97.4 g을 첨가하여 승온을 개시하였다. 오토클레이브 내의 온도가 60 ℃에 도달한 시점에서의 압력은 5.3×105 pa를 나타내었다. 그 후, 70 ℃에서 20 시간 교반하에 반응을 계속하고, 압력이 1.7×105 pa로 저하된 시점에서 오토클레이브를 수냉하여 반응을 정지시켰다. 실온에 도달한 후, 미반응 단량체를 꺼내고, 오토클레이브를 개방하여 고형분 농도 26.4 %의 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액을 메탄올에 투입하여 중합체를 석출시킨 후, 메탄올로써 세정하고, 50 ℃에서 진공 건조를 행하여 220 g의 수산기 함유 불소-함유 중합체 (b-2)를 얻었다. Then, 97.4 g of hexafluoropropylene was added to start the temperature increase. The pressure when the temperature in the autoclave reached 60 ° C. was 5.3 × 10 5 pa. Thereafter, the reaction was continued under stirring at 70 ° C. for 20 hours, and the autoclave was water-cooled to stop the reaction when the pressure was lowered to 1.7 × 10 5 pa. After reaching room temperature, the unreacted monomer was taken out, the autoclave was opened, and the polymer solution of 26.4% of solid content concentration was obtained. The obtained polymer solution was thrown into methanol to precipitate a polymer, and then washed with methanol and dried in vacuo at 50 ° C to obtain 220 g of a hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer (b-2).

제조예 4: 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체(F 중합체 2)의 제조Preparation Example 4: Preparation of Ethylenic Unsaturation-Containing Fluorine-Containing Polymer (F Polymer 2)

전자 교반기, 유리제 냉각관 및 온도계를 구비한 1 리터 용량의 분리 플라스크에, 제조예 3에서 얻어진 수산기 함유 불소-함유 중합체 (b-2)를 50.0 g, 중합 금지제로서 2,6-디-t-부틸메틸페놀 0.01 g 및 MIBK 374 g을 넣고, 20 ℃에서 수산기 함유 불소-함유 중합체 (b-2)가 MIBK에 용해되어, 용액이 투명하고 균일하게 될 때까지 교반을 행하였다. 이어서, 이 계에, 2-아크릴로일옥시 에틸이소시아네이트 16.0 g을 첨가하고, 용액이 균일하게 될 때까지 교반한 후, 디부틸주석디라우레이트 0.1 g을 첨가하여 반응을 개시하고, 계의 온도를 55 내지 65 ℃로 유지하여 5 시간 교반을 계속함으로써 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체(F 중합체 2)의 MIBK 용액을 얻었다. 이 용액을 알루미늄 접시에 2 g 칭량 후, 150 ℃의 핫 플레이트 상에서 5 분간 건조 및 칭량하여 고형분 함량을 구한 결과, 15.0 %였다. In a 1 liter volumetric flask equipped with an electronic stirrer, a glass cooling tube and a thermometer, 50.0 g of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer (b-2) obtained in Production Example 3 and 2,6-di-t as a polymerization inhibitor 0.01 g of butylmethylphenol and 374 g of MIBK were added, and agitation was performed until the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer (b-2) was dissolved in MIBK at 20 ° C, and the solution became transparent and uniform. Subsequently, 16.0 g of 2-acryloyloxy ethyl isocyanate is added to the system, stirred until the solution becomes uniform, and then 0.1 g of dibutyltin dilaurate is added to start the reaction, and the temperature of the system is started. Was maintained at 55 to 65 ° C and stirring was continued for 5 hours to obtain a MIBK solution of an ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer (F polymer 2). After weighing 2 g of this solution to the aluminum dish, it dried and weighed for 5 minutes on the 150 degreeC hotplate, and calculated | required solid content, and it was 15.0%.

얻어진 F 중합체 2의 겔 투과 크로마토그래피에 의한 폴리스티렌 환산 수평균 분자량은 43,000이고, 불소 함량은 35 질량%였다. The polystyrene reduced number average molecular weight by gel permeation chromatography of the obtained F polymer 2 was 43,000, and the fluorine content was 35 mass%.

실시예 5 Example 5

경화성 수지 조성물 5의 제조 Preparation of Curable Resin Composition 5

ITO 입자 졸 250 g(NID-20, 후지 가가꾸 제조 ITO 분산액(이소프로필알코올(IPA) 용액), 입자로서 50.0 g), 제조예 4에서 얻어진 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체(F 중합체 2) 207.2 g(에틸렌성 불포화기 함유 불소 중합체로서 31.08 g), 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트(SR-399E, 닛본 가야꾸사 제조) 16.46 g, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부타논(이르가큐어 369, 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미칼즈사 제조, 광 라디칼 중합 개시제) 2.46 g, 메틸에틸케톤 178 g, 메틸이소부틸케톤 118 g, 노르말 부탄올 168 g을 첨가하여 교반하였다. 얻어진 경화성 수지 조성물의 고형분 농도는 10.6 %였다. 배합한 용제비를 표 3에 나타낸다. Ethylene unsaturated group-containing fluorine-containing polymer (F polymer 2) obtained in 250 g of ITO particle sol (NID-20, ITO dispersion made by Fuji Chemical (isopropyl alcohol (IPA) solution), 50.0 g as particles), and Production Example 4 ) 207.2 g (31.08 g as ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer), dipentaerythritol pentaacrylate (SR-399E, manufactured by Nippon Kayaku Co.) 16.46 g, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4- Morpholinophenyl) -1-butanone (Irgacure 369, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., radical photopolymerization initiator) 2.46 g, methyl ethyl ketone 178 g, methyl isobutyl ketone 118 g, normal butanol 168 g It was added and stirred. Solid content concentration of the obtained curable resin composition was 10.6%. The blended solvent ratio is shown in Table 3.

실시예 6 내지 10 Examples 6-10

경화성 수지 조성물 6 내지 10의 제조 Preparation of Curable Resin Compositions 6 to 10

각 고형 성분을 표 2에 나타내는 비율로 배합한 것 이외에는, 실시예 5와 동일하게 하여 경화성 수지 조성물 6 내지 10을 얻었다. 이 때, 실시예 5와 동일한 표 3과 동일한 용제비가 되도록 용제를 배합하였다. Except having mix | blended each solid component in the ratio shown in Table 2, it carried out similarly to Example 5, and obtained curable resin compositions 6-10. At this time, the solvent was mix | blended so that it might become the same solvent ratio as Table 3 similar to Example 5.

또한, 상기 실시예 5 내지 10에서 제조한 경화성 수지 조성물 5 내지 10을 이용하여 경화막을 제조하고, 경화막의 특성을 평가하였다. 경화막의 제조 방법은 하기와 같다. Moreover, the cured film was manufactured using curable resin composition 5-10 manufactured in the said Examples 5-10, and the characteristic of the cured film was evaluated. The manufacturing method of a cured film is as follows.

실리카 입자 졸(메틸에틸케톤 실리카 졸, 닛산 가가꾸 고교(주) 제조의 MEK-ST, 수평균 입경 0.022 ㎛, 실리카 농도 30 %) 98.6 g, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 2.1 g, 이르가큐어 907(2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미칼즈 제조) 1.2 g, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA) 33.2 g, 시클로헥사논 7 g을 혼합 교반하여 실리카 입자 함유 하드 코팅층용 조성물을 얻었다. 이 실리카 입자 함유 하드 코팅층용 조성물을 와이어 바 코터(#12)를 이용하여 트리아세틸셀룰로오스 필름(LOFO 제조, 막 두께 80 ㎛)에 도공한 후, 오븐 중 8.0 ℃에서 1 분간 건조시켰다. 이어서, 공기하에 고압 수은 램프를 이용하여 0.6 J/cm2의 광 조사 조건에서 자외선을 조사함으로써 하드 코팅층을 형성하였다. 하드 코팅층의 막 두께를 촉침식 막 두께 측정계로써 측정한 결과 5 ㎛였다. Silica particle sol (methyl ethyl ketone silica sol, MEK-ST manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., number average particle diameter 0.022 µm, silica concentration 30%) 98.6 g, 1 g of 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, Irga Cure 907 (2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 1.2 g, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA ) 33.2 g and 7 g of cyclohexanone were mixed and stirred to obtain a composition for a silica particle-containing hard coating layer. This silica particle-containing hard coating layer was coated on a triacetyl cellulose film (LOFO, film thickness of 80 μm) using a wire bar coater (# 12), and then dried at 8.0 ° C. in an oven for 1 minute. Subsequently, a hard coat layer was formed by irradiating ultraviolet rays under light irradiation conditions of 0.6 J / cm 2 using a high pressure mercury lamp under air. It was 5 micrometers when the film thickness of the hard coat layer was measured by the stylus type film thickness meter.

얻어진 하드 코팅층 위에, 와이어 바 코터(#3)을 이용하여 상기 실시예 5 내지 10에서 얻어진 경화성 수지 조성물을 도공한 후, 오븐 중 80 ℃에서 1 분간 건조시켰다. 이어서, 질소 분위기하에 고압 수은 램프를 이용하여 0.9 J/cm2의 광 조사 조건에서 자외선을 조사함으로써, 막 두께가 0.2 ㎛인 경화막층을 형성하였다. On the obtained hard coat layer, after coating the curable resin composition obtained in the said Examples 5-10 using the wire bar coater (# 3), it dried at 80 degreeC in oven for 1 minute. Subsequently, under a nitrogen atmosphere, ultraviolet rays were irradiated under a light irradiation condition of 0.9 J / cm 2 using a high pressure mercury lamp to form a cured film layer having a thickness of 0.2 μm.

<경화막의 평가>Evaluation of Curing Film

(1) 층 분리성(1) layer separation

얻어진 경화막의 단면을 현미경으로 관찰하여, 2층으로 분리되었는지 여부를 평가하였다. 평가 기준은 다음과 같다. The cross section of the obtained cured film was observed under a microscope, and it was evaluated whether it separated into two layers. Evaluation criteria are as follows.

○: 2층으로 분리되어 있음(중굴절률층 또는 하드 코팅층측이 주석 함유 산화인듐 입자가 고밀도로 존재하는 층(고굴절률층)이고, 그 위에 주석 함유 산화인듐 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층(저굴절률층)이 있음). (Circle): It is isolate | separated into two layers (the middle refractive index layer or the hard-coat layer side is a layer (high refractive index layer) which tin-containing indium oxide particle exists in high density, and the layer which does not substantially exist tin-containing indium oxide particle on it ( Low refractive index layer).

×: 2층으로 분리되어 있지 않음. ×: not separated into two layers.

(2) 헤이즈(2) haze

얻어진 적층체에서의 탁도(헤이즈값)를, 헤이즈 측정계를 이용하여 측정하고, 이하의 기준으로 평가하였다. The turbidity (haze value) in the obtained laminated body was measured using the haze measuring system, and the following references | standards evaluated.

○: 헤이즈값이 1 % 이하임. (Circle): Haze value is 1% or less.

△: 헤이즈값이 1 %를 초과하고 3 % 이하임. (Triangle | delta): A haze value exceeds 1% and is 3% or less.

×: 헤이즈값이 3 %를 초과함. X: Haze value exceeded 3%.

(3) 표면 저항(Ω/□)(3) Surface Resistance (Ω / □)

얻어진 경화막의 표면 저항(Ω/□)을 고저항 미터(휴렛ㆍ팩커드사 제조의 HP4330)를 이용하여, 주전극 직경 26 mmφ, 인가 전압 100 V에서 측정하고, 이하의 기준으로 평가하였다. The surface resistance ((ohm / square)) of the obtained cured film was measured using the high resistance meter (HP4330 by Hewlett-Packard Co., Ltd.) at the main electrode diameter of 26 mm (phi) and the applied voltage of 100V, and the following references | standards evaluated.

○: 저항값이 1×1011 Ω/□ 이하임. ○: The resistance value is 1 × 10 11 Ω / □ or less.

△: 저항값이 1×1011 Ω/□을 초과하고, 1×1013 Ω/□ 이하임.(Triangle | delta): A resistance value exceeds 1x10 <11> ohm / square, and is 1x10 <13> ( ohm) / square or less.

×: 저항값이 1×1013 Ω/□을 초과함. X: Resistance exceeded 1x10 13 ohms / square.

(4) 반사 방지성(4) antireflection

얻어진 반사 방지용 적층체의 반사 방지성을, 분광 반사율 측정 장치(대형 시료실 적분구 부속 장치 150-09090을 조합한 자기 분광 광도계 U-3410, 히타치 세이사꾸쇼(주) 제조)에 의해 파장 340 내지 700 nm의 범위에서 반사율을 측정하여 평가하였다. 구체적으로는, 알루미늄 증착막에 있어서의 반사율을 기준(100 %)으로 하여, 각 파장에 있어서의 반사 방지용 적층체(반사 방지막)의 반사율을 측정하고, 그 중 파장 550 nm에서의 빛의 반사율로부터, 반사 방지성을 이하의 기준으로 평가하였다. The antireflection property of the obtained antireflection laminate is wavelength 340 to a spectroscopic reflectance measuring device (magnetic spectrophotometer U-3410, manufactured by Hitachi Seisakusho Co., Ltd.) incorporating a large sample chamber integrating sphere apparatus 150-09090. The reflectance was measured and evaluated in the range of 700 nm. Specifically, the reflectance of the antireflective laminate (antireflection film) at each wavelength is measured with the reflectance in the aluminum vapor deposition film as a reference (100%), and among them, from the reflectance of light at a wavelength of 550 nm, Antireflection was evaluated based on the following criteria.

○: 반사율이 1 % 이하임. ○: The reflectance is 1% or less.

△: 반사율이 1 %를 초과하고 2 % 이하임. (Triangle | delta): Reflectance exceeds 1% and is 2% or less.

×: 반사율이 2 %를 초과함. X: reflectance exceeds 2%.

(5) 스틸 울 내성 (5) steel wool resistant

경화막의 스틸 울 내성 테스트를 다음에 나타내는 방법으로 실시하였다. 즉, 스틸 울(본스타 N0. 0000, 닛본 스틸 울(주)사 제조)을 학진형 마찰 견뢰도 시험기(AB-301, 테스터 산교(주) 제조)에 부착하고, 경화막의 표면을 500 g의 조건에서 10회 반복하여 찰과하고, 상기 경화막의 표면에서의 흠집의 발생 유무를 육안으로 이하의 기준으로 확인하였다. The steel wool tolerance test of the cured film was implemented by the method shown next. That is, a steel wool (Bonstar N0.0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) is attached to the Hakjin type friction fastness tester (AB-301, Tester Sangyo Co., Ltd.), and the surface of the cured film is 500 g. Was repeated 10 times, and the presence or absence of scratches on the surface of the cured film was visually confirmed by the following criteria.

○: 경화막의 박리나 흠집의 발생이 거의 확인되지 않음. (Circle): Peeling of a cured film and generation | occurrence | production of a scratch are hardly confirmed.

△: 경화막에 미세한 흠집이 확인됨. (Triangle | delta): Fine scratches are recognized by a cured film.

×: 경화막의 일부에 박리가 생기거나, 또는 경화막의 표면에 줄 형상의 흠집이 발생함.X: Peeling generate | occur | produces in a part of cured film, or a string-shaped flaw arises on the surface of a cured film.

Figure 112006047041309-PAT00017
Figure 112006047041309-PAT00017

표 2 중의 약칭 등은 하기의 것을 나타낸다. Abbreviated-name etc. in Table 2 show the following.

NID-20: 후지 가가꾸 제조 ITO 분산액(IPA: 20 % 분산액) NID-20: Fuji Chemicals ITO dispersion (IPA: 20% dispersion)

SR-399E: 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트; 닛본 가야꾸 제조 SR-399E: dipentaerythritol pentaacrylate; Nippon Kayaku Manufacturing

NK 올리고 U-6HA: 우레탄 아크릴레이트; 신나카무라 가가꾸 고교 제조NK oligo U-6HA: urethane acrylate; Shin-Nakamura Kagaku high school production

이르가큐어 369: 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부타논; 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미칼즈 제조Irgacure 369: 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone; Shiva, specialty, chemicals production

Figure 112006047041309-PAT00018
Figure 112006047041309-PAT00018

표 1 및 표 2의 결과로부터, 본 발명의 경화성 수지 조성물은, 층 분리성 및 반사 방지성이 우수함을 알 수 있었다. 특히, 불소 함량이 높은 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체를 이용한 실시예 1 내지 4는, 반사율도 낮고, 내찰상성도 우수한 것을 알 수 있었다.From the result of Table 1 and Table 2, it turned out that curable resin composition of this invention is excellent in layer separation property and antireflection property. In particular, it was found that Examples 1 to 4 using the ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer having a high fluorine content had low reflectance and excellent scratch resistance.

본 발명의 경화성 수지 조성물은, 하나의 도막으로부터, 기재 상에 2층 이상의 다층 구조를 갖는 경화막을 형성할 수 있다. Curable resin composition of this invention can form the cured film which has a multilayer structure of two or more layers on a base material from one coating film.

본 발명의 경화성 수지 조성물 및 그의 경화물은, 예를 들면 플라스틱 광학 부품, 터치 패널, 필름형 액정 소자, 플라스틱 용기, 건축 내장재로서의 마루재, 벽재, 인공 대리석 등이 흠집(찰상) 방지나 오염 방지를 위한 보호 코팅재; 필름형 액정 소자, 터치 패널, 플라스틱 광학 부품 등의 반사 방지막; 각종 기재의 접착 제, 실링재: 인쇄 잉크의 결합재 등으로서, 특히 반사 방지막으로서 바람직하게 사용할 수 있다.Curable resin composition of this invention and its hardened | cured material are, for example, a plastic optical component, a touch panel, a film-type liquid crystal element, a plastic container, the flooring material as a building interior material, a wall material, an artificial marble, etc. Protective coatings; Anti-reflection films such as a film type liquid crystal element, a touch panel and a plastic optical component; Adhesive of various base materials, sealing material: As a binder of printing ink, etc., it can use especially suitably as an anti-reflective film.

Claims (12)

(A) 주석 함유 산화인듐 입자,(A) tin-containing indium oxide particles, (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체,(B) an ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer, (C) (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체의 용해성이 높은 용제, 및(C) (B) Highly soluble solvent of ethylenically unsaturated group containing fluorine-containing polymer, and (D) (A) 주석 함유 산화인듐 입자의 분산 안정성이 높고, 또한 (C)의 용제와 상용성인 용제(D) Solvent which is high in the dispersion stability of (A) tin-containing indium oxide particle, and is compatible with the solvent of (C) 를 포함하며, 또한 (C)의 용제의 상대 증발 속도가, (D)의 용제의 상대 증발 속도보다 높은 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.And the relative evaporation rate of the solvent of (C) is higher than the relative evaporation rate of the solvent of (D). 제1항에 있어서, 상기 (A) 주석 함유 산화인듐 입자가 주석 함유 산화인듐의 이소프로판올 분산 졸로부터 유래된 것인 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to claim 1, wherein the (A) tin-containing indium oxide particles are derived from an isopropanol dispersion sol of tin-containing indium oxide. 제1항에 있어서, 상기 (B) 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체가,The fluorine-containing polymer according to claim 1, wherein the (B) ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer 수산기 함유 불소-함유 중합체를,Hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer, 수산기와 반응 가능한 관능기와 에틸렌성 불포화기를 함유하는 화합물Compound containing functional group and ethylenically unsaturated group which can react with hydroxyl group 과 반응시켜 얻어지는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.It is obtained by reacting with curable resin composition characterized by the above-mentioned. 제3항에 있어서, 상기 수산기 함유 불소-함유 중합체가, 불소 중합체 전체를 100 질량%라 하였을 때, (a) 하기 화학식 1로 표시되는 구조 단위 5 내지 90 질량%, (b) 하기 화학식 2로 표시되는 구조 단위 0.3 내지 90 질량% 및 (c) 하기 화학식 3으로 표시되는 구조 단위 1 내지 65 질량%를 포함하여 이루어지는 경화성 수지 조성물.The hydroxy group-containing fluorine-containing polymer according to claim 3, wherein the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer is 100% by mass of (a) 5 to 90% by mass of a structural unit represented by the following formula (1), (b) Curable resin composition containing 0.3-90 mass% of structural units represented, and 1-65 mass% of structural units represented by following General formula (3). <화학식 1><Formula 1>
Figure 112006047041309-PAT00019
Figure 112006047041309-PAT00019
[화학식 1 중, R1은 불소 원자, 플루오로알킬기 또는 -OR2(식 중, R2는 알킬기 또는 플루오로알킬기를 나타냄)로 표시되는 기를 나타냄][In Formula 1, R 1 represents a group represented by a fluorine atom, a fluoroalkyl group, or -OR 2 (wherein R 2 represents an alkyl group or a fluoroalkyl group.) <화학식 2><Formula 2>
Figure 112006047041309-PAT00020
Figure 112006047041309-PAT00020
[화학식 2 중, R3은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R4는 알킬기, -(CH2)x-OR5 또는 -OCOR5(식 중, R5는 알킬기 또는 플루오로알킬기를 나타내고, x는 0 또는 1의 수를 나타냄)로 표시되는 기, 카르복실기 또는 알콕시카르보닐기를 나타냄]In Formula 2, R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 4 represents an alkyl group,-(CH 2 ) x -OR 5 or -OCOR 5 (wherein R 5 represents an alkyl group or a fluoroalkyl group, x is Represents a group represented by 0 or 1), a carboxyl group or an alkoxycarbonyl group] <화학식 3><Formula 3>
Figure 112006047041309-PAT00021
Figure 112006047041309-PAT00021
[화학식 3 중, R6은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R7은 -(CH2)v-OR27 또는 -OCOR27(식 중, R27은 수소 원자, 히드록시알킬기 또는 글리시딜기를 나타내고, v는 0 내지 2의 수를 나타냄)로 표시되는 기를 나타냄].In the formula (3), R 6 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 7 represents-(CH 2 ) v -OR 27 or -OCOR 27 (wherein R 27 represents a hydrogen atom, a hydroxyalkyl group or a glycidyl group) , v represents a number from 0 to 2).
제3항에 있어서, 상기 수산기 함유 불소-함유 중합체가, 불소 중합체 전체를 100 질량%라 하였을 때, 아조기 함유 폴리실록산 화합물에서 유래하는 (d) 하기 화학식 4로 표시되는 구조 단위 0.1 내지 10 질량%를 더 포함하는 경화성 수지 조성물.4. When the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer is 100% by mass, the 0.1 to 10% by mass of the structural unit represented by the following formula (4) derived from the azo group-containing polysiloxane compound (d) Curable resin composition containing further. <화학식 4><Formula 4>
Figure 112006047041309-PAT00022
Figure 112006047041309-PAT00022
[화학식 4 중, R8 및 R9는 동일하거나 상이할 수도 있고, 수소 원자, 알킬기, 할로겐화 알킬기 또는 아릴기를 나타냄].[In Formula 4, R <8> and R <9> may be same or different and represents a hydrogen atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group, or an aryl group.
제3항에 있어서, 상기 수산기와 반응 가능한 관능기가, 이소시아네이트기, 카르복실기, 산 할라이드기, 산 무수물기로 이루어지는 군에서 선택되는 기인 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to claim 3, wherein the functional group capable of reacting with the hydroxyl group is selected from the group consisting of an isocyanate group, a carboxyl group, an acid halide group, and an acid anhydride group. 제1항에 있어서, 상기 에틸렌성 불포화기 함유 불소-함유 중합체가 불소를 40 질량% 이상 함유하는 것인 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to claim 1, wherein the ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer contains 40% by mass or more of fluorine. 제1항에 있어서, (C)의 용제가, (A) 주석 함유 산화인듐 입자의 분산 안정성이 낮은 용제이고,The solvent according to claim 1, wherein the solvent of (C) is a solvent having low dispersion stability of (A) tin-containing indium oxide particles, (D)의 용제가, (B) 에틸렌계 불포화기 함유 불소 중합체의 용해성이 낮은 용제인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.The solvent of (D) is a solvent with low solubility of the (B) ethylenically unsaturated group containing fluoropolymer, Curable resin composition characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서, (E) 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물 및(또는) 1개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유하는 불소-함유 (메트)아크릴레이트 화합물을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.(E) A polyfunctional (meth) acrylate compound containing at least two (meth) acryloyl groups and / or a fluorine-containing (meth) containing at least one (meth) acryloyl group. ) An acrylate compound further contains a curable resin composition. 제1항에 있어서, (F) 광 라디칼 중합 개시제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to claim 1, further comprising (F) a radical photopolymerization initiator. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 수지 조성물을 경화시켜 얻어지고, 2층 이상의 다층 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 경화막.It is obtained by hardening | curing curable resin composition in any one of Claims 1-10, and has a multilayered structure of two or more layers, The cured film characterized by the above-mentioned. 제11항에 있어서, 상기 (A) 주석 함유 산화인듐 입자가 고밀도로 존재하는 1개 이상의 층과, 상기 (A) 주석 함유 산화인듐 입자가 실질적으로 존재하지 않는 1개 이하의 층을 포함하는 2층 이상의 층 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 경화막.12. The method of claim 11, wherein the (A) tin-containing indium oxide particles include at least one layer having a high density, and (A) tin-containing indium oxide particles having at least one layer substantially free of two layers. Cured film which has a layer structure more than a layer.
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