KR20060131334A - Layout for sub wordline driver in semiconductor memory device - Google Patents

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KR20060131334A
KR20060131334A KR1020050051680A KR20050051680A KR20060131334A KR 20060131334 A KR20060131334 A KR 20060131334A KR 1020050051680 A KR1020050051680 A KR 1020050051680A KR 20050051680 A KR20050051680 A KR 20050051680A KR 20060131334 A KR20060131334 A KR 20060131334A
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nmos transistors
word line
gated
control signal
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KR1020050051680A
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Korean (ko)
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김성훈
김정열
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삼성전자주식회사
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Abstract

A sub-word line driver in a semiconductor memory device is provided to reduce a power noise of a couple-cap NMOS(Negative Metal Oxide Semiconductor) transistor in the memory device by reducing the width of another NMOS transistor, which is connected to the couple-cap NMOS transistor. First NMOS transistors(M1) are gated by a source voltage. A normal word line enable signal is applied on a drain of the first NMOS transistor. Second NMOS transistors(M2) are series-connected to an upper side of the first NMOS transistors and gated by a voltage, which is generated at source terminals of the first NMOS transistor. Third NMOS transistors(M3) are gated by a second control signal, which is delayed from the first control signal, and series-connected to a lower side of the first NMOS transistors. Fourth NMOS transistors(M4) are gated by a third control signal, which is inverted from the first control signal, and series-connected to a lower side of the third NMOS transistors. Fifth NMOS transistors(M5) are gated by the source voltage and arranged at one side of the second NMOS transistors. A ground voltage terminal is formed at a lower side of the fourth NMOS transistors.

Description

반도체 메모리 장치의 서브-워드라인 드라이버의 레이아웃{Layout for Sub Wordline Driver in Semiconductor Memory Device}Layout of Sub-Wordline Driver in Semiconductor Memory Device

본 발명의 상세한 설명에서 사용되는 도면을 보다 충분히 이해하기 위하여, 각 도면의 간단한 설명이 제공된다.In order to more fully understand the drawings used in the detailed description of the invention, a brief description of each drawing is provided.

도 1은 일반적인 서브-워드라인 드라이버(SWD)를 나타내는 회로도이다. 1 is a circuit diagram illustrating a general sub-wordline driver (SWD).

도 2는 도 1에 도시된 회로가 웨이퍼 상에서 레이아웃된 상태를 나타내는 도면이다.FIG. 2 is a view showing a state in which the circuit shown in FIG. 1 is laid out on a wafer.

도 3은 도 1에 도시된 SWD 회로에서 승압 전원단(VPP)와 접지 전원단(VSSW) 사이에 연결되는 커플 캡을 나타낸다.FIG. 3 illustrates a couple cap connected between the boosted power supply terminal VPP and the ground power supply terminal VSSW in the SWD circuit shown in FIG. 1.

도 4는 반도체 메모리 장치에서 본 발명의 일실시예에 따른 SWD 영역의 레이아웃 구조를 나타내는 도면이다.4 is a diagram illustrating a layout structure of a SWD region in a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

도 5는 반도체 메모리 장치에서 본 발명의 다른 실시예에 따른 SWD 영역의 레이아웃 구조를 나타내는 도면이다.5 is a diagram illustrating a layout structure of a SWD region according to another embodiment of the present invention in a semiconductor memory device.

본 발명은 반도체 메모리 장치의 레이아웃에 관한 것으로, 특히, 반도체 메모리 장치의 서브-워드라인 드라이버(Sub-Wordline Driver:SWD)의 레이아웃에 관한 것이다.The present invention relates to the layout of a semiconductor memory device, and more particularly to the layout of a sub-wordline driver (SWD) of a semiconductor memory device.

일반적으로, 반도체 메모리 장치의 코아 영역에는 워드라인을 승압 전압(VPP) 레벨로 승압(Boosting)시키기 위한 서브-워드라인 드라이버(SWD) 영역이 존재한다. 서브-워드라인 드라이버는 로우 어드레스 디코더로부터 발생되는 노말 워드라인 인에이블 신호(NWE)와 제어신호(PXI*)에 응답하여 해당 워드라인(WL)을 구동한다. 이 때, 노말 워드라인 인에이블 신호(NWE)와 제어신호(PXI*)는 전원 전압(VPP) 레벨로 인에이블된다.In general, a sub-word line driver (SWD) region exists to boost a word line to a boosted voltage VPP level in a core region of a semiconductor memory device. The sub-wordline driver drives the corresponding wordline WL in response to the normal wordline enable signal NWE and the control signal PXI * generated from the row address decoder. At this time, the normal word line enable signal NWE and the control signal PXI * are enabled at the power supply voltage VPP level.

도 1은 일반적인 서브-워드라인 드라이버(SWD)를 나타내는 회로도이다. 그리고, 도 2는 도 1에 도시된 회로가 웨이퍼 상에서 레이아웃된 상태를 나타내는 도면이다. 도 1 및 도 2를 참조하면, SWD 영역은 접지 전원(VSSW)을 중심으로 제1 내지 제4 NMOS 트랜지스터(M1~M4)들, 제어신호(PXI*) 및 전원 전압(VPP)이 대칭을 이루며 배치된다. 한편, 반도체 메모리 장치에서 전원 전압(VPP)의 경우, 파워 노이즈를 최소화하기 위해 전원 전압단 간에 커플 캡이 장착되는 것이 일반적이다. 1 is a circuit diagram illustrating a general sub-wordline driver (SWD). 2 is a view showing a state in which the circuit shown in FIG. 1 is laid out on a wafer. 1 and 2, in the SWD region, the first to fourth NMOS transistors M1 to M4, the control signal PXI *, and the power supply voltage VPP are symmetric with respect to the ground power supply VSSW. Is placed. Meanwhile, in the case of the power supply voltage VPP in the semiconductor memory device, a couple cap is generally mounted between the power supply voltage terminals in order to minimize power noise.

그러나, 종래에는 전원 전압(VPP)과 접지 전원(VSSW)간에는 커플 캡이 존재하지 않아 전원단에 노이즈가 발생된다는 문제점이 있다.However, in the related art, a couple cap does not exist between the power supply voltage VPP and the ground power supply VSSW, thereby causing noise in the power supply terminal.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 서브-워드라인 드라이버 영역에서 레이아웃 손실을 최소화하면서 전원 전압단과 접지 전원단 사이에 노이즈 제거를 위한 커플 캡이 레이아웃되는 반도체 메모리 장치를 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device in which a couple cap is laid out for noise removal between a power supply voltage terminal and a ground power supply terminal while minimizing layout loss in a sub-wordline driver region.

상기 기술적 과제를 이루기 위해, 로우 어드레스를 디코딩하여 해당 워드라인의 인에이블을 제어하는 노말 워드라인 인에이블 신호와 제1 내지 제3제어신호를 발생하는 로우 어드레스 디코더를 포함하는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 노말 워드라인 인에이블 신호가 드레인에 인가되고 승압 전원에 의해 게이팅되는 직렬로 배열되는 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들, 제1 제어신호가 드레인에 인가되고 해당 워드라인에 소오스가 연결되며 제1 NMOS 트랜지스터들 각각의 소오스에 발생하는 전압에 의해 게이팅되며, 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들 상측에 직렬로 배열되는 다수의 제2 NMOS 트랜지스터들, 노말 워드라인 인에이블 신호가 드레인에 인가되고 해당 워드라인에 소오스가 연결되며 제1 제어신호가 소정시간 지연된 제2 제어신호에 의해 게이팅되며, 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들 하측에 직렬로 배열되는 다수의 제3 NMOS 트랜지스터들, 해당 워드라인에 드레인이 연결되고 소오스는 접지 전원단에 연결되며 제1제어신호가 반전된 제3제어신호에 의해 게이팅되며, 제3 NMOS 트랜지스터들 하측에 직렬로 배열되는 다수의 제4 NMOS 트랜지스터들 및 드레인 및 소오스가 접지 전원단에 연결되고 다수의 제2 NMOS 트랜지스터들의 일측으로 지나가도록 레이아웃된 승압 전원에 의해 게이팅되어, 다수의 제2 NMOS 트랜지 스터들의 일측으로 배열되는 제5 NMOS 트랜지스터를 포함하며, 다수의 제4 NMOS 트랜지스터들 하측에 접지 전원단이 레이아웃되는 서브-워드라인 드라이버를 구비하는 것이 바람직하다. In order to achieve the above technical problem, the semiconductor memory according to the present invention includes a row address decoder for generating a normal word line enable signal and a first to third control signals for decoding the row address to control the enable of the corresponding word line The device comprises a plurality of first NMOS transistors arranged in series with a normal wordline enable signal applied to the drain and gated by a boosted power source, a first control signal applied to the drain and a source connected to the corresponding wordline Gated by a voltage occurring at the source of each of the NMOS transistors, a plurality of second NMOS transistors, a normal wordline enable signal, applied in series on top of the plurality of first NMOS transistors, are applied to the drain and the corresponding wordline A source is connected to the gate and the first control signal is gated by the second control signal with a predetermined time delay. And a plurality of third NMOS transistors arranged in series under the plurality of first NMOS transistors, a third control signal having a drain connected to a corresponding word line, a source connected to a ground power supply terminal, and a first control signal inverted A boosted power source gated by a plurality of fourth NMOS transistors and drains and sources arranged in series below the third NMOS transistors and connected to a ground power source and laid out to pass to one side of the plurality of second NMOS transistors. And a sub-wordline driver comprising a fifth NMOS transistor gated by one side of the plurality of second NMOS transistors, the ground power stage being laid under the plurality of fourth NMOS transistors. Do.

상기 기술적 과제를 이루기 위해, 로우 어드레스를 디코딩하여 해당 워드라인의 인에이블을 제어하는 노말 워드라인 인에이블 신호와 제1 내지 제3제어신호를 발생하는 로우 어드레스 디코더를 포함하는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는, 노말 워드라인 인에이블 신호가 드레인에 인가되고 승압 전원에 의해 게이팅되는 직렬로 배열되는 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들, 제1 제어신호가 드레인에 인가되고 해당 워드라인에 소오스가 연결되며 제1 NMOS 트랜지스터들 각각의 소오스에 발생하는 전압에 의해 게이팅되며, 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들 상측에 직렬로 배열되는 다수의 제2 NMOS 트랜지스터들, 노말 워드라인 인에이블 신호가 드레인에 인가되고 해당 워드라인에 소오스가 연결되며 제1 제어신호가 소정시간 지연된 제2 제어신호에 의해 게이팅되며, 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들 하측에 직렬로 배열되는 다수의 제3 NMOS 트랜지스터들 및 해당 워드라인에 드레인이 연결되고 소오스는 접지 전원단에 연결되며 제1제어신호가 반전된 제3제어신호에 의해 게이팅되며, 제3 NMOS 트랜지스터들 하측에 직렬로 배열되는 다수의 제4 NMOS 트랜지스터들을 포함하고, 다수의 제4 NMOS 트랜지스터들 하측에 접지 전원단이 레이아웃되고, 접지 전원단의 상부로 승압 전원단이 지나가도록 레이아웃되는 서브-워드라인 드라이버를 구비하는 것이 바람직하다. In order to achieve the above technical problem, the semiconductor memory according to the present invention includes a row address decoder for generating a normal word line enable signal and a first to third control signals for decoding the row address to control the enable of the corresponding word line The apparatus comprises a plurality of first NMOS transistors arranged in series with a normal wordline enable signal applied to a drain and gated by a boosted power source, a first control signal applied to the drain and a source connected to the wordline. Gated by a voltage occurring at the source of each of the 1 NMOS transistors, a plurality of second NMOS transistors, in which a normal wordline enable signal is applied to the drain and arranged in series above the plurality of first NMOS transistors, are applied to the corresponding word. A source is connected to the line and the first control signal is gated by the second control signal with a predetermined time delay. And a third control signal in which a drain is connected to a plurality of third NMOS transistors arranged in series under the plurality of first NMOS transistors and a corresponding word line, a source is connected to a ground power supply terminal, and the first control signal is inverted. And a plurality of fourth NMOS transistors arranged in series under the third NMOS transistors, wherein a ground power stage is laid under the plurality of fourth NMOS transistors, and the boost power supply is above the ground power stage. It is desirable to have a sub-wordline driver that is laid out so that the stage passes.

상기 기술적 과제를 이루기 위해 로우 어드레스를 디코딩하여 해당 워드라인 의 인에이블을 제어하는 노말 워드라인 인에이블 신호와 제1 내지 제3제어신호를 발생하는 로우 어드레스 디코더를 포함하는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 노말 워드라인 인에이블 신호가 드레인에 인가되고 승압 전원에 의해 게이팅되는 직렬로 배열되는 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들, 제1 제어신호가 드레인에 인가되고 해당 워드라인에 소오스가 연결되며 제1 NMOS 트랜지스터들 각각의 소오스에 발생하는 전압에 의해 게이팅되며, 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들 상측에 직렬로 배열되는 다수의 제2 NMOS 트랜지스터들, 노말 워드라인 인에이블 신호가 드레인에 인가되고 해당 워드라인에 소오스가 연결되며 제1 제어신호가 소정시간 지연된 제2 제어신호에 의해 게이팅되며, 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들 하측에 직렬로 배열되는 다수의 제3 NMOS 트랜지스터들, 해당 워드라인에 드레인이 연결되고 소오스는 접지 전원단에 연결되며 제1제어신호가 반전된 제3제어신호에 의해 게이팅되며, 제3 NMOS 트랜지스터들 하측에 직렬로 배열되는 다수의 제4 NMOS 트랜지스터들 및 드레인 및 소오스가 접지 전원단에 연결되고 다수의 제2 NMOS 트랜지스터들의 일측으로 지나가도록 레이아웃된 승압 전원에 의해 게이팅되어, 다수의 제2 NMOS 트랜지스터들의 일측으로 배열되는 제5 NMOS 트랜지스터를 포함하며, 다수의 제4 NMOS 트랜지스터들 하측에 접지 전원단이 레이아웃되고, 접지 전원단의 상부로 승압 전원단이 지나가도록 레이아웃되는 서브-워드라인 드라이버를 구비하는 것이 바람직하다.In accordance with an aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device including a row address decoder configured to decode a row address to control an enable of a corresponding word line and generate first to third control signals. Are a plurality of first NMOS transistors arranged in series with a normal wordline enable signal applied to a drain and gated by a boosted power source, a first control signal applied to the drain, a source connected to the corresponding wordline, and a first NMOS. Gated by a voltage occurring at the source of each of the transistors, a plurality of second NMOS transistors arranged in series above the plurality of first NMOS transistors, a normal wordline enable signal is applied to the drain and applied to the corresponding wordline. The source is connected and the first control signal is gated by the second control signal with a predetermined time delay. And a plurality of third NMOS transistors arranged in series under the plurality of first NMOS transistors, a third control signal having a drain connected to a corresponding word line, a source connected to a ground power supply terminal, and a first control signal inverted A boosted power source gated by a plurality of fourth NMOS transistors and drains and sources arranged in series below the third NMOS transistors and connected to a ground power source and laid out to pass to one side of the plurality of second NMOS transistors. And a fifth NMOS transistor gated by one side of the plurality of second NMOS transistors, wherein a ground power stage is laid under the plurality of fourth NMOS transistors, and a boosted power stage passes over the ground power stage. It is desirable to have a sub-wordline driver laid out such that

본 발명과 본 발명의 동작상의 잇점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도 면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다. 각 도면을 이해함에 있어서, 동일한 부재는 가능한 한 동일한 참조부호로 도시하고자 함에 유의해야 한다. 그리고, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 기술은 생략된다.In order to fully understand the present invention, the operational advantages of the present invention, and the objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention and the contents described in the accompanying drawings. In understanding the drawings, it should be noted that like parts are intended to be represented by the same reference numerals as much as possible. Incidentally, detailed descriptions of well-known functions and configurations that are determined to unnecessarily obscure the subject matter of the present invention will be omitted.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 서브-워드라인 드라이버의 회로도이다. 도 3을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 서브-워드라인 드라이버는 실질적으로 제1 내지 제5 NMOS 트랜지스터들(M1 내지 M5)로 구성된다. 여기서, 제1 NMOS 트랜지스터(M1)는 노말 워드라인 인에이블 신호(NWE)가 드레인에 인가되고 승압 전원(VPP)에 의해 게이팅된다. 제2 NMOS 트랜지스터(M2)는 제1 제어 신호(PXID)가 드레인에 인가되고 워드라인(WL)에 소오스가 연결되며 제1 NMOS 트랜지스터(M1)의 소오스에 발생하는 전압에 의해 게이팅된다. 제3 NMOS 트랜지스터(M3)는 노말 워드라인 인에이블 신호(NWE)가 드레인에 인가되고 워드라인(WL)에 소오스가 연결되며 제2제어 신호(PXIDG)에 의해 게이팅된다. 제4 NMOS 트랜지스터(M4)는 워드라인(WL)에 드레인이 연결되고 소오스는 접지 전원단(VSSW)에 연결되며 제3제어신호(PXIB)에 의해 게이팅된다. 이때, 제1 및 제2제어신호(PXID,PXIDG)는 소정의 지연을 갖는 신호들로서, 제1제어신호(PXID)가 인에이블되고 소정 시간 후에 제2제어신호(PXIDG)가 인에이블된다. 그리고, 제3제어신호(PXIB)는 제1제어신호(PXID)가 반전된 신호이다.3 is a circuit diagram of a sub-wordline driver of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 3, a sub-wordline driver of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention is substantially composed of first to fifth NMOS transistors M1 to M5. Here, the first NMOS transistor M1 is applied with a normal word line enable signal NWE to a drain and is gated by the boost power supply VPP. The second NMOS transistor M2 has a first control signal PXID applied to a drain, a source connected to the word line WL, and gated by a voltage generated in the source of the first NMOS transistor M1. In the third NMOS transistor M3, a normal word line enable signal NWE is applied to a drain, a source is connected to the word line WL, and gated by the second control signal PXIDG. The fourth NMOS transistor M4 has a drain connected to the word line WL, a source connected to the ground power supply terminal VSSW, and gated by the third control signal PXIB. In this case, the first and second control signals PXID and PXIDG are signals having a predetermined delay. The first control signal PXID is enabled and the second control signal PXIDG is enabled after a predetermined time. The third control signal PXIB is a signal in which the first control signal PXID is inverted.

도 3에 도시된 서브-워드라인 드라이버(SWD)의 동작을 구체적으로 설명하면, 로우 어드레스 디코더(미도시)에 의해 노말 워드라인 인에이블 신호(NWE)와 제1 및 제2제어신호(PXID,PXIDG)가 인에이블되고 제3제어신호(PXIB)가 디세이블되면, 제1 내지 제3 NMOS 트랜지스터(M1~M3)들이 턴온되고 제4 NMOS 트랜지스터(M4)는 턴오프된다. 워드라인(WL)은 턴온된 제1 내지 제3 NMOS 트랜지스터들(M1~M3)에 의해 승압 전원(VPP) 레벨로 인에이블된다. 그리고, 로우 어드레스 디코더(미도시)에 의해 제3제어신호(PXIB)가 인에이블되고 노말 워드라인 인에이블 신호(NWE)와 제1 및 제2제어신호(PXID,PXIDG)가 디세이블되면, 제1 내지 제3 NMOS 트랜지스터(M1~M3)들이 턴오프되고 제4 NMOS 트랜지스터(M4)는 턴온된다. 워드라인(WL)은 턴온된 제4NMOS 트랜지스터(M4)에 의해 접지 전원(VSSW) 레벨로 디세이블된다. Referring to the operation of the sub-word line driver SWD shown in FIG. 3, the normal word line enable signal NWE and the first and second control signals PXID, When the PXIDG is enabled and the third control signal PXIB is disabled, the first to third NMOS transistors M1 to M3 are turned on and the fourth NMOS transistor M4 is turned off. The word line WL is enabled at the boosted power supply level VPP by the turned on first to third NMOS transistors M1 to M3. When the third control signal PXIB is enabled by the row address decoder (not shown) and the normal word line enable signal NWE and the first and second control signals PXID and PXIDG are disabled, the third control signal PXIB is disabled. The first to third NMOS transistors M1 to M3 are turned off and the fourth NMOS transistor M4 is turned on. The word line WL is disabled to the ground power supply VSSW level by the turned-on fourth NMOS transistor M4.

도 3에 도시된 SWD 회로는, 승압 전원단(VPP)와 접지 전원단(VSSW) 사이에 연결되는 커플 캡이 나타난다. 도 3에 도시되는 바와 같이, 승압 전원단(VPP)과 접지 전원단(VSSW) 사이에 제5 NMOS 트랜지스터(M5)가 실질적으로 형성된다. 그리고, 제5 NMOS 트랜지스터(M5)는 승압 전원단(VPP)과 접지 전원단(VSSW) 사이에 커플 캡(M5) 역할을 한다. 이 때, 반도체 메모리 장치의 SWD 영역에서 제5 NMOS 트랜지스터(M5)가 레이아웃 손실을 최소화하며 레이아웃되는 것이 중요하다. In the SWD circuit shown in FIG. 3, a couple cap connected between a boosted power supply terminal VPP and a ground power supply terminal VSSW is shown. As shown in FIG. 3, a fifth NMOS transistor M5 is substantially formed between the boosted power supply terminal VPP and the ground power supply terminal VSSW. The fifth NMOS transistor M5 serves as a couple cap M5 between the boosted power supply terminal VPP and the ground power supply terminal VSSW. In this case, it is important that the fifth NMOS transistor M5 is laid out with a minimum layout loss in the SWD region of the semiconductor memory device.

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 서브-워드라인 드라이버의 레이아웃을 나타내는 도면이다.4 is a diagram illustrating a layout of a sub-wordline driver of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, SWD 영역은 접지 전원(VSSW)을 중심으로 제1 내지 제5 NMOS 트랜지스터(M1~M5)들, 제어신호(PXI*) 및 전원 전압(VPP)이 대칭을 이루며 배 치된다. 구체적으로, 직렬로 배열되는 다수의 제1 NMOS 트랜지스터(M1)들 각각은 노말 워드라인 인에이블 신호(NWE)가 드레인에 인가되고 승압 전원(VPP)에 의해 게이팅된다. 다수의 제2 NMOS 트랜지스터들(M2)은 다수의 제1 NMOS 트랜지스터(M1)들 상측에 직렬로 배열되며, 제1 제어신호(PXID)가 드레인에 인가되고 해당 워드라인에 소오스가 연결되며 제1 NMOS 트랜지스터(M1)들 각각의 소오스에 발생하는 전압에 의해 게이팅된다. 다수의 제3 NMOS 트랜지스터(M3)들은 다수의 제1 NMOS 트랜지스터(M1)들 하측에 직렬로 배열되며, 노말 워드라인 인에이블 신호(NWE)가 드레인에 인가되고 해당 워드라인에 소오스가 연결되며 상기 제1 제어신호(PXID)가 소정시간 지연된 제2 제어신호(PXIDG)에 의해 게이팅된다. 다수의 제4 NMOS 트랜지스터(M4)들은 다수의 제3 NMOS 트랜지스터(M3)들 하측에 직렬로 배열되며, 해당 워드라인에 드레인이 연결되고 소오스는 접지 전원단에 연결되며 제3제어신호(PXIB)에 의해 게이팅된다. 도시된 바와 같이, 다수의 제4 NMOS 트랜지스터(M4)들 하측에 접지 전원단(VSSW)이 레이아웃되며, 접지 전원단(VSSW)을 중심으로 다수의 제1 내지 제4 NMOS 트랜지스터(M1~M4)들이 상하로 대칭되며 레이아웃된다. 또한, 도 4에서는 다수의 제4 NMOS 트랜지스터(M4)들 하측에 접지 전원단(VSSW)이 레이아웃된다.Referring to FIG. 4, in the SWD region, the first to fifth NMOS transistors M1 to M5, the control signal PXI *, and the power supply voltage VPP are arranged symmetrically with respect to the ground power supply VSSW. . Specifically, each of the plurality of first NMOS transistors M1 arranged in series is applied with a normal word line enable signal NWE to a drain and gated by the boost power supply VPP. The plurality of second NMOS transistors M2 are arranged in series above the plurality of first NMOS transistors M1, and the first control signal PXID is applied to the drain and the source is connected to the corresponding word line. Gated by the voltage generated in the source of each of the NMOS transistors M1. The plurality of third NMOS transistors M3 are arranged in series below the plurality of first NMOS transistors M1, and a normal word line enable signal NWE is applied to a drain and a source is connected to the corresponding word line. The first control signal PXID is gated by the second control signal PXIDG which is delayed by a predetermined time. The plurality of fourth NMOS transistors M4 are arranged in series under the plurality of third NMOS transistors M3, a drain is connected to a corresponding word line, a source is connected to a ground power supply terminal, and a third control signal PXIB. Is gated by. As shown, a ground power supply terminal VSSW is laid under the plurality of fourth NMOS transistors M4, and a plurality of first to fourth NMOS transistors M1 to M4 around the ground power supply terminal VSSW. Are symmetrically laid out vertically. In addition, in FIG. 4, the ground power supply terminal VSSW is laid under the plurality of fourth NMOS transistors M4.

그리고, 제5 NMOS 트랜지스터(M5)는 드레인 및 소오스가 컨택 홀(100)에 의해 접지 전원단(VSSW)에 연결되고 다수의 제2 NMOS 트랜지스터(M2)들의 일측으로 지나가도록 레이아웃된 승압 전원(VPP)에 의해 게이팅되어, 다수의 제2 NMOS 트랜지스터(M2)들의 일측에 배열된다. In addition, the fifth NMOS transistor M5 includes a boosted power supply VPP in which a drain and a source are connected to the ground power supply terminal VSSW by the contact hole 100 and passed to one side of the plurality of second NMOS transistors M2. Gated and arranged on one side of the plurality of second NMOS transistors M2.

이처럼, 제5 NMOS 트랜지스터(M5)의 레이아웃을 위한 별도의 레이아웃 공간 을 마련하지 않고 승압 전원(VPP) 노드 상에 제5 NMOS 트랜지스터(M5)를 레이아웃할 수 있으므로, 레이아웃 손실이 거의 없이 파워 노이즈 제거를 위한 제5 NMOS 트랜지스터(M5)를 레이아웃할 수 있다.As such, since the fifth NMOS transistor M5 can be laid out on the boosted power supply (VPP) node without providing a separate layout space for the layout of the fifth NMOS transistor M5, power noise is eliminated with little layout loss. The fifth NMOS transistor M5 may be laid out.

한편, 도 4에 도시된 바와 같이 제5 NMOS 트랜지스터(M5)를 레이아웃할 경우, 승압 전원단(VPP)과 접지 전원단(VSSW) 사이에 커플 캡 이 형성되어 파워 노이즈가 감소됨은 물론, 제2 NMOS 트랜지스터(M2)의 에지 더미(Edge Dummy) 효과도 얻을 수 있다. 도 4에서 다수의 제2 NMOS 트랜지스터(M2)의 오른 쪽 끝에 위치한 제2 NMOS 트랜지스터(M2)는 다른 제2NMOS 트랜지스터들에 비해 공정 변화를 많이 받는다. 이 때, 제5 NMOS 트랜지스터(M5)를 제2 NMOS 트랜지스터(M2) 옆에 배치함으로써, 제5 NMOS 트랜지스터(M5)는 배열의 끝에 위치한 제2 NMOS 트랜지스터(M2)의 공정 변화를 최소화하도록 하는 에지 더미의 역할을 한다.Meanwhile, as shown in FIG. 4, when the fifth NMOS transistor M5 is laid out, a couple cap is formed between the boosted power supply terminal VPP and the ground power supply terminal VSSW to reduce power noise, as well as the second. The edge dummy effect of the NMOS transistor M2 can also be obtained. In FIG. 4, the second NMOS transistor M2 positioned at the right end of the plurality of second NMOS transistors M2 is subjected to more process change than other second NMOS transistors. At this time, by arranging the fifth NMOS transistor M5 next to the second NMOS transistor M2, the fifth NMOS transistor M5 is edged to minimize the process change of the second NMOS transistor M2 located at the end of the array. It acts as a dummy.

도 5는 반도체 메모리 장치에서 본 발명의 다른 실시예에 따른 SWD 영역의 레이아웃 구조를 나타내는 도면이다.5 is a diagram illustrating a layout structure of a SWD region according to another embodiment of the present invention in a semiconductor memory device.

도 5에서는 접지 전원(VSSW)을 중심으로 상/하 대칭으로 배열된 제2 NMOS 트랜지스터(M2)의 폭(Width)을 줄이고, 줄어든 폭만큼 제4 NMOS 트랜지스터(M4)를 제2 NMOS 트랜지스터(M2) 쪽으로 밀어올려 접지 전원(VSSW) 공간을 넓힌다. 넓혀진 접지 전원(VSSW) 사이로 승압 전원(VPP)이 지나가도록 함으로써, 자연스럽게 커플 캡 역할을 하는 제5 NMOS 트랜지스터(M5)가 형성된다. 이처럼, 제2 NMOS 트랜지스터(M2)의 폭(Width)을 줄여 제5 NMOS 트랜지스터(M5)를 레이아웃함으로써, 레이아웃 손실이 거의 없으면서 파워 노이즈 제거를 줄이는 제5 NMOS 트랜지스터(M5)를 레이아웃할 수 있다.In FIG. 5, the width of the second NMOS transistor M2 arranged upside down symmetrically with respect to the ground power supply VSSW is reduced, and the fourth NMOS transistor M4 is reduced to the second NMOS transistor M2 by the reduced width. To increase the ground power (VSSW) space. By allowing the boosted power supply VPP to pass between the widened ground power supply VSSW, a fifth NMOS transistor M5 naturally serving as a couple cap is formed. As such, by laying down the fifth NMOS transistor M5 by reducing the width of the second NMOS transistor M2, the fifth NMOS transistor M5 may be laid out to reduce power noise elimination while almost no layout loss occurs.

이상에서 설명한 두 가지의 레이아웃 구조 모두 레이아웃 손실이 거의 없으면서, 승압 전원단(VPP)과 접지 전원단(VSSW) 사이에서 파워 노이즈를 줄이기 위한 커플 캡 역할을 하는 NMOS 트랜지스터(M5)를 레이아웃할 수 있다. 이 때, SWD 영역에 도 4 및 도 5의 제5 NMOS 트랜지스터를 함께 레이아웃한다면, 파워 노이즈 제거 효과를 더욱 증대시킬 수 있다.Both layout structures described above can lay out the NMOS transistor M5 serving as a couple cap for reducing power noise between the boosted power supply terminal VPP and the grounded power supply terminal VSSW with almost no layout loss. . At this time, if the fifth NMOS transistors of FIGS. 4 and 5 are laid out together in the SWD region, the power noise removing effect can be further increased.

본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the drawings, this is merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 SWD 영역에서 레이아웃 손실이 거의 없으면서, 승압 전원단(VPP)과 접지전원단(VSSW) 사이에서 파워 노이즈를 줄이기 위한 커플 캡 역할을 하는 NMOS 트랜지스터를 레이아웃할 수 있다. As described above, the semiconductor memory device according to the present invention has an NMOS transistor which serves as a couple cap for reducing power noise between the boosted power supply terminal VPP and the ground power supply terminal VSSW with little layout loss in the SWD region. You can layout.

Claims (6)

로우 어드레스를 디코딩하여 해당 워드라인의 인에이블을 제어하는 노말 워드라인 인에이블 신호와 제1 내지 제3 제어신호를 발생하는 로우 어드레스 디코더를 포함하는 반도체 메모리 장치에 있어서,A semiconductor memory device comprising a normal word line enable signal for decoding a row address to control an enable of a corresponding word line and a row address decoder for generating first to third control signals. 상기 노말 워드라인 인에이블 신호가 드레인에 인가되고 상기 승압 전원에 의해 게이팅되는 직렬로 배열되는 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들;A plurality of first NMOS transistors arranged in series with the normal wordline enable signal applied to a drain and gated by the boost power source; 상기 제1 제어신호가 드레인에 인가되고 해당 워드라인에 소오스가 연결되며 상기 제1 NMOS 트랜지스터들 각각의 소오스에 발생하는 전압에 의해 게이팅되며, 상기 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들 상측에 직렬로 배열되는 다수의 제2 NMOS 트랜지스터들;The first control signal is applied to a drain, a source is connected to a corresponding word line, gated by a voltage generated in a source of each of the first NMOS transistors, and is arranged in series on the plurality of first NMOS transistors. A plurality of second NMOS transistors; 상기 노말 워드라인 인에이블 신호가 드레인에 인가되고 상기 해당 워드라인에 소오스가 연결되며 상기 제1 제어신호가 소정시간 지연된 상기 제2 제어신호에 의해 게이팅되며, 상기 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들 하측에 직렬로 배열되는 다수의 제3 NMOS 트랜지스터들;The normal word line enable signal is applied to a drain, a source is connected to the corresponding word line, and the first control signal is gated by the second control signal delayed by a predetermined time, and below the plurality of first NMOS transistors. A plurality of third NMOS transistors arranged in series; 상기 해당 워드라인에 드레인이 연결되고 소오스는 접지 전원단에 연결되며 제1제어신호가 반전된 상기 제3제어신호에 의해 게이팅되며, 상기 제3 NMOS 트랜지스터들 하측에 직렬로 배열되는 다수의 제4 NMOS 트랜지스터들; 및 A plurality of fourths having a drain connected to the corresponding word line, a source connected to a ground power terminal, and gated by the third control signal in which a first control signal is inverted, and arranged in series under the third NMOS transistors; NMOS transistors; And 드레인 및 소오스가 상기 접지 전원단에 연결되고 상기 다수의 제2 NMOS 트랜지스터들의 일측으로 지나가도록 레이아웃된 상기 승압 전원에 의해 게이팅되어, 상기 다수의 제2 NMOS 트랜지스터들의 일측으로 배열되는 제5 NMOS 트랜지스터를 포함하며,A fifth NMOS transistor connected to the ground power source and gated by the boost power source arranged to pass to one side of the plurality of second NMOS transistors, the fifth NMOS transistor being arranged to one side of the plurality of second NMOS transistors Include, 상기 다수의 제4 NMOS 트랜지스터들 하측에 상기 접지 전원단이 레이아웃되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 서브 워드라인 드라이버의 레이아웃.And the ground power supply terminal is disposed under the plurality of fourth NMOS transistors. 제1항에 있어서, 상기 다수의 제1 내지 제5 NMOS 트랜지스터들은The method of claim 1, wherein the plurality of first to fifth NMOS transistors 상기 접지 전원단을 중심으로 대칭적으로 레이아웃되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 서브 워드라인 드라이버의 레이아웃.And the sub word line driver of the semiconductor memory device is symmetrically laid out around the ground power supply terminal. 로우 어드레스를 디코딩하여 해당 워드라인의 인에이블을 제어하는 노말 워드라인 인에이블 신호와 제1 내지 제3제어신호를 발생하는 로우 어드레스 디코더를 포함하는 반도체 메모리 장치에 있어서, A semiconductor memory device comprising a normal word line enable signal for decoding a row address to control an enable of a corresponding word line and a row address decoder for generating first to third control signals. 상기 노말 워드라인 인에이블 신호가 드레인에 인가되고 상기 승압 전원에 의해 게이팅되는 직렬로 배열되는 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들;A plurality of first NMOS transistors arranged in series with the normal wordline enable signal applied to a drain and gated by the boost power source; 제1 제어신호가 드레인에 인가되고 해당 워드라인에 소오스가 연결되며 상기 제1 NMOS 트랜지스터들 각각의 소오스에 발생하는 전압에 의해 게이팅되며, 상기 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들 상측에 직렬로 배열되는 다수의 제2 NMOS 트랜지스터들; A first control signal is applied to the drain, a source is connected to the corresponding word line, gated by a voltage generated in the source of each of the first NMOS transistors, and is arranged in series on the plurality of first NMOS transistors. Second NMOS transistors; 상기 노말 워드라인 인에이블 신호가 드레인에 인가되고 상기 해당 워드라인에 소오스가 연결되며 상기 제1 제어신호가 소정시간 지연된 상기 제2 제어신호에 의해 게이팅되며, 상기 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들 하측에 직렬로 배열되는 다수의 제3 NMOS 트랜지스터들; 및The normal word line enable signal is applied to a drain, a source is connected to the corresponding word line, and the first control signal is gated by the second control signal delayed by a predetermined time, and below the plurality of first NMOS transistors. A plurality of third NMOS transistors arranged in series; And 상기 해당 워드라인에 드레인이 연결되고 소오스는 접지 전원단에 연결되며 상기 제1제어신호가 반전된 상기 제3제어신호에 의해 게이팅되며, 상기 제3 NMOS 트랜지스터들 하측에 직렬로 배열되는 다수의 제4 NMOS 트랜지스터들을 포함하고, A plurality of first drains connected to the corresponding word line, a source connected to a ground power supply terminal, gated by the third control signal inverted by the first control signal, and arranged in series under the third NMOS transistors; 4 NMOS transistors, 상기 다수의 제4 NMOS 트랜지스터들 하측에 상기 접지 전원단이 레이아웃되고, 상기 접지 전원단의 상부로 상기 승압 전원단이 지나가도록 레이아웃되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 서브 워드라인 드라이버의 레이아웃.And the ground power supply terminal is disposed under the plurality of fourth NMOS transistors, and the boost power supply terminal is disposed to pass over the ground power supply terminal. 제3항에 있어서, 상기 다수의 제1 내지 제5 NMOS 트랜지스터들은The method of claim 3, wherein the plurality of first to fifth NMOS transistors 상기 접지 전원단을 중심으로 대칭적으로 레이아웃되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 서브 워드라인 드라이버의 레이아웃.And the sub word line driver of the semiconductor memory device is symmetrically laid out around the ground power supply terminal. 로우 어드레스를 디코딩하여 해당 워드라인의 인에이블을 제어하는 노말 워드라인 인에이블 신호와 제1 내지 제3 제어신호를 발생하는 로우 어드레스 디코더를 포함하는 반도체 메모리 장치에 있어서,A semiconductor memory device comprising a normal word line enable signal for decoding a row address to control an enable of a corresponding word line and a row address decoder for generating first to third control signals. 상기 노말 워드라인 인에이블 신호가 드레인에 인가되고 상기 승압 전원에 의해 게이팅되는 직렬로 배열되는 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들;A plurality of first NMOS transistors arranged in series with the normal wordline enable signal applied to a drain and gated by the boost power source; 제1 제어신호가 드레인에 인가되고 해당 워드라인에 소오스가 연결되며 상기 제1 NMOS 트랜지스터들 각각의 소오스에 발생하는 전압에 의해 게이팅되며, 상기 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들 상측에 직렬로 배열되는 다수의 제2 NMOS 트랜지스터들; A first control signal is applied to the drain, a source is connected to the corresponding word line, gated by a voltage generated in the source of each of the first NMOS transistors, and is arranged in series on the plurality of first NMOS transistors. Second NMOS transistors; 상기 노말 워드라인 인에이블 신호가 드레인에 인가되고 상기 해당 워드라인에 소오스가 연결되며 상기 제1 제어신호가 소정시간 지연된 상기 제2 제어신호에 의해 게이팅되며, 상기 다수의 제1 NMOS 트랜지스터들 하측에 직렬로 배열되는 다수의 제3 NMOS 트랜지스터들;The normal word line enable signal is applied to a drain, a source is connected to the corresponding word line, and the first control signal is gated by the second control signal delayed by a predetermined time, and below the plurality of first NMOS transistors. A plurality of third NMOS transistors arranged in series; 상기 해당 워드라인에 드레인이 연결되고 소오스는 접지 전원단에 연결되며 상기 제1제어신호가 반전된 상기 제3제어신호에 의해 게이팅되며, 상기 제3 NMOS 트랜지스터들 하측에 직렬로 배열되는 다수의 제4 NMOS 트랜지스터들; 및 A plurality of first drains connected to the corresponding word line, a source connected to a ground power supply terminal, gated by the third control signal inverted by the first control signal, and arranged in series under the third NMOS transistors; 4 NMOS transistors; And 드레인 및 소오스가 상기 접지 전원단에 연결되고 상기 다수의 제2 NMOS 트랜지스터들의 일측으로 지나가도록 레이아웃된 상기 승압 전원에 의해 게이팅되어, 상기 다수의 제2 NMOS 트랜지스터들의 일측으로 배열되는 제5 NMOS 트랜지스터를 포함하며, A fifth NMOS transistor connected to the ground power source and gated by the boost power source arranged to pass to one side of the plurality of second NMOS transistors, the fifth NMOS transistor being arranged to one side of the plurality of second NMOS transistors Include, 상기 다수의 제4 NMOS 트랜지스터들 하측에 상기 접지 전원단이 레이아웃되고, 상기 접지 전원단의 상부로 상기 승압 전원단이 지나가도록 레이아웃되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 서브 워드라인 드라이버의 레이아웃.And the ground power supply terminal is disposed under the plurality of fourth NMOS transistors, and the boost power supply terminal is disposed to pass over the ground power supply terminal. 제5항에 있어서, 상기 다수의 제1 내지 제5 NMOS 트랜지스터들은The method of claim 5, wherein the plurality of first to fifth NMOS transistors 상기 접지 전원단을 중심으로 대칭적으로 레이아웃되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 서브 워드라인 드라이버의 레이아웃.And the sub word line driver of the semiconductor memory device is symmetrically laid out around the ground power supply terminal.
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US9318175B1 (en) 2014-12-19 2016-04-19 SK Hynix Inc. Word line driver circuit for semiconductor memory device
WO2023004945A1 (en) * 2021-07-29 2023-02-02 长鑫存储技术有限公司 Word line driver circuit and memory
US11735248B2 (en) 2021-06-22 2023-08-22 Samsung Electronics Co., Ltd. Sub-word-line drivers and semiconductor memory devices including the same

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7751273B2 (en) 2007-05-07 2010-07-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Layout structure of sub-world line driver and forming method thereof
US8279703B2 (en) 2009-08-10 2012-10-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Sub-word line driver circuit and semiconductor memory device having the same
US9318175B1 (en) 2014-12-19 2016-04-19 SK Hynix Inc. Word line driver circuit for semiconductor memory device
US11735248B2 (en) 2021-06-22 2023-08-22 Samsung Electronics Co., Ltd. Sub-word-line drivers and semiconductor memory devices including the same
WO2023004945A1 (en) * 2021-07-29 2023-02-02 长鑫存储技术有限公司 Word line driver circuit and memory

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