KR20060128416A - Mva mode liquid crystal display device and method of fabrication thereof - Google Patents

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Abstract

An MVA(Multi-domain Vertical Alignment) mode LCD and a fabricating method thereof are provided to form additional common electrodes in the shape of slit patterns, which is formed in main common electrodes, thereby obtaining a narrow viewing angle by applying a same signal to the both common electrodes and obtaining a wide viewing angle by applying the signal to the main common electrodes. An MVA mode LCD includes first and second substrates facing each other and joined with each other with a predetermined distance for forming a liquid crystal layer. TFTs(Thin Film Transistors) are formed on intersections between gate and data lines(102,120) formed on the first substrate. Pixel electrodes(126) are formed on pixel areas(P) and have slit patterns(S1). First common electrodes(202) are formed on a surface of the second substrate and have slit patterns(S2) at a position apart from the slit patterns of the pixel electrodes. Second common electrodes(206) are formed at an upper or lower part of the first common electrodes in the same shape with the slit patterns of the first common electrodes.

Description

멀티도메인 수직 배향 모드 액정표시장치와 그 제조방법{MVA mode liquid crystal display device and method of fabrication thereof}Multi-domain vertical alignment mode liquid crystal display and a method of manufacturing the same {MVA mode liquid crystal display device and method of fabrication

도 1은 일반적인 액정표시장치를 개략적으로 도시한 사시도.1 is a perspective view schematically showing a general liquid crystal display device.

도 2는 종래에 따른 MVA 모드 액정표시장치의 한 화소를 확대하여 간략히 표시한 확대 평면도.FIG. 2 is an enlarged plan view illustrating a simplified enlarged display of one pixel of a conventional MVA mode liquid crystal display; FIG.

도 3은 도 2의 Ⅱ-Ⅱ를 따라 절단한 확대 단면도.3 is an enlarged cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 2;

도 4는 본 발명에 따른 MVA 모드 액정표시장치의 한 화소를 확대하여 간략히 표시한 확대 평면도.FIG. 4 is an enlarged plan view illustrating an enlarged view of one pixel of the MVA mode LCD according to the present invention; FIG.

도 5a는 제 1 공통전극에만 공통신호를 인가하였을 경우, 액정의 움직임을 표시한 도면이고, 도 5b는 제 1 공통 전극 및 제 2 공통 전극에 동시에 공통신호를 인가하였을 경우, 액정의 움직임을 표시한 도면.FIG. 5A illustrates the movement of liquid crystal when a common signal is applied to only the first common electrode. FIG. 5B illustrates the movement of liquid crystal when a common signal is simultaneously applied to the first common electrode and the second common electrode. One drawing.

도 6a 내지 도 6d는 다중도메인 모드 액정표시장치용 어레이기판을 도 4의 Ⅳ-Ⅳ를 따라 절단하여, 본 발명의 공정순서에 따라 도시한 공정단면도.6A through 6D are cross-sectional views of an array substrate for a multi-domain mode liquid crystal display device taken along the line IV-IV of FIG. 4 in accordance with the process sequence of the present invention.

도 7a 내지 도 7b는 MVA 모드 액정표시장치용 컬러필터기판을 도 4의 Ⅴ-Ⅴ를 따라 절단하여, 본 발명의 공정순서에 따라 도시한 공정단면도.7A to 7B are process cross-sectional views of the color filter substrate for the MVA mode liquid crystal display device taken along the line VV of FIG. 4 according to the process sequence of the present invention.

도 8은 본 발명의 다른 예에 따른 MVA 모드 액정표시장치의 한 화소를 확대 하여 간략히 표시한 확대 단면도.8 is an enlarged cross-sectional view schematically illustrating an enlarged pixel of an MVA mode liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 간단한 설명><Brief description of the main parts of the drawing>

102 : 게이트 배선 104 : 게이트 전극 102 gate wiring 104 gate electrode

108,110: 반도체층 116 : 소스 전극 108,110 semiconductor layer 116 source electrode

118 : 드레인 전극 120 : 데이터 배선 118: drain electrode 120: data wiring

126 : 화소 전극 202 : 제 1 공통전극126: pixel electrode 202: first common electrode

206 : 제 2 공통전극 S1,S2 : 슬릿패턴206: second common electrode S1, S2: slit pattern

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 광시야각과 협시야각을 모두 구현할 수 있는 MVA(Multi-domain Vertical Alignment)모드 액정표시장치와 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and a multi-domain vertical alignment (MVA) mode liquid crystal display device capable of realizing both a wide viewing angle and a narrow viewing angle, and a manufacturing method thereof.

일반적으로 액정표시장치의 구동원리는, 액정의 광학적 이방성과 분극성질을 이용한다. 상기 액정은 구조가 가늘고 길기 때문에 분자의 배열에 방향성을 가지고 있으며, 인위적으로 액정에 전기장을 인가하여 분자배열의 방향을 제어할 수 있다.In general, the driving principle of the liquid crystal display device uses the optical anisotropy and polarization of the liquid crystal. Since the liquid crystal is thin and long in structure, the liquid crystal has directivity in the arrangement of molecules, and the direction of the molecular arrangement can be controlled by artificially applying an electric field to the liquid crystal.

따라서, 상기 액정의 분자배열 방향을 임의로 조절하면, 액정의 분자배열이 변하게 되고 광학적 이방성에 의해 상기 액정의 분자배열 방향으로 빛의 편광상태 가 변화되어 화상정보를 표현할 수 있다.Accordingly, when the molecular arrangement direction of the liquid crystal is arbitrarily adjusted, the molecular arrangement of the liquid crystal is changed, and the polarization state of light is changed in the molecular arrangement direction of the liquid crystal by optical anisotropy, thereby representing image information.

이하, 도면을 참조하여 액정표시장치의 일반적인 구성을 알아본다.Hereinafter, a general configuration of a liquid crystal display device will be described with reference to the drawings.

도 1은 일반적인 액정표시장치를 개략적으로 도시한 사시도이다.1 is a perspective view schematically illustrating a general liquid crystal display device.

도시한 바와 같이, 일반적인 액정표시장치(51)는 블랙매트릭스(6)와 컬러필터(7a,7b,7c)가 구성되고, 상기 블랙매트릭스와 컬러필터(6,7a,7b,7c)의 하부에 공통전극(9)이 형성된 상부기판(5)과, 화소영역(P)과 화소영역 상에 형성된 화소전극(17)과 스위칭소자(T)를 포함한 어레이배선(12,24)이 형성된 하부기판(22)으로 구성되며, 상기 상부기판(5)과 하부기판(22) 사이에는 액정(11)이 충진되어 있다.As shown in the drawing, a general liquid crystal display device 51 includes a black matrix 6 and color filters 7a, 7b, and 7c, and is disposed below the black matrix and color filters 6,7a, 7b, and 7c. An upper substrate 5 on which the common electrode 9 is formed, and a lower substrate on which the array wirings 12 and 24 including the pixel region P and the pixel electrode 17 and the switching element T formed on the pixel region are formed. 22) and a liquid crystal (11) is filled between the upper substrate (5) and the lower substrate (22).

상기 하부기판(22)은 어레이 기판이 라고도 하며, 스위칭 소자인 박막트랜지스터(T)가 매트릭스형태(matrix type)로 위치하고, 이러한 다수의 박막트랜지스터를 교차하여 지나가는 게이트배선(12)과 데이터배선(24)이 형성된다.The lower substrate 22 is also referred to as an array substrate. The thin film transistor T, which is a switching element, is positioned in a matrix type, and the gate wiring 12 and the data wiring 24 passing through the plurality of thin film transistors cross each other. ) Is formed.

상기 화소영역(P)은 상기 게이트배선(12)과 데이터배선(24)이 교차하여 정의되는 영역이다. 상기 화소영역(P)상에 형성되는 화소전극(17)은 인듐-틴-옥사이드(indium-tin-oxide : ITO)와 같이 빛의 투과율이 비교적 뛰어난 투명도전성 금속을 사용한다. The pixel area P is an area defined by the gate wiring 12 and the data wiring 24 intersecting with each other. The pixel electrode 17 formed on the pixel region P uses a transparent conductive metal having relatively high light transmittance, such as indium-tin-oxide (ITO).

전술한 바와 같이 구성되는 액정표시장치는 상기 박막트랜지스터(T)와 박막트랜지스터에 연결된 화소전극(17)이 매트릭스 내에 존재함으로써 영상을 표시한다. In the liquid crystal display configured as described above, the thin film transistor T and the pixel electrode 17 connected to the thin film transistor are present in a matrix to display an image.

상기 게이트배선(12)은 상기 박막트랜지스터(T)의 제 1 전극인 게이트전극(30)을 구동하는 펄스전압을 전달하며, 상기 데이터배선(24)은 상기 박막트랜지스 터(T)의 소스및 드레인 전극(34,36)을 통해 상기 화소 전극(17)에 데이터 신호를 전달하는 수단이다.The gate wiring 12 transmits a pulse voltage driving the gate electrode 30, which is the first electrode of the thin film transistor T, and the data wiring 24 includes a source and a source of the thin film transistor T. The data signal is transmitted to the pixel electrode 17 through the drain electrodes 34 and 36.

이때, 상기 소스 전극(34)과 이격하여 위치하고 상기 화소 전극(17)과 연결된 드레인 전극(36)과, 상기 소스 및 드레인 전극(34,36)의 하부에는 액티브층(32)이 구성된다.In this case, a drain electrode 36 spaced apart from the source electrode 34 and connected to the pixel electrode 17 is formed, and an active layer 32 is formed under the source and drain electrodes 34 and 36.

전술한 바와 같은 구성으로 제작되는 액정표시장치는 광시야각 구현과 고휘도의 구현을 위한 다양한 연구가 진행되고 있다.In the liquid crystal display device fabricated as described above, various studies have been conducted to implement a wide viewing angle and high brightness.

시야각을 넓히는 방법으로는 한 화소를 여러 영역으로 나누어 각 영역마다 액정분자의 배향을 다르게 하여 화소의 특성이 그 속에 들어있는 여러 영역의 특성의 평균값이 되게 하는 다중도메인(multi-domain)기술, 위상차 필름을 써서 시야방향의 변화에 대한 위상차의 변화를 줄이는 위상보상기술, 수평 방향 전기장(lateral electric field)을 걸어 주어 액정의 방향자가 배향막에 나란한 평면에서 꼬이게 하는 IPS모드, 수직 배향막과 유전율 이방성이 음인 액정(negative LC)을 쓰는 수직 배향(Vertical Alignment)모드 등이 있다.The method of widening the viewing angle includes a multi-domain technique and a phase difference in which a pixel is divided into several regions so that the orientation of liquid crystal molecules is changed in each region so that the characteristics of the pixels become the average of the characteristics of the various regions contained therein. Phase compensation technology to reduce the phase difference change with the change of viewing direction by using film And a vertical alignment mode using a liquid crystal (negative LC).

전술한 다수의 방법 중, 상기 유전율 이방성이 음인 액정을 사용하는 다중도메인 기술에 대해 아래 도면을 참조하여 설명한다.Among the above-described methods, a multidomain technique using liquid crystals having negative dielectric anisotropy will be described with reference to the drawings below.

도 2는 일반적인 MVA 모드 액정표시장치의 한 화소를 확대하여 간략히 표시한 확대 평면도이다.FIG. 2 is an enlarged plan view schematically illustrating an enlarged pixel of a typical MVA mode liquid crystal display device.

도시한 바와 같이, MVA 모드 액정표시장치(40)는 제 1 기판(미도시) 상에 교차하여 화소 영역(P)을 정의하는 게이트 배선(42)과 데이터 배선(52)을 구성 한다.As illustrated, the MVA mode liquid crystal display 40 includes a gate line 42 and a data line 52 crossing the first substrate (not shown) to define the pixel region P. As shown in FIG.

상기 게이트 배선(42)과 데이터 배선(52)의 교차지점에는 게이트 전극(44)과 반도체층(46)과 소스 전극(48)과 드레인 전극(50)을 포함하는 박막트랜지스터(T)를 구성한다.The thin film transistor T including the gate electrode 44, the semiconductor layer 46, the source electrode 48, and the drain electrode 50 is formed at the intersection point of the gate wiring 42 and the data wiring 52. .

상기 화소 영역(P)에는 상기 드레인 전극(50)과 접촉하는 화소 전극(54)이 구성되며 이때, 상기 화소 전극(54)은 전계를 왜곡하기 위한 목적으로 꺽쇄형상(<)의 슬릿(S1, 화소전극이 제거된 부분)을 구성한다.In the pixel region P, a pixel electrode 54 in contact with the drain electrode 50 is configured. In this case, the pixel electrode 54 is a slit S1 having a square shape << for the purpose of distorting an electric field. The pixel electrode is removed).

전술한 바와 같이 구성된 제 1 기판(미도시)과 이격된 제 2 기판(미도시)에는 상기 꺽쇄형상의 슬릿(S1)이 구성된 화소 전극(54)에 대응하여, 꺽쇄형상의 슬릿(S2)이 구성된 공통전극(70)이 구성된다.The second substrate (not shown) spaced apart from the first substrate (not shown) configured as described above corresponds to the pixel electrode 54 having the slits S1 formed therein, and the square slits S2 are formed. The configured common electrode 70 is configured.

이때, 상기 공통 전극(70)의 슬릿(S2)은, 상기 슬릿(S1)이 존재하지 않는 화소 전극(54)에 대응하여 구성하되, 평면적으로는 상기 화소 전극(54)의 슬릿(S1)과 동일한 형상으로 평행하게 이격된 형상이 되도록 한다.In this case, the slit S2 of the common electrode 70 may be configured to correspond to the pixel electrode 54 in which the slit S1 does not exist, and the slit S1 of the pixel electrode 54 may be planarly formed. The shapes are spaced parallel to the same shape.

이와 같이 하면, 상기 화소 전극(54)과 공통 전극(70)에 패턴한 슬릿(S2)의 사이영역이 하나의 도메인(domain)을 이루게 된다.In this manner, a region between the pixel electrode 54 and the slit S2 patterned on the common electrode 70 forms one domain.

따라서, 상기 화소 전극및 공통전극(54,70)에 형성된 슬릿(S1,S2)의 개수가 많을수록 영역이 더욱더 분활되어 다중도메인(multi-domain)이 형성될 수 있고 이에 따라 광시야각을 구현할 수 있게 된다.Therefore, as the number of slits S1 and S2 formed in the pixel electrode and the common electrode 54 and 70 increases, regions may be further divided to form a multi-domain, thereby realizing a wide viewing angle. do.

이에 대해, 이하 도 3을 참조하여 설명한다.This will be described below with reference to FIG. 3.

도 3은 도 2의 Ⅱ-Ⅱ를 따라 절단한 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 2.

도시한 바와 같이, MVA 모드 액정표시장치(50)는 제 1 기판(G1) 상에 슬릿 (S1)이 패턴된 화소 전극(54)이 구성되고, 상기 제 1 기판(G1)과 이격된 제 2 기판(G2)에 슬릿(S2)이 구성된 공통 전극(70)이 구성된다.As illustrated, the MVA mode liquid crystal display device 50 includes a pixel electrode 54 having a slit S1 patterned on a first substrate G1, and a second spaced apart from the first substrate G1. The common electrode 70 in which the slit S2 is formed on the substrate G2 is configured.

이때, 상기 화소전극(54)에 패턴된 슬릿(S1)과 상기 공통 전극(70)에 패턴된 슬릿(S2)은 평면적으로 평행하게 이격된 상태가 되도록 구성된다.In this case, the slit S1 patterned on the pixel electrode 54 and the slit S2 patterned on the common electrode 70 are configured to be spaced apart in parallel in a plane.

이와 같이 하면, 각 슬릿(S1,S2)을 중심으로 전계의 왜곡이 대칭적으로 발생하게 되며, 이러한 전계의 왜곡이 동일한 영역에 위치한 액정(LC)은 동일한 방향으로 배향되는 특성을 가지게 된다.In this case, distortion of an electric field occurs symmetrically around each of the slits S1 and S2, and the liquid crystal LC positioned in the same region of the electric field distortion has the characteristic of being oriented in the same direction.

따라서, 서로 대칭되는 영역(A1,A2)에 위치한 액정을 통과한 빛은 서로 보상되는 효과가 있기 때문에, 측면 관찰시 색반전 현상이 나타나지 않아 광시야각을 구현할 수 있게 된다.Therefore, since the light passing through the liquid crystal located in the areas A1 and A2 symmetrical to each other is compensated for each other, color inversion does not appear during side observation, thereby realizing a wide viewing angle.

그런데, 근래에는 광시야각 구현 뿐 아니라 반대로 개인의 사생활 보호 차원 또는 기밀문서 등을 다룰 때 사용자만이 이를 볼 수 있도록 하는 좁은 시야각(협시야각) 기능이 병행될 수 있도록 요구되고 있다.However, in recent years, it is required not only to implement a wide viewing angle but also to have a narrow viewing angle (narrow viewing angle) function that allows only a user to see it when dealing with privacy protection or confidential documents.

본 발명은 이러한 요구에 부응하기 위해 제안된 것으로, 광시야각과 협시야각을 동시에 구현할 수 있는 MVA 모드 액정표시장치를 제작하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been proposed to meet such a demand, and an object of the present invention is to manufacture an MVA mode liquid crystal display device capable of simultaneously implementing a wide viewing angle and a narrow viewing angle.

전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 다중도메인 수직 배향모드 액정표시장치는 다수의 화소 영역이 구성되고 서로 이격하여 합착된 제 1 기판과 제 2 기판과; 상기 제 1 기판 상에 교차하여 구성된 게이트 배선과 데이터 배선과; 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차지점에 구성된 박막트랜지스터와; 상기 화소 영역에 위치하고, 슬릿 패턴을 포함하는 화소 전극과; 상기 제 2 기판의 일면에 구성되고, 평면적으로 상기 화소 전극의 슬릿패턴과 이격된 위치에 구성된 슬릿패턴을 포함하는 제 1 공통전극과; 상기 제 1 공통전극의 슬릿패턴에 대응하여 이와 동일한 형상으로 구성된 제 2 공통 전극을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a multi-domain vertical alignment mode liquid crystal display device including: a first substrate and a second substrate, each of which includes a plurality of pixel regions and is bonded to be spaced apart from each other; Gate wiring and data wiring intersecting on said first substrate; A thin film transistor configured at an intersection point of the gate line and the data line; A pixel electrode positioned in the pixel area and including a slit pattern; A first common electrode formed on one surface of the second substrate and including a slit pattern planarly spaced from the slit pattern of the pixel electrode; And a second common electrode having the same shape as the slit pattern of the first common electrode.

상기 화소 전극과 제 1 공통 전극의 슬릿패턴과 상기 제 2 공통전극은 꺽쇄형상(<)인 것을 특징으로 한다.The slit pattern of the pixel electrode, the first common electrode, and the second common electrode may have a square shape (<).

상기 제 1 공통 전극과 제 2 공통전극은 절연층(컬러필터층)을 사이에 두고 위치한다.The first common electrode and the second common electrode are positioned with an insulating layer (color filter layer) interposed therebetween.

본 발명에 따른 다른 특징에 따른 다중 도메인 액정표시장치의 제조방법은 제 1 기판과 제 2 기판을 준비하는 단계와; 상기 제 1 기판 상에 교차하여 화소영역을 정의하는 게이트 배선과 데이터 배선을 형성하는 단계와; 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차지점에 박막트랜지스터를 형성하는 단계와; 상기 화소 영역에 슬릿 패턴을 포함하는 화소 전극을 형성하는 단계와; 상기 제 2 기판의 일면에 평면적으로 상기 화소 전극의 슬릿패턴과 이격된 위치에 슬릿패턴을 포함하는 제 1 공통전극을 형성하는 단계와; 상기 제 1 공통전극의 슬릿패턴에 대응하여 이와 동 일한 형상으로 제 2 공통 전극을 형성하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a multi-domain liquid crystal display device, comprising: preparing a first substrate and a second substrate; Forming a gate line and a data line crossing the first substrate to define a pixel area; Forming a thin film transistor at an intersection point of the gate line and the data line; Forming a pixel electrode including a slit pattern in the pixel region; Forming a first common electrode including a slit pattern at a position spaced apart from the slit pattern of the pixel electrode on one surface of the second substrate; And forming the second common electrode in the same shape as the slit pattern of the first common electrode.

상기 화소 전극과 제 1 공통 전극의 슬릿패턴과 상기 제 2 공통전극은 꺽쇄형상인 것을 특징으로 한다.The slit pattern of the pixel electrode, the first common electrode, and the second common electrode may be square.

상기 제 1 공통 전극과 제 2 공통전극의 사이에는 절연막을 더욱 포함 한다.An insulating film is further included between the first common electrode and the second common electrode.

이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, with reference to the drawings will be described a preferred embodiment according to the present invention.

-- 실시예 --Example

본 발명의 특징은 광시야각과 협시야각을 모두 구현할 수 있도록 슬릿형상이 패턴된 제 2 공통 전극과, 상기 슬릿에 대응한 부분에 이와 동일한 형상의 제 1 공통 전극을 구성하는 이중 공통 전극 구조를 제안하는 것을 특징으로 한다.A feature of the present invention is to propose a second common electrode having a slit pattern patterned to realize both a wide viewing angle and a narrow viewing angle, and a dual common electrode structure constituting the first common electrode having the same shape in a portion corresponding to the slit. Characterized in that.

도 4는 본 발명에 따른 MVA 모드 액정표시장치의 한 화소의 구성을 개략적으로 도시한 확대 평면도이다.4 is an enlarged plan view schematically showing the configuration of one pixel of the MVA mode liquid crystal display according to the present invention.

도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 다중 도메인 액정표시장치(99)는 제 1 기판(미도시)에 교차하여 화소 영역(P)을 정의하는 게이트 배선(102)과 데이터 배선(120)을 구성한다.As shown in the drawing, the multi-domain liquid crystal display device 99 according to the present invention forms a gate line 102 and a data line 120 that define a pixel region P across the first substrate (not shown). .

상기 게이트 배선(102)과 데이터 배선(120)의 교차지점에는 게이트 전극(104)과 반도체층(액티브층(108), 오믹 콘택층(110))과 소스 전극(116)과 드레인 전극(118)으로 구성된 박막트랜지스터(T)를 구성한다.The gate electrode 104 and the semiconductor layer (active layer 108, ohmic contact layer 110), the source electrode 116 and the drain electrode 118 at the intersection of the gate wiring 102 and the data wiring 120 It constitutes a thin film transistor (T) consisting of.

상기 화소 영역(P)에는 상기 드레인 전극(116)과 접촉하는 화소 전극(126)을 구성하며, 상기 화소 전극(126)에는 꺽쇄형상의 슬릿패턴(S1)을 구성한다.A pixel electrode 126 in contact with the drain electrode 116 is formed in the pixel region P, and a slit pattern S1 having a square shape is formed in the pixel electrode 126.

상기 제 1 기판(미도시)과 이격된 제 2 기판(미도시)에는 평면적으로 상기 화소 전극(126)의 슬릿패턴(S1)과 평행하게 이격된 영역에 이와는 동일한 꺽쇄형상의 슬릿패턴(S2)이 구성된 제 2 공통 전극(206)을 구성한다.The second substrate (not shown) spaced apart from the first substrate (not shown) has a square slit pattern S2 that is the same in a region spaced apart in parallel with the slit pattern S1 of the pixel electrode 126 in plan view. This constructed second common electrode 206 is constituted.

또한, 상기 제 2 공통 전극(206)의 상부 또는 하부에 상기 제 2 공통 전극(206)의 슬릿패턴(S2)에 대응하여 이와 동일한 형상으로 제 1 공통 전극(202)을 구성한다.In addition, the first common electrode 202 is formed in the same shape as the slit pattern S2 of the second common electrode 206 above or below the second common electrode 206.

이때, 상기 공통 전극과 화소 전극 각각은 도면에 표시되지는 않았지만 한 몸으로 구성된다.In this case, each of the common electrode and the pixel electrode is configured as a single body although not shown in the drawing.

이와 같이 구성하면, 상기 제 2 공통 전극(206)에만 신호를 인가할 경우, 광시야각을 구현할 수 있게 되고, 상기 제 1 공통 전극(202)과 제 2 공통 전극(206)에 동시에 공통신호를 인가하게 되면 원하던 협시야각을 구현할 수 있게 된다.In this configuration, when a signal is applied only to the second common electrode 206, a wide viewing angle can be realized, and a common signal is simultaneously applied to the first common electrode 202 and the second common electrode 206. This will allow you to implement the desired narrow viewing angle.

이에 대해 이하, 도 5a와 도 5b를 참조하여 설명한다.This will be described below with reference to FIGS. 5A and 5B.

도 5a는 슬릿이 구성된 제 2 공통전극에만 공통신호를 인가하였을 경우, 액정의 움직임을 표시한 도면이고, 도 5b는 슬릿이 구성된 제 2 공통전극과 제 1 공통 전극에 동시에 공통신호를 인가하였을 경우, 액정의 움직임을 표시한 도면이다.5A is a diagram illustrating a liquid crystal movement when the common signal is applied only to the second common electrode including the slit, and FIG. 5B is a diagram when the common signal is simultaneously applied to the second common electrode and the first common electrode including the slit. , Which shows the motion of the liquid crystal.

도 5a에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 다중도메인 액정표시장치(99)는 제 1 기판(100) 상에 슬릿(S1)이 패턴된 화소 전극(126)이 구성되고, 상기 제 1 기판(100)과 이격된 제 2 기판(200)에 슬릿(S2)이 구성된 제 2 공통 전극(206)과 상기 제 2 공통전극(206)의 슬릿(S2)에 대응하여 이와 동일한 형상의 제 1 공통 전극(202)을 구성한다.As shown in FIG. 5A, in the multi-domain liquid crystal display 99 according to the present invention, a pixel electrode 126 having a slit S1 patterned on a first substrate 100 is formed, and the first substrate ( The first common electrode having the same shape corresponding to the second common electrode 206 having the slit S2 formed on the second substrate 200 spaced apart from the 100, and the slit S2 of the second common electrode 206. 202 is configured.

이때, 상기 화소전극(126)에 패턴된 슬릿(S1)과 상기 공통 전극(206)에 패턴된 슬릿(S2)은 평면적으로 평행하게 이격된 상태가 되도록 구성된다.In this case, the slit S1 patterned in the pixel electrode 126 and the slit S2 patterned in the common electrode 206 are configured to be spaced apart in parallel in a plane.

전술한 구성에서, 제 2 공통전극(206)에만 공통 신호를 인가하였을 경우, 제 1 공통전극(202)과 하부의 화소 전극(126)사이에만 전계(300)가 발생하게 되고, 전계(300)는 상기 제 2 공통 전극 및 화소 전극(206,126)의 각 슬릿(S2,S1)을 중심으로 대칭적으로 왜곡된다.In the above configuration, when the common signal is applied only to the second common electrode 206, the electric field 300 is generated only between the first common electrode 202 and the lower pixel electrode 126, and the electric field 300 is applied. Is symmetrically distorted around the slits S2 and S1 of the second common electrode and the pixel electrodes 206 and 126.

따라서, 액정(LC) 또한 상기 제 2 공통 전극(206)과 화소 전극(126)의 슬릿(S2,S1)을 중심으로 대칭되는 방향으로 배향된다.Accordingly, the liquid crystal LC is also aligned in a symmetrical direction with respect to the slits S2 and S1 of the second common electrode 206 and the pixel electrode 126.

그러나, 도 5b에 도시한 바와 같이, 상기 제 1 공통 전극(202)과 제 2 공통 전극(206)에 모두 공통 신호가 인가되었을 경우, 상기 제 1 공통전극(202)에 패턴된 슬릿(S1)은 상기 제 2 공통 전극(206)에 의해 제 기능을 하지 못하게 된다.However, as shown in FIG. 5B, when a common signal is applied to both the first common electrode 202 and the second common electrode 206, the slit S1 patterned on the first common electrode 202. Cannot function properly by the second common electrode 206.

즉, 슬릿(S2)부분에도 정상적으로 수직전계(310)가 발생하기 때문에 결국 화소 전극(126)에 형성된 슬릿(S1)을 중심으로만 전계의 왜곡이 발생하게 된다.That is, since the vertical electric field 310 is normally generated in the slit S2, the distortion of the electric field occurs only around the slit S1 formed in the pixel electrode 126.

결국, 상기 제 2 공통전극(206)의 신호에 의해 도메인의 개수가 줄어드는 결과가 되며 따라서, 시야각 또한 좁아지게 되는 것이다.As a result, the number of domains is reduced by the signal of the second common electrode 206, so that the viewing angle is also narrowed.

이때, 상기 제 1 및 제 2 공통 전극(202,206)에 동시에 신호를 인가하는 경우와 상기 제 2 공통 전극(206)에만 공통 신호를 인가할 수 있는 경우는 회로적으로 간단한 변경에 의해 가능하다.In this case, the case where a signal is simultaneously applied to the first and second common electrodes 202 and 206 and a case where the common signal can be applied to only the second common electrode 206 can be changed by a simple circuit.

예를 들면, 액정패널의 비표시 영역에 스위칭 소자(미도시)를 구성하고 이에 상기 제 1 공통전극(202)과 제 2 공통전극(206)을 연결한다. For example, a switching element (not shown) is formed in the non-display area of the liquid crystal panel, and the first common electrode 202 and the second common electrode 206 are connected to each other.

상기 스위칭 소자가 오프 상태(off state)일 경우에는, 상기 제 1 공통전극(202)에만 공통신호가 흐르도록 하고, 상기 스위칭 소자가 온 상태(on state)일 경우에는 상기 스위칭 소자를 통해 상기 제 1 공통 전극(202)과 제 2 공통 전극(206)이 연결되어 두 전극에 동일한 공통 신호가 인가되도록 하는 방법을 사용하면 된다.When the switching element is in an off state, the common signal flows only to the first common electrode 202. When the switching element is in an on state, the common signal flows through the switching element. The first common electrode 202 and the second common electrode 206 may be connected to each other so that the same common signal may be applied to the two electrodes.

다른 방법으로는, 상기 제 1 공통전극(202)과 제 2 공통 전극(206)이 별도의 신호배선에 연결되도록 하고, 각 전극으로 인가되는 소스(source)를 달리하며, 소스는 시스템의 외부에서 스위치를 통해 조절하는 방법을 사용할 수 있다.Alternatively, the first common electrode 202 and the second common electrode 206 may be connected to separate signal lines, and different sources may be applied to each electrode, and the source may be external to the system. You can use the switch to adjust.

전술한 구성으로 광시야각과 협시야각을 구현할 수 있는 MVA 모드 액정표시장치를 제작할 수 있게 된다.With the above-described configuration, it is possible to manufacture an MVA mode liquid crystal display device capable of realizing a wide viewing angle and a narrow viewing angle.

이하, 도 6과 도 7을 참조하여 본 발명에 따른 다중 도메인 액정표시장치의 어레이기판과 컬러필터 기판의 제조방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing an array substrate and a color filter substrate of a multi-domain liquid crystal display according to the present invention will be described with reference to FIGS. 6 and 7.

도 6a 내지 도 6d는 다중도메인 모드 액정표시장치용 어레이기판을 도 4의 Ⅳ-Ⅳ를 따라 절단하여, 본 발명의 공정순서에 따라 도시한 공정단면도이다.6A through 6D are cross-sectional views of an array substrate for a multi-domain mode liquid crystal display device taken along the line IV-IV of FIG. 4 and in accordance with the process sequence of the present invention.

도 6a에 도시한 바와 같이, 기판(100)상에 도전성 금속을 증착하고 패턴하여, 일 방향으로 연장된 게이트 배선(도 4의 102)과 게이트 전극(104)을 형성 한다.As shown in FIG. 6A, a conductive metal is deposited and patterned on the substrate 100 to form a gate wiring 102 (see FIG. 4) and a gate electrode 104 extending in one direction.

상기 도전성 금속은 알루미늄(Al), 알루미늄합금(AlNd), 크롬(Cr), 구리(Cu), 티타늄(Ti), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W)등을 포함하는 저항이 낮은 도전성 금속 그룹을 말하며, 이러한 금속 그룹 중 선택된 하나 또는 둘 이상의 금속을 증착 하고 패턴하여 상기 게이트 배선(도 4의 102)과 게이트 전극(104)을 형성할 수 있다.The conductive metal may be a low resistance conductive metal group including aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd), chromium (Cr), copper (Cu), titanium (Ti), molybdenum (Mo), tungsten (W), and the like. In other words, one or more selected metals of the metal group may be deposited and patterned to form the gate wiring 102 (see FIG. 4) and the gate electrode 104.

이때, 게이트 배선(도 4늬 102)의 일부 또는 게이트 배선(102)에서 돌출 연장한 부분을 형성하며 게이트 전극(104)으로 한다.At this time, a part of the gate wiring (FIG. 4, 102) or a portion protruding and extending from the gate wiring 102 is formed and is referred to as the gate electrode 104.

다음으로, 상기 게이트 배선 및 게이트 전극(102,104)이 형성된 기판(100)의 전면에 게이트 절연막(106)을 형성한다.Next, a gate insulating layer 106 is formed on the entire surface of the substrate 100 on which the gate wirings and the gate electrodes 102 and 104 are formed.

상기 게이트 절연막(106)은 질화 실리콘(SiNX)과 산화 실리콘(SiO2)을 포함하는 무기절연물질 그룹 중 하나 또는 그 이상의 물질을 선택 증착하여 형성한다.The gate insulating layer 106 is formed by selectively depositing one or more materials from an inorganic insulating material group including silicon nitride (SiN X ) and silicon oxide (SiO 2 ).

다음으로, 상기 게이트 절연막(106)이 형성된 기판(100)의 전면에 비정질 실리콘(a-Si:H)과 불순물이 도핑된 비정질 실리콘(n+ 또는 p+ a-Si:H)을 증착하고 패턴하여, 상기 게이트 전극(104)에 대응하는 상부에 액티브층(108)과 오믹 콘택층(110)을 형성한다.Next, amorphous silicon (a-Si: H) and amorphous silicon (n + or p + a-Si: H) doped with impurities are deposited and patterned on the entire surface of the substrate 100 on which the gate insulating layer 106 is formed. The active layer 108 and the ohmic contact layer 110 are formed on the gate electrode 104.

이때, 상기 오믹 콘택층(110)은 비정질 실리콘층을 형성한 후, 비정질 실리콘의 표면에 불순물을 도핑(doping)하는 방식으로 형성할 수 도 있다.In this case, the ohmic contact layer 110 may be formed by forming an amorphous silicon layer and then doping impurities on the surface of the amorphous silicon.

도 6b에 도시한 바와 같이, 상기 액티브층(108)과 오믹 콘택층(110)이 형성된 기판(100)의 전면에 앞서 언급한 도전성 금속 그룹 중 선택된 하나 또는 그 이상의 물질을 증착하고 패턴하여, 상기 오믹 콘택층(110)의 상부에 이격된 소스 전극(118)과 드레인 전극(118)을 형성하고, 상기 소스 전극(116)에 연결되고 상기 게이트 배선(102)과 교차하는 데이터 배선(도 4의 114)을 형성 한다.As shown in FIG. 6B, one or more materials selected from the aforementioned conductive metal groups are deposited and patterned on the entire surface of the substrate 100 on which the active layer 108 and the ohmic contact layer 110 are formed. The data line 118 and the drain electrode 118 spaced apart from each other on the ohmic contact layer 110 are formed, and the data line connected to the source electrode 116 and intersects the gate line 102 (see FIG. 4). 114).

도 6c에 도시한 바와 같이, 상기 소스 및 드레인 전극(116,118)과 데이터 배선(도 4의 114)과 섬형상의 금속층이 형성된 기판(100)의 전면에 질화 실리콘(SiNX)과 산화 실리콘(SiO2)을 포함하는 무기절연물질 그룹중 선택된 하나 또는 그 이상의 물질을 증착하여 보호막(122)을 형성한다.As shown in FIG. 6C, silicon nitride (SiN X ) and silicon oxide (SiO) are formed on the entire surface of the substrate 100 on which the source and drain electrodes 116 and 118, the data line (114 in FIG. 4) and the island-shaped metal layer are formed. A protective film 122 is formed by depositing one or more materials selected from the group of inorganic insulating materials including 2 ).

이때, 상기 보호막은 전술한 무기절연막 뿐 아니라 경우에 따라서, 벤조사이클로부텐(BCB)과 아크릴(acryl)계 수지(resin)를 포함하는 유기절연물질 그룹 중 선택된 하나 또는 그 이상의 물질을 도포하여 형성할 수도 있다.In this case, the protective layer may be formed by coating one or more materials selected from the group of organic insulating materials including benzocyclobutene (BCB) and acrylic resin (resin) as well as the inorganic insulating film described above. It may be.

연속하여, 상기 보호막(122)을 패턴하는 공정을 진행하여 상기 드레인 전극(116)의 일부를 노출하는 드레인 콘택홀(124)을 형성 한다.Subsequently, a process of patterning the passivation layer 122 is performed to form a drain contact hole 124 exposing a part of the drain electrode 116.

도 6d에 도시한 바와 같이, 상기 드레인 콘택홀(124)을 포함하는 보호막(122)이 형성된 기판(100)의 전면에 인듐-틴-옥사이드(ITO)와 인듐-징크-옥사이드(IZO)를 포함하는 투명한 도전성 금속그룹 중 선택된 하나를 증착하고 패턴하여, 상기 드레인 전극(118)과 접촉하는 화소 전극(126)을 형성한다.As shown in FIG. 6D, indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO) are included on the entire surface of the substrate 100 on which the passivation layer 122 including the drain contact hole 124 is formed. A selected one of the transparent conductive metal groups is deposited and patterned to form the pixel electrode 126 in contact with the drain electrode 118.

이때, 화소 영역(P)의 중심을 기준으로 상.하 대칭되는 방향으로 꺽쇄형상(<)의 슬릿(S1)을 구성한다.At this time, the slits S1 having a square shape <are formed in a direction that is symmetrical with respect to the center of the pixel region P.

이상과 같은 방법으로 본 발명에 따른 MVA 모드 액정표시장치용 어레이기판을 제작할 수 있다.According to the above method, an array substrate for an MVA mode liquid crystal display device according to the present invention can be manufactured.

이하, 전술한 바와 같은 공정으로 제작한 어레이 기판과 합착되는 컬러필터 기판의 제조공정을 이하, 공정 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, the manufacturing process of the color filter substrate bonded to the array substrate produced by the above-mentioned process is demonstrated with reference to a process drawing.

도 7a 내지 도 7b는 다중도메인 모드 액정표시장치용 컬러필터기판을 도 4의 Ⅴ-Ⅴ를 따라 절단하여, 본 발명의 공정순서에 따라 도시한 공정 단면도이다.7A to 7B are cross-sectional views illustrating a color filter substrate for a multi-domain mode liquid crystal display device taken along the line VV of FIG. 4 and in accordance with the process sequence of the present invention.

도 7a에 도시한 바와 같이, 절연 기판(200)상에 화소 영역(P)을 정의하고, 화소 영역에 대응하여 최소 2개 이상의 이격된 꺽쇄형상으로 구성된 제 1 공통 전극(202)을 형성한다.As illustrated in FIG. 7A, the pixel region P is defined on the insulating substrate 200, and a first common electrode 202 having at least two spaced apart squares is formed to correspond to the pixel region.

다음으로, 상기 제 2 공통 전극(202)이 형성된 화소 영역(P)에 대응하여 컬러필터(color filter, 204)를 형성한다.Next, a color filter 204 is formed corresponding to the pixel region P in which the second common electrode 202 is formed.

상기 컬러필터(color filter)는 적,녹,청색의 컬러필터를 사용하며, 스트라이프 또는 모자이크 형상으로 형성할 수 있다.The color filter uses red, green, and blue color filters, and may be formed in a stripe or mosaic shape.

도 7b에 도시한 바와 같이, 상기 컬러필터(204)의 상부에는 상기 제 1 공통 전극(202)에 대응하여 이와 동일한 형상의 슬릿패턴(S2)이 형성된 제 2 공통 전극(206)을 형성한다.As illustrated in FIG. 7B, a second common electrode 206 having a slit pattern S2 having the same shape is formed on the color filter 204 to correspond to the first common electrode 202.

이때, 바람직하게는 상기 제 1 공통 전극(202)은 상기 제 2 공통 전극(206)과 동일하게 투명 전극으로 형성한다.In this case, preferably, the first common electrode 202 is formed of a transparent electrode in the same manner as the second common electrode 206.

전술한 바와 같은 공정으로 본 발명에 따른 다중도메인 모드 액정표시장치용컬러필터 기판을 제작할 수 있다.According to the above-described process, a color filter substrate for a multi-domain mode liquid crystal display device according to the present invention can be manufactured.

이때, 상기 꺽쇄형상의 제 1 공통 전극(202)은 기판(200)에 먼저 형성할 수도 있고 나중에 형성할 수도 있다.In this case, the first first common electrode 202 may be formed on the substrate 200 or may be formed later.

또한, 상기 제 1 및 제 2 공통 전극사이에는 절연막 층을 더욱 구성할 수 있다.In addition, an insulating film layer may be further configured between the first and second common electrodes.

도 8은 본 발명의 다른 예에 따른 다중도메인 모드 액정표시장치의 일부를 도시한 단면도이다.8 is a cross-sectional view illustrating a part of a multi-domain mode liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention.

도시한 바와 같이, 제 1 기판(300)상에는 슬릿패턴(S1)이 구성된 화소 전극(302)을 구성한다. 앞서 언급한 바와 같이, 상기 슬릿패턴(S1)은 평면적으로 꺽쇄형상(<)으로 구성한다.As illustrated, the pixel electrode 302 having the slit pattern S1 is formed on the first substrate 300. As mentioned above, the slit pattern S1 is formed in a square shape (<) in a plane.

상기 제 1 기판(300)과 마주보는 제 2 기판(400)의 일면에는 상기 화소 전극(302)에 형성한 꺽쇄형상과 평면적으로 동일한 형상의 꺽쇄형 슬릿패턴(S2)을 포함하는 제 1 공통전극(402)을 구성한다.A first common electrode on one surface of the second substrate 400 facing the first substrate 300 includes a square slit pattern S2 having the same planar shape as the square formed on the pixel electrode 302. 402 is configured.

상기 제 1 공통 전극(402)의 상부에는 컬러필터층(404)을 형성하고, 상기 컬러필터층(404)의 상부에는 상기 제 1 공통전극(402)의 슬릿패턴(S2) 하부에 상기 슬릿패턴(S2)과 동일한 형상의 제 2 공통전극(406)을 형성한다.The color filter layer 404 is formed on the first common electrode 402, and the slit pattern S2 is disposed below the slit pattern S2 of the first common electrode 402 on the color filter layer 404. The second common electrode 406 having the same shape as) is formed.

이와 같은 구성 또한, 앞서 언급한 바와 같이 슬릿패턴(S2)이 구성된 제 1 공통전극(402)에만 신호를 인가할 경우 광시야각을 구현할 수 있지만, 도시한 바와 같이 상기 제 1 공통전극(402)과 제 2 공통 전극(406)에 동시에 공통 신호를 인가할 경우, 상기 제 2 공통전극(406)에 의해 상기 슬릿(S2)에 대응한 부분에도 수직전계(500)가 발생하기 때문에 시야각이 좁아지는 결과를 얻을 수 있다.As described above, when a signal is applied only to the first common electrode 402 having the slit pattern S2 as described above, a wide viewing angle may be realized, but as shown in FIG. When the common signal is simultaneously applied to the second common electrode 406, the viewing angle is narrowed because the vertical electric field 500 is also generated at the portion corresponding to the slit S2 by the second common electrode 406. Can be obtained.

따라서, 본 발명에 따라 MVA 모드 액정표시장치를 제작하게 되면 아래와 같은 효과를 얻을 수 있다.Therefore, when the MVA mode liquid crystal display device is manufactured according to the present invention, the following effects can be obtained.

첫째, 슬릿패턴이 형성된 공통전극의 상기 슬릿패턴에 대응하여 슬릿패턴과 동일한 형상의 별도의 공통 전극을 더욱 형성하여, 상기 두 전극에 동일한 신호를 인가하였을 경우에는 협시야각을 얻을 수 있고, 상기 슬릿이 패턴된 공통전극에만 공통신호를 인가하였을 경우에는 광시야각을 얻을 수 있는 액정표시장치를 제작할 수 있는 효과가 있다.First, a separate common electrode having the same shape as the slit pattern is further formed to correspond to the slit pattern of the common electrode on which the slit pattern is formed, and when the same signal is applied to the two electrodes, a narrow viewing angle can be obtained. When the common signal is applied only to the patterned common electrode, the liquid crystal display device having a wide viewing angle can be obtained.

둘째, 광시야각 및 협시야각 기능을 가지고 있으므로 제품의 경쟁력을 높일 수 있는 효과가 있다.Second, since it has a wide viewing angle and narrow viewing angle function, it can increase the competitiveness of the product.

셋째, 공통전극에 전압 인가여부를 조절하여 시야각을 조절할 수 있으므로, 단위화소별 별도의 스위칭이 필요하지 않으므로 구조가 간단한 효과가 있다.Third, since the viewing angle can be adjusted by controlling whether voltage is applied to the common electrode, a separate structure is not required for each unit pixel, so the structure has a simple effect.

Claims (6)

다수의 화소 영역이 구성되고 서로 이격하여 합착된 제 1 기판과 제 2 기판과;A first substrate and a second substrate, each of which includes a plurality of pixel regions and is bonded to each other; 상기 제 1 기판 상에 교차하여 구성된 게이트 배선과 데이터 배선과;Gate wiring and data wiring intersecting on said first substrate; 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차지점에 구성된 박막트랜지스터와;A thin film transistor configured at an intersection point of the gate line and the data line; 상기 화소 영역에 위치하고, 슬릿 패턴을 포함하는 화소 전극과;A pixel electrode positioned in the pixel area and including a slit pattern; 상기 제 2 기판의 일면에 구성되고, 평면적으로 상기 화소 전극의 슬릿패턴과 이격된 위치에 구성된 슬릿패턴을 포함하는 제 1 공통전극과;A first common electrode formed on one surface of the second substrate and including a slit pattern planarly spaced from the slit pattern of the pixel electrode; 상기 제 1 공통전극의 슬릿패턴에 대응하여 이와 동일한 형상으로 구성된 제 2 공통 전극A second common electrode having the same shape as the slit pattern of the first common electrode 을 포함하는 다중도메인 수직 배향모드 액정표시장치.Multi-domain vertical alignment mode liquid crystal display comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 화소 전극과 제 1 공통 전극의 슬릿패턴과 상기 제 2 공통전극은 꺽쇄형상(<)인 것을 특징으로 하는 다중도메인 수직 배향모드 액정표시장치.And a slit pattern of the pixel electrode, the first common electrode, and the second common electrode are square (<). 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 공통 전극과 제 2 공통전극은 절연층(컬러필터층)을 사이에 두고 위치하는 다중도메인 수직 배향모드 액정표시장치.And the first common electrode and the second common electrode are disposed with an insulating layer (color filter layer) interposed therebetween. 제 1 기판과 제 2 기판을 준비하는 단계와;Preparing a first substrate and a second substrate; 상기 제 1 기판 상에 교차하여 화소영역을 정의하는 게이트 배선과 데이터 배선을 형성하는 단계와;Forming a gate line and a data line crossing the first substrate to define a pixel area; 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차지점에 박막트랜지스터를 형성하는 단계와;Forming a thin film transistor at an intersection point of the gate line and the data line; 상기 화소 영역에 슬릿 패턴을 포함하는 화소 전극을 형성하는 단계와;Forming a pixel electrode including a slit pattern in the pixel region; 상기 제 2 기판의 일면에 평면적으로 상기 화소 전극의 슬릿패턴과 이격된 위치에 슬릿패턴을 포함하는 제 1 공통전극을 형성하는 단계와;Forming a first common electrode including a slit pattern at a position spaced apart from the slit pattern of the pixel electrode on one surface of the second substrate; 상기 제 1 공통전극의 슬릿패턴에 대응하여 이와 동일한 형상으로 제 2 공통 전극을 형성하는 단계Forming a second common electrode in the same shape corresponding to the slit pattern of the first common electrode; 를 포함하는 다중도메인 수직 배향모드 액정표시장치 제조방법.Method of manufacturing a multi-domain vertical alignment mode liquid crystal display comprising a. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 화소 전극과 제 1 공통 전극의 슬릿패턴과 상기 제 2 공통전극은 꺽쇄형상인 것을 특징으로 하는 다중도메인 수직 배향모드 액정표시장치 제조방법.And a slit pattern of the pixel electrode, the first common electrode, and the second common electrode are in the shape of a square. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 제 1 공통 전극과 제 2 공통전극의 사이에 절연막을 포함하는 다중도메인 수직 배향모드 액정표시장치 제조방법.And manufacturing an insulating layer between the first common electrode and the second common electrode.
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