KR20060126159A - Display device and method of manufacturing the same - Google Patents

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KR20060126159A
KR20060126159A KR1020050047860A KR20050047860A KR20060126159A KR 20060126159 A KR20060126159 A KR 20060126159A KR 1020050047860 A KR1020050047860 A KR 1020050047860A KR 20050047860 A KR20050047860 A KR 20050047860A KR 20060126159 A KR20060126159 A KR 20060126159A
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김종오
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삼성전자주식회사
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Abstract

A display device and a manufacturing method thereof are provided to form the second alignment key by a laser marking process instead of the photo process of a black matrix. An LCD(Liquid Crystal Display) panel(400) includes a display area(DA) for displaying an image, a seal line area(SA) for encapsulating the display area and a peripheral area(PA) equipped at the outside of the seal line area. A lower substrate(100) includes a TFT(Thin Film Transistor) layer(120) having plural TFTs formed at the display area on the first insulating substrate(110). A passivation layer(130) is formed on the TFT layer. A color filter(150) is formed on the passivation layer and emits the predetermined color to the light. A pixel electrode(160) is connected electrically to the TFT layer.

Description

표시장치 및 이의 제조방법{DISPLAY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}DISPLAY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}

도 1은 본 발명에 따른 액정표시장치를 개념적으로 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view conceptually illustrating a liquid crystal display according to the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 하부기판을 나타낸 평면도이다.FIG. 2 is a plan view illustrating the lower substrate of FIG. 1.

도 3은 도 2의 Ⅰ-Ⅰ' 선에 따른 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 2.

도 4는 도 1에 도시된 상부기판을 나타낸 평면도이다.4 is a plan view illustrating the upper substrate of FIG. 1.

도 5는 도 4의 Ⅱ-Ⅱ' 선에 따른 단면도이다.FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line II-II ′ of FIG. 4.

도 6은 도 2 및 도 4에 도시된 제1 및 제2 얼라인 키의 얼라인 상태를 나타낸 도면이다.6 is a diagram illustrating an alignment state of the first and second alignment keys illustrated in FIGS. 2 and 4.

도 7은 도 4에 도시된 제2 얼라인 키의 다른 예를 나타낸 사시도이다.FIG. 7 is a perspective view illustrating another example of the second align key illustrated in FIG. 4.

도 8은 도 7의 제2 얼라인 키가 형성된 상부기판을 나타낸 단면도이다.FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating the upper substrate on which the second align key of FIG. 7 is formed.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Explanation of symbols for main parts of drawings *

100 : 하부기판 170 : 게이트 구동부100: lower substrate 170: gate driver

180 : 빛샘 방지막 200 : 상부기판180: light leakage prevention film 200: upper substrate

700 : 제1 얼라인 키 710 : 제2 얼라인 키700: first alignment key 710: second alignment key

본 발명은 표시장치 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 제조 공정을 단순화함과 동시에 얼라인 미스를 방지하기 위한 표시장치 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a display device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a display device and a method of manufacturing the same for simplifying the manufacturing process and preventing alignment miss.

일반적으로, 액정표시장치는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor ; 이하, TFT라 칭함)가 형성된 제1 기판, R,G,B 색화소들로 이루어진 컬러필터가 형성된 제2 기판, 그리고 양 기판 사이에 개재되어 전기적인 신호가 인가됨에 따라 광의 투과 여부를 결정하는 액정을 갖는 액정표시패널을 구비한다. 또한, 액정표시장치는 상기 액정표시패널의 하부에 구성되어 상기 액정표시패널에 광을 제공하는 백라이트 어셈블리를 포함한다. In general, a liquid crystal display device includes a first substrate on which a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) is formed, a second substrate on which a color filter composed of R, G, and B pixels is formed, and an intervening substrate between both substrates. And an liquid crystal display panel having a liquid crystal for determining whether light is transmitted as an electrical signal is applied thereto. In addition, the liquid crystal display device includes a backlight assembly configured under the liquid crystal display panel to provide light to the liquid crystal display panel.

여기서, 상기 제1 기판의 TFT와 제2 기판의 컬러필터의 상호 어셈블리(assembly)가 얼마나 정밀하게 되는지가 액정표시장치의 디스플레이 품질에 상당한 영향을 끼친다. Here, how precisely the assembling of the TFT of the first substrate and the color filter of the second substrate has a significant influence on the display quality of the liquid crystal display device.

이러한, 상기 TFT와 상기 컬러필터의 어셈블리 미스에 따른 액정표시장치의 영향을 감소시키기 위하여 제안된 액정표시장치 구조가 COA(Color Filter On Array)이다. 상기 COA 구조의 액정표시장치는 상기 제1 기판 상에 TFT와 컬러필터가 동시에 형성된 구조를 갖는다.The liquid crystal display structure proposed to reduce the influence of the liquid crystal display device due to the assembly error of the TFT and the color filter is a COA (Color Filter On Array). The liquid crystal display of the COA structure has a structure in which a TFT and a color filter are simultaneously formed on the first substrate.

그러나, 상기 COA 액정표시장치의 제2 기판 상에는 상기 컬러필터의 R,G,B 색화소들 사이로 상기 광이 누설되는 것을 차단하고, 상기 컬러필터를 외곽에서 둘러싸는 블랙 매트릭스가 형성된다. 또한, 상기 제2 기판은 상기 블랙 매트릭스 형 성시 상기 블랙 매트릭스의 포토 공정에 의해 형성된 얼라인 키를 더 포함한다.However, a black matrix is formed on the second substrate of the COA liquid crystal display to prevent the light from leaking between the R, G, and B pixels of the color filter and surround the color filter. The second substrate may further include an alignment key formed by a photo process of the black matrix when forming the black matrix.

상기한 COA 액정표시장치는 상기 얼라인 키 형성을 위한 블랙 매트릭스의 포토 공정이 필요하므로, 제조 공정을 단순화시킬 수 없는 문제점이 있다.The COA liquid crystal display device needs a black matrix photo process for forming the alignment key, and thus there is a problem in that the manufacturing process cannot be simplified.

또한, 상기 제2 기판 상에 상기 블랙 매트릭스가 형성되므로, 상기 제1 기판과 제2 기판의 얼라인 공정시 얼라인 미스에 따른 상기 블랙 매트릭스에 의해 휘도가 저하되는 문제점도 있다.In addition, since the black matrix is formed on the second substrate, luminance may be lowered by the black matrix due to misalignment during the alignment process between the first substrate and the second substrate.

따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 제조공정을 단순화시키기 위한 표시장치를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a display device for simplifying a manufacturing process.

본 발명의 다른 목적은 상기한 표시장치를 제조하기 위한 제조방법을 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide a manufacturing method for manufacturing the display device.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 표시장치는 제1 기판, 제2 기판, 제1 얼라인 키 및 제2 얼라인 키를 포함한다. 상기 제1 기판은 표시영역, 상기 표시영역을 감싸는 실라인 영역 및 상기 실라인 영역의 외측에 형성된 주변영역으로 이루어진 제1 절연기판, 상기 제1 절연기판 상에 형성된 스위칭 소자, 복수의 색화소들로 이루어지고, 상기 스위칭 소자 상부의 상기 표시영역에 형성된 컬러필터 및 상기 컬러필터 상부에 형성되어 상기 스위칭 소자와 전기적으로 연결된 투명전극을 포함한다. 상기 제2 기판은 상기 제1 기판에 대향하고, 제2 절연기판을 갖는다. 상기 제1 얼라인 키는 상기 제1 기판 상의 상기 주변영역에 형성되고, 제2 얼라인 키 는 상기 제1 얼라인 키에 대응하도록 상기 제2 절연기판에 일체로 형성된다.The display device of the present invention for achieving the above object includes a first substrate, a second substrate, a first alignment key and a second alignment key. The first substrate may include a first insulating substrate including a display area, a seal line area surrounding the display area, and a peripheral area formed outside the seal line area, a switching element formed on the first insulating substrate, and a plurality of color pixels. And a color filter formed on the display area above the switching element, and a transparent electrode formed on the color filter and electrically connected to the switching element. The second substrate is opposite to the first substrate and has a second insulating substrate. The first alignment key is formed in the peripheral area on the first substrate, and the second alignment key is integrally formed on the second insulating substrate so as to correspond to the first alignment key.

본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여 제1 표시영역, 제1 실라인 영역 및 제1 주변영역으로 이루어지고, 상기 제1 주변영역에 제1 얼라인 키를 갖는 제1 기판을 제조하고, 상기 제1 기판에 대향하고, 제2 표시영역, 제2 실라인 영역 및 제2 주변영역으로 이루어지며, 상기 제2 주변영역에 레이저 마킹 공정에 의해 상기 제1 얼라인 키에 대응하는 제2 얼라인 키를 갖는 제2 기판을 제조한다. 이어, 상기 제1 및 제2 얼라인 키에 의해 상기 제1 기판과 상기 제2 기판을 상호 얼라인 시킨다.According to another aspect of the present invention, there is provided a first substrate including a first display area, a first seal line area, and a first peripheral area, the first substrate having a first alignment key in the first peripheral area, and A second alignment key facing the first substrate, the second display area comprising a second display area, a second seal line area, and a second peripheral area, and corresponding to the first alignment key by a laser marking process on the second peripheral area; A second substrate having a was prepared. Subsequently, the first substrate and the second substrate are aligned with each other by the first and second alignment keys.

이러한 표시장치 및 이의 제조방법에 따르면, 레이저 마킹 공정에 의해 얼라인 키가 형성되고, 제1 기판 상에 빛샘 방지막이 형성되므로, 얼라인 키와 빛샘 방지를 위한 상부기판의 블랙 매트릭스 공정이 불필요하다.According to such a display device and a method of manufacturing the same, since an alignment key is formed by a laser marking process and a light leakage preventing film is formed on the first substrate, a black matrix process of the upper substrate for preventing the alignment key and light leakage is unnecessary. .

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 표시장치 및 이의 제조방법을 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a display device and a manufacturing method thereof according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 액정표시장치를 개념적으로 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view conceptually illustrating a liquid crystal display according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 액정표시장치는 하부기판(100), 상부기판(200), 하부기판(100)과 상부기판(200) 사이에 형성된 액정층(300)으로 이루어져 영상을 표시하는 액정표시패널(400)을 포함한다. 또한, 본 발명에 따른 액정표시장치는 하부기판(100)의 하부에 구성되어 하부기판(100) 및 상부기판(200)에 광을 제공하는 광 발생장치(500)를 더 포함한다.Referring to FIG. 1, a liquid crystal display according to the present invention is composed of a liquid crystal layer 300 formed between a lower substrate 100, an upper substrate 200, a lower substrate 100, and an upper substrate 200 to display an image. The liquid crystal display panel 400 is included. In addition, the liquid crystal display according to the present invention further includes a light generating device 500 which is configured under the lower substrate 100 to provide light to the lower substrate 100 and the upper substrate 200.

여기서, 액정표시패널(400)은 영상이 표시되는 표시영역(DA), 상기 표시영역(DA)을 감싸는 실라인 영역(SA), 실라인 영역(SA)의 외측에 구비된 주변영역(PA)으 로 이루어진다. The liquid crystal display panel 400 includes a display area DA in which an image is displayed, a seal line area SA surrounding the display area DA, and a peripheral area PA provided outside the seal line area SA. It consists of.

상기 하부기판(100)은 제1 절연기판(110) 상의 표시영역(DA)에 형성되는 다수의 TFT(도시되지 않음)가 형성된 TFT층(120), TFT층(120) 상에 형성된 보호막(130), 보호막(130) 상에 형성되고, 상기 광에 소정색을 발현하는 컬러필터(150) 및 컬러필터(150) 상에 형성되고, TFT층(120)에 전기적으로 연결되는 화소전극(160)을 포함한다. 여기서, TFT층(120)에 형성된 상기 TFT는 게이트 전극, 소오스 전극 및 드레인 전극을 포함하고, 상기 드레인 전극은 화소전극(160)과 전기적으로 연결된다. The lower substrate 100 includes a TFT layer 120 having a plurality of TFTs (not shown) formed in the display area DA on the first insulating substrate 110, and a passivation layer 130 formed on the TFT layer 120. And a pixel electrode 160 formed on the passivation layer 130 and formed on the color filter 150 and the color filter 150 expressing a predetermined color to the light, and electrically connected to the TFT layer 120. It includes. Here, the TFT formed in the TFT layer 120 includes a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode, and the drain electrode is electrically connected to the pixel electrode 160.

또한, 하부기판(100)은 제1 절연기판(110) 상의 표시영역(DA)에 형성되는 복수의 게이트 라인(미도시)과 복수의 데이터 라인(미도시)을 더 포함한다. 상기 복수의 게이트 라인과 상기 복수의 데이터 라인은 서로 절연되어 교차한다.In addition, the lower substrate 100 may further include a plurality of gate lines (not shown) and a plurality of data lines (not shown) formed in the display area DA on the first insulating substrate 110. The plurality of gate lines and the plurality of data lines cross each other insulated from each other.

상기 하부기판(100)과 상부기판(200)은 실라인 영역(SA)에 형성되는 실라인(600)에 의해 견고하게 결합된다. 상기 실라인(600)은 하부기판(100)과 상부기판(200) 사이에 소정 높이의 셀 갭(Cell Gap)을 유지하기 위한 소정 높이를 가지도록 형성된다. 상기 셀 갭 내에 액정층(300)이 형성된다.The lower substrate 100 and the upper substrate 200 are firmly coupled by the seal line 600 formed in the seal line area SA. The seal line 600 is formed to have a predetermined height for maintaining a cell gap of a predetermined height between the lower substrate 100 and the upper substrate 200. The liquid crystal layer 300 is formed in the cell gap.

또한, 하부기판(100)은 제1 절연기판(110) 상의 실라인 영역(SA)에 형성된 게이트 구동부(170)를 더 포함한다. 이때, 게이트 구동부(170)는 하부기판(100)의 좌변에 인접한 실라인 영역(SA) 내에 형성된다. 상기 게이트 구동부(170)는 상기 TFT와 동일한 공정을 통해 형성된다. 또한, 게이트 구동부(170)는 표시영역(SA)에 형성된 상기 복수의 게이트 라인과 전기적으로 연결된다. In addition, the lower substrate 100 may further include a gate driver 170 formed in the seal line area SA on the first insulating substrate 110. In this case, the gate driver 170 is formed in the seal line area SA adjacent to the left side of the lower substrate 100. The gate driver 170 is formed through the same process as the TFT. In addition, the gate driver 170 is electrically connected to the plurality of gate lines formed in the display area SA.

상기 게이트 구동부(170) 상부에는 게이트 구동부(170)의 게이트 신호 배선 사이로 상기 광이 새는 빛샘을 방지하기 위한 빛샘 방지막(180)이 형성된다. 상기 빛샘 방지막(180)은 상기 TFT의 상기 소오스 전극 및 드레인 전극 형성시 동일물질로 이루어지거나 또는 컬러필터(150) 형성시 동일 물질로 이루어진다. 이때, 빛샘 방지막(180)은 게이트 구동부(170) 상부뿐만 아니라 실라인 영역(SA) 전체를 커버하도록 형성된다. 따라서, 빛샘 방지막(180)은 액정표시패널(400)의 테두리를 통해 광이 새는 빛샘 현상을 방지한다.A light leakage prevention layer 180 is formed on the gate driver 170 to prevent light leakage between the gate signal lines of the gate driver 170. The light leakage preventing layer 180 may be formed of the same material when the source electrode and the drain electrode of the TFT are formed or the same material when the color filter 150 is formed. In this case, the light leakage preventing layer 180 is formed to cover not only the gate driver 170 but also the entire seal line area SA. Therefore, the light leakage preventing layer 180 prevents light leakage that leaks through the edge of the liquid crystal display panel 400.

한편, 상부기판(200)의 제2 절연기판(210) 상에는 화소전극(160)에 대향하는 공통전극(220)이 형성된다. 상기 공통전극(220)은 제2 절연기판(210)의 전면에 형성된다. 즉, 공통전극(220)은 제2 절연기판(210) 상의 표시영역(DA), 실라인 영역(SA) 및 주변영역(PA)에 형성된다.Meanwhile, the common electrode 220 facing the pixel electrode 160 is formed on the second insulating substrate 210 of the upper substrate 200. The common electrode 220 is formed on the entire surface of the second insulating substrate 210. That is, the common electrode 220 is formed in the display area DA, the seal line area SA, and the peripheral area PA on the second insulating substrate 210.

본 실시예에서 빛샘 방지막(180)에 의해 게이트 구동부(170)의 게이트 신호배선들 사이 및 액정표시패널(400)의 외곽 테두리로 광이 새는 빛샘 현상이 방지되므로, 제2 절연기판(210)의 외곽을 둘러싸는 블랙 매트릭스가 불필요하다. 또한, 컬러필터(160)가 인접하는 색화소들끼리 일부 오버랩되므로, 색화소들 사이에 매트릭스 형태로 형성되는 블랙 매트릭스도 불필요하다. 따라서, 상부기판(200)에는 공통전극(220) 만이 형성된다. 이로 인해, 본 발명에 따른 액정표시장치는 상부기판(200)과 하부기판(100)의 얼라인 용이한 얼라인 프리(Align Free) 구조이므로, 얼라인 미스에 따른 휘도 변화가 없다.In the present exemplary embodiment, light leakage between the gate signal wires of the gate driver 170 and the outer edge of the liquid crystal display panel 400 is prevented by the light leakage preventing layer 180, thereby preventing the leakage of the second insulating substrate 210. There is no need for a black matrix around the perimeter. In addition, since the color filters 160 partially overlap adjacent color pixels, a black matrix formed in a matrix form between the color pixels is also unnecessary. Therefore, only the common electrode 220 is formed on the upper substrate 200. For this reason, the liquid crystal display according to the present invention has an alignment free structure in which the upper substrate 200 and the lower substrate 100 are easily aligned, and thus there is no change in luminance due to misalignment.

상기 하부기판(100)의 주변영역(PA)에는 하부기판(100)과 상부기판(200)의 얼라인을 위한 제1 얼라인 키(700)가 형성된다. 또한, 상부기판(200)의 주변영역(PA)에는 제1 얼라인 키(700)에 대응하는 제2 얼라인 키(710)가 형성된다. 이때, 제1 얼라인 키(700)는 상기 TFT 형성시 동일 물질에 의해 형성된다. 또한, 제2 얼라인 키(710)는 레이저에 의해 제1 얼라인 키(710)에 대응하도록 제2 절연기판(210)이 소정 깊이로 제거되어 형성된다.A first alignment key 700 for aligning the lower substrate 100 and the upper substrate 200 is formed in the peripheral area PA of the lower substrate 100. In addition, a second alignment key 710 corresponding to the first alignment key 700 is formed in the peripheral area PA of the upper substrate 200. In this case, the first alignment key 700 is formed of the same material when forming the TFT. In addition, the second alignment key 710 is formed by removing the second insulating substrate 210 to a predetermined depth so as to correspond to the first alignment key 710 by a laser.

도 2는 도 1에 도시된 하부기판을 나타낸 평면도이고, 도 3은 도 2의 Ⅰ-Ⅰ' 선에 따른 단면도이다.2 is a plan view illustrating the lower substrate of FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 2.

도 2 및 도 3을 참조하면, 하부기판(100)의 네 개의 모서리 영역 즉, 주변영역(SA)에는 제1 얼라인 키(700)가 형성된다. 상기 제1 얼라인 키(700)는 소정 두께를 갖는 정사각형의 고리 형상을 갖는다. 2 and 3, a first alignment key 700 is formed at four corner regions of the lower substrate 100, that is, the peripheral region SA. The first alignment key 700 has a square annular shape having a predetermined thickness.

또한, 하부기판(100)의 표시영역(DA)에는 TFT(810)가 형성된다. 상기 TFT(810)는 제1 절연기판(110) 상에 순차적으로 형성되는 게이트 전극(811), 게이트 절연막(812), 액티브층(813), 소오스 전극(814) 및 드레인 전극(815)으로 이루어진다. In addition, a TFT 810 is formed in the display area DA of the lower substrate 100. The TFT 810 includes a gate electrode 811, a gate insulating layer 812, an active layer 813, a source electrode 814, and a drain electrode 815 sequentially formed on the first insulating substrate 110. .

상기 TFT(810) 상부에는 보호막(130)이 형성되고, 보호막(130) 상부에는 컬러필터(150)가 형성된다. 상기 컬러필터(150)는 R 색화소(150-R), G 색화소(150-G) 및 B 색화소(150-B)로 이루어진다. 상기 R,G,B 색화소들(150-R,150-G,150-B)은 R,G,B 포토레지스트를 보호막(130) 상에 증착한 후 패터닝함에 의해 형성된다. 이때, R,G,B 색화소들(150-R,150-G,150-B)은 인접하는 색화소와 일부가 오버랩된다.The passivation layer 130 is formed on the TFT 810, and the color filter 150 is formed on the passivation layer 130. The color filter 150 includes an R color 150-R, a G color 150-G, and a B color 150-B. The R, G, and B color pixels 150-R, 150-G, and 150 -B are formed by depositing R, G, and B photoresist on the passivation layer 130 and then patterning the R, G, and B photoresists. In this case, the R, G, and B color pixels 150 -R, 150 -G, and 150 -B overlap with an adjacent color pixel.

상기 컬러필터(150) 상부에는 ITO 또는 IZO에 의한 화소전극(160)이 형성된 다. 상기 화소전극(160)은 소정의 콘택홀을 통해 TFT(810)의 드레인 전극(815)과 전기적으로 연결된다.The pixel electrode 160 formed by ITO or IZO is formed on the color filter 150. The pixel electrode 160 is electrically connected to the drain electrode 815 of the TFT 810 through a predetermined contact hole.

한편, 하부기판(100)의 실라인 영역(SA)에는 도 1의 게이트 구동부(170)가 형성된다. 상기 게이트 구동부(170)는 TFT(810)와 동일 공정시 동일 물질로 이루어진다. 또한, 상기 복수의 게이트 라인에 신호를 제공하는 게이트 구동부(170)의 게이트 신호 배선들(175) 사이를 커버하도록 상부에 빛샘 방지막(180)이 형성된다. 상기 빛샘 방지막(180)은 TFT(810)의 소오스 전극(814) 및 드레인 전극(815) 형성시 동일 물질로 형성된다. 또한, 빛샘 방지막(180)은 컬러필터(150)의 R,G,B 색화소들(150-R,150-G,150-B)을 형성하기 위한 상기 R,G,B 포토 레지스트들에 의해 형성될 수 있다.The gate driver 170 of FIG. 1 is formed in the seal line area SA of the lower substrate 100. The gate driver 170 is made of the same material in the same process as the TFT 810. In addition, the light leakage preventing layer 180 is formed on the upper portion of the gate driver 170 to cover the gate signal lines 175 of the gate driver 170 that provides signals to the plurality of gate lines. The light leakage preventing layer 180 is formed of the same material when the source electrode 814 and the drain electrode 815 of the TFT 810 are formed. In addition, the light leakage preventing layer 180 is formed by the R, G, and B photoresists for forming the R, G, and B color pixels 150-R, 150-G, and 150 -B of the color filter 150. Can be formed.

또한, 주변영역(PA)에는 TFT(810)의 게이트 전극(811) 형성 공정시 동일한 금속물질이 정사각형의 고리 형태로 패터닝되어 제1 얼라인 키(700)가 형성된다. 한편, 제1 얼라인 키(700)는 TFT(810)의 소오스 전극(814) 및 드레인 전극(815) 형성 공정시 동일한 금속 물질에 의해 형성될 수 있다.In addition, the first alignment key 700 is formed in the peripheral area PA by forming the same metal material in the shape of a square ring in the process of forming the gate electrode 811 of the TFT 810. Meanwhile, the first alignment key 700 may be formed of the same metal material in the process of forming the source electrode 814 and the drain electrode 815 of the TFT 810.

도 4는 도 1에 도시된 상부기판을 나타낸 평면도이고, 도 5는 도 4의 Ⅱ-Ⅱ' 선에 따른 단면도이다.4 is a plan view illustrating the upper substrate of FIG. 1, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line II-II ′ of FIG. 4.

도 4 및 도 5를 참조하면, 상부기판(200)의 네 개의 모서리 영역 즉, 주변영역(SA)에 제2 얼라인 키(710)가 형성된다. 상기 제2 얼라인 키(710)는 제2-1 얼라인 키부(712) 및 제2-2 얼라인 키부(714)로 이루어진다. 상기 제2-1 얼라인 키부(712)는 도 2의 제1 얼라인 키(700)에 내부에 대응하고, 정사각형 형상을 갖는다. 또한, 제2-2 얼라인 키부(714)는 제1 얼라인 키(700)의 모서리에 대응하고, 삼각형 형상을 갖는다. 제2-2 얼라인 키부(714)는 제1 얼라인 키(700)의 네 개의 모서리에 각각 대응되도록 네 개가 형성된다.4 and 5, a second alignment key 710 is formed in four corner regions of the upper substrate 200, that is, the peripheral region SA. The second alignment key 710 includes a 2-1 alignment key portion 712 and a 2-2 alignment key portion 714. The 2-1 alignment key part 712 corresponds to the inside of the first alignment key 700 of FIG. 2 and has a square shape. In addition, the second-second alignment key unit 714 corresponds to an edge of the first alignment key 700 and has a triangular shape. Four second-2 alignment keys 714 are formed to correspond to four corners of the first alignment key 700.

상기 제2 얼라인 키(710)는 레이저 마킹 공정에 의해 형성된다. 즉, 제2-1 얼라인 키부(712)는 제1 얼라인 키(700)에 대응하는 영역의 제2 절연기판(210)이 정사각형 형상으로 소정 깊이 만큼 제거되어 형성된다. 또한, 제2-2 얼라인 키부(714)는 상기 레이저에 의해 제1 얼라인 키(700)에 대응하는 영역의 제2 절연기판(210)이 삼각형 형상으로 소정 깊이 만큼 제거되어 형성된다.The second alignment key 710 is formed by a laser marking process. That is, the second-1 alignment key part 712 is formed by removing the second insulating substrate 210 in a region corresponding to the first alignment key 700 by a predetermined depth. In addition, the second-second alignment key unit 714 is formed by removing the second insulating substrate 210 in a region corresponding to the first alignment key 700 by the laser by a predetermined depth.

또한, 상부기판(200)은 제2 얼라인 키(710)가 형성된 제2 절연기판(210) 전면에 ITO 또는 IZO가 증착되어 공통전극(220)이 형성된다. In addition, the upper substrate 200 has ITO or IZO deposited on the entire surface of the second insulating substrate 210 on which the second alignment key 710 is formed, thereby forming the common electrode 220.

이처럼, 제2 얼라인 키(710)가 레이저 마킹 공정에 의해 형성되므로, 제2 얼라인 키 형성을 위한 블랙 매트릭스의 포토 공정이 불필요하므로, 상부기판(200)의 제조 공정이 단순해진다. As such, since the second alignment key 710 is formed by the laser marking process, the photo matrix of the black matrix for forming the second alignment key is unnecessary, thereby simplifying the manufacturing process of the upper substrate 200.

또한, 컬러필터(150)의 색화소들 사이와 게이트 구동부(170)의 게이트 신호 배선(175) 사이로 광이 새는 것을 방지하기 위한 블랙 매트릭스가 상부기판(200)에 형성되지 않는다. 따라서, 상부기판(200)과 하부기판(100)의 얼라인 미스에 따른 휘도 변화를 방지할 수 있다. Also, no black matrix is formed on the upper substrate 200 to prevent light leakage between the color pixels of the color filter 150 and the gate signal line 175 of the gate driver 170. Accordingly, it is possible to prevent a change in luminance due to misalignment between the upper substrate 200 and the lower substrate 100.

도 6은 도 2 및 도 4에 도시된 제1 및 제2 얼라인 키의 얼라인 상태를 나타낸 도면이다.6 is a diagram illustrating an alignment state of the first and second alignment keys illustrated in FIGS. 2 and 4.

도 6을 참조하면, 제1 얼라인 키(700)는 소정 두께를 갖는 정사각형 띠 형상 을 가지고, 제2 얼라인 키(710)의 제2-1 얼라인 키부(712)는 정사각형 형상을 가지며, 제1 얼라인 키(700)의 중심 영역에 형성된다. 또한, 제2 얼라인 키(710)의 제2-2 얼라인 키부(714)는 삼각형 형상을 가지고, 제1 얼라인 키(700)의 모서리에 대응하는 영역에 형성된다.Referring to FIG. 6, the first alignment key 700 has a square strip shape having a predetermined thickness, and the second-first alignment key portion 712 of the second alignment key 710 has a square shape. It is formed in the center area of the first alignment key 700. In addition, the second-second alignment key portion 714 of the second alignment key 710 has a triangular shape and is formed in an area corresponding to an edge of the first alignment key 700.

여기서, 소정의 얼라인 계측장치는 제2 얼라인 키(710)의 제2-1 얼라인 키부(712)가 제1 얼라인 키(700)의 중심 영역에서 어느 정도를 벗어나는 지를 계측함에 따라 하부기판(100)과 상부기판(200)의 얼라인 정도를 판단한다. 또한, 제1 얼라인 키(700)와 제2-2 얼라인 키부(714)의 오버랩 위치를 계측함에 따라 하부기판(100)과 상부기판(200)의 얼라인 미스 방향을 판단한다.Here, the predetermined alignment measuring device measures a lower portion of the second alignment key 710 of the second alignment key 710 by measuring the deviation from the center area of the first alignment key 700. The alignment degree between the substrate 100 and the upper substrate 200 is determined. In addition, the alignment misdirection direction of the lower substrate 100 and the upper substrate 200 is determined by measuring the overlap position between the first alignment key 700 and the second-2 alignment key portion 714.

본 발명은 제1 얼라인 키(700)가 정사각형의 띠 형상을 가지고, 제2 얼라인 키(710)가 제1 얼라인 키(700)의 내부에 위치하는 정사각형 형상 및 모서리에 대응하는 삼각형 형상을 가지는 경우를 예로 설명하였으나, 다양한 형상을 가질 수 있음은 자명하다.According to the present invention, the first alignment key 700 has a square strip shape, and the second alignment key 710 has a triangular shape corresponding to a square shape and an edge located inside the first alignment key 700. Although the case has been described as an example, it is apparent that it can have a variety of shapes.

또한, 본 발명은 제2 얼라인 키(710)가 레이저 마킹 공정에 의해 제2 절연기판(210)이 소정 깊이로 제거되어 형성된 경우를 예로 들었으나, 다른 형태로 형성될 수 있다.In addition, although the second alignment key 710 is formed by removing the second insulating substrate 210 to a predetermined depth by a laser marking process, the present invention may be formed in another form.

도 7은 도 4에 도시된 제2 얼라인 키의 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 8은 도 7의 제2 얼라인 키가 형성된 상부기판을 나타낸 단면도이다.7 is a perspective view illustrating another example of the second alignment key illustrated in FIG. 4, and FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating an upper substrate on which the second alignment key of FIG. 7 is formed.

도 7 및 도 8을 참조하면, 제2 얼라인 키(910)는 제2-1 얼라인 키부(912) 및 제2-2 얼라인 키부(914)로 이루어진다. 상기 제2-1 및 제2-2 얼라인 키부(912,914) 의 형상은 도 4와 동일하다. 즉, 제2-1 얼라인 키부(912)는 제1 얼라인 키(700) 내부에 위치하고, 정사각형 형상을 갖는다. 제2-2 얼라인 키부(914)는 삼각형 형상을 가지고, 제1 얼라인 키(700)의 모서리에 대응하도록 형성된다.7 and 8, the second align key 910 includes a 2-1 align key portion 912 and a 2-2 align key portion 914. The shapes of the 2-1 and 2-2 alignment key parts 912 and 914 are the same as those of FIG. 4. That is, the 2-1 alignment key part 912 is located inside the first alignment key 700 and has a square shape. The second-2 alignment key portion 914 has a triangular shape and is formed to correspond to an edge of the first alignment key 700.

여기서, 레이저 마킹 공정에 의해 투명한 재질의 제2 절연기판(210) 내부가 정사각형 형상으로 색깔이 변색되어 제2-1 얼라인 키부(912)가 형성된다. 또한, 레이저 마킹 공정에 의해 제2 절연기판(210) 내부가 삼각형 형상으로 색깔이 변색되어 제2-2 얼라인 키부(914)가 형성된다.Here, the inside of the second insulating substrate 210 of the transparent material is discolored in a square shape by a laser marking process, thereby forming the 2-1 alignment key part 912. In addition, the second marking substrate 914 is formed by discoloring the inside of the second insulating substrate 210 in a triangular shape by a laser marking process.

상술한 바와 같이, 본 발명은 하부기판에 형성된 제1 얼라인 키와 상부기판에 레이저 마킹 공정에 의해 형성된 제2 얼라인 키를 포함한다. 또한, 본 발명은 하부기판에 형성되어 게이트 구동부의 게이트 신호 배선 사이 및 액정표시패널의 외곽 테두리로 광이 새는 것을 방지하기 위한 빛샘 방지막을 포함한다.As described above, the present invention includes a first alignment key formed on the lower substrate and a second alignment key formed on the upper substrate by a laser marking process. In addition, the present invention includes a light leakage prevention layer formed on the lower substrate to prevent light leakage between the gate signal wires of the gate driver and to the outer edge of the liquid crystal display panel.

그러므로, 본 발명은 레이저 마킹 공정에 의해 제2 얼라인 키가 형성되므로, 제2 얼라인 키 형성을 위한 블랙 매트릭스의 포토 공정이 불필요하다. 이로 인해 상부기판의 제조공정을 단순화시킬 수 있는 효과가 있다.Therefore, in the present invention, since the second alignment key is formed by the laser marking process, a black matrix photo process for forming the second alignment key is unnecessary. This has the effect of simplifying the manufacturing process of the upper substrate.

또한, 본 발명은 상부기판 상에 블랙 매트릭스가 형성되지 않으므로, 상부기판과 하부기판의 얼라인 공정시 얼라인 미스가 발생되지 않아 휘도를 향상시킬 수 있는 효과도 있다. 이로 인해 액정표시장치의 표시품질을 향상시킬 수 있다.In addition, since the black matrix is not formed on the upper substrate, an alignment miss does not occur during the alignment process of the upper substrate and the lower substrate, thereby improving luminance. As a result, the display quality of the liquid crystal display device can be improved.

본 발명은 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the invention has been described with reference to the examples, those skilled in the art may variously modify and change the invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. You will understand.

Claims (13)

표시영역, 상기 표시영역을 감싸는 실라인 영역 및 상기 실라인 영역의 외측에 형성된 주변영역으로 이루어진 제1 절연기판, 게이트 전극, 소오스 전극 및 드레인 전극으로 이루어져 상기 제1 절연기판 상의 상기 표시영역에 형성된 스위치 소자, 복수의 색화소들로 이루어지고, 상기 스위칭 소자 상부의 상기 표시영역에 형성된 컬러필터 및 상기 컬러필터 상부에 형성되어 상기 스위칭 소자와 전기적으로 연결된 투명전극을 포함하는 제1 기판;A first insulating substrate, a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode formed of a display area, a seal line area surrounding the display area, and a peripheral area formed outside the seal line area, and formed in the display area on the first insulating substrate. A first substrate comprising a switch element, a plurality of color pixels, a color filter formed on the display area above the switching element, and a transparent electrode formed on the color filter and electrically connected to the switching element; 상기 제1 기판에 대향하고, 제2 절연기판을 갖는 제2 기판;A second substrate facing the first substrate and having a second insulating substrate; 상기 제1 기판 상의 상기 주변영역에 형성된 제1 얼라인 키; 및A first alignment key formed in the peripheral area on the first substrate; And 상기 제1 얼라인 키에 대응하도록 상기 제2 절연기판에 일체로 형성된 제2 얼라인 키를 포함하는 표시장치.And a second alignment key integrally formed on the second insulating substrate so as to correspond to the first alignment key. 제1항에 있어서, 상기 제2 얼라인 키는 상기 제2 절연기판이 소정 두께만큼 제거되어 형성된 것을 특징으로 하는 표시장치.The display device of claim 1, wherein the second alignment key is formed by removing the second insulating substrate by a predetermined thickness. 제1항에 있어서, 상기 제2 얼라인 키는 상기 제2 절연기판이 소정 두께만큼 변색되어 형성된 것을 표시장치.The display device of claim 1, wherein the second alignment key is formed by discoloring the second insulating substrate by a predetermined thickness. 제1항에 있어서, 상기 컬러필터는 상기 복수의 색화소들이 인접하는 색화소 들과 일부 오버랩된 것을 특징으로 하는 표시장치.The display device of claim 1, wherein the color filter partially overlaps the plurality of color pixels with adjacent color pixels. 제1항에 있어서, 상기 제1 기판은The method of claim 1, wherein the first substrate 상기 제1 절연기판 상의 상기 주변영역에 형성되어 상기 주변영역으로 광이 새는 것을 방지하기 위한 빛샘 방지막을 더 포함하는 표시장치.And a light leakage prevention layer formed in the peripheral area on the first insulating substrate to prevent light leakage from the peripheral area. 제5항에 있어서, 상기 제1 기판은The method of claim 5, wherein the first substrate 상기 빛샘 방지막 하부의 상기 주변영역의 일부 영역에 형성되어 상기 스위칭 소자에 구동신호를 제공하는 게이트 구동부를 더 포함하는 표시장치.And a gate driver formed in a portion of the peripheral area under the light leakage preventing layer to provide a driving signal to the switching element. 제5항에 있어서, 상기 빛샘 방지막은 상기 소오스 전극 및 드레인 전극과 동일한 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시장치.The display device of claim 5, wherein the light leakage preventing layer is formed of the same material as the source electrode and the drain electrode. 제5항에 있어서, 상기 빛샘 방지막은 상기 복수의 색화소들과 동일한 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시장치.The display device of claim 5, wherein the light leakage preventing layer is formed of the same material as the plurality of color pixels. (a) 제1 표시영역, 제1 실라인 영역 및 제1 주변영역으로 이루어지고, 상기 제1 주변영역에 제1 얼라인 키를 갖는 제1 기판을 제조하는 단계;(a) manufacturing a first substrate including a first display area, a first seal line area, and a first peripheral area, the first substrate having a first alignment key in the first peripheral area; (b) 상기 제1 기판에 대향하고, 제2 표시영역, 제2 실라인 영역 및 제2 주변영역으로 이루어지며, 상기 제2 주변영역에 레이저 마킹 공정에 의해 상기 제1 얼 라인 키에 대응하는 제2 얼라인 키를 갖는 제2 기판을 제조하는 단계; 및(b) a second display area, a second seal line area, and a second peripheral area facing the first substrate, the second peripheral area corresponding to the first alignment key by a laser marking process; Fabricating a second substrate having a second alignment key; And (c) 상기 제1 및 제2 얼라인 키에 의해 상기 제1 기판과 상기 제2 기판을 상호 얼라인 시키는 단계를 포함하는 표시장치의 제조방법.and (c) aligning the first substrate and the second substrate with each other by the first and second alignment keys. 제9항에 있어서, 상기 단계(a)는10. The method of claim 9, wherein step (a) 상기 제1 표시영역에 스위칭 소자를 형성하는 단계;Forming a switching device in the first display area; 상기 제1 실라인 영역에 빛샘을 방지하기 위한 빛샘 방지막을 형성하는 단계;Forming a light leakage prevention layer on the first seal line region to prevent light leakage; 상기 제1 표시영역에서 인접하는 색화소들이 일부 오버랩되도록 형성된 복수의 색화소들로 이루어진 컬러필터를 형성하는 단계; 및Forming a color filter including a plurality of color pixels formed to partially overlap adjacent color pixels in the first display area; And 상기 컬러필터 상부에서 상기 스위칭 소자와 전기적으로 연결되는 투명전극을 형성하는 단계를 포함하고,Forming a transparent electrode on the color filter, the transparent electrode being electrically connected to the switching element; 상기 빛샘 방지막은 상기 스위칭 소자를 이루는 물질을 포함하는 금속막 또는 상기 컬러필터 형성물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.And the light leakage preventing layer is formed of a metal film including the material forming the switching element or the color filter forming material. 제10항에 있어서, 상기 단계(a)는The method of claim 10, wherein step (a) 상기 스위칭 소자 형성시 상기 제1 실라인 영역의 일부에 게이트 구동부를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.And forming a gate driver in a portion of the first seal line region when the switching element is formed. 제9항에 있어서, 상기 단계(b)는The method of claim 9, wherein step (b) 상기 제2 주변영역의 상기 제2 기판을 소정 두께로 제거하여 상기 제2 얼라인 키를 형성하는 단계; 및Removing the second substrate of the second peripheral area to a predetermined thickness to form the second alignment key; And 상기 제2 얼라인 키가 형성된 상기 제2 기판 상에 투명전극을 형성하는 단계를 포함하는 표시장치의 제조방법.And forming a transparent electrode on the second substrate having the second alignment key formed thereon. 제12항에 있어서, 상기 단계(b)는The method of claim 12, wherein step (b) 상기 제2 주변영역의 상기 제2 기판을 변색시켜 상기 제2 얼라인 키를 형성하는 단계; 및Discoloring the second substrate in the second peripheral area to form the second alignment key; And 상기 제2 얼라인 키가 형성된 상기 제2 기판 상에 투명전극을 형성하는 단계를 포함하는 표시장치의 제조방법.And forming a transparent electrode on the second substrate having the second alignment key formed thereon.
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