KR20060125485A - Polishing grindstone - Google Patents

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KR20060125485A
KR20060125485A KR1020060048083A KR20060048083A KR20060125485A KR 20060125485 A KR20060125485 A KR 20060125485A KR 1020060048083 A KR1020060048083 A KR 1020060048083A KR 20060048083 A KR20060048083 A KR 20060048083A KR 20060125485 A KR20060125485 A KR 20060125485A
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KR
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polishing
grinding
rubber
grindstone
porous elastic
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Application number
KR1020060048083A
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Korean (ko)
Inventor
고이치 미야모토
가즈야 아이카와
Original Assignee
구레-노튼 가부시키가이샤
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D13/00Wheels having flexibly-acting working parts, e.g. buffing wheels; Mountings therefor
    • B24D13/02Wheels having flexibly-acting working parts, e.g. buffing wheels; Mountings therefor acting by their periphery
    • B24D13/12Wheels having flexibly-acting working parts, e.g. buffing wheels; Mountings therefor acting by their periphery comprising assemblies of felted or spongy material, e.g. felt, steel wool, foamed latex

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Abstract

A polishing grind stone is provided to improve polishing uniformity and pressure response by using a rubber sponge having a small hardness and a high repulsive elasticity and residual load. A polishing grind stone comprises a cylindrical core(1); a porous elastic member(2) arranged on the cylindrical core; and a polishing layer(4) formed on an outer circumference of the porous elastic member. The porous elastic member is a rubber sponge having a rubber hardness of C-scale 5 to 40 and a repulsive elasticity 50 to 90%. The rubber sponge has 25% compression load 0.010 to 0.200 MPa specified by JISK6767.

Description

연마용 숫돌{POLISHING GRINDSTONE}Grinding Wheels {POLISHING GRINDSTONE}

도 1은 연마용 숫돌의 개략 구성을 나타내는 단면도,1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a grinding wheel;

도 2는 연마용 숫돌의 개략 구성을 나타내는 평면도,2 is a plan view showing a schematic configuration of a grinding wheel;

도 3은 연마용 숫돌을 사용한 연삭방법의 일례를 나타내는 단면도,3 is a cross-sectional view showing an example of a grinding method using a grinding wheel;

도 4는 다공질 탄성체의 반발 탄성의 측정방법을 나타내는 개념도,4 is a conceptual diagram illustrating a method for measuring rebound elasticity of a porous elastic body;

도 5는 다공질 탄성체의 25% 압축 하중값의 측정방법을 나타내는 개념도,5 is a conceptual diagram showing a method for measuring a 25% compressive load value of a porous elastic body;

도 6은 요철을 만들기 위하여 뒷쪽에 테이프를 부착한 피삭재 이면의 사진 대용도,Figure 6 is a photograph substitute of the back side of the workpiece with the tape attached to the back to make the unevenness,

도 7은 실시예 1의 숫돌에 의한 연마 후의 피삭재의 사진 대용도,7 is a photographic substitute for the workpiece after polishing by the whetstone of Example 1,

도 8은 비교예 1의 숫돌에 의한 연마 후의 피삭재의 사진 대용도,8 is a photographic substitute for the workpiece after polishing by the whetstone of Comparative Example 1;

도 9는 비교예 2의 숫돌에 의한 연마 후의 피삭재의 사진 대용도이다. 9 is a photographic substitute for the workpiece after polishing by the whetstone of Comparative Example 2. FIG.

※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ※ Explanation of code for main part of drawing

1 : 심재 2 : 다공질 탄성체1: core material 2: porous elastomer

3 : 보강층 4 : 연마층 3: reinforcing layer 4: polishing layer

5 : 가압 헤드 6 : 다공질 탄성체의 테스트편5 Pressing Head 6 Test Piece of Porous Elastic Body

7 : 하대 8 : 가압방향(상 → 하) 7: Lower side 8: Pressurization direction (upper to lower)

9 : 가압 리턴방향(하 → 상) 10 : 강구(鋼球)9: pressurized return direction (bottom to upper) 10: steel ball

11 : 주축 회전방향 12 : 연마용 숫돌이 받는 힘11: direction of spindle rotation 12: force of grinding wheel

13 : 판형상 피삭재 14 : 백업롤13: plate-like workpiece 14: back-up roll

본 발명은 판형상의 피연삭재의 연마 등에 사용하는 연마용 숫돌에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 금속판 또는 비금속판의 연마 등, 특히 프린트 배선기판의 연마에 사용하는 연마용 숫돌에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a grinding wheel for polishing a plate-shaped workpiece, and more particularly, to a grinding wheel for polishing a metal plate or a nonmetal plate, for example, a polishing of a printed wiring board.

종래, 프린트 배선기판으로 대표되는 판형상 피삭재의 연마숫돌로서 일본국 특개2001-315064호 공보 및 특개2004-50400호 공보에 개시되는 바와 같은 숫돌이 알려져 있다. Background Art Conventionally, grinding wheels disclosed in Japanese Patent Laid-Open Nos. 2001-315064 and 2004-50400 are known as grinding wheels for plate-shaped workpieces represented by printed wiring boards.

판형상 피삭재의 연마에 사용되는 숫돌의 일례는, 도 1에 나타내는 바와 같이 원통형상의 심재(1) 위에 다공질 탄성체(2)를 설치하고, 상기 다공질 탄성체(2)의 바깥 둘레상에 보강층(3)을 개재시켜 연마층(4)을 설치한 구성을 가진다. 원통부재의 재질은 예를 들면 종이관에 페놀수지를 함침시켜 굳힌 이른바 페놀관 등의 가볍고 강성이 뛰어난 것이 사용되고, 그 바깥 둘레에 다공질 탄성체가 적어도 1층 설치된다. As an example of a grindstone used for polishing a plate-like workpiece, a porous elastic body 2 is provided on a cylindrical core 1 as shown in FIG. 1, and the reinforcing layer 3 is formed on the outer periphery of the porous elastic body 2. It has a structure which provided the abrasive | polishing layer 4 through this. As for the material of the cylindrical member, for example, a light and rigid material such as a so-called phenol tube hardened by impregnating a phenolic resin into a paper tube is used, and at least one porous elastic body is provided on the outer circumference thereof.

종래, 다공질 탄성체는, 합성수지를 발포시킨 스펀지재가 사용되고 있다. 또필요에 따라 다공질 탄성체의 바깥 둘레에 보강층, 예를 들면 섬유 또는 금속선으로 보강된 고무층이 설치되고, 그 위에 연마층이 설치된다. 연마층은 전형적으 로는 도 2에 나타내는 바와 같이 블럭형상으로 절단된 숫돌편군과, 숫돌편군을 접착시켜 유지하는 고무 시트 등의 지지층에 의하여 구성된다. Conventionally, as a porous elastic body, the sponge material which foamed synthetic resin is used. If necessary, a rubber layer reinforced with a reinforcing layer, for example, fiber or metal wire, is provided around the outer periphery of the porous elastic body, and a polishing layer is provided thereon. Typically, the polishing layer is composed of a group of grindstone pieces cut into a block shape as shown in FIG. 2 and a support layer such as a rubber sheet for bonding and holding a group of grindstone pieces.

도 3에 상기 연마용 숫돌을 사용한 연마작업의 일례를 나타낸다(연마용 숫돌은 부분단면으로 나타내고 있다). 이 숫돌은 원통형상의 심재(1), 다공질 탄성체층(2) 및 지지층(3) 위의 숫돌편(4)에 의하여 구성되고, 연마용 기계의 주축에 설치되어 화살표(11) 방향으로 회전 구동된다. 피삭재의 프린트기판(13)은, 연마용 숫돌에 대향시켜 그 순방향으로 회전하는 백업롤(14) 위로 보내진다. 연마층(3)의 둘레방향에서의 이동속도는 워크 이송속도를 충분히 웃돌기 때문에 연마층(3)과 백업롤(14)의 사이에 보내진 프린트기판(13)의 표면이 연마처리된다. An example of the grinding | polishing operation | work using the said grinding wheel is shown in FIG. 3 (The grinding wheel is shown by the partial cross section). The grindstone is composed of a cylindrical core 1, a porous elastic layer 2 and a grindstone piece 4 on the support layer 3, which is installed on the main shaft of the polishing machine and driven to rotate in the direction of the arrow 11. . The printed circuit board 13 of the workpiece is sent onto the back-up roll 14 which faces the grinding wheel and rotates in the forward direction. Since the moving speed in the circumferential direction of the polishing layer 3 exceeds the workpiece conveyance speed sufficiently, the surface of the printed board 13 sent between the polishing layer 3 and the backup roll 14 is polished.

[특허문헌 1][Patent Document 1]

일본국 특개2001-315064호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-315064

[특허문헌 2][Patent Document 2]

일본국 특개2004-50400호 공보JP 2004-50400 A

그러나 종래의 연마용 숫돌에 의해 연마되는 워크의 피연마면에는 때로는 허용할 수 없을 정도의 연삭 불균일이 관찰된다는 문제가 있다. 그 원인으로서 프린트 배선기판으로 대표되는 판형상 피삭재는, 그 표면이 균일한 두께가 아니라 물결치는 듯한 요철이 있는 것, 또한 상기한 바와 같은 백업롤을 사용하는 연삭에서는 백업롤 표면에 요철이 있는 것을 들 수 있다. 연마시에 연마용 숫돌의 연마층이 판형상 피삭재의 요철에 따를 수 없어 그 표면을 따라 충분한 연마가 되어 있지 않은 부분이 잔존하면 연마 불균일이 생긴다. 따라서 연마용 숫돌은 연마시에 판형 상 피삭재의 요철에 따를 수 있는 것이 중요하게 된다. However, there is a problem that sometimes unacceptable grinding irregularities are observed on the to-be-polished surface of a workpiece polished by a conventional grinding wheel. As a reason, the plate-shaped workpiece represented by the printed wiring board has a surface that is not uniform in thickness but has wavy irregularities, and in the case of grinding using a backup roll as described above, the surface of the backup roll has irregularities. Can be mentioned. If the abrasive layer of the abrasive grindstone is not compatible with the irregularities of the plate-like workpiece during polishing, and a portion not sufficiently polished along the surface remains, polishing nonuniformity occurs. Therefore, it is important that the grinding wheel can follow the irregularities of the plate-like workpiece during polishing.

상기 2건의 선행기술에서도 연삭 불균일의 문제는 고려되어 있으나, 대응은 불충분하였다. 그것들 선행기술에서는 특히 보강층에 관한 개선에 의하여 연마 불균일에 대응하고 있다. 또 실제로 연마층의 부분에 대하여 설계를 변경함으로써 어느 정도의 대책은 진행되고 있다. 그러나 그것으로도 연마 불균일을 충분히 해소할 수는 없었다. In the two prior arts, the problem of grinding nonuniformity is considered, but the response is insufficient. In the prior art, in particular, improvements in the reinforcing layer correspond to the polishing unevenness. Moreover, some measures have been advanced by actually changing a design about the part of an abrasive layer. However, even that did not sufficiently resolve the polishing irregularity.

또 상기 분야의 연마용 숫돌에 있어서 다른 문제도 지적된다. 경우에 따라 연마시의 연삭 압력이 변경되는 경우가 있으나, 그 때에 연삭 압력의 증감에 비례하여 피삭재의 제거량이 증감하는 것, 즉, 연삭 압력에 대한 연마제거량의 응답성(이하「압력 응답성」이라 한다)의 장점이 요구된다. 연삭 압력을 높인 경우에 피삭재의 제거량도 그것에 따라 증가하지 않으면 연삭효율은 향상되지 않는다. Another problem is also pointed out in the abrasive grindstones of this field. In some cases, the grinding pressure at the time of polishing may be changed, but at that time, the removal amount of the workpiece increases or decreases in proportion to the increase or decrease of the grinding pressure, that is, the responsiveness of the removal amount to the grinding pressure (hereinafter referred to as "pressure response"). Is required). When the grinding pressure is increased, the grinding efficiency does not improve unless the amount of removal of the workpiece increases accordingly.

본 발명은 상기한 문제점을 감안하여 판형상 피삭재를 연마하기 위한 연마용 숫돌로서, 연마 불균일이 발생하지 않고, 또한 양호한 압력 응답성을 가지는 연마용 숫돌을 제공하는 것을 과제로 한다. In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a grinding wheel for polishing a plate-shaped workpiece, in which grinding irregularity does not occur and has good pressure responsiveness.

본 발명자는 상기 과제를 해결함에 있어서, 연마용 숫돌의 단면적의 대부분을 차지하는 다공질 탄성체의 기능에 착안하여 연구한 결과, 의외로 다공질 탄성체로서 고무 스펀지를 사용하는 것이 유효한 것을 발견하고 본 발명을 완성시켰다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said subject, the present inventors focused on the function of the porous elastic body which occupies most of the cross-sectional area of the grinding wheel, and found that it was surprisingly effective to use a rubber sponge as a porous elastic body, and completed this invention.

즉, 본 발명은 원통형상의 심재 위에 다공질 탄성체를 설치하고, 상기 다공 질 탄성체의 바깥 둘레상에 연마층을 설치한 연마용 숫돌로서, 상기 다공질 탄성체가 고무 스펀지인 것을 특징으로 하는 연마용 숫돌을 제공한다. That is, the present invention is a grinding wheel provided with a porous elastic body on a cylindrical core material and a polishing layer provided on the outer circumference of the porous elastic body, wherein the porous elastic body is a rubber sponge, characterized in that it provides a grinding wheel. do.

또, 상기 고무 스펀지는, 고무 경도가 고무 경도계 C 스케일로 5∼40이고, 또한 반발 탄성율이 50∼90% 인 것이 바람직하다. 또 상기 고무 스펀지는, JISK6767에서 규정하는 25% 압축 하중값이 0.010∼0.200 MPa 인 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable that the said rubber sponge is 5-40 in rubber hardness C scale of a rubber hardness meter, and 50-90% of rebound elastic modulus. Moreover, it is preferable that the said 25% compression load value of the said rubber sponge prescribed | regulated by JISK6767 is 0.010-0.200 MPa.

연마시에 있어서 연마용 숫돌에 요구되는 것은, 낮은 연마압으로도 많이 패이는, 즉 연마에 걸린 하중에 대하여 「무른(연질)」특성이다. 그렇게 하면 요철이 있는 판형상 피삭물의 요철에 재빠르게 융합될 수 있다. 또한 연질뿐만 아니라, 하중에 대한 잔존 하중이 높고 또한 반발력(높은 반발성)이 필요한다고도 생각된다. 어느 정도 연질이고, 또한 잔존 하중과 반발력을 높게 하면, 피삭재 위의 오목부분과 볼록부분에서의 연마량의 차가 없어져 균일하게 연마된다고 생각된다. 이 관점에서 숫돌구성 재료 중의 비교적 큰 용적을 차지하는 다공질 탄성체에 고무 스펀지를 사용한다. What is required of a grinding wheel at the time of grinding | polishing is a "soft" characteristic with respect to the load applied to grinding | polishing, ie, the load applied to grinding | polishing even at low grinding | polishing pressure. Doing so can quickly fuse to the unevenness of the plate-shaped workpiece with unevenness. It is also considered that not only the soft but also the residual load with respect to the load is high and the repulsive force (high resilience) is required. If it is soft to some extent and the residual load and the repulsive force are raised, it is considered that the difference in the amount of polishing between the concave portion and the convex portion on the workpiece is eliminated and is polished uniformly. From this point of view, a rubber sponge is used for the porous elastic body which occupies a relatively large volume in the grindstone material.

본 발명에 사용되는 고무 스펀지는, 고무 특유의 특성인 높은 탄성을 잃지 않고 고무재료를 발포시킴으로써 얻어지는 다공질형상으로 비교적 유연한 고무제 부재라고 정의된다. 본 발명에 사용할 수 있는 고무 스펀지에는 예를 들면 이하의 것이 포함된다. The rubber sponge used in the present invention is defined as a relatively flexible rubber member in a porous shape obtained by foaming a rubber material without losing high elasticity, which is characteristic of rubber. The rubber sponge which can be used for this invention includes the following, for example.

A) 주성분이 천연고무 및 스틸렌 부타디엔고무를 발포시킨 고무 스펀지A) Rubber sponge whose main ingredient is foamed natural rubber and styrene butadiene rubber

천연 고무는, 구조적으로는 폴리이소프렌으로 주로 동남아시아에서 재배되고 있는 헤베아 브라질리엔시스라는 고무나무로부터 나오는 수액(라텍스)으로 만들어 지고 있다. Natural rubber is structurally made of sap (latex) from a rubber tree called Hevea brariensis grown in Southeast Asia mainly from polyisoprene.

B) 주성분이 클로로프렌 고무를 발포시킨 고무 스펀지 B) Rubber sponge whose main ingredient is chloroprene rubber

클로로프렌 고무는, 네오프렌이라는 명칭으로 잘 알려져있고 있는 합성 고무 이며, 하기 화학식 (1)에서 나타내는 클로로프렌 중합물이다. Chloroprene rubber is a synthetic rubber well-known by the name of neoprene, and is a chloroprene polymer represented by the following general formula (1).

Figure 112006037705697-PAT00001
Figure 112006037705697-PAT00001

C) 주성분이 에틸렌 고무를 발포시킨 고무 스펀지 C) Rubber sponge whose main component is foamed ethylene rubber

에틸렌 프로필렌 고무는, 에틸렌과 프로필렌 또는 에틸렌과 프로필렌과 제 3 성분의 공중합물이며, 하기의 화학식 (2)로 나타낸다. Ethylene propylene rubber is a copolymer of ethylene and propylene or ethylene and propylene and a third component, and is represented by the following general formula (2).

Figure 112006037705697-PAT00002
Figure 112006037705697-PAT00002

D) 부타디엔과 아크릴니트릴의 공중합체를 발포시킨 고무 스펀지 D) Rubber sponge foamed with a copolymer of butadiene and acrylonitrile

E) 실록산결합을 골격으로 하는 고무를 발포시킨 고무 스펀지E) Rubber sponge which foamed rubber which made siloxane bond skeleton

이상은 고무 스펀지로서 대표적인 것을 예시 열거하였으나, 그것들에 한정되지 않고, 당업자에게 알려져 있는 여러가지 고무 스펀지를 본 발명에 사용할 수 있다. As mentioned above, although the typical thing was illustrated as a rubber sponge, it is not limited to these, Various rubber sponges known to those skilled in the art can be used for this invention.

다음에 본 발명에 적합한 고무 스펀지의 특성값을 정의와 함께 나타낸다. Next, the characteristic value of the rubber sponge suitable for this invention is shown with a definition.

고무경도(연질)Rubber Hardness (Soft)

본 발명에서의 고무 경도는, 고무 경도계(C 스케일)로 측정되는 고무 스펀지의 경도로서 정의된다. Rubber hardness in this invention is defined as the hardness of the rubber sponge measured by a rubber hardness meter (C scale).

반발 탄성율Rebound modulus

반발 탄성율이란, 고무 스펀지의 반발력의 것이다. 본 발명에서의 반발 탄성율의 시험방법은, JIS K 6255의 시험방법을, 도 4에 나타낸 측정양식에 적용하고 ;A resilience modulus is a repulsion force of a rubber sponge. The test method of resilience modulus in this invention applies the test method of JISK6255 to the measurement form shown in FIG.

(1) 록웰 경도 측정용의 1/4 인치 강구(鋼球)를 준비하여 ;(1) preparing a 1/4 inch steel ball for measuring Rockwell hardness;

(2) 시험편을 설치하고 ; (2) install the specimen;

(3) 시험편으로부터 200 mm 높이로부터 1/4 인치 강구를 떨어뜨려 ;(3) drop a 1/4 inch steel ball from the height of 200 mm from the test piece;

(4) 1/4 인치 강구가 시험편에 닿아 튀어 오른 높이를 측정하고 ; (4) measure the height of the 1 / 4-inch steel ball against the test piece;

(5) 산출식 : 반발 탄성율 = 튀어 오른 높이(측정값 mm)/ 낙하 전의 높이(200 mm) × 100 에 의하여 구한다. (5) Calculation formula: It is calculated by the resilience modulus = height (measured value mm) / height before falling (200 mm) x 100.

25% 압축 하중값25% compressive load value

압축 하중값이란, 고무 스펀지에 소정의 하중을 걸어 압축하였을 때의 잔존 하중의 것이다. 본 발명에서의 25% 압축 하중값은, JIS K 6767의 시험방법에 따라 정의된다. 즉, 25% 압축 하중의 시험 순서는 도 5에 나타낸 측정양식을 채용하고;A compressive load value is a residual load at the time of compressing by applying a predetermined load to the rubber sponge. The 25% compression load value in the present invention is defined according to the test method of JIS K 6767. That is, the test sequence of 25% compression load employs the measurement format shown in FIG. 5;

(1) 압축 속도 10 mm/min로 스펀지 시험편을 두께의 25% 정도로 압축하고 ;(1) compressing the sponge specimen to about 25% of the thickness at a compression rate of 10 mm / min;

(2) 20초 보류 후의 하중(N)을 측정하여 ; (2) the load N after 20 second hold was measured;

(3) 산출식 : 25% 압축 하중 = (1)의 측정 하중(N) / 스펀지 시험편의 단면적(㎟)에 의하여 구한다. (3) Calculation formula: 25% compressive load = (1) measured load (N) / cross-sectional area of the sponge test piece (mm2) to obtain.

본 발명의 숫돌에 적합한 고무 스펀지의 특성값은 이하와 같다. The characteristic value of the rubber sponge suitable for the grindstone of this invention is as follows.

경도는 5∼40이 바람직하고, 7∼30이 더 바람직하며, 8∼25가 더욱 바람직하고, 10∼20가 가장 바람직하다. 경도가 5 미만이면 다공질 탄성체가 지나치게 물러 연마압력에 대하여 압력 응답성이 나빠진다. 특히 연마압력을 높였을 때의 연삭효율이 향상되지 않는다. 또 경도가 40을 넘으면 다공질 탄성체가 지나치게 단단해져 연마 불균일이 발생한다. 5-40 are preferable, as for hardness, 7-30 are more preferable, 8-25 are more preferable, and 10-20 are the most preferable. If the hardness is less than 5, the porous elastic body is excessively depressed and the pressure responsiveness to the polishing pressure is deteriorated. In particular, the grinding efficiency does not improve when the polishing pressure is increased. If the hardness exceeds 40, the porous elastic body becomes too hard, resulting in uneven polishing.

25% 압축 하중값은 0.010∼0.200 MPa가 바람직하고, 0.015∼0.150 MPa가 더 바람직하며, 0.020∼0.100 MPa가 더욱 바람직하고, 0.025∼0.085 MPa가 더더욱 바람직하고, 0.030∼0.060 MPa가 가장 바람직하다. 25% 압축 하중값이 0.010 MPa 미만이면 연마압력을 변경하였을 때의 압력 응답성이 나빠진다. 25% 압축 하중값이 0.200 MPa를 넘으면 다공질 탄성체가 단단해져 연마압력에 대하여 압력 응답성이 나빠지고 연마 불균일도 발생한다. The 25% compression load value is preferably 0.010 to 0.200 MPa, more preferably 0.015 to 0.150 MPa, still more preferably 0.020 to 0.100 MPa, still more preferably 0.025 to 0.085 MPa, and most preferably 0.030 to 0.060 MPa. If the 25% compression load value is less than 0.010 MPa, the pressure response when the polishing pressure is changed is poor. If the 25% compressive load value exceeds 0.200 MPa, the porous elastic body becomes hard, resulting in poor pressure responsiveness to polishing pressure and polishing nonuniformity.

반발 탄성율은 50∼90%가 바람직하고, 50∼80%가 더 바람직하고, 55∼75%가 가장 바람직하다. 반발 탄성율이 50% 미만이면 연마압력에 대한 압력 응답성이 나빠지고 연마 불균일도 발생한다. 특히 연마압력을 높였을 때의 압력 응답성이 나빠진다. 한편 일반적으로 반발 탄성율이 90%를 넘는 고무 스펀지는 제조 곤란하며 90% 이하인 것이 현실적이라고 생각된다. 50-90% is preferable, 50-80% is more preferable, and 55-75% of the resilience modulus is the most preferable. If the rebound modulus is less than 50%, the pressure response to the polishing pressure is deteriorated and polishing nonuniformity also occurs. In particular, the pressure response when the polishing pressure is increased is worse. On the other hand, rubber sponges with a rebound modulus of more than 90% are generally difficult to manufacture and are considered to be 90% or less.

본 발명의 숫돌의 연마층에 사용되는 재료는, 연마용 숫돌에서 일반적으로 사용되는 것으로 좋다. 사용되는 숫돌입자는 일반적으로는 알루미나계 숫돌입자, 탄화규소계 숫돌입자, 지르코니아계 숫돌입자, 산화 세륨, 실리카, 산화 크롬, CBN 숫돌입자 및 다이아몬드 숫돌입자의 군으로부터 선택되는 1종류 이상일 수 있다. 그 조합은 연삭 등의 조건 및 피연마재의 재질에 따라 적절하게 선택된다. The material used for the grinding | polishing layer of the grindstone of this invention should just be generally used by the grinding wheel. Generally, the grindstone particles used may be at least one selected from the group consisting of alumina-based grindstone particles, silicon carbide-based grindstone particles, zirconia-based grindstone particles, cerium oxide, silica, chromium oxide, CBN grindstone particles and diamond grindstone particles. The combination is appropriately selected according to the conditions of grinding and the like and the material of the abrasive.

연마층에 사용되는 결합제는, 비트리파이드, 레지노이드, PVA 또는 실리케이트결합제로부터 적절하게 선택될 수 있다. 소성 또는 경화 후의 조성은, 비트리파이드결합제의 경우, 기공율은 10∼50%, 바람직하게는 15∼45% 이고, 숫돌입자율은 30∼55%, 바람직하게는 35∼50% 이다. 레지노이드결합제의 경우, 기공율은 0∼20%, 바람직하게는 0∼10% 이고, 숫돌입자율은 20∼45%, 바람직하게는 20∼40% 이다. PVA 결합제의 경우, 기공율은 20∼50%, 바람직하게는 30∼50% 이고, 숫돌입자율은 20∼45%, 바람직하게는 20∼40% 이다. 마그네시아결합제의 경우, 기공율은 0∼20%, 바람직하게는 0∼10% 이고, 숫돌입자율은, 20∼40%, 바람직하게는 20∼40% 이다. 숫돌입자율이 낮으면 연마성이 나빠지고, 숫돌입자율이 높으면 눈막힘이 발생할 염려가 있다. 결합제율은 100%에서 기공율 및 숫돌입자율을 뺀 값이다. 결합제의 선정도 숫돌 조성의 결정도, 연마 등의 조건 및 피연마재의 재질 등에 따라 적절하게 선택된다. The binder to be used in the polishing layer may be appropriately selected from vitrified, resinoid, PVA or silicate binders. In the case of the vitrified binder, the composition after calcining or curing has a porosity of 10 to 50%, preferably 15 to 45%, and a grindstone particle rate of 30 to 55%, preferably 35 to 50%. In the case of the resinoid binder, the porosity is 0 to 20%, preferably 0 to 10%, and the grindstone particle rate is 20 to 45%, preferably 20 to 40%. In the case of the PVA binder, the porosity is 20 to 50%, preferably 30 to 50%, and the grindstone particle rate is 20 to 45%, preferably 20 to 40%. In the case of the magnesia binder, the porosity is 0 to 20%, preferably 0 to 10%, and the abrasive grain rate is 20 to 40%, preferably 20 to 40%. If the grindstone particle rate is low, the polishing property deteriorates, and if the grindstone particle rate is high, clogging may occur. Binder ratio is 100% minus porosity and grindstone fraction. The degree of selection of the binder is appropriately selected depending on the degree of crystallinity of the whetstone composition, the conditions such as polishing, the material of the abrasive, and the like.

본 발명의 숫돌은, 심재, 다공질 탄성체층 및 연마층의 적어도 3개의 층을 가진다. 또 다공질 탄성체층과 연마층의 사이에 별개로 보강층을 설치하여도 좋다. The grindstone of this invention has at least 3 layers of a core material, a porous elastic body layer, and a grinding | polishing layer. In addition, a reinforcing layer may be provided separately between the porous elastic layer and the polishing layer.

연마층의 구체적인 구성은, 예를 들면 세그먼트형 숫돌을 복수개 부착한 형 태, 또는 도 2와 같이 작은 블럭형상 숫돌을 다수개 부착한 형태일 수 있다. 연마층에는 연삭조건에 따라 다종 다양한 형태를 생각할 수 있고, 연마층의 유연성을 확보할 수 있는 한, 특정한 형태에 한정되지 않는다. 예를 들면 연마층은 고무 시트 위에 숫돌편을 부착하여 제작하고, 이것을 다공질 탄성체에 또는 다공질 탄성체 위의 보강층의 바깥 둘레에 감도록 하여 설치할 수 있다. 연마층의 두께는 CBN 숫돌 또는 다이아몬드 숫돌입자를 사용하는 경우는 0.5 mm∼5 mm, CBN 숫돌입자 또는 다이아몬드 숫돌입자 이외의 숫돌입자를 사용하는 경우는 3 mm∼15 mm가 바람직하다. The specific structure of the polishing layer may be, for example, a form in which a plurality of segmented grindstones are attached, or a form in which a plurality of small block-shaped grindstones are attached as shown in FIG. 2. The polishing layer can be considered in various forms depending on the grinding conditions, and is not limited to a specific form as long as the flexibility of the polishing layer can be secured. For example, the abrasive layer can be prepared by attaching a whetstone piece on a rubber sheet, and wound it around a porous elastic body or around the outer periphery of the reinforcing layer on the porous elastic body. The thickness of the abrasive layer is preferably 0.5 mm to 5 mm when using CBN grindstone or diamond grindstone particles, and 3 mm to 15 mm when using grindstone particles other than CBN grindstone particles or diamond grindstone particles.

보강층에는 고무 시트를 사용할 수 있고, 숫돌편이 고정되는 연마층 내의 고무 시트를 이용하여도 좋으며, 연마층과는 별개의 고무 시트를 이용하여도 좋다. 보강층은 숫돌편을 지지하여 연마시의 숫돌에 원하는 강도와 어느 정도의 유연성을 가지게 하는 것이다. 보강층은 고무 시트의 내부에 무엇인가의 보강재를 매설시킨 구성이 바람직하다. 구체적으로는 섬유를 매몰시킨 구조를 들 수 있다. 섬유 매몰의 구조는 일본국 특개2004-50400호 공보에 개시되어 있는 바와 같이 보강층은 고무 시트층의 내부에 1 이상의 상기 섬유층을 가지는 구성으로 할 수 있다. A rubber sheet can be used for a reinforcement layer, the rubber sheet in the grinding | polishing layer to which a grindstone piece is fixed may be used, and a rubber sheet separate from a grinding | polishing layer may be used. The reinforcing layer supports the grindstone pieces so as to have the desired strength and some flexibility to the grindstone during polishing. The reinforcing layer is preferably a structure in which some reinforcing material is embedded in the rubber sheet. Specifically, the structure which embedded the fiber is mentioned. As the structure of the fiber embedding is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2004-50400, the reinforcing layer can be configured to have one or more of the above fiber layers inside the rubber sheet layer.

전형적인 보강층은 다공질 탄성체의 바깥 둘레상에 고정된 고무 시트와, 그 고무 시트의 내부에 설치된 섬유로 이루어진다. 고무 시트 내부의 섬유는 숫돌에 고정되었을 때, 숫돌 회전축을 중심으로 하여 서로 교차하는 적어도 2개의 나선방향으로 설치되는 것이 바람직하다. 그것들에 더하여 숫돌 회전축 방향과 평행한 섬유가 설치되면 더욱 바람직하다. 특히, 상기 섬유가 3개의 방향을 가지고, 그 3 개의 방향이 숫돌 회전축 방향에 대하여 각각 약 +60°∼ + 80°, 약 +5°∼ -5°, 약 -60°∼-80°의 각도인 것이 바람직하다. 또한 상기 섬유가 3개의 방향을 가지고, 그 3개의 방향이 숫돌 회전축 방향에 대하여 각각 약 +75°, 약 0°, 약 -75°의 각도인 것이 특히 바람직하다. A typical reinforcing layer consists of a rubber sheet fixed on the outer periphery of the porous elastic body and fibers provided inside the rubber sheet. When the fibers inside the rubber sheet are fixed to the grindstone, it is preferable that they are provided in at least two spiral directions that intersect each other about the grindstone rotational axis. In addition, it is more preferable if the fiber parallel to the grinding wheel rotational axis direction is provided. In particular, the fibers have three directions, each of which is about + 60 ° to + 80 °, about + 5 ° to -5 °, and about -60 ° to -80 ° with respect to the grinding wheel rotation axis direction, respectively. Is preferably. It is also particularly preferred that the fibers have three directions and the three directions are angles of about + 75 °, about 0 ° and about -75 ° respectively with respect to the grindstone rotational axis direction.

또, 사용되는 섬유의 재질은 유기질 또는 무기질로 할 수 있다. 그와 같은 유기질의 섬유는, 아라미드섬유, 폴리에스테르섬유, 케플러섬유, 또는 나일론섬유로 이루어지는 군에서 선택할 수 있다. 또 고무 시트의 바깥쪽에 신주도금을 실시한 단선 또는 꼰선의 피아노선 등으로 이루어지는 금속선을 감고, 다시 바깥쪽으로부터 동질의 상기 시트로 끼워 넣어 접착한 구조이어도 좋다. 금속선은 통형상 숫돌의 회전축방향(상기 도면의 지면에 수직방향)을 향하여 나선형상으로 감겨져 있다. 보강층의 보강재의 선택은 연삭 등의 조건 및 피연마재의 재질에 따라 적절하게 선택된다. In addition, the material of the fiber used may be organic or inorganic. Such organic fibers can be selected from the group consisting of aramid fibers, polyester fibers, Kepler fibers, or nylon fibers. Moreover, the structure which wound the metal wire which consists of the single wire | line | wire which carried out the new column plating or the braided piano wire etc. on the outer side of a rubber sheet, and was inserted into the said sheet of the same quality from the outer side, and may be adhere | attached, may be sufficient as it. The metal wire is wound in a spiral shape in the direction of the axis of rotation of the cylindrical grindstone (the direction perpendicular to the surface of the drawing). The selection of the reinforcing material of the reinforcing layer is appropriately selected depending on the conditions such as grinding and the material of the abrasive.

(실시예) (Example)

도 1 및 도 2의 구성의 연마용 숫돌을, 그 다공질 탄성층에 하기의 재질이 다른 스펀지재를 사용하여 제작하여 연마 불균일 및 압력 응답성에 대하여 테스트를 행하였다.The abrasive grindstone of the structure of FIG. 1 and FIG. 2 was produced using the sponge material from which the following material differs for the porous elastic layer, and the grinding | polishing nonuniformity and the pressure response were tested.

실시예 1 : 이노악사 제품 "C-4205"의 고무 스펀지재Example 1 Rubber Sponge Material of Innoax Products "C-4205"

비교예 1 : 세키스이가카쿠사 제품 "소프트론 #40"의 폴리에틸렌 스펀지재Comparative Example 1: Polyethylene sponge material of Sekisui Chemical Co., Ltd. "Soft Loan # 40"

비교예 2 : 세키스이가카쿠사 제품 "소프트론 # 30"의 폴리에틸렌 스펀지재Comparative Example 2: Polyethylene sponge material of Sekisui Chemical Co., Ltd. "Soft Loan # 30"

(스펀지재의 특성값)(Characteristic value of sponge material)

각 스펀지재의 경도, 25% 압축 하중, 반발 탄성율은, 다음과 같이 하여 측정하였다. 경도는 상기한 정의에 따라 고무 경도계(C 스케일)로 측정하였다. 25% 압축 하중값은, 상기한 정의에 따라 스펀지재로부터 127 × 35 × 85 mm 직육면체의 시험편을 잘라 내어 127 × 35 mm 면을 압축면으로 하여 시마즈제작소 제품 "오토그래프 AG-10TD"로 측정하였다. 반발 탄성율은 상기한 정의에 따라 측정하였다. The hardness, 25% compression load, and rebound elastic modulus of each sponge material were measured as follows. Hardness was measured with a rubber durometer (C scale) according to the above definition. The 25% compressive load value was measured by Shimadzu Corporation "Autograph AG-10TD" using a 127 x 35 mm rectangular parallelepiped specimen cut out of the sponge material according to the above definition, with the 127 x 35 mm surface as the compressed surface. . Rebound modulus was measured according to the above definition.

(연마층 제작순서) (Grinding layer production order)

숫돌입자로서 녹색 탄화규소 숫돌입자(GC 숫돌입자 ; 입도 800번) 100중량부 및 결합제로서 분체 페놀수지 18.0부를 균일하게 혼합한 후, 이 혼합재료를 면적 60 × 240 mm, 두께 9 mm의 숫돌판형상으로 냉간 성형하였다. 170℃에서 8시간에 걸쳐 경화시키고, 그 후 그 숫돌판에 섬유층을 가지는 고무 시트를 부착하였다. 고무 시트 위에 고정된 숫돌판을 절단기로 바둑판 눈금형상으로 절단하여 다수의 작은 조각 숫돌 블럭을 가지는 연마층을 작성하였다. 마찬가지로 하여 연마층을 복수매 작성하였다. 100 parts by weight of green silicon carbide grindstone particles (GC grindstone particles; particle size 800) as a grindstone particle and 18.0 parts of powdered phenolic resin as a binder were mixed uniformly, and the mixed material was then polished to 60 × 240 mm and 9 mm thickness. Cold forming into shape. It cured at 170 degreeC over 8 hours, and then attached the rubber sheet which has a fiber layer to the grindstone. A grindstone plate fixed on a rubber sheet was cut into a checkerboard grid with a cutter to create an abrasive layer having a plurality of small pieces of grindstone blocks. In the same manner, a plurality of polishing layers were prepared.

상기 연마층에 사용한 고무 시트는, 섬유를 매몰시켜 보강층으로 하고 있다. 섬유층은 내부에 0.7 mm 피치로 일 방향의 폴리에스테르 섬유열을 3중으로 적층한 것을 사용하였다. 섬유의 각도는 일본국 특개2004-50400호 공보의 예에 따라 +75°, 0°, -75°로 하였다. In the rubber sheet used for the polishing layer, fibers are embedded to form a reinforcing layer. The fiber layer used what laminated | stacked the polyester fiber train of one direction in triple with 0.7 mm pitch inside. The angles of the fibers were + 75 °, 0 ° and -75 ° according to the example of Japanese Patent Laid-Open No. 2004-50400.

(연마용 숫돌의 작성순서) (Making order of grinding wheel for polishing)

구멍지름 76.2 mm의 페놀수지 적층관에 상기한 스펀지재를 부착하여 다공질 탄성층을 설치하였다. 그 스펀지재의 바깥 둘레상에 상기한 바와 같이 제작한 연 마층을 나선형상으로 감아 부착하여 연마용 숫돌을 작성하였다. 그 후, 연마층의 마무리처리를 행하여, 외경 150 mm, 길이 610 mm, 구멍지름 76.2 mm, 숫돌편 높이 7 mm의 테스트 숫돌을 완성시켰다. The sponge material was attached to a phenol resin laminated tube having a pore diameter of 76.2 mm to provide a porous elastic layer. On the outer periphery of the sponge material, the polishing layer produced as described above was wound in a spiral shape and adhered to create a grinding wheel. Thereafter, the polishing layer was finished to complete a test grindstone having an outer diameter of 150 mm, a length of 610 mm, a hole diameter of 76.2 mm, and a grindstone height of 7 mm.

(연마 테스트) (Polishing test)

피삭재에는 연마 불균일의 해소효과를 테스트하기 위하여 의도적으로 요철을 형성하였다. 도 6에 나타내는 바와 같이 피삭재의 연마면 뒷쪽에 두께 200㎛, 치수20 mm × 20 mm의 테이프를, 세로 30 mm간격, 가로 30 mm 간격으로 하고, 횡렬 사이에서 서로 엇갈리도록 부착하여 모두 36개소에 부착하였다. The workpiece was intentionally formed with irregularities to test the effect of eliminating the polishing nonuniformity. As shown in Fig. 6, tapes having a thickness of 200 µm and a dimension of 20 mm x 20 mm were placed at intervals of 30 mm in length and 30 mm in width on the back of the polishing surface of the workpiece. Attached.

이하의 조건으로 각 테스트 숫돌을 사용하여 상기 피삭재를 연마하여, 연마 불균일과 압력 응답성에 대하여 관찰하였다. The workpiece was polished using the test grindstone under the following conditions, and the polishing nonuniformity and the pressure response were observed.

연삭조건                         Grinding condition 숫돌칫수Sharpener 외경 150 mm ×길이 610 mm ×구멍지름 76.2 mmOutside diameter 150mm X length 610mm X hole diameter 76.2mm 피삭재Workpiece 유리기재 에폭시수지 구리부착 적층판 두께 : 0.8t 칫수 : 510 mm ×410 mmGlass Substrate Epoxy Resin Copper Clad Laminate Thickness: 0.8t Dimension: 510 mm × 410 mm 연마기계Polishing Machine 프린트기판 연마기 숫돌 회전수 1800 rpm Printed Board Grinding Machine Whetstone Speed 1800 rpm 피연마재 이송속도Speed of the workpiece 1.7 m/min1.7 m / min 오실레이션Oscillation 470 cpm470 cpm 패스횟수Pass count 1 패스1 pass 피연마재 이송속도Speed of the workpiece 2m/min2 m / min 연마압Polishing pressure 1.5A1.5A

연마 불균일은 연마 후의 피삭재의 연마 불균일상태를 육안으로 관찰하였다.As for the polishing nonuniformity, the polishing nonuniformity state of the workpiece | work after grinding | polishing was visually observed.

압력 응답성은, 연마압 1.5 A, 2.0 A, 3.0 A로 100 패스후, 제거된 피삭재의 중량을 구하여, 각 연마압력에서의 제거량의 차를 구하였다. 제거량은 각 피삭재의 연마 전과 연마 후의 중량을 측정하여 그 차를 구한다. 이 측정을 각 피삭재로 반복하여 모두 100매의 피삭재에서의 제거 중량으로부터 압력 응답성을 산출하였다. The pressure responsiveness calculated | required the weight of the removed workpiece | work after 100 passes with polishing pressure 1.5A, 2.0A, and 3.0A, and calculated | required the difference of the removal amount in each polishing pressure. The amount of removal is determined by measuring the weight before polishing and after polishing of each workpiece. This measurement was repeated with each workpiece, and the pressure responsiveness was computed from the removal weight in all 100 workpieces.

(테스트결과) (Test result)

다공질 탄성체 물성치 결과Porous Elastomer Properties 경도Hardness 25% 압축 하중치(MPa)25% compression load (MPa) 반발 탄성율(%)Resilience modulus (%) 실시예 1Example 1 1414 0.0440.044 6060 비교예 1Comparative Example 1 1616 0.0260.026 4848 비교예 2Comparative Example 2 2222 0.0440.044 4545

연마 테스트결과Polishing test result 연마 불균일 (육안관찰)   Polishing nonuniformity (visual observation) 압력 응답성   Pressure responsiveness 1.5A1.5A 2.0A2.0A 2.5A2.5 A car 평가evaluation 실시예 1Example 1 도 7(양호)7 (good) 134.8g134.8 g 156.10g156.10 g 177.25g177.25 g 42.25g42.25 g 양호Good 비교예 1Comparative Example 1 도 8(가벼운정도)8 (light) 117.84g117.84 g 138.98g138.98 g 152.32g152.32 g 34.38g34.38 g 나쁨Bad 비교예 2Comparative Example 2 도 9(심한 정도)9 (severe degree) 135.85g135.85 g 157.17g157.17 g 181.32g181.32 g 45.47g45.47 g 양호Good

실시예 1에서는 대부분 연마 불균일이 보이지 않고, 압력 응답성도 양호하였다. 다공질 탄성체의 특성값과 관련지으면, 사용된 고무 스펀지재의 경도는 비교적 낮으나, 25% 압축 하중값 및 반발 탄성율이 비교적 높다는 경향에 있다. 이와 같은 경향에 있는 고무 스펀지재의 특성이 피삭재의 요철에 대한 추종성을 개선하고, 그리고 동시에 원하는 연삭 성능을 끌어 내었다고 생각된다. In Example 1, the grinding | polishing nonuniformity was not seen mostly, and the pressure response was also favorable. Relating to the characteristic value of the porous elastic body, the hardness of the rubber sponge material used is relatively low, but tends to have a relatively high 25% compressive load value and a high rebound modulus. It is thought that the characteristics of the rubber sponge material in such a tendency can improve the followability of the workpiece to the unevenness, and at the same time derive the desired grinding performance.

비교예 1에서는 경도의 연마 불균일이 보인다. 사용된 수지 스펀지재는 경도가 비교적 낮으나, 25% 압축 하중값과 반발 탄성율도 낮다. 이와 같은 수지 스펀지의 특성에서는 피삭재의 요철에 대한 추종성이 나쁘고, 연마 불균일을 일으키기 쉬운 것을 알 수 있었다. 또 압력 응답성은 가장 낮았다. 이것은 25% 압축 하중값이 낮기 때문이라고 생각된다. In the comparative example 1, the grinding | polishing nonuniformity of hardness is seen. The resin sponge used was relatively low in hardness, but also had a 25% compressive load value and a low resilience. In the characteristic of such a resin sponge, it turned out that the followability of the workpiece to the unevenness | corrugation is bad, and it is easy to produce grinding | polishing nonuniformity. Pressure response was the lowest. This is considered to be because the 25% compression load value is low.

비교예 2에서는 심한 정도의 연마 불균일이 보인다. 그 수지 스펀지재의 특성은, 경도가 비교적 높고, 25% 압축 하중값과 반발 탄성율이 낮아 실시예 1에 사용한 고무 스펀지와는 반대의 경향에 있다. 압력 응답성은 실시예 1과 동등하였다. 이것은 25% 압축 하중값과 반발 탄성율의 낮음이 강한 경도로 보충되었기 때문이라고 생각된다. 그러나 연마 불균일이 심하여 확실하게 추수(追隨)성이 부족하다. In Comparative Example 2, a severe degree of polishing irregularity is observed. The resin sponge material has a relatively high hardness, a 25% compressive load value, and a low rebound modulus, which tends to be the opposite of the rubber sponge used in Example 1. Pressure response was equivalent to that of Example 1. This is considered to be because the 25% compression load value and the low rebound modulus were supplemented with strong hardness. But the grinding nonuniformity is so severe that it is surely lacking in harvestability.

본 발명의 연마용 숫돌은, 상기 다공질 탄성체로서 고무 스펀지를 사용하기 때문에 연삭 불균일의 해소, 또한 연삭 응답성의 향상을 가능하게 한다. 일반적으로 고무 스펀지는 종래의 합성수지 스펀지재와 비교하여 비교적 경도가 작으나, 반발 탄성율과 잔존 하중은 비교적 높다. 그와 같은 특성 경향을 가지는 다공질 탄성체를 사용하면 연삭 불균일이 해소되고, 이것과 동시에 연삭 응답성이 유의하게 향상된다. Since the grinding wheel of the present invention uses a rubber sponge as the porous elastic body, it is possible to eliminate grinding irregularities and to improve grinding responsiveness. In general, the rubber sponge is relatively low in hardness compared with the conventional synthetic resin sponge material, but the resilience and the residual load are relatively high. The use of a porous elastic body having such a characteristic tendency eliminates grinding unevenness and at the same time significantly improves grinding response.

Claims (3)

원통형상의 심재 위에 다공질 탄성체를 설치하고, 상기 다공질 탄성체의 바깥 둘레상에 연마층을 설치한 연마용 숫돌로서, 상기 다공질 탄성체는, 고무 스펀지인 것을 특징으로 하는 연마용 숫돌. A grinding wheel comprising a porous elastic body on a cylindrical core material and a polishing layer provided on an outer circumference of the porous elastic body, wherein the porous elastic body is a rubber sponge. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 고무 스펀지는, 고무 경도가 고무 경도계 C 스케일로 5∼40이고, 또한 반발 탄성율이 50∼90% 인 것을 특징으로 하는 연마용 숫돌. The said grinding | polishing sponge is a grinding | polishing grinder characterized in that the rubber hardness is 5 to 40 on the rubber hardness meter C scale and the resilience modulus is 50 to 90%. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 고무 스펀지는, JISK6767에서 규정하는 25% 압축 하중값이 0.010∼0.200 MPa 인 것을 특징으로 하는 연마용 숫돌. A grinding wheel for grinding said rubber sponge having a 25% compression load value of 0.010 to 0.200 MPa as defined in JISK6767.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009088121A1 (en) * 2008-01-10 2009-07-16 Sung Ho Wang Jig for fixing grinder band
CN103358236B (en) * 2013-06-04 2016-05-25 广州晶体科技有限公司 Integrated polishing emery wheel

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4395812B2 (en) 2008-02-27 2010-01-13 住友電気工業株式会社 Nitride semiconductor wafer-processing method
CN103921206B (en) * 2014-04-03 2016-08-17 东华大学 A kind of slewing parts circular arc finishing cutter and processing technology thereof
TWI535536B (en) * 2014-09-30 2016-06-01 長春石油化學股份有限公司 Buffering grinding wheel having buffering structure and manufacturing method thereof
CN108081161A (en) * 2017-12-14 2018-05-29 广东长盈精密技术有限公司 The polishing process of compound grinding head and flexible base board
JP7337095B2 (en) * 2018-05-01 2023-09-01 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Compatible Abrasive Article
JP7277905B2 (en) * 2019-02-19 2023-05-19 三和研磨工業株式会社 Polishing wheel unit and polishing wheel

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5038835B2 (en) * 1972-05-27 1975-12-12
JP2005230988A (en) * 2004-02-20 2005-09-02 Sankyo Rikagaku Co Ltd Rotary grinding wheel

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009088121A1 (en) * 2008-01-10 2009-07-16 Sung Ho Wang Jig for fixing grinder band
CN103358236B (en) * 2013-06-04 2016-05-25 广州晶体科技有限公司 Integrated polishing emery wheel

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