KR20060125266A - Coating composition for ultraviolet-curable film type and film prepared from it - Google Patents

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Abstract

Provided are a coating composition for forming a radiation curing film which is remarkably low in refractive index even at a low temperature of 120 deg.C or less, a radiation curing film prepared by using the composition, and its preparation method. The coating composition comprises 60 wt% or more of a porous organic/inorganic hybrid nanoparticle; a radiation curing compound having an unsaturated functional group; a photoinitiator or a sensitizer; and a solvent. Preferably the porous organic/inorganic hybrid nanoparticle has an average diameter of 5-30 nm and a C/Si maximum ratio of 0.65, and is prepared by reacting a silane compound, a structure control agent, water rand a solvent by hydrolysis and condensation to prepare a porous nanoparticle having an average diameter of 5-30 nm; and removing the structure control agent from the nanoparticle.

Description

광경화형 막 형성용 코팅 조성물 및 이로부터 제조된 막 {COATING COMPOSITION FOR ULTRAVIOLET-CURABLE FILM TYPE AND FILM PREPARED FROM IT}Coating composition for photocurable film formation and film prepared therefrom {COATING COMPOSITION FOR ULTRAVIOLET-CURABLE FILM TYPE AND FILM PREPARED FROM IT}

도 1은 나노 입자 함량에 따른 굴절률의 변화를 나타낸 그래프이다.1 is a graph showing the change in refractive index according to the nanoparticle content.

본 발명은 광경화형 막 형성용 코팅 조성물 및 이로부터 제조된 막에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 저굴절막에 적용하기 위하여 특정크기의 입경을 가지는 실란화합물에 구조제어제를 사용하여 다공(porous)을 형성한 후, 상기 다공형성을 위해 사용한 구조제어제를 막 형성 이전에 간단한 방법으로 제거함으로써 120 ℃ 이하의 낮은 온도에서 굴절율이 현저히 낮은 초저굴절막으로의 제조가 가능할 뿐만 아니라, 디스플레이를 포함한 다양한 용도의 저굴절막 또는 저반사막으로 사용하기 적합한 광경화형 막 형성용 코팅 조성물 및 이로부터 제조된 막에 관한 것이다.The present invention relates to a coating composition for forming a photocurable film and a film prepared therefrom, and more particularly, to a porous silane compound having a particle size of a specific size for application to a low refractive film by using a structural control agent. After the formation, the structure control agent used for forming the pore was removed by a simple method prior to film formation, thereby making it possible to manufacture an ultra low refractive index film having a significantly low refractive index at a temperature lower than 120 ° C. A coating composition for forming a photocurable film suitable for use as a low refractive film or a low reflection film for use, and a film prepared therefrom.

일반적으로 투명기판을 통하여 물체나 문자 등의 시각 정보를 관찰하는 경우나 거울의 투명기판을 통하여 반사층으로부터의 상을 관찰하는 경우에는 투명기판이 외관에 의하여 반사되어 내부의 시각 정보를 보기 어렵다는 문제점이 있었다.Generally, when observing visual information such as an object or a character through a transparent substrate or observing an image from a reflective layer through a transparent substrate of a mirror, the transparent substrate is reflected by an external appearance, making it difficult to see visual information inside. there was.

특히, 최근 디스플레이 기술이 발달하면서 화면의 대형화와 더불어 보다 선 명한 화면을 요구함에 따라 반사방지기능에 대한 관심이 높아지고 있는 추세이며, 투명기판에 반사방지기능을 부여할 경우 외부광에 의한 눈부심을 방지함으로써 보다 선명한 화상을 얻을 수 있다는 장점이 있다.In particular, with the development of display technology in recent years, the interest in the anti-reflection function is increasing as the screen size is increased and the screen is required to be clearer. When the anti-reflection function is applied to the transparent substrate, the glare caused by external light is prevented. As a result, a clearer image can be obtained.

투명 기판 표면의 반사를 방지하는 종래 기술로는 투명기재 위에 투명 금속 산화물층을 화학적 또는 물리적 증기 증착법으로 형성하는 방법이 있다. 상기 방법은 넓은 영역에서의 빛의 반사를 감소시켜 반사방지효과가 탁월하나, 증착 공정이 대량생산에는 불충분한 생산성을 나타내어 최근에는 그 사용이 점점 줄어드는 추세이다.Conventional techniques for preventing reflection of the surface of a transparent substrate include a method of forming a transparent metal oxide layer on a transparent substrate by chemical or physical vapor deposition. The method is excellent in antireflection effect by reducing the reflection of light in a large area, but the deposition process shows insufficient productivity for mass production, and its use is gradually decreasing recently.

또한 실리카 및 무기미립자를 함유한 도포액 또는 불소계 저굴절 유기물, 불소계 유기물 함유 공중합체, 불소계 실란화합물 등을 함유한 조성물을 사용한 반사방지막을 제조하는 방법 등이 제시되고 있다.In addition, a method for producing an antireflection film using a coating liquid containing silica and inorganic fine particles or a composition containing a fluorine-based low refractive organic substance, a fluorine-based organic substance-containing copolymer, a fluorine-based silane compound, or the like has been proposed.

하지만, 상기의 무기미립자를 함유한 도포액, 불소계 수지를 이용하는 종래 기술 등은 대부분 굴절률이 1.4 이상으로 1.36 이하의 초저굴절막을 형성하는 방법에 대하여는 제시하고 있지 않다. 특히, 불소계 수지의 경우 불소의 함량이 증가할수록 굴절률을 저하시킬 수 있다는 장점이 있으나, 많은 양의 불소를 사용할 경우 필름에 대한 접착력, 유기용매에 대한 용해가용성, 도막물성 등이 현저히 저하되어 굴절률을 낮추는데 한계가 있다.However, the above-mentioned conventional techniques using the coating liquid containing the inorganic fine particles, the fluorine-based resin, and the like do not suggest a method for forming an ultra low refractive film having a refractive index of 1.4 or more and 1.36 or less. In particular, in the case of fluorine-based resins, there is an advantage that the refractive index may be lowered as the fluorine content is increased. There is a limit to lowering.

한편, 저굴절 또는 저반사막을 형성하는 방법으로 실록산계 경화형 수지를 이용하여 막을 제조하는 방법과 아크릴계 수지와 같은 광경화형 수지를 이용하여 막을 제조하는 방법이 있다. 실리콘계 열경화형 수지의 경우 굴절률이 낮은 장점 이 있으나, 막의 제조를 위하여 고온 경화가 필요하고 경화시간이 길어진다는 문제점이 있다. 반면, 아크릴계 광경화 수지는 UV 조사로 단시간에 경화가 가능하여 경화시간을 단축할 수 있고 저온 공정으로 막을 형성할 수 있는 장점이 있으나, 실리콘계 경화 수지에 비하여 굴절률이 높다는 단점이 있어 저반사용 저굴절막으로 사용하는데 어려움이 있었다.On the other hand, as a method of forming a low refractive or low reflection film, there are a method for producing a film using a siloxane-based curable resin and a method for producing a film using a photocurable resin such as an acrylic resin. In the case of silicone-based thermosetting resins, there is an advantage of low refractive index, but there is a problem that high temperature curing is required for the manufacture of the film and the curing time is long. On the other hand, acrylic photocurable resins can be cured in a short time by UV irradiation, which can shorten the curing time and form a film by low temperature process. Difficult to use as a membrane.

최근 반도체 분야의 저유전 물질의 필요에 따라 유기물의 포로젠을 도입하거나, 포로젠을 사용하지 않고 졸-겔(sol-gel) 공정을 이용한 여러 가지 절연막의 제조방법이 있으나, 상기 방법들은 반도체의 유전특성을 향상시키는 것을 목적으로 하고, 고온의 제조공정을 사용하며, 대부분의 조성물들이 디스플레이용 저굴절막 및 반사방지막의 용도로는 사용하기 부적합하다는 문제점이 있다.Recently, according to the needs of low dielectric materials in the semiconductor field, there are various methods of preparing an insulating film by introducing organic porogen or using a sol-gel process without using porogen. In order to improve dielectric properties, there is a problem in that a high temperature manufacturing process is used, and most compositions are not suitable for use in low refractive and anti-reflection films for displays.

한편, 종래 다공성 입자의 제조방법으로 구조제어제를 사용하여 실리카를 가수분해 및 축합시키고, 이를 다시 400∼500 ℃ 이상의 고온에서 처리하여 구조제어제를 제거함으로써 다공성 입자를 제조하였다. 그러나, 상기와 같은 종래 기술들은 400∼500 ℃ 이상의 고온에서 처리해야만 하였으며, 열처리 후 제조된 입자도 저굴절 코팅막 제조를 위한 재분산이 어렵고 입자크기도 커서 투명한 저굴절 막을 얻을 수 없다는 문제점이 있다. 또한, 400∼500 ℃ 이상의 고온으로 처리하지 않을 경우에는 구조제어제가 무기미립자에 함유되어 플라스틱 기판과 같은 저온공정으로 제조되어야만 하는 저굴절막에 적용시 굴절율이 높게 나타나게 된다는 문제점이 있었다.Meanwhile, a porous particle was prepared by hydrolyzing and condensing silica using a structure controlling agent as a conventional method for preparing porous particles, and then treating the same at a high temperature of 400 to 500 ° C. or higher to remove the structure controlling agent. However, the prior art as described above had to be treated at a high temperature of 400 to 500 ° C. or higher, and the particles prepared after the heat treatment are also difficult to redistribute for producing the low refractive coating layer and have a large particle size, thereby preventing the obtaining of a transparent low refractive film. In addition, when the treatment is not performed at a high temperature of 400 to 500 ° C. or higher, there is a problem in that the refractive index is high when applied to a low refractive film which must be manufactured by a low temperature process such as a plastic substrate because the structural control agent is contained in the inorganic fine particles.

따라서, 저굴절막에 적용하여 저온 공정으로 제조가 가능하고, 경화시간이 짧으며, 저반사의 특성을 가지면서 여러 물성이 우수한 광경화 저반사용 저굴절막을 제조하는 방법에 대한 연구가 더욱 필요한 실정이다.Therefore, it is possible to manufacture a low-refractive film that can be manufactured by a low temperature process by applying to a low refractive film, a curing time is short, and has a low reflection characteristic and excellent properties of various photocurable low reflection films. to be.

상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하고자, 본 발명은 저굴절막에 적용하기 위하여 특정크기의 입경을 가지는 실란화합물에 구조제어제를 사용하여 다공(porous)을 형성한 후, 상기 다공형성을 위해 사용한 구조제어제를 막 형성 이전에 간단한 방법으로 제거함으로써 120 ℃ 이하의 낮은 온도에서 굴절율이 현저히 낮은 초저굴절막으로의 제조가 가능할 뿐만 아니라, 디스플레이를 포함한 다양한 용도의 저굴절막 또는 저반사막으로 사용하기 적합한 광경화형 막 형성용 코팅 조성물 및 이로부터 제조된 막을 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the problems of the prior art as described above, the present invention is to form a porous (porous) using a structural control agent in the silane compound having a particle size of a specific size in order to apply to the low refractive film, By removing the used structural control agent in a simple manner before film formation, it is possible to manufacture a very low refractive index film with a very low refractive index at a temperature lower than 120 ° C., as well as a low refractive film or a low reflection film for various uses including a display. It is an object to provide the following suitable photocurable film-forming coating compositions and films prepared therefrom.

본 발명의 다른 목적은 광경화로 공정이 매우 간단하며, 투명성이 우수하고, 저굴절막으로의 기본 물성이 우수한 광경화형 막 형성용 코팅 조성물 및 이로부터 제조된 막을 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a photocurable coating composition for forming a photocurable film and a film prepared therefrom having a very simple photocuring process, excellent transparency and excellent basic properties to a low refractive film.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 광경화형 막 형성용 코팅 조성물에 있어서,In order to achieve the above object, the present invention is a coating composition for forming a photocurable film,

a) 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자;a) porous organic / inorganic hybrid nanoparticles;

b) 불포화성 관능기를 가지는 광경화형 화합물;b) photocurable compounds having unsaturated functional groups;

c) 광개시제 또는 광증감제; 및c) photoinitiators or photosensitisers; And

d) 용매d) solvent

를 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화형 막 형성용 코팅 조성물을 제공한다. It provides a coating composition for forming a photocurable film comprising a.

또한 본 발명은 상기 광경화형 막 형성용 코팅 조성물을 기재에 도포한 후 경화시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 광경화형 막의 제조방법을 제공한다.In another aspect, the present invention provides a method for producing a photocurable film, characterized in that the coating composition for forming a photocurable film is applied to a substrate and then cured.

또한 본 발명은 상기 방법으로 제조된 광경화형 막을 제공한다.The present invention also provides a photocurable film prepared by the above method.

이하 본 발명을 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명자들은 저굴절막에 적용하기 위하여 특정크기의 입경을 가지는 실란화합물에 구조제어제를 사용하여 다공(porous)을 형성한 후, 상기 다공형성을 위해 사용한 구조제어제를 막 형성 이전에 간단한 방법으로 제거하여 제조한 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자를 광경화형 막 형성용 코팅 조성물에 적용한 결과, 120 ℃ 이하의 낮은 온도에서 굴절율이 현저히 낮은 초저굴절막으로의 제조가 가능할 뿐만 아니라, 디스플레이를 포함한 다양한 용도의 저굴절막 또는 저반사막으로 사용하기 적합함을 확인하고, 이를 토대로 본 발명을 완성하게 되었다.The present inventors formed a porous layer of a silane compound having a particle size of a specific size for application to a low refractive film by using a structural control agent, and then a simple method before forming the film using the structural control agent used for forming the pore. As a result of applying the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles prepared by removing the photocurable coating composition to a photocurable film-forming film, it is possible not only to manufacture a very low refractive index film with a very low refractive index at a temperature lower than 120 ° C. It was confirmed that the film is suitable for use as a low refractive film or a low reflection film for use, and thus, the present invention has been completed.

본 발명의 광경화형 막 형성용 코팅 조성물은 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자, 불포화성 관능기를 가지는 광경화형 화합물, 광개시제 또는 광증감제, 및 용매를 포함하는 것을 특징으로 한다.The coating composition for forming a photocurable film of the present invention is characterized by comprising porous organic / inorganic hybrid nanoparticles, a photocurable compound having an unsaturated functional group, a photoinitiator or a photosensitizer, and a solvent.

본 발명에 사용되는 상기 a)의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자는 그 크기가 5 내지 30 ㎚인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 5 내지 20 ㎚인 것이다. 상기 나노 입자의 크기가 5 ㎚ 미만일 경우에는 최종 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자를 이용하여 굴절률을 낮추는데 효과적이지 않다는 문제점이 있으 며, 30 ㎚를 초과할 경우에는 최종 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자의 안정성이 저하되고, 응집이 일어나기 쉬우며, 입자의 불투명성이 떨어지고, 입자 제조시 쉽게 젤이 발생될 수 있다는 문제점이 있다.The porous organic / inorganic hybrid nanoparticles of a) used in the present invention preferably have a size of 5 to 30 nm, more preferably 5 to 20 nm. When the size of the nanoparticles is less than 5 nm, there is a problem that it is not effective to lower the refractive index by using the final porous organic / inorganic hybrid nanoparticles, if the nanoparticles exceed 30 nm stability of the final porous organic / inorganic hybrid nanoparticles There is a problem that this is lowered, agglomeration is likely to occur, the opacity of the particles are lowered, and the gel can be easily generated during particle production.

상기 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자는 이를 이용하여 저온건조 후 막 제조시 굴절률이 최대 1.40인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 최대 1.35인 것이다. 상기 굴절률이 1.40을 초과할 경우에는 막 조성물내에 다공성 입자를 이용하여 많이 포함하여도 굴절률을 낮추는데 한계가 있다는 문제점이 있다.Preferably, the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles have a refractive index of 1.40, and more preferably, a maximum of 1.35, when preparing a membrane after low temperature drying. When the refractive index is greater than 1.40, there is a problem in that the refractive index is limited even if it includes a large amount of porous particles in the membrane composition.

또한 상기 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자는 특정의 조성을 갖는 것이 좋으며, 특히 상기 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자는 C/Si가 최대 0.65인 것이 다공성 나노 입자의 제조, 입자의 안정성, 및 막의 강도 측면에서 바람직하다. 상기 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자의 C/Si가 낮은 경우 입자내 미반응기의 증가로 유전율이 급격히 증가하여 저유전 재료로 적합하지 않으나, 본 발명의 목적인 저반사용 저굴절막에는 미반응기가 굴절률을 크게 증가시키지 않으며, 입자의 강도를 증가시키므로 C/Si가 특정 이하의 값을 갖는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles have a specific composition, and in particular, the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles have a C / Si of up to 0.65 in terms of production of porous nanoparticles, stability of particles, and membrane strength. desirable. When the C / Si of the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles is low, the dielectric constant rapidly increases due to the increase of the unreacted groups in the particles, and thus is not suitable as a low dielectric material. It is preferable that C / Si has a value below a certain value because it does not increase significantly and increases the strength of the particles.

상기와 같은 a)의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자는 ⅰ) 실란화합물, ⅱ) 구조제어제, ⅲ) 물, 및 ⅳ) 용매를 가하여 가수분해 및 축합반응시켜 평균입경이 5∼30 ㎚인 다공성 나노 입자로 형성시킨 후, 상기 평균입경이 5∼30 ㎚인 다공성 나노 입자로부터 구조제어제를 제거하여 제조된다.The porous organic / inorganic hybrid nanoparticles of a) are hydrolyzed and condensed with (i) a silane compound, ii) a structural control agent, iii) water, and iii) a solvent, and have a pore having an average particle diameter of 5 to 30 nm. After forming into nanoparticles, the average particle diameter is prepared by removing the structural control agent from the porous nanoparticles having a diameter of 5 to 30 nm.

상기 나노 입자의 제조에 사용되는 ⅰ)의 실란화합물은 실리콘, 산소, 탄소, 수소로 구성된 실란화합물이면 어느 것이나 사용가능하며, 특히 하기 화학식 1 또 는 화학식 2로 표시되는 실란화합물을 사용하는 것이 바람직하다.The silane compound of i) used for the production of the nanoparticles may be any silane compound composed of silicon, oxygen, carbon, and hydrogen, and in particular, a silane compound represented by the following Chemical Formula 1 or Chemical Formula 2 is preferably used. Do.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112005029446217-PAT00001
Figure 112005029446217-PAT00001

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112005029446217-PAT00002
Figure 112005029446217-PAT00002

상기 화학식 1 또는 화학식 2의 식에서,In Formula 1 or Formula 2,

R1은 비가수분해성 작용기로, 수소, 불소, 아릴, 비닐, 알릴, 또는 치환되지 않거나 불소로 치환된 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알킬이며, 바람직하게는 치환되지 않거나 불소로 치환된 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알킬이고,R 1 is a non-hydrolyzable functional group which is hydrogen, fluorine, aryl, vinyl, allyl, or unsubstituted or substituted fluorine, straight or branched alkyl having 1 to 4 carbon atoms, preferably unsubstituted or substituted with fluorine. Linear or branched alkyl of 1 to 4 carbon atoms,

R2 및 R3는 각각 독립적으로 아세톡시, 하이드록시, 또는 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알콕시이다.R 2 and R 3 are each independently acetoxy, hydroxy, or straight or branched alkoxy having 1 to 4 carbon atoms.

상기 실란화합물은 단독 또는 두 성분을 혼합하여 사용할 수 있으며, 상기 화학식 1로 표시되는 실란화합물 1 몰에 대하여 상기 화학식 2로 표시되는 실란화합물의 C/Si가 최대 0.65인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 C/Si가 0.5 이하인 것이 좋다. 상기 C/Si가 0.65를 초과할 경우에는 최종 나노 입자의 안정된 입자 제조가 어렵고 기계적 특성이 저하될 수 있다는 문제점이 있다. The silane compound may be used alone or in a mixture of two components. It is preferable that the C / Si of the silane compound represented by the formula (2) is at most 0.65, more preferably 1 mole of the silane compound represented by the formula (1). It is preferable that C / Si is 0.5 or less. When the C / Si exceeds 0.65, there is a problem that it is difficult to manufacture stable particles of the final nanoparticles and the mechanical properties may be degraded.

상기 나노 입자의 제조에 사용되는 ⅱ)의 구조제어제는 입자 성장을 제어하는 통상의 구조제어제를 사용할 수 있음은 물론이며, 구체적으로 쿼터너리 암모늄 염을 사용하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 테트라 메틸 암모늄 하이드록사이드, 테트라 에틸 암모늄 하이드록사이드, 테트라 프로필 알킬 암모늄 하이드록사이드, 또는 테트라 부틸 암모늄 하이드록사이드 등의 알킬 암모늄 하이드록사이드를 사용하는 것이다.As a structural control agent of ii) used in the preparation of the nanoparticles, it is possible to use a conventional structural control agent for controlling particle growth, and specifically, it is preferable to use a quaternary ammonium salt, more preferably Alkyl ammonium hydroxides, such as tetra methyl ammonium hydroxide, tetra ethyl ammonium hydroxide, tetra propyl alkyl ammonium hydroxide, or tetra butyl ammonium hydroxide, are used.

상기 알킬 암모늄 하이드록사이드는 구조제어제이면서 동시에 염기 촉매로 본 발명의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자의 제조시 별도의 염기 촉매를 첨가할 필요가 없으나, 필요에 따라 염기 촉매를 첨가하여 pH를 조절함으로써 가수분해 및 축합반응을 실시할 수도 있다. 이때, 사용가능한 염기 촉매로는 암모니아수, 유기아민 등이 있다.The alkyl ammonium hydroxide is a structural control agent and at the same time, it is not necessary to add a separate base catalyst in the preparation of the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles of the present invention as a base catalyst, but if necessary to adjust the pH by adding a base catalyst By doing so, hydrolysis and condensation reactions can be carried out. At this time, usable base catalysts include ammonia water, organic amines and the like.

상기 구조제어제는 구조제어제의 종류, 반응 조건 등에 따라 그 사용량을 조절하여 사용할 수 있으나, 특히 실란화합물 1 몰에 대하여 0.05 내지 0.25 몰로 사용되는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.06 내지 0.15 몰로 사용되는 것이다. 그 사용량이 0.05 미만일 경우에는 젤이 발생할 수 있다는 문제점이 있으며, 0.25 몰을 초과할 경우에는 입자 성장이 억제되어 이를 이용하여 1.40 이하의 저굴절막을 형성하기 어렵다는 문제점이 있다.The structural control agent may be used by adjusting the amount of the structural control agent according to the type, reaction conditions, etc. of the structural control agent, in particular, it is preferably used in 0.05 to 0.25 moles, more preferably 0.06 to 0.15 moles per 1 mole of the silane compound. Will be. If the amount is less than 0.05, there is a problem that the gel may occur, if the amount exceeds 0.25 mole there is a problem that it is difficult to form a low refractive index film of less than 1.40 by using the particles growth is suppressed.

상기 나노 입자의 제조에 사용되는 ⅲ)의 물은 실란화합물의 가수분해를 위하여 사용한다. I) water used in the preparation of the nanoparticles is used for hydrolysis of the silane compound.

상기 물은 실란화합물의 가수분해성 작용기 1 몰에 대하여 0.5 내지 10 몰로 사용되는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1 내지 5 몰로 사용되는 것이다. 그 사용량이 0.5 몰 미만일 경우에는 충분한 가수분해 및 축합반응이 일어나지 않 으며, 막의 저굴절 특성과 기계적 물성을 저하시킬 수 있다는 문제점이 있으며, 10 몰을 초과할 경우에는 가수분해 및 축합반응시 젤화가 발생할 수 있으며, 반응용액내 성분 등의 균일도가 낮아지고, 양산성 측면에서 바람직하지 않다는 문제점이 있다.The water is preferably used in 0.5 to 10 moles, more preferably 1 to 5 moles per 1 mole of the hydrolyzable functional group of the silane compound. If the amount is less than 0.5 moles, sufficient hydrolysis and condensation reactions do not occur, and there is a problem that the low refractive properties and mechanical properties of the membrane may be lowered. If the amount exceeds 10 moles, gelation may occur during the hydrolysis and condensation reactions. It may occur, the uniformity of the components in the reaction solution is lowered, there is a problem that is not preferable in terms of mass production.

상기 나노 입자의 제조에 사용되는 ⅳ)의 용매는 가수분해 및 축합반응에 지장을 초래하지 않으면 그 종류에 특별한 제한은 없으며, 구체적으로 지방족 탄화수소계 용매, 알코올계 용매, 에테르계 용매, 에스테르계 용매, 또는 아마이드계 용매 등을 사용할 수 있으며, 특히 알코올계 용매를 사용하는 것이 바람직하다.The solvent of i) used in the preparation of the nanoparticles is not particularly limited as long as it does not interfere with the hydrolysis and condensation reactions. Specifically, an aliphatic hydrocarbon solvent, alcohol solvent, ether solvent, ester solvent , Or an amide solvent or the like can be used, and it is particularly preferable to use an alcohol solvent.

상기 용매는 실란화합물의 가수분해성 작용기 1 몰에 대하여 0.5 내지 20 몰로 사용되는 것이 바람직하며, 그 사용량이 0.5 몰 미만일 경우에는 반응속도가 증가하여 겔화의 우려가 있으며, 20 몰을 초과할 경우에는 반응속도가 감소하여 반응 후 입자가 충분한 다공성을 가지지 못할 수 있다는 문제점이 있다.The solvent is preferably used in an amount of 0.5 to 20 moles with respect to 1 mole of the hydrolyzable functional group of the silane compound. When the amount is less than 0.5 moles, the reaction rate may increase and there is a risk of gelation. There is a problem that the rate is reduced, the particles may not have sufficient porosity after the reaction.

상기와 같은 실란화합물, 구조제어제는 물과 용매 하에서 가수분해 및 축합반응하여 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자를 형성한다. As described above, the silane compound and the structural control agent are hydrolyzed and condensed under water and a solvent to form porous organic / inorganic hybrid nanoparticles.

상기 가수분해 및 축합반응의 반응조건은 큰 제한이 없으나, 특히 30 내지 100 ℃의 온도에서 교반하면서 1 내지 40 시간 동안 반응시키는 것이 바람직하다. 또한 반응온도는 반응 동안 일정한 온도로 유지해도 좋고, 단속적 또는 연속적으로 온도를 조절하면서 반응시켜도 좋다.Although the reaction conditions of the hydrolysis and condensation reaction is not particularly limited, it is particularly preferable to react for 1 to 40 hours with stirring at a temperature of 30 to 100 ℃. The reaction temperature may be maintained at a constant temperature during the reaction, or may be reacted while controlling the temperature intermittently or continuously.

상기와 같이 가수분해 및 축합반응은 상압에서 반응을 하여도 되고, 더욱 바람직하게는 일정한 압력 이상에서 가압하여 반응하면 더욱 굴절율이 낮은 다공성 입자의 제조가 가능하다. 일반적으로, 반응 유기용매의 끓는점(boling point)보다 5 내지 70 ℃ 이상에서 반응기를 밀폐시키고 반응하는 것이 좋다. 상기 온도가 5 ℃ 미만에서 반응시킬 경우에는 충분히 압력이 가해지지 않는다는 문제점이 있으며, 70 ℃ 이상에서 반응시킬 경우에는 반응압력이 높아 안정적으로 입자를 성장시킬 수 없다는 문제점이 있다.As described above, the hydrolysis and condensation reaction may be carried out at normal pressure, and more preferably, when the reaction is carried out by pressing at a predetermined pressure or more, it is possible to produce porous particles having a lower refractive index. In general, it is preferable to seal and react the reactor at 5 to 70 ° C. or more above the boiling point of the reaction organic solvent. When the reaction temperature is less than 5 ℃ there is a problem that the pressure is not sufficiently applied, when the reaction at 70 ℃ or more has a problem that the reaction pressure is high and can not stably grow the particles.

상기와 같이 가수분해 및 축합반응으로 일정 크기로 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자를 제조하며, 그 다음 상기 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자를 저온 건조하여 물 및 용매를 제거하고 입자 자체만으로 막을 제조할 경우 굴절률이 최대 1.40, 바람직하게는 최대 1.35이 되도록 입자를 성장시킨다. 상기 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자를 성장시킨 후 다공성 입자 성장에 사용된 구조제어제를 제거하여 최종 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자를 제조한다.When the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles are manufactured to a certain size by the hydrolysis and condensation reaction as described above, and then the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles are dried at low temperature to remove water and solvents and to produce a membrane by only the particles themselves The particles are grown so that the refractive index is at most 1.40, preferably at most 1.35. After growing the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles, the structural control agent used for growing the porous particles is removed to prepare a final porous organic / inorganic hybrid nanoparticle.

상기 구조제어제를 제거하는 방법으로는 이온교환수지법, 한외여과법, 또는 물에 의한 세척법 등 통상의 방법을 사용하여 제거할 수 있다.As the method for removing the structural control agent, it can be removed using a conventional method such as an ion exchange resin method, an ultrafiltration method, or washing with water.

상기와 같이 제조할 수 있는 a)의 다공성 나노 입자를 사용하여 굴절률을 효과적으로 낮추기 위하여는 특정 함량 이상을 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 다공성 하이브리드 나노입자는 막 형성용 조성물 내의 함량에 따라 선형적으로 감소하지 않으며 특정량 이상에서 급격히 굴절률이 감소한다. In order to effectively lower the refractive index by using the porous nanoparticles of a) can be prepared as described above it is preferable to use a specific content or more. For example, the porous hybrid nanoparticles do not decrease linearly with the content in the film-forming composition, and the refractive index rapidly decreases above a certain amount.

또한 상기 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자는 필요에 따라 반응 후 특정의 용매, 물, 알코올들을 제거하거나, 용매치환하거나, 또는 부산물을 제거한 후 2차 용매로 치환하여 최종 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자를 제조할 수 있 다.In addition, the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles may be replaced with a secondary solvent after removing specific solvents, water, and alcohols, or after solvent replacement, or by-products, if necessary, to replace the final porous organic / inorganic hybrid nanoparticles. It can be manufactured.

상기와 같이 제조한 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자는 구조제어제를 함유하지 않은 상태로 코팅 조성물에 사용되는데, 이때 상기 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자는 코팅 조성물에 입자 상태로 함유될 수도 있으며, 필요에 따라 용매에 분산시킨 콜로이드 상태로 함유될 수도 있다. 이와 같은 코팅 조성물이 저굴절막에 적용시 120 ℃ 이하의 낮은 온도에서 제조되는 초저굴절막에의 적용이 가능하게 된다.The porous organic / inorganic hybrid nanoparticles prepared as described above are used in the coating composition without containing a structural control agent, wherein the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles may be contained in the coating composition in the form of particles. It may also be contained in a colloidal state dispersed in a solvent. When such a coating composition is applied to a low refractive film, it is possible to apply to an ultra low refractive film manufactured at a low temperature of 120 ° C. or less.

또한 상기 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자는 막 형성 조성물 내의 함량에 따라 선형적으로 감소하지 않으며 특정량 이상에서 급격히 굴절률이 저하되므로 코팅 조성물의 고형분에 대하여 특정량으로 사용되는 것이 바람직하다.In addition, the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles do not decrease linearly according to the content in the film-forming composition, and since the refractive index drops sharply above a certain amount, it is preferable to use a specific amount with respect to the solid content of the coating composition.

구체적으로, 상기 다공성 나노 입자의 함량은 막 형성용 조성물의 고형분에 대하여 60 중량% 이상을 사용하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 70 중량% 이상을 사용하는 것이며, 이 경우 굴절률이 급격히 낮아져 1.40 이하의, 더욱 바람직하게는 1.35 이하의 초저굴절의 광경화막도 제조할 수 있다. Specifically, the content of the porous nanoparticles is preferably 60% by weight or more based on the solid content of the film-forming composition, more preferably 70% by weight or more, in which case the refractive index is sharply lowered to 1.40 or less More preferably, the ultra-low refractive photocurable film of 1.35 or less can also be manufactured.

본 발명에 사용되는 상기 b)의 불포화성 관능기를 가지는 광경화형 화합물은 통상 하드 코팅에 사용되는 광중합이 가능한 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 광경화형 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 구체적으로, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 에틸렌기의 수가 2∼14인 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 프로필렌기의 수가 2∼14인 프로필렌글리 콜 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 또는 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트 등의 다가 알코올을 α,β-불포화 카르복실산에 에스테르화하여 얻어지는 화합물; 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르아크릴산 부가물 또는 비스페놀 A 디글리시딜에테르아크릴산 부가물 등의 글리시딜기를 함유하는 화합물에 (메타)아크릴산을 부가하여 얻어지는 화합물; β-히드록시 에틸(메타)아크릴레이트의 프탈산에스테르 또는 β-히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 톨루엔 디이소시아네이트의 부가물 등의 수산화기나 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 화합물과 다가 카르복실산과의 에스테르 화합물, 또는 폴리이소시아네이트와의 부가물; 또는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산 알킬에스테르 등이 있다. As the photocurable compound having the unsaturated functional group of b) used in the present invention, it is preferable to use a photocurable compound having an ethylenically unsaturated bond capable of photopolymerization, which is usually used for hard coating. Specifically, ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate having a number of ethylene groups of 2 to 14, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol Polyhydric alcohols, such as a tetra (meth) acrylate, the propylene glycol di (meth) acrylate whose number of propylene groups are 2-14, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, or dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, compounds obtained by esterifying to α, β-unsaturated carboxylic acids; Compounds obtained by adding (meth) acrylic acid to a compound containing a glycidyl group such as trimethylolpropane triglycidyl ether acrylic acid adduct or bisphenol A diglycidyl ether acrylic acid adduct; Ester compounds of a compound having a hydroxyl group or ethylenically unsaturated bond, such as a phthalic acid ester of β-hydroxyethyl (meth) acrylate or an adduct of toluene diisocyanate of β-hydroxyethyl (meth) acrylate, and a polyhydric carboxylic acid Or adducts with polyisocyanates; Or (meth) acrylic acid alkyl esters such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate and 2-ethylhexyl (meth) acrylate.

상기와 같은 불포화성 관능기를 가지는 광경화형 화합물은 필요에 따라 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단관능의 아크릴레이트계 화합물, 스티렌, 또는 비닐톨루엔 등과 혼합하여 일정량 혼합하여 사용할 수도 있다.The photocurable compound having an unsaturated functional group as described above may be mixed with a monofunctional acrylate compound having an ethylenically unsaturated bond, styrene, vinyltoluene, or the like, if necessary, mixed with a predetermined amount.

본 발명에서 사용되는 상기 c)의 광개시제 또는 광증감제는 광경화를 위하여 사용된다. 상기 광개시제는 아세토페논류, 벤조페논류, 미히라(Michler) 벤조일벤조에이트, α-아밀옥심에스테르, 또는 티옥산톤류 등을 사용할 수 있으며, 광증감제로는 n-부틸아민, 트리에틸아민, 또는 트리-n-부틸호스파인 등을 사용할 수 있다. The photoinitiator or photosensitizer of c) used in the present invention is used for photocuring. The photoinitiator may be used acetophenones, benzophenones, Michler benzoyl benzoate, α- amyl oxime ester, or thioxanthones, and the like as a photosensitizer, n-butylamine, triethylamine, or Tri-n-butyl hose pine etc. can be used.

상기 광개시제 또는 광증감제는 각각 단독 또는 혼합하여 함께 사용할 수 있 으며, 혼합 사용시 우수한 광경화성을 나타낼 수 있어 더욱 좋다.The photoinitiator or photo-sensitizer may be used alone or in combination, respectively, it is better to exhibit excellent photocurability when used in combination.

상기와 같은 성분으로 이루어지는 본 발명의 막 형성용 코팅 조성물은 d)의 용매를 포함하는 바, 상기 용매는 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자를 고루 분산시킬 수 있고, 코팅특성이 우수한 용매면 특정히 한정되지 않는다.The coating composition for forming a film of the present invention comprising the above components includes the solvent of d), and the solvent may uniformly disperse the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles and may be specifically limited to a solvent having excellent coating properties. It doesn't work.

상기 용매는 a)의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자의 제조시 사용되는 용매와 동일한 것을 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있으며, 특히 지방족 탄화수소계 용매, 알코올계 용매, 에테르계 용매, 에스테르계 용매, 또는 아마이드계 용매 등을 사용할 수 있으며, 이를 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있음은 물론이다.The solvent may be used by mixing two or more of the same solvents used in the preparation of the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles of a), in particular aliphatic hydrocarbon solvents, alcohol solvents, ether solvents, ester solvents, or Amide solvents and the like can be used, it can be used alone or in combination of two or more.

상기와 같은 성분을 포함하는 본 발명의 막 형성용 코팅 조성물은 필요에 따라 첨가제를 추가로 포함할 수 있다.Coating composition for film formation of the present invention containing the above components may further comprise an additive as necessary.

상기 첨가제의 종류 및 양은 막 특성을 저해하지 않는 범위에서 크게 제한되지 않으며, 구체적으로 대전방지성을 향상시키기 위한 전도성 무기입자, 염, 전도성 고분자; 내오염성 향상을 위한 플로린 함유 실란화합물, 플로린 함유 광중합성 화합물; 또는 강도 향상을 위한 실란화합물, 실리카 입자 등을 사용할 수 있다.The type and amount of the additives are not particularly limited in a range that does not impair the film properties, specifically conductive inorganic particles, salts, conductive polymers for improving the antistatic properties; Florin-containing silane compounds for improving stain resistance, Florin-containing photopolymerizable compounds; Alternatively, a silane compound or silica particles may be used for improving the strength.

또한 본 발명은 상기와 같은 성분을 포함하는 광경화형 막 형성용 코팅 조성물을 기재에 도포한 후 경화시켜 제조되는 광경화형 막의 제조방법 및 이로부터 제조된 광경화형 막을 제공하는 바, 상기와 같은 본 발명의 광경화형 막은 굴절율이 1.45 이상이던 종래 광경화형 막과 비교하여 현저히 저하된 굴절률이 1.40이하, 바람직하게는 1.35 이하의 광경화형 저굴절막 또는 광경화형 저반사막으로 제조가 가 능하다.In another aspect, the present invention provides a method for preparing a photocurable film prepared by applying a coating composition for forming a photocurable film comprising the above components to a substrate and curing the same, and a photocurable film prepared therefrom. The photocurable film can be produced as a photocurable low refractive film or a photocurable low reflection film having a refractive index of 1.40 or less, preferably 1.35 or less, compared with a conventional photocurable film having a refractive index of 1.45 or more.

상기 기재는 통상의 투명 기재를 사용할 수 있으며, 구체적으로 유리, 폴리카보네이트, 아크릴 수지, PET, 또는 TAC 등의 플리스틱시트(plastic sheet), 플리스틱 필름(plastic film), 플리스틱 렌즈(plastic lens), 또는 플리스틱 페널(plastic panel) 등을 사용할 수 있다.The substrate may be a conventional transparent substrate, and specifically, a plastic sheet such as glass, polycarbonate, acrylic resin, PET, or TAC, a plastic film, or a plastic lens ), Or a plastic panel can be used.

상기와 같은 기재에 본 발명의 광경화형 막 형성용 코팅 조성물을 도포하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 도포액의 특성이나 도포량에 따라 달리할 수 있음은 물론이며, 그 예로 롤 코팅, 그라비아 코팅, 딥 코팅, 바 코팅, 스프레이 코팅, 스핀 코팅, 또는 압출 코팅 등의 통상의 방법으로 실시할 수 있다.The method of applying the coating composition for forming a photocurable film of the present invention to the substrate as described above is not particularly limited, and may vary depending on the characteristics and the coating amount of the coating liquid. Examples thereof include roll coating, gravure coating, and dip. The coating, bar coating, spray coating, spin coating, or extrusion coating can be carried out by conventional methods.

상기와 같이 제조된 본 발명의 광경화형 막은 기능성을 부여하기 위하여 막 상하에 다른 막을 형성하여 사용할 수 있으며, 그 예로는 접착성을 부여하기 위한 접착층; 프라이머층; 또는 대전방지, 내마모성, 내오염성 등을 부여하기 위한 층; 등이 있으며, 필요에 따라 기능성 첨가제를 첨가하여 기능성을 부여할 수도 있다.The photocurable film of the present invention prepared as described above may be used by forming another film above and below the film in order to impart functionality, and examples thereof include: an adhesive layer for imparting adhesion; Primer layer; Or a layer for imparting antistatic, abrasion resistance, fouling resistance, and the like; And the like, and functional additives may be added as necessary to impart functionality.

상기와 같은 본 발명의 광경화형 막은 워드프로세서, 컴퓨터, 텔레비전, 또는 프라즈마 디스플레이 패널 등의 각종 디스플레이; 액정표시장치에 사용되는 편광판의 표면; 투명 플라스틱류로 이루어지는 선글라스 렌즈, 도수가 있는 안경렌즈, 또는 카메라용 파인더 랜즈 등의 광학렌즈; 각종 계기의 커버 또는 자동차 또는 전차의 유리 등의 표면의 저반사막; 광휘도 향상막; 또는 광도파로막 등으로 사용할 수 있다.The photocurable film of the present invention as described above can be used for various displays such as word processors, computers, televisions, or plasma display panels; A surface of the polarizing plate used in the liquid crystal display device; Optical lenses such as sunglasses lenses made of transparent plastics, eyeglass lenses with frequency, or finder lenses for cameras; A low reflection film on the surface of a cover of various instruments or a glass of an automobile or a train; Brightness enhancement film; Or an optical waveguide film.

상기와 같은 본 발명의 광경화형 막 형성용 코팅 조성물은 광경화로 공정이 매우 간단하며, 투명성이 우수하고, 일반 광경화 수지와 비교하여 굴절률이 현저히 낮아 디스플레이를 포함한 다양한 용도의 저굴절막 및 저반사막으로 사용할 수 있다.The coating composition for forming a photocurable film of the present invention as described above has a very simple process of photocuring, has excellent transparency, and has a significantly lower refractive index than a general photocuring resin, such as a low refractive film and a low reflection film for various applications including a display. Can be used as

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred examples are provided to help understanding of the present invention, but the following examples are merely to illustrate the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following examples.

[실시예]EXAMPLE

실시예 1Example 1

메틸트리메톡시실란(MTMS) 34 g, 테트라에톡시실란(TEOS) 52 g, 및 에탄올(EtOH) 161 g을 혼합한 후 상온에서 교반하였다. 상기 혼합액에 증류수 66 g으로 희석시킨 10 중량%의 테트라 프로필 암모늄 하이드록사이드 수용액(TPAOH) 102 g을 가하여 충분히 혼합한 후, 80 ℃로 온도를 상승시키고, 이 온도에서 20 시간 동안 반응시키면서 투명한 실리케이트 용액을 제조하였다. 상기 실리케이트 용액을 상온으로 식힌 후, 0 ℃ ice-bath로 온도를 낮추고, 65 중량%의 질산수용액(HNO3) 6.4 g을 가하여 30 분간 교반하여 수득한 용액을 에테르 용매로 희석시켰다.34 g of methyltrimethoxysilane (MTMS), 52 g of tetraethoxysilane (TEOS), and 161 g of ethanol (EtOH) were mixed and stirred at room temperature. 102 g of 10 wt% aqueous tetrapropyl ammonium hydroxide (TPAOH) diluted with 66 g of distilled water was added to the mixed solution, and the mixture was sufficiently mixed. Then, the temperature was raised to 80 ° C., and the transparent silicate was reacted at this temperature for 20 hours. The solution was prepared. The silicate solution was cooled to room temperature, cooled to 0 ° C. in an ice-bath, and 6.4 g of 65% by weight aqueous nitric acid solution (HNO 3 ) was added thereto, followed by stirring for 30 minutes. The resulting solution was diluted with an ether solvent.

상기 희석된 용액을 증류수로 세척하여 부산물을 제거하고, 로타리 이배포래이터(rotary evaporator)를 이용하여 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트(PGMEA)로 용매치환하여 15 중량%의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자가 분산된 콜로이드 212 g을 제조하였다. 이때, 상기 나노 입자만을 사용하여 건조한 막의 굴절 률은 1.269이었다.The diluted solution was washed with distilled water to remove by-products, and solvent-substituted with propylene glycol methyl ether acetate (PGMEA) using a rotary evaporator to obtain 15% by weight of porous organic / inorganic hybrid nanoparticles. 212 g of dispersed colloid were prepared. In this case, the refractive index of the dried film using only the nanoparticles was 1.269.

상기 제조한 15 중량%의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자가 분산된 콜로이드 4.7 g 및 15 중량%의 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트(pentaerythritoltetraacrylate, PETA)가 녹아있는 프로피렌글리콜메틸에테르아세테이트 용액 2.0 g을 혼합한 후, 2,2-디메톡시-2-페닐-아세토페논(2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone) 60 ㎎을 첨가하여 저굴절막 형성용 코팅 조성물을 제조하였다.4.7 g of the colloid dispersed 15 wt% of the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles prepared above and 2.0 g of a pyreneglycol methyl ether acetate solution containing 15 wt% of pentaerythritoltetraacrylate (PETA) dissolved therein were mixed. Thereafter, 60 mg of 2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone was added to prepare a coating composition for forming a low refractive film.

실시예 2Example 2

상기 실시예 1에서 증류수 84 g으로 희석시킨 10 중량%의 테트라 프로필 암모늄 하이드록사이드 수용액 81 g을 사용하고, 70 ℃에서 반응시키고, 65 중량%의 질산수용액 5.1 g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자가 분산된 콜로이드 212 g을 제조하였다. 이때, 상기 나노 입자만을 사용하여 건조한 막의 굴절률은 1.263이었다.Except for using 81 g of 10 wt% tetrapropyl ammonium hydroxide aqueous solution diluted with 84 g of distilled water in Example 1, reacting at 70 ° C., and using 5.1 g of 65 wt% aqueous nitric acid solution. In the same manner as in Example 1, 212 g of a colloid in which porous organic / inorganic hybrid nanoparticles were dispersed was prepared. In this case, the refractive index of the film dried using only the nanoparticles was 1.263.

상기 제조한 15 중량%의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자가 분산된 콜로이드 5.3 g 및 15 중량%의 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트(pentaerythritoltetraacrylate, PETA)가 녹아있는 프로피렌글리콜메틸에테르아세테이트 용액 1.3 g을 혼합한 후, 2,2-디메톡시-2-페닐-아세토페논(2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone) 40 ㎎을 첨가하여 저굴절막 형성용 코팅 조성물을 제조하였다.5.3 g of the colloid dispersed 15 wt% of the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles prepared above, and 1.3 g of the propylene glycol methyl ether acetate solution containing 15 wt% of pentaerythritoltetraacrylate (PETA) dissolved therein were mixed. After that, 40 mg of 2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone was added to prepare a coating composition for forming a low refractive film.

실시예 3Example 3

상기 실시예 1에서 증류수 48 g으로 희석시킨 10 중량%의 테트라 프로필 암모늄 하이드록사이드 수용액 122 g을 사용하고, 90 ℃에서 12 시간 동안 수열반응시키고, 65 중량%의 질산수용액 7.6 g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자가 분산된 콜로이드 212 g을 제조하였다. 이때, 상기 나노 입자만을 사용하여 건조한 막의 굴절률은 1.234이었다.122 g of a 10 wt% tetrapropyl ammonium hydroxide aqueous solution diluted with 48 g of distilled water in Example 1 was subjected to hydrothermal reaction at 90 ° C. for 12 hours, and 7.6 g of 65 wt% aqueous nitric acid solution was used. Then, the same procedure as in Example 1 was carried out to prepare 212 g of a colloid in which porous organic / inorganic hybrid nanoparticles were dispersed. In this case, the refractive index of the film dried using only the nanoparticles was 1.234.

상기 제조한 15 중량%의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자가 분산된 콜로이드 4.7 g 및 15 중량%의 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(dipentaerythritolhexaacrylate, DPHA)가 녹아있는 프로피렌글리콜메틸에테르아세테이트 용액 2.0 g을 혼합한 후, 2,2-디메톡시-2-페닐-아세토페논(2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone) 60 ㎎을 첨가하여 저굴절막 형성용 코팅 조성물을 제조하였다.4.7 g of the colloid dispersed 15 wt% of the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles prepared above, and 2.0 g of the pyreneglycol methyl ether acetate solution containing 15 wt% of dipentaerythritolhexaacrylate (DPHA) are mixed. After that, 60 mg of 2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone was added to prepare a coating composition for forming a low refractive film.

실시예 4Example 4

상기 실시예 1에서 메틸트리메톡시실란 45 g, 테트라에톡시실란 35 g, 및 증류수 77 g으로 희석시킨 10 중량%의 테트라 프로필 암모늄 하이드록사이드 수용액 81 g을 사용하고, 60 ℃에서 반응시키고, 65 중량%의 질산수용액 3.6 g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자가 분산된 콜로이드 215 g을 제조하였다. 이때, 상기 나노 입자만을 사용하여 건조한 막의 굴절률은 1.274이었다.In Example 1, using 45 g of methyltrimethoxysilane, 35 g of tetraethoxysilane, and 81 g of 10 wt% tetrapropyl ammonium hydroxide aqueous solution diluted with 77 g of distilled water, and reacted at 60 ° C, A colloidal 215 g of porous organic / inorganic hybrid nanoparticles was dispersed in the same manner as in Example 1, except that 3.6 g of 65 wt% aqueous nitric acid solution was used. In this case, the refractive index of the film dried using only the nanoparticles was 1.274.

상기 제조한 15 중량%의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자가 분산된 콜 로이드 4.7 g 및 15 중량%의 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(dipentaerythritolhexaacrylate, DPHA)가 녹아있는 프로피렌글리콜메틸에테르아세테이트 용액 2.0 g을 혼합한 후, 2,2-디메톡시-2-페닐-아세토페논(2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone) 60 ㎎을 첨가하여 저굴절막 형성용 코팅 조성물을 제조하였다.4.7 g of the colloid in which the prepared 15 wt% porous organic / inorganic hybrid nanoparticles were dispersed, and 2.0 g of a propylene glycol methyl ether acetate solution containing 15 wt% of dipentaerythritolhexaacrylate (DPHA) was dissolved. After mixing, 60 mg of 2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone was added to prepare a coating composition for forming a low refractive film.

실시예 5Example 5

상기 실시예 1에서 메틸트리메톡시실란 27 g, 테트라에톡시실란 63 g, 및 증류수 70.5 g으로 희석시킨 10 중량%의 테트라 프로필 암모늄 하이드록사이드 수용액 102 g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자가 분산된 콜로이드 209 g을 제조하였다. 이때, 상기 나노 입자만을 사용하여 건조한 막의 굴절률은 1.288이었다.Example 1, except that 102 g of 10% by weight aqueous tetrapropyl ammonium hydroxide diluted with 27 g of methyltrimethoxysilane, 63 g of tetraethoxysilane, and 70.5 g of distilled water was used in Example 1. 209 g of a colloid in which porous organic / inorganic hybrid nanoparticles were dispersed was prepared. In this case, the refractive index of the film dried using only the nanoparticles was 1.288.

상기 제조한 15 중량%의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자가 분산된 콜로이드 5.0 g 및 15 중량%의 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트(dipentaerythritoltetraacrylate, PETA)가 녹아있는 프로피렌글리콜메틸에테르아세테이트 용액 1.7 g을 혼합한 후, 2,2-디메톡시-2-페닐-아세토페논(2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone) 50 ㎎을 첨가하여 저굴절막 형성용 코팅 조성물을 제조하였다.5.0 g of the prepared 15% by weight porous organic / inorganic hybrid nanoparticles dispersed therein and 1.7 g of a propylene glycol methyl ether acetate solution in which 15% by weight of pentaerythritoltetraacrylate (PETA) is dissolved are mixed. Thereafter, 50 mg of 2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone was added to prepare a coating composition for forming a low refractive film.

실시예 6Example 6

테트라에톡시실란(TEOS) 104 g 및 에탄올(EtOH) 184 g을 혼합한 후 상온에서 교반하였다. 상기 혼합액에 증류수 98 g으로 희석시킨 25 중량%의 테트라 프로필 암모늄 하이드록사이드 수용액(TPAOH) 61 g을 가하여 충분히 혼합한 후, 80 ℃로 온도를 상승시키고 이 온도에서 30 시간 동안 반응시키면서 투명한 실리케이트 용액을 제조하였다. 상기 실리케이트 용액을 상온으로 식힌 후, 0 ℃의 ice-bath로 온도를 낮추고, 65 중량%의 질산수용액(HNO3) 9.5 g을 가하여 30 분간 교반하여 수득한 용액을 물과 에탄올 용매로 희석시켰다.104 g of tetraethoxysilane (TEOS) and 184 g of ethanol (EtOH) were mixed and stirred at room temperature. 61 g of 25% by weight aqueous tetrapropyl ammonium hydroxide solution (TPAOH) diluted with 98 g of distilled water was added to the mixture, and the mixture was sufficiently mixed. Then, the temperature was raised to 80 ° C. and the reaction was carried out at this temperature for 30 hours. Was prepared. After the silicate solution was cooled to room temperature, the temperature was lowered by an ice bath at 0 ° C., and 9.5 g of 65% by weight aqueous nitric acid solution (HNO 3 ) was added thereto, followed by stirring for 30 minutes, and the resulting solution was diluted with water and an ethanol solvent.

상기 희석된 용액을 한외여과막을 이용하여 구조제어제를 제거하고, 에탄올로 용매치환하여 15 중량%의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자가 분산된 콜로이드 200 g을 제조하였다. 이때, 상기 나노 입자만을 사용하여 건조한 막의 굴절률은 1.295이었다.The diluted solution was removed using a ultrafiltration membrane and solvent-substituted with ethanol to prepare 200 g of a colloid in which 15 wt% of porous organic / inorganic hybrid nanoparticles were dispersed. In this case, the refractive index of the film dried using only the nanoparticles was 1.295.

상기 제조한 15 중량%의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자가 분산된 콜로이드 5.3 g 및 15 중량%의 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트와 퍼플루오로헥산디올디아크릴레이트(1H,1H,6H,6H-perfluoro-1,6-hexanediol diacrylate)가 7:3의 중량비로 혼합된 혼합물이 녹아 있는 프로피렌글리콜메틸에테르아세테이트 용액 1.3 g을 혼합한 후, 2,2-디메톡시-2-페닐-아세토페논(2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone) 40 ㎎을 첨가하여 저굴절막 형성용 코팅 조성물을 제조하였다.5.3 g and 15 wt% of pentaerythritol tetraacrylate and perfluorohexanediol diacrylate (1H, 1H, 6H, 6H-perfluoro-) in which colloidal dispersion of the prepared 15 wt% porous organic / inorganic hybrid nanoparticles was dispersed. 1,6-hexanediol diacrylate) was mixed with 1.3 g of a mixture of propylene glycol methyl ether acetate dissolved in a weight ratio of 7: 3, and then 2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone (2, 2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone) 40 mg was added to prepare a coating composition for low refractive film formation.

실시예 7Example 7

상기 실시예 2에서 15 중량%의 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트(pentaerythritoltetraacrylate, PETA)를 대신하여 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트와 퍼플루오로헥산디올디아크릴레이트(1H,1H,6H,6H-perfluoro-1,6-hexanediol diacrylate)가 7:3의 중량비로 혼합된 혼합물을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 2와 동일한 방법으로 실시하여 저굴절막 형성용 코팅 조성물을 제조하였다.Pentaerythritol tetraacrylate (PET) and perfluorohexanediol diacrylate (1H, 1H, 6H, 6H-perfluoro-1,6 in place of 15% by weight of pentaerythritoltetraacrylate (PETA) in Example 2 -hexanediol diacrylate) was carried out in the same manner as in Example 2 except for using a mixture in a weight ratio of 7: 3 to prepare a coating composition for forming a low refractive index.

비교예 1Comparative Example 1

상기 실시예 1에서 증류수 119 g으로 희석시킨 10 중량%의 테트라 프로필 암모늄 하이드록사이드 수용액 64 g을 사용하고, 60 ℃에서 반응시키고, 65 중량%의 질산수용액 15.9 g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 15 중량%의 하이브리드 실록산 수지가 분산된 용액 2.0 g 및 15 중량%의 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트가 녹아 있는 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 용액 4.7 g을 혼합한 후, 2,2-디메톡시-2-페닐-2-아세토페논 140 ㎎을 첨가한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 저굴절막 형성용 코팅 조성물을 제조하였다.The same procedure as in Example 1 was carried out except that 64 g of 10 wt% tetrapropyl ammonium hydroxide aqueous solution diluted with 119 g of distilled water was reacted at 60 ° C., and 15.9 g of 65 wt% aqueous solution of nitric acid was used. In the same manner as in Example 1, 2.0 g of a solution containing 15% by weight of the hybrid siloxane resin and 4.7 g of a propylene glycol methyl ether acetate solution containing 15% by weight of pentaerythritol tetraacrylate were mixed. A coating composition for forming a low refractive index film was prepared in the same manner as in Example 1 except that 140 mg of dimethoxy-2-phenyl-2-acetophenone was added.

비교예 2Comparative Example 2

상기 실시예 7에서 비교예 1에서 제조한 15 중량%의 하이브리드 실록산 수지가 분산된 용액 5.3 g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 7과 동일하게 실시하여 저굴절막 형성용 코팅 조성물을 제조하였다.A coating composition for forming a low refractive index film was prepared in the same manner as in Example 7, except that 5.3 g of the solution in which the 15 wt% hybrid siloxane resin prepared in Comparative Example 1 was dispersed in Example 7 was used.

비교예 3Comparative Example 3

15 중량%의 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트가 녹아있는 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 용액 5.0 g에 2,2-디메톡시-2-페닐-아세토페논 150 ㎎을 첨가하여 광경화형 코팅 조성물을 제조하였다.A photocurable coating composition was prepared by adding 150 mg of 2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone to 5.0 g of propylene glycol methyl ether acetate solution containing 15% by weight of dipentaerythritol hexaacrylate.

비교예 4Comparative Example 4

펜타에리스리톨테트라아크릴레이트와 퍼플루오로헥산디올디아크릴레이트가 7:3의 중량비로 혼합된 혼합물이 녹아 있는 15 중량%의 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 용액 5.0 g에 2,2-디메톡시-2-페닐-아세토페논 150 ㎎을 첨가하여 광경화형 코팅 조성물을 제조하였다.To 5.0 g of 15% by weight propylene glycol methyl ether acetate solution containing a mixture of pentaerythritol tetraacrylate and perfluorohexanediol diacrylate in a weight ratio of 7: 3, 2,2-dimethoxy-2-phenyl -150 mg of acetophenone was added to prepare a photocurable coating composition.

상기와 같이 제조한 실시예 1 내지 7 및 비교예 1 내지 4에서 제조한 코팅 조성물을 이용하여 굴절률, 기계적 강도, 및 최저반사율을 하기와 같이 측정하고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.Using the coating compositions prepared in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 as described above, the refractive index, mechanical strength, and minimum reflectance were measured as follows, and the results are shown in Table 1 below.

ㄱ) 굴절률 - 상기 실시예 1 내지 7 및 비교예 1 내지 4에서 제조한 코팅 조성물을 실리콘웨이퍼 위에 2,000 rpm으로 스핀코팅(spin coating)한 후, 80 ℃에서 90 초간 베이크(bake)하고, 고압수은램프(high-pressure mercury lamp) 하에 200 mJ/㎠의 에너지로 노광시켰다. 그 다음, 100 ℃에서 30 분간 더욱 베이크(bake)한 후, 엘립소미터(ellipsometer)를 사용하여 막의 굴절률을 측정하였다. A) Refractive index-After spin coating the coating composition prepared in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 at 2,000 rpm on a silicon wafer (baking) at 80 ℃ for 90 seconds, the high pressure mercury The lamp was exposed to an energy of 200 mJ / cm 2 under a high-pressure mercury lamp. Then, after further baking for 30 minutes at 100 ° C., the refractive index of the film was measured using an ellipsometer.

ㄴ) 기계적 강도 - 상기 실시예 1 내지 7 및 비교예 1 내지 4에서 제조한 코팅 조성물을 사용하여 막에 대하여 나노인덴터를 이용하여 탄성률 및 강도를 측정하였다.B) Mechanical strength-The elastic modulus and strength of the film were measured using a nanoindenter using the coating compositions prepared in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 above.

ㄷ) 최저반사율(저굴절막의 저반사 특성) - 상기 실시예 1 내지 7 및 비교예 1 내지 4에서 제조한 코팅 조성물을 TAC 필름 위에 와이어바를 이용하여 코팅한 후 상기 방법으로 경화시킨 후 반사방지필름을 제조하고 분광반사율 측정기를 이용하여 가시광선에서의 최저 반사율을 측정하여 2.5 % 초과는 미흡, 1.5∼2.5 %는 우수, 1.5 % 미만은 매우 우수로 나타내었다.C) Lowest reflectivity (low reflection characteristics of the low refractive film)-Antireflection film after the coating composition prepared in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 coated with a wire bar on the TAC film and then cured by the above method The lowest reflectance in visible light was measured by using a spectroscopic reflectance meter, and more than 2.5% was insufficient, 1.5-2.5% was excellent, and less than 1.5% was very good.

구분division 굴절률Refractive index 탄성률 (GPa)Modulus of elasticity (GPa) 강도 (GPa)Strength (GPa) 최저반사율Reflectance 실시예 1Example 1 1.3911.391 6.76.7 0.500.50 우수Great 실시예 2Example 2 1.3411.341 5.15.1 0.430.43 매우 우수Very good 실시예 3Example 3 1.3851.385 6.56.5 0.490.49 우수Great 실시예 4Example 4 1.3511.351 4.64.6 0.380.38 매우 우수Very good 실시예 5Example 5 1.3781.378 7.17.1 0.650.65 우수Great 실시예 6Example 6 1.3491.349 9.29.2 0.820.82 매우 우수Very good 실시예 7Example 7 1.3171.317 4.74.7 0.410.41 매우 우수Very good 비교예 1Comparative Example 1 1.4801.480 7.77.7 0.430.43 미흡Inadequate 비교예 2Comparative Example 2 1.4751.475 9.59.5 1.101.10 미흡Inadequate 비교예 3Comparative Example 3 1.5281.528 7.67.6 0.400.40 미흡Inadequate 비교예 4Comparative Example 4 1.5311.531 8.08.0 0.400.40 미흡Inadequate

상기 표 1을 통하여, 본 발명에 따라 제조한 실시예 1 내지 7의 막 형성용 코팅 조성물을 이용하여 제조한 광경화 수지막의 굴절률은 비교예 1 내지 4와 비교하여 현저히 낮은 굴절률을 나타내고, 저반사 특성 또한 우수함을 확인할 수 있었다.Through the above Table 1, the refractive index of the photocurable resin film prepared using the film-forming coating composition of Examples 1 to 7 according to the present invention shows a significantly lower refractive index compared to Comparative Examples 1 to 4, low reflection The characteristics were also confirmed to be excellent.

또한 나노 입자 함량에 따른 굴절률을 측정하고 그 결과를 도 1에 나타내었으며, 도 1에 나타낸 바와 같이 나노 입자의 함량이 막 형성용 코팅 조성물의 전 고형분 함량에 대하여 60 중량% 이상인 경우, 더욱 바람직하게는 70 중량% 이상인 경우 굴절률이 현저히 저하되는 것을 확인할 수 있었다. 따라서, 나노 입자의 함량이 특정량 이상으로 함유되는 것이 굴절률의 저하 측면에서 매우 바람직함을 알 수 있었다.In addition, the refractive index according to the nanoparticle content is measured and the results are shown in FIG. 1, and as shown in FIG. 1, more preferably, when the content of the nanoparticles is 60 wt% or more with respect to the total solid content of the coating composition for forming a film. In the case of 70% by weight or more, it was confirmed that the refractive index was significantly reduced. Therefore, it was found that the content of the nanoparticles contained in a specific amount or more is very preferable in terms of lowering the refractive index.

본 발명에 따른 광경화형 저굴절막 또는 저반사막 형성용 코팅 조성물은 저굴절막에 적용하기 위하여 특정크기의 입경을 가지는 실란화합물에 구조제어제를 사용하여 다공(porous)을 형성한 후, 상기 다공형성을 위해 사용한 구조제어제를 막 형성 이전에 간단한 방법으로 제거한 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자를 사용함으로써 120 ℃ 이하의 낮은 온도에서 굴절율이 현저히 낮은 초저굴절막으로의 제조가 가능할 뿐만 아니라, 디스플레이를 포함한 다양한 용도의 저굴절막 또는 저반사막으로 사용할 수 있는 효과가 있다.The coating composition for forming a photocurable low refractive film or a low reflection film according to the present invention may be formed by using a structural control agent on a silane compound having a particle size of a specific size in order to be applied to a low refractive film. The use of porous organic / inorganic hybrid nanoparticles with a simple method of removing the structural control agent used for the formation of the film enables the manufacture of ultra low refractive films with a significantly lower refractive index at temperatures below 120 ° C. There is an effect that can be used as a low refractive film or a low reflection film of various uses, including.

이상에서 본 발명의 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만, 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although only described in detail with respect to the described embodiments of the present invention, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical spirit of the present invention, it is natural that such variations and modifications belong to the appended claims. .

Claims (14)

광경화형 막 형성용 코팅 조성물에 있어서,In the coating composition for forming a photocurable film, a) 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자;a) porous organic / inorganic hybrid nanoparticles; b) 불포화성 관능기를 가지는 광경화형 화합물;b) photocurable compounds having unsaturated functional groups; c) 광개시제 또는 광증감제; 및c) photoinitiators or photosensitisers; And d) 용매d) solvent 를 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화형 막 형성용 코팅 조성물. Coating composition for forming a photocurable film comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 a)의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자의 평균입경이 5 내지 30 ㎚이고, C/Si가 최대 0.65인 것을 특징으로 하는 광경화형 막 형성용 코팅 조성물.Coating composition for forming a photocurable film, characterized in that the average particle diameter of the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles of a) is 5 to 30 nm, C / Si is up to 0.65. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 a)의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자가 막 형성용 코팅 조성물의 전 고형분에 대하여 적어도 60 중량%로 포함되는 것을 특징으로 하는 광경화형 막 형성용 코팅 조성물.The coating composition of claim 1, wherein the porous organic / inorganic hybrid nanoparticles of a) are included in at least 60% by weight based on the total solids of the coating composition for forming a film. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 a)의 다공성 유/무기 하이브리드 나노 입자가 ⅰ) 실란화합물, ⅱ) 구 조제어제, ⅲ) 물, 및 ⅳ) 용매를 가하여 가수분해 및 축합반응시켜 평균입경이 5∼30 ㎚인 다공성 나노 입자로 형성시킨 후, 상기 평균입경이 5∼30 ㎚인 다공성 나노 입자로부터 구조제어제를 제거하여 제조되는 것을 특징으로 하는 광경화형 막 형성용 코팅 조성물.The porous organic / inorganic hybrid nanoparticles of a) are hydrolyzed and condensed with iii) a silane compound, ii) a structural control agent, iii) water, and iii) a solvent, and have a mean particle size of 5 to 30 nm. After the formation, the coating composition for forming a photocurable film, characterized in that prepared by removing the structural control agent from the porous nanoparticles having an average particle diameter of 5 to 30 nm. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 ⅰ)의 실란화합물이 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 실란화합물인 것을 특징으로 하는 광경화형 막 형성용 코팅 조성물:A coating composition for forming a photocurable film, characterized in that the silane compound of (iii) is a silane compound represented by the following Chemical Formula 1 or Chemical Formula 2: [화학식 1][Formula 1]
Figure 112005029446217-PAT00003
Figure 112005029446217-PAT00003
[화학식 2][Formula 2]
Figure 112005029446217-PAT00004
Figure 112005029446217-PAT00004
상기 화학식 1 또는 화학식 2의 식에서,In Formula 1 or Formula 2, R1은 비가수분해성 작용기로, 수소, 불소, 아릴, 비닐, 알릴, 또는 치환되지 않거나 불소로 치환된 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알킬이고,R 1 is a non-hydrolyzable functional group which is hydrogen, fluorine, aryl, vinyl, allyl, or unsubstituted or substituted fluorine, straight or branched alkyl having 1 to 4 carbon atoms, R2 및 R3는 각각 독립적으로 아세톡시, 하이드록시, 또는 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알콕시이다.R 2 and R 3 are each independently acetoxy, hydroxy, or straight or branched alkoxy having 1 to 4 carbon atoms.
제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 구조제어제가 테트라 메틸 암모늄 하이드록사이드, 테트라 에틸 암모늄 하이드록사이드, 테트라 프로필 알킬 암모늄 하이드록사이드, 및 테트라 부틸 암모늄 하이드록사이드으로 이루어진 알킬 암모늄 하이드록사이드로부터 1 종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 광경화형 막 형성용 코팅 조성물.The structural control agent is at least one selected from alkyl ammonium hydroxides consisting of tetra methyl ammonium hydroxide, tetra ethyl ammonium hydroxide, tetra propyl alkyl ammonium hydroxide, and tetra butyl ammonium hydroxide. Coating composition for photocurable film formation. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 구조제어제가 실란화합물 1 몰에 대하여 0.05 내지 0.25 몰로 사용되는 것을 특징으로 하는 광경화형 막 형성용 코팅 조성물.The coating composition for forming a photocurable film, characterized in that the structural control agent is used in an amount of 0.05 to 0.25 mol based on 1 mol of the silane compound. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 구조제어제가 이온교환수지법, 한외여과법, 또는 물에 의한 세척법에 의하여 제거되는 것을 특징으로 하는 광경화형 막 형성용 코팅 조성물.The coating composition for forming a photocurable film, characterized in that the structural control agent is removed by ion exchange resin method, ultrafiltration, or washing with water. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 b)의 불포화성 관능기를 가지는 광경화형 화합물이 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 에틸렌기의 수가 2∼14인 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 프로필렌기의 수가 2∼14인 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 또는 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트의 다가 알코올을 α,β-불포화 카르 복실산에 에스테르화하여 얻어지는 화합물, 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르아크릴산 부가물의 글리시딜기를 함유하는 화합물에 (메타)아크릴산을 부가하여 얻어지는 화합물, 비스페놀 A 디글리시딜에테르아크릴산 부가물의 글리시딜기를 함유하는 화합물에 (메타)아크릴산을 부가하여 얻어지는 화합물, β-히드록시 에틸(메타)아크릴레이트의 프탈산에스테르의 톨루엔 디이소시아네이트의 부가물의 수산화기나 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 화합물과 다가 카르복실산과의 에스테르 화합물이나 폴리이소시아네이트와의 부가물, β-히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 톨루엔 디이소시아네이트의 부가물의 수산화기나 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 화합물과 다가 카르복실산과의 에스테르 화합물이나 폴리이소시아네이트와의 부가물, 및 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 및 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트의 (메타)아크릴산 알킬에스테르로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 광경화형 막 형성용 코팅 조성물.The photocurable compound which has the unsaturated functional group of said b) is ethylene glycol di (meth) acrylate, the polyethyleneglycol di (meth) acrylate whose number of ethylene groups is 2-14, trimethylol propane tri (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate having 2 to 14 propylene groups, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, or dipentaerythritol hexa ( Compound obtained by esterifying the polyhydric alcohol of meth) acrylate to (alpha), (beta)-unsaturated carboxylic acid, the compound obtained by adding (meth) acrylic acid to the compound containing the glycidyl group of the trimethylolpropane triglycidyl ether acrylic acid addition product To a compound containing a glycidyl group of a bisphenol A diglycidyl ether acrylic acid addition product ( (A) an ester compound or polyisocyanate with a compound obtained by adding acrylic acid, a compound having a hydroxyl group or an ethylenically unsaturated bond of an adduct of toluene diisocyanate of phthalic acid ester of phthalic acid ester of β-hydroxyethyl (meth) acrylate, The adduct of the adduct of the addition product of the toluene diisocyanate of toluene diisocyanate of (beta) -hydroxyethyl (meth) acrylate, the compound which has a hydroxyl group, and ethylenically unsaturated bond, and polyhydric carboxylic acid, and the adduct of polyisocyanate, and methyl (meth Photocurable, characterized in that at least one selected from the group consisting of (meth) acrylic acid alkyl esters of acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate Coating composition for film formation. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 c)의 광개시제가 아세토페논류, 벤조페논류, 미히라(Michler) 벤조일벤조에이트, α-아밀옥심에스테르, 또는 티옥산톤류이며, 광증감제가 n-부틸아민, 트리에틸아민, 또는 트리-n-부틸호스파인인 것을 특징으로 하는 광경화형 막 형성용 코팅 조성물.The photoinitiator of c) is acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyl oxime ester, or thioxanthones, and the photosensitizer is n-butylamine, triethylamine, or tri- It is n-butyl hose pine, The coating composition for photocurable film formation characterized by the above-mentioned. 제1항 기재의 광경화형 막 형성용 코팅 조성물을 기재에 도포한 후 경화시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 광경화형 막의 제조방법.A method for producing a photocurable film, characterized in that the coating composition for forming a photocurable film of claim 1 is applied to a substrate and then cured. 제11항 기재의 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 막.A film produced by the method of claim 11. 제12항에 있어서,The method of claim 12, 상기 막이 저굴절막 또는 저반사막인 것을 특징으로 하는 막.And the film is a low refractive film or a low reflection film. 제12항에 있어서,The method of claim 12, 상기 막이 워드프로세서, 컴퓨터, 텔레비전, 또는 프라즈마 디스플레이 패널, 액정표시장치에 사용되는 편광판의 표면, 선글라스 렌즈, 도수가 있는 안경렌즈, 카메라용 파인더 렌즈, 계기의 커버, 자동차의 유리, 전차의 유리, 광휘도 향상막, 또는 광도파로막로 사용되는 것을 특징으로 하는 막.The film is a surface of a polarizing plate used in a word processor, a computer, a television or a plasma display panel, a liquid crystal display device, a sunglasses lens, a spectacle lens with a camera, a finder lens for a camera, a cover of an instrument, a glass of a vehicle, a glass of a tank, A film characterized by being used as a brightness enhancement film or an optical waveguide film.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100756818B1 (en) * 2006-01-31 2007-09-07 제일모직주식회사 Coating composition for low refractive layer, anti-reflection film using the same and image displaying device comprising said anti-reflection film
KR101036143B1 (en) * 2007-09-12 2011-05-24 손창민 Transparent heat blocking laminated structure
KR101380344B1 (en) * 2011-04-20 2014-04-03 한국전기연구원 manufacturing method of refractive index tunable hybrid materials by controlling the particle size of silica nano sol

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4452311B2 (en) * 2007-08-30 2010-04-21 株式会社有沢製作所 Anti-reflection film forming composition and image display device
KR101018357B1 (en) * 2008-07-16 2011-03-04 에스에스씨피 주식회사 Photocurable coating composition having improved hot water resistance
CN102888185B (en) * 2012-10-30 2014-09-10 福建鑫磊装饰工程有限公司 Stone-like paint and preparation method thereof
KR20160010697A (en) 2014-07-17 2016-01-28 (주)우인켐텍 anti-pollution coating solution composition and manufacture method the anti-pollution coating solution composition
EP3484954A1 (en) * 2016-05-27 2019-05-22 Dow Global Technologies LLC Silsesquinoxane modified tio2 sol
TWI734914B (en) * 2018-05-08 2021-08-01 致達應材股份有限公司 A coating and glass of self-cleaning and anti-reflective properties simultaneously and manufacturing methods thereof
KR102014206B1 (en) * 2019-03-29 2019-08-27 (주)필스톤 UV curable composition having excellent flexibility and hardness and method of manufacturing
CN110028663A (en) * 2019-04-29 2019-07-19 韶关方舟长顺有机硅有限公司 A kind of composite curing polyurethane curing agent and its preparation process
KR102510532B1 (en) * 2019-06-10 2023-03-14 삼성에스디아이 주식회사 Color conversion panel
CN110760260A (en) * 2019-11-24 2020-02-07 邵美忠 Dual-curing vacuum coating primer and preparation method thereof
KR102363073B1 (en) 2020-04-14 2022-02-14 대구가톨릭대학교산학협력단 Photocurable adhesive composition containing surface-modified porous particles
CN112940617B (en) * 2021-01-28 2022-05-17 耿少卿 Ultrathin glass coating material, construction method, impact-resistant layer structure and electronic equipment

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1144805A (en) 1997-07-28 1999-02-16 Denso Corp Antidazzle transparent resin molding
TWI301847B (en) * 2001-11-13 2008-10-11 Sumitomo Chemical Co Composition comprising a hydrolyzable organosilicon compound and coating obtained from the same
CN1318506C (en) * 2002-01-18 2007-05-30 三洋电机株式会社 Composite organic-inorganic material and its production process
JP5064649B2 (en) * 2003-08-28 2012-10-31 大日本印刷株式会社 Anti-reflection laminate
EP1701180B1 (en) * 2003-12-17 2012-04-18 Bridgestone Corporation Process for preparing : ANTIREFLECTION FILM, ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING LIGHT TRANSMITTING WINDOW MATERIAL, GAS DISCHARGE TYPE LIGHT EMITTING PANEL, FLAT DISPLAY PANEL, SHOW WINDOW MATERIAL AND SOLAR CELL MODULE

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100756818B1 (en) * 2006-01-31 2007-09-07 제일모직주식회사 Coating composition for low refractive layer, anti-reflection film using the same and image displaying device comprising said anti-reflection film
KR101036143B1 (en) * 2007-09-12 2011-05-24 손창민 Transparent heat blocking laminated structure
KR101380344B1 (en) * 2011-04-20 2014-04-03 한국전기연구원 manufacturing method of refractive index tunable hybrid materials by controlling the particle size of silica nano sol

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