KR20060123500A - Core for washing sponge roller - Google Patents
Core for washing sponge roller Download PDFInfo
- Publication number
- KR20060123500A KR20060123500A KR1020067014973A KR20067014973A KR20060123500A KR 20060123500 A KR20060123500 A KR 20060123500A KR 1020067014973 A KR1020067014973 A KR 1020067014973A KR 20067014973 A KR20067014973 A KR 20067014973A KR 20060123500 A KR20060123500 A KR 20060123500A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- core
- small holes
- cleaning
- sponge roller
- hole
- Prior art date
Links
- 238000005406 washing Methods 0.000 title abstract description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 67
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 230000004323 axial length Effects 0.000 description 2
- 239000013043 chemical agent Substances 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 세정용 스폰지 롤러용 코어에 관한 것으로서, 더 상세하게는 세정용 스폰지 롤러에 장착되어 기판 제조의 세정 공정에서 사용되는 코어에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning sponge roller core, and more particularly, to a core mounted on a cleaning sponge roller and used in a cleaning process of substrate manufacture.
알루미늄 하드디스크, 유리 디스크, 웨이퍼, 포토마스크, 또는 액정 유리 기판 등의 제조 공정에서는 그 표면을 매우 정밀도가 높은 면으로 마무리하기 위해 산화규소, 알루미나, 세리아 등의 각종 미립자를 이용한 고정밀도 연마, 이른바 폴리싱 가공이 실시된다. 폴리싱 가공된 피연마물의 표면에는 미립자나 연마 찌꺼기가 부착되어 있다. 이를 제거하기 위해 계속해서 충분한 세정을 실시할 필요가 있다.In manufacturing processes such as aluminum hard disks, glass disks, wafers, photomasks, or liquid crystal glass substrates, high-precision polishing, using so-called fine particles of silicon oxide, alumina, ceria, etc. Polishing processing is performed. The surface of the polished workpiece is adhered with fine particles and abrasive debris. In order to remove this, it is necessary to continuously carry out sufficient cleaning.
초음파 세정이나 제트 수류를 이용하는 세정 방법이 있지만, 높은 세정 효과를 얻기 위해, 또 기판으로의 피해를 저감하기 위해 폴리비닐아세탈계 다공질체로 이루어진 스폰지 롤러에 의한 스크럽 세정이 널리 이용되고 있다. 또한, 세정액으로서는 통상 DI수 뿐만 아니라 산, 알칼리, 용제라는 각 기판에 적합한 각종 약제도 사용된다. 예를 들면, 실리콘 웨이퍼로의 세정액으로서는 암모니아수와 과산화수소수의 혼합액, 희불산(希弗酸), 염산과 과산화수소수의 혼합액 등이 알려져 있 다.Although there is a cleaning method using ultrasonic cleaning or jet water flow, scrub cleaning with a sponge roller made of a polyvinyl acetal porous body is widely used in order to obtain a high cleaning effect and reduce damage to the substrate. In addition, as a washing | cleaning liquid, not only DI water but various chemical agents suitable for each board | substrate, such as an acid, an alkali, and a solvent, are also used. For example, a mixed liquid of ammonia water and hydrogen peroxide, a dilute hydrofluoric acid, a mixed liquid of hydrochloric acid and hydrogen peroxide is known as a cleaning liquid on a silicon wafer.
폴리비닐아세탈계 다공질체의 스폰지 롤러 중에서도 원주 표면에 다수의 돌기를 갖는 원통 형상의 브러시 롤러가 이들 세정에 널리 이용되며, 스폰지 롤러를 회전시키면서 그 돌기의 머리부를 피세정체의 세정면에 연속적으로 접촉시키는 것으로 양호한 세정 효과가 얻어진다(미국특허 제4566911호). 피세정체와의 접촉은 돌기부에서만 발생하므로 평면 스폰지 롤러와 비교하여 마찰이 작고, 피세정체로의 피해가 적거나, 또는 세정액과 함께 협잡물이 돌기 사이를 용이하게 통과하여, 피세정체로부터 제거되는 이점이 있다.Among the sponge rollers of the polyvinyl acetal-based porous body, a cylindrical brush roller having a plurality of protrusions on the circumferential surface is widely used for these cleanings, and the head of the protrusion is continuously contacted with the cleaning surface of the object to be cleaned while rotating the sponge roller. In this case, a good cleaning effect can be obtained (US Pat. No. 4,695,611). Since the contact with the object to be cleaned occurs only at the projections, the friction is less than that of the flat sponge roller, and the damage to the object to be cleaned is less, or the contaminants with the cleaning liquid easily pass between the projections, thereby eliminating the object. have.
세정 공정에서 통상 각각의 기판에 대응한 전용 세정 장치가 사용된다. 어떤 장치라도 일반적으로 회전 구동부와 접속되어 있는 코어에 세정용 스폰지 롤러를 덮고, 롤러의 돌기 머리부와 피세정체를 접촉시킨 상태로 코어와 함께 스폰지 롤러를 회전시킨다.In the cleaning process, a dedicated cleaning apparatus corresponding to each substrate is usually used. In general, any apparatus covers a sponge roller for cleaning on a core which is connected to the rotary drive unit, and rotates the sponge roller together with the core in contact with the protruding head of the roller and the object to be cleaned.
피세정체 또는 스폰지 롤러에 그 상부나 측면에서 세정액을 노즐 등으로 공급하는 장치도 있지만, 보다 세정 능력을 높이기 위해 코어 내부로부터 스폰지 롤러의 내측으로 세정액을 공급하는 것도 실시되고 있다. 후자의 경우, 코어는 중공의 원통 형상을 이루고 있으며, 세정액은 코어의 일단에서 도입되고, 중공부에서 코어의 외표면으로 연통하는 구멍에서 스폰지 롤러로 공급되고, 스폰지 롤러의 외표면으로 유출되어 온다.Some apparatuses supply the cleaning liquid to the object to be cleaned or the sponge roller from a nozzle or the like from the upper side or the side surface thereof. However, the cleaning liquid is also supplied from the inside of the core to the inside of the sponge roller in order to increase the cleaning ability. In the latter case, the core has a hollow cylindrical shape, and the cleaning liquid is introduced at one end of the core, fed to the sponge roller in a hole communicating from the hollow portion to the outer surface of the core, and flowing out to the outer surface of the sponge roller. .
미국 특허 제6240588호에는 코어의 축 방향으로 일직선으로 나열된 제 1 복수의 구멍과, 코어의 축 방향으로 일직선으로 나열된 제 2 복수의 구멍을 갖고, 제 1 구멍군과 제 2 구멍군이 서로 다르게 위치하고, 상기 제 1 구멍군과 제 2 구멍군이 코어의 둘레에서 교대로 반복하고, 상기 제 1 구멍군과 제 2 구멍군은 코어의 외표면에서 패인 홈 안에 있는 것을 특징으로 하는 브러시 코어가 기재되어 있다. 코어의 중심의 내부 구멍은 0.060∼0.35 인치(1.524∼8.89 mm)의 직경을 갖는다.U.S. Pat.No. 6,624,88 has a first plurality of holes arranged in a straight line in the axial direction of the core and a second plurality of holes listed in a straight line in the axial direction of the core, wherein the first group of holes and the second group of holes are positioned differently from each other. The brush core is characterized in that the first group of holes and the second group of holes are alternately repeated around the core, and the first group of holes and the second group of holes are in grooves recessed at the outer surface of the core. have. The inner hole in the center of the core has a diameter of 0.060 to 0.35 inches (1.524 to 8.89 mm).
미국 특허 제6543084호에는 브러시 코어가 길고 가느다란 부재로 이루어지고, 상기 가늘고 긴 부재는 중심축의 둘레에서, 또 중심축에서 떨어진 복수의 액체 배출 표면을 갖고, 상기 복수의 액체 배출 표면은 서로 간격을 두고 있고, 상기 가늘고 긴 부재는 0.060∼0.35 인치(1.524∼8.89 mm)의 직경을 갖는 액체 공급 내부 구멍을 중심에 갖고, 상기 가늘고 긴 부재는 상기 액체 공급 내부 구멍에서 액체 배출 표면으로 통하는 복수의 구멍을 갖는 브러시 코어가 기재되어 있다. 상기 액체 공급 내부 구멍에서 액체 배출 표면으로 통과하는 복수의 구멍은 0.005∼0.092 인치(0.127∼2.34 mm)의 직경을 갖는다.U.S. Pat. No. 6,654,84 has a long, slender member having a brush core, the elongated member having a plurality of liquid ejection surfaces about and about a central axis, the plurality of liquid ejection surfaces being spaced from each other. The elongated member having a liquid supply inner hole having a diameter of 0.060 to 0.35 inch (1.524 to 8.89 mm) at the center, and the elongated member having a plurality of holes leading from the liquid supply inner hole to the liquid discharge surface. Brush cores are described. The plurality of holes passing from the liquid supply inner hole to the liquid discharge surface have a diameter of 0.005 to 0.092 inch (0.127 to 2.24 mm).
미국 특허 제 6308369 호는 웨이퍼 세정 장치에서, 표면을 따라서 축 방향으로 채널이 파여 있는 브러시 코어, 브러시 코어와 동심의 제 1 원통 형상 슬리브, 제 2 슬리브(브러시 본체)를 갖는 브러시 조립체로서, 상기 채널은 액체가 브러시 코어의 축 방향으로 그리고 제 1 및 제 2 슬리브로 흐르는 것을 허용하는 브러시 조립체가 기재되어 있다.U. S. Patent No. 6308369 discloses, in a wafer cleaning apparatus, a brush assembly having a brush core axially channeled along a surface, a first cylindrical sleeve concentric with the brush core, and a second sleeve (brush body). A brush assembly is described that allows silver liquid to flow in the axial direction of the brush core and into the first and second sleeves.
미국 특허 제6247197호 및 제 5806126호는 세정용 플랜지를 장착하여 사용하는 장치를 기재하고 있다.U. S. Patents 6247197 and 5806126 describe devices for mounting and using cleaning flanges.
그러나, 종래의 장치에서 코어에서 스폰지 롤러로의 세정액의 공급이 매우 불균일해지고, 따라서 균일하게 롤러 외표면으로 세정액을 유출시키는 것이 어려운 문제가 있었다.However, in the conventional apparatus, the supply of the cleaning liquid from the core to the sponge roller becomes very uneven, and therefore, there is a problem that it is difficult to evenly flow the cleaning liquid to the outer surface of the roller.
또한, 세정 공정에서 종류가 다른 복수의 세정액을 차례로 사용하는 경우가 많고, 사용 중인 세정액에서 다른 세정액으로 전환할 때, 코어의 중공부나 세정 스폰지 롤러에 먼저 사용한 세정액이 언제까지나 잔류하고, 세정액의 치환에 장시간을 요하는 문제가 있었다.In addition, in the washing process, a plurality of cleaning liquids of different types are often used one after another, and when the cleaning liquid in use is switched from one cleaning liquid to another, the cleaning liquid first used for the hollow portion of the core or the cleaning sponge roller remains forever, and the cleaning liquid is replaced. There was a problem that cost a long time.
본 발명은 세정액을 코어의 외표면 영역 전체에 균일하게 세정액을 퍼지게 하고, 즉 스폰지 롤러에 균일하게 세정액을 공급하는 것이 가능하고, 또 세정액의 전환 시에 세정액의 치환이 신속히 완료되는 세정용 스폰지 롤러용 코어를 제공하는 것이다. 종래의 스폰지 롤러용 코어에 있어서, 중공부와 연통하는 소구멍의 개구부 면적이 현저히 작은 것이 스폰지 롤러로의 세정액의 공급에 매우 편차가 생기고, 균일하게 롤러 외표면으로 세정액을 유출시키는 것이 어려운 이유 중 하나이다.The present invention makes it possible to spread the cleaning liquid evenly over the entire outer surface region of the core, that is, to uniformly supply the cleaning liquid to the sponge roller, and to replace the cleaning liquid quickly when the cleaning liquid is switched. To provide a core. In the conventional sponge roller core, the remarkably small opening area of the small hole communicating with the hollow portion is very different from the supply of the cleaning liquid to the sponge roller, and it is one of the reasons that it is difficult to uniformly flow the cleaning liquid to the outer surface of the roller. .
본 발명은 축 방향으로 연장되는 내부 구멍, 상기 내부 구멍에서 원주 외표면으로 연통하는 복수의 소구멍을 갖는 세정용 스폰지 롤러용의 대략 원통형 코어에 있어서, 상기 내부 구멍이 직경이 10 mm 이상이고, 소구멍의 직경이 2.5 mm 이상이고, 또 상기 소구멍의 개구 단면적의 합계가 내부 구멍 단면적 보다도 큰 것을 특징으로 하는 세정용 스폰지 롤러용 코어이다.The present invention provides a substantially cylindrical core for a cleaning sponge roller having an inner hole extending in the axial direction and a plurality of small holes communicating from the inner hole to the circumferential outer surface, wherein the inner hole has a diameter of 10 mm or more, Is a diameter of 2.5 mm or more, and the sum of the opening cross-sectional areas of the small holes is larger than the internal hole cross-sectional area.
도 1은 본 발명의 세정용 스폰지 롤러용 코어의 예를 도시한 것으로서, 도 1A는 코어의 축방향을 따르는 단면도이고, 도 1B는 코어의 우측면도, 도 1D는 코어의 정면도, 도 1C는 도 1D의 B-B의 측단면도, 도 1D'는 도 1D의 코어와는 다른 태양의 코어의 정면도이다.1 shows an example of a cleaning sponge roller core of the present invention, in which FIG. 1A is a cross-sectional view along the axial direction of the core, FIG. 1B is a right side view of the core, FIG. 1D is a front view of the core, and FIG. A side cross-sectional view of BB of FIG. 1D, FIG. 1D 'is a front view of a core of an aspect different from that of FIG. 1D.
도 2는 본 발명의 세정용 스폰지 롤러용 코어의 다른 태양을 도시한 것으로서, 도 2A는 코어의 축 방향을 따르는 단면도이고, 도 2B는 코어의 우측면도이다.Figure 2 shows another aspect of the cleaning sponge roller core of the present invention, Figure 2A is a cross-sectional view along the axial direction of the core, Figure 2B is a right side view of the core.
본 발명을 도 1을 참조하면서 설명한다. 도 1A는 본 발명의 세정용 스폰지 롤러용 코어의 예를 도시한 단면도, 도 1B는 그 우측면도, 도 1C는 B-B의 측단면도이다. 도 1에서, 코어(1)는 중공 원통 형상을 이루고, 길이 방향으로 연장되는 내부 구멍(2)을 갖고, 상기 내부 구멍(2)에서 코어 외표면(5)으로 연통하는 복수의 소구멍(3)을 갖는다. 상기 내부 구멍의 직경은 10mm 이상, 바람직하게는 10mm∼20 mm, 특히 12∼15mm이며, 소구멍의 직경은 2.5mm 이상, 바람직하게는 2.5mm∼5mm, 특히 2.8∼4mm이다. 또한, 상기 소구멍의 개구 단면적의 합계가 내부 구멍 단면적 보다도 크고, 바람직하게는 1.2∼5 배, 특히 1.5∼3 배이다. 도면의 예에서, 예를 들면 내부 구멍의 직경을 10 mm, 소구멍의 직경을 2.5mm로 하면 내부 구멍의 단면적은 약 0.785㎠이며, 소구멍의 수는 40개이므로, 소구멍의 개구 단면적의 합계는 약 1.96㎠이고, 내부 구멍 단면적 보다도 약 2.5배 크다. 이와 같은 구성을 취하는 것에 의해 소구멍에서의 액체의 압력 손실을 저감할 수 있으므로, 유체 공급 압력을 낮게 설정할 수 있다. 이와 같이 하면 소구멍에서 스폰지 롤러로 천천히 세 정액이 퍼지므로 소구멍에서 스폰지 롤러의 외표면에 국부적으로 세정액이 유출되지 않고, 스폰지 롤러의 전체 표면으로 균일하게 세정액을 공급할 수 있다. 또한, 세정액의 전환 시에도 쇼트 패스에 의해 세정액이 치환되기 어려운 부위가 발생하지 않으므로 세정액의 치환이 신속히 완료된다.The present invention will be described with reference to FIG. 1. 1A is a cross-sectional view showing an example of a sponge for cleaning sponge roller of the present invention, FIG. 1B is a right side view thereof, and FIG. 1C is a side cross-sectional view of B-B. In FIG. 1, the core 1 has a hollow cylindrical shape and has an
본 발명의 코어에 형성되는 상기 복수의 소구멍은 바람직하게는 상기 코어의 원주 방향 및 축방향으로 분산되고, 축 방향에서 직선으로 배열되어 있다. 또한, 1 개의 상기 직선상에 배치된 소구멍과 인접하여 상기 직선상에 배치된 소구멍이 코어의 동일 원주상에 배열되어 있다. 예를 들면, 도 1D의 배열과 도 1D'의 배열이 인접하는 경우에 각각의 선단에 있는 소구멍은 서로 동일한 원주상에 있고, 선단에서 2 번째, 3 번째 등의 소구멍에 대해서도 동일하다. 상기 코어의 원주 외표면 보다 함몰되어 있는 홈(4, 4', 4")이 상기 코어의 축방향으로 복수개 있고, 상기 홈의 각각의 내부에는 상기 소구멍 중 적어도 1 개, 바람직하게는 2 개 이상이 개구되어 있고, 상기 홈의 각각이 세정액의 체류 확산 영역을 구성한다. 상기 홈의 폭은 소구멍의 직경의 2 배 이상이 바람직하다.The plurality of small holes formed in the core of the present invention are preferably dispersed in the circumferential direction and the axial direction of the core, and are arranged in a straight line in the axial direction. Further, the small holes arranged on the straight line adjacent to the small holes arranged on the one straight line are arranged on the same circumference of the core. For example, when the arrangement of Fig. 1D and the arrangement of Fig. 1D 'are adjacent to each other, the small holes at each tip are on the same circumference, and the same is true for the small holes such as the second, third and the like at the tip. There are a plurality of
도 1D에서 홈(4)에는 4 개의 소구멍이 개구되어 있고, 홈(4')에는 2 개의 소구멍이 개구되어 있고, 홈(4")에는 4 개의 소구멍이 개구되어 있다. 1 개의 홈에 개구되어 있는 소구멍의 수는 통상 2∼5, 특히 2∼4가 바람직하다. 1 개의 홈에 개구되어 있는 소구멍의 수가 상기 코어의 축방향에서 2, 3 또는 4의 반복 패턴, 2와 3, 2와 4, 또는 3과 4로 이루어진 패턴인 것이 바람직하다. 예를 들면 1 개의 축방향으로 직선상으로 배열되는 소구멍의 합계 수가 10일 때에는 (2, 2, 2, 2, 2), (2, 3, 3, 2), (4, 2, 4) 또는 (3, 4, 3)의 패턴이 바람직하다. 1 개의 축 방향으로 직선상으로 배열되는 소구멍의 합계 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 5∼20 사이에서 선택할 수 있다. 인접하는 소구멍의 간격은 모두 동일해도 좋지만, 코어의 중앙부와 단부에서 변할 수도 있다.In FIG. 1D, four small holes are opened in the
이들 패턴을 적절히 설정함으로써 코어의 축 방향 및 원주 방향의 세정액의 흐름을 제어하여, 최적의 세정 효과를 얻을 수 있다. 소구멍의 개구부가 직접 스폰지 롤러의 내면에 접촉하면 스폰지내로의 세정액의 확산이 불균해지기 쉽다. 이를 해소하기 위해 상기 홈은 세정액의 체류 확산 영역을 이루고, 코어의 외표면(5)상에 장착된 스폰지 롤러(도시하지 않음)의 길이 방향으로 균일하고, 또 신속하게 세정액을 공급하는 것을 가능하게 하는 것이다.By setting these patterns suitably, the flow of the cleaning liquid in the axial direction and the circumferential direction of the core can be controlled to obtain an optimum cleaning effect. If the openings of the small holes directly contact the inner surface of the sponge roller, the diffusion of the cleaning liquid into the sponge is likely to be uneven. In order to solve this problem, the groove forms a retention diffusion region of the cleaning liquid, and makes it possible to supply the cleaning liquid uniformly and quickly in the longitudinal direction of the sponge roller (not shown) mounted on the
상기 코어의 원주 방향에서는 4 개∼8 개의 홈이 등간격으로 배치되어 있는 것이 바람직하고, 특히 4 개 또는 6 개가 바람직하다. 도 1C에서는 4 개의 홈이 등간격으로 배치되어 있다. 특히 바람직하게는 상기 코어의 원주 방향으로 인접하는 홈에는 서로 다른 수의 소구멍이 개구되어 있다. 예를 들면 상기 소구멍의 수는 원주 방향의 단부에서 (4, 3, 4, 3)이고, 축 방향에서는 각각 (4, 2, 4)와 (3, 4, 3)이다. 이는 도 1D의 패턴과 도 1D'의 패턴이 90 도의 반복에 상당한다. 또는 원주 방향의 단부에서 (2, 4, 4, 2)이고, 축 방향에서는 각각 (2, 3, 3, 2)와 (4, 2, 4)이다. 이에 의해 스폰지 롤러(도시하지 않음)의 회전 방향으로 균일하고, 또 신속한 세정액의 공급을 가능하게 한다.It is preferable that 4-8 groove | channels are arrange | positioned at equal intervals in the circumferential direction of the said core, and 4 or 6 pieces are especially preferable. In FIG. 1C, four grooves are arranged at equal intervals. Particularly preferably, different numbers of small holes are opened in grooves adjacent to the circumferential direction of the core. For example, the number of small pores is (4, 3, 4, 3) at the end in the circumferential direction, and (4, 2, 4) and (3, 4, 3) in the axial direction, respectively. This corresponds to a repetition of 90 degrees between the pattern of FIG. 1D and the pattern of FIG. 1D '. Or (2, 4, 4, 2) at the end in the circumferential direction, and (2, 3, 3, 2) and (4, 2, 4) in the axial direction, respectively. This makes it possible to supply a uniform and rapid cleaning liquid in the rotational direction of the sponge roller (not shown).
상기 코어의 한쪽 단부(11)는 세정 장치의 회전 구동부(도시하지 않음)에 끼 워지는 슬리브이고, 내부 구멍(2)은 단부(11)에서 폐쇄되어 있다. 상기 코어의 다른쪽 단부(10)에서는 도 1B에 도시한 바와 같이 내부 구멍(2)이 개구되어 있고, 상기 단부(10)에 세정액 공급관(도시하지 않음)이 접속된다. 코어의 축 방향 길이 및 외표면(5)의 직경은 스폰지 롤러의 축방향 길이 및 내부 직경에 의존하고, 일반적으로 각각 50∼500mm 및 15∼100mm의 범위인 것이 가능하다.One
단부(10)의 방향에서 세정용 스폰지 롤러를 코어 상에 씌워, 세정용 스폰지 롤러 세트가 완성된다. 세정용 스폰지 롤러 자체는 공지된 것을 사용할 수 있고, 예를 들면 미국 특허제4566911호에 기재되어 있다.The cleaning sponge roller is covered on the core in the direction of the
바람직하게는 단부(10)가 또는 단부(10)와 단부(11)가 코어의 외표면(5)이 이루는 직경 보다도 큰 직경의 플랜지로서 구성되고, 예를 들면 나사에 의해 착탈 가능하게 할 수도 있다. 이 경우에는 스폰지 롤러를 상기 플랜지를 벗겨 코어에 스폰지 롤러를 장착하고, 계속해서 플랜지를 끼워 고정하여 사용한다. 플랜지는 세정 공정 중에 스폰지 롤러가 코어 상에서 축 방향으로 어긋나는 것을 방지하는 효과가 있다.Preferably, the
본 발명의 다른 실시 태양으로서 도 2A 및 도 2B에 도시한 바와 같이, 축 방향 및 원주 방향의 홈과 홈 사이의 외주면을 연속되는 둘레면이 아니라 일부 절개한 구조로 할 수도 있다. 이에 의해 재료비를 저감할 수 있을 뿐만 아니라 경량화할 수 있다. 재료로서는 특별히 한정되지 않지만 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리아세탈, 폴리카보네이트, 불소 수지, 경질 폴리염화비닐에서 강도나 사용하는 약제에 대한 내성을 고려하여 적절히 선정할 수 있다. 또한, 코어의 성형법으로서는 예를 들면 사출 성형, 주형 성형, 연삭 가공을 적절히 선정할 수 있다.As another embodiment of the present invention, as shown in Figs. 2A and 2B, the outer circumferential surface between the grooves and the grooves in the axial direction and the circumferential direction may be partially cut instead of the continuous circumferential surface. As a result, the material cost can be reduced and the weight can be reduced. Although it does not specifically limit as a material, In polyethylene, polypropylene, a polyacetal, a polycarbonate, a fluororesin, hard polyvinyl chloride, it can select suitably in consideration of the strength and the tolerance to the chemical agent to be used. As the core molding method, for example, injection molding, mold molding, and grinding can be appropriately selected.
본 발명은 디스크, 웨이퍼 등의 세정 공정에서 사용되는 세정용 스폰지 롤러를 끼우기 위한 코어를 제공한다.The present invention provides a core for fitting a cleaning sponge roller used in a cleaning process such as a disk, a wafer, or the like.
Claims (8)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020067014973A KR100833036B1 (en) | 2006-07-25 | 2003-12-26 | Core for washing sponge roller |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020067014973A KR100833036B1 (en) | 2006-07-25 | 2003-12-26 | Core for washing sponge roller |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20060123500A true KR20060123500A (en) | 2006-12-01 |
| KR100833036B1 KR100833036B1 (en) | 2008-05-27 |
Family
ID=37728578
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020067014973A KR100833036B1 (en) | 2006-07-25 | 2003-12-26 | Core for washing sponge roller |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100833036B1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101522765B1 (en) * | 2012-12-07 | 2015-05-26 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | Wafer cleaning |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9524886B2 (en) | 2009-05-15 | 2016-12-20 | Illinois Tool Works Inc. | Brush core and brush driving method |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6240588B1 (en) * | 1999-12-03 | 2001-06-05 | Lam Research Corporation | Wafer scrubbing brush core |
-
2003
- 2003-12-26 KR KR1020067014973A patent/KR100833036B1/en active IP Right Grant
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101522765B1 (en) * | 2012-12-07 | 2015-05-26 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | Wafer cleaning |
| US9781994B2 (en) | 2012-12-07 | 2017-10-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited | Wafer cleaning |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100833036B1 (en) | 2008-05-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101507633B1 (en) | Central core for cleaning sponge roller | |
| KR100488437B1 (en) | Cleaning equipment | |
| US6308369B1 (en) | Wafer cleaning system | |
| TWI693636B (en) | Substrate cleaning brush and substrate cleaning apparatus | |
| JPH10312984A (en) | Tool for semiconductor wafer cleaning device | |
| JP2004322091A (en) | Washing unit, coating apparatus having it and method therefor | |
| JP4053060B2 (en) | Core for cleaning sponge roller | |
| JP2009033119A (en) | Disc cleaning mechanism and disc cleaning device | |
| KR100833036B1 (en) | Core for washing sponge roller | |
| US20130206168A1 (en) | Apparatuses and methods for scrubbing substrates | |
| WO1999046083A1 (en) | Cleaning device for surface plate correcting dresser | |
| CN111048442B (en) | Substrate cleaning member and substrate cleaning apparatus | |
| TWI272136B (en) | Center core of sponge roller for cleaning | |
| JPH1034091A (en) | Roller for washing | |
| JP2736020B2 (en) | Vacuum chuck with self-cleaning function | |
| JP2005123353A (en) | Brush and washing device | |
| JPS5986226A (en) | Cleaning device for thin plate material | |
| JP4241164B2 (en) | Semiconductor wafer polishing machine | |
| KR102664024B1 (en) | Brush for cleaning of wafer | |
| WO2022186227A1 (en) | Brush roller | |
| US20240112926A1 (en) | Brushes, systems, and methods for post-cmp cleaning of a surface | |
| US20020020434A1 (en) | Injection molded disposable core featuring recessed pores for substrate treatment member | |
| KR20240077730A (en) | Brush for cleaning a wafer and method of cleaning a wafer usign the brush | |
| WO2024076913A1 (en) | Brushes, systems, and methods for post-cmp cleaning of a surface | |
| KR20150113485A (en) | Brush unit for cleaning wafer |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130423 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140321 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160323 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170317 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180322 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190408 Year of fee payment: 12 |