KR20060118406A - Precursor paste and method of producing the same - Google Patents

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KR20060118406A
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치까후미 요꼬야마
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쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
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Abstract

To provide a fine structure precursor paste that allows it to produce PDP ribs or other fine structures with high aspect ratio and high accuracy without causing pattern deformation or other defects. The photosensitive paste comprises a photosensitive material, fine ceramic particles dispersed as primary particles in the paste, and a surfactant comprising a phosphorus based compound and a sulfonate-based compound.

Description

전구체 페이스트 및 그의 제조 방법 {PRECURSOR PASTE AND METHOD OF PRODUCING THE SAME}Precursor paste and manufacturing method thereof {PRECURSOR PASTE AND METHOD OF PRODUCING THE SAME}

본 발명은 감광성 페이스트, 및 보다 특별하게는 미세 구조체의 형성시 유리하게 사용할 수 있는 전구체 페이스트에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 페이스트를 사용하여 미세 구조체를 제조하는 방법, 및 이에 따라 제조되는 미세 구조체에 관한 것이다. 미세 구조체의 전형적인 예로는, 플라즈마 디스플레이 패널용 배면판 상에 형성된 립이 있다.The present invention relates to photosensitive pastes, and more particularly to precursor pastes that can be advantageously used in the formation of microstructures. The present invention also relates to a method for producing a microstructure using the paste, and a microstructure produced accordingly. A typical example of the microstructure is a lip formed on a back plate for a plasma display panel.

박형이고 경량인 평판 디스플레이가 차세대 표시 장치로서 많은 주목을 받고 있다. 대화면의 박형 평판 디스플레이의 일례로서, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)가 업무용 및 최근에는 가정용으로 벽걸이형 텔레비젼 수상기로서 사용되고 있다.Thin and lightweight flat panel displays have attracted much attention as next generation display devices. As an example of a large flat-panel flat panel display, a plasma display panel (PDP) is used as a wall-mounted television receiver for business and recently for home use.

PDP는 도 1에 개략적으로 나타낸 바와 같은 구성을 갖는다. PDP (50)에서는 간략화를 위해 단지 1개의 방전 셀 (56)만을 나타내었지만, 방전 셀 (56)은 전면 유리 기판 (61), 배면 유리 기판 (51) 및 미세 구조의 립(배리어 립, 격벽 또는 장벽이라고도 함) (54)에 의해 경계가 정해져 있다. 전면 유리 기판 (61)은 그 위에 형성된, 주사 전극 및 유지 전극을 포함하는 투명 표시 전극 (63), 투명 유전체층 (62) 및 투명 보호층 (64)를 갖는다. 배면 유리 기판 (51)은 그 위에 형성된 어드 레스 전극 (53) 및 유전체층 (52)를 갖는다. 주사 전극 및 유지 전극을 포함하는 표시 전극 (63)과 어드레스 전극 (53)은 서로 직교하며, 등간격으로 배열되어 있다. 각 방전 셀 (56)은 그의 내벽에 형성된 형광체층 (55)를 가지며, 희유 기체(예를 들어, Ne-Xe 기체)로 충전되어 있어, 상기 전극 사이의 플라즈마 방전에 의해 자발적 광 방출이 일어난다. The PDP has a configuration as schematically shown in FIG. In the PDP 50, only one discharge cell 56 is shown for the sake of simplicity, but the discharge cell 56 is a front glass substrate 61, a back glass substrate 51 and a rib of fine structure (barrier lip, partition wall or (Also referred to as a barrier) (54). The front glass substrate 61 has a transparent display electrode 63 including a scan electrode and a sustain electrode, a transparent dielectric layer 62 and a transparent protective layer 64 formed thereon. The back glass substrate 51 has an address electrode 53 and a dielectric layer 52 formed thereon. The display electrode 63 and the address electrode 53 including the scan electrode and the sustain electrode are orthogonal to each other and are arranged at equal intervals. Each discharge cell 56 has a phosphor layer 55 formed on its inner wall and is filled with a rare gas (for example, Ne-Xe gas), so that spontaneous light emission occurs by plasma discharge between the electrodes.

상기한 PDP (50)에서, 립 (54)는 일반적으로 세라믹의 미세 구조체로 제조되며, 여기에 본 발명의 미세 구조체를 적용할 수 있다. 도 2는 하기에서 상세히 설명하는 바와 같은 본 발명의 립 (54)를 개략적으로 나타낸 것으로, 립 (54)는 어드레스 전극 (53)과 함께 배면 유리 기판 (51) 상에 제공되어 PDP의 배면판을 형성한다. In the PDP 50 described above, the lip 54 is generally made of a ceramic microstructure, to which the microstructure of the present invention can be applied. 2 schematically shows a lip 54 of the present invention as described in detail below, wherein the lip 54 is provided on the back glass substrate 51 together with the address electrode 53 to provide a back plate of the PDP. Form.

립의 형상 및 치수 정밀도가 PDP의 성능에 상당한 영향을 미치기 때문에, 립을 제조하기 위한 많은 방법들이 제안되어 있다. 한가지 방법은, 전구체 세라믹 페이스트를 원하는 형상으로 성형한 후, 페이스트를 소결시켜 치밀화된 세라믹 립을 제조하는 것을 포함한다. 금형 및 그의 제조에 사용되는 방법에 대한 다양한 개선이 이루어지고 있다. 예를 들어, 금속 또는 유리를 금형 재료로서 사용하고, 경화성 코팅액을 유리 기판의 표면과 금형 사이에 배치하여 립을 형성하고, 이어서 코팅액을 경화시킨 후에 금형을 제거하고, 경화된 코팅액이 전사된 기판을 소성시키는 립의 형성 방법이 제안되어 있다(일본 특허 공개 (평)9-12336호 공보 참조). 코팅액은 저융점의 유리 분말을 주성분으로 하는 페이스트이다. 그러나, 이러한 립 형성 방법은, 금형이 높은 공작 정밀도로 제조되어야 하고, 립이 기포를 포함하는 경 향이 있으며, 립이 유리 기판으로부터 쉽게 박리될 수 있고, 감압하에 금형과 유리 기판을 서로 밀접하게 접촉시켜 유지할 필요가 있어 감압 장치의 설치가 요구되므로 제조 비용이 추가되고 숙련된 작업자가 요구되는 등의 다양한 문제점을 갖는다. Since the shape and dimensional precision of the lip have a significant impact on the performance of the PDP, many methods for manufacturing the lip have been proposed. One method involves molding the precursor ceramic paste into a desired shape and then sintering the paste to produce densified ceramic grains. Various improvements have been made to the mold and the method used for its manufacture. For example, a metal or glass is used as a mold material, and the curable coating liquid is disposed between the surface of the glass substrate and the mold to form ribs, and then the mold is removed after curing the coating liquid, and the substrate to which the cured coating liquid is transferred is transferred. A method of forming a lip that calcinates is proposed (see Japanese Patent Laid-Open No. 9-12336). The coating liquid is a paste containing a low melting glass powder as a main component. However, this lip forming method requires that the mold be manufactured with high working precision, the lip tends to contain air bubbles, the lip can easily peel off from the glass substrate, and the mold and the glass substrate are in intimate contact with each other under reduced pressure. Since it is necessary to maintain the pressure-reducing device, it is required to install a decompression device, thus adding various manufacturing costs and requiring a skilled worker.

금형 및 그의 제조에 사용되는 방법에 대한 개선 이외에도, 립 형성 페이스트에 대한 다양한 개선이 이루어지고 있다. 예를 들어, 높은 종횡비 및 높은 정밀도의 패턴 형성을 가능하게 하기 위해서, 겔화를 억제하는 것에 중점을 둔, 인 함유 화합물, 감광성 유기 성분 및 무기 미립자를 필수 성분으로서 포함하는 감광성 페이스트가 제안되어 있다(일본 특허 공개 (평)9-218509호 공보 참조). In addition to improvements to the mold and methods used in its manufacture, various improvements have been made to the lip forming paste. For example, in order to enable high aspect ratio and high precision pattern formation, the photosensitive paste containing phosphorus containing compound, the photosensitive organic component, and inorganic fine particles as an essential component which focused on suppressing gelation is proposed ( See Japanese Patent Laid-Open No. 9-218509.

<발명의 요약>Summary of the Invention

본 발명자들은, 점도가 26,000인 감광성 페이스트와 가요성 금형을 사용하여 립을 형성하는 경우, 기포의 취입으로 인한 여러가지 결함이 발생한다는 것을 발견하였다. 기포의 취입으로 인한 결함의 발생은 격자 패턴에서 특히 현저하였다.The present inventors have found that when a lip is formed using a photosensitive paste having a viscosity of 26,000 and a flexible mold, various defects occur due to blowing of bubbles. The occurrence of defects due to the blowing of bubbles was particularly noticeable in the lattice pattern.

본 발명자들은, 인계 화합물 및 술포네이트계 화합물을 포함하는 계면활성제를 감광성 페이스트와 혼합하는 경우, 고함량의 세라믹 미립자를 유지하면서 페이스트 중의 미립자의 분산성이 개선됨으로써 점도가 20,000 cps 이하로 감소된다는 것을 발견하였다. The inventors have found that when a surfactant comprising a phosphorus compound and a sulfonate compound is mixed with a photosensitive paste, the viscosity is reduced to 20,000 cps or less by improving the dispersibility of the fine particles in the paste while maintaining a high content of ceramic fine particles. Found.

따라서, 일면에서 본 발명은,Therefore, in one aspect, the present invention,

감광성 재료;Photosensitive materials;

감광성 재료 중에 1차 입자로서 분산된 세라믹 미립자; 및Ceramic fine particles dispersed as primary particles in the photosensitive material; And

1개 이상의 -OH기와 함께 1개 이상의 인 원자를 갖는 인계 화합물, 및 술포 네이트기를 갖는 술포네이트계 화합물을 포함하는 계면활성제Surfactant comprising a phosphorus compound having at least one phosphorus atom together with at least one -OH group, and a sulfonate compound having a sulfonate group

를 포함하는 전구체 페이스트에 관한 것이다. 전구체 페이스트는 바람직하게는 22℃에서 1,500 내지 20,000 cps의 점도를 갖는다.It relates to a precursor paste comprising a. The precursor paste preferably has a viscosity of 1,500 to 20,000 cps at 22 ° C.

또다른 면에서 본 발명은, 본 발명의 전구체 페이스트의 광경화에 의해 형성된, 기판 표면 상에 형성된 소정의 형상 및 치수를 갖는 돌기 패턴 및 기판을 포함하는 미세 구조체에 관한 것이다.In another aspect, the present invention relates to a microstructure comprising a substrate and a projection pattern having a predetermined shape and dimension formed on the surface of a substrate formed by photocuring the precursor paste of the present invention.

또다른 면에서 본 발명은, In another aspect, the present invention,

기판 표면 상에 형성될 돌기 패턴에 상응하는 형상 및 치수를 갖는 홈 패턴을 갖는 가요성 금형을 제조하는 단계;Manufacturing a flexible mold having a groove pattern having a shape and a dimension corresponding to the protrusion pattern to be formed on the substrate surface;

예를 들어 페이스트를 기판과 금형의 홈 패턴 사이의 공간에 배치함으로써, 금형의 홈을 페이스트로 충전시키는 단계;Filling the grooves of the mold with the paste, for example by placing the paste in the space between the substrate and the groove pattern of the mold;

금형을 기판 상에 적층시키는 단계;Laminating a mold on a substrate;

페이스트에 소정의 파장을 갖는 광을 조사하여 광경화를 수행함으로써 기판 및 그에 일체형으로 접합된 돌기 패턴을 포함하는 미세 구조체를 형성하는 단계; 및Irradiating light having a predetermined wavelength to the paste to perform photocuring to form a microstructure including a substrate and a protrusion pattern integrally bonded thereto; And

미세 구조체로부터 금형을 제거하는 단계Removing the mold from the microstructure

를 포함하는, 기판 표면 상에 형성된 소정의 형상 및 치수를 갖는 돌기 패턴 및 기판을 포함하는 미세 구조체의 제조 방법에 관한 것이다.It relates to a method for producing a microstructure comprising a substrate and a projection pattern having a predetermined shape and dimensions formed on the surface of the substrate.

도 1은 본 발명을 적용할 수도 있는 선행 기술의 PDP의 일례를 개략적으로 나타낸 단면도이다. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a prior art PDP to which the present invention may be applied.

도 2는 본 발명의 미세 구조체의 일 실시양태인 본 발명의 립을 갖는 PDP의 배면판을 나타낸 사시도이다. 2 is a perspective view showing a back plate of a PDP having a lip of the present invention, which is an embodiment of the microstructure of the present invention.

도 3은 본 발명에서 사용되는 가요성 금형의 일 실시양태를 나타낸 사시도이다. 3 is a perspective view showing one embodiment of a flexible mold used in the present invention.

도 4는 도 3에 나타낸 가요성 금형의 라인 IV-IV에 따라 절단된 단면도이다. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of the flexible mold shown in FIG. 3.

도 5A 내지 5C는 본 발명의 립을 갖는 PDP의 배면판을 제조하는 하나의 방법을 순차적으로 나타낸 단면도이다. 5A to 5C are cross-sectional views sequentially showing one method of manufacturing a back plate of a PDP having a lip of the present invention.

본 발명은 광경화에 기초하여 페이스트를 성형함으로써 PDP의 립 등의 미세 구조체를 제조하는 데 사용하기에 적합한 (예를 들어, 감광성) 세라믹 페이스트에 관한 것이다.The present invention relates to a (eg photosensitive) ceramic paste suitable for use in producing microstructures such as lip of PDP by shaping the paste based on photocuring.

감광성 세라믹 페이스트는 하기 3종의 성분을 포함한다. The photosensitive ceramic paste contains the following three components.

(1) 감광성 재료;(1) photosensitive material;

(2) 페이스트 중에 1차 입자로서 분산된 세라믹 미립자; 및(2) ceramic fine particles dispersed as primary particles in a paste; And

(3) 분자 중에 1개 이상의 -OH기와 함께 1개 이상의 인 원자를 갖는 인계 화합물, 및 분자 중에 술포네이트기를 갖는 술포네이트계 화합물을 포함하는 계면활성제.(3) A surfactant comprising a phosphorus compound having at least one phosphorus atom together with at least one -OH group in the molecule, and a sulfonate compound having a sulfonate group in the molecule.

감광성 세라믹 페이스트는 다른 추가 성분을 임의로 함유할 수 있다.The photosensitive ceramic paste may optionally contain other additional ingredients.

본 발명의 감광성 세라믹 페이스트에서, 제1 성분으로서의 감광성 재료는 일반적 목적의 감광성 페이스트에 일반적으로 사용되는 각종 감광성 재료일 수 있지만, 바람직하게는 분자 중에 (메트)아크릴기를 갖는 단량체 또는 올리고머를 함유하는 감광성 재료이다. In the photosensitive ceramic paste of the present invention, the photosensitive material as the first component may be various photosensitive materials generally used for general purpose photosensitive pastes, but is preferably photosensitive containing a monomer or oligomer having a (meth) acryl group in a molecule. Material.

본 발명의 실시에 적합한 메타크릴기 함유 단량체 또는 올리고머의 예로는, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올 디메타크릴레이트, 글리세린 디메타크릴레이트, 2-히드록시-3-아크릴로일옥시프로필 메타크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디메타크릴레이트, 1,10-데칸디올 디메타크릴레이트, 비스페놀 A 디글리시딜 에테르 메타크릴산 부가물 및 비스페놀 A의 EO 부가물 디메타크릴레이트가 포함되지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 이들 단량체 또는 올리고머는 단독으로 사용하거나, 또는 이들 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Examples of methacryl group-containing monomers or oligomers suitable for the practice of the present invention include triethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate. , Glycerin dimethacrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, 1,10-decanediol dimethacrylate, bisphenol A diglycidyl ether meta Crylic acid adducts and EO adduct dimethacrylates of bisphenol A include, but are not limited to these. These monomers or oligomers may be used alone or in combination of two or more thereof.

제2 성분, 즉 세라믹 미립자는 감광성 페이스트에 통용되는 각종 세라믹 비립자를 포함한다. 본 발명의 실시양태에서 미립자의 형태로 유리하게 사용할 수 있는 세라믹 재료로는, 유리, 알루미나, 티타니아, 지르코니아 및 실리카가 포함되지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 이들 세라믹 재료의 미립자는 개별적으로, 또는 2종 이상의 혼합물로 사용할 수 있다. 또한, 1종의 세라믹 재료의 미립자를 또다른 종류의 세라믹 재료의 하나 이상의 박막 코팅에 의해, 또는 필요한 경우 세라믹 재료 대신에 중합체 코팅에 의해 피복할 수 있다.The second component, i.e., the ceramic fine particles, contains various ceramic particulates commonly used in the photosensitive paste. Ceramic materials that can be advantageously used in the form of particulates in embodiments of the present invention include, but are not limited to, glass, alumina, titania, zirconia, and silica. The fine particles of these ceramic materials can be used individually or in mixtures of two or more thereof. In addition, the fine particles of one ceramic material may be coated by one or more thin film coatings of another kind of ceramic material or, if necessary, by a polymer coating instead of a ceramic material.

세라믹 미립자는 다양한 입도를 가질 수 있으나, 립 등의 형성에 사용되는 것이 고려되는 경우에는 바람직하게는 약 0.1 내지 10 ㎛, 보다 바람직하게는 약 0.5 내지 5.0 ㎛의 평균 입도를 갖는다. The ceramic fine particles may have various particle sizes, but when considered to be used for the formation of a lip or the like, it preferably has an average particle size of about 0.1 to 10 μm, more preferably about 0.5 to 5.0 μm.

또한, 감광성 수지 및 세라믹 미립자와 함께 감광성 세라믹 페이스트 중에 제3 성분(계면활성제)으로서 사용되는 인계 화합물은, 분자 중에 1개 이상의 -OH기와 함께 1개 이상의 인 원자를 갖는 (즉, 1개 이상의 인계 산기를 갖는) 인계 화합물이면 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 하기 화학식 I, II, III 또는 IV로 표시되는 인계 화합물이다. In addition, the phosphorus compound used as the third component (surfactant) in the photosensitive ceramic paste together with the photosensitive resin and the ceramic fine particles has one or more phosphorus atoms together with one or more -OH groups in the molecule (that is, one or more phosphorus-based compounds). Although it will not restrict | limit especially if it is a phosphorus compound which has an acidic radical, Preferably, it is a phosphorus compound represented by following formula (I), II, III, or IV.

Figure 112006012492974-PCT00001
Figure 112006012492974-PCT00001

Figure 112006012492974-PCT00002
Figure 112006012492974-PCT00002

Figure 112006012492974-PCT00003
Figure 112006012492974-PCT00003

Figure 112006012492974-PCT00004
Figure 112006012492974-PCT00004

식 중, In the formula,

R1 내지 R7은 동일하거나 상이할 수도 있고, 임의로 1 내지 30개의 헤테로원자, 예를 들어 산소, 질소, 황 등을 함유할 수 있는, 탄소수 1 내지 60의 탄화수소기를 나타내고, R 1 to R 7 represent the same or different hydrocarbon group having 1 to 60 carbon atoms, which may optionally contain 1 to 30 heteroatoms such as oxygen, nitrogen, sulfur, etc.,

X는 산소 원자 또는 황 원자를 나타내며,X represents an oxygen atom or a sulfur atom,

m은 1 내지 4의 정수를 나타낸다. m represents the integer of 1-4.

인계 화합물의 전형적인 예로는, 디부틸 포스파이트, 부틸 포스파이트, 디메틸 포스파이트, 메틸 포스파이트, 프로필 포스파이트, 디프로필 포스파이트, 디페닐 포스파이트, 페닐 포스파이트, 이소프로필 포스파이트, 디이소프로필 포스파이트 및 n-부틸-2-에틸헥실 포스파이트 등의 아인산 모노알킬(C1-10)에스테르 및 아인산 디알킬(C1-10)에스테르; 디부틸 포스페이트, 부틸 포스페이트, 메틸 포스페이트, 프로필 포스페이트, 디프로필 포스페이트, 디페닐 포스페이트, 페닐 포스페이트, 이소프로필 포스페이트, 디이소프로필 포스페이트 및 부틸-2-에틸헥실 포스페이트 등의 인산 모노알킬(C1-10)에스테르 및 인산 디알킬(C1-10)에스테르; 및 상기 인산 에스테르의 산소가 황으로 치환된 티오포스페이트 화합물이 포함되나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 아인산 알킬 에스테르의 알킬 잔기에 아크릴기, 메타크릴기 또는 비닐기 등의 불포화기를 갖는 화합물을 사용할 수 있다. 또한, 포스페이트 또는 포스피네이트기를 갖는 화합물을 사용할 수 있다. 보다 바람직한 인계 화합물로는, 2개 이상의 포스페이트 또는 포스피네이트기를 갖는 인계 화합물, 예를 들어 히드록시에 틸렌디포스폰산 등의 알킬디포스폰산이 포함된다. Typical examples of phosphorus compounds include dibutyl phosphite, butyl phosphite, dimethyl phosphite, methyl phosphite, propyl phosphite, dipropyl phosphite, diphenyl phosphite, phenyl phosphite, isopropyl phosphite, diisopropyl Phosphorous acid monoalkyl (C1-10) esters and phosphorous acid dialkyl (C1-10) esters such as phosphite and n-butyl-2-ethylhexyl phosphite; Monoalkyl phosphates (C1-10) such as dibutyl phosphate, butyl phosphate, methyl phosphate, propyl phosphate, dipropyl phosphate, diphenyl phosphate, phenyl phosphate, isopropyl phosphate, diisopropyl phosphate and butyl-2-ethylhexyl phosphate Ester and phosphoric acid dialkyl (C1-10) esters; And thiophosphate compounds in which the oxygen of the phosphate ester is substituted with sulfur, but is not limited thereto. Moreover, the compound which has unsaturated groups, such as an acryl group, a methacryl group, or a vinyl group, can be used for the alkyl residue of a phosphorous acid alkyl ester. It is also possible to use compounds having phosphate or phosphinate groups. More preferable phosphorus compounds include phosphorus compounds having two or more phosphate or phosphinate groups, for example, alkyldiphosphonic acids such as hydroxyethylenediphosphonic acid.

인계 화합물과 조합하여 계면활성제로서 사용되는 술포네이트계 화합물은 분자 중에 술포네이트기를 갖는 술포네이트계 화합물이면 특별히 제한되지 않고, 그의 예로는, 나트륨 알킬벤젠술포네이트, 칼슘 알킬벤젠술포네이트, 나트륨 알킬나프탈렌술포네이트, 나프탈렌술폰산-포르말린 축합물, 나트륨 술포숙신산 디알킬 에스테르, 나트륨 알킬디페닐 에테르 디술포네이트 등이 포함된다. The sulfonate compound used as a surfactant in combination with a phosphorus compound is not particularly limited as long as it is a sulfonate compound having a sulfonate group in a molecule, and examples thereof include sodium alkylbenzenesulfonate, calcium alkylbenzenesulfonate, and sodium alkylnaphthalene. Sulfonates, naphthalenesulfonic acid-formalin condensates, sodium sulfosuccinic dialkyl esters, sodium alkyldiphenyl ether disulfonates and the like.

본 발명의 감광성 세라믹 페이스트에서는, 계면활성제로서 상기한 화합물 2종을 조합하여 사용하는 것이 필수적이다. 이들 화합물을 조합하여 사용할 때, 인계 화합물 대 술포네이트계 화합물의 혼합비(중량비)는, 통상 약 99:1 내지 1:99의 범위이고, 바람직하게는 약 90:10 내지 10:90의 범위이다. 혼합비가 상기한 범위를 벗어나는 경우에는, 세라믹 미립자를 1차 입자의 수준까지 분산시킬 수 없어, 점도를 원하는 수준까지 감소시킬 수 없게 된다.In the photosensitive ceramic paste of this invention, it is essential to use combining 2 types of said compound as surfactant. When using these compounds in combination, the mixing ratio (weight ratio) of the phosphorus compound to the sulfonate compound is usually in the range of about 99: 1 to 1:99, and preferably in the range of about 90:10 to 10:90. When the mixing ratio is out of the above range, the ceramic fine particles cannot be dispersed to the level of the primary particles, and the viscosity cannot be reduced to the desired level.

본 발명의 감광성 세라믹 페이스트는, 22℃에서 측정시 점도가 20,000 cps 이하, 바람직하게는 2,000 내지 10,000 cps의 범위내에 있다. 페이스트 중의 유리 미립자의 함량을 감소시킴으로써 페이스트의 점도를 감소시키는 경우에는, 소성 동안 수축이 증가하여 결함이 증가하고 립의 변형이 증가하는 등의 불가피한 문제점이 발생한다. 본 발명에 따르면, 포스페이트기를 갖는 계면활성제가 술포네이트기를 갖는 계면활성제와 조합되어 상승적으로 사용된다. 이와 같이 함으로써, 유리 또는 세라믹 미립자를 감광성 페이스트 중에 1차 입자의 수준까지 분산시키는 것이 예상외로 가능해진다. 그 결과로, 예를 들어 80 중량%의 유리 미립자를 함유하는 감광 성 페이스트의 경우 점도를 10,000 cps 이하까지 감소시킬 수 있다. The photosensitive ceramic paste of the present invention has a viscosity of 20,000 cps or less, preferably 2,000 to 10,000 cps, as measured at 22 ° C. When the viscosity of the paste is reduced by reducing the content of the glass fine particles in the paste, an unavoidable problem occurs such as an increase in shrinkage during firing, an increase in defects and an increase in deformation of the lip. According to the invention, surfactants having phosphate groups are used synergistically in combination with surfactants having sulfonate groups. By doing in this way, it becomes unexpectedly possible to disperse glass or ceramic microparticles | fine-particles to the level of a primary particle in the photosensitive paste. As a result, for example, in the case of a photosensitive paste containing 80% by weight of glass fine particles, the viscosity can be reduced to 10,000 cps or less.

첨부된 실시예에 기재되는 바와 같이, 80 중량%의 유리 미립자를 함유하는 감광성 페이스트의 점도는, 포스페이트기를 갖는 인계 화합물만을 계면활성제로서 첨가하는 경우에는 단지 26,000 cps의 높은 값까지만 감소될 수 있었다. 또한, 감광성 페이스트의 점도는 술포네이트기를 갖는 술포네이트계 화합물만을 계면활성제로서 첨가하는 경우에는 단지 35,000 cps의 높은 값까지만 감소될 수 있었다. 그러나, 예시된 바와 같이 인산기를 갖는 인계 화합물을 술포네이트기를 갖는 술포네이트계 화합물과 조합하여 사용하는 경우, 감광성 페이스트의 점도는 6,000 cps만큼 낮은 값까지 감소될 수 있었다. 또한, 본 발명의 페이스트의 최대 입도는 약 2 내지 3 ㎛였고, 유리 미립자가 1차 입자(평균 입도가 약 2 내지 3 ㎛ )로서 분산됨으로써 본 발명의 효과에 크게 기여하였다.As described in the accompanying examples, the viscosity of the photosensitive paste containing 80% by weight of the glass fine particles could be reduced only to a high value of 26,000 cps when only a phosphorus-based compound having a phosphate group was added as the surfactant. In addition, the viscosity of the photosensitive paste could be reduced only to a high value of 35,000 cps when only sulfonate-based compounds having sulfonate groups were added as surfactants. However, when using a phosphorus compound having a phosphate group in combination with a sulfonate compound having a sulfonate group as illustrated, the viscosity of the photosensitive paste could be reduced to a value as low as 6,000 cps. In addition, the maximum particle size of the paste of the present invention was about 2 to 3 µm, and glass fine particles were dispersed as primary particles (average particle size of about 2 to 3 µm), which greatly contributed to the effect of the present invention.

또한, 본원에 기재된 페이스트는 개선된 저장 수명을 갖는 것으로 나타났다. 예를 들어, 본 발명의 페이스트를 22℃에서 2개월 동안 방치하였을 때 겔화에 의해 나타나는 열화가 나타나지 않았다.In addition, the pastes described herein have been shown to have improved shelf life. For example, when the paste of the present invention was left at 22 ° C. for 2 months, there was no degradation exhibited by gelation.

본 발명의 감광성 세라믹 페이스트 중의 세라믹 미립자의 함량은 통상 약 60 내지 90 중량%의 범위, 바람직하게는 약 70 내지 85 중량%의 범위내에 있다. 페이스트 중 세라믹 미립자 함량이 상기한 범위를 벗어나면, 미세 구조체의 제조 및 특성에 악영향을 미칠 수 있다. 페이스트의 도포 불량, 립 등의 미세 구조체의 손상 또는 결함 및 금형으로부터의 이형 곤란 등의 악영향이 나타날 수 있다. The content of ceramic fine particles in the photosensitive ceramic paste of the present invention is usually in the range of about 60 to 90% by weight, preferably in the range of about 70 to 85% by weight. If the ceramic fine particle content in the paste is outside the above range, it may adversely affect the production and properties of the microstructure. Poor effects such as poor application of the paste, damage or defect of microstructures such as lip, and difficulty in releasing from the mold may occur.

본 발명의 감광성 세라믹 페이스트는, 상기한 성분 이외에, 일반적 목적의 감광성 페이스트에 통용되는 첨가제를 임의로 함유한다. 적합한 첨가제로는,결합제, 광중합 개시제, 희석제, 자외선 흡수제, 증감제, 증감 보조제, 중합 억제제, 가소제, 증점제 및 유기 용매가 포함된다. The photosensitive ceramic paste of this invention contains the additive normally used for the general purpose photosensitive paste other than the above-mentioned component. Suitable additives include binders, photopolymerization initiators, diluents, ultraviolet absorbers, sensitizers, sensitizers, polymerization inhibitors, plasticizers, thickeners and organic solvents.

본 발명의 감광성 세라믹 페이스트는, 상기한 구성 특징을 만족하는 한 다양한 조성을 가질 수 있으며, 바람직하게는The photosensitive ceramic paste of the present invention may have various compositions as long as it satisfies the above-described structural features, preferably

감광성 수지 5 내지 15 중량부,5 to 15 parts by weight of the photosensitive resin,

세라믹 미립자 60 내지 90 중량부,60 to 90 parts by weight of ceramic fine particles,

인계 화합물로 제조된 계면활성제 0.1 내지 1.0 중량부,0.1 to 1.0 parts by weight of a surfactant prepared from a phosphorus compound,

술포네이트계 화합물로 제조된 계면활성제 0.1 내지 1.0 중량부,0.1 to 1.0 parts by weight of a surfactant prepared from a sulfonate compound,

희석제 5 내지 15 중량부, 및5 to 15 parts by weight of a diluent, and

광중합 개시제 0.02 내지 0.25 중량부0.02 to 0.25 parts by weight of photopolymerization initiator

를 포함하는 조성을 갖는다. It has a composition comprising a.

이러한 조성을 갖는 세라믹 페이스트는 임의의 첨가제를 통용되는 양으로 함유할 수 있다. Ceramic paste having such a composition may contain any additive in a commonly used amount.

본 발명의 감광성 세라믹 페이스트는 바람직하게는, 기판 표면 상에 형성되는 소정의 형상 및 치수를 갖는 홈 패턴을 갖는 가요성 금형을 통해 광 조사에 의한 광경화에 의해 경화되고, 따라서 미세 구조체 제공 전구체 페이스트로서 유용하다. 미세 구조체의 전형적인 예로는 PDP의 배면판 상에 형성된 립이 있다. PDP의 배면판 상의 립의 제조에서 가요성 금형의 홈 패턴은, 서로에 대해 실질적으로 평행하게 등간격으로 배열된 복수개의 홈으로 구성된 직선 패턴일 수 있지만, 바람직하게는 서로에 대해 실질적으로 평행하면서 서로 교차하도록 등간격으로 배열된 복수개의 홈으로 구성된 격자 패턴이다. 즉, PDP의 배면판의 립은 직선 패턴 또는 격자 패턴으로 형성될 수 있으나, 격자 패턴이 바람직하다.The photosensitive ceramic paste of the present invention is preferably cured by photocuring by light irradiation through a flexible mold having a groove pattern having a predetermined shape and dimension formed on the substrate surface, and thus the microstructure providing precursor paste. Useful as A typical example of a microstructure is a lip formed on the back plate of a PDP. The groove pattern of the flexible mold in the manufacture of the lip on the back plate of the PDP may be a straight pattern consisting of a plurality of grooves arranged at equal intervals substantially parallel to each other, but preferably substantially parallel to each other It is a grid pattern composed of a plurality of grooves arranged at equal intervals to cross each other. That is, the lip of the back plate of the PDP may be formed in a straight pattern or a lattice pattern, but a lattice pattern is preferable.

본 발명은 기판 표면 상에 형성된 소정의 형상 및 치수를 갖는 돌기 패턴을 갖는 미세 구조체를 제공한다. 본 발명의 미세 구조체는 바람직하게는 PDP의 배면판의 립이다. PDP의 배면판에서, 돌기된 립 패턴은 서로에 대해 실질적으로 평행하게 등간격으로 배열된 복수개의 립으로 구성된 직선 패턴이거나, 또는 서로에 대해 실질적으로 평행하면서 서로 교차하도록 등간격으로 배열된 복수개의 립으로 구성된 격자 패턴일 수 있지만, 바람직하게는 격자 패턴의 립이다.The present invention provides a microstructure having a projection pattern having a predetermined shape and dimension formed on the substrate surface. The microstructure of the present invention is preferably a lip of the back plate of the PDP. In the back plate of the PDP, the protruding lip pattern is a straight line pattern composed of a plurality of ribs arranged at equal intervals substantially parallel to each other, or a plurality of ribs arranged at equal intervals so as to cross each other substantially parallel to each other. It may be a lattice pattern composed of ribs, but is preferably a rib of the lattice pattern.

또한, 본 발명은 기판 표면 상에 형성된 소정의 형상 및 치수를 갖는 돌기 패턴을 갖는 미세 구조체의 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 방법은,The present invention also provides a method for producing a microstructure having a projection pattern having a predetermined shape and dimension formed on a substrate surface. The method of the present invention,

표면 상에 형성되는 돌기 패턴에 상응하는 형상 및 치수를 갖는 홈 패턴을 갖는 가요성 금형을 제조하는 단계;Manufacturing a flexible mold having a groove pattern having a shape and a dimension corresponding to the protrusion pattern formed on the surface;

본 발명의 감광성 세라믹 페이스트(미세 구조체 전구체 페이스트)를 기판과 금형의 홈 패턴 사이의 공간에 배치하여 금형의 홈을 세라믹 페이스트로 충전시키고, 금형을 기판 상에 적층시키는 단계;Disposing the photosensitive ceramic paste (microstructure precursor paste) of the present invention in a space between the substrate and the groove pattern of the mold to fill the grooves of the mold with the ceramic paste, and stacking the mold on the substrate;

세라믹 페이스트에 소정의 파장을 갖는 광을 조사하여 광경화를 수행함으로써 기판 및 그에 일체형으로 접합된 돌기 패턴을 포함하는 미세 구조체를 형성하는 단계; 및Irradiating light having a predetermined wavelength to the ceramic paste to perform photocuring to form a microstructure including a substrate and a protrusion pattern integrally bonded thereto; And

미세 구조체로부터 금형을 제거하는 단계Removing the mold from the microstructure

를 포함한다.It includes.

상기한 바와 같이, 미세 구조체는 바람직하게는 PDP의 배면판의 립이다. 따라서, 본 발명의 방법은 바람직하게는 1 세트의 어드레스 전극을 서로에 대해 실질적으로 평행하면서 서로 독립적으로 등간격으로 기판의 표면 상에 형성하는 단계를 추가로 포함한다.As mentioned above, the microstructure is preferably a lip of the back plate of the PDP. Thus, the method further comprises the step of forming a set of address electrodes on the surface of the substrate, substantially parallel to each other, at equal intervals independently of each other.

본 발명의 실시에 사용되는 금형은 바람직하게는, 지지체, 및 지지체 상에 제공되며, 표면 상에 형성되는 돌기 패턴에 상응하는 소정의 형상 및 치수를 갖는 홈 패턴을 갖는 성형층을 포함하는 가요성 금형이다. 가요성 금형은 하기에서 상세히 설명한다. The mold used in the practice of the present invention is preferably flexible, comprising a support and a shaping layer provided on the support and having a groove pattern having a predetermined shape and dimension corresponding to the projection pattern formed on the surface. Mold. The flexible mold is described in detail below.

첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시를 더욱 상세하게 설명한다. With reference to the accompanying drawings will be described in more detail the practice of the present invention.

도 2는 본 발명의 미세 구조체의 전형적인 예인 PDP의 립 (54)를 나타낸 것이다. PDP의 립 (54)는 배면 유리 기판 (51) 상에 형성되어 PDP의 배면판을 구성하고, 도 1에 도시한 바와 같이 PDP (50) 중에 포함될 때 유리하게 사용될 수 있다. 도시한 립 (54)는 직선 패턴으로 형성되어 있으나, 서로 직교하는 격자 패턴 또한 본 발명의 범위내에 포함되며, 립을 격자 패턴으로 형성하는 경우 본 발명의 감광성 세라믹 페이스트가 그의 탁월한 효과를 완전히 달성할 수 있다.2 shows a lip 54 of a PDP, which is a typical example of the microstructure of the present invention. The lip 54 of the PDP is formed on the back glass substrate 51 to constitute the back plate of the PDP, and can be advantageously used when included in the PDP 50 as shown in FIG. Although the illustrated lip 54 is formed in a straight pattern, the lattice patterns orthogonal to each other are also included in the scope of the present invention, and when the lip is formed in the lattice pattern, the photosensitive ceramic paste of the present invention will fully achieve its excellent effect. Can be.

도면에 도시한 립 (54)의 간격 (c) (셀 피치)는 화면 크기 및(또는) 다른 요인에 따라 변할 수 있지만, 통상 약 150 내지 400 ㎛의 범위내에 있다. 일반적으로 립에는 결함이 없을 것과 높은 치수 정밀도를 가질 것이 요구된다. 치수 정밀도에 대해서는, 립이 거의 오차없이(수십 ㎛의 오차만이 허용됨) 어드레스 전극에 상응하 는 소정 위치에 형성될 것이 요구된다. 위치 오차가 수십 ㎛를 초과하면 가시광의 방출 조건에 악영향을 미쳐, 만족스러운 자발적 발광이 불가능해진다. 화면의 대형화가 보다 보편화됨에 따라, 립 피치 정밀도는 심각한 문제를 갖는다. The spacing c (cell pitch) of the lip 54 shown in the figure may vary depending on the screen size and / or other factors, but is usually in the range of about 150 to 400 μm. In general, it is required that the lip be free of defects and have high dimensional accuracy. For dimensional precision, the lip is required to be formed at a predetermined position corresponding to the address electrode with little error (only an error of several tens of micrometers is allowed). If the position error exceeds several tens of micrometers, it will adversely affect the emission condition of visible light, and satisfactory spontaneous light emission will be impossible. As the size of the screen becomes more common, the lip pitch precision has a serious problem.

립 (54)를 전체로서 본 경우, 기판의 크기 및 립의 형상에 따라 약간의 차이는 있지만, 립의 총 피치 (R)(양끝의 립 사이의 거리: 도면에서는 5개의 립만 도시하였지만, 실제로는 약 3,000개의 립이 존재함)에는 수십 ppm의 정밀도가 요구된다. 본 발명의 실시에는 지지체 및 지지체에 의해 지지되고 홈 패턴을 갖는 성형층을 포함하는 가요성 금형이 유리하게 사용되지만, 금형의 총 피치 (R)(양끝의 홈 사이의 거리)에도 수십 ppm의 정밀도가 요구된다. 본 발명에 따르면, 이들 치수 정밀도의 문제도 해결할 수 있다. When the lip 54 is viewed as a whole, there is a slight difference depending on the size of the substrate and the shape of the lip, but the total pitch R of the lip (distance between the ribs at both ends: only five ribs are shown in the drawing, but in reality, About 3,000 ribs are present), requiring tens of ppm precision. In the practice of the present invention, a flexible mold comprising a support and a forming layer supported by the support and having a groove pattern is advantageously used, but the precision of several tens of ppm is also expressed in the total pitch R of the mold (the distance between the grooves at both ends). Is required. According to the present invention, the problem of these dimensional accuracy can also be solved.

본 발명의 실시에는 임의의 가요성 금형이 유리하게 사용될 수 있지만, 금형은 바람직하게는, 플라스틱 필름을 포함하는 지지체, 및 지지체의 한쪽면에 광경화성 수지의 성형에 의해서 형성된 홈 패턴(홈부)을 갖는 성형층을 포함한다. Although any flexible mold can be advantageously used in the practice of the present invention, the mold preferably includes a support comprising a plastic film, and a groove pattern (groove) formed by molding the photocurable resin on one side of the support. It includes a shaping layer having.

본 발명의 실시에 적합한 지지체는 플라스틱 재료로 제조된 필름이다. 지지체로서 사용하기에 적합한 플라스틱 재료의 예로는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN), 연신 폴리프로필렌, 폴리카르보네이트 및 트리아세테이트가 포함되나, 이에 제한되는 것은 아니다. 이들 플라스틱 재료 중 PET 필름이 지지체로서 유용하고, 예를 들어 폴리에스테르 필름, 예컨대 테토론(Tetoron, 상표명) 필름을 지지체로서 유리하게 사용할 수 있다. 이들 플라스틱 필름은 단층 필름, 또는 이들 2종 이상을 조합하여 다층 필름으로서 사용할 수 있다. Suitable supports for the practice of the invention are films made of plastics materials. Examples of suitable plastic materials for use as the support include, but are not limited to, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), oriented polypropylene, polycarbonate and triacetate. PET films of these plastic materials are useful as supports, for example polyester films such as Tetoron (trade name) films can be advantageously used as a support. These plastic films can be used as a single | mono layer film or a multilayer film combining these 2 or more types.

또한, 플라스틱 필름은 금형 및 PDP의 구성에 따라 다양한 두께를 가질 수 있으며, 두께는 통상 0.01 내지 1.0 mm의 범위내에 있고, 바람직하게는 0.1 내지 0.4 mm의 범위내에 있다. 지지체의 두께가 상기한 범위를 벗어나면 취급이 어려워진다. 또한, 지지체는 두꺼울수록 유리하다.In addition, the plastic film may have various thicknesses depending on the configuration of the mold and the PDP, and the thickness is usually in the range of 0.01 to 1.0 mm, preferably in the range of 0.1 to 0.4 mm. If the thickness of the support is outside the above range, handling becomes difficult. The thicker the support, the more advantageous it is.

가요성 금형은, 상기한 지지체에 추가로, 그 위에 설치된 성형층을 갖는다. 하기에 상세히 설명하는 바와 같이, 성형층은 그의 표면 상에 형성된, 금형을 사용하여 제조되는 PDP 배면판의 립 또는 다른 미세 구조체 등의 돌기 패턴에 상응하는 소정의 형상 및 치수를 갖는 홈 패턴을 가지며, 이는 형상 형성층이라고도 할 수 있다. 성형층은, 통상 단층으로 구성되지만, 필요에 따라 상이한 특성을 갖는 2종 이상의 재료로부터 다층 구조로 형성될 수도 있다. 광경화성 성형 재료를 사용하는 것이 고려되는 경우, 지지체 및 성형층은 모두 바람직하게는 투명하다. The flexible metal mold | die has the shaping | molding layer provided on it in addition to the said support body. As will be described in detail below, the shaping layer has a groove pattern having a predetermined shape and dimension formed on the surface thereof corresponding to a projection pattern such as a lip or other microstructure of a PDP back plate manufactured using a mold. This can also be called a shape forming layer. Although a shaping | molding layer is comprised normally from a single layer, it may be formed in a multilayered structure from 2 or more types of materials which have a different characteristic as needed. When it is contemplated to use a photocurable molding material, both the support and the molding layer are preferably transparent.

이하, 가요성 금형의 구성을 도 3 및 도 4를 참조하여 설명한다. 또한, 하기 기재로부터, 가요성 금형을 사용하여 광경화에 의해 격자 패턴으로 형성되는 립의 구성 또한 용이하게 이해할 수 있을 것이다. Hereinafter, the configuration of the flexible mold will be described with reference to FIGS. 3 and 4. In addition, from the following description, the configuration of the ribs formed into a lattice pattern by photocuring using a flexible mold can also be easily understood.

도 3은 가요성 금형의 바람직한 실시양태의 일부를 개략적으로 나타낸 사시도이고, 도 4는 도 3의 라인 IV-IV에 따라 절단된 단면도이다. 이들 도면으로부터 알 수 있는 바와 같이, 가요성 금형 (10)은 도 2에 도시한 바와 같은 서로에 대해 평행하게 배열된 복수개의 립 (54)를 포함하는 직선 패턴의 립을 갖는 배면 유리 기판 (51)을 제조하기 위해서 설계된 것이 아니다. 이것은, 도시하지는 않았지만, 서로에 대해 실질적으로 평행하면서 교차하여 배열된 복수개의 립을 포함하는 격자 패 턴의 립을 갖는 배면 유리 기판을 제조하기 위한 것이다. 본 발명의 감광성 세라믹 페이스트는 격자 패턴의 립을 갖는 배면 유리 기판을 제조하는 데 특히 유용하다. 3 is a schematic perspective view of a portion of a preferred embodiment of a flexible mold, and FIG. 4 is a cross-sectional view cut along the line IV-IV of FIG. 3. As can be seen from these figures, the flexible mold 10 has a back glass substrate 51 having ribs in a straight pattern including a plurality of ribs 54 arranged in parallel with each other as shown in FIG. 2. It is not designed to make). This is for producing a back glass substrate having the ribs of the lattice pattern, which, although not shown, comprises a plurality of ribs arranged substantially parallel to and intersecting with each other. The photosensitive ceramic paste of the present invention is particularly useful for producing back glass substrates having ribs of lattice pattern.

가요성 금형 (10)은, 도시한 바와 같이 그의 표면 상에 형성된 소정의 형상 및 치수를 갖는 홈 패턴을 갖는다. 홈 패턴은, 서로에 대해 실질적으로 평행하면서 교차하여 등간격으로 배열된 복수개의 홈 (4)로 구성된다. 이와 같이, 가요성 금형 (10)은 다른 미세 구조체의 제조에도 사용할 수도 있지만, 표면 상에 격자 패턴으로 형성된 홈을 갖는 이러한 구성은 격자 패턴의 돌기를 갖는 PDP 립의 형성에 특히 유용하다. 가요성 금형 (10)은 필요에 따라 추가의 층을 가질 수 있거나, 또는 그의 구성층을 가공할 수 있지만, 기본적으로는 도 3에 도시한 바와 같이 지지체 (1) 및 그 위에 형성된 홈 (4)를 갖는 성형층 (11)로 구성된다. The flexible mold 10 has a groove pattern having a predetermined shape and dimensions formed on its surface as shown. The groove pattern is composed of a plurality of grooves 4 arranged at equal intervals while crossing substantially parallel to each other. As such, the flexible mold 10 may also be used for the production of other microstructures, but such a configuration having grooves formed in a lattice pattern on the surface is particularly useful for forming PDP ribs having projections of the lattice pattern. The flexible mold 10 may have additional layers as needed, or may process its component layers, but basically the support 1 and the grooves 4 formed thereon as shown in FIG. 3. It consists of the shaping | molding layer 11 which has a.

성형층 (11)은 바람직하게는 경화성 재료로 제조된다. 경화성 재료는 열 경화성 재료 또는 광경화성 재료이다. 특히, 광경화성 재료는 성형층의 형성에 장대한 가열로가 요구되지 않으면서 비교적 단시간내에 경화될 수 있기 때문에 유용하다. 광경화성 재료는, 바람직하게는 광경화성의 단량체 또는 올리고머, 더욱 바람직하게는 아크릴계 단량체 또는 올리고머이다. 경화성 재료는 임의의 첨가제를 함유할 수 있다. 적합한 첨가제로는 중합 개시제(예를 들어, 광 개시제) 및 대전 방지제가 포함된다.The shaping layer 11 is preferably made of a curable material. The curable material is a thermosetting material or a photocurable material. In particular, photocurable materials are useful because they can be cured in a relatively short time without the need for an extensive heating furnace to form the forming layer. The photocurable material is preferably a photocurable monomer or oligomer, more preferably an acrylic monomer or oligomer. The curable material may contain any additives. Suitable additives include polymerization initiators (eg photoinitiators) and antistatic agents.

성형층의 형성에 적합한 아크릴계 단량체의 예로는, 우레탄 아크릴레이트, 폴리에테르 아크릴레이트, 아크릴아미드, 아크릴로니트릴, 아크릴산 및 아크릴산 에스테르가 포함되나, 이에 제한되는 것은 아니다. 성형층의 형성에 적합한 아크릴계 올리고머의 예로는, 우레탄 아크릴레이트 올리고머 및 에폭시 아크릴레이트 올리고머가 포함되나, 이에 제한되는 것은 아니다. 특히, 우레탄 아크릴레이트 및 그의 올리고머는 경화 후에 가요성이고 강인한 경화물을 제공할 수 있으며, 아크릴레이트 중에서도 경화 속도가 매우 빠르기 때문에 금형의 생산성의 향상에도 기여할 수 있다. 또한, 이들 아크릴계 단량체 또는 올리고머를 사용하면 성형층이 광학적으로 투명해진다. 따라서, 이러한 성형층을 포함하는 가요성 금형은 PDP 립 등의 미세 구조체의 제조시 광경화성 성형 재료의 사용을 가능하게 한다. 이들 아크릴계 단량체 또는 올리고머는 단독으로 사용하거나, 또는 이들 2종 이상을 임의로 조합하여 사용할 수 있다. Examples of suitable acrylic monomers for forming the shaping layer include, but are not limited to, urethane acrylate, polyether acrylate, acrylamide, acrylonitrile, acrylic acid and acrylic acid ester. Examples of acrylic oligomers suitable for forming the molding layer include, but are not limited to, urethane acrylate oligomers and epoxy acrylate oligomers. In particular, the urethane acrylate and its oligomers can provide a flexible and tough cured product after curing, and contribute to the improvement of the productivity of the mold because the curing speed is very high among the acrylates. Moreover, when these acrylic monomers or oligomers are used, a shaping | molding layer becomes optically transparent. Thus, a flexible mold including such a molding layer enables the use of a photocurable molding material in the production of microstructures such as PDP ribs. These acrylic monomers or oligomers may be used alone or in combination of two or more thereof.

상기한 바와 같이, 성형층 (11)을 담지하는 지지체 (1)은 바람직하게는 두께가 통상 약 0.05 내지 1.0 mm의 범위내에 있는 플라스틱 필름이다. 또한, 지지체는 바람직하게는 광학적으로 투명하다. 지지체가 광학적으로 투명한 경우, 경화를 위해 조사하는 광이 지지체를 통해 투과할 수 있기 때문에 광경화성 성형 재료를 사용하여 성형층을 형성할 수 있다. 투명한 지지체의 전형적인 예는 상기한 바와 같다.As mentioned above, the support 1 carrying the shaping layer 11 is preferably a plastic film whose thickness is usually in the range of about 0.05 to 1.0 mm. In addition, the support is preferably optically transparent. When the support is optically transparent, the molding layer can be formed using a photocurable molding material because light irradiated for curing can be transmitted through the support. Typical examples of transparent supports are as described above.

상기한 바와 같은 가요성 금형 및 본 발명의 미세 세라믹 구조체를 성형 작업시 조합하는 경우, 금형 및 페이스트의 특성에 따라 다양한 미세 구조체를 제조할 수 있다. 예를 들어, 도 3 및 도 4에 도시한 가요성 금형을 사용하면, 숙련이 요구되지 않으면서 높은 종횡비 및 높은 정밀도를 가지며 립에 결함을 초래하지 않는 격자 패턴을 갖는 PDP의 립을 제조할 수 있다. 또한, 가요성 금형을 사용하면 진공 설비 및(또는) 복잡한 공정 대신에 간단히 적층 롤을 사용함으로써 이러한 립 구조 를 갖는 대화면의 PDP를 용이하게 제조할 수 있다. When the flexible mold as described above and the fine ceramic structure of the present invention are combined in a molding operation, various microstructures may be manufactured according to the characteristics of the mold and the paste. For example, using the flexible mold shown in Figs. 3 and 4, it is possible to produce a lip of a PDP having a lattice pattern having high aspect ratio and high precision without causing any defect in the lip without requiring skill. have. In addition, the use of flexible molds makes it easy to manufacture large screen PDPs having such a lip structure by simply using laminated rolls instead of vacuum equipment and / or complicated processes.

또한, 본 발명은 미세 구조체 및 그의 제조 방법을 제공한다. 미세 구조체는 다양한 구조로 형성될 수 있지만, 그의 전형적인 예로는, 립이 유리 평판 상에 형성된 PDP의 기판 (배면판)의 립부이다. 이하, 도 5를 참조하여 도 3 및 도 4에 도시한 가요성 금형을 사용하여 격자 패턴의 립을 갖는 PDP 기판을 제조하는 방법을 설명한다. 예를 들어 일본 특허 공개 제2001-191345호 공보의 도 1 내지 도 3에 도시한 제조 장치를 본 발명의 시행에 유리하게 사용할 수 있다.The present invention also provides a microstructure and a method of manufacturing the same. The fine structure can be formed in various structures, but a typical example thereof is a lip portion of a substrate (back plate) of a PDP, in which the lip is formed on a glass plate. Hereinafter, with reference to FIG. 5, the method of manufacturing the PDP board | substrate which has the rib of a grid pattern using the flexible metal mold | die shown in FIG. 3 and FIG. 4 is demonstrated. For example, the manufacturing apparatus shown in FIGS. 1-3 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-191345 can be used advantageously for implementation of this invention.

도시하지는 않았지만, 서로에 대해 평행하게 등간격으로 배치된 전극을 갖는 유리 평판을 미리 제조하고, 표면 플레이트 상에 셋팅한다. 이어서, 도 5(A)에 도시한 바와 같이, 홈 패턴을 갖는 본 발명의 가요성 금형 (10)을 유리 평판 (31) 상의 소정의 위치에 배치하고, 유리 평판 (31)과 금형 (10)의 정렬을 수행한다. 금형 (10)은 투명하기 때문에, 유리 평판 (31)과 전극의 정렬을 용이하게 수행할 수 있다. 보다 구체적으로, 정렬은 육안으로, 또는 CCD 카메라와 같은 센서를 이용하여 금형 (10)의 홈부와 유리 평판 (31) 상의 전극이 서로 평행하도록 하여 수행한다. 이 때, 필요에 따라 온도 및 습도를 조절하여 금형 (10)과 유리 평판 (31) 상의 인접한 전극간의 거리를 일치시킬 수 있다. 이는 금형 (10)과 유리 평판 (31)이 온도 및 습도에 따라 상이한 정도로 신축하기 때문이다. 따라서, 유리 평판 (31)과 금형 (10)의 정렬이 완료된 후에는, 그 때의 온도 및 습도를 일정하게 조절한다. 이러한 조절 방법은 큰 표면적의 PDP 기판의 제조에 특히 효과적이다. Although not shown, glass plates having electrodes arranged at equal intervals parallel to each other are prepared in advance and set on a surface plate. Subsequently, as shown in Fig. 5A, the flexible mold 10 of the present invention having the groove pattern is disposed at a predetermined position on the glass flat plate 31, and the glass flat plate 31 and the metal mold 10 are placed. Perform the sort of. Since the metal mold | die 10 is transparent, alignment of the glass plate 31 and an electrode can be performed easily. More specifically, the alignment is performed visually or by using a sensor such as a CCD camera so that the grooves of the mold 10 and the electrodes on the glass plate 31 are parallel to each other. At this time, temperature and humidity can be adjusted as needed to match the distance between the mold 10 and the adjacent electrode on the glass plate 31. This is because the mold 10 and the glass plate 31 expand and contract to a different degree according to temperature and humidity. Therefore, after the alignment of the glass plate 31 and the metal mold | die 10 is completed, the temperature and humidity at that time are adjusted constantly. This control method is particularly effective for the production of large surface area PDP substrates.

이어서, 적층 롤 (23)을 금형 (10)의 한쪽 연부에 배치한다. 적층 롤 (23) 은 바람직하게는 고무 롤이다. 금형 (10)의 한쪽 연부는 바람직하게는 유리 평판 (31) 상에 고정된다. 이러한 방식으로, (전극을 갖는) 유리 평판 (31)과 금형 (10)의 정렬이 후속 작업 동안 유지될 수 있다. Next, the lamination roll 23 is arrange | positioned at one edge of the metal mold | die 10. The lamination roll 23 is preferably a rubber roll. One edge of the mold 10 is preferably fixed on the glass plate 31. In this way, the alignment of the glass plate 31 (with electrodes) with the mold 10 can be maintained during subsequent operations.

이어서, 금형 (10)의 다른쪽 자유 연부를 홀더(도시하지 않음)로 들어올려 적층 롤 (23)의 상측에 이동시켜 유리 평판 (31)을 노출시킨다. 이 때, 금형 (10)에는 장력을 가해지지 않도록 주의하여, 금형 (10)에 주름이 생기는 것을 방지하고, 유리 평판 (31)과 금형 (10)의 정렬을 유지한다. 그러나, 정렬된 위치를 유지할 수 있는 한 다른 수단을 사용할 수도 있다. 상기 방법에서는 금형 (10)이 탄성을 갖기 때문에 금형 (10)을 도면에 도시한 바와 같이 말아올려도 그 후의 적층를 행할 때에는 정렬된 위치로 정확히 복귀한다. Next, the other free edge of the metal mold | die 10 is lifted up by the holder (not shown), and it moves to the upper side of the lamination roll 23, and exposes the glass flat plate 31. FIG. At this time, care is taken not to apply tension to the mold 10 to prevent wrinkles in the mold 10 and to maintain alignment between the glass plate 31 and the mold 10. However, other means can be used as long as it can maintain an aligned position. In the above method, since the mold 10 has elasticity, even when the mold 10 is rolled up as shown in the drawing, the mold 10 is returned to the aligned position correctly when subsequent lamination is performed.

이어서, 립의 형성에 필요한 소정량의 감광성 페이스트 (33)을 유리 평판 (31) 상에 공급한다. 감광성 페이스트 (33)은 상기한 본 발명의 감광성 세라믹 페이스트를 포함한다. 감광성 세라믹 페이스트 (33)은, 예를 들어 노즐이 장착된 페이스트 호퍼를 사용하여 공급할 수 있다.Subsequently, a predetermined amount of the photosensitive paste 33 required for the formation of the lip is supplied onto the glass plate 31. The photosensitive paste 33 contains the photosensitive ceramic paste of this invention mentioned above. The photosensitive ceramic paste 33 can be supplied using the paste hopper with which the nozzle was attached, for example.

도면에 도시한 방법을 적용할 때에는, 감광성 세라믹 페이스트 (33)을 유리 평판 (31) 상에 표면 전체에 균일하게 공급하지 않는다. 대신에, 립 전구체(33)을 도 5(A)에 도시한 바와 같이 적층 롤 (23)의 근방의 유리 평판 (31) 상의 위치에만 공급한다. 이는, 하기하는 공정에서 적층 롤 (23)이 금형 (10) 상을 이동함에 따라 유리 평판 (31) 상에 감광성 세라믹 페이스트 (33)을 균일하게 도포할 수 있기 때문이다. 또한, 이 작업을 원활히 수행하기 위해, 감광성 세라믹 페이스트 (33)은 바 람직하게는 2,000 내지 10,000 cps 범위내의 점도를 갖는다. 그러나, 감광성 세라믹 페이스트의 공급 방법은 상기한 방법으로 제한되는 것은 아니다. 예를 들어, 도시하지는 않았지만, 감광성 세라믹 페이스트를 유리 평판의 전체 표면이 코팅되도록 도포할 수도 있다. When applying the method shown in the figure, the photosensitive ceramic paste 33 is not uniformly supplied to the entire surface on the glass flat plate 31. Instead, the lip precursor 33 is supplied only to the position on the glass plate 31 in the vicinity of the lamination roll 23 as shown in Fig. 5A. This is because the photosensitive ceramic paste 33 can be uniformly applied onto the glass flat plate 31 as the lamination roll 23 moves on the mold 10 in the following steps. In addition, in order to smoothly perform this operation, the photosensitive ceramic paste 33 preferably has a viscosity in the range of 2,000 to 10,000 cps. However, the supply method of the photosensitive ceramic paste is not limited to the above-mentioned method. For example, although not shown, the photosensitive ceramic paste may be applied such that the entire surface of the glass plate is coated.

이어서, 적층 롤 (23)을, 도 5(A)에서 화살표로 나타낸 바와 같이 회전 모터(도시하지 않음)에 의해 소정의 속도로 금형 (10) 상에서 이동시킨다. 적층 롤 (23)이 금형 (10) 상에서 이동하는 동안, 금형 (10) 상에는 그의 한쪽 연부로부터 다른쪽 연부에 적층 롤 (23)의 중력에 의해 압력이 순차적으로 인가되어, 유리 평판 (31)과 금형 (10) 사이의 공간에 걸쳐 감광성 세라믹 페이스트 (33)이 도포됨으로써 금형 (10)의 홈이 페이스트로 충전된다. 즉, 감광성 세라믹 페이스트 (33)이 공기와 치환되면서 홈을 순차적으로 충전시킨다. 이 때, 감광성 세라믹 페이스트의 두께는, 세라믹 페이스트의 점도 또는 적층 롤의 직경, 중량 또는 이동 속도를 조정함으로써 수 ㎛ 내지 수십 ㎛의 범위내에서 조절할 수 있다. Subsequently, the lamination roll 23 is moved on the mold 10 at a predetermined speed by a rotating motor (not shown) as indicated by the arrows in FIG. 5 (A). While the lamination roll 23 is moving on the mold 10, the pressure is sequentially applied on the mold 10 by the gravity of the lamination roll 23 from one edge thereof to the other edge thereof, so that the glass plate 31 and The grooves of the mold 10 are filled with the paste by applying the photosensitive ceramic paste 33 over the spaces between the molds 10. That is, the photosensitive ceramic paste 33 is replaced with air to sequentially fill the grooves. At this time, the thickness of the photosensitive ceramic paste can be adjusted within the range of several micrometers to several tens of micrometers by adjusting the viscosity of the ceramic paste or the diameter, weight, or moving speed of a lamination roll.

또한, 도면에 도시한 방법에 따르면, 금형의 홈은 기류의 채널로서도 기능한다. 공기가 홈에 포착되는 경우에도, 상기한 바와 같이 압력이 인가되면 공기를 효율적으로 금형의 외부로 퍼징할 수 있다. 그 결과, 상기 방법에 의해 감광성 세라믹 페이스트를 대기압하에 공급하는 경우에도 기포가 홈에 잔류되는 것을 방지할 수 있다. 즉, 감광성 세라믹 페이스트의 도포시 압력 감소의 필요성이 배제될 수 있다. 물론, 압력을 감소시켜 기포의 제거를 보다 용이하게 할 수 있다. In addition, according to the method shown in the figure, the groove of the mold also functions as a channel of airflow. Even when air is trapped in the grooves, when pressure is applied as described above, air can be efficiently purged to the outside of the mold. As a result, even when the photosensitive ceramic paste is supplied under atmospheric pressure by the above method, bubbles can be prevented from remaining in the grooves. That is, the need for pressure reduction in the application of the photosensitive ceramic paste can be eliminated. Of course, the pressure can be reduced to make it easier to remove bubbles.

이어서, 감광성 세라믹 페이스트를 경화시킨다. 유리 평판 (31) 상에 도포 된 세라믹 페이스트 (33)이 광경화성인 경우에는, 도 5(B)에 도시한 바와 같이 유리 평판 (31)과 금형 (10)의 적층체를 광 조사 장치(도시하지 않음)에 넣어 유리 평판 (31) 및 금형 (10)을 통해 자외선(UL)을 세라믹 페이스트 (33)에 조사한다. 따라서, 감광성 세라믹 페이스트로 제조된 립이 형성된다. Next, the photosensitive ceramic paste is cured. When the ceramic paste 33 coated on the glass plate 31 is photocurable, as shown in FIG. 5 (B), the laminate of the glass plate 31 and the mold 10 is a light irradiation apparatus (not shown). Irradiated with ultraviolet (UL) to the ceramic paste 33 through the glass plate 31 and the mold 10. Thus, a lip made of the photosensitive ceramic paste is formed.

마지막으로, 립 (34)를 유리 평판 (31) 상에 접합시킨 상태에서 유리 평판 (31) 및 금형 (10)을 광 조사 장치로부터 취출하고, 도 5(C)에 도시한 바와 같이 금형 (10)을 제거한다. 금형은 통상적으로 양호한 이형성을 갖는다. 그러나, 유리 평판 (31)에 접착된 립 (34)를 손상시키지 않으면서 적은 힘으로 금형 (10)을 용이하게 제거하기 위해 임의로는 금형에 이형 코팅을 적용할 수 있다. 물론, 이러한 제거 작업에 대규모의 장치가 요구되지는 않는다.Finally, the glass plate 31 and the metal mold | die 10 are taken out from the light irradiation apparatus in the state which bonded the lip 34 on the glass plate 31, and the metal mold | die 10 is shown in FIG. 5 (C). ). Molds typically have good release properties. However, a release coating may optionally be applied to the mold in order to easily remove the mold 10 with little force without damaging the lip 34 adhered to the glass plate 31. Of course, no large-scale devices are required for this removal.

실시예Example 1 One

감광성 유리 페이스트의 제조: Preparation of Photosensitive Glass Paste:

유리 페이스트의 제조를 위해 하기 재료를 하기 양으로 준비하였다. The following materials were prepared in the following amounts for the preparation of the glass paste.

광경화성 올리고머: 비스페놀 A 디글리시딜 메타크릴레이트 산 부가물(교에이샤 가가꾸사(Kyoeisha Co., Ltd.) 제조) 318.5 gPhotocurable oligomer: 318.5 g of bisphenol A diglycidyl methacrylate acid adduct (manufactured by Kyoeisha Co., Ltd.)

광경화성 중합체: 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트(와코 쥰아꾸 고교사(Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 제조) 136.5 gPhotocurable polymer: 136.5 g of triethylene glycol dimethacrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

희석제: 1,3-부탄디올(와코 쥰아꾸 고교사 제조) 455.0 gDiluent: 455.0 g of 1,3-butanediol (made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

광경화 개시제: 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀 옥시드(시바 스페셜 티 케미컬즈사(Ciba Speciality Chemicals) 제조, 상품명 "이르가큐어(Irgacure) 819") 6.4 gPhotocuring initiator: 6.4 g of bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name "Irgacure 819")

세라믹 미립자: 납 유리와 세라믹의 혼합 분말(아사히 글래스사(Asahi Glass Co.) 제조, 상품명 "RFW-030") 4093.0 gCeramic fine particles: 4093.0 g of mixed powder of lead glass and ceramic (manufactured by Asahi Glass Co., trade name "RFW-030")

인계 계면활성제: 포스페이트 프로폭시알킬 폴리올(3M사 제조, 상품명 "포카(POCA)") 25.3 gPhosphorus-based surfactant: 25.3 g of phosphate propoxyalkyl polyol (manufactured by 3M Corporation, trade name "POCA")

술포네이트계 계면활성제: 나트륨 도데실벤젠술포네이트(카오사(Kao Co.) 제조, 상품명 "네오펠렉스(NeoPelex) #25") 25.3 gSulfonate surfactant: Sodium dodecylbenzenesulfonate (manufactured by Kao Co., trade name "NeoPelex # 25") 25.3 g

이들 원료를 모두 아트라이터 밀에 넣고, 직경 7 mm의 지르코니아 볼을 분산 매체로서 사용하여 30℃에서 1시간 동안 분산시켰다. All of these raw materials were placed in an attritor mill and dispersed at 30 ° C. for 1 hour using a zirconia ball having a diameter of 7 mm as a dispersion medium.

분산 과정 완료 후, 아트라이터로부터 페이스트를 취출하고, 22℃에서 하루 종일 방치하였다. 이어서, 페이스트의 점도를 측정 조건을 샤프트 #5 및 회전 속도 20 rpm으로 하여 브룩필드(Brookfield) B 점도계로 측정하였다. 페이스트는 6,000 cps의 점도를 나타내었다. After completion of the dispersion process, the paste was taken out of the attritor and left at 22 ° C. for a day. The viscosity of the paste was then measured with a Brookfield B viscometer with the measurement conditions of shaft # 5 and rotation speed 20 rpm. The paste exhibited a viscosity of 6,000 cps.

PDP 배면판의 제조: Preparation of PDP Backplate:

PDP의 배면판을 제조하기 위해서, 각각 높이가 200 ㎛, 상부 폭이 100 ㎛, 길이가 540 mm인 피치 360 ㎛의 2593개의 립을 갖는 가요성 수지 금형을 제조하였다. In order to manufacture the back plate of the PDP, a flexible resin mold having 2593 ribs each having a height of 200 mu m, an upper width of 100 mu m, and a pitch of 360 mu m having a length of 540 mm was manufactured.

코팅 블레이드를 사용하여 PDP 유리 기판을 상기한 바와 같이 제조한 감광성 세라믹 페이스트로 약 100 ㎛의 두께로 코팅하였다. 이어서, 가요성 금형을 굽히고 정렬하면서, 유리 페이스트로 도포된 유리 기판 상에 적층시켰다. 직경 200 mm, 중량 100 kg의 적층 롤을 40 mm/초의 속도로 이동시켰다. 금형에 인가되는 압력은 단지 적층 롤의 중량에 의해서만 발생되었다.Using a coating blade, the PDP glass substrate was coated with a photosensitive ceramic paste prepared as described above to a thickness of about 100 μm. The flexible mold was then laminated onto a glass substrate coated with glass paste while bending and aligning. A lamination roll 200 mm in diameter and 100 kg in weight was moved at a speed of 40 mm / sec. The pressure applied to the mold was only generated by the weight of the lamination roll.

유리 기판 상에 적층된 금형을 필립스사(Phillips Corp.) 제조의 형광 램프 어레이를 사용하여 400 내지 450 nm의 파장을 갖는 광을 금형과 유리 기판의 양면 상에 30초 동안 조사하였다. 이에 따라, 감광성 유리 페이스트가 경화되어 립이 형성되었다. 유리 기판을 그 위에 형성된 립과 함께 금형으로부터 제거하여, 립을 갖는 유리 기판을 얻었다. The mold laminated on the glass substrate was irradiated with light having a wavelength of 400 to 450 nm on both sides of the mold and the glass substrate for 30 seconds using a fluorescent lamp array manufactured by Phillips Corp .. Thus, the photosensitive glass paste was cured to form lip. The glass substrate was removed from the mold together with the lip formed thereon to obtain a glass substrate having the lip.

성형 작업에 사용한 금형 및 얻어진 유리 기판 상의 총 피치(양끝의 립 사이의 거리)를 5 포인트로 측정하여, 하기 표 1에 나타낸 바와 같은 결과를 얻었다.The total pitch (distance between the lip of both ends) on the metal mold | die used for the shaping | molding operation | work, and the obtained glass substrate was measured by 5 points, and the result as shown in following Table 1 was obtained.

Figure 112006012492974-PCT00005
Figure 112006012492974-PCT00005

상기 표 1에 나타난 측정 결과로부터 이해되는 바와 같이, 본 발명에 따라 페이스트 중에 인계 계면활성제 및 술포네이트계 계면활성제를 사용하여 제조된 립은 금형의 치수와 거의 동일한 치수를 나타내어, 높은 치수 정밀도를 갖는 립이 형성되었음을 보여준다. As understood from the measurement results shown in Table 1 above, the lip prepared using the phosphorus-based surfactant and sulfonate-based surfactant in the paste according to the present invention exhibited substantially the same dimensions as the mold, resulting in high dimensional accuracy. Shows that the lip was formed.

이어서, 위에 립이 형성된 유리 기판을 550℃에서 1시간 동안 소성시켜 연소에 의해 페이스트 중에 함유된 유기 성분을 제거함으로써 유리 성분으로 제조된 립을 형성하였다. 배면판 상에 형성된 립을 광학 현미경으로 관찰한 결과, 결함이 검출되지 않았다. Subsequently, the glass substrate having the ribs formed thereon was baked at 550 ° C. for 1 hour to remove the organic component contained in the paste by combustion to form a lip made of the glass component. As a result of observing the lip formed on the back plate with an optical microscope, no defect was detected.

비교예Comparative example 1 One

실시예 1에 기재된 방법을 수행하되, 비교를 위해, 감광성 세라믹 페이스트 제조시 인계 계면활성제와 술포네이트계 계면활성제를 조합하여 사용하는 대신에 50.6 g의 인계 계면활성제(포스페이트 프로폭실알킬 폴리올)를 사용하였다. 이에 따라 얻어진 페이스트의 B 점도는 26,000 cps(샤프트 #5, 20 rpm)로 나타났다.Perform the method described in Example 1, but for comparison, 50.6 g of phosphorus-based surfactant (phosphate propoxylalkyl polyol) is used instead of combining phosphorus-based and sulfonate-based surfactants in the preparation of the photosensitive ceramic paste. It was. The B viscosity of the paste thus obtained was found to be 26,000 cps (shaft # 5, 20 rpm).

이어서, 상기한 바와 같이 제조된 감광성 세라믹 페이스트를 사용하여, 실시예 1에 기재된 방법으로 위에 립이 형성된 유리 기판을 제조하였다. 본 비교예에서는 유리 페이스트가 26,000 cps의 고점도를 가졌기 때문에, 유리 페이스트로 코팅된 유리 기판 상에 금형을 적층할 때, 보다 높은 압력을 인가하였다. 구체적으로는, 직경 200 mm, 중량 250 kg의 적층 롤을 20 mm/초의 속도로 이동시켰다. 유리 기판을 그 위에 형성된 립과 함께 금형으로부터 제거하여, 립을 갖는 유리 기판을 얻었다. Then, using the photosensitive ceramic paste prepared as described above, a glass substrate having a lip formed thereon was prepared by the method described in Example 1. In this comparative example, since the glass paste had a high viscosity of 26,000 cps, higher pressure was applied when laminating the mold on the glass substrate coated with the glass paste. Specifically, a lamination roll of 200 mm in diameter and 250 kg in weight was moved at a speed of 20 mm / sec. The glass substrate was removed from the mold together with the lip formed thereon to obtain a glass substrate having the lip.

성형 작업에 사용한 금형 및 얻어진 유리 기판 상의 립의 총 피치(양끝의 립 사이의 거리)를 5 포인트로 측정하여, 하기 표 2에 나타낸 결과를 얻었다. The total pitch (distance between the ribs at both ends) of the mold used for the molding operation and the obtained glass substrate was measured at five points, and the results shown in Table 2 below were obtained.

Figure 112006012492974-PCT00006
Figure 112006012492974-PCT00006

상기 표 2에 나타난 측정 결과로부터 이해되는 바와 같이, 인계 계면활성제만을 함유하는 페이스트를 사용하여 제조된 립은 금형과 최대 약 70 ㎛의 치수 차이를 나타내었다. 본 비교예에서는 높은 치수 정밀도를 갖는 립을 용이하게 형성할 수 없었다.As understood from the measurement results shown in Table 2 above, the lip produced using a paste containing only a phosphorous surfactant showed a dimensional difference of up to about 70 μm from the mold. In this comparative example, a lip having high dimensional accuracy could not be easily formed.

이어서, 위에 립이 형성된 유리 기판을 550℃에서 1시간 동안 소성시켜 연소에 의해 페이스트 중에 함유된 유기 성분을 제거함으로써 유리 성분으로 제조된 립을 형성하였다. 배면판 상에 형성된 립을 광학 현미경으로 관찰한 결과, 많은 결함이 검출되었다. Subsequently, the glass substrate having the ribs formed thereon was baked at 550 ° C. for 1 hour to remove the organic component contained in the paste by combustion to form a lip made of the glass component. As a result of observing the lip formed on the back plate with an optical microscope, many defects were detected.

비교예Comparative example 2 2

실시예 1에 기재된 방법을 수행하되, 비교를 위해, 감광성 세라믹 페이스트 제조시 인계 계면활성제와 술포네이트계 계면활성제를 조합하여 사용하는 대신에 50.6 g의 술포네이트계 계면활성제(나트륨 도데실벤젠술포네이트)를 사용하였다. 이에 따라 얻어진 페이스트의 B 점도는 35,000 cps(샤프트 #5, 20 rpm)였다.50.6 g of sulfonate-based surfactants (sodium dodecylbenzenesulfonate, instead of using a combination of phosphorous and sulfonate-based surfactants in the preparation of the photosensitive ceramic paste, for comparison) ) Was used. The B viscosity of the paste thus obtained was 35,000 cps (shaft # 5, 20 rpm).

이어서, 상기한 바와 같이 제조된 감광성 세라믹 페이스트를 사용하여, 실시예 1에 기재된 방법으로 위에 립이 형성된 유리 기판을 제조하였다. 본 비교예에서는 유리 페이스트가 35,000 cps의 고점도를 가졌기 때문에, 유리 페이스트로 코팅된 유리 기판 상에 금형을 적층할 때, 보다 높은 압력을 인가하였다. 구체적으로는, 직경 200 mm, 중량 250 kg의 적층 롤을 10 mm/초의 속도로 이동시켰다. 유리 기판을 그 위에 형성된 립과 함께 금형으로부터 제거하여, 립을 갖는 유리 기판을 얻었다. Then, using the photosensitive ceramic paste prepared as described above, a glass substrate having a lip formed thereon was prepared by the method described in Example 1. In this comparative example, since the glass paste had a high viscosity of 35,000 cps, higher pressure was applied when laminating the mold on the glass substrate coated with the glass paste. Specifically, a lamination roll of 200 mm in diameter and 250 kg in weight was moved at a speed of 10 mm / sec. The glass substrate was removed from the mold together with the lip formed thereon to obtain a glass substrate having the lip.

성형 작업에 사용한 금형 및 얻어진 유리 기판 상의 립의 총 피치(양끝의 립 사이의 거리)를 5 포인트로 측정하였다. 비교예 1과 유사하게, 측정치는 립이 금형과 최대 약 100 ㎛의 치수 차이를 갖는 것으로 나타났다. 결론적으로, 본 비교예에서는 높은 치수 정밀도를 갖는 립을 형성할 수 없었다.The total pitch (distance between the lips at both ends) of the mold used for the molding operation and the lip on the obtained glass substrate was measured at 5 points. Similar to Comparative Example 1, the measurements indicated that the lip had a dimensional difference of up to about 100 μm with the mold. In conclusion, in the present comparative example, no lip with high dimensional accuracy could be formed.

이어서, 위에 립이 형성된 유리 기판을 550℃에서 1시간 동안 소성시켜 연소에 의해 페이스트 중에 함유된 유기 성분을 제거함으로써 유리 성분으로 제조된 립을 형성하였다. 배면판 상에 형성된 립을 광학 현미경으로 관찰한 결과, 많은 결함이 검출되었다.Subsequently, the glass substrate having the ribs formed thereon was baked at 550 ° C. for 1 hour to remove the organic component contained in the paste by combustion to form a lip made of the glass component. As a result of observing the lip formed on the back plate with an optical microscope, many defects were detected.

Claims (13)

감광성 재료;Photosensitive materials; 감광성 재료 중에 분산된 세라믹 입자;Ceramic particles dispersed in the photosensitive material; 1개 이상의 -OH기와 함께 1개 이상의 인 원자를 갖는 인계 화합물을 포함하는 제1 계면활성제; 및A first surfactant comprising a phosphorus compound having at least one phosphorus atom together with at least one —OH group; And 술포네이트기를 갖는 술포네이트계 화합물을 포함하는 제2 계면활성제Second surfactant containing a sulfonate compound having a sulfonate group 를 포함하는 전구체 페이스트. Precursor paste comprising a. 제1항에 있어서, 22℃에서 점도가 1,500 내지 20,000 cps인 전구체 페이스트.The precursor paste of claim 1 having a viscosity of 1,500 to 20,000 cps at 22 ° C. 3. 제1항에 있어서, 세라믹 입자가 60 중량% 내지 90 중량% 범위의 양으로 존재하는 전구체 페이스트. The precursor paste of claim 1 wherein the ceramic particles are present in an amount ranging from 60 wt% to 90 wt%. 제1항 또는 제2항에 있어서, 감광성 재료가 (메트)아크릴기를 갖는 단량체 또는 올리고머를 포함하는 전구체 페이스트. The precursor paste of Claim 1 or 2 in which the photosensitive material contains the monomer or oligomer which has a (meth) acryl group. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 세라믹 입자가 유리, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 실리카 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 재료를 포함하는 전구체 페이스트. The precursor paste of claim 1, wherein the ceramic particles comprise one or more materials selected from the group consisting of glass, alumina, titania, zirconia, silica, and mixtures thereof. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 세라믹 입자의 평균 입도가 0.1 내지 10 ㎛ 범위인 전구체 페이스트. The precursor paste according to claim 1, wherein the average particle size of the ceramic particles is in the range of 0.1 to 10 μm. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 계면활성제가 제2 계면활성제에 대하여 99:1 내지 1:99의 비율로 존재하는 전구체 페이스트. The precursor paste of claim 1, wherein the first surfactant is present in a ratio of 99: 1 to 1:99 relative to the second surfactant. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 3, 감광성 수지 5 내지 15 중량부;5 to 15 parts by weight of the photosensitive resin; 세라믹 입자 60 내지 90 중량부; 60 to 90 parts by weight of ceramic particles; 인계 화합물을 포함하는 제1 계면활성제 0.1 내지 1.0 중량부;0.1 to 1.0 parts by weight of a first surfactant including a phosphorus compound; 술포네이트계 화합물을 포함하는 제2 계면활성제 0.1 내지 1.0 중량부;0.1 to 1.0 parts by weight of a second surfactant including a sulfonate compound; 희석제 5 내지 15 중량부; 및5 to 15 parts by weight of the diluent; And 광중합 개시제 0.02 내지 0.25 중량부0.02 to 0.25 parts by weight of photopolymerization initiator 를 포함하는 전구체 페이스트.Precursor paste comprising a. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 미세 구조체 전구체 페이스트의 광경화에 의해 형성된, 기판 표면 상에 형성된 소정의 형상 및 치수를 갖는 돌기 패턴 및 기판을 포함하는 물품.An article comprising a substrate and a projection pattern having a predetermined shape and dimension formed on a surface of a substrate, formed by photocuring the microstructure precursor paste of claim 1. 제9항에 있어서, 돌기 패턴이 복수개의 립을 서로에 대해 실질적으로 평행하게 등간격으로 배치함으로써 형성된 직선 패턴인 물품.The article of claim 9, wherein the protruding pattern is a straight pattern formed by placing the plurality of ribs at substantially equal intervals substantially parallel to each other. 제9항에 있어서, 돌기 패턴이 복수개의 립을 서로에 대해 실질적으로 평행하면서 서로 교차하도록 등간격으로 배치함으로써 형성된 격자 패턴인 물품. 10. The article of claim 9, wherein the protruding pattern is a lattice pattern formed by placing the plurality of ribs at substantially equal intervals such that they are substantially parallel to each other and intersect with each other. 형성될 돌기 패턴에 상응하는 형상 및 치수를 갖는 홈 패턴을 갖는 가요성 금형을 제공하는 단계;Providing a flexible mold having a groove pattern having a shape and a dimension corresponding to the protrusion pattern to be formed; 금형의 홈을 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 전구체 페이스트로 충전시키는 단계;Filling the groove of the mold with the precursor paste of any one of claims 1 to 3; 금형을 기판 상에 적층시키는 단계;Laminating a mold on a substrate; 페이스트를 광경화시키는 단계; 및Photocuring the paste; And 금형을 제거하는 단계Step to remove the mold 를 포함하는, 물품의 제조 방법.Comprising a method of manufacturing an article. 제12항의 방법으로부터 형성된 플라즈마 디스플레이 패널 립.A plasma display panel lip formed from the method of claim 12.
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